RU2421632C2 - Способ работы насосной системы - Google Patents

Способ работы насосной системы Download PDF

Info

Publication number
RU2421632C2
RU2421632C2 RU2007132873A RU2007132873A RU2421632C2 RU 2421632 C2 RU2421632 C2 RU 2421632C2 RU 2007132873 A RU2007132873 A RU 2007132873A RU 2007132873 A RU2007132873 A RU 2007132873A RU 2421632 C2 RU2421632 C2 RU 2421632C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electric drive
pressure
controller
maximum
value
Prior art date
Application number
RU2007132873A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2007132873A (ru
Inventor
Саймон Гарольд БРЮС (GB)
Саймон Гарольд БРЮС
Original Assignee
Эдвардс Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эдвардс Лимитед filed Critical Эдвардс Лимитед
Publication of RU2007132873A publication Critical patent/RU2007132873A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2421632C2 publication Critical patent/RU2421632C2/ru

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C14/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations
    • F04C14/08—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the rotational speed
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
    • F04B49/06—Control using electricity
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
    • F04B49/20—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00 by changing the driving speed
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C23/02—Pumps characterised by combination with, or adaptation to, specific driving engines or motors
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
    • F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/06—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
    • F04D27/004—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids by varying driving speed
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B2203/00—Motor parameters
    • F04B2203/02—Motor parameters of rotating electric motors
    • F04B2203/0201—Current
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B2203/00—Motor parameters
    • F04B2203/02—Motor parameters of rotating electric motors
    • F04B2203/0204—Frequency of the electric current
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
    • F04C18/12—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
    • F04C18/12—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type
    • F04C18/14—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons
    • F04C18/16—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons with helical teeth, e.g. chevron-shaped, screw type
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00—Application
    • F04C2220/10—Vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2220/00—Application
    • F04C2220/10—Vacuum
    • F04C2220/12—Dry running
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2240/00—Components
    • F04C2240/40—Electric motor
    • F04C2240/403—Electric motor with inverter for speed control
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
    • F04C2270/08—Amplitude of electric current
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
    • F04C2270/09—Electric current frequency
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
    • F04C2270/18—Pressure
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
    • F04C2270/19—Temperature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
    • Y02B30/00—Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
    • Y02B30/70—Efficient control or regulation technologies, e.g. for control of refrigerant flow, motor or heating

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
  • Control Of Electric Motors In General (AREA)

Abstract

Изобретение относится к насосным системам. Насосная система для вакуумирования камеры содержит насосный механизм (30), электропривод (32) для запуска насосного механизма и контроллер (36) для управления электроприводом. Контроллер устанавливает максимальное значение частоты вращения электропривода и максимальное значение тока электропривода, при этом для оптимизации режима работы насосной системы независимо регулируют максимальные значения во время вакуумирования камеры. 2 н. и 44 з.п.ф-лы, 6 ил.

