RU2648811C1 - Устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава - Google Patents
Устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава Download PDFInfo
- Publication number
- RU2648811C1 RU2648811C1 RU2017116979A RU2017116979A RU2648811C1 RU 2648811 C1 RU2648811 C1 RU 2648811C1 RU 2017116979 A RU2017116979 A RU 2017116979A RU 2017116979 A RU2017116979 A RU 2017116979A RU 2648811 C1 RU2648811 C1 RU 2648811C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- chamber
- cathode chamber
- anode chamber
- redox potential
- electrolyte
- Prior art date
Links
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 70
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 66
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 66
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 62
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 59
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 133
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 54
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 53
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 80
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 44
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 claims description 31
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims description 29
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 28
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 19
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 4
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 230000006697 redox regulation Effects 0.000 claims description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 34
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 abstract description 10
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 8
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 abstract 1
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 47
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H lead(2+);dicarbonate;dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O RYZCLUQMCYZBJQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 13
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 10
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 9
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 8
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 8
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical class CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 7
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 7
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- SDFNZYMSEOUVIF-UHFFFAOYSA-N copper;methanesulfonic acid Chemical compound [Cu].CS(O)(=O)=O SDFNZYMSEOUVIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910001502 inorganic halide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 5
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 5
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 5
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 5
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 4
- 229910052920 inorganic sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ZQLBQWDYEGOYSW-UHFFFAOYSA-L copper;disulfamate Chemical compound [Cu+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O ZQLBQWDYEGOYSW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000018417 cysteine Nutrition 0.000 description 3
- XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N cysteine Natural products SCC(N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- CXIHYTLHIDQMGN-UHFFFAOYSA-L methanesulfonate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O CXIHYTLHIDQMGN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 3
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMPMFQXUJXPWSL-UHFFFAOYSA-N 3-(3-sulfopropyldisulfanyl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCSSCCCS(O)(=O)=O LMPMFQXUJXPWSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003788 bath preparation Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 2
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 2
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- KKVTYAVXTDIPAP-UHFFFAOYSA-M sodium;methanesulfonate Chemical compound [Na+].CS([O-])(=O)=O KKVTYAVXTDIPAP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N tricarballylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CC(O)=O KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003170 water-soluble synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZUQWNYNSKJLPI-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2SC(SCC(=O)O)=NC2=C1 ZZUQWNYNSKJLPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APTMUIAOGSSQEM-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-dihydroxyethyldisulfanyl)ethane-1,1-diol Chemical compound OC(O)CSSCC(O)O APTMUIAOGSSQEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXQXJZDPDXVIEN-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-(2-azaniumyl-2-carboxylatoethyl)sulfonylsulfanylpropanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CSS(=O)(=O)CC(N)C(O)=O RXQXJZDPDXVIEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSXUNHYXJWDLDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1-sulfonic acid Chemical class CC(O)CS(O)(=O)=O HSXUNHYXJWDLDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXSBAOMLHPFLMW-UHFFFAOYSA-N 3-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)propanoic acid Chemical compound C1=CC=C2SC(SCCC(=O)O)=NC2=C1 DXSBAOMLHPFLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSNVLCAXJNGKPQ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropyldisulfanyl)propan-1-amine Chemical compound NCCCSSCCCN RSNVLCAXJNGKPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBZFUFAFFUEMEI-UHFFFAOYSA-M Acesulfame k Chemical compound [K+].CC1=CC(=O)[N-]S(=O)(=O)O1 WBZFUFAFFUEMEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDIPTWFVPPPURJ-UHFFFAOYSA-M Cyclamate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)NC1CCCCC1 UDIPTWFVPPPURJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YPWSLBHSMIKTPR-UHFFFAOYSA-N Cystathionine Natural products OC(=O)C(N)CCSSCC(N)C(O)=O YPWSLBHSMIKTPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- ILRYLPWNYFXEMH-UHFFFAOYSA-N D-cystathionine Natural products OC(=O)C(N)CCSCC(N)C(O)=O ILRYLPWNYFXEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVWYRKDKASIDU-QWWZWVQMSA-N D-cystine Chemical compound OC(=O)[C@H](N)CSSC[C@@H](N)C(O)=O LEVWYRKDKASIDU-QWWZWVQMSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 208000006558 Dental Calculus Diseases 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N L-Cysteine Chemical compound SC[C@H](N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- ILRYLPWNYFXEMH-WHFBIAKZSA-N L-cystathionine Chemical compound [O-]C(=O)[C@@H]([NH3+])CCSC[C@H]([NH3+])C([O-])=O ILRYLPWNYFXEMH-WHFBIAKZSA-N 0.000 description 1
- GGLZPLKKBSSKCX-YFKPBYRVSA-N L-ethionine Chemical compound CCSCC[C@H](N)C(O)=O GGLZPLKKBSSKCX-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N L-methionine Chemical compound CSCC[C@H](N)C(O)=O FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZSIRDIDJUESHO-UHFFFAOYSA-N NC(CCCCSSCCCCC(N)N)N Chemical compound NC(CCCCSSCCCCC(N)N)N AZSIRDIDJUESHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSGAAGZINXPOI-UHFFFAOYSA-N OC(CCCCSSCCCCC(O)O)O Chemical compound OC(CCCCSSCCCCC(O)O)O WOSGAAGZINXPOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJRGRYHXYMWWIQ-UHFFFAOYSA-N OC(CCCSSCCCC(O)O)O Chemical compound OC(CCCSSCCCC(O)O)O CJRGRYHXYMWWIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMPQADPTQQZJCZ-UHFFFAOYSA-N OC(CCSSCCC(O)O)O Chemical compound OC(CCSSCCC(O)O)O QMPQADPTQQZJCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- YJOQAIYGOLGIGD-UHFFFAOYSA-N S(=O)(=O)(O)C(CCSSCCC(S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O.[Na] Chemical compound S(=O)(=O)(O)C(CCSSCCC(S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O.[Na] YJOQAIYGOLGIGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIWBDBJGJBLYEM-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])C(CSSCC([N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-] Chemical compound [N+](=O)([O-])C(CSSCC([N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-])[N+](=O)[O-] DIWBDBJGJBLYEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYNFOMQIXZUKRK-UHFFFAOYSA-N bishydroxyethyldisulfide Natural products OCCSSCCO KYNFOMQIXZUKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L copper;methanesulfonate Chemical compound [Cu+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229960003067 cystine Drugs 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDVZHDCXCXJPSO-UHFFFAOYSA-N indium(3+) oxygen(2-) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[Ti+4].[In+3] BDVZHDCXCXJPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000011147 magnesium chloride Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930182817 methionine Natural products 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHXWDVNBYKJQH-UHFFFAOYSA-N nitroacetic acid Chemical compound OC(=O)C[N+]([O-])=O RGHXWDVNBYKJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- LJRGBERXYNQPJI-UHFFFAOYSA-M sodium;3-nitrobenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-][N+](=O)C1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 LJRGBERXYNQPJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SPDUKHLMYVCLOA-UHFFFAOYSA-M sodium;ethaneperoxoate Chemical compound [Na+].CC(=O)O[O-] SPDUKHLMYVCLOA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC=C DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
- C25D21/14—Controlled addition of electrolyte components
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/002—Alloys based on nickel or cobalt with copper as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
- C22C9/06—Alloys based on copper with nickel or cobalt as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/002—Cell separation, e.g. membranes, diaphragms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/008—Current shielding devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/06—Filtering particles other than ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/10—Agitating of electrolytes; Moving of racks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/58—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
- C25D5/611—Smooth layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава. Устройство содержит катодную камеру, в которой размещается деталь, анодную камеру, анод, размещенный в анодной камере, электропроводящую диафрагму, размещенную отделяющей катодную камеру и анодную камеру друг от друга, резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в катодной камере, резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в анодной камере, а также блок источника питания, который обеспечивает протекание электрического тока между деталью и анодом. Технический результат: повышение стабильности формирования на детали гальванического покрытия из медно-никелевого сплава с однородным составом и увеличение периода времени использования электролита. 6 з.п. ф-лы, 6 табл., 4 пр., 2 ил.
Description
ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ
[0001] Настоящее изобретение относится к устройству для нанесения покрытия, и в частности к устройству для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава.
ПРЕДПОСЫЛКИ ИЗОБРЕТЕНИЯ
[0002] В большинстве случаев за счет изменения соотношения между медью и никелем медно-никелевым сплавам можно придать превосходные свойства коррозионной стойкости, формуемости/пластичности, технологичности, а также высокотемпературные характеристики, и медно-никелевые сплавы также имеют характерные свойства электрического удельного сопротивления, коэффициента термического сопротивления, термоэлектродвижущей силы, коэффициента теплового расширения и т.п. Поэтому ранее были проведены исследования для получения таких свойств медно-никелевых сплавов с помощью гальваностегии. В качестве традиционно испытываемых ванн для гальванического нанесения покрытия из медно-никелевого сплава было изучено большое многообразие ванн, включая цианидную ванну, лимоннокислую ванну, уксуснокислую ванну, виннокислую ванну, тиосернокислую ванну, аммониевую ванну, пирофосфорнокислую ванну и т.п.; однако ни одна из этих ванн не нашла практического применения.
[0003] Причины, по которым электролитическое покрытие медно-никелевым сплавом практически не использовалось, являются следующими:
(1) медь и никель отличаются друг от друга по потенциалу осаждения приблизительно на 0,6 В, так что предпочтительно осаждается медь;
(2) электролитическая ванна является настолько неустойчивой, что образуются нерастворимые соединения, такие как гидроксиды металлов;
(3) состав покрытия меняется из-за подачи питания, так что покрытие, имеющее однородный состав, не может быть устойчиво получено;
(4) срок службы электролита мал; и т.п.
СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Технические проблемы
[0004] Из-за вышеописанных проблем при обычных устройствах для нанесения гальванического покрытия трудно устойчиво получить на детали гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава с однородным составом. Также трудно использовать электролитическую ванну в течение длительного периода.
Решение проблем
[0005] Для того, чтобы решить вышеописанные проблемы, настоящее изобретение предлагает устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава, содержащее: катодную камеру, в которой размещается деталь; анодную камеру; анод, размещенный в анодной камере; электропроводящую диафрагму, размещенную отделяющей катодную камеру и анодную камеру друг от друга; резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в катодной камере; резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в анодной камере; а также блок источника питания, который обеспечивает протекание электрического тока между деталью и анодом.
[0006] В соответствии с выполненным таким образом настоящим изобретением резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры регулируют окислительно-восстановительные потенциалы в катодной камере и анодной камере, позволяя получать нанесенное покрытие с однородным составом и осаждать медь и никель на деталь при любом отношении компонентов сплава. В дополнение, поскольку окислительно-восстановительные потенциалы регулируются, состояние ванны может поддерживаться устойчивым, а также может быть получено хорошее гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава, даже когда электролитическая ванна (электролит) непрерывно используется в течение длительного периода времени.
[0007] В настоящем изобретении предпочтительно дополнительно использовать устройство циркуляции катодной камеры, которое обеспечивает циркуляцию электролита между катодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, а также устройство циркуляции анодной камеры, которое обеспечивает циркуляцию электролита между анодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры.
