JPH1137087A - 分子ポンプ - Google Patents
分子ポンプInfo
- Publication number
- JPH1137087A JPH1137087A JP9214187A JP21418797A JPH1137087A JP H1137087 A JPH1137087 A JP H1137087A JP 9214187 A JP9214187 A JP 9214187A JP 21418797 A JP21418797 A JP 21418797A JP H1137087 A JPH1137087 A JP H1137087A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor
- temperature
- molecular pump
- radiant heat
- control device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
- F04D27/001—Testing thereof; Determination or simulation of flow characteristics; Stall or surge detection, e.g. condition monitoring
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ロータのクリープ破壊を未然に防ぐ機能を持
った、特に大きな熱負荷を受ける用途に好適な分子ポン
プを提供する。 【解決手段】 ロータ４に輻射熱発生面８ａを設け、ハ
ウジング５には輻射熱吸収面８ｂを有する温度検出手段
６を設置すると共に前記輻射熱発生面８ａ及び輻射熱吸
収面８ｂには黒化処理を施し、更に該温度検出手段６の
温度センサー６ｂの温度情報を制御装置に出力するよう
にした。
った、特に大きな熱負荷を受ける用途に好適な分子ポン
プを提供する。 【解決手段】 ロータ４に輻射熱発生面８ａを設け、ハ
ウジング５には輻射熱吸収面８ｂを有する温度検出手段
６を設置すると共に前記輻射熱発生面８ａ及び輻射熱吸
収面８ｂには黒化処理を施し、更に該温度検出手段６の
温度センサー６ｂの温度情報を制御装置に出力するよう
にした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は薄膜製造装置等に必
要な高真空を発生させる分子ポンプ、特に大きな熱負荷
を受ける用途に好適な分子ポンプに関する。
要な高真空を発生させる分子ポンプ、特に大きな熱負荷
を受ける用途に好適な分子ポンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】分子ポンプにはターボ分子ポンプ、ねじ
溝真空ポンプ及びこれら両者を組合わせた複合分子ポン
プが知られている。
溝真空ポンプ及びこれら両者を組合わせた複合分子ポン
プが知られている。
【０００３】これらはアルミ合金製のロータが高速度で
回転し、プロセスガス等の排気を行なう。
回転し、プロセスガス等の排気を行なう。
【０００４】近年の薄膜製造装置においては、半導体ウ
エハサイズ、ＬＣＤ用ガラス基板サイズの大型化に伴
い、ＳＦ6等の分子量の大きいプロセスガスを大量に排
気する必要があり、このようなガス負荷の増大のため、
分子ポンプのロータが常に１２０℃を超える温度で運転
されていることが多い。
エハサイズ、ＬＣＤ用ガラス基板サイズの大型化に伴
い、ＳＦ6等の分子量の大きいプロセスガスを大量に排
気する必要があり、このようなガス負荷の増大のため、
分子ポンプのロータが常に１２０℃を超える温度で運転
されていることが多い。
【０００５】この様な高温下では、アルミ合金製のロー
タはクリープを発生して寿命が縮まり、破壊にいたる可
能性がある。
タはクリープを発生して寿命が縮まり、破壊にいたる可
能性がある。
【０００６】しかし、従来はロータ温度を積極的に検出
して、クリープによるロータ破壊を未然に防ぐ機能を具
備した分子ポンプは無かった。
して、クリープによるロータ破壊を未然に防ぐ機能を具
備した分子ポンプは無かった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの問題
点を解消し、ロータのクリープ破壊を未然に防ぐ機能を
持った分子ポンプを提供することを目的とする。
点を解消し、ロータのクリープ破壊を未然に防ぐ機能を
持った分子ポンプを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目標を達
成すべく、ロータの表面に、該ロータの温度に応じて輻
射熱を発生する輻射熱発生面を設けると共に、ハウジン
グには該輻射熱発生面に近接対向して配置された輻射熱
吸収面を有する温度検出手段を設置したことを特徴とす
る。
成すべく、ロータの表面に、該ロータの温度に応じて輻
射熱を発生する輻射熱発生面を設けると共に、ハウジン
グには該輻射熱発生面に近接対向して配置された輻射熱
吸収面を有する温度検出手段を設置したことを特徴とす
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の１実施の形態を図１乃至
図４により説明する。
図４により説明する。
【００１０】図１は本発明を適用した複合分子ポンプ１
の半截断面図、図２は図１の１部詳細図を示す。
の半截断面図、図２は図１の１部詳細図を示す。
【００１１】即ち、複合分子ポンプ１はターボ分子ポン
プ部２及びねじ溝真空ポンプ部３からなり、ロータ４が
高速回転をすることによってＡよりプロセスガスを吸気
し、Ｂへ排気している。
プ部２及びねじ溝真空ポンプ部３からなり、ロータ４が
高速回転をすることによってＡよりプロセスガスを吸気