Description

Область техники
Настоящее изобретение относится к способу работы насосной системы.
Предшествующий уровень техники
Вакуумная технология широко применяется при изготовлении полупроводниковых устройств и дисплеев с плоским экраном для нанесения тонких пленок на подложки и в металлургических процессах. Насосные системы, используемые для вакуумирования сравнительно больших технологических камер, например загрузочных шлюзовых камер, до желаемого давления, обычно содержат, по меньшей мере, один бустерный насос, последовательно соединенный с, по меньшей мере, одним форвакуумным насосом.
Бустерные насосы обычно имеют безмасляный насосный механизм, так как любые смазочные материалы, присутствующие в насосном механизме, могут вызвать загрязнение чистой среды, в которой осуществляется обработка в вакууме. Такие «сухие» вакуумные насосы обычно представляют собой одно- или многоступенчатые нагнетательные объемные насосы, в насосном механизме которых применены взаимозацепляющие роторы. Роторы могут иметь один и тот же тип профиля в каждой ступени, или профиль может меняться от ступени к ступени. Форвакуумные насосы могут иметь механизм, сходный с механизмом в бустерных насосах, или другой насосный механизм.
Насосный механизм бустерного насоса обычно имеет привод от асинхронного электродвигателя переменного тока. Эти электродвигатели должны иметь такую номинальную мощность, чтобы насос был способен обеспечить соответствующее сжатие откачиваемого газа между входом и выходом насоса, и чтобы получаемая скорость откачки была достаточной для необходимой производительности.
Часть мощности, подводимой к приводу бустерного насоса, расходуется на образование теплоты сжатия в откачиваемом газе, особенно при промежуточном и высоком уровнях давления на входе, так что корпус насоса и роторы могут нагреваться. Если не регулировать надлежащим образом степень сжатия и создаваемый перепад давления, то возможен риск перегрева бустерного насоса, приводящий в конце концов к повреждению системы смазки, чрезмерному термическому расширению и заеданию. Таким образом, стандартный электродвигатель для бустерного насоса данного размера и с данной скоростью откачки выбирают так, чтобы он при нормальной эксплуатации был способен обеспечить соответствующее сжатие при низких давлениях на входе, однако, при этом остается риск перегрева, если насос работает при промежуточном и высоком уровнях давления на входе без средства защиты.
В указанной обычной насосной системе может потребоваться частая и неоднократная работа при изменении давления на входе от высокого до промежуточного давления. Например, загрузочную шлюзовую камеру неоднократно вакуумируют от атмосферного давления до низкого давления, чтобы обеспечить передачу подложки, расположенной в этой камере, в технологическую камеру, и затем переводят к атмосферному давлению, чтобы обеспечить удаление обработанной подложки и ее замену новой подложкой. Степень сжатия газа бустерным насосом и перепад давления между его входом и выходом можно ограничивать различными средствами, чтобы регулировать образование тепла и ограничивать риск перегрева. Если слишком сильно ограничивать сжатие газа бустерным насосом, то получающееся в результате время вакуумирования большой вакуумной камеры может быть нежелательно длительным. Если недостаточно ограничивать сжатие газа бустерым насосом, то, хотя время вакуумирования вакуумной камеры может быть коротким, механический бустерный насос может перегреться.
Для активирования электродвигателя бустерного насоса может быть применен блок частотно-регулируемого электропривода между электродвигателем и источником питания для электродвигателя. Такие приводные блоки работают путем преобразования мощности переменного тока, подводимой от источника питания, в мощность постоянного тока, а затем преобразуют мощность постоянного тока в мощность переменного тока требуемой амплитуды и частоты. Мощность, подводимую к электродвигателю, регулируют путем регулирования тока, подводимого к электродвигателю, который, в свою очередь, регулируют путем регулирования частоты и/или амплитуды напряжения в электродвигателе. Ток, подводимый к электродвигателю, определяет величину крутящего момента, создаваемого в электродвигателе, и, таким образом, определяет крутящий момент для вращения насосного механизма. Частота мощности определяет частоту вращения насосного механизма. Изменяя частоту мощности, можно бустерным насосом поддерживать постоянное давление в системе даже при условиях, когда нагрузка по газу может значительно изменяться.
Чтобы предотвратить перегрузку бустерного насоса, блок привода устанавливает максимальное значение для частоты мощности (fмакс) и максимальное значение для тока, подводимого к электродвигателю (Iмакс). Этот предел тока обычно будет соответствовать максимально допустимой непрерывной нагрузке электродвигателя и будет ограничивать эффективный крутящий момент, создаваемый насосным механизмом, и, следовательно, величину получающегося в результате перепада давления, тем самым ограничивая количество тепла, образующегося в откачиваемом газе.
В начале цикла быстрой откачки желательно как можно быстрее вращать насосный механизм, чтобы максимально увеличить скорость откачки. Вследствие высокого давления и, таким образом, сравнительно высокой плотности газа в начале этого цикла требуется большой крутящий момент для вращения насосного механизма при частоте около fмакс и, таким образом, существует высокое потребление тока, которое обычно больше, чем Iмакс. Чтобы защитить электродвигатель от повреждения, частоту мощности, подводимой к электродвигателю бустерного насоса, быстро понижают до некоторого уровня ниже fмакс, что приводит к резкому понижению частоты вращения насоса и тем самым к ограничению создаваемого перепада давления. По мере того как будет продвигаться вперед откачка и уменьшаться давление на входе, блок привода будет в течение ограниченного периода времени линейно повышать частоту по направлению к fмакс, чтобы постепенно увеличить частоту вращения бустерного насоса. Хотя это защищает бустерный насос от перегрева при всех давлениях на входе, этот период времени, когда понижается частота вращения, может означать нежелательное удлинение времени, требующегося для вакуумирования камеры от атмосферного давления до желаемого низкого давления (времени «скачивания»).
Краткое изложение существа изобретения
Задачей настоящего изобретения является устранение указанных недостатков.
Согласно первому аспекту настоящего изобретения поставленная задача решена путем создания насосной системы, содержащей насосный механизм, электропривод для запуска насосного механизма и контроллер для управления электроприводом, при этом контроллер устанавливает максимальное значение для частоты вращения электродвигателя (fмакс) и максимальное значение для тока в электродвигателе (Iмакс), а для оптимизации режима работы насосной системы регулирует указанные максимальные значения во время работы насосной системы.
Система предпочтительно содержит инвертер для подвода частотно-регулируемой мощности к электродвигателю и регулятор для регулирования амплитуды и частоты мощности во время работы насосной системы.
Контроллер предпочтительно выполнен с возможностью принимать входной сигнал от, по меньшей мере, одного датчика для контроля одного или нескольких состояний в системе и для регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от контролируемых состояний. Например, по меньшей мере, один датчик может быть выполнен с возможностью подавать сигнал, показывающий давление газа в насосной системе, при этом контроллер регулирует, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости от принятого сигнала (сигналов). В другом примере, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью подавать сигнал, показывающий температуру насосной системы, при этом контроллер регулирует, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости от принятого сигнала (сигналов). В еще одном примере не используют никаких внешних датчиков, а вместо этого контроллер регулирует, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости только от времени и в соответствии с установленной конфигурацией и параметрами.
В предпочтительном варианте осуществления изобретения оба максимальные значения изменяются по мере того, как уменьшается давление газа во время вакуумирования камеры от атмосферного давления. Контроллер выполнен с возможностью увеличивать максимальное значение тока в электродвигателе (Iмакс) во время работы насосной системы при относительно высоком давлении и увеличивать максимальное значение частоты вращения электродвигателя (fмакс) во время работы насосной системы при относительно низком давлении.
В первой области относительно высокого давления, т.е. когда давление на входе насосного механизма уменьшается от атмосферного давления, Iмакс может быть увеличен до такого значения, что во время использования в этой области высокого давления Iмакс больше, чем номинальная характеристика электродвигателя, и достаточен для того, чтобы обеспечить создание увеличенного перепада давления, так что давление на входе бустерного насоса, с выхода которого газ выпускается непосредственно в атмосферу, достигает более низкого уровня, чем это в противном случае было бы возможно с номинальным Iмакс.
Если работать при полном цикле откачки с этим повышенным значением Iмакс, то существует риск того, что электродвигатель может перегреться. Поэтому после того, как давление упадет ниже первого, предварительно установленного значения, например, до значения в пределах 100 мбар-500 бар, уменьшают значение Iмакс для обеспечения оптимального режима откачки, при этом поддерживая образованный перепад давления в безопасных приделах для предотвращения перегрева насосного механизма.
Когда давление газа достигнет второго предварительно установленного значения, более низкого, чем первое предварительно установленное значение, например, в пределах 1 мбар-100 мбар, предпочтительнее в пределах 10 мбар-100 мбар, плотность газа, откачиваемого из камеры, будет недостаточной для того, чтобы вызвать риск перегрева насосного механизма, и, таким образом, fмакс может быть увеличена для улучшения режима работы насоса.