[0008] В соответствии с выполненным таким образом настоящим изобретением устройства циркуляции обеспечивают циркуляцию электролита в катодной камере и резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и между ними, а также циркуляцию электролита в анодной камере и анодном резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры и между ними. Следовательно, каждый из электролитов на катодной стороне и анодной стороне может поддерживаться в однородном состоянии, так что может быть получено однородное гальваническое покрытие.
[0009] В настоящем изобретении диафрагма предпочтительно представляет собой ткань, сделанную из сложного полиэфира, полипропилена, материала KANEKALON, материала SARAN или PTFE, нейтральную диафрагму или ионообменную мембрану. В соответствии с выполненным таким образом настоящим изобретением диафрагма может быть сформирована с низкими затратами.
[0010] В настоящем изобретении устройство циркуляции катодной камеры предпочтительно включает в себя: перелив катодной камеры, который позволяет электролиту в катодной камере переливаться в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры; устройство переноса катодной камеры, которое передает электролит из резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры в катодную камеру; и фильтровальное устройство катодной камеры, которое фильтрует электролит, передаваемый устройством переноса катодной камеры, а устройство циркуляции анодной камеры предпочтительно включает в себя: перелив анодной камеры, который позволяет электролиту в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры переливаться в анодную камеру; устройство переноса анодной камеры, которое передает электролит из анодной камеры в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры; а также фильтровальное устройство анодной камеры, которое фильтрует электролит, передаваемый устройством переноса анодной камеры.
[0011] В соответствии с выполненным таким образом настоящим изобретением использование резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры позволяют легко поддерживать подходящие значения окислительно-восстановительных потенциалов в катодной камере и в анодной камере.
[0012] В настоящем изобретении устройство циркуляции катодной камеры предпочтительно включает в себя: первое устройство переноса катодной камеры, которое передает находящийся в катодной камере электролит в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры; второе устройство переноса катодной камеры, которое передает электролит, находящийся в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, в катодную камеру; а также фильтровальное устройство катодной камеры, которое фильтрует электролит, циркулирующий между катодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, а устройство циркуляции анодной камеры предпочтительно включает в себя: первое устройство переноса анодной камеры, которое передает электролит, находящийся в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, в анодную камеру; второе устройство переноса анодной камеры, которое передает электролит, находящийся в анодной камере, в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры; а также фильтровальное устройство анодной камеры, которое фильтрует электролит, циркулирующий между анодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры.
[0013] В соответствии с выполненным таким образом настоящим изобретением использование резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры позволяют легко поддерживать подходящие значения окислительно-восстановительных потенциалов в катодной камере и в анодной камере. В дополнение, за счет использования устройств переноса осуществляется циркуляция электролитов между катодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и между анодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. Следовательно, резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры могут быть размещены в любых положениях.
[0014] В настоящем изобретении предпочтительно, чтобы оно дополнительно содержало: устройство измерения электрического потенциала катодной камеры, которое измеряет окислительно-восстановительный потенциал электролита в катодной камере; устройство измерения электрического потенциала анодной камеры, которое измеряет окислительно-восстановительный потенциал электролита в анодной камере; устройство добавления регулятора катодной камеры, которое добавляет регулятор окислительно-восстановительного потенциала в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры; устройство добавления регулятора анодной камеры, которое добавляет регулятор окислительно-восстановительного потенциала в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры; и блок управления, который управляет устройством добавления регулятора катодной камеры и устройством добавления регулятора анодной камеры на основе окислительно-восстановительного потенциала, измеряемого устройством измерения электрического потенциала катодной камеры, и на основе окислительно-восстановительного потенциала, измеряемого устройством измерения электрического потенциала анодной камеры. В соответствии с выполненным таким образом настоящим изобретением окислительно-восстановительные потенциалы в катодной камере и анодной камере могут быть точно поддерживаться на подходящих уровнях.
[0015] В настоящем изобретении предпочтительно, чтобы оно дополнительно содержало электролит для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава, содержащийся в катодной камере, анодной камере, резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, причем этот электролит для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава содержит: (a) соль меди и соль никеля; (b) образующее комплекс с металлом вещество; (c) обеспечивающую электропроводность соль; и (d) серосодержащее органическое соединение. Выполненное таким образом настоящее изобретение позволяет получать хорошее гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава.
Полезные эффекты изобретения
[0016] Устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава по настоящему изобретению способно стабильно формировать на детали гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава с однородным составом, а также позволяет использовать электролитическую ванну в течение длительного периода времени.
КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ
[0017] Фиг. 1 представляет собой разрез устройства для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с первым вариантом осуществления настоящего изобретения.
Фиг. 2 представляет собой разрез устройства для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии со вторым вариантом осуществления настоящего изобретения.
ОПИСАНИЕ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ
[0018] Далее устройства для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с предпочтительными вариантами осуществления настоящего изобретения описываются со ссылками на приложенные чертежи.
[0019] Фиг. 1 представляет собой разрез устройства для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с первым вариантом осуществления настоящего изобретения. Как показано на Фиг. 1, устройство 1 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с первым вариантом осуществления настоящего изобретения включает в себя резервуар 2 для нанесения покрытия. Резервуар 2 для нанесения покрытия разделен с образованием в нем катодной камеры 4, анодной камеры 6, резервуара 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуара 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. В дополнение, в катодной камере 4 и анодной камере 6 размещаются соответственно катод 5 (деталь) и анод 7 так, чтобы они были погружены в электролиты.
[0020] Между катодной камерой 4 и анодной камерой 6 предусмотрена разделительная стенка 12 для того, чтобы отделить катодную камеру 4 и анодную камеру 6 друг от друга. Разделительная стенка 12 снабжена проемом 12a, и в этом проеме 12a закреплена диафрагма 14. Диафрагма 14 выполнена с возможностью обеспечения электропроводящей перегородки между катодной камерой 4 и анодной камерой 6. В качестве диафрагмы 14 возможно использовать ткань из сложного полиэфира, полипропилена, материала KANEKALON, материала SARAN, PTFE и т.п., нейтральную диафрагму, такую как диафрагма с подложкой из полиэтилентерефталата и мембранными материалами из поливинилиденфторидной смолы, оксида титана/сложного эфира сахарозы и жирной кислоты, или ионообменную мембрану, такую как катионообменная мембрана.
[0021] В дополнение, в катодной камере 4 предусмотрена экранирующая пластина 16 катодной стороны. Экранирующая пластина 16 катодной стороны разделяет катодную камеру 4 на сторону 14 диафрагмы и сторону 5 катода. Экранирующая пластина 16 катодной стороны снабжена проемом 16a. Экранирующая пластина 16 катодной стороны предотвращает концентрирование тока на периферийных частях катода 5 (детали) и вызывает прохождение однородного тока через каждую часть катода 5, позволяя получить однородную толщину гальванического покрытия и однородный состав гальванического покрытия.
[0022] Между катодной камерой 4 и резервуаром 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры предусмотрен обеспечивающий перегородку между ними перелив 18 катодной камеры. Эта конфигурация позволяет электролиту, который находится в катодной камере 4 и превышает перелив 18 катодной камеры, переливаться в резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры.
[0023] В резервуаре 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры предусмотрены две разделяющих перегородки 20a и 20b. Эти разделяющие перегородки 20a и 20b заставляют электролит, переливающийся из перелива 18 катодной камеры, течь вниз между переливом 18 катодной камеры и разделяющей перегородкой 20a, поворачивать у нижней поверхности резервуара 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, а затем течь вверх между разделяющими перегородками 20a и 20b. Таким образом электролит течет в резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры. Другими словами, разделяющие перегородки 20a и 20b формируют поворотный проход 22 в резервуаре 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры. Этот поворотный проход 22 создает умеренный поток электролита в резервуаре 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, и, следовательно, регулятор окислительно-восстановительного потенциала, вводимый в резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, равномерно смешивается, обеспечивая плавное регулирование окислительно-восстановительного потенциала.
[0024] В анодной камере 6, с другой стороны, между разделительной стенкой 12 и анодом 7 предусмотрена перегородка 24 для шлама. Перегородка 24 для шлама образована из стенки, проходящей от нижней поверхности анодной камеры 6 на заданную высоту, и предотвращает перемещение оседающего шлама к разделительной стенке 12.
[0025] Между анодной камерой 6 и резервуаром 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры предусмотрен обеспечивающий перегородку между ними перелив 26 анодной камеры. Эта конфигурация позволяет электролиту, который находится в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры и превышает перелив 26 анодной камеры, переливаться в анодную камеру 6.
[0026] В резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры предусмотрены две разделяющих перегородки 28a и 28b. Эти разделяющие перегородки 28a и 28b заставляют электролит в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры переливаться через разделяющую перегородку 28a и течь вниз, поворачивать у нижней поверхности резервуара 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, затем течь вверх между разделяющей перегородкой 28b и переливом 26 анодной камеры и переливаться через перелив 26 анодной камеры в анодную камеру 6. Другими словами, разделяющие перегородки 28a и 28b формируют поворотный проход 30 в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. Этот поворотный проход 30 создает умеренный поток электролита в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, и, следовательно, регулятор окислительно-восстановительного потенциала, вводимый в резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, равномерно смешивается, обеспечивая плавное регулирование окислительно-восстановительного потенциала.
[0027] Кроме того, между катодной камерой 4 и резервуаром 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры предусмотрено устройство 32 переноса катодной камеры. Устройство 32 переноса катодной камеры переносит электролит. Устройство 32 переноса катодной камеры выполнено с возможностью всасывать электролит через всасывающую трубу 32a катодной камеры в нижней части резервуара 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры посредством насоса (не проиллюстрирован) и заставлять электролит течь в катодную камеру 4 через выпускную трубу 32b катодной камеры в нижнюю часть катодной камеры 4. В дополнение, устройство 32 переноса катодной камеры содержит фильтровальное устройство 32c катодной камеры для удаления шлама и т.п. содержащегося в электролите, переносимом устройством 32 переноса катодной камеры.
[0028] Таким образом, устройство 32 переноса катодной камеры переносит электролит из резервуара 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры в катодную камеру 4, так что уровень электролита в катодной камере 4 повышается. Следовательно, электролит в катодной камере 4 переливается через перелив 18 катодной камеры обратно в резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры. Сочетание перелива 18 катодной камеры и устройства 32 переноса катодной камеры, как описано выше, позволяет электролиту циркулировать между резервуаром 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и катодной камерой 4 только путем переноса электролита из резервуара 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры в катодную камеру 4. Соответственно, устройство 32 переноса катодной камеры и перелив 18 катодной камеры функционируют как устройства циркуляции катодной камеры, которые обеспечивают циркуляцию электролита в катодной камере 4 и в резервуаре 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры между ними.
