RU2007132873A - Способ работы насосной системы - Google Patents
Способ работы насосной системы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2007132873A RU2007132873A RU2007132873/06A RU2007132873A RU2007132873A RU 2007132873 A RU2007132873 A RU 2007132873A RU 2007132873/06 A RU2007132873/06 A RU 2007132873/06A RU 2007132873 A RU2007132873 A RU 2007132873A RU 2007132873 A RU2007132873 A RU 2007132873A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electric drive
- controller
- maximum
- pumping
- pressure
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 23
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims 20
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 6
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C14/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations
- F04C14/08—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the rotational speed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
- F04B49/06—Control using electricity
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B49/00—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
- F04B49/20—Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00 by changing the driving speed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C23/02—Pumps characterised by combination with, or adaptation to, specific driving engines or motors
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
- F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/06—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
- F04D27/004—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids by varying driving speed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B2203/00—Motor parameters
- F04B2203/02—Motor parameters of rotating electric motors
- F04B2203/0201—Current
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B2203/00—Motor parameters
- F04B2203/02—Motor parameters of rotating electric motors
- F04B2203/0204—Frequency of the electric current
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
- F04C18/12—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
- F04C18/12—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type
- F04C18/14—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons
- F04C18/16—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons with helical teeth, e.g. chevron-shaped, screw type
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2220/00—Application
- F04C2220/10—Vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2220/00—Application
- F04C2220/10—Vacuum
- F04C2220/12—Dry running
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2240/00—Components
- F04C2240/40—Electric motor
- F04C2240/403—Electric motor with inverter for speed control
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
- F04C2270/08—Amplitude of electric current
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
- F04C2270/09—Electric current frequency
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
- F04C2270/18—Pressure
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2270/00—Control; Monitoring or safety arrangements
- F04C2270/19—Temperature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B30/00—Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
- Y02B30/70—Efficient control or regulation technologies, e.g. for control of refrigerant flow, motor or heating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
- Control Of Electric Motors In General (AREA)
Claims (47)
1. Насосная система, содержащая насосный механизм; электропривод для запуска насосного механизма и контроллер для управления электроприводом, при этом контроллер устанавливает максимальное значение частоты вращения электропривода и максимальное значение тока электропривода, а для оптимизации режима работы насосной системы регулирует указанные максимальные значения во время работы насосной системы.
2. Система по п.1, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью увеличения максимального значения тока в электроприводе во время работы насосной системы при относительно высоком давлении и увеличения максимального значения для частоты вращения электродвигателя во время работы насосной системы при относительно низком давлении.
3. Система по п.1, отличающаяся тем, что содержит инвертер для подвода мощности переменной частоты к электроприводу, при этом контроллер выполнен с возможностью регулирования амплитуды и частоты мощности, подводимой к электроприводу, во время работы насосной системы.
4. Система по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью приема входного сигнала от, по меньшей мере, одного датчика для контроля одного или большего числа состояний в системе и регулирования, по меньшей мере, одного из указанных максимальных значений в зависимости от контролируемых состояний.
5. Система по п.4, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен в возможностью формирования сигнала, показывающего давление газа в насосной системе, при этом контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из указанных максимальных значений в зависимости от принятого сигнала.
6. Система по п.5, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения тока в электроприводе, когда давление газа ниже первого заданного значения.
7. Система по п.6, отличающаяся тем, что первое предварительно установленное значение составляет около 100 мбар.
8. Система по п.6, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения частоты вращения электропривода, когда давление газа ниже второго заданного значения, при этом второе заданное значение ниже, чем первое заданное значение.
9. Система по п.8, отличающаяся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 1 мбар до 100 мбар.
10. Система по п.9, отличающаяся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 10 мбар до 100 мбар.
11. Система по п.5, отличающаяся тем, что два датчика выполнены с возможностью определения соответствующих перепадов давления в насосной системе, а контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от соотношения между двумя определенными давлениями.
12. Система по п.5, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен в возможностью определения давления газа, поступающего к насосному механизму.
13. Система по п.5, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен в возможностью определения давления газа, выходящего из насосного механизма.
14. Система по п.1, отличающаяся тем, что содержит редукционный клапан, гидравлически сообщающийся с выходом из насосного механизма для избирательного выпуска в атмосферу газа, сжатого насосным механизмом.
15. Система по п.14, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен в возможностью опознавания положения редукционного клапана, а контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от опознанного положения.
16. Система по п.15, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью уменьшения максимального значения тока в электроприводе, когда редукционный клапан переключается от открытого положения в закрытое положение.
17. Система по любому из пп.14-16, отличающаяся тем, что редукционный клапан выполнен с возможностью переключения из закрытого положения в открытое положение, когда давление газа, сжатого насосным механизмом, выше атмосферного давления.
18. Система по п.4, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен в возможностью подачи сигнала, показывающего температуру в насосной системе, при этом контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из указанных максимальных значений в зависимости от принятых сигналов.