В качестве альтернативы изменению максимальных значений в зависимости от давления газа, поступающего к насосному механизму, по меньшей мере, одно из максимальных значений можно регулировать в зависимости от давления газа, выходящего из насосного механизма. В качестве других альтернативных вариантов эти значения можно регулировать в зависимости от температуры корпуса насосного механизма и/или температуры газа, поступающего в насосный механизм, у входного отверстия этого механизма, и/или температуры газа, выходящего из насосного механизма, у выходного отверстия этого механизма.
Насосным механизмом предпочтительно является насосный механизм бустерного насоса для откачки газа из камеры. Кроме того, насосная система может содержать основной или форвакуумный насос, вход которого соединен с выходом бустерного насоса. Если возможен свободный выпуск откачиваемого газа непосредственно в атмосферу с использованием отдельной выпускной линии, которая не проходит через форвакуумный насос, и не имеется никакого ограничения в отношении частоты вращения бустерного насоса, то он один лишь может при высоких давлениях на входе обеспечить эффективную скорость откачки от атмосферного давления до давления на входе, которая выше той, что была бы достижима при соединении через форвакуумный насос, и которая определяется имеющейся мощностью электродвигателя. Это может способствовать достижению более быстрого вакуумирования камеры, чем это происходило бы в противном случае. Если эта выпускная линия будет оканчиваться редукционным клапаном, то он будет открываться в атмосферу и свободно выпускать газ всякий раз, когда давление газа, выпускаемого из бустерного насоса, будет выше атмосферного давления, что позволит бустерному насосу работать при максимальной номинальной скорости. Следовательно, система предпочтительно содержит редукционный клапан, гидравлически сообщающийся с выпускной трубой от насосного механизма в бустерном насосе для избирательного выпуска в атмосферу газа, сжатого насосным механизмом в бустерном насосе. Редукционный клапан предпочтительно выполнен с возможностью автоматически закрываться, когда давление газа, выпускаемого из бустерного насоса, падает ниже атмосферного давления, и в этот момент вступает в действие форвакуумный насос, чтобы еще более понизить давление на выходе бустерного насоса и увеличить эффективную скорость откачки.
Закрывание редукционного клапана может служить удобным указанием о давлении в насосной системе, и, таким образом, по меньшей мере, один датчик может быть выполнен с возможностью обнаруживать положение редукционного клапана, а контроллер может быть выполнен с возможностью уменьшать максимальное значение тока в электродвигателе, когда редукционный клапан переключается от открытого положения к закрытому положению.
Согласно второму аспекту настоящего изобретения предложен способ работы насосной системы, содержащей насосный механизм и электропривод для запуска насосного механизма, при этом способ заключается в том, что устанавливают максимальное значение частоты вращения электропривода и максимальное значение тока в электроприводе и регулируют во время работы насосной системы указанные максимальные значения для оптимизации режима работы насосной системы.
Вышеописанные отличительные признаки изобретения для системы в равной степени относятся к способу и наоборот.
Краткое описание чертежей
Ниже описаны предпочтительные отличительные признаки настоящего изобретения со ссылками на сопровождающие чертежи, на которых:
фиг.1 изображает блок-схему насосной системы для вакуумирования камеры, согласно изобретению;
фиг.2 - первый вариант выполнения системы привода для запуска электропривода бустерного насоса насосной системы, согласно изобретению;
фиг.3 - блок-схему частотно-регулируемого привода системы привода на фиг.2, согласно изобретению;
фиг.4 - диаграмму изменения эффективной скорости откачки или скорости вакуумирования камеры в зависимости от давления на входе во время работы насосной системы, согласно изобретению;
фиг.5 - блок-схему второго варианта выполнения системы привода для запуска электропривода бустерного насоса насосной системы, согласно изобретению;
фиг.6 - блок-схему частотно-регулируемого привода системы привода, согласно изобретению.
Описание предпочтительных вариантов воплощения изобретения
На фиг.1 показана блок-схема вакуумной насосной системы для вакуумирования камеры 10, например, загрузочной шлюзовой камеры или другой сравнительно большой камеры. Система содержит бустерный насос 12, последовательно соединенный с форвакуумным насосом 14. Бустерный насос 12 имеет вход 16, соединенный каналом 18 откачки предпочтительно в виде трубопровода 18 с выходом 20 камеры 10. Выход 22 бустерного насоса 12 соединен трубопроводом 24 с входом 26 форвакуумного насоса 14. Форвакуумный насос 14 имеет выход 28, через который выпускается в атмосферу газ, откаченный из камеры 10.
Хотя показанная насосная система содержит один бустерный насос и один форвакуумный насос, может быть использовано любое количество бустерных насосов в зависимости от требований к откачке из камеры. В тех случаях, когда применяется множество бустерных насосов, их соединяют параллельно, так чтобы каждый бустерный насос мог находиться при одинаковых условиях эксплуатации. При использовании сравнительно большого количества бустерных насосов два или большее число форвакуумных насосов могут подключаться параллельно. Кроме того, при необходимости между первым рядом бустерных насосов и форвакуумными насосами может помещен дополнительный ряд или ряды бустерных насосов, также соединенных параллельно.
Кроме того, бустерный насос 12 (фиг.2) содержит насосный механизм 30, запускаемый электроприводом 32 с регулированием частоты вращения. Бустерные насосы обычно содержат по существу сухой (или безмасляный) насосный механизм 30, однако, они обычно также содержат некоторые детали, как, например, подшипники и шестерни передачи в приводе насосного механизма 30, которые нуждаются в смазке для работы. К сухим насосам относятся насос Рутса, насос Нортхея (или «кулачковый» насос) и винтовой насос. Сухие насосы, содержащие механизмы Рутса и/или Нортхея, обычно представляют собой многоступенчатые нагнетательные объемные насосы, в которых в каждой насосной камере размещены взаимозацепляющие роторы. Роторы установлены на противоположно вращающихся валах и могут иметь один и тот же тип профиля в каждой насосной камере, или профиль может меняться от камеры к камере.
Форвакуумный насос 14 может иметь насосный механизм, сходный с насосным механизмом бустерного насоса 12, или другой насосный механизм. Например, форвакуумным насосом 14 может быть центробежный лопастной насос, ротационный поршневой насос, насос Нортхея или «кулачковый» насос либо винтовой насос. Электропривод 34 форвакуумного насоса запускает насосный механизм 30 форвакуумного насоса 14.
Электроприводом 32 бустерного насоса 12 может быть любой подходящий электропривод для запуска насосного механизма 30 бустерного насоса 12. В предпочтительном варианте осуществления изобретения электропривод 32 представляет собой асинхронный электродвигатель переменного тока. Система управления для запуска электропривода 32 содержит блок 36 частотно-регулируемого привода для приема мощности переменного тока, подводимой источником питания 38, и преобразования принятой мощности переменного тока в электропитание электропривода 32.
На фиг.3 подробнее показана блок-схема блока 36 привода. Блок 36 привода содержит инвертер 40 и контроллер 42 инвертера. Как известно, инвертер 40 содержит схему выпрямителя для преобразования мощности переменного тока от источника питания 38 в пульсирующую мощность постоянного тока, промежуточную цепь постоянного тока для фильтрации пульсирующей мощности постоянного тока в мощность постоянного тока и цепь инвертера для преобразования мощности постоянного тока в мощность переменного тока для запуска электропривода 32.
Контроллер 42 инвертера управляет инвертером 40 так, чтобы мощность имела желаемые амплитуду и частоту. Контроллер 42 инвертера регулирует амплитуду и частоту мощности в зависимости от рабочего состояния насосной системы. В примере, показанном на фиг.2 и 3, контроллер 42 инвертера регулирует мощность в зависимости от давления газа в насосной системе. Как показано, контроллер 42 инвертера принимает первый сигнал, показывающий давление на входе 16 бустерного насоса 12, от первого датчика давления 44 для определения давления в трубопроводе 18. Альтернативно или в дополнение к этому контроллер 42 инвертера может принимать второй сигнал, показывающий давление на выходе 22 бустерного насоса 12, от второго датчика давления 46 для определения давления в трубопроводе 24. Затем контроллер 42 инвертера изменяет мощность в зависимости от одного или двух из первого и второго сигналов. При изменении частоты мощности на выходе инвертера 40 изменяется частота вращения электропривода 32 в соответствии с изменением частоты. Таким образом, блок 36 привода способен изменять частоту вращения бустерного насоса 12 во время вакуумирования камеры 10 для того, чтобы оптимизировать режим работы бустерного насоса 12.
Контроллер 42 инвертера устанавливает значения для двух или большего числа рабочих пределов блока 36 привода, в частности, для максимальной частоты мощности, подводимой к электроприводу 32 (fмакс), и максимального тока, который может быть подведен к электроприводу 32 (Iмакс). Как упоминалось выше, значение Iмакс обычно устанавливают таким, чтобы оно соответствовало максимально допустимой непрерывной нагрузке электропривода 32, то есть мощности, при которой электропривод может работать неограниченно долго без достижения состояния перегрузки. Установление максимума на мощность, подводимую к электроприводу, имеет результатом ограничение эффективного крутящего момента, имеющегося для насосного механизма 30. Это, в свою очередь, ограничивает получающийся перепад давления через бустерный насос 12 и, таким образом, количество тепла, образующегося в бустерном насосе 12.