[0029] Далее, между анодной камерой 6 и резервуаром 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры предусмотрено устройство 34 переноса анодной камеры. Устройство 34 переноса анодной камеры переносит электролит. Это устройство 34 переноса анодной камеры выполнено с возможностью всасывать электролит через всасывающую трубу 34a анодной камеры в нижней части анодной камеры 6 посредством насоса (не проиллюстрирован) и заставлять электролит течь в резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры через выпускную трубу 34b анодной камеры в нижнюю часть резервуара 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. В дополнение, устройство 34 переноса анодной камеры содержит фильтровальное устройство 34c анодной камеры для удаления шлама и т.п., содержащегося в электролите, переносимом устройством 34 переноса анодной камеры.
[0030] Таким образом, устройство 34 переноса анодной камеры переносит электролит из анодной камеры 6 в резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, так что уровень электролита в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры повышается. Следовательно, электролит в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры переливается через перелив 26 анодной камеры обратно в анодную камеру 6. Сочетание перелива 26 анодной камеры и устройства 34 переноса анодной камеры, как описано выше, позволяет электролиту циркулировать между анодной камерой 6 и резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры только путем переноса электролита из анодной камеры 6 в резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. Соответственно, устройство 34 переноса анодной камеры и перелив 26 анодной камеры функционируют как устройства циркуляции анодной камеры, которые обеспечивают циркуляцию электролита в анодной камере 6 и в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры между ними.
[0031] Кроме того, между катодом 5 (деталью), размещенным в катодной камере 4, и анодом 7, размещенным в анодной камере 6, подключен блок 36 источника питания. При включении этого блока 36 источника питания течет ток от анода 7 к катоду 5 через электролит и через диафрагму 14, так что деталь покрывается гальваническим покрытием.
[0032] Далее описывается приспособление для регулирования окислительно-восстановительных потенциалов электролитов.
Устройство 1 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава по этому варианту осуществления включает в себя в качестве приспособления для регулирования окислительно-восстановительных потенциалов: устройство 38 измерения электрического потенциала катодной камеры; устройство 40 добавления регулятора катодной камеры; устройство 42 измерения электрического потенциала анодной камеры; устройство 44 добавления регулятора анодной камеры; и блок 46 управления, связанный с устройством 40 добавления регулятора катодной камеры и с устройством 44 добавления регулятора анодной камеры.
[0033] Устройство 38 измерения электрического потенциала катодной камеры размещено в катодной камере 4 и выполнено с возможностью измерять окислительно-восстановительный потенциал электролита в катодной камере 4.
Устройство 40 добавления регулятора катодной камеры выполнено с возможностью добавлять регулятор окислительно-восстановительного потенциала к электролиту в резервуаре 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры.
Аналогичным образом, устройство 42 измерения электрического потенциала анодной камеры размещено в анодной камере 6 и выполнено с возможностью измерять окислительно-восстановительный потенциал электролита в анодной камере 6.
Устройство 44 добавления регулятора анодной камеры выполнено с возможностью добавлять регулятор окислительно-восстановительного потенциала к электролиту в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры.
[0034] Устройство 38 измерения электрического потенциала катодной камеры соединено с блоком 46 управления, и окислительно-восстановительный потенциал, измеряемый устройством 38 измерения электрического потенциала катодной камеры, вводится в блок 46 управления. Блок 46 управления выполнен с возможностью управления устройством 40 добавления регулятора катодной камеры на основе введенного окислительно-восстановительного потенциала для того, чтобы достичь заданного окислительно-восстановительного потенциала в катодной камере 4. Устройство 40 добавления регулятора катодной камеры выполнено с возможностью вводить заданное количество регулятора окислительно-восстановительного потенциала в резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры на основе управляющего сигнала от блока 46 управления.
[0035] Аналогичным образом, устройство 42 измерения электрического потенциала анодной камеры соединено с блоком 46 управления, и окислительно-восстановительный потенциал, измеряемый устройством 42 измерения электрического потенциала анодной камеры, вводится в блок 46 управления. Блок 46 управления выполнен с возможностью управления устройством 44 добавления регулятора анодной камеры на основе введенного окислительно-восстановительного потенциала для того, чтобы достичь заданного окислительно-восстановительного потенциала в анодной камере 6. Устройство 44 добавления регулятора анодной камеры выполнено с возможностью вводить заданное количество регулятора окислительно-восстановительного потенциала в резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры на основе управляющего сигнала от блока 46 управления. Регулирование окислительно-восстановительных потенциалов блоком управления 46 осуществляется всегда во время работы устройства 1 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава.
[0036] Далее со ссылкой на Фиг. 2 описывается устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии со вторым вариантом осуществления настоящего изобретения. Фиг. 2 представляет собой разрез устройства для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии со вторым вариантом осуществления настоящего изобретения. В вышеописанном первом варианте осуществления катодная камера 4 и анодная камера 6 соответственно помещены рядом с резервуаром 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуаром 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, и электролит циркулирует за счет перелива. Этот вариант осуществления отличается от первого варианта осуществления тем, что резервуары регулирования окислительно-восстановительного потенциала являются отдельными. Соответственно, далее описываются лишь различия между вторым и первым вариантами осуществления настоящего изобретения, а общие конфигурации, операции и эффекты не описываются.
[0037] Как показано на Фиг. 2, устройство 100 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава по этому варианту осуществления включает в себя главный резервуар 102 для нанесения покрытия, а также резервуар 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуар 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, которые отделены от главного резервуара 102 для нанесения покрытия. В главном резервуаре 102 для нанесения покрытия образованы катодная камера 104 и анодная камера 106. В дополнение, в катодной камере 104 и анодной камере 106 размещаются соответственно катод 105 (деталь) и анод 107 так, чтобы они были погружены в электролит.
[0038] Между катодной камерой 104 и анодной камерой 106 предусмотрена разделительная стенка 112 для того, чтобы отделить катодную камеру 104 и анодную камеру 106 друг от друга. Разделительная стенка 112 снабжена проемом 112a, в котором закреплена диафрагма 114.
[0039] В дополнение, в катодной камере 104 предусмотрена экранирующая пластина 116 катодной стороны. Экранирующая пластина 116 катодной стороны разделяет катодную камеру 104 на сторону 114 диафрагмы и сторону 105 катода. Эта экранирующая пластина 116 катодной стороны снабжена проемом 116a. В анодной камере 106, с другой стороны, между разделительной стенкой 112 и анодом 107 предусмотрена перегородка 124 для шлама. Перегородка 124 для шлама образована из стенки, проходящей от нижней поверхности анодной камеры 106 на заданную высоту, и предотвращает перемещение оседающего шлама к разделительной стенке 112.
[0040] Резервуар 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры предусмотрен отдельно от главного резервуара 102 для нанесения покрытия и выполнен с возможностью циркуляции электролита между резервуаром 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и катодной камерой 104. В дополнение, резервуар 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры снабжен пропеллерной мешалкой 147 резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры для того, чтобы равномерно растворять регулятор окислительно-восстановительного потенциала, вводимый в электролит.
[0041] Резервуар 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры предусмотрен отдельно от главного резервуара 102 для нанесения гальванического покрытия и выполнен с возможностью циркуляции электролита между резервуаром 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры и анодной камерой 106. В дополнение, резервуар 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры снабжен пропеллерной мешалкой 148 резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры для того, чтобы равномерно растворять регулятор окислительно-восстановительного потенциала, вводимый в электролит.
[0042] Между катодной камерой 104 и резервуаром 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры расположены трубопровод и циркуляционные насосы с тем, чтобы электролиты могли циркулировать между ними. В частности, между катодной камерой 104 и резервуаром 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры предусмотрено первое устройство 132 переноса катодной камеры. Первое устройство 132 переноса катодной камеры возвращает электролит, находящийся в резервуаре 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, в катодную камеру 104. Первое устройство 132 переноса катодной камеры выполнено с возможностью всасывать электролит через всасывающую трубу 132a катодной камеры в нижней части резервуара 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры посредством насоса (не проиллюстрирован) и заставлять электролит течь в катодную камеру 104 через выпускную трубу 132b катодной камеры в нижнюю часть катодной камеры 104. В дополнение, первое устройство 132 переноса катодной камеры содержит фильтровальное устройство 132c катодной камеры для удаления шлама и т.п. содержащегося в электролите, переносимом первым устройством 132 переноса катодной камеры.
[0043] Кроме того, между катодной камерой 104 и резервуаром 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры предусмотрено второе устройство 133 переноса катодной камеры. Второе устройство 133 переноса катодной камеры переносит электролит, находящийся в катодной камере 104, в резервуар 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры. Второе устройство 133 переноса катодной камеры выполнено с возможностью всасывать электролит через всасывающую трубу 133a катодной камеры в верхней части катодной камеры 104 посредством насоса (не проиллюстрирован) и заставлять электролит течь в резервуар 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры через выпускную трубу 133b катодной камеры в верхнюю часть резервуара 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры.
[0044] Таким образом, первое устройство 132 переноса катодной камеры и второе устройство 133 переноса катодной камеры обеспечивают циркуляцию электролита между катодной камерой 104 и резервуаром 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры. Соответственно, первое устройство 132 переноса катодной камеры и второе устройство 133 переноса катодной камеры функционируют как устройства циркуляции катодной камеры, которые обеспечивают циркуляцию электролита в катодной камере 104 и в резервуаре 108 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры между ними.
[0045] Между анодной камерой 106 и резервуаром 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры расположены трубопровод и циркуляционные насосы с тем, чтобы электролиты могли циркулировать между ними. В частности, первое устройство 134 переноса анодной камеры предусматривается между анодной камерой 106 и резервуаром 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. Первое устройство 134 переноса анодной камеры переносит электролит. Первое устройство 134 переноса анодной камеры выполнено с возможностью всасывать электролит через всасывающую трубу 134a анодной камеры в нижней части анодной камеры 106 посредством насоса (не проиллюстрирован) и заставлять электролит течь в резервуар 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры через выпускную трубу 134b анодной камеры в нижнюю часть резервуара 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. В дополнение, первое устройство 134 переноса анодной камеры содержит фильтровальное устройство 134c анодной камеры для удаления шлама и т.п., содержащегося в электролите, переносимом первым устройством 134 переноса анодной камеры.
[0046] Кроме того, второе устройство 135 переноса анодной камеры предусматривается между анодной камерой 106 и резервуаром 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. Второе устройство 135 переноса анодной камеры возвращает электролит, находящийся в резервуаре 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, в анодную камеру 106. Второе устройство 135 переноса анодной камеры выполнено с возможностью всасывать электролит через всасывающую трубу 135a анодной камеры в верхней части резервуара 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры посредством насоса (не проиллюстрирован) и заставлять электролит течь в анодную камеру 106 через выпускную трубу 135b анодной камеры в верхнюю часть анодной камеры 106.
[0047] Таким образом, первое устройство 134 переноса анодной камеры и второе устройство 135 переноса анодной камеры обеспечивают циркуляцию электролита между анодной камерой 106 и резервуаром 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры. Соответственно, первое устройство 134 переноса анодной камеры и второе устройство 135 переноса анодной камеры функционируют как устройства циркуляции анодной камеры, которые обеспечивают циркуляцию электролита в анодной камере 106 и в резервуаре 110 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры между ними.