19. Система по п.18, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения тока электропривода, когда температура выше первого заданного значения.
20. Система по п.19, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимального значения частоты вращения электропривода, когда температура выше второго заданного значения, при этом второе заданное значение отличается от первого заданного значения.
21. Система по п.18, отличающаяся тем, что два датчика выполнены с возможностью определения соответствующих различных температур в насосной системе, а контроллер выполнен с возможностью регулирования, по меньшей мере, одного из максимальных значений в зависимости от соотношения между определенными температурами.
22. Система по п.18, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью передачи сигнала, показывающего температуру газа, выходящего из насосного механизма.
23. Система по п.18, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью передачи сигнала, показывающего температуру газа, входящего в насосный механизм.
24. Система по п.18, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один датчик выполнен с возможностью передачи сигнала, показывающего температуру насосного механизма.
25. Система по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что контроллер выполнен с возможностью регулирования максимальных значений в соответствии с заданным временным соотношением.
26. Способ работы насосной системы, содержащей насосный механизм и электропривод для запуска насосного механизма, заключающийся в том, что устанавливают максимальное значение частоты вращения электропривода и максимальное значение тока электропривода и регулируют указанные максимальные значения во время работы насосной системы для оптимизации режима работы насосной системы.
27. Способ по п.26, отличающийся тем, что увеличивают максимальное значение тока электропривода во время работы насосной системы при относительно высоком давлении и увеличивают максимальное значение частоты вращения электропривода во время работы насосной системы при относительно низком давлении.
28. Способ по п.26, отличающийся тем, что во время работы насосной системы регулируют амплитуду и частоту мощности, подаваемой на электропривод.
29. Способ по любому из пп.26-28, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости от одного или большего числа рабочих состояний системы.
30. Способ по п.29, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от, по меньшей мере, одного давления газа в насосной системе.
31. Способ по п.30, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение тока электропривода, когда давление газа падает ниже первого заданного значения.
32. Способ по п.31, отличающийся тем, что первое заданное значение составляет выше 100 мбар.
33. Способ по п.31, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение частоты вращения электропривода, когда давление газа падает ниже второго заданного значения, при этом второе заданное значение ниже, чем первое заданное значение.
34. Способ по п.33, отличающийся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 1 мбар до 100 мбар.
35. Способ по п.34, отличающийся тем, что второе заданное значение находится в пределах от 10 мбар до 100 мбар.
36. Способ по п.29, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от соотношения между двумя давлениями газа в насосной системе.
37. Способ по п.30, отличающийся тем, что в качестве, по меньшей мере, одного давления газа используют давление газа, поступающего к насосному механизму.
38. Способ по п.30, отличающийся тем, что в качестве, по меньшей мере, одного давления газа используют давление газа, выходящего из насосного механизма.
39. Способ по п.26, отличающийся тем, что насосная система содержит редукционный клапан позади по ходу потока насосного механизма, при этом регулируют, по меньшей мере, одно из максимальных значений в зависимости от положения редукционного клапана.
40. Способ по п.39, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение тока электропривода, когда редукционный клапан переключается из открытого положения в закрытое положение.
41. Способ по п.29, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от, по меньшей мере, одной температуры насосной системы.
42. Способ по п.41, отличающийся тем, что уменьшают максимальное значение тока электропривода, когда, по меньшей мере, одна температура выше первого заданного значения.
43. Способ по п.42, отличающийся тем, что увеличивают максимальное значение частоты вращения электропривода, когда, по меньшей мере, одна температура выше второго заданного значения, при этом второе заданное значение отличается от первого заданного значения.
44. Способ по п.41, отличающийся тем, что регулируют, по меньшей мере, одно из указанных максимальных значений в зависимости от соотношения между, по меньшей мере, двумя температурами насосной системы.
45. Способ по любому из пп.41-44, отличающийся тем, что в качестве, по меньшей мере, одной температуры используют температуру газа, выходящего из насосного механизма.
46. Способ по любому из пп.41-44, отличающихся тем, что в качестве, по меньшей мере, одной температуры используют температуру насосного механизма.