Контроллер 42 инвертора, кроме того, регулирует ток, подводимый к электроприводу 32. Ток, подводимый к электроприводу 32, зависит от значений частоты и амплитуды мощности переменного тока, подводимой к электроприводу 32 блоком 36 привода. В случае, если ток, подводимый к электроприводу 32, превышает Iмакс, контроллер 32 инвертора управляет инвертором 40 так, чтобы быстро уменьшить частоту и амплитуду мощности, подводимой к электроприводу 32, и, тем самым, понизить как ток ниже Iмакс, так и частоту вращения бустерного насоса 12.
Возвращаемся к фиг.1, на которой отводной трубопровод 48 соединен с трубопроводом 24, проходящим между выходом 22 бустерного насоса 12 и входом 26 форвакуумного насоса 14. Отводной трубопровод 48 оканчивается в редукционном клапане 50. Когда давление в этом трубопроводе достигает заданного давления, которое в этом примере составляет около атмосферного давления или несколько выше его, редукционный клапан 50 открывается для выпуска в атмосферу сжатого газа внутри трубопровода 24. Как показано на фиг.2 и 3, может быть предусмотрен датчик 52 для подачи сигнала, показывающего положение редукционного клапана 50, и этот сигнал подается также к контроллеру 42 инвертора. Таким образом, контроллер 42 инвертора может принимать сигналы от датчиков 44, 46, показывающих давление на соответственно входе 16 и выходе 22 бустерного насоса 12, и сигнал от датчика 52, показывающего положение редукционного клапана 50.
Ниже описан способ работы насосной системы (фиг.1 и 3), предназначенной для вакуумирования камеры 10 от атмосферного давления до желаемого давления.
При высоких давлениях на входе во время начальной стадии вакуумирования камеры 10 давления газа, выходящего из бустерного насоса 12, будет вследствие сжатия газа насосным механизмом 30 бустерного насоса 12 выше атмосферного давления, и, таким образом, редукционный клапан 50 будет открываться, чтобы позволить газу, выпускаемому из бустерного насоса 12, выходить в атмосферу, что улучшает эффективную скорость откачки насосной системой.
Как упоминалось выше, контроллер 42 инвертора предварительно устанавливает значения для Iмакс и fмакс, которые соответствуют максимально допустимой непрерывной нагрузке электропривода, то есть мощности, при которой электропривод может работать неограниченно долго без достижения состояния перегрузки. Во время начальной стадии работы насосной системы вследствие относительно высокого давления газа, проходящего через бустерный насос 12, требуется большой ток для создания электроприводом 32 крутящего момента, достаточного для вращения насосного механизма 30 при частоте, приближающейся к fмакс, и для образования значительного перепада давления через механизм, чтобы откачивать до удовлетворительного промежуточного давления. Оптимальный ток для этого, в общем, может быть больше, чем обычное значение Iмакс. Чтобы максимально увеличить производительность бустерного насоса 12 во время этой начальной стадии вакуумирования камеры 10, значение Iмакс временно увеличивают до значения, которое позволяет использовать полную производительность бустерного насоса 12, то есть до значения выше, чем номинальная нагрузка электропривода. Таким образом, бустерный насос временно «перегружают» для того, чтобы продлить увеличенную скорость вакуумирования камеры во время начальной стадии вакуумирования камеры 10 при высоком давлении на входе, обозначенной «Н» (фиг.4), где кривая 53 показывает изменение эффективной скорости откачки или скорости вакуумирования камеры 10 в зависимости от давления на входе во время работы насосной системы по сравнению со сходным изменением, показанным кривой 55, для насосной системы, где fмакс и Iмакс не изменяются во время работы. С другой стороны, может быть использован электропривод, который значительно больше, чем тот, которым обычно снабжают бустерный насос и который имеет большой номинальный ток, так что временно увеличенное значение Iмакс фактически не означает никакого состояния перегрузки электропривода.
Чтобы предотвратить перегрев бустерного насоса 12 вследствие длительной работы при повышенном значении Iмакс, значение Iмакс впоследствии возвращают к предварительно установленному значению:
- после истечения первого, предварительно установленного периода времени; и
- когда давление газа в насосной системе достигло первого, предварительно установленного значения.
Это первое, предварительно установленное значение может быть обнаружено по сигналу, принятому от любого из датчиков 44, 46, 52. Например, как показано поз.54 (фиг.4), перегрузка бустерного насоса 12 может быть завершена, когда давление газа на входе 16 бустерного насоса 12, как показывает выходной сигнал от датчика 44, падает ниже первого, предварительно установленного значения, которое в показанном примере составляет около 200 мбар. В качестве альтернативы перегрузка бустерного насоса 12 может быть завершена, когда давление газа на выходе 22 бустерного насоса 12, как это показывает выходной сигнал от датчика 46, падает ниже первого предварительно установленного значения, которое в описываемом примере приблизительно равно атмосферному давлению. Оно может быть обнаружено по закрыванию редукционного клапана 50, когда датчик 52 подает сигнал на вход контроллера 42 инвертора. Следовательно, в качестве запускающего сигнала для уменьшения значения I макс может быть использован любой из выходных сигналов от трех датчиков 44, 46, 52. Следствием уменьшения Iмакс в этот момент обычно будет уменьшение частоты вращения электропривода бустерного насоса.
Уменьшение значения Iмакс до предварительно установленного значения во время второй стадии вакуумирования камеры 10 при промежуточном давлении «I» (фиг.4) позволяет оптимизировать режим работы бустерного насоса во время этой стадии при промежуточном давлении, при этом поддерживая перепад давления, созданный бустерным насосом 12, в пределах, в которых предотвращается перегрев бустерного насоса 12. Когда при закрывании редукционного клапана 50 форвакуумный насос 14 оказывается гидравлически сообщенным с бустерным насосом 12, вступает в действие форвакуумный насос 14 для увеличения эффективной скорости откачки насосной системой, которая постоянно увеличивается по мере того, как продолжает падать давление на входе 16 бустерного насоса 12.
По мере того, как продолжается вакуумирование и уменьшается давление на входе 16 бустерного насоса 12, контроллер 42 инвертора постепенно увеличивает частоту мощности, подводимой к электроприводу 32, для поддержания тока около Iмакс, чтобы максимально увеличить скорость откачки. По мере того, как уменьшается давление газа, поступающего в бустерный насос 12, также уменьшается плотность этого газа, и, таким образом, уменьшается риск перегрева бустерного насоса 12, когда уменьшается давление на входе. Поэтому для того, чтобы максимально увеличить производительность бустерного насоса 12 во время дальнейшего вакуумирования камеры 10, контроллер 42 инвертора увеличивает значение fмакс для третьей стадии вакуумирования камеры 10 при низком давлении «L». Увеличение значения fмакс может быть запущено при:
истечении второго, предварительно установленного периода времени; и
когда давление газа в насосной системе достигло второго, предварительно установленного значения, которое меньше, чем первое, предварительно установленное значение.
Второе предварительно установленное значение может быть обнаружено по сигналу, принятому от любого из датчиков 44, 46. Например, как показано на фиг.4, значение fмакс может быть увеличено, когда давление газа на входе 16 бустерного насоса 12, как показывает выходной сигнал от датчика 44, падает ниже второго предварительно установленного значения, которое в данном случае равно около 3 мбар. В качестве альтернативы fмакс может быть увеличена, когда давление газа на выходе 22 бустерного насоса 12, как показывает выходной сигнал от датчика 46, падает ниже второго предварительно установленного значения. В тех случаях, когда первое и второе предварительно установленные значения определяются только по входному сигналу от датчика 44, не требуется применение датчиков 46, 52. С другой стороны, может быть использована зависимость (зависимости) между двумя или большим числом сигналов давления для получения подходящего сигнала управления.
Таким образом, насосная система способна сочетать преимущества бустерного насоса 12, выпускающего воздух в атмосферу при высоких давлениях на входе, с увеличенной скоростью откачки, при этом сохраняется контроль в диапазоне рабочих температур при промежуточных давлениях на входе и, кроме того, обеспечивается увеличенная скорость откачки при низких давлениях.
На фиг.5 и 6 показан альтернативный способ управления блоком 36 привода. Этот способ сходен с тем, который был описан со ссылкой на фиг.2 и 3, за исключением того, что контроллер 42 инвертера регулирует мощность в зависимости от одной или большего числа температур в насосной системе. Как показано, контроллер 42 инвертера принимает от первого датчика 60 температуры первый сигнал, показывающий температуру в насосном механизме. Альтернативно или в дополнение к этому, контроллер 42 инвертера может принимать от второго датчика 62 температуры второй сигнал, показывающий температуру газа в трубопроводе 24, выходящем из бустерного насоса 12. Альтернативно или в дополнение к этому контроллер 42 инвертера может принимать от третьего датчика 70 температуры третий сигнал, показывающий температуру газа в трубопроводе 18, входящем в бустерный насос 12. С другой стороны, может быть использована зависимость (зависимости) между двумя или большим числом сигналов температуры для получения подходящего сигнала управления. Затем контроллер 42 инвертера изменяет мощность и значения для fмакс и Iмакс в зависимости от одного или нескольких сигналов из первого, второго и третьего сигналов. Например, когда одна из температур достигает первого предварительно установленного значения, значение fмакс возвращается к предварительно установленному значению, а когда одна из температур достигает второго предварительно установленного значения, отличающегося от первого значения, значение fмакс увеличивается.