し、Ｂへ排気している。
【００１２】該ロータ４は軸４ａに結合され、磁気軸受
５ａ等を介してハウジング５に回転自在に軸着されてい
る。
５ａ等を介してハウジング５に回転自在に軸着されてい
る。
【００１３】尚、５ｂは軸４ａを駆動するモータであ
る。
る。
【００１４】該ロータ４のボス部の外周には輻射熱発生
面８ａが設けてある。
面８ａが設けてある。
【００１５】６は温度検出手段を示し、該温度検出手段
６は短円筒状又は円弧状で鍔部を有し熱良導材からなる
伝熱体６ａと該伝熱体６ａの外周に固定した温度センサ
ー６ｂとからなり、該伝熱体６ａの内面には、前記輻射
熱発生面８ａに近接対向した輻射熱吸収面８ｂを有す
る。前記伝熱体６ａは断熱材６ｃ、第１ブラケット７ａ
及び第２ブラケット７ｂ等を介して前記ハウジング５に
係着されている。
６は短円筒状又は円弧状で鍔部を有し熱良導材からなる
伝熱体６ａと該伝熱体６ａの外周に固定した温度センサ
ー６ｂとからなり、該伝熱体６ａの内面には、前記輻射
熱発生面８ａに近接対向した輻射熱吸収面８ｂを有す
る。前記伝熱体６ａは断熱材６ｃ、第１ブラケット７ａ
及び第２ブラケット７ｂ等を介して前記ハウジング５に
係着されている。
【００１６】尚、６ｄは取付け用ボルト、６ｅは断熱材
である。
である。
【００１７】又、前記輻射熱発生面８ａ及び輻射熱吸収
面８ｂには黒化処理を施して、これら両面の輻射能を高
めるように形成されている。
面８ｂには黒化処理を施して、これら両面の輻射能を高
めるように形成されている。
【００１８】更に又、前記温度センサー６ｂは熱電対又
はサーミスタからなり、該温度センサー６ｂはリード線
９ａ等を介して複合分子ポンプ１の制御装置に接続され
ており、又軸４ａにロータ４の回転速度を検出する回転
速度センサーが取付けられており、該回転速度センサー
もリード線等を介して前記制御装置に接続されている。
はサーミスタからなり、該温度センサー６ｂはリード線
９ａ等を介して複合分子ポンプ１の制御装置に接続され
ており、又軸４ａにロータ４の回転速度を検出する回転
速度センサーが取付けられており、該回転速度センサー
もリード線等を介して前記制御装置に接続されている。
【００１９】ここで該制御装置において、ロータ４の温
度とロータ４の回転速度との相互関係座標が図３のａ線
で示す曲線座標を超えた場合、ロータ４の回転速度を低
下させる制御機能をしている。
度とロータ４の回転速度との相互関係座標が図３のａ線
で示す曲線座標を超えた場合、ロータ４の回転速度を低
下させる制御機能をしている。
【００２０】ここで該ａ線は、例えばロータ４の材料で
あるアルミ合金が、１０5時間の運転で０．１％のクリ
ープを生じるロータ温度とロータ回転速度との関係を示
す曲線座標である。
あるアルミ合金が、１０5時間の運転で０．１％のクリ
ープを生じるロータ温度とロータ回転速度との関係を示
す曲線座標である。
【００２１】又、該制御装置において、ロータ４の温度
と運転時間との関係を積分する演算回路を備えており、
図４に示すように、ロータ４の温度Ｔが設定値ｂを超え
る差分を運転時間に応じて積算し、その値がクリープに
よる運転寿命の例えば９０％に達した場合、オーバホー
ルが必要であることを示す警告信号を発する機能も有し
ている。
と運転時間との関係を積分する演算回路を備えており、
図４に示すように、ロータ４の温度Ｔが設定値ｂを超え
る差分を運転時間に応じて積算し、その値がクリープに
よる運転寿命の例えば９０％に達した場合、オーバホー
ルが必要であることを示す警告信号を発する機能も有し
ている。
【００２２】次に本実施の形態の作動について説明す
る。
る。
【００２３】複合分子ポンプ１の運転中、伝熱体６ａは
輻射熱吸収面８ｂと共にロータ４の輻射熱発生面８ａか
らの輻射熱伝達により昇温する。該伝熱体６ａは、断熱
材６ｃ、６ｅ等を介してハウジング５に係着してあるの
で、該ロータ４との略同程度の温度に維持されている。
このため温度センサー６ｂは常にロータ４の温度情報を
間接的に検出して、前記制御装置に出力している。
輻射熱吸収面８ｂと共にロータ４の輻射熱発生面８ａか
らの輻射熱伝達により昇温する。該伝熱体６ａは、断熱
材６ｃ、６ｅ等を介してハウジング５に係着してあるの
で、該ロータ４との略同程度の温度に維持されている。
このため温度センサー６ｂは常にロータ４の温度情報を
間接的に検出して、前記制御装置に出力している。
【００２４】そして該制御装置において、ロータ４が
０．１％クリープを生ずる前記ロータ温度とロータ回転
速度との相互関係を示す曲線座標ａを超えた場合には直
ちに該ロータ４の回転速度を低下させ、又は停止させる
ように制御する。
０．１％クリープを生ずる前記ロータ温度とロータ回転
速度との相互関係を示す曲線座標ａを超えた場合には直
ちに該ロータ４の回転速度を低下させ、又は停止させる
ように制御する。
【００２５】更に又、該制御装置では、前記積分回路に
より経時的にロータ４のクリープ寿命を常にモニターし
ているので、安全である。
より経時的にロータ４のクリープ寿命を常にモニターし
ているので、安全である。
【００２６】本発明の温度検出手段６は、停止している
ハウジング５に設置されていて、しかも回転するロータ
４の温度を素早く正確にモニターできるので、従来のス
リップリング式の温度伝達手段やＦＭテレメーターによ
る温度伝達手段と比較すると、簡単で確実である利点を
有している。
ハウジング５に設置されていて、しかも回転するロータ
４の温度を素早く正確にモニターできるので、従来のス
リップリング式の温度伝達手段やＦＭテレメーターによ
る温度伝達手段と比較すると、簡単で確実である利点を
有している。
【００２７】尚、本実施の形態では、輻射熱発生面８ａ