47. Способ по любому из пп.26-28, отличающийся тем, что регулируют максимальные значения в соответствии с заданным временным соотношением.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB0502149A GB0502149D0 (en) | 2005-02-02 | 2005-02-02 | Method of operating a pumping system |
GB0502149.8 | 2005-02-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2007132873A true RU2007132873A (ru) | 2009-03-10 |
RU2421632C2 RU2421632C2 (ru) | 2011-06-20 |
Family
ID=34307860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2007132873A RU2421632C2 (ru) | 2005-02-02 | 2006-01-23 | Способ работы насосной системы |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9062684B2 (ru) |
EP (1) | EP1844237B1 (ru) |
JP (1) | JP5189842B2 (ru) |
KR (1) | KR101394718B1 (ru) |
CN (1) | CN101184921B (ru) |
GB (1) | GB0502149D0 (ru) |
RU (1) | RU2421632C2 (ru) |
TW (1) | TWI372209B (ru) |
WO (1) | WO2006082366A1 (ru) |
Families Citing this family (139)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0502149D0 (en) | 2005-02-02 | 2005-03-09 | Boc Group Inc | Method of operating a pumping system |
GB0508872D0 (en) * | 2005-04-29 | 2005-06-08 | Boc Group Plc | Method of operating a pumping system |
DE102007060174A1 (de) * | 2007-12-13 | 2009-06-25 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Vakuumpumpe sowie Verfahren zum Betreiben einer Vakuumpumpe |
CN101903714B (zh) * | 2008-01-11 | 2012-08-15 | 江森自控科技公司 | 蒸汽压缩系统 |
TWI467092B (zh) * | 2008-09-10 | 2015-01-01 | Ulvac Inc | 真空排氣裝置 |
KR100988283B1 (ko) * | 2008-09-18 | 2010-10-18 | 자동차부품연구원 | 미션오일 공급펌프 구동장치 및 방법 |
US9324576B2 (en) | 2010-05-27 | 2016-04-26 | Applied Materials, Inc. | Selective etch for silicon films |
US10283321B2 (en) | 2011-01-18 | 2019-05-07 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing system and methods using capacitively coupled plasma |
CN102072185B (zh) * | 2011-01-27 | 2013-05-29 | 高毅夫 | 基于烟尘量计算优化模型的除尘风机节能控制方法 |
US8999856B2 (en) | 2011-03-14 | 2015-04-07 | Applied Materials, Inc. | Methods for etch of sin films |
US9064815B2 (en) | 2011-03-14 | 2015-06-23 | Applied Materials, Inc. | Methods for etch of metal and metal-oxide films |
DE102011076785A1 (de) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Robert Bosch Gmbh | Steuervorrichtung für eine elektrische Vakuumpumpe und Verfahren zum Ansteuern einer elektrischen Vakuumpumpe |
CN102508474B (zh) * | 2011-11-01 | 2014-06-25 | 杭州哲达科技股份有限公司 | 工业企业用冷却循环水优化运行控制系统 |
JP5557056B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2014-07-23 | アイシン精機株式会社 | ポンプ制御ユニット |
US20150017024A1 (en) * | 2012-03-02 | 2015-01-15 | Shell Oil Company | Method of controlling an electric submersible pump |
GB2501735B (en) * | 2012-05-02 | 2015-07-22 | Edwards Ltd | Method and apparatus for warming up a vacuum pump arrangement |
GB2502134B (en) * | 2012-05-18 | 2015-09-09 | Edwards Ltd | Method and apparatus for adjusting operating parameters of a vacuum pump arrangement |
WO2014001090A1 (de) * | 2012-06-28 | 2014-01-03 | Sterling Industry Consult Gmbh | Verfahren und pumpenanordnung zum evakuieren einer kammer |
US9267739B2 (en) | 2012-07-18 | 2016-02-23 | Applied Materials, Inc. | Pedestal with multi-zone temperature control and multiple purge capabilities |
US9373517B2 (en) | 2012-08-02 | 2016-06-21 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing with DC assisted RF power for improved control |
US9023734B2 (en) | 2012-09-18 | 2015-05-05 | Applied Materials, Inc. | Radical-component oxide etch |
US9132436B2 (en) | 2012-09-21 | 2015-09-15 | Applied Materials, Inc. | Chemical control features in wafer process equipment |
JP6050081B2 (ja) * | 2012-10-05 | 2016-12-21 | 株式会社荏原製作所 | ドライ真空ポンプ装置 |
US8921234B2 (en) | 2012-12-21 | 2014-12-30 | Applied Materials, Inc. | Selective titanium nitride etching |
CN103925214A (zh) * | 2013-01-11 | 2014-07-16 | 珠海格力电器股份有限公司 | 一种精抽泵机组及具有其的精抽系统 |
US10256079B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-04-09 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing systems having multiple plasma configurations |
US9362130B2 (en) | 2013-03-01 | 2016-06-07 | Applied Materials, Inc. | Enhanced etching processes using remote plasma sources |
US9040422B2 (en) | 2013-03-05 | 2015-05-26 | Applied Materials, Inc. | Selective titanium nitride removal |