Claims (46)

1. Вакуумная насосная система, содержащая насосный механизм; электропривод для запуска насосного механизма и контроллер для управления электроприводом, при этом контроллер предназначен для установления максимального значения частоты вращения электропривода и максимального значения тока электропривода, а также для регулирования указанных максимальных значений частоты и тока во время работы вакуумной насосной системы, для оптимизации работы вакуумной насосной системы, при этом контроллер конфигурирован для увеличения максимального значения тока в электроприводе во время работы вакуумной насосной системы при относительно высоком давлении и увеличения максимального значения частоты вращения электродвигателя во время работы вакуумной насосной системы при относительно низком давлении.
2. Система по п.1, отличающаяся тем, что содержит инвертер для подвода мощности переменной частоты к электроприводу, при этом контроллер выполнен с возможностью регулирования амплитуды и частоты мощности, подводимой к электроприводу, во время работы вакуумной насосной системы.
3. Система по любому из пп.1 или 2, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью приема входного сигнала от по меньшей мере одного датчика для контроля одного или большего числа состояний в системе и регулирования, по меньшей мере, одного из указанных максимальных значений в зависимости от контролируемых состояний.
4. Система по п.3, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью формирования сигнала, показывающего давление газа в вакуумной насосной системе, при этом контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из указанных максимальных значений в зависимости от принятого сигнала.
5. Система по п.4, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения тока в электроприводе, когда давление газа ниже первого заданного значения.
6. Система по п.5, отличающаяся тем, что первое предварительно установленное значение составляет около 100 мбар.
7. Система по п.5, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения частоты вращения электропривода, когда давление газа ниже второго заданного значения, при этом второе заданное значение ниже, чем первое заданное значение.
8. Система по п.7, отличающаяся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 1 до 100 мбар.
9. Система по п.8, отличающаяся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 10 до 100 мбар.
10. Система по п.4, отличающаяся тем, что два датчика выполнены с возможностью определения соответствующих перепадов давления в вакуумной насосной системе, а контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от соотношения между двумя определенными давлениями.
11. Система по п.4, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью определения давления газа, поступающего к насосному механизму.
12. Система по п.4, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью определения давления газа, выходящего из насосного механизма.
13. Система по п.1, отличающаяся тем, что содержит редукционный клапан, гидравлически сообщающийся с выходом из насосного механизма для избирательного выпуска в атмосферу газа, сжатого насосным механизмом.
14. Система по п.13, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью опознавания положения редукционного клапана, а контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от опознанного положения.
15. Система по п.14, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью уменьшения максимального значения тока в электроприводе, когда редукционный клапан переключается от открытого положения в закрытое положение.
16. Система по любому из пп.13-15, отличающаяся тем, что редукционный клапан выполнен с возможностью переключения из закрытого положения в открытое положение, когда давление газа, сжатого насосным механизмом, выше атмосферного давления.
17. Система по п.3, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью подачи сигнала, показывающего температуру в вакуумной насосной системе, при этом контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из указанных максимальных значений в зависимости от принятых сигналов.
18. Система по п.17, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения тока электропривода, когда температура выше первого заданного значения.
19. Система по п.18, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения частоты вращения электропривода, когда температура выше второго заданного значения, при этом второе заданное значение отличается от первого заданного значения.
20. Система по п.17, отличающаяся тем, что два датчика выполнены с возможностью определения соответствующих различных температур в вакуумной насосной системе, а контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от соотношения между определенными температурами.
21. Система по п.17, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью передачи сигнала, показывающего температуру газа, выходящего из насосного механизма.
22. Система по п.17, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью передачи сигнала, показывающего температуру газа, входящего в насосный механизм.
23. Система по п.17, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью передачи сигнала, показывающего температуру насосного механизма.
24. Система по любому из пп.1 и 2, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимальных значений в соответствии с заданным временным соотношением.
25. Система по п.3, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимальных значений в соответствии с заданным временным соотношением.
26. Способ управления вакуумной насосной системой, содержащей насосный механизм и электропривод для запуска насосного механизма, заключающийся в том, что устанавливают максимальное значение частоты вращения электропривода и максимальное значение тока электропривода и регулируют указанные максимальные значения во время работы вакуумной насосной системы для оптимизации режима работы вакуумной насосной системы, при этом увеличивают максимальное значение тока электропривода во время работы вакуумной насосной системы при относительно высоком давлении и увеличивают максимальное значение частоты вращения электропривода во время работы вакуумной насосной системы при относительно низком давлении.
27. Способ по п.26, отличающийся тем, что во время работы вакуумной насосной системы регулируют амплитуду и частоту мощности, подаваемой на электропривод.
28. Способ по любому из пп.26 и 27, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости от одного или большего числа рабочих состояний системы.
29. Способ по п.28, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от, по меньшей мере, одного давления газа в вакуумной насосной системе.
30. Способ по п.29, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение тока электропривода, когда давление газа падает ниже первого заданного значения.
31. Способ по п.30, отличающийся тем, что первое заданное значение составляет выше 100 мбар.
32. Способ по п.31, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение частоты вращения электропривода, когда давление газа падает ниже второго заданного значения, при этом второе заданное значение ниже, чем первое заданное значение.
33. Способ по п.32, отличающийся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 1 до 100 мбар.
34. Способ по п.33, отличающийся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 10 до 100 мбар.
35. Способ по п.29, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от соотношения между двумя давлениями газа в вакуумной насосной системе.
36. Способ по п.30, отличающийся тем, что в качестве, по меньшей мере, одного давления газа используют давление газа, поступающего к насосному механизму.
37. Способ по п.30, отличающийся тем, что в качестве, по меньшей мере, одного давления газа используют давление газа, выходящего из насосного механизма.
38. Способ по п.26, отличающийся тем, что вакуумная насосная система содержит редукционный клапан позади по ходу потока насосного механизма, при этом регулируют, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости от положения редукционного клапана.
39. Способ по п.38, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение тока электропривода, когда редукционный клапан переключается из открытого положения в закрытое положение.
40. Способ по п.29, отличающийся тем, что регулируют по меньшей мере одно из указанных максимальных значений в зависимости от по меньшей мере одной температуры вакуумной насосной системы.
41. Способ по п.40, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение тока электропривода, когда по меньшей мере одна температура выше первого заданного значения.
42. Способ по п.41, отличающийся тем, что увеличивают максимальное значение частоты вращения электропривода, когда по меньшей мере одна температура выше второго заданного значения, при этом второе заданное значение отличается от первого заданного значения.
43. Способ по п.40, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от соотношения между по меньшей мере двумя температурами вакуумной насосной системы.
44. Способ по любому из пп.40-43, отличающийся тем, что в качестве по меньшей мере одной температуры используют температуру газа, выходящего из насосного механизма.
45. Способ по любому из пп.40-43, отличающийся тем, что в качестве по меньшей мере одной температуры используют температуру насосного механизма.
46. Способ по любому из пп.26-28, отличающийся тем, что регулируют максимальные значения в соответствии с заданным временным соотношением.
RU2007132873A 2005-02-02 2006-01-23 Способ работы насосной системы RU2421632C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0502149A GB0502149D0 (en) 2005-02-02 2005-02-02 Method of operating a pumping system
GB0502149.8 2005-02-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007132873A RU2007132873A (ru) 2009-03-10
RU2421632C2 true RU2421632C2 (ru) 2011-06-20

Family

ID=34307860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007132873A RU2421632C2 (ru) 2005-02-02 2006-01-23 Способ работы насосной системы

Country Status (9)

Country Link
US (2) US9062684B2 (ru)
EP (1) EP1844237B1 (ru)
JP (1) JP5189842B2 (ru)
KR (1) KR101394718B1 (ru)
CN (1) CN101184921B (ru)
GB (1) GB0502149D0 (ru)
RU (1) RU2421632C2 (ru)
TW (1) TWI372209B (ru)
WO (1) WO2006082366A1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015065228A1 (ru) * 2013-10-31 2015-05-07 Владимир Григорьевич МАКАРЕНКО Способ выпаривания текучих продуктов и выпарное устройство для его осуществления
RU2564288C2 (ru) * 2013-11-05 2015-09-27 Андрей Федорович Александров Плёнка двумерно упорядоченного линейно-цепочечного углерода и способ её получения
RU2796418C1 (ru) * 2019-12-04 2023-05-23 Ателье Буш Са Насосная система с резервом и способ перекачивания посредством этой насосной системы