[0048] Кроме того, между катодом 105 (деталью), размещенным в катодной камере 104, и анодом 107, размещенным в анодной камере 106, подключен блок 136 источника питания. При включении этого блока 136 источника питания течет ток от анода 107 к катоду 105 через электролиты и через диафрагму 114, так что деталь покрывается гальваническим покрытием.
[0049] В дополнение, устройство 100 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава по этому варианту осуществления также включает в себя в качестве приспособления для регулирования окислительно-восстановительных потенциалов электролитов: устройство 138 измерения электрического потенциала катодной камеры; устройство 140 добавления регулятора катодной камеры; устройство 142 измерения электрического потенциала анодной камеры; устройство 144 добавления регулятора анодной камеры; и блок 146 управления, связанный с устройством 140 добавления регулятора катодной камеры и с устройством 144 добавления регулятора анодной камеры. Работа этих устройств измерения окислительно-восстановительных потенциалов по измерению окислительно-восстановительных потенциалов в анодной камере 106 и катодной камере 104, а также работа блока 146 управления по управлению устройствами добавления регулятора и регулированию окислительно-восстановительных потенциалов на основе этих измеренных значений являются теми же самыми, что и в вышеописанном первом варианте осуществления, и, следовательно, их описание опущено.
[0050] Далее описывается электролитическая ванна (электролит), которая(ый) используется в устройствах для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с первым и вторым вариантами осуществления настоящего изобретения. Электролитическая ванна для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава, используемая в этих вариантах осуществления, содержит: (a) соль меди и соль никеля; (b) образующее комплекс с металлом вещество; (c) обеспечивающую электропроводность соль; (d) серосодержащее органическое соединение; и (e) регулятор окислительно-восстановительного потенциала.
[0051] (a) Соль меди и соль никеля
Соль меди включает, не ограничиваясь ими, сульфат меди, галогенидные соединения меди(II), сульфамат меди, метансульфонат меди, ацетат меди(II), основной карбонат меди и т.п. Эти соли меди могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Соль никеля включает, не ограничиваясь ими, сульфат никеля, галогениды никеля, основной карбонат никеля, сульфамат никеля, ацетат никеля, метансульфонат никеля и т.п. Эти соли никеля могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрации соли меди и соли никеля в электролитической ванне должны следует выбирать различным образом в соответствии с желаемым составом нанесенного покрытия. Однако концентрация ионов меди предпочтительно составляет 0,5-40 г/л, а более предпочтительно 2-30 г/л, а концентрация ионов никеля предпочтительно составляет 0,25-80 г/л, а более предпочтительно 0,5-50 г/л. В дополнение к этому, суммарная концентрация ионов меди и ионов никеля в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,0125-2 моль/л, а более предпочтительно 0,04-1,25 моль/л.
[0052] (b) Образующее комплекс с металлом вещество
Образующее комплекс с металлом вещество стабилизирует металлы, которыми являются медь и никель. Образующее комплекс с металлом вещество включает, не ограничиваясь ими, одноосновные карбоновые кислоты, дикарбоновые кислоты, многоосновные карбоновые кислоты, оксикарбоновые кислоты, кетокарбоновые кислоты, аминокислоты и аминокарбоновые кислоты, а также их соли и т.п. В частности, образующее комплекс с металлом вещество включает малоновую кислоту, малеиновую кислоту, янтарную кислоту, трикарбаллиловую кислоту, лимонную кислоту, винную кислоту, яблочную кислоту, глюконовую кислоту, 2-сульфоэтилимино-N,N-диацетилуксусную кислоту, иминодиуксусную кислоту, нитрилотриуксусную кислоту, этилендиаминтетрауксусную кислоту (EDTA), триэтилендиаминтетрауксусную кислоту, гидроксиэтилиминодиуксусную кислоту, глутаминовую кислоту, аспарагиновую кислоту, β-аланин-N,N-диацетилуксусную кислоту и т.п. Среди них малоновая кислота, лимонная кислота, яблочная кислота, глюконовая кислота, EDTA, нитрилотриуксусная кислота и глутаминовая кислота являются предпочтительными. В дополнение к этому, соли этих карбоновых кислот включают, не ограничиваясь ими, соли магния, соли натрия, соли калия, соли аммония и т.п. Эти образующие комплекс с металлом вещества могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрация образующего комплекс с металлом вещества в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,6-2, а более предпочтительно 0,7-1,5 от концентрации ионов металлов (молярной концентрации) в ванне.
[0053] (c) Обеспечивающая электропроводность соль
Обеспечивающая электропроводность соль обеспечивает электропроводность ванны для электролитического нанесения покрытия из медно-никелевого сплава. В настоящем изобретении обеспечивающая электропроводность соль включает неорганические галогенидные соли, неорганические сульфаты, сульфонаты низших алканов (предпочтительно C1-C4), а также сульфонаты алканолов (предпочтительно C1-C4).
Неорганические галогенидные соли включают, не ограничиваясь ими, хлориды, бромиды и йодиды магния, натрия, калия и аммония, и т.п. Эти неорганические галогенидные соли могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрация неорганической галогенидной соли в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,1-2 моль/л, а более предпочтительно 0,2-1 моль/л.
Неорганические сульфаты включают, не ограничиваясь ими, сульфат магния, сульфат натрия, сульфат калия, сульфат аммония и т.п. Эти неорганические сульфаты могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них.
Сульфонаты низших алканов и сульфонаты алканолов включают, не ограничиваясь ими, соли магния, соли натрия, соли калия, соли аммония и т.п., и более конкретно включают магниевые, натриевые, калиевые и аммониевые соли метансульфоновой кислоты и 2-гидроксипропансульфоновой кислоты и т.п. Эти сульфонаты могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них.
Концентрация сульфата и/или сульфоната в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,25-1,5 моль/л, а более предпочтительно 0,5-1,25 моль/л.
Кроме того, более эффективно использовать в качестве обеспечивающей электропроводность соли множество обеспечивающих электропроводность солей, отличающихся друг от друга. Предпочтительно, чтобы в качестве обеспечивающей электропроводность соли содержались неорганическая галогенидная соль и соль, выбираемая из группы, состоящей из неорганических сульфатов и сульфонатов.
[0054] (d) Серосодержащее органическое соединение
Серосодержащее органическое соединение предпочтительно включает соединение, выбираемое из группы, состоящей из дисульфидных соединений, серосодержащих аминокислот, бензотиазолилтиосоединений и их солей.
Дисульфидное соединение включает, не ограничиваясь ими, дисульфидные соединения, представленные общей формулой (I), и т.п.:
A-R1-S-S-R2-A (I)
где R1 и R2 представляют собой углеводородные группы, A представляет собой группу SO3Na, группу SO3H, группу OH, группу NH2 или группу NO2.
В этой формуле углеводородная группа предпочтительно представляет собой группу алкилена, а более предпочтительно группу алкилена с 1-6 атомами углерода. Конкретные примеры дисульфидных соединений включают, не ограничиваясь ими, бис-сульфоэтилдисульфид натрия, бис-сульфопропилдисульфид натрия, бис-сульфопентилдисульфид натрия, бис-сульфогексилдисульфид натрия, бис-сульфоэтилдисульфид, бис-сульфопропилдисульфид, бис-сульфопентилдисульфид, бис-аминоэтилдисульфид, бис-аминопропилдисульфид, бис-аминобутилдисульфид, бис-аминопентилдисульфид, бис-гидроксиэтилдисульфид, бис-гидроксипропилдисульфид, бис-гидроксибутилдисульфид, бис-гидроксипентилдисульфид, бис-нитроэтилдисульфид, бис-нитропропилдисульфид, бис-нитробутилдисульфид, сульфоэтилпропилдисульфид натрия, сульфобутилпропилдисульфид и т.п. Среди этих дисульфидных соединений бис-сульфопропилдисульфид натрия, бис-сульфобутилдисульфид натрия и бис-аминопропилдисульфид являются предпочтительными.
Серосодержащие аминокислоты включают, не ограничиваясь ими, серосодержащие аминокислоты, представленные общей формулой (II), и т.п.:
R-S-(CH2)nCHNHCOOH (II),
где R представляет углеводородную группу, или -H, или -(CH2)nCHNHCOOH, и каждое n независимо равно 1-50.
В этой формуле углеводородная группа предпочтительно представляет собой группу алкила, а более предпочтительно группу алкила с 1-6 атомами углерода. Конкретные примеры серосодержащих аминокислот включают, не ограничиваясь ими, метионин, цистин, цистеин, этионин, дисульфоксид цистина, цистатионин и т.п.
Бензотиазолилтиосоединения включают, не ограничиваясь ими, бензотиазолилсоединения, представленные общей формулой (III), и т.п.:
где R представляет собой углеводородную группу, или -H, или -(CH2)nCOOH.
В этой формуле углеводородная группа предпочтительно представляет собой группу алкила, а более предпочтительно группу алкила с 1-6 атомами углерода. В дополнение, n=1-5. Конкретные примеры бензотиазолилтиосоединений включают, не ограничиваясь ими, (2-бензотиазолилтио)уксусную кислоту, 3-(2-бензотиазолилтио)пропионовую кислоту и т.п. В дополнение, их соли включают, не ограничиваясь ими, сульфат, галогенид, метансульфонат, сульфамат, ацетат и т.п.
Эти дисульфидные соединения, серосодержащие аминокислоты и бензотиазолилтиосоединения, а также их соли могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрация соединения, выбираемого из группы, состоящей из дисульфидных соединений, серосодержащих аминокислот и бензотиазолилтиосоединений, а также их солей, в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,01-10 г/л, а более предпочтительно 0,05-5 г/л.
[0055] В дополнение, в качестве серосодержащего органического соединения более эффективно использовать в сочетании соединение, выбираемое из группы, состоящей из дисульфидных соединений, серосодержащих аминокислот и бензотиазолилтиосоединений, а также их солей, и соединение, выбираемое из группы, состоящей из соединений сульфокислоты, сульфимидных соединений, соединений сульфамидной кислоты и сульфонамидов, а также их солей. Использование соединения, выбираемого из группы, состоящей из соединений сульфокислоты, сульфимидных соединений, соединений сульфамидной кислоты и сульфонамидов, а также их солей, в сочетании делает гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава плотным.
Соединения сульфокислоты и их соли включают, не ограничиваясь ими, ароматические сульфокислоты, алкенсульфокислоты и алкинсульфокислоты, а также их соли. В частности, соединения сульфокислоты и их соли включают, не ограничиваясь ими, 1,5-нафталиндисульфонат натрия, 1,3,6-нафталинтрисульфонат натрия, 2-пропен-1-сульфонат натрия и т.п.
Сульфимидные соединения и их соли включают, не ограничиваясь ими, бензойный сульфимид (сахарин) и его соли, и т.п. В частности, сульфимидные соединения и соли включают, не ограничиваясь ими, сахарин натрия и т.п.
Соединения сульфаминовой кислоты и ее соли включают, не ограничиваясь ими, ацесульфам калия, N-циклогексилсульфамат натрия и т.п.