US20140271097A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Applied Materials, Inc. | Processing systems and methods for halide scavenging |
US20140311581A1 (en) * | 2013-04-19 | 2014-10-23 | Applied Materials, Inc. | Pressure controller configuration for semiconductor processing applications |
US9493879B2 (en) | 2013-07-12 | 2016-11-15 | Applied Materials, Inc. | Selective sputtering for pattern transfer |
US9773648B2 (en) | 2013-08-30 | 2017-09-26 | Applied Materials, Inc. | Dual discharge modes operation for remote plasma |
WO2015065228A1 (ru) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | Владимир Григорьевич МАКАРЕНКО | Способ выпаривания текучих продуктов и выпарное устройство для его осуществления |
US9576809B2 (en) | 2013-11-04 | 2017-02-21 | Applied Materials, Inc. | Etch suppression with germanium |
RU2564288C2 (ru) * | 2013-11-05 | 2015-09-27 | Андрей Федорович Александров | Плёнка двумерно упорядоченного линейно-цепочечного углерода и способ её получения |
US9520303B2 (en) | 2013-11-12 | 2016-12-13 | Applied Materials, Inc. | Aluminum selective etch |
CN104632629A (zh) * | 2013-11-13 | 2015-05-20 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 用于高效抽除小分子量气体的真空系统 |
US9245762B2 (en) | 2013-12-02 | 2016-01-26 | Applied Materials, Inc. | Procedure for etch rate consistency |
US9499898B2 (en) | 2014-03-03 | 2016-11-22 | Applied Materials, Inc. | Layered thin film heater and method of fabrication |
US9299537B2 (en) | 2014-03-20 | 2016-03-29 | Applied Materials, Inc. | Radial waveguide systems and methods for post-match control of microwaves |
US9903020B2 (en) | 2014-03-31 | 2018-02-27 | Applied Materials, Inc. | Generation of compact alumina passivation layers on aluminum plasma equipment components |
US9309598B2 (en) | 2014-05-28 | 2016-04-12 | Applied Materials, Inc. | Oxide and metal removal |
US9425058B2 (en) | 2014-07-24 | 2016-08-23 | Applied Materials, Inc. | Simplified litho-etch-litho-etch process |
US9496167B2 (en) | 2014-07-31 | 2016-11-15 | Applied Materials, Inc. | Integrated bit-line airgap formation and gate stack post clean |
US9659753B2 (en) | 2014-08-07 | 2017-05-23 | Applied Materials, Inc. | Grooved insulator to reduce leakage current |
US9553102B2 (en) | 2014-08-19 | 2017-01-24 | Applied Materials, Inc. | Tungsten separation |
CN104199310B (zh) * | 2014-09-03 | 2016-10-19 | 国家电网公司 | 海水直流冷却循环水系统潮差影响模型的应用 |
US9478434B2 (en) | 2014-09-24 | 2016-10-25 | Applied Materials, Inc. | Chlorine-based hardmask removal |
US9613822B2 (en) | 2014-09-25 | 2017-04-04 | Applied Materials, Inc. | Oxide etch selectivity enhancement |
US9355922B2 (en) | 2014-10-14 | 2016-05-31 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for internal surface conditioning in plasma processing equipment |
US9966240B2 (en) | 2014-10-14 | 2018-05-08 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for internal surface conditioning assessment in plasma processing equipment |
US9771884B2 (en) * | 2014-10-31 | 2017-09-26 | GM Global Technology Operations LLC | System and method for controlling the amount of purge fluid delivered to cylinders of an engine based on an operating parameter of a purge pump |
US11686517B2 (en) | 2014-11-14 | 2023-06-27 | Carrier Corporation | On board chiller capacity calculation |
US11637002B2 (en) | 2014-11-26 | 2023-04-25 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems to enhance process uniformity |
US10573496B2 (en) | 2014-12-09 | 2020-02-25 | Applied Materials, Inc. | Direct outlet toroidal plasma source |
US10224210B2 (en) | 2014-12-09 | 2019-03-05 | Applied Materials, Inc. | Plasma processing system with direct outlet toroidal plasma source |
US9502258B2 (en) | 2014-12-23 | 2016-11-22 | Applied Materials, Inc. | Anisotropic gap etch |
US11257693B2 (en) | 2015-01-09 | 2022-02-22 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems to improve pedestal temperature control |
US9449846B2 (en) | 2015-01-28 | 2016-09-20 | Applied Materials, Inc. | Vertical gate separation |
US20160225652A1 (en) | 2015-02-03 | 2016-08-04 | Applied Materials, Inc. | Low temperature chuck for plasma processing systems |
US9728437B2 (en) | 2015-02-03 | 2017-08-08 | Applied Materials, Inc. | High temperature chuck for plasma processing systems |
