JPH06296901A - 基材表面に粉末固体を分配するための装置 - Google Patents

基材表面に粉末固体を分配するための装置

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JPH06296901A
JPH06296901A JP6026664A JP2666494A JPH06296901A JP H06296901 A JPH06296901 A JP H06296901A JP 6026664 A JP6026664 A JP 6026664A JP 2666494 A JP2666494 A JP 2666494A JP H06296901 A JPH06296901 A JP H06296901A
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gas
partition
cavity
substrate
powder
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JP6026664A
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English (en)
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Alain Arnaud
アルノー アレン
Claude Morin
モーラン クロード
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Saint Gobain Glass France SAS
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Saint Gobain Vitrage International SA
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基材上に複数の薄い層を堆積するのを可能に
し、同時に全体の寸法を小さくするのを可能にする、粉
末固体の分配装置を提供する。 【構成】 本発明の装置は、移動する基材３の移動方向
を横切って配置されそして当該基材の近傍において分配
スロット４で終えるストリップ状の空洞２を画定する二
つの壁を有し、空洞２に、それを長手方向に区切るよう
に配置される少なくとも一つの仕切り７が備付けられ、
区切られた区画５、６のおのおのには粉末固体を導入す
る手段８と昇圧されたガスを導入する手段10が設けられ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面、より詳しく言え
ばガラス基材の表面に、光学的、熱的及び／又は電気的
性質を与える薄い層でそれを被覆するため粉末固体を分
配するための装置に関する。この装置は、より詳しく言
うと、ガスに浮遊した上記の粉末固体を、それらが接触
すると分解して酸化物になるように高温に加熱された基
材の方向に吹付けることからなる、いわゆる熱分解法に
より、薄い層又はフィルムを堆積するのを可能にする。
基材は連続のフロートガラス帯の形であることができ、
この場合この分配装置は、ガラス帯の移動の軸線を横切
って配置されそしてその近傍で分配スロットとして終え
る空洞（キャビティ）を有する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】薄い、
均質で一様の層を得るためには、粉末とガスの良好な均
質化と当該混合物を分配スロットの全長にわたって良好
に分配するのとを保証する分配装置が必要である。二つ
の装置がこれらの基準を満たしている。例えば、ヨーロ
ッパ特許第125153号明細書は、長さを処理すべき基材の
幅に一致させることができるノズルであって、壁がその
処理すべき基材の方向に一様に収束する長手の空洞を有
する粉末固体分配ノズルを開示している。このノズル
は、上部に、上記空洞のためのカバーを形成するプレー
トを有する。このプレートは、一次ガス(primary gas)
と呼ばれるガスに浮遊した粉末を別々の供給管により供
給するのを可能にする開口部を有する。粉末の供給管
は、空洞の全長にわたって粉末を導入するように、ノズ
ルの全長にわたって上記の開口部に位置し、そして例え
ば、互いにおよそ50mmの間隔をあけている。これらの供
給管は上記の開口部に漏れがないように固定されてはお