Сульфонамиды и их соли включают, не ограничиваясь им, п-толуолсульфонамид и т.п.
Эти соединения сульфокислоты, сульфимидные соединения, соединения сульфаминовой кислоты и сульфонамиды, а также их соли могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрация в электролитической ванне соединения, выбираемого из группы, состоящей из соединений сульфокислоты, сульфимидных соединений, соединений сульфаминовой кислоты и сульфонамидов, а также их солей, предпочтительно составляет 0,2-5 г/л, а более предпочтительно 0,4-4 г/л.
[0056] (e) Регулятор окислительно-восстановительного потенциала (ОВП)
Регулятор окислительно-восстановительного потенциала предпочтительно представляет собой окислитель и является, например, неорганическим или органическим окислителем. Такой окислитель включает, например, растворы перекиси водорода, а также водорастворимые кислородсодержащие кислоты и их соли. Водорастворимые кислородсодержащие кислоты и их соли включают неорганические и органические кислородсодержащие кислоты.
Когда гальваностегию выполняют путем подачи питания между катодом (деталью) и анодом, ионы двухвалентной меди осаждаются в виде металлической меди на катоде за счет реакции восстановления, после чего осажденная металлическая медь образует ионы одновалентной меди за счет реакции растворения и т.п. Образование таких ионов одновалентной меди понижает окислительно-восстановительный потенциал электролитической ванны. Регулятор ОВП предполагается действующим как окислитель для ионов одновалентной меди, который окисляет ионы одновалентной меди до ионов двухвалентной меди, предотвращая понижение окислительно-восстановительного потенциала электролитической ванны.
Предпочтительные неорганические кислородсодержащие кислоты включают кислородсодержащие кислоты галогенов, такие как хлорноватистая кислота, хлористая кислота, хлорноватая кислота, перхлорная кислота и бромноватая кислота, а также их соли со щелочными металлами, азотную кислоту и ее соли со щелочными металлами, а также надсерную кислоту и ее соли со щелочными металлами.
Предпочтительные органические кислородсодержащие кислоты (оксокислоты) и их соли включают в себя ароматические сульфонаты, такие как 3-нитробензолсульфонат натрия, и перкарбоксилаты, такие как перацетат натрия.
В дополнение, в качестве регулятора ОВП могут также использоваться водорастворимые неорганические соединения и органические соединения, которые используются также в качестве pH буферов, а также их соли со щелочными металлами. Такие регуляторы ОВП включают предпочтительно борную кислоту, фосфорную кислоту и угольную кислоту, а также их соли со щелочными металлами и т.п., а также карбоновые кислоты, такие как муравьиная кислота, уксусная кислота и янтарная кислота, а также их соли со щелочными металлами и т.п.
Такие регуляторы ОВП могут использоваться каждый по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Когда регулятор ОВП представляет собой окислитель, такой окислитель используют с добавляемым количеством, обычно находящимся в диапазоне 0,01-5 г/л, а предпочтительно в диапазоне 0,05-2 г/л. Когда регулятор ОВП представляет собой pH буфер, такой pH буфер обычно используют в диапазоне 2-60 г/л, а предпочтительно в диапазоне 5-40 г/л.
[0057] В настоящем изобретении окислительно-восстановительный потенциал (ОВП) в электролитической ванне для нанесения покрытия из медно-никелевого сплава должен постоянно поддерживаться на уровне 20 мВ (относительно электрода сравнения Ag/AgCl) или выше при температуре электролитической ванны в течение операции нанесения. Когда выполняется нанесение (во время подачи питания), окислительно-восстановительный потенциал обычно уменьшается со временем. В таком случае регулятор окислительно-восстановительного потенциала может дополнительно добавляться и использоваться сообразно обстоятельствам для того, чтобы постоянно поддерживать окислительно-восстановительный потенциал (ОВП) на уровне 20 мВ (относительно Ag/AgCl) или выше.
Если окислительно-восстановительный потенциал (ОВП) в ванне становится более низким или равным 20 мВ (относительно Ag/AgCl), осаждаемое покрытие становится крупнозернистым, приводя к образованию неровной поверхности. Хотя нет никакого верхнего предела окислительно-восстановительного потенциала (ОВП) в ванне, ОВП, который является более высоким или равным 350 мВ (относительно Ag/AgCl), не является благоприятным, потому что столь высокий ОВП влияет на содержащиеся в ванне органические вещества, то есть (b) образующее комплекс с металлом вещество, (d) серосодержащее органическое соединение и т.п., уменьшая таким образом их эффекты в некоторых случаях.
[0058] В настоящем изобретении добавление поверхностно-активного вещества в электролитическую ванну для нанесения покрытия из медно-никелевого сплава улучшает однородность состава покрытия и гладкость покрытой поверхности. Поверхностно-активное вещество включает водорастворимые поверхностно-активные вещества, имеющие полимеризуемую группу окиси этилена или окиси пропилена, или сополимеризуемую группу окиси этилена и окиси пропилена, а также водорастворимые синтетические полимеры.
В качестве водорастворимого поверхностно-активного вещества может использоваться любое из анионных поверхностно-активных веществ, катионных поверхностно-активных веществ, амфотерных поверхностно-активных веществ и неионогенных поверхностно-активных веществ независимо от ионности, но неионогенные поверхностно-активные вещества являются предпочтительными. Хотя водорастворимые поверхностно-активные вещества имеют полимеризуемую группу окиси этилена или окиси пропилена или сополимеризуемую группу окиси этилена и окиси пропилена, их степень полимеризации составляет 5-250, а предпочтительно 10-150. Эти водорастворимые поверхностно-активные вещества могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрация водорастворимого поверхностно-активного вещества в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,05-5 г/л, а более предпочтительно 0,1-2 г/л.
Водорастворимые синтетические полимеры включают продукты реакции глицидиловых эфиров и многоатомных спиртов. Продукты реакции глицидиловых эфиров и многоатомных спиртов делают гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава плотным и дополнительно являются эффективными для обеспечения однородного состава покрытия.
Глицидиловые эфиры, которые являются исходным сырьем для получения продуктов реакции глицидиловых эфиров и многоатомных спиртов, включают, не ограничиваясь ими, глицидиловые эфиры, содержащие две или более эпоксигруппы в молекуле, глицидиловые эфиры, содержащие одну или более гидроксильных групп и одну или более эпоксигрупп в молекуле, и т.п. В частности, глицидиловые эфиры включают глицидол, полиглицидиловый эфир глицерина, диглицидиловый эфир этиленгликоля, диглицидиловый эфир полиэтиленгликоля, диглицидиловый эфир полипропиленгликоля, полиглицидиловый эфир сорбитола и т.п.
Многоатомные спирты включают, не ограничиваясь ими, этиленгликоль, пропиленгликоль, глицерин, полиглицерин и т.п.
Продукт реакции глицидилового эфира и многоатомного спирта предпочтительно представляет собой водорастворимый полимер, который получается путем реакции конденсации между эпоксигруппой глицидилового эфира и гидроксильной группой многоатомного спирта.
Эти продукты реакции глицидиловых эфиров и многоатомных спиртов могут использоваться по отдельности или в виде смеси двух или более из них. Концентрация продукта реакции глицидилового эфира и многоатомного спирта в электролитической ванне предпочтительно составляет 0,05-5 г/л, а более предпочтительно 0,1-2 г/л.
Хотя в настоящем изобретении и не существует никакого конкретного предела pH ванны для электролитического нанесения покрытия из медно-никелевого сплава, значение pH электролитической ванны для нанесения покрытия из медно-никелевого сплава обычно находится в диапазоне 1-13, а предпочтительно в диапазоне 3-8. Значение pH электролитической ванны может быть отрегулировано путем использования модификатора pH, такого как серная кислота, соляная кислота, бромоводородная кислота, метансульфоновая кислота, гидроксид натрия, гидроксид калия, аммиачная вода, этилендиамин, диэтилентриамин, триэтилентетрамин. Когда выполняется операция нанесения, предпочтительно поддерживать pH электролитической ванны на постоянном уровне путем использования модификатора pH.
[0060] Далее описывается способ нанесения покрытия, в котором используется устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с первым или вторым вариантом осуществления настоящего изобретения. В этом варианте осуществления детали, которые могут быть гальванически покрыты с использованием такой электролитической ванны, включают в себя медь, железо, никель, серебро, золото, сплавы любых из них и т.п. Детали, которые могут быть гальванически покрыты с использованием электролитической ванны по настоящему изобретению, включают в себя медь, железо, никель, серебро, золото и их сплавы, и т.п. В дополнение, в качестве детали могут использоваться подложки с модифицированными металлом или сплавом поверхностями. Такие подложки включают в себя стеклянную подложку, керамическую подложку, пластмассовую подложку и т.п.
При выполнении гальваностегии в качестве анода могут быть использованы нерастворимые аноды из углерода, платины, покрытого платиной титана, покрытого оксидом индия титана и т.п. Альтернативно, могут использоваться растворимые аноды, использующие медь, никель, медно-никелевый сплав или медь и никель вместе, и т.п.
Кроме того, для гальваностегии в этом варианте осуществления покрываемую металлом подложку (катод) и анодный электрод в резервуаре для нанесения покрытия отделяют друг от друга диафрагмой 14. Диафрагма 14 предпочтительно является нейтральной диафрагмой или ионообменной мембраной. Нейтральные мембраны включают в себя мембраны, имеющие подложку из полиэтилентерефталатной смолы с мембранным материалом из поливинилидендифторидной смолы и оксида титана/сложного эфира жирной кислоты и сахарозы. В дополнение, в качестве ионообменной мембраны подходящей является катионообменная мембрана.
Электролитическая ванна для нанесения покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с настоящим вариантом осуществления позволяет получать гальваническое покрытие с любым составом, с отношением компонентов медь/никель в пленке осажденного металлического покрытия, составляющим от 5/95 до 99/1. Отношение компонентов медь/никель предпочтительно составляет от 20/80 до 98/2, а более предпочтительно от 40/60 до 95/5.
[0061] Когда выполняется нанесение, деталь переносят на стадию нанесения после предварительной обработки с помощью какого-либо обычного способа. На стадии предварительной обработки выполняют по меньшей мере одну операцию из химической очистки в щелочном растворе, электролитической очистки катода или анода, травления в кислоте и активации. Между каждыми двумя последовательными операциями выполняют очистку водой. После нанесения полученное таким образом покрытие может быть очищено водой или горячей водой, а затем высушено. В дополнение, после нанесения медно-никелевого сплава может быть выполнена антиокислительная обработка или покрытие оловом или оловянным сплавом, или т.п. В настоящем изобретении электролитическая ванна может использоваться в течение длительного периода времени без обновления жидкости, путем поддержания компонентов ванны на постоянном уровне с помощью подходящего пополняющего агента.