US9881805B2 (en) | 2015-03-02 | 2018-01-30 | Applied Materials, Inc. | Silicon selective removal |
US9741593B2 (en) | 2015-08-06 | 2017-08-22 | Applied Materials, Inc. | Thermal management systems and methods for wafer processing systems |
US9691645B2 (en) | 2015-08-06 | 2017-06-27 | Applied Materials, Inc. | Bolted wafer chuck thermal management systems and methods for wafer processing systems |
US9349605B1 (en) | 2015-08-07 | 2016-05-24 | Applied Materials, Inc. | Oxide etch selectivity systems and methods |
US10504700B2 (en) | 2015-08-27 | 2019-12-10 | Applied Materials, Inc. | Plasma etching systems and methods with secondary plasma injection |
DE102016200112A1 (de) * | 2016-01-07 | 2017-07-13 | Leybold Gmbh | Vakuumpumpenantrieb mit Stern-Dreieck-Umschaltung |
BE1024040B1 (nl) * | 2016-04-08 | 2017-11-06 | Atlas Copco Airpower, N.V. | Elektrisch aangedreven mobiele compressor |
US10504754B2 (en) | 2016-05-19 | 2019-12-10 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for improved semiconductor etching and component protection |
US10522371B2 (en) | 2016-05-19 | 2019-12-31 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for improved semiconductor etching and component protection |
US9865484B1 (en) | 2016-06-29 | 2018-01-09 | Applied Materials, Inc. | Selective etch using material modification and RF pulsing |
US10062575B2 (en) | 2016-09-09 | 2018-08-28 | Applied Materials, Inc. | Poly directional etch by oxidation |
US10629473B2 (en) | 2016-09-09 | 2020-04-21 | Applied Materials, Inc. | Footing removal for nitride spacer |
US10546729B2 (en) | 2016-10-04 | 2020-01-28 | Applied Materials, Inc. | Dual-channel showerhead with improved profile |
US10062585B2 (en) | 2016-10-04 | 2018-08-28 | Applied Materials, Inc. | Oxygen compatible plasma source |
US9934942B1 (en) | 2016-10-04 | 2018-04-03 | Applied Materials, Inc. | Chamber with flow-through source |
US9721789B1 (en) | 2016-10-04 | 2017-08-01 | Applied Materials, Inc. | Saving ion-damaged spacers |
US10062579B2 (en) | 2016-10-07 | 2018-08-28 | Applied Materials, Inc. | Selective SiN lateral recess |
US9947549B1 (en) | 2016-10-10 | 2018-04-17 | Applied Materials, Inc. | Cobalt-containing material removal |
US9768034B1 (en) | 2016-11-11 | 2017-09-19 | Applied Materials, Inc. | Removal methods for high aspect ratio structures |
US10163696B2 (en) | 2016-11-11 | 2018-12-25 | Applied Materials, Inc. | Selective cobalt removal for bottom up gapfill |
US10242908B2 (en) | 2016-11-14 | 2019-03-26 | Applied Materials, Inc. | Airgap formation with damage-free copper |
US10026621B2 (en) | 2016-11-14 | 2018-07-17 | Applied Materials, Inc. | SiN spacer profile patterning |
DE202016007609U1 (de) | 2016-12-15 | 2018-03-26 | Leybold Gmbh | Vakuumpumpsystem |
US10566206B2 (en) | 2016-12-27 | 2020-02-18 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for anisotropic material breakthrough |
US10403507B2 (en) | 2017-02-03 | 2019-09-03 | Applied Materials, Inc. | Shaped etch profile with oxidation |
US10431429B2 (en) | 2017-02-03 | 2019-10-01 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for radial and azimuthal control of plasma uniformity |
US10043684B1 (en) | 2017-02-06 | 2018-08-07 | Applied Materials, Inc. | Self-limiting atomic thermal etching systems and methods |
US10319739B2 (en) | 2017-02-08 | 2019-06-11 | Applied Materials, Inc. | Accommodating imperfectly aligned memory holes |
US10943834B2 (en) | 2017-03-13 | 2021-03-09 | Applied Materials, Inc. | Replacement contact process |
US10319649B2 (en) | 2017-04-11 | 2019-06-11 | Applied Materials, Inc. | Optical emission spectroscopy (OES) for remote plasma monitoring |
JP2018178846A (ja) * | 2017-04-12 | 2018-11-15 | 株式会社荏原製作所 | 真空ポンプ装置の運転制御装置、及び運転制御方法 |
US11276590B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-03-15 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone semiconductor substrate supports |
US11276559B2 (en) | 2017-05-17 | 2022-03-15 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing chamber for multiple precursor flow |
US10049891B1 (en) | 2017-05-31 | 2018-08-14 | Applied Materials, Inc. | Selective in situ cobalt residue removal |