らず、ガス、あるいはもっと一般的には空気が、周囲雰
囲気からノズルの空洞に入るのを可能にしている。空洞
の長手方向の壁と、カバーを形成しているプレートは、
ノズルの上部において、ノズルの全長にわたって延びる
二つのスロットを画定しており、これによって、二次ガ
ス(secondary gases) として知られる昇圧された補足ガ
スが導入される。二次ガスは、粉体が浮遊する一次ガス
の速度よりも十分大きな速度で導入される。この速い速
度は、粉体がノズルの出口スロットの方へ移動するのを
促進し、そして導入されたガス流がノズルの全長にわた
って均一に分布するのを助ける。このようにして、二次
ガスは周囲雰囲気のガス又は空気（誘入空気又はガス）
も同伴して、ガス−粉体混合物の均質化を助ける乱れの
形成を可能にする。
【０００３】ヨーロッパ特許出願公開第374023号明細書
も、上記のものと同じように、上部に開口を備えた、ス
トリップ状の空洞を画定する二つの壁を有する分配装置
を開示しており、この開口には、ガスに浮遊した粉末固
体のための一列のインジェクタと、これらのインジェク
タに隣接する、ガス、特に周囲空気の取入れ口が位置し
ている。この空洞には、昇圧されたガスが供給される室
を有し、そしてそれを入口を経由して空洞内に入れる昇
圧ガス導入手段も備えられ、そしてこの入口は、この入
口に隣接した空洞の壁に対して実質的に平行に、基材の
方向にガスを導入するように配置される。この入口は、
好ましくは、これに隣接する空洞の壁に実質的に平行な
軸線を有する複数の口で構成される。
【０００４】上述の両方の装置のタイプとも満足なもの
であるとは言うものの、それらはそれぞれ単一の層を堆
積させることができるだけに過ぎず、それなのにガラス
基材に薄い層の積重体を備えることはなお一層頻繁に行
われている。従って、粉末固体の熱分解法を使って、例
えば連続のガラス帯の上に、いくつかの層を続けて堆積
したい場合に、今までの唯一の解決策はガラス帯の軸線
に沿っていくつかの装置を並置することであったが、こ
れは多くの不都合をもたらすものである。例えば、フロ
ートガラス工場では、ガラス帯への熱分解による堆積は
通常、それがフロートガラスの領域を出てゆくのとそれ
が徐冷がまに入るのとの間で、すなわちしばしば寸法が
制限されている帯域で行われる。ガラス帯の上方にいく
つかの分配装置を連続して配置したい場合には、これは
かなりの面倒をもたらし、それらの寸法のため不可能で
あることさえある。
【０００５】空間が十分な場合でさえ、フロートガラス
工場の異なる場所でガラス帯の上に被覆を続けて付着さ
せるということは、二つの付着操作の間でガラスを再加
熱する操作を行うのを必要にすることがあり、これは工
場設備の設計をより複雑にするだけである。本発明の目
的は、基材上に複数の薄い層を堆積するのを可能にし、
同時に全体の寸法を小さくするのを可能にする、粉末固
体の分配装置を開発して、前述の不都合をなくすことで
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用効果】ガスに浮遊
している粉末固体を移動する基材上に、特にガラス帯の
上に分配するのに用いられる本発明による装置は、基材
の移動方向を横切って配置されそして当該基材の近傍で
分配スロットとして終えるストリップ状の空洞を画定す
る二つの壁を含んでなる。また、この空洞には、それを
長手方向に区切るように配置される少なくとも一つの仕
切りが設けられ、区切られた区画のおのおのには、ガス
に浮遊している粉末固体を導入するための手段と、昇圧
されたガスを導入するための手段が設けられる。
【０００７】このようにして、有利なことに、本発明に
よる単一の装置はいくつかの薄い層又はフィルムを堆積
するのを可能にするが、それに対して以前は、堆積させ
る層と同じ数の吹付け装置を使用することが必要であっ
た。こうして粉末とガスとが互いに独立して供給される
いくつかの区画が存在することは、異なる種類の粉末固
体を基材上へ続けて吹付けるのを可能にする。更に、堆
積が準連続式になされることから、これらの操作の間に
基材に関して可能性のある冷却の危険がない。特に驚く
べきことには、単一の工程でもっていくつかの重なる層
を得ることが可能であって、これらは完全に均質であっ
て且つお互いに区別されていることが判明している。お
のおのの区画からの異なる粉末ジェットは、基材に接近
した分配スロットを出ると少なくとも部分的に相互に混