[0062] Подготовленную таким образом деталь (катод 5) погружают в электролит, находящийся в катодной камере 4, а затем включают блок 36 источника питания для того, чтобы выполнить подачу питания (электролиз) между анодом 7 и деталью. В дополнение, активируют устройство 32 переноса катодной камеры, и электролит, находящийся в катодной камере 4 и в резервуаре 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, вынуждают циркулировать между ними, фильтруя его фильтровальным устройством 32c катодной камеры. Аналогично, активируют устройство 34 переноса анодной камеры, и электролит, находящийся в анодной камере 6 и в резервуаре 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, вынуждают циркулировать между ними, фильтруя его фильтровальным устройством 34c анодной камеры. Это позволяет удалять шлам и т.п., содержащийся в электролитах.
[0063] Кроме того, окислительно-восстановительный потенциал электролита в катодной камере 4 измеряют устройством 38 измерения электрического потенциала катодной камеры и вводят его в блок 46 управления. Блок 46 управления активирует устройство 40 добавления регулятора катодной камеры для введения регулятора окислительно-восстановительного потенциала в резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры так, чтобы окислительно-восстановительный потенциал электролита в катодной камере 4 мог иметь заданное значение. Аналогично, окислительно-восстановительный потенциал электролита в анодной камере 6 измеряют устройством 42 измерения электрического потенциала анодной камеры и вводят его в блок 46 управления. Блок 46 управления активирует устройство 44 добавления регулятора анодной камеры для введения регулятора окислительно-восстановительного потенциала в резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры так, чтобы окислительно-восстановительный потенциал электролита в анодной камере 6 мог иметь заданное значение. Следовательно, окислительно-восстановительные потенциалы электролитов в катодной камере 4 и в анодной камере 6 поддерживаются на подходящих уровнях.
[0064] Предпочтительно, компоненты ванны и pH электролитической ванны (электролита) поддерживают постоянными с помощью подходящих пополняющих агентов. В дополнение, в данном варианте осуществления устройство 40 добавления регулятора катодной камеры вводит регулятор окислительно-восстановительного потенциала во время нанесения для того, чтобы сделать окислительно-восстановительный потенциал (ОВП) электролита в катодной камере 4 постоянно равным 20 мВ (относительно Ag/AgCl) или выше. Кроме того, в данном варианте осуществления устройство 44 добавления регулятора анодной камеры вводит регулятор окислительно-восстановительного потенциала, чтобы также сделать окислительно-восстановительный потенциал (ОВП) электролита в анодной камере 6 постоянно равным 20 мВ (относительно Ag/AgCl) или выше. В качестве регулятора окислительно-восстановительного потенциала может использоваться подходящее количество (1) окислителя, выбираемого из неорганических окислителей и органических окислителей, и/или подходящее количество (2) неорганических и органических соединений, обладающих способностью к буферизации pH.
[0065] Когда выполняют гальваностегию с использованием электролитической ванны для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава в соответствии с настоящим вариантом осуществления, можно использовать постоянный ток или импульсный ток в качестве тока осаждения, пропускаемого между покрываемой подложкой и анодом 7 в ванне для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава.
Плотность катодного тока обычно составляет от 0,01 до 10 А/дм2, а предпочтительно от 0,1 до 8,0 А/дм2.
Время осаждения варьируется в зависимости от требуемой толщины пленки гальванического покрытия и условий электрического тока и обычно находится в диапазоне от 1 до 1200 мин, а предпочтительно в диапазоне от 15 до 800 мин.
Температура ванны обычно составляет от 15°C до 70°C, а предпочтительно от 20°C до 60°C. Ванна может перемешиваться путем механического перемешивания жидкости с использованием воздуха, потока жидкости, катодной качалки, лопастной мешалки (все из которых не проиллюстрированы) или т.п. Толщина пленки может находиться в широких пределах и обычно составляет от 0,5 до 100 мкм, а предпочтительно от 3 до 50 мкм.
[0066] Устройство 1 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава по данному варианту осуществления выполняет электролитическое осаждение покрытия из медно-никелевого сплава, при этом регулируя окислительно-восстановительные потенциалы. Следовательно, устройство 1 для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава позволяет получать гальваническое покрытие с однородным (равномерным) составом, осаждая медь и никель на деталь при любом соотношении компонентов сплава. Кроме того, поскольку окислительно-восстановительные потенциалы регулируются, состояние ванны может поддерживаться устойчивым, и хорошее гальваническое покрытие из медно-никелевого сплава может быть получено даже тогда, когда электролитическая ванна (электролит) непрерывно используется в течение длительного периода времени.
[0067] Далее настоящее изобретение описывается на основе Примеров, однако настоящее изобретение не ограничивается ими. Возможно получать гальваническое покрытие однородного состава на вышеописанной целевой детали при любом соотношении компонентов медно-никелевого сплава в широком диапазоне плотностей тока. В дополнение, состав электролитической ванны и условия нанесения покрытия могут быть изменены на любые другие в рамках получения покрытия из медно-никелевого сплава с превосходной стабильностью ванны и с возможностью использовать ее непрерывно в течение длительного периода времени.
Примеры
[0068] В приведенных Примерах оценку покрытия проводили путем использования тестовых образцов, каждый из которых был подготовлен путем герметизации лентой из Тефлона (зарегистрированный товарный знак) одной поверхности железной пластинки (SPCC) размером 0,5×50×50 мм, которую заранее подвергали ударному меднению с помощью цианистой ванны до толщины 0,3 мкм.
Следует отметить, что толщина пленки ударного меднения на тестовом образце, используемом для оценки, была намного более тонкой, чем толщина пленки гальванического покрытия из медно-никелевого сплава, и, следовательно, влияния ударного меднения на толщину пленки и на состав гальванического покрытия из медно-никелевого сплава были незначительными.
[0069] (Примеры 1-4 и Сравнительные примеры 1-4)
Затем каждый из электролитов, показанных в Таблице 1,
(1) помещали в резервуар 2 для нанесения покрытия, в котором между анодной камерой 6 и катодной камерой 4 расположена диафрагма 14 (полипропиленовая ткань),
(2) устанавливали медный пластинчатый анод (анод 7) в анодной камере 6, а вышеописанный тестовый образец (деталь) - в катодной камере 4,
(3) проводили циркуляцию и фильтрацию между анодной камерой 6 и резервуаром 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, а также
(4) циркуляцию и фильтрацию проводили между катодной камерой 4 и резервуаром 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры,
(5) при этом регулировали окислительно-восстановительные потенциалы (ОВП) резервуаром 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры и резервуаром 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры,
проводили подачу питания между катодом и анодом для того, чтобы выполнить нанесение покрытия при условиях, показанных в Таблице 2. Таблица 3 показывает результаты по толщине пленки и составу сплава полученного покрытия, состоянию покрытой поверхности и оценкам внешнего вида покрытия (включая цветовой тон, гладкость и глянец).
Следует отметить, что в этих Примерах в качестве регулятора окислительно-восстановительных потенциалов (ОВП) использовали водный раствор перекиси водорода.
[0070] В дополнение, толщину пленки и состав сплава покрытия, состояние покрытой поверхности и внешний вид покрытия оценивали следующим образом.
(1) Толщину пленки покрытия измеряли с использованием рентгеновского флуоресцентного анализатора.
2) Что касается состава сплава покрытия, то составы сплава на разрезах покрытия измеряли с использованием энергодисперсионного рентгеновского спектрометра для того, чтобы оценить однородность гальванического покрытия.
3) Состояние покрытой поверхности оценивали путем наблюдения под электронным сканирующим микроскопом.
4) Внешний вид покрытия изучали визуально.
[0071] В каждом из Сравнительных примеров электролит с составом, показанным в Таблице 4,
1) помещали в единственный резервуар, который не был разделен на четыре камеры, то есть анодную камеру 6, резервуар 10 регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, катодную камеру 4 и резервуар 8 регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры,
(2) устанавливали медную пластину в качестве анода, вышеописанный тестовый образец, который был тем же самым, что и использованный в Примерах, устанавливали в качестве катода, и выполняли подачу питания между катодом и анодом для того, чтобы выполнить нанесение покрытия при условиях, показанных в Таблице 5. Таблица 6 показывает результаты по толщины пленке и составу сплава полученного покрытия, а также состоянию покрытой поверхности и оценкам внешнего вида покрытия (включая цветовой тон, гладкость и глянец).