Families Citing this family (137)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0502149D0 (en) 2005-02-02 2005-03-09 Boc Group Inc Method of operating a pumping system
GB0508872D0 (en) * 2005-04-29 2005-06-08 Boc Group Plc Method of operating a pumping system
DE102007060174A1 (de) * 2007-12-13 2009-06-25 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpe sowie Verfahren zum Betreiben einer Vakuumpumpe
EP2450645B1 (en) 2008-01-11 2014-10-08 Johnson Controls Technology Company Vapor compression system
TWI467092B (zh) * 2008-09-10 2015-01-01 Ulvac Inc 真空排氣裝置
KR100988283B1 (ko) * 2008-09-18 2010-10-18 자동차부품연구원 미션오일 공급펌프 구동장치 및 방법
US9324576B2 (en) 2010-05-27 2016-04-26 Applied Materials, Inc. Selective etch for silicon films
US10283321B2 (en) 2011-01-18 2019-05-07 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing system and methods using capacitively coupled plasma
CN102072185B (zh) * 2011-01-27 2013-05-29 高毅夫 基于烟尘量计算优化模型的除尘风机节能控制方法
US8999856B2 (en) 2011-03-14 2015-04-07 Applied Materials, Inc. Methods for etch of sin films
US9064815B2 (en) 2011-03-14 2015-06-23 Applied Materials, Inc. Methods for etch of metal and metal-oxide films
DE102011076785A1 (de) * 2011-05-31 2012-12-06 Robert Bosch Gmbh Steuervorrichtung für eine elektrische Vakuumpumpe und Verfahren zum Ansteuern einer elektrischen Vakuumpumpe
CN102508474B (zh) * 2011-11-01 2014-06-25 杭州哲达科技股份有限公司 工业企业用冷却循环水优化运行控制系统
JP5557056B2 (ja) * 2011-11-30 2014-07-23 アイシン精機株式会社 ポンプ制御ユニット
US20150017024A1 (en) * 2012-03-02 2015-01-15 Shell Oil Company Method of controlling an electric submersible pump
GB2501735B (en) * 2012-05-02 2015-07-22 Edwards Ltd Method and apparatus for warming up a vacuum pump arrangement
GB2502134B (en) * 2012-05-18 2015-09-09 Edwards Ltd Method and apparatus for adjusting operating parameters of a vacuum pump arrangement
KR101995358B1 (ko) * 2012-06-28 2019-07-02 스털링 인더스트리 컨설트 게엠베하 챔버를 배기시키기 위한 방법 및 펌프 장치
US9267739B2 (en) 2012-07-18 2016-02-23 Applied Materials, Inc. Pedestal with multi-zone temperature control and multiple purge capabilities
US9373517B2 (en) 2012-08-02 2016-06-21 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing with DC assisted RF power for improved control
US9023734B2 (en) 2012-09-18 2015-05-05 Applied Materials, Inc. Radical-component oxide etch
US9132436B2 (en) 2012-09-21 2015-09-15 Applied Materials, Inc. Chemical control features in wafer process equipment
JP6050081B2 (ja) * 2012-10-05 2016-12-21 株式会社荏原製作所 ドライ真空ポンプ装置
US8921234B2 (en) 2012-12-21 2014-12-30 Applied Materials, Inc. Selective titanium nitride etching
CN103925214A (zh) * 2013-01-11 2014-07-16 珠海格力电器股份有限公司 一种精抽泵机组及具有其的精抽系统
US10256079B2 (en) 2013-02-08 2019-04-09 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing systems having multiple plasma configurations
US9362130B2 (en) 2013-03-01 2016-06-07 Applied Materials, Inc. Enhanced etching processes using remote plasma sources
US9040422B2 (en) 2013-03-05 2015-05-26 Applied Materials, Inc. Selective titanium nitride removal
US20140271097A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Applied Materials, Inc. Processing systems and methods for halide scavenging
US20140311581A1 (en) * 2013-04-19 2014-10-23 Applied Materials, Inc. Pressure controller configuration for semiconductor processing applications
US9493879B2 (en) 2013-07-12 2016-11-15 Applied Materials, Inc. Selective sputtering for pattern transfer
US9773648B2 (en) 2013-08-30 2017-09-26 Applied Materials, Inc. Dual discharge modes operation for remote plasma
US9576809B2 (en) 2013-11-04 2017-02-21 Applied Materials, Inc. Etch suppression with germanium
US9520303B2 (en) 2013-11-12 2016-12-13 Applied Materials, Inc. Aluminum selective etch
CN104632629A (zh) * 2013-11-13 2015-05-20 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 用于高效抽除小分子量气体的真空系统
US9245762B2 (en) 2013-12-02 2016-01-26 Applied Materials, Inc. Procedure for etch rate consistency
US9499898B2 (en) 2014-03-03 2016-11-22 Applied Materials, Inc. Layered thin film heater and method of fabrication
US9299537B2 (en) 2014-03-20 2016-03-29 Applied Materials, Inc. Radial waveguide systems and methods for post-match control of microwaves
US9903020B2 (en) 2014-03-31 2018-02-27 Applied Materials, Inc. Generation of compact alumina passivation layers on aluminum plasma equipment components
US9309598B2 (en) 2014-05-28 2016-04-12 Applied Materials, Inc. Oxide and metal removal
US9425058B2 (en) 2014-07-24 2016-08-23 Applied Materials, Inc. Simplified litho-etch-litho-etch process
US9496167B2 (en) 2014-07-31 2016-11-15 Applied Materials, Inc. Integrated bit-line airgap formation and gate stack post clean
US9659753B2 (en) 2014-08-07 2017-05-23 Applied Materials, Inc. Grooved insulator to reduce leakage current
US9553102B2 (en) 2014-08-19 2017-01-24 Applied Materials, Inc. Tungsten separation
CN104199310B (zh) * 2014-09-03 2016-10-19 国家电网公司 海水直流冷却循环水系统潮差影响模型的应用
US9355862B2 (en) 2014-09-24 2016-05-31 Applied Materials, Inc. Fluorine-based hardmask removal
US9613822B2 (en) 2014-09-25 2017-04-04 Applied Materials, Inc. Oxide etch selectivity enhancement
US9355922B2 (en) 2014-10-14 2016-05-31 Applied Materials, Inc. Systems and methods for internal surface conditioning in plasma processing equipment
US9966240B2 (en) 2014-10-14 2018-05-08 Applied Materials, Inc. Systems and methods for internal surface conditioning assessment in plasma processing equipment
US9771884B2 (en) * 2014-10-31 2017-09-26 GM Global Technology Operations LLC System and method for controlling the amount of purge fluid delivered to cylinders of an engine based on an operating parameter of a purge pump
WO2016077559A1 (en) 2014-11-14 2016-05-19 Carrier Corporation On board chiller capacity calculation
US11637002B2 (en) 2014-11-26 2023-04-25 Applied Materials, Inc. Methods and systems to enhance process uniformity
US10224210B2 (en) 2014-12-09 2019-03-05 Applied Materials, Inc. Plasma processing system with direct outlet toroidal plasma source
US10573496B2 (en) 2014-12-09 2020-02-25 Applied Materials, Inc. Direct outlet toroidal plasma source
US9502258B2 (en) 2014-12-23 2016-11-22 Applied Materials, Inc. Anisotropic gap etch
US11257693B2 (en) 2015-01-09 2022-02-22 Applied Materials, Inc. Methods and systems to improve pedestal temperature control
US9449846B2 (en) 2015-01-28 2016-09-20 Applied Materials, Inc. Vertical gate separation
US9728437B2 (en) 2015-02-03 2017-08-08 Applied Materials, Inc. High temperature chuck for plasma processing systems
US20160225652A1 (en) 2015-02-03 2016-08-04 Applied Materials, Inc. Low temperature chuck for plasma processing systems
US9881805B2 (en) 2015-03-02 2018-01-30 Applied Materials, Inc. Silicon selective removal
US9741593B2 (en) 2015-08-06 2017-08-22 Applied Materials, Inc. Thermal management systems and methods for wafer processing systems
US9691645B2 (en) 2015-08-06 2017-06-27 Applied Materials, Inc. Bolted wafer chuck thermal management systems and methods for wafer processing systems
US9349605B1 (en) 2015-08-07 2016-05-24 Applied Materials, Inc. Oxide etch selectivity systems and methods
US10504700B2 (en) 2015-08-27 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Plasma etching systems and methods with secondary plasma injection
DE102016200112A1 (de) * 2016-01-07 2017-07-13 Leybold Gmbh Vakuumpumpenantrieb mit Stern-Dreieck-Umschaltung
BE1024040B1 (nl) * 2016-04-08 2017-11-06 Atlas Copco Airpower, N.V. Elektrisch aangedreven mobiele compressor
US10522371B2 (en) 2016-05-19 2019-12-31 Applied Materials, Inc. Systems and methods for improved semiconductor etching and component protection