じり合い、このことから非常に広がった界面において不
均質な層が制御できずに形成されることになると恐れら
れていた。
【０００８】好ましくは、空洞内に存在する仕切りのお
のおのは着脱可能であり、そして空洞の壁に関して高さ
の調節が可能である。粉末ジェットの完全な分離を保証
するため、仕切りは分配スロットを越えて基材の方向に
突き出すように配置することができる。とは言うもの
の、１又は２以上の仕切りと分配スロットとを単に同じ
高さに配列するだけで申し分なく粉末ジェットの流路を
つけられることが、実験により観察されている。しかし
ながら、拡散層界面を作るために、空洞内の１又は２以
上の仕切りをそれらが分配スロットよりも基材から更に
離れて、基材に一番近い空洞の部分に粉体ジェット間の
大きさの変わる接触帯域ができるように配置することに
よって、粉末ジェットを部分的に且つ制御して相互に混
じり合わせることが可能であることは明らかなことであ
る。
【０００９】仕切りはいろいろ様々な構成を有すること
ができる。例えば、それは、一体のものでもよく、ある
いはより軽くすることができるように又は流体の循環を
可能にするように中空のものでもよい。好ましくは、そ
れは、耐熱性が良好な金属、例えばステンレス鋼のよう
なもので製作された１又は２以上の金属プレートで形成
される。おのおのの仕切りは二つの壁を定める。最も単
純な態様はこれらの壁が互いに平行なものからなる。し
かしながら、それらは少なくとも部分的には、基材の方
向に末広がりになるか又はすぼまることができる。これ
らの壁の端部を、基材の近傍において、粉末ジェットの
流路をよりよく制御するように少し丸めることも、任意
的に有利なことである。単一の仕切りの場合には、これ
は好ましくは空洞を二つの対称な区画に分けるように配
置され、空洞の二つの壁は有利には平らであり、基材に
向かって一様にすぼまる。
【００１０】装置が数メートルの幅を有することがある
フロートガラス帯の上に複数の層を堆積させようとする
ものである場合には、仕切りに強化用の構成要素を備え
る付けることが好ましい。それらは有利には、ガラス帯
へ向かう粉末ジェットの流れを乱さず、従ってガラス帯
の表面に傷を生じさせないように、空洞の外側に配置さ
れる。これらの強化用構成要素は、例えばタイロッドの
形をしている。おのおのの供給区画の、ガスに浮遊して
いる粉末固体を導入するための手段は、好ましくは、空
洞の長手方向に配置されてガラス帯の幅全体にわたり粉
末の均質な分布を保証する複数の供給管を有する。同じ
ように、浮遊粉末の良好な均質化を保証するようにおの
おのの区画に備えつけた昇圧ガス導入手段は、好ましく
は、基材の方向にガスを噴射するために配列された入口
から当該区画に入る昇圧されたガスが供給される室を有
し、それによりこれらの入口は、例えば、孔のあいたプ
レートにより当該室に任意的に接続されるスロットの形
にすることができ、あるいは特にプレートにあけられた
開口の形にすることができる。
【００１１】有利には、上記の入口は、昇圧されたガス
がこれらの入口に隣接した壁に実質的に平行に区画へ導
入されるように配列され、この配列は粉末の均質化と粉
末を基材に向けて加速することの両方を最適にするのを
可能にする。上記の区画には、少なくとも一つの、補足
ガス、特に周囲空気の取入れ口を備え付けることもで
き、これは例えば、粉末固体インジェクタの近傍に位置
する。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の有利な特徴と詳細を、本発明
による装置の断面図を示す図１と図２を参照して一層詳
しく説明する。どちらの場合にも、装置は被覆すべき基
材の幅全体に相対して延び、そしてこれは約50cmから数
メートルに達することができる。基材と装置とは、互い
に関して移動する。この場合、基材は実質的に水平な平
面に従って例えば６〜25m/minの速度で動くフロートガ
ラス帯であり、装置はガラス帯の上に、このガラス帯の
移動軸を横切って且つ実質的に垂直平面に配置される。
この相対的な配置は様々なものにすることができるこ
と、そして例えば、この装置は基材の平面に対して垂直
でない平面に合わせて傾けることができることは、明ら
かである。この場合、この結果として、以下において使
用する用語、例えば上部位置、下部位置、高さ、垂直平
面又は水平平面といったようなものを適合させることで
十分であろう。