[0072] [Таблица 1]
Таблица 1 - Состав электролитов Примеров 1-4
| Концентрации компонентов | Примеры | |||
| 1 | 2 | 3 | 4 | |
| (a) Cu2+ (г/л) | 5 | 5 | 10 | 15 |
| (a) Ni2+ (г/л) | 10 | 2 | 10 | 5 |
| Концентрация металлов (моль/л) (Cu2++Ni2+) | 0,25 | 0,11 | 0,33 | 0,32 |
| (b) Малоновая кислота (моль/л) | 0,38 | - | - | - |
| (b) Лимонная кислота (моль/л) | - | 0,08 | 0,23 | 0,22 |
| Отношение молярных концентраций образующего комплекс с металлом вещества/металла (раз) | 1,5 | 0,7 | 0,7 | 0,7 |
| (c) Хлорид натрия (моль/л) | 0,2 | - | 0,25 | - |
| (c) Бромид калия (моль/л) | - | 0,25 | - | 0,25 |
| (c) Сульфат магния (моль/л) | - | - | - | 0,75 |
| (c) Метансульфонат натрия (моль/л) | - | - | 1,25 | - |
| (d) Бис-натрийсульфопропилдисульфид (г/л) | 0,05 | 0,1 | - | 0,5 |
| (d) Метансульфонат цистеина (г/л) | - | - | 2,0 | - |
| (d) 1,5-нафталиндисульфонат натрия (г/л) | - | 2,0 | - | - |
| (d) Сахарин натрия (г/л) | - | - | 2,0 | 1,0 |
| Продукт реакции диглицидилового эфира этиленгликоля и пропиленгликоля (г/л) | - | - | - | 2,0 |
| Полиэтиленгликоль (г/л) | - | 0,5 | - | - |
| pH | 4 | 6 | 5 | 6 |
| ОВП перед подачей питания (мВ) | 300 | 256 | 280 | 176 |
Типы солей меди: сульфамат меди(II) (Пример 1), сульфат меди(II) (Пример 4), ацетат меди(II) (Пример 2), метансульфонат меди(II) (Пример 3)
Типы солей никеля: сульфамат никеля (Пример 1), сульфат никеля (Пример 4), ацетат никеля (Пример 2), метансульфонат никеля (Пример 3)
Модификаторы pH: гидроксид натрия (Примеры 1, 2 и 3), гидроксид калия (Пример 4)
[0073] Таблица 2 - Условия нанесения Примеров 1-4
| Параметры | Условия нанесения покрытия | |||||
| Плотность катодного тока на участке постоянного тока или пиковом участке (А/дм2) |
Тип тока | Время нанесения (мин) |
Температура ванны (°C) |
С перемешиванием/без перемешивания | ||
| Примеры | 1 | 0,5 | Постоянный ток | 200 | 50 | С перемешиванием |
| 5,0 | 25 | |||||
| 10 | 15 | |||||
| 2 | 0,5 | Постоянный ток | 200 | 65 | С перемешиванием | |
| 5,0 | 25 | |||||
| 10 | 15 | |||||
| 3 | 0,5 | Скважность импульса: 0,5 | 400 | 65 | С перемешиванием | |
| 5,0 | 40 | |||||
| 10 | 25 | |||||
| 4 | 0,5 | Постоянный ток | 200 | 50 | С перемешиванием | |
| 5,0 | 25 | |||||
| 10 | 12,5 | |||||
[0074] Таблица 3 - Результаты, полученные в Примерах 1-4
| Параметры | Полученные результаты | ||||||||||
| Свежий электролит на начальной стадии после приготовления ванны | Электролит после подачи питания при 50 А⋅ч/л | ||||||||||
| Оценка нанесенного покрытия ⋅ ОВП во время нанесения покрытия | Оценка нанесенного покрытия ⋅ ОВП во время нанесения покрытия | ||||||||||
| Толщина пленки покрытия, мкм | Состав пленки покрытия, Cu% |
Внешний вид и цветовой тон | Гладкость и глянец поверхности | ОВП мВ относ. Ag/AgCl |
Толщина пленки покрытия, мкм | Состав пленки покрытия, Cu% |
Внешний вид и цветовой тон | Гладкость и глянец поверхности | ОВП мВ относ. Ag/AgCl |
||
| Примеры | 1 | 20 | 45 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | >150 | 20 | 47 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | >20 |
| 20 | 43 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 43 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | ||||
| 20 | 40 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 42 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | ||||
| 2 | 20 | 85 | Купроникель | Полуглянцевый | >150 | 20 | 85 | Купроникель | Полуглянцевый | >50 | |
| 20 | 82 | Купроникель | Полуглянцевый | 20 | 83 | Купроникель | Полуглянцевый | ||||
| 20 | 80 | Купроникель | Полуглянцевый | 20 | 83 | Купроникель | Полуглянцевый | ||||
| 3 | 20 | 75 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | >140 | 20 | 74 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | >70 | |
| 20 | 73 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 74 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | ||||
| 20 | 71 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 70 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | ||||
| 4 | 20 | 97 | Медноватый | Полуглянцевый | >100 | 20 | 97 | Медноватый | Полуглянцевый | >50 | |
| 20 | 94 | Медноватый | Полуглянцевый | 20 | 95 | Медноватый | Полуглянцевый | ||||
| 20 | 92 | Медноватый | Полуглянцевый | 20 | 93 | Медноватый | Полуглянцевый | ||||
[0075] Таблица 4 - Состав электролитов Сравнительных примеров 1-4
| Концентрации компонентов | Сравнительные примеры | |||
| 1 | 2 | 3 | 4 | |
| (a) Cu2+ (г/л) | 5 | 5 | 10 | 15 |
| (a) Ni2+ (г/л) | 10 | 2 | 10 | 5 |
| Концентрация металлов (моль/л) (Cu2++Ni2+) | 0,25 | 0,11 | 0,33 | 0,32 |
| (b) Малоновая кислота (моль/л) | 0,38 | - | - | - |
| (b) Лимонная кислота (моль/л) | - | 0,08 | 0,23 | 0,22 |
| Отношение молярных концентраций образующего комплекс с металлом вещества/металла (раз) | 1,5 | 0,7 | 0,7 | 0,7 |
| (c) Хлорид натрия (моль/л) | 0,2 | - | 0,25 | - |
| (c) Бромид калия (моль/л) | - | 0,25 | - | 0,25 |
| (c) Сульфат магния (моль/л) | 0,5 | - | - | 0,75 |
| (c) Метансульфонат натрия (моль/л) | - | - | 1,25 | - |
| (d) Бис-натрийсульфопропилдисульфид (г/л) | - | 0,1 | - | 0,5 |
| (d) Метансульфонат цистеина (г/л) | 0,05 | - | 2,0 | - |
| (d) 1,5-нафталиндисульфонат натрия (г/л) | - | 2,0 | - | - |
| (d) Сахарин натрия (г/л) | - | - | 2,0 | 1,0 |
| Продукт реакции диглицидилового эфира этиленгликоля и пропиленгликоля (г/л) | - | - | - | 2,0 |
| Полиэтиленгликоль (г/л) | - | 0,5 | - | - |
| pH | 4 | 6 | 5 | 6 |
| ОВП перед подачей питания (мВ) | 300 | 256 | 280 | 176 |
Типы солей меди: сульфамат меди(II) (Сравнительный пример 1), сульфат меди(II) (Сравнительный пример 4), ацетат меди(II) (Сравнительный пример 2), метансульфонат меди(II) (Сравнительный пример 3)
Типы солей никеля: сульфамат никеля (Сравнительный пример 1), сульфат никеля (Сравнительный пример 4), ацетат никеля (Сравнительный пример 2), метансульфонат никеля (Сравнительный пример 3)
Модификаторы pH: гидроксид натрия (Сравнительные примеры 1, 2 и 3), гидроксид калия (Сравнительный пример 4)
[0076] Таблица 5 - Условия нанесения Сравнительных примеров 1-4
| Параметры | Условия нанесения покрытия | |||||
| Плотность катодного тока на участке постоянного тока или пиковом участке (А/дм2) |
Тип тока | Время нанесения (мин) |
Температура ванны (°C) |
С перемешиванием/без перемешивания | ||
| Сравнительные примеры | 1 | 0,5 | Постоянный ток | 200 | 50 | С перемешиванием |
| 5,0 | 25 | |||||
| 10 | 15 | |||||
| 2 | 0,5 | Постоянный ток | 200 | 65 | С перемешиванием | |
| 5,0 | 25 | |||||
| 10 | 15 | |||||
| 3 | 0,5 | Скважность импульса: 0,5 | 400 | 65 | С перемешиванием | |
| 5,0 | 40 | |||||
| 10 | 25 | |||||
| 4 | 0,5 | Постоянный ток | 200 | 50 | С перемешиванием | |
| 5,0 | 25 | |||||
| 10 | 12,5 | |||||
[0077] Таблица 6 - Результаты, полученные в Сравнительных примерах 1-4
| Параметры | Полученные результаты | ||||||||||
| Свежий электролит на начальной стадии после приготовления ванны | Электролит после подачи питания при 50 А⋅ч/л | ||||||||||
| Оценка нанесенного покрытия ⋅ ОВП во время нанесения покрытия | Оценка нанесенного покрытия ⋅ ОВП во время нанесения покрытия | ||||||||||
| Толщина пленки покрытия, мкм |
Состав пленки покрытия, Cu% |
Внешний вид и цветовой тон | Гладкость и глянец поверхности | ОВП мВ относ. Ag/AgCl |
Толщина пленки покрытия, мкм |
Состав пленки покрытия, Cu% |
Внешний вид и цветовой тон | Гладкость и глянец поверхности | ОВП мВ относ. Ag/AgCl |
||
| Сравнительные примеры | 1 | 20 | 45 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | >130 | 20 | 95 | Медноватый | Неглянцевый | >-40 |
| 20 | 43 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 85 | Купроникель | Неглянцевый | ||||
| 20 | 40 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 45 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | ||||
| 2 | 20 | 85 | Купроникель | Полуглянцевый | >130 | 20 | 95 | Медноватый | Неглянцевый | >-40 | |
| 20 | 82 | Купроникель | Полуглянцевый | 20 | 85 | Купроникель | Неглянцевый | ||||
| 20 | 80 | Купроникель | Полуглянцевый | 20 | 83 | Купроникель | Неглянцевый | ||||
| 3 | 20 | 75 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | >110 | 20 | 85 | Купроникель | Неглянцевый | >0 | |
| 20 | 73 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 80 | Купроникель | Неглянцевый | ||||
| 20 | 71 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | 20 | 75 | Серебристо-белый | Полуглянцевый | ||||
| 4 | 20 | 97 | Медноватый | Полуглянцевый | >90 | 20 | 100 | Бронзовый | Неглянцевый | >-20 | |
| 20 | 94 | Медноватый | Полуглянцевый | 20 | 100 | Бронзовый | Неглянцевый | ||||
| 20 | 92 | Медноватый | Полуглянцевый | 20 | 100 | Бронзовый | Неглянцевый | ||||
[0078] СПИСОК ССЫЛОЧНЫХ ОБОЗНАЧЕНИЙ
1 устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава согласно первому варианту осуществления настоящего изобретения
2 резервуар для нанесения покрытия
4 катодная камера
5 катод (деталь)
6 анодная камера
7 анод
8 резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры
10 резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры
12 разделительная стенка
12a проем
14 диафрагма
16 экранирующая пластина катодной стороны
18 перелив катодной камеры
20a, 20b разделяющие перегородки
22 поворотный проход
24 перегородка для шлама
26 перелив анодной камеры
28a, 28b разделяющие перегородки
30 поворотный проход
32 устройство переноса катодной камеры
32a всасывающая труба катодной камеры
32b выпускная труба катодной камеры
32c фильтрующее устройство катодной камеры
34 устройство переноса анодной камеры
34a всасывающая труба анодной камеры
34b выпускная труба анодной камеры
34c фильтрующее устройство анодной камеры
36 блок источника питания
38 устройство измерения электрического потенциала катодной камеры
40 устройство добавления регулятора катодной камеры
42 устройство измерения электрического потенциала анодной камеры
44 устройство добавления регулятора анодной камеры
46 блок управления
100 устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава по второму варианту осуществления настоящего изобретения
102 главный резервуар для нанесения покрытия
104 катодная камера
105 катод (деталь)
106 анодная камера
107 анод
108 резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры
110 резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры
112 разделительная стенка
112a проем
114 диафрагма
116 экранирующая пластина катодной стороны
116a проем
124 перегородка для шлама
132 первое устройство переноса катодной камеры
132a всасывающая труба катодной камеры
132b выпускная труба катодной камеры
133 второе устройство переноса катодной камеры
133a всасывающая труба катодной камеры
133b выпускная труба катодной камеры
134 первое устройство переноса анодной камеры
134a всасывающая труба анодной камеры
134b выпускная труба анодной камеры
135 второе устройство переноса анодной камеры
135a всасывающая труба анодной камеры
135b выпускная труба анодной камеры
138 устройство измерения электрического потенциала катодной камеры
140 устройство добавления регулятора катодной камеры
142 устройство измерения электрического потенциала анодной камеры
144 устройство добавления регулятора анодной камеры
146 блок управления
147 мешалка резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры
148 мешалка резервуара регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры.
Claims (38)
1. Устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава, содержащее:
катодную камеру, в которой размещается деталь;
анодную камеру;
анод, размещенный в анодной камере;
электропроводящую диафрагму, размещенную отделяющей катодную камеру и анодную камеру друг от друга;
резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в катодной камере;
резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры для регулирования окислительно-восстановительного потенциала электролита в анодной камере; и
блок источника питания, который обеспечивает протекание электрического тока между деталью и анодом.
2. Устройство для нанесения гальванического покрытия по п. 1, дополнительно содержащее:
устройство циркуляции катодной камеры, которое обеспечивает циркуляцию электролита в катодной камере и резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры между ними; и
устройство циркуляции анодной камеры, которое обеспечивает циркуляцию электролита в анодной камере и резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры между ними.