US10497579B2 (en) | 2017-05-31 | 2019-12-03 | Applied Materials, Inc. | Water-free etching methods |
FR3067069B1 (fr) * | 2017-06-06 | 2019-08-02 | Pfeiffer Vacuum | Procede de surveillance d'un etat de fonctionnement d'un dispositif de pompage |
US10920320B2 (en) | 2017-06-16 | 2021-02-16 | Applied Materials, Inc. | Plasma health determination in semiconductor substrate processing reactors |
US10541246B2 (en) | 2017-06-26 | 2020-01-21 | Applied Materials, Inc. | 3D flash memory cells which discourage cross-cell electrical tunneling |
US10727080B2 (en) | 2017-07-07 | 2020-07-28 | Applied Materials, Inc. | Tantalum-containing material removal |
US10541184B2 (en) | 2017-07-11 | 2020-01-21 | Applied Materials, Inc. | Optical emission spectroscopic techniques for monitoring etching |
US10354889B2 (en) | 2017-07-17 | 2019-07-16 | Applied Materials, Inc. | Non-halogen etching of silicon-containing materials |
US10170336B1 (en) | 2017-08-04 | 2019-01-01 | Applied Materials, Inc. | Methods for anisotropic control of selective silicon removal |
US10043674B1 (en) | 2017-08-04 | 2018-08-07 | Applied Materials, Inc. | Germanium etching systems and methods |
US10297458B2 (en) | 2017-08-07 | 2019-05-21 | Applied Materials, Inc. | Process window widening using coated parts in plasma etch processes |
US10283324B1 (en) | 2017-10-24 | 2019-05-07 | Applied Materials, Inc. | Oxygen treatment for nitride etching |
US10128086B1 (en) | 2017-10-24 | 2018-11-13 | Applied Materials, Inc. | Silicon pretreatment for nitride removal |
US10256112B1 (en) | 2017-12-08 | 2019-04-09 | Applied Materials, Inc. | Selective tungsten removal |
EP3499039B1 (de) * | 2017-12-15 | 2021-03-31 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Schraubenvakuumpumpe |
US10903054B2 (en) | 2017-12-19 | 2021-01-26 | Applied Materials, Inc. | Multi-zone gas distribution systems and methods |
US11328909B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-05-10 | Applied Materials, Inc. | Chamber conditioning and removal processes |
US10854426B2 (en) | 2018-01-08 | 2020-12-01 | Applied Materials, Inc. | Metal recess for semiconductor structures |
US10964512B2 (en) | 2018-02-15 | 2021-03-30 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus and methods |
US10679870B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-06-09 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus |
TWI716818B (zh) | 2018-02-28 | 2021-01-21 | 美商應用材料股份有限公司 | 形成氣隙的系統及方法 |
US10593560B2 (en) | 2018-03-01 | 2020-03-17 | Applied Materials, Inc. | Magnetic induction plasma source for semiconductor processes and equipment |
US10319600B1 (en) | 2018-03-12 | 2019-06-11 | Applied Materials, Inc. | Thermal silicon etch |
US10497573B2 (en) | 2018-03-13 | 2019-12-03 | Applied Materials, Inc. | Selective atomic layer etching of semiconductor materials |
US10573527B2 (en) | 2018-04-06 | 2020-02-25 | Applied Materials, Inc. | Gas-phase selective etching systems and methods |
US10490406B2 (en) | 2018-04-10 | 2019-11-26 | Appled Materials, Inc. | Systems and methods for material breakthrough |
US10699879B2 (en) | 2018-04-17 | 2020-06-30 | Applied Materials, Inc. | Two piece electrode assembly with gap for plasma control |
US10886137B2 (en) | 2018-04-30 | 2021-01-05 | Applied Materials, Inc. | Selective nitride removal |
US10872778B2 (en) | 2018-07-06 | 2020-12-22 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods utilizing solid-phase etchants |
US10755941B2 (en) | 2018-07-06 | 2020-08-25 | Applied Materials, Inc. | Self-limiting selective etching systems and methods |
US10672642B2 (en) | 2018-07-24 | 2020-06-02 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for pedestal configuration |
US10892198B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-01-12 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for improved performance in semiconductor processing |
US11049755B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor substrate supports with embedded RF shield |
US11062887B2 (en) | 2018-09-17 | 2021-07-13 | Applied Materials, Inc. | High temperature RF heater pedestals |
US11417534B2 (en) | 2018-09-21 | 2022-08-16 | Applied Materials, Inc. | Selective material removal |
US11682560B2 (en) | 2018-10-11 | 2023-06-20 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for hafnium-containing film removal |