【００１３】ここで説明する二つの装置は昇圧されたガ
スを導入するために選ばれる手段の点で本質的に異なる
が、それらの共通点を最初に説明する。それらは、その
長さ全体とその高さ全体にわたるノズル本体１と、ガラ
ス帯３の方に向かって一様にすぼまる二つの壁により画
定されて、分配スロット４により下部で終える空洞２に
よって構成され、スロットはガラスからおよそ15〜120m
m 、好ましくは20〜80mmである。より具体的には、分配
スロットに近い領域では、ノズル本体は、ノズルの「先
(nose)」が一般に高温にあるガラス帯の直ぐ近くにくる
結果として過度に過熱するのを防ぐため、例えば水の循
環路のような冷却手段を含む。それはまた、空洞が変形
しないことを保証する補強材あるいは横材を有する。そ
れは、剛性を高めそして幅を正確に調整するためその高
さ方向にわたって分配されてその壁に作用する、図には
示されていないタイロッドも有する。
【００１４】空洞２は、一体のステンレス鋼の金属プレ
ート７によりほぼ対称の区画５、６に分割される。この
金属プレートは、厚さが５〜20mm、好ましくはおよそ10
mmであって、空洞２をほぼその高さ全体にわたって仕切
り、そして下方部分では分配スロット４と同じ平面にあ
る。それは、ガラス帯３に向かう粉末の流れを乱さない
ように空洞２の外側に配置された、図には示されていな
いタイロッドで固定される。このような仕切り７を用い
ることは、昇圧ガスに同伴された二つの異なる粉末固体
を単一の分配装置１へ供給するのを可能にし、そして基
材３に向かうその流れを平行に、しかしながら漏れがな
いように生じさせる。こうして、基材は二つの異なる又
は同様の、重ね合わされた薄い層で被覆される。仕切り
７は高さの調整が可能である。
【００１５】下部においては、それを分配スロット４と
同じ平面にして粉末ジェットの良好な分離を保証するこ
とで十分であるが、それは粉末ジェットを相互に混じり
合わせずに、従って得られた層に拡散界面を持たせず
に、空洞２の中に引っ込めても、あるいは基材３の方向
に１又は数ミリメートル突き出してもよい。このように
して、後に説明する管で区画５、６の上部にやって来る
二つの粉末ジェットは、移動しているガラス帯の方向に
分配スロット４を出てゆく際には非常に異なる挙動特性
を示す。ガラス帯の移動方向に関して上流区画及び下流
区画という用語を使用すれば、上流区画６からの粉末ジ
ェットは本質的に上流に向いた流れを有し、それに対し
て下流区画５からの粉末ジェットは本質的に下流に向い
た流れを有し、仕切り７の延長にガラス帯３に向かって
二つのジェットの間の接触を防止するエアカーテンが作
りだされ、それゆえに粉末ジェットはガラス帯３に沿っ
て二つの相対する方向に「広がる」、ということが分か
る。
【００１６】多少なりとも拡散界面を得るためある程度
相互に混じり合わせたい場合には、空洞２内の仕切り７
の位置決めを、その一番下の先端が分配スロット４が基
材３から離れるよりももっと離れたところに来るように
することが必要である。図１と図２の態様では、仕切り
７は空洞２の中央の平面にあって、全体の幅が例えば４
〜20mmの分配スロット４を二つに正確に分けている。と
は言え、プレート７を非中央の平面に配置して、幅の異
なる区画を画定するようにすることも可能であり、これ
は例えばガラス帯の上に堆積させるべき二つの層の一方
が他方よりも厚くなくてはならず、二つの粉末固体のう
ちの一方の流量がより多い場合に有益なことである。同
じように、この場合には、仕切り７は互いに平行な壁を
有するプレートである。しかしながら、それは有利に
は、一方は仕切り７によりそして他方は空洞２により画
定される二つの壁は、基材３の方向に互いに対してすぼ
まる区画を得ることができるように、基材３の方向に向
かって開く壁を有し、これは区画５、６のそれぞれにお
ける粉末の同伴を良好にするのに大変都合がよい。
【００１７】仕切り７はここでは一体のものではある
が、それは、重量を節約するため、あるいは例えばその
内部に冷却液を循環させるために、中空のものであって
もよい。区画５、６のおのおのには、インジェクタとし
て知られる複数の供給管８により、ガスに浮遊した粉末
固体が供給される。これらのインジェクタは、ガスに浮
遊した複数の粉末ジェットを、一方では空洞２の壁によ
りそして他方では仕切りとして働く金属プレート７によ
り画定されるおのおのの区画に導入するように、開口９