3. Устройство для нанесения гальванического покрытия по п. 1, в котором
диафрагма представляет собой ткань, сделанную из сложного полиэфира, полипропилена, материала KANEKALON, материала SARAN или PTFE, нейтральную диафрагму или ионообменную мембрану.
4. Устройство для нанесения гальванического покрытия по п. 2, в котором
устройство циркуляции катодной камеры включает в себя
перелив катодной камеры, который позволяет электролиту в катодной камере переливаться в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры,
устройство переноса катодной камеры, которое переносит электролит в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры в катодную камеру, и
фильтрующее устройство катодной камеры, которое фильтрует электролит, переносимый устройством переноса катодной камеры, и
устройство циркуляции анодной камеры включает в себя
перелив анодной камеры, который позволяет электролиту в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры переливаться в анодную камеру,
устройство переноса анодной камеры, которое переносит электролит в анодной камере в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, и
фильтрующее устройство анодной камеры, которое фильтрует электролит, переносимый устройством переноса анодной камеры.
5. Устройство для нанесения гальванического покрытия по п. 2, в котором
устройство циркуляции катодной камеры включает в себя
первое устройство переноса катодной камеры, которое переносит электролит в катодной камере в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры,
второе устройство переноса катодной камеры, которое переносит электролит в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры в катодную камеру, и
фильтрующее устройство катодной камеры, которое фильтрует электролит, циркулирующий между катодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры, и
устройство циркуляции анодной камеры включает в себя
первое устройство переноса анодной камеры, которое переносит электролит в резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры в анодную камеру,
второе устройство переноса анодной камеры, которое переносит электролит в анодной камере в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, и
фильтрующее устройство анодной камеры, которое фильтрует электролит, циркулирующий между анодной камерой и резервуаром регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры.
6. Устройство для нанесения гальванического покрытия по п. 1, дополнительно содержащее:
устройство измерения электрического потенциала катодной камеры, которое измеряет окислительно-восстановительный потенциал электролита в катодной камере;
устройство измерения электрического потенциала анодной камеры, которое измеряет окислительно-восстановительный потенциал электролита в анодной камере;
устройство добавления регулятора катодной камеры, которое добавляет регулятор окислительно-восстановительного потенциала в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры;
устройство добавления регулятора анодной камеры, которое добавляет регулятор окислительно-восстановительного потенциала в резервуар регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры; и
блок управления, который управляет устройством добавления регулятора катодной камеры и устройством добавления регулятора анодной камеры на основе окислительно-восстановительного потенциала, измеряемого устройством измерения электрического потенциала катодной камеры, и окислительно-восстановительного потенциала, измеряемого устройством измерения электрического потенциала анодной камеры.
7. Устройство для нанесения гальванического покрытия по п. 1, дополнительно содержащее электролит для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава, содержащийся в катодной камере, анодной камере, резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала катодной камеры и резервуаре регулирования окислительно-восстановительного потенциала анодной камеры, причем электролит для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава содержит (a) соль меди и соль никеля, (b) образующее комплекс с металлом вещество, (c) обеспечивающую электропроводность соль, и (d) серосодержащее органическое соединение.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014212524A JP6435546B2 (ja) | 2014-10-17 | 2014-10-17 | 銅−ニッケル合金電気めっき装置 |
| JP2014-212524 | 2014-10-17 | ||
| PCT/JP2015/068332 WO2016059833A1 (ja) | 2014-10-17 | 2015-06-25 | 銅－ニッケル合金電気めっき装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2648811C1 true RU2648811C1 (ru) | 2018-03-28 |
Family
ID=55746382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2017116979A RU2648811C1 (ru) | 2014-10-17 | 2015-06-25 | Устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10538854B2 (ru) |
| EP (1) | EP3208364B1 (ru) |
| JP (1) | JP6435546B2 (ru) |
| KR (1) | KR101916614B1 (ru) |
| CN (1) | CN107075713B (ru) |
| BR (1) | BR112017007630A2 (ru) |
| MX (1) | MX2017004574A (ru) |
| MY (1) | MY190427A (ru) |
| PH (1) | PH12017500597A1 (ru) |
| RU (1) | RU2648811C1 (ru) |
| SG (1) | SG11201703049XA (ru) |
| TW (1) | TWI651438B (ru) |
| WO (1) | WO2016059833A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6834070B2 (ja) * | 2016-06-13 | 2021-02-24 | 石原ケミカル株式会社 | 電気スズ及びスズ合金メッキ浴、当該メッキ浴を用いて電着物を形成した電子部品の製造方法 |
| KR101872734B1 (ko) * | 2017-07-20 | 2018-06-29 | 주식회사 익스톨 | 니켈 전기 도금액 및 이를 이용한 전기 도금 방법 |
| JP2020097764A (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置、及びそれを用いた金属膜の形成方法 |
| CN110387573B (zh) * | 2019-07-04 | 2021-01-05 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 多废液分流方法及电镀生产系统 |
| CA3109026A1 (en) | 2020-02-18 | 2021-08-18 | Magna Exteriors Inc. | Tailgate accessibility |
| CN112126953B (zh) * | 2020-09-10 | 2024-07-16 | 深圳市生利科技有限公司 | 一种铜-镍合金电镀工艺 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1019027A1 (ru) * | 1982-02-16 | 1983-05-23 | Проектно-конструкторский технологический институт машиностроения | Ванна дл гальванической обработки деталей |
| JPH04198499A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | 電位調節機構を有する銅溶解槽 |
| WO2001068952A1 (fr) * | 2000-03-17 | 2001-09-20 | Ebara Corporation | Procede et appareil de plaquage electrolytique |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100665384B1 (ko) | 1998-11-30 | 2007-01-04 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 도금장치 |
| WO2002068727A2 (en) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Ebara Corporation | Copper-plating solution, plating method and plating apparatus |
| JP2003183898A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Toho Kako Kensetsu Kk | めっき液濃度自動調整装置及び方法 |
| US20040007473A1 (en) * | 2002-07-11 | 2004-01-15 | Applied Materials, Inc. | Electrolyte/organic additive separation in electroplating processes |
| IES20030443A2 (en) * | 2003-06-16 | 2004-12-01 | Fraudhalt Ltd | A method and apparatus for determining if an optical disk originated from a valid source |
| US8128791B1 (en) | 2006-10-30 | 2012-03-06 | Novellus Systems, Inc. | Control of electrolyte composition in a copper electroplating apparatus |
| US8694950B2 (en) * | 2010-07-24 | 2014-04-08 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for implementing electronic circuit designs with electrical awareness |
| JP5631775B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2014-11-26 | 新光電気工業株式会社 | 複合めっき液 |
| US9518332B2 (en) * | 2011-03-17 | 2016-12-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrochemical plating |
| JP6047711B2 (ja) * | 2012-02-08 | 2016-12-21 | 石原ケミカル株式会社 | 無電解ニッケル及びニッケル合金メッキ方法、並びに当該メッキ用の前処理液 |
| ES2620115T3 (es) * | 2012-04-19 | 2017-06-27 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Baño de galvanoplastia de aleación de cobre-níquel y método de chapado |
-
2014
- 2014-10-17 JP JP2014212524A patent/JP6435546B2/ja active Active
-
2015
- 2015-06-25 MY MYPI2017000473A patent/MY190427A/en unknown
- 2015-06-25 EP EP15849917.8A patent/EP3208364B1/en active Active
- 2015-06-25 CN CN201580055714.5A patent/CN107075713B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-25 BR BR112017007630-6A patent/BR112017007630A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2015-06-25 MX MX2017004574A patent/MX2017004574A/es unknown
- 2015-06-25 KR KR1020177009288A patent/KR101916614B1/ko active IP Right Grant
- 2015-06-25 SG SG11201703049XA patent/SG11201703049XA/en unknown
- 2015-06-25 US US15/519,474 patent/US10538854B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-25 WO PCT/JP2015/068332 patent/WO2016059833A1/ja active Application Filing
- 2015-06-25 RU RU2017116979A patent/RU2648811C1/ru not_active IP Right Cessation
- 2015-08-06 TW TW104125581A patent/TWI651438B/zh not_active IP Right Cessation
-
2017
- 2017-03-31 PH PH12017500597A patent/PH12017500597A1/en unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1019027A1 (ru) * | 1982-02-16 | 1983-05-23 | Проектно-конструкторский технологический институт машиностроения | Ванна дл гальванической обработки деталей |
| JPH04198499A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | 電位調節機構を有する銅溶解槽 |
| WO2001068952A1 (fr) * | 2000-03-17 | 2001-09-20 | Ebara Corporation | Procede et appareil de plaquage electrolytique |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI651438B (zh) | 2019-02-21 |
| CN107075713B (zh) | 2019-09-24 |
| PH12017500597A1 (en) | 2017-08-30 |
| US20170241040A1 (en) | 2017-08-24 |
| MY190427A (en) | 2022-04-21 |
| EP3208364B1 (en) | 2019-08-07 |
| MX2017004574A (es) | 2017-07-17 |
| CN107075713A (zh) | 2017-08-18 |
| KR101916614B1 (ko) | 2018-11-07 |
| WO2016059833A1 (ja) | 2016-04-21 |
| JP2016079460A (ja) | 2016-05-16 |
| SG11201703049XA (en) | 2017-05-30 |
| KR20170053675A (ko) | 2017-05-16 |
| EP3208364A4 (en) | 2018-05-30 |
| EP3208364A1 (en) | 2017-08-23 |
| TW201615900A (zh) | 2016-05-01 |
| US10538854B2 (en) | 2020-01-21 |
| JP6435546B2 (ja) | 2018-12-12 |
| BR112017007630A2 (pt) | 2018-01-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2648811C1 (ru) | Устройство для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава | |
| RU2666391C1 (ru) | Ванна для электролитического нанесения покрытия из медно-никелевого сплава. | |
| US9828686B2 (en) | Copper-nickel alloy electroplating bath and plating method | |
| US20110056840A1 (en) | Electrolytic plating equipment and electrolytic plating method | |
| JP4945193B2 (ja) | 硬質金合金めっき液 | |
| JP4738910B2 (ja) | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 | |
| JP2011520037A (ja) | 改良された銅−錫電解液及び青銅層の析出方法 | |
| EP3030698A1 (en) | Electrolyte for the electrolytic deposition of silver-palladium alloys and method for deposition thereof | |
| JP2012508322A (ja) | 電着浴、電着システム、及び電着方法 | |
| SE465375B (sv) | Foerfarande foer elektroutfaellning av en zink/nickel-legering samt vattenhaltig sur elektrolyt haerfoer | |
| KR20140127256A (ko) | Sn 합금 전해 도금 방법 및 Sn 합금 전해 도금 장치 | |
| KR20210079351A (ko) | 열적으로 안정적인 은 합금층 | |
| JP2006265603A (ja) | 電気化学的表面処理装置及び電気化学的表面処理方法 | |
| CN103108995A (zh) | 镍pH值调整方法及设备 | |
| RU2213810C1 (ru) | Низкоконцентрированный электролит блестящего никелирования |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20200626 |