FR3087504B1 (fr) * | 2018-10-17 | 2020-10-30 | Pfeiffer Vacuum | Procede de controle de la temperature d’une pompe a vide, pompe a vide et installation associees |
US11121002B2 (en) | 2018-10-24 | 2021-09-14 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for etching metals and metal derivatives |
US11437242B2 (en) | 2018-11-27 | 2022-09-06 | Applied Materials, Inc. | Selective removal of silicon-containing materials |
US11721527B2 (en) | 2019-01-07 | 2023-08-08 | Applied Materials, Inc. | Processing chamber mixing systems |
US10920319B2 (en) | 2019-01-11 | 2021-02-16 | Applied Materials, Inc. | Ceramic showerheads with conductive electrodes |
CN111029319B (zh) * | 2019-11-19 | 2021-09-17 | 西安西整熔断器有限公司 | 一种电触发晶闸管换流阀及其使用方法 |
GB2592573A (en) * | 2019-12-19 | 2021-09-08 | Leybold France S A S | Lubricant-sealed vacuum pump, lubricant filter and method. |
US11668304B2 (en) | 2020-02-27 | 2023-06-06 | Gardner Denver, Inc. | Low coefficient of expansion rotors for vacuum boosters |
US11746782B2 (en) * | 2020-04-03 | 2023-09-05 | Gardner Denver, Inc. | Low coefficient of expansion rotors for blowers |
Family Cites Families (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5863088A (ja) | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Ebara Corp | 揚水ポンプ系における保護装置 |
JPS63283492A (ja) | 1987-05-15 | 1988-11-21 | Mitsubishi Electric Corp | 圧縮機用電動機の制御装置 |
JPS6419198U (ru) | 1987-07-24 | 1989-01-31 | ||
US5141402A (en) * | 1991-01-29 | 1992-08-25 | Vickers, Incorporated | Power transmission |
IT1270767B (it) * | 1993-03-18 | 1997-05-07 | Cartigliano Spa Off | Impianto a vuoto per esseccatoi di pelli industriali a pianali multipli ed essiccatoio incorporante tale impianto |
KR100344716B1 (ko) | 1993-09-20 | 2002-11-23 | 가부시키 가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 펌프의운전제어장치 |
DE4421065A1 (de) | 1994-06-16 | 1995-12-21 | Raytek Sensorik Gmbh | Vorrichtung zur Temperaturmessung |
JP3847357B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2006-11-22 | 株式会社荏原製作所 | 真空系の排気装置 |
US5618167A (en) | 1994-07-28 | 1997-04-08 | Ebara Corporation | Vacuum pump apparatus having peltier elements for cooling the motor & bearing housing and heating the outer housing |
US5624239A (en) * | 1994-12-14 | 1997-04-29 | Osika; Thomas W. | Portable pneumatic vacuum source apparatus and method |
JP3125207B2 (ja) | 1995-07-07 | 2001-01-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
KR100225422B1 (ko) * | 1995-12-19 | 1999-10-15 | 세구치 류이치 | 제어장치의 출력보정방법과 이를 사용한 제어장치 및 유압펌프 제어장치 |
US6158965A (en) | 1996-07-30 | 2000-12-12 | Alaris Medical Systems, Inc. | Fluid flow resistance monitoring system |
JP3767052B2 (ja) | 1996-11-30 | 2006-04-19 | アイシン精機株式会社 | 多段式真空ポンプ |
JP3057486B2 (ja) | 1997-01-22 | 2000-06-26 | セイコー精機株式会社 | ターボ分子ポンプ |
US5944049A (en) * | 1997-07-15 | 1999-08-31 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for regulating a pressure in a chamber |
US6123522A (en) | 1997-07-22 | 2000-09-26 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Turbo molecular pump |
JPH1137087A (ja) | 1997-07-24 | 1999-02-09 | Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk | 分子ポンプ |
JPH11132186A (ja) | 1997-10-29 | 1999-05-18 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
JP2000110735A (ja) * | 1998-10-01 | 2000-04-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ポンプ保護装置、ポンプ保護方法及びポンプ装置 |
US6695589B1 (en) * | 1999-03-26 | 2004-02-24 | General Motors Corporation | Control for an electric motor driven pump |
US6257001B1 (en) | 1999-08-24 | 2001-07-10 | Lucent Technologies, Inc. | Cryogenic vacuum pump temperature sensor |
FR2801645B1 (fr) * | 1999-11-30 | 2005-09-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Dispositif d'entrainement d'un compresseur lineaire, support et ensemble d'informations |
JP2002048088A (ja) | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Seiko Instruments Inc | 真空ポンプ |
US7143016B1 (en) * | 2001-03-02 | 2006-11-28 | Rockwell Automation Technologies, Inc. | System and method for dynamic multi-objective optimization of pumping system operation and diagnostics |
DE10113251A1 (de) | 2001-03-19 | 2002-10-02 | Siemens Ag | Druckerzeuger für strömende Medien |