の上部に当該区画の長さ全体にわたって配置される。イ
ンジェクタ８の位置は、開口９の中で垂直方向に、横断
方向に、そして横手方向に調整可能である。インジェク
タは、分配スロット４の軸線に対して垂直の方向に向け
ることができる。これらのインジェクタは、スロットの
軸線に対して垂直でない方向に傾斜させることもでき
る。粉末の出口に対応するインジェクタ８の先端は、基
材の上に得られる層の特性に依存する所望の浮遊粉末の
噴射条件に従って区画５、６のそれぞれの中の異なるレ
ベルにあることができる。好ましくは、この先端は空洞
へ昇圧ガスを導入するのに使用される入口10と同じ高さ
にある。この入口は後に説明され、そして二つの装置の
関数として互いに異なるものである。
【００１８】インジェクタ８は、ガス、好ましくは周囲
空気がインジェクタの近傍で各区画５、６に入るのを可
能にするよう、開口９の断面より小さい断面を有する。
インジェクタの数はいろいろに変えることができる。そ
れは、ノズル１の長さに依存し、また分配スロット４を
出てゆく際に基材上に粉末固体により形成される飛跡が
連続で且つ均一になるように決められる。各インジェク
タ８は、隣合うインジェクタから例えばおよそ５cm離す
ことができる。図１の態様では、区画のそれぞれに、昇
圧ガスが供給されそして例えば一列の穴12によりガス源
につながれる室11によって構成される昇圧ガス取入れ手
段も備え付けられる。この室11は入口10で区画５、６の
それぞれに通じている。この入口は、詳しく言うと、区
画５、６を画定している壁の一つに対して接線方向に、
インジェクタ８の近傍に位置している。
【００１９】この態様では、入口10は、基材３を横切る
方向に延びるプレート13に作られた複数の口により構成
される。これらの口は、それに隣接する空洞２の壁に実
質的に平行な軸線を有する。これらの口は、基材を横切
る方向に、好ましくは規則的に配分される。これらの口
の直径は 0.5〜３mm、好ましくは 0.8〜1.3mm である。
口と口との間隔は１〜15mm、好ましくは５〜10mmであ
る。これらの口の下端は好ましくは、インジェクタ８の
下端と同じ高さに配置される。このようにして、昇圧ガ
スは、インジェクタ８が位置する開口９で粉末と入って
くる周囲空気とを同伴するために区画５、６に導入され
る。この選ばれた配置は、昇圧されたガスを上記の口に
隣接した壁に、すなわちこの場合には空洞２の壁に平行
に導入するようなものである。昇圧された空気を仕切り
７により画定される区画の壁に対して実質的に平行に導
入する別の配置を採用することも可能である。
【００２０】図２の態様においては、区画のそれぞれ
に、この場合にはインジェクタ８の近傍に通じ、そして
次に説明するように昇圧ガスが供給される長手方向の吹
付けスロットを有する昇圧ガス取入れ手段が備付けられ
る。空洞２の両側に位置するノズル本体の二つの部分は
中空であって、それぞれは、例えば20のような昇圧ガス
の、一般には空気の一組の室を形成し、それぞれの組は
ランプ21によりガス源、一般には空気の源につながれ、
そして各室は同じ組の隣接した室から、 Poralタイプの
多孔質材料製の例えば23のような通路を有する例えば22
のようなスペーサーを形成する仕切りによって、又は膨
張スロットによって分離され、こうして各組の最終の室
の出口での流量をノズルの長さ全体にわたって一定にす
るのを可能にする。各組の室20の圧縮ガスは各区画５、
６の入口へ、ガスジェットが壁にくっついたままである
ようにそのガスジェットを空洞２の壁に対して接線方向
に向けるように、より具体的に言うとその壁に関して７
°未満の角度に従って向けるように形成されたリップ24
と25を有する校正された長手方向の吹込みスロット10に
より導入される。先に説明したのと同じように、ガスを
仕切り７により画定される区画５、６の壁に対して接線
方向に導入することも可能である。
【００２１】スロット10の校正は、プレート26を空洞２
の壁に対して垂直な方向に滑動させることでなされる。
ガスは、粉末がインジェクタを出てくる際の速度よりも
十分速い速度で吹込みスロット10を横切って導入され
る。有利には、この速度は、混合物の加速を増大させる
ため且つノズルの長さにわたって導入ガスの流量の均一
な分布に有利なように、音速である。インジェクタ８の
先端は、好ましくは吹込みスロットと同じ高さにある。
これらのスロットにより導入されたガスは、先に説明し