US10504754B2 (en) 2016-05-19 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Systems and methods for improved semiconductor etching and component protection
US9865484B1 (en) 2016-06-29 2018-01-09 Applied Materials, Inc. Selective etch using material modification and RF pulsing
US10062575B2 (en) 2016-09-09 2018-08-28 Applied Materials, Inc. Poly directional etch by oxidation
US10629473B2 (en) 2016-09-09 2020-04-21 Applied Materials, Inc. Footing removal for nitride spacer
US10546729B2 (en) 2016-10-04 2020-01-28 Applied Materials, Inc. Dual-channel showerhead with improved profile
US10062585B2 (en) 2016-10-04 2018-08-28 Applied Materials, Inc. Oxygen compatible plasma source
US9934942B1 (en) 2016-10-04 2018-04-03 Applied Materials, Inc. Chamber with flow-through source
US9721789B1 (en) 2016-10-04 2017-08-01 Applied Materials, Inc. Saving ion-damaged spacers
US10062579B2 (en) 2016-10-07 2018-08-28 Applied Materials, Inc. Selective SiN lateral recess
US9947549B1 (en) 2016-10-10 2018-04-17 Applied Materials, Inc. Cobalt-containing material removal
US10163696B2 (en) 2016-11-11 2018-12-25 Applied Materials, Inc. Selective cobalt removal for bottom up gapfill
US9768034B1 (en) 2016-11-11 2017-09-19 Applied Materials, Inc. Removal methods for high aspect ratio structures
US10242908B2 (en) 2016-11-14 2019-03-26 Applied Materials, Inc. Airgap formation with damage-free copper
US10026621B2 (en) 2016-11-14 2018-07-17 Applied Materials, Inc. SiN spacer profile patterning
DE202016007609U1 (de) 2016-12-15 2018-03-26 Leybold Gmbh Vakuumpumpsystem
US10566206B2 (en) 2016-12-27 2020-02-18 Applied Materials, Inc. Systems and methods for anisotropic material breakthrough
US10403507B2 (en) 2017-02-03 2019-09-03 Applied Materials, Inc. Shaped etch profile with oxidation
US10431429B2 (en) 2017-02-03 2019-10-01 Applied Materials, Inc. Systems and methods for radial and azimuthal control of plasma uniformity
US10043684B1 (en) 2017-02-06 2018-08-07 Applied Materials, Inc. Self-limiting atomic thermal etching systems and methods
US10319739B2 (en) 2017-02-08 2019-06-11 Applied Materials, Inc. Accommodating imperfectly aligned memory holes
US10943834B2 (en) 2017-03-13 2021-03-09 Applied Materials, Inc. Replacement contact process
US10319649B2 (en) 2017-04-11 2019-06-11 Applied Materials, Inc. Optical emission spectroscopy (OES) for remote plasma monitoring
JP2018178846A (ja) * 2017-04-12 2018-11-15 株式会社荏原製作所 真空ポンプ装置の運転制御装置、及び運転制御方法
US11276590B2 (en) 2017-05-17 2022-03-15 Applied Materials, Inc. Multi-zone semiconductor substrate supports
US11276559B2 (en) 2017-05-17 2022-03-15 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing chamber for multiple precursor flow
US10497579B2 (en) 2017-05-31 2019-12-03 Applied Materials, Inc. Water-free etching methods
US10049891B1 (en) 2017-05-31 2018-08-14 Applied Materials, Inc. Selective in situ cobalt residue removal
FR3067069B1 (fr) * 2017-06-06 2019-08-02 Pfeiffer Vacuum Procede de surveillance d'un etat de fonctionnement d'un dispositif de pompage
US10920320B2 (en) 2017-06-16 2021-02-16 Applied Materials, Inc. Plasma health determination in semiconductor substrate processing reactors
US10541246B2 (en) 2017-06-26 2020-01-21 Applied Materials, Inc. 3D flash memory cells which discourage cross-cell electrical tunneling
US10727080B2 (en) 2017-07-07 2020-07-28 Applied Materials, Inc. Tantalum-containing material removal
US10541184B2 (en) 2017-07-11 2020-01-21 Applied Materials, Inc. Optical emission spectroscopic techniques for monitoring etching
US10354889B2 (en) 2017-07-17 2019-07-16 Applied Materials, Inc. Non-halogen etching of silicon-containing materials
US10170336B1 (en) 2017-08-04 2019-01-01 Applied Materials, Inc. Methods for anisotropic control of selective silicon removal
US10043674B1 (en) 2017-08-04 2018-08-07 Applied Materials, Inc. Germanium etching systems and methods
US10297458B2 (en) 2017-08-07 2019-05-21 Applied Materials, Inc. Process window widening using coated parts in plasma etch processes
US10128086B1 (en) 2017-10-24 2018-11-13 Applied Materials, Inc. Silicon pretreatment for nitride removal
US10283324B1 (en) 2017-10-24 2019-05-07 Applied Materials, Inc. Oxygen treatment for nitride etching
US10256112B1 (en) 2017-12-08 2019-04-09 Applied Materials, Inc. Selective tungsten removal
EP3499039B1 (de) * 2017-12-15 2021-03-31 Pfeiffer Vacuum Gmbh Schraubenvakuumpumpe
US10903054B2 (en) 2017-12-19 2021-01-26 Applied Materials, Inc. Multi-zone gas distribution systems and methods
US11328909B2 (en) 2017-12-22 2022-05-10 Applied Materials, Inc. Chamber conditioning and removal processes
US10854426B2 (en) 2018-01-08 2020-12-01 Applied Materials, Inc. Metal recess for semiconductor structures
US10964512B2 (en) 2018-02-15 2021-03-30 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus and methods
US10679870B2 (en) 2018-02-15 2020-06-09 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus
TWI716818B (zh) 2018-02-28 2021-01-21 美商應用材料股份有限公司 形成氣隙的系統及方法
US10593560B2 (en) 2018-03-01 2020-03-17 Applied Materials, Inc. Magnetic induction plasma source for semiconductor processes and equipment
US10319600B1 (en) 2018-03-12 2019-06-11 Applied Materials, Inc. Thermal silicon etch
US10497573B2 (en) 2018-03-13 2019-12-03 Applied Materials, Inc. Selective atomic layer etching of semiconductor materials
US10573527B2 (en) 2018-04-06 2020-02-25 Applied Materials, Inc. Gas-phase selective etching systems and methods
US10490406B2 (en) 2018-04-10 2019-11-26 Appled Materials, Inc. Systems and methods for material breakthrough
US10699879B2 (en) 2018-04-17 2020-06-30 Applied Materials, Inc. Two piece electrode assembly with gap for plasma control
US10886137B2 (en) 2018-04-30 2021-01-05 Applied Materials, Inc. Selective nitride removal
US10872778B2 (en) 2018-07-06 2020-12-22 Applied Materials, Inc. Systems and methods utilizing solid-phase etchants
US10755941B2 (en) 2018-07-06 2020-08-25 Applied Materials, Inc. Self-limiting selective etching systems and methods
US10672642B2 (en) 2018-07-24 2020-06-02 Applied Materials, Inc. Systems and methods for pedestal configuration
US10892198B2 (en) 2018-09-14 2021-01-12 Applied Materials, Inc. Systems and methods for improved performance in semiconductor processing
US11049755B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Applied Materials, Inc. Semiconductor substrate supports with embedded RF shield
US11062887B2 (en) 2018-09-17 2021-07-13 Applied Materials, Inc. High temperature RF heater pedestals
US11417534B2 (en) 2018-09-21 2022-08-16 Applied Materials, Inc. Selective material removal
US11682560B2 (en) 2018-10-11 2023-06-20 Applied Materials, Inc. Systems and methods for hafnium-containing film removal
FR3087504B1 (fr) * 2018-10-17 2020-10-30 Pfeiffer Vacuum Procede de controle de la temperature d’une pompe a vide, pompe a vide et installation associees
US11121002B2 (en) 2018-10-24 2021-09-14 Applied Materials, Inc. Systems and methods for etching metals and metal derivatives
US11437242B2 (en) 2018-11-27 2022-09-06 Applied Materials, Inc. Selective removal of silicon-containing materials
US11721527B2 (en) 2019-01-07 2023-08-08 Applied Materials, Inc. Processing chamber mixing systems
US10920319B2 (en) 2019-01-11 2021-02-16 Applied Materials, Inc. Ceramic showerheads with conductive electrodes
CN111029319B (zh) * 2019-11-19 2021-09-17 西安西整熔断器有限公司 一种电触发晶闸管换流阀及其使用方法
GB2592573A (en) * 2019-12-19 2021-09-08 Leybold France S A S Lubricant-sealed vacuum pump, lubricant filter and method.
US11668304B2 (en) 2020-02-27 2023-06-06 Gardner Denver, Inc. Low coefficient of expansion rotors for vacuum boosters
US11746782B2 (en) 2020-04-03 2023-09-05 Gardner Denver, Inc. Low coefficient of expansion rotors for blowers