をロータ４のボス部の外周に設けたが、ボス部の外周の
代りにロータ４の他の部分に設けるようにしてもよい。
をロータ４のボス部の外周に設けたが、ボス部の外周の
代りにロータ４の他の部分に設けるようにしてもよい。
【００２７】
【発明の効果】このように本発明によれば、ロータの温
度を常にモニターして、ロータのクリープ破壊を未然に
防ぐ機能を持った分子ポンプを提供することができる。
度を常にモニターして、ロータのクリープ破壊を未然に
防ぐ機能を持った分子ポンプを提供することができる。
【図１】本発明の複合分子ポンプの半截断面図である。
【図２】同上の１部詳細図である。
【図３】ロータの温度と回転速度との関係を示すグラフ
である。
である。
【図４】ロータの温度と運転時間との関係を示すグラフ
である。
である。
１ 複合分子ポンプ ４ ロータ ５ ハウジング ６ 温度検出手段 6a 伝熱体 6b 温度センサー 6c、6e 断熱材 8a 輻射熱発生面 8b 輻射熱吸収面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金戸 成 大阪府大阪市中央区北浜３−２−25 株式 会社大阪真空機器製作所内
Claims (8)
- 【請求項１】 ロータの表面に、該ロータの温度に応じ
て輻射熱を発生する輻射熱発生面を設けると共に、ハウ
ジングには該輻射熱発生面に近接対向して配置された輻
射熱吸収面を有する温度検出手段を設置したことを特徴
とする分子ポンプ。 - 【請求項２】 前記温度検出手段は内面に前記輻射熱吸
収面を有する伝熱体と、該伝熱体に固定した温度センサ
ーとからなることを特徴とする請求項１に記載の分子ポ
ンプ。 - 【請求項３】 前記伝熱体は断熱材を介して前記ハウジ
ングに設置されていることを特徴とする請求項２に記載
の分子ポンプ。 - 【請求項４】 前記温度センサーは、熱電対又はサーミ
スタからなることを特徴とする請求項２に記載の分子ポ
ンプ。 - 【請求項５】 前記輻射熱発生面と前記輻射熱吸収面に
は各々黒化処理又は輻射能の高い材料によるコーティン
グを施してあることを特徴とする請求項１に記載の分子
ポンプ。 - 【請求項６】 前記温度センサーとロータの回転速度セ
ンサーが制御装置に接続されていることを特徴とする請
求項２又は請求項４に記載の分子ポンプ。 - 【請求項７】 前記制御装置は、ロータ温度とロータ回
転速度との相互関係座標が所定の曲線座標を越えたとき
に、前記ロータの回転速度を低下させる制御機能を有す
ることを特徴とする請求項６に記載の分子ポンプ。 - 【請求項８】 前記制御装置はロータの温度が所定温度
を越えている個所の差分をロータの運転時間に応じて積
分する積分回路を具備しており、該積分回路の積分値が
所定基準値を超えた場合にはオーバホールが必要である
ことを示す警告信号を発する制御機能を有することを特
徴とする請求項６に記載の分子ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9214187A JPH1137087A (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 分子ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9214187A JPH1137087A (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 分子ポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1137087A true JPH1137087A (ja) | 1999-02-09 |
Family
ID=16651688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9214187A Pending JPH1137087A (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 分子ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1137087A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1172097A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Kashiyama Kogyo Kk | 高真空ポンプ |
| JP2008019740A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
| WO2010021307A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
| US8753095B2 (en) | 2005-04-29 | 2014-06-17 | Edwards Limited | Pumping system and method of operation |
| US9062684B2 (en) | 2005-02-02 | 2015-06-23 | Edwards Limited | Method of operating a pumping system |
| CN105443404A (zh) * | 2014-09-24 | 2016-03-30 | 株式会社岛津制作所 | 涡轮分子泵 |
| WO2018164013A1 (ja) | 2017-03-10 | 2018-09-13 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプの排気システム、真空ポンプの排気システムに備わる真空ポンプ、パージガス供給装置、温度センサユニット、および真空ポンプの排気方法 |