DE10114969A1 (de) | 2001-03-27 | 2002-10-10 | Leybold Vakuum Gmbh | Turbomolekularpumpe |
KR100408068B1 (ko) * | 2001-07-31 | 2003-12-03 | 엘지전자 주식회사 | 왕복동식 압축기의 스트로크 제어장치 및 방법 |
JP4156830B2 (ja) | 2001-12-13 | 2008-09-24 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
JP2003287463A (ja) | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Boc Edwards Technologies Ltd | 放射温度測定装置及び該放射温度測定装置を搭載したターボ分子ポンプ |
US6739840B2 (en) | 2002-05-22 | 2004-05-25 | Applied Materials Inc | Speed control of variable speed pump |
JP2004116319A (ja) | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Boc Edwards Technologies Ltd | 真空ポンプ |
JP3967245B2 (ja) | 2002-09-30 | 2007-08-29 | 株式会社東芝 | 回転機の寿命予測方法及び回転機を有する製造装置 |
GB0223769D0 (en) | 2002-10-14 | 2002-11-20 | Boc Group Plc | A pump |
JP3923422B2 (ja) * | 2002-12-11 | 2007-05-30 | 株式会社日立産機システム | スクリュー圧縮機 |
JP2004197644A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Toyota Industries Corp | 真空ポンプの制御装置 |
ITTO20030392A1 (it) * | 2003-05-28 | 2004-11-29 | Varian Spa | Sistema di pompaggio per vuoto. |
JP4218756B2 (ja) | 2003-10-17 | 2009-02-04 | 株式会社荏原製作所 | 真空排気装置 |
JP4558349B2 (ja) * | 2004-03-02 | 2010-10-06 | 財団法人国際科学振興財団 | 真空ポンプ |
JP2005320905A (ja) | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Boc Edwards Kk | 真空ポンプ |
GB0502149D0 (en) | 2005-02-02 | 2005-03-09 | Boc Group Inc | Method of operating a pumping system |
GB0508872D0 (en) | 2005-04-29 | 2005-06-08 | Boc Group Plc | Method of operating a pumping system |
JP5045894B2 (ja) | 2006-05-09 | 2012-10-10 | 株式会社島津製作所 | 磁気軸受装置 |
-
2005
- 2005-02-02 GB GB0502149A patent/GB0502149D0/en not_active Ceased
-
2006
- 2006-01-23 US US11/883,616 patent/US9062684B2/en active Active
- 2006-01-23 WO PCT/GB2006/000221 patent/WO2006082366A1/en active Application Filing
- 2006-01-23 RU RU2007132873A patent/RU2421632C2/ru active
- 2006-01-23 CN CN2006800092505A patent/CN101184921B/zh active Active
- 2006-01-23 KR KR20077017769A patent/KR101394718B1/ko active IP Right Grant
- 2006-01-23 JP JP2007553680A patent/JP5189842B2/ja active Active
- 2006-01-23 EP EP06701044.7A patent/EP1844237B1/en active Active
- 2006-01-27 TW TW095103593A patent/TWI372209B/zh active
-
2014
- 2014-12-12 US US14/569,170 patent/US9903378B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5189842B2 (ja) | 2013-04-24 |
KR101394718B1 (ko) | 2014-05-15 |
WO2006082366A8 (en) | 2007-11-08 |
US9062684B2 (en) | 2015-06-23 |
TWI372209B (en) | 2012-09-11 |
CN101184921B (zh) | 2010-05-26 |
JP2008529472A (ja) | 2008-07-31 |
GB0502149D0 (en) | 2005-03-09 |
KR20070099635A (ko) | 2007-10-09 |
EP1844237A1 (en) | 2007-10-17 |
RU2421632C2 (ru) | 2011-06-20 |
TW200632221A (en) | 2006-09-16 |
US20100047080A1 (en) | 2010-02-25 |
US20150125312A1 (en) | 2015-05-07 |
US9903378B2 (en) | 2018-02-27 |
WO2006082366A1 (en) | 2006-08-10 |
CN101184921A (zh) | 2008-05-21 |
EP1844237B1 (en) | 2015-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2007132873A (ru) | Способ работы насосной системы | |
JP2008529472A5 (ru) | ||
KR100726203B1 (ko) | 복수 개의 압축기를 포함하는 압축 공기 장치를 제어하기 위한 방법, 이 방법에 사용되는 제어 박스 및 이 방법을 사용하는 압축 공기 장치 | |
JP4248077B2 (ja) | 圧縮機装置 | |
JP5651196B2 (ja) | 容積式ポンプの動作制御装置、ポンプシステム、およびこれらの作動方法 | |
JP2012522182A5 (ru) | ||
EP3245404B1 (en) | Method for controlling a gas supply to a vacuum pump | |
JP2016539277A5 (ru) | ||
JP2015501733A (ja) | 機械工具のための冷却システム | |
JP4675774B2 (ja) | 空気圧縮機 | |
CN100439722C (zh) | 液压控制装置和液压控制方法 | |
EP1726464A3 (en) | Self-learning control system and method for controlling fan speed | |
EP2827971B1 (en) | Method and device for separating gases | |
JP2005061298A (ja) | 建設機械 | |
KR200389969Y1 (ko) | 인버터 이동방식의 부스터펌프 시스템 | |
CN102840139A (zh) | 蒸汽驱动式压缩装置 | |
KR20060013684A (ko) | 전력 조종 장치의 전자 펌프 구동 모터를 제어하는 방법 | |
US20140005802A1 (en) | Process control apparatus & method | |
KR100624790B1 (ko) | 유니터리 에어컨 | |
JP6619053B2 (ja) | インバータ駆動油圧ユニット | |
JPH0571310A (ja) | 蒸気供給装置の圧力制御方法 | |
KR20100071527A (ko) | 비상조향/전기조향 통합 펌프를 이용한 휠로더의 조향 장치 | |
JP2020502410A (ja) | 真空ポンプシステム、及び真空ポンプシステムを作動させるための方法 | |
JP4813685B2 (ja) | ポンプ装置及びその能力制御方法 | |
EP4321959A1 (en) | A flow control system for a system of valves connected to a splitter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD4A | Correction of name of patent owner |