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0574623A1 (en) * 1991-01-29 1993-12-22 Vickers Incorporated Power transmission
US5944049A (en) * 1997-07-15 1999-08-31 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for regulating a pressure in a chamber
US6244825B1 (en) * 1998-10-01 2001-06-12 International Business Machines Corporation Pump-protecting device, pump-protecting method and pumping apparatus

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5863088A (ja) 1981-10-09 1983-04-14 Ebara Corp 揚水ポンプ系における保護装置
JPS63283492A (ja) 1987-05-15 1988-11-21 Mitsubishi Electric Corp 圧縮機用電動機の制御装置
JPS6419198U (ru) 1987-07-24 1989-01-31
IT1270767B (it) * 1993-03-18 1997-05-07 Cartigliano Spa Off Impianto a vuoto per esseccatoi di pelli industriali a pianali multipli ed essiccatoio incorporante tale impianto
KR100344716B1 (ko) 1993-09-20 2002-11-23 가부시키 가이샤 에바라 세이사꾸쇼 펌프의운전제어장치
DE4421065A1 (de) 1994-06-16 1995-12-21 Raytek Sensorik Gmbh Vorrichtung zur Temperaturmessung
JP3847357B2 (ja) * 1994-06-28 2006-11-22 株式会社荏原製作所 真空系の排気装置
US5618167A (en) 1994-07-28 1997-04-08 Ebara Corporation Vacuum pump apparatus having peltier elements for cooling the motor & bearing housing and heating the outer housing
US5624239A (en) * 1994-12-14 1997-04-29 Osika; Thomas W. Portable pneumatic vacuum source apparatus and method
WO1997022914A1 (fr) * 1995-12-19 1997-06-26 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Methode de correction de sortie pour appareil de commande, appareil de commande et appareil de commande de pompe hydraulique
JP3125207B2 (ja) 1995-07-07 2001-01-15 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置
US6158965A (en) 1996-07-30 2000-12-12 Alaris Medical Systems, Inc. Fluid flow resistance monitoring system
JP3767052B2 (ja) 1996-11-30 2006-04-19 アイシン精機株式会社 多段式真空ポンプ
JP3057486B2 (ja) 1997-01-22 2000-06-26 セイコー精機株式会社 ターボ分子ポンプ
US6123522A (en) 1997-07-22 2000-09-26 Koyo Seiko Co., Ltd. Turbo molecular pump
JPH1137087A (ja) 1997-07-24 1999-02-09 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk 分子ポンプ
JPH11132186A (ja) 1997-10-29 1999-05-18 Shimadzu Corp ターボ分子ポンプ
US6695589B1 (en) * 1999-03-26 2004-02-24 General Motors Corporation Control for an electric motor driven pump
US6257001B1 (en) 1999-08-24 2001-07-10 Lucent Technologies, Inc. Cryogenic vacuum pump temperature sensor
FR2801645B1 (fr) * 1999-11-30 2005-09-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Dispositif d'entrainement d'un compresseur lineaire, support et ensemble d'informations
JP2002048088A (ja) 2000-07-31 2002-02-15 Seiko Instruments Inc 真空ポンプ
US7143016B1 (en) * 2001-03-02 2006-11-28 Rockwell Automation Technologies, Inc. System and method for dynamic multi-objective optimization of pumping system operation and diagnostics
DE10113251A1 (de) 2001-03-19 2002-10-02 Siemens Ag Druckerzeuger für strömende Medien
DE10114969A1 (de) 2001-03-27 2002-10-10 Leybold Vakuum Gmbh Turbomolekularpumpe
KR100408068B1 (ko) * 2001-07-31 2003-12-03 엘지전자 주식회사 왕복동식 압축기의 스트로크 제어장치 및 방법
JP4156830B2 (ja) 2001-12-13 2008-09-24 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
JP2003287463A (ja) 2002-03-28 2003-10-10 Boc Edwards Technologies Ltd 放射温度測定装置及び該放射温度測定装置を搭載したターボ分子ポンプ
US6739840B2 (en) 2002-05-22 2004-05-25 Applied Materials Inc Speed control of variable speed pump
JP2004116319A (ja) 2002-09-24 2004-04-15 Boc Edwards Technologies Ltd 真空ポンプ
JP3967245B2 (ja) 2002-09-30 2007-08-29 株式会社東芝 回転機の寿命予測方法及び回転機を有する製造装置
GB0223769D0 (en) 2002-10-14 2002-11-20 Boc Group Plc A pump
JP3923422B2 (ja) * 2002-12-11 2007-05-30 株式会社日立産機システム スクリュー圧縮機
JP2004197644A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Toyota Industries Corp 真空ポンプの制御装置
ITTO20030392A1 (it) * 2003-05-28 2004-11-29 Varian Spa Sistema di pompaggio per vuoto.
JP4218756B2 (ja) 2003-10-17 2009-02-04 株式会社荏原製作所 真空排気装置
JP4558349B2 (ja) * 2004-03-02 2010-10-06 財団法人国際科学振興財団 真空ポンプ
JP2005320905A (ja) 2004-05-10 2005-11-17 Boc Edwards Kk 真空ポンプ
GB0502149D0 (en) 2005-02-02 2005-03-09 Boc Group Inc Method of operating a pumping system
GB0508872D0 (en) 2005-04-29 2005-06-08 Boc Group Plc Method of operating a pumping system
JP5045894B2 (ja) 2006-05-09 2012-10-10 株式会社島津製作所 磁気軸受装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0574623A1 (en) * 1991-01-29 1993-12-22 Vickers Incorporated Power transmission
US5944049A (en) * 1997-07-15 1999-08-31 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for regulating a pressure in a chamber
US6244825B1 (en) * 1998-10-01 2001-06-12 International Business Machines Corporation Pump-protecting device, pump-protecting method and pumping apparatus

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015065228A1 (ru) * 2013-10-31 2015-05-07 Владимир Григорьевич МАКАРЕНКО Способ выпаривания текучих продуктов и выпарное устройство для его осуществления
RU2564288C2 (ru) * 2013-11-05 2015-09-27 Андрей Федорович Александров Плёнка двумерно упорядоченного линейно-цепочечного углерода и способ её получения
RU2796418C1 (ru) * 2019-12-04 2023-05-23 Ателье Буш Са Насосная система с резервом и способ перекачивания посредством этой насосной системы
RU2796418C9 (ru) * 2019-12-04 2024-03-26 Ателье Буш Са Насосная система с резервом и способ перекачивания посредством этой насосной системы

Also Published As

Publication number Publication date
TW200632221A (en) 2006-09-16
WO2006082366A1 (en) 2006-08-10
JP2008529472A (ja) 2008-07-31
JP5189842B2 (ja) 2013-04-24
KR101394718B1 (ko) 2014-05-15
TWI372209B (en) 2012-09-11
US9903378B2 (en) 2018-02-27
CN101184921A (zh) 2008-05-21
US20150125312A1 (en) 2015-05-07
EP1844237B1 (en) 2015-11-18
CN101184921B (zh) 2010-05-26
WO2006082366A8 (en) 2007-11-08
US9062684B2 (en) 2015-06-23
KR20070099635A (ko) 2007-10-09
EP1844237A1 (en) 2007-10-17
GB0502149D0 (en) 2005-03-09
US20100047080A1 (en) 2010-02-25
RU2007132873A (ru) 2009-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2421632C2 (ru) Способ работы насосной системы
JP5769722B2 (ja) 低電力消費の排気方法及び装置
US8753095B2 (en) Pumping system and method of operation
KR100576761B1 (ko) 진공배기장치 및 방법
WO2006097679A1 (en) Vacuum pumping arrangement
KR101707267B1 (ko) 드라이 진공 펌프 장치 및 드라이 진공 펌프 장치에 사용되는 제어 장치
CN109477485B (zh) 用于降低负载锁中的压力的方法和相关泵单元
JPWO2018179789A1 (ja) 気体圧縮機
TWI753219B (zh) 乾式真空泵及用於控制真空泵的同步馬達之方法
JP4180265B2 (ja) 真空排気装置の運転方法
US9334864B2 (en) Method of operating a pumping system
JP2003139055A (ja) 真空排気装置
WO2006106302A1 (en) Temperature control apparatus
JP2012524204A (ja) 容積形ポンプのための粗引き法
WO2006051260A1 (en) Vacuum pumping system
JP2020183738A (ja) 真空排気装置及びその運転方法
JP3941147B2 (ja) 真空排気装置及びそのメンテナンス方法
GB2592283A (en) Method to operate a vacuum system
JP2019081944A (ja) 真空バルブの制御方法

Legal Events

Date Code Title Description
PD4A Correction of name of patent owner