た態様におけるのと同じように、インジェクタ８の間か
ら空洞２へ外気を同伴する。
【００２２】先に説明した二つの態様のおのおのを、フ
ロートガラス帯の上に二重の被覆、特にヨーロッパ特許
出願公開第500445号明細書に記載されたものを堆積させ
るのに使用した。この被覆は、酸化アルミニウムのよう
な酸化物を基礎材料とする上層により保護された、第一
のドープされた、不足当量の(substoichiometric) 金属
酸化物層を有する。本発明による装置は、かくして二つ
の堆積がある意味で同時であるから、そのドープされた
層を酸素の不足当量状態で「ブロックする」のを可能に
する。これらの二つの装置を、スズ浴の領域から出て徐
冷がまに入る間におよそ12m/min の速度で移動してい
る、温度がおよそ 600℃で厚さ４mmのフロートガラス帯
の上方に順番に配置した。分配スロットはガラス表面か
らおよそ40mmのところにあり、それらはそれぞれ仕切り
によって、おのおのがおよそ５mmの幅を有する二つのス
ロットに分けられる。
【００２３】第一の一連の例は、一番目のスズをドープ
した酸化インジウム層の上に二番目の酸化アルミニウム
層が載っているものを形成することからなる。各「上
流」区画には、そのインジェクタにより、90重量％のギ
酸インジウムと10重量％の酸化ジブチルスズ混合物を区
画の直線１ｍ当たり10kg/hの流量で供給する。この混合
物を浮遊させるガスは、区画の直線１ｍ当たり50Nm3/h
の流量の空気である（ Nm3は標準m3であり、すなわち標
準の圧力条件及び温度条件にされたものである) 。各
「下流」区画には、そのインジェクタにより、アルミニ
ウムトリイソプロピレートを基礎材料とする粉末を区画
の直線１ｍ当たり３kg/hの流量で供給する。それを浮遊
させるガスは、区画の直線１ｍ当たり50Nm3/h の流量の
空気である。
【００２４】更に、区画のそれぞれには吹込みスロット
又は口により昇圧ガスが供給され、このガスは空気であ
って、その流量は区画の直線１ｍ当たり200Nm3/hであ
る。誘入空気の流量は区画の直線１ｍ当たり100Nm3/hで
ある。第一の280nm のＩＴＯ層の上に第二のほぼ90nmの
Al2O3 層が載ったものが得られ、これは非常に申し分の
ない性質の輻射率（0.10）と光学特性（光の透過率87
％）を有し、この被覆には有意の曇り又は真珠光の影響
は見られない。
【００２５】もう一つの組の堆積を行う。これは、第一
の堆積がフッ素をドープした酸化スズSnO2:Fであり、そ
の上に載ったものが酸化アルミニウムAl2O3 層である。
前の組と比べた違いは、上流区画のそれぞれにここでは
ジブチルスズジフルオリド粉末が区画の直線１ｍ当たり
5.6Kg/h の流量で供給されることである。第一の360nm
のSnO2:F層の上におよそ80nmのAl2O3 層が載った積重体
が得られ、この積重体は有意の曇り又は真珠光の影響が
なく、良好な輻射率（0.17）と光学特性（光の透過率83
％及び光反射率８％）を有する。
【００２６】結論として、本発明による仕切り系を備え
た装置は、非常に満足な品質のいくつかの薄い層を得る
のを可能にし、その一方でまたかなりの空間の利益をも
もたらす。更に、それは実施するのが非常に簡単であっ
て、且つ、仕切りの位置と形状は所望される薄い層の積
重体、堆積させるべき層の数及びそれらの相対的な厚さ
の関数として調節可能であるから、容易に適合させるこ
とができる。それはまた、これらの仕切りにより画定さ
れる区画のそれぞれが互いに独立して機能するので、変
更を施すこともできる。このように、必要なものの関数
として、それらのうちのいくつかを又は一つだけを操作
することが必要なだけである。この装置は、都合のよい
やり方で従来の装置の全てに取って代わって、それによ
り時間のかかる装置の取付けと取外しを避けることがで
きる。最後に、それは、それが都合よく位置するフロー
ト設備の変更を必要とはしない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による装置の一つの態様の断面図であ
る。
【図２】本発明による装置のもう一つの態様の断面図で
ある。
【符号の説明】
１…分配装置 ２…空洞 ３…基材 ４…分配スロット ５，６…区画 ７…仕切り ８…粉末固体導入手段 ９…周囲空気取入れ口 １０…昇圧ガス導入手段 １１，１２…室 １３…プレート ２０…室 ２３…プレート