| WO2020004055A1 (ja) | 2018-06-27 | 2020-01-02 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、ステータコラム、ベースおよび真空ポンプの排気システム |
| JP2021017887A (ja) * | 2019-07-17 | 2021-02-15 | プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー | 真空ポンプのロータの回転数制御 |
-
1997
- 1997-07-24 JP JP9214187A patent/JPH1137087A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1172097A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Kashiyama Kogyo Kk | 高真空ポンプ |
| US9903378B2 (en) | 2005-02-02 | 2018-02-27 | Edwards Limited | Method of operating a pumping system |
| US9062684B2 (en) | 2005-02-02 | 2015-06-23 | Edwards Limited | Method of operating a pumping system |
| US8753095B2 (en) | 2005-04-29 | 2014-06-17 | Edwards Limited | Pumping system and method of operation |
| JP2008019740A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
| WO2010021307A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
| JPWO2010021307A1 (ja) * | 2008-08-19 | 2012-01-26 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ |
| CN105443404A (zh) * | 2014-09-24 | 2016-03-30 | 株式会社岛津制作所 | 涡轮分子泵 |
| CN105443404B (zh) * | 2014-09-24 | 2018-04-17 | 株式会社岛津制作所 | 涡轮分子泵 |
| WO2018164013A1 (ja) | 2017-03-10 | 2018-09-13 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプの排気システム、真空ポンプの排気システムに備わる真空ポンプ、パージガス供給装置、温度センサユニット、および真空ポンプの排気方法 |
| KR20190120236A (ko) | 2017-03-10 | 2019-10-23 | 에드워즈 가부시키가이샤 | 진공 펌프의 배기 시스템, 진공 펌프의 배기 시스템에 구비되는 진공 펌프, 퍼지 가스 공급 장치, 온도 센서 유닛, 및 진공 펌프의 배기 방법 |
| US11391283B2 (en) | 2017-03-10 | 2022-07-19 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump exhaust system, vacuum pump provided for vacuum pump exhaust system, purge gas supply unit, temperature sensor unit, and exhausting method of vacuum pump |
| WO2020004055A1 (ja) | 2018-06-27 | 2020-01-02 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ、ステータコラム、ベースおよび真空ポンプの排気システム |
| US11428237B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-08-30 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump, stator column, base, and exhaust system of vacuum pump |
| JP2021017887A (ja) * | 2019-07-17 | 2021-02-15 | プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー | 真空ポンプのロータの回転数制御 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040721 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061110 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061204 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070125 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070209 |