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 移動している基材（３）上にガスに浮遊
    した粉末固体を分配するための装置であり、当該基材の
    移動方向を横切って配置されそして当該基材の近傍にお
    いて分配スロット（４）で終えるストリップ状の空洞
    （２）を画定している二つの壁を有する装置（１）であ
    って、当該空洞（２）にそれを長手方向に区切るように
    配置される少なくとも一つの仕切り（７）が備付けら
    れ、区切られた区画（５、６）のおのおのに、粉末固体
    を導入する手段（８）と昇圧されたガスを導入する手段
    （10）が設けられていることを特徴とする装置。
  2. 【請求項２】 前記空洞（２）における前記仕切り
    （７）の位置が、特に高さに関して、調整できることを
    特徴とする、請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 前記仕切り（７）が一体の又は中空の構
    成を有し、特に金属プレートで製作されていることを特
    徴とする、請求項１又は２記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記仕切り（７）が二つの平行な壁、あ
    るいは前記基材に向かう方向に少なくとも部分的に広が
    る又はすぼまる二つの壁を画定していることを特徴とす
    る、請求項１から３までのいずれか一つに記載の装置。
  5. 【請求項５】 前記基材（３）の近傍で前記仕切り
    （７）により画定された壁の先端が丸みを帯びているこ
    とを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一つに
    記載の装置。
  6. 【請求項６】 前記空洞（２）を二つの対称な区画
    （５、６）に分ける仕切り（７）を有することを特徴と
    する、請求項１から５までのいずれか一つに記載の装
    置。
  7. 【請求項７】 前記仕切り（７）が前記分配スロット
    （４）と同じ平面にあることを特徴とする、請求項１か
    ら６までのいずれか一つに記載の装置。
  8. 【請求項８】 前記仕切り（７）が補強用要素、特に前
    記空洞（２）の外側にあるタイロッドを備えてなること
    を特徴とする、請求項１から７までのいずれか一つに記
    載の装置。
  9. 【請求項９】 前記区画（５、６）のそれぞれに供給す
    る前記粉末固体導入手段が前記空洞（２）に対して長手
    方向に配置された複数の供給管（８）を有することを特
    徴とする、請求項１から８までのいずれか一つに記載の
    装置。
  10. 【請求項１０】 前記区画のおのおのに備付けられた前
    記昇圧ガス導入手段が、昇圧ガスが供給され、そしてガ
    スを前記基材（３）の方向に導入するように配列された
    口（10）によりそのガスを当該区画（５、６）内へ流入
    させる室（11、20）を含み、これらの口（10）が、多孔
    質のプレート（23）により当該室（11、20）に任意的に
    つながれたスロットの形をしており、あるいは特にプレ
    ート（13）に作られた開口であることを特徴とする、請
    求項１から９までのいずれか一つ記載の装置。
  11. 【請求項１１】 昇圧ガスがそれにより前記区画（５、
    ６）に導入される前記口（10）が当該ガスを当該口（1
    0）に隣接した壁に実質的に平行に導入するようにされ
    ていることを特徴とする、請求項10記載の装置。
  12. 【請求項１２】 前記区画（５、６）の少なくとも一つ
    が補足ガス、特に周囲空気の取入れ口（９）を、特に前
    記粉末固体導入手段（８）の近傍に備えてなることを特
    徴とする、請求項１から11までのいずれか一つに記載の
    装置。
JP6026664A 1993-02-25 1994-02-24 基材表面に粉末固体を分配するための装置 Pending JPH06296901A (ja)

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FR9302136 1993-02-25

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