RU2012157535A

RU2012157535A - Композиция для нанесения металлического покрытия посредством электролитического осаждения, содержащая выравнивающий агент

Info

Publication number: RU2012157535A
Application number: RU2012157535/05A
Authority: RU
Inventors: Михаэль ЗИМЕР; Корнэлиа РЕГЕР-ГЕПФЕРТ; Николь МАЙЕР; Роман Бенедикт РЭТЭР; Марко АРНОЛЬД; Шарлотте ЭМНЕТ; Дитер Майер; Александер ФЛЮГЕЛЬ
Original assignee: Басф Се
Priority date: 2010-06-01
Filing date: 2011-05-31
Publication date: 2014-07-20
Also published as: CN102939339A; EP2576696A1; RU2603675C2; JP2013527325A; EP2576696B1; KR20180094140A; IL223183A0; US20130068626A1; KR20130112018A; SG185736A1; KR101829866B1; EP2576696A4; TWI539036B; KR101891473B1; CN102939339B; WO2011151785A1; US9683302B2; TW201211321A; MY164464A; SG10201504251WA

Abstract

1. Композиция, содержащая источник ионов меди и по меньшей мере одну добавку, содержащую линейное или разветвленное полимерное соединение имидазолия, содержащее структурную единицы формулы L1,где R, R, Rкаждый независимо выбирается из атома водорода (Н) и органического радикала, имеющего от 1 до 20 атомов углерода,Rпредставляет собой двухвалентных, трехвалентных или мультивалентный органический радикал, который не содержит гидроксильную группу в α или β положении относительно атома азота имидазольных колец.n представляет собой целое число.2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что Rи Rпредставляют собой атомы водорода.3. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что Rпредставляет собой атом водорода.4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что Rпредставляет собой замещенный или незамещенный C2-C20 алкандиил.5. Композиция по п.4, отличающаяся тем, что Rне содержит гидроксильных групп.6. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна добавка содержит противоион Y, где о представляет собой целое число.7. Композиция по п.6, отличающаяся тем, что противоионом Yявляется хлорид, сульфат или ацетат.8. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что среднечисловая молекулярная масса Mполимерного соединения имидазолия, определенная с помощью гельпроникающей хроматографии, больше 500 г/моль.9. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что полимерное соединение имидазолия содержит более 80 мас.% структурных единиц формулы L1.10. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что добавку получают путем реакции- α-дикарбонильного соединения R-CO-CO-R,- альдегида R-CHO,- по меньшей мере одного аминосоединения (NH-)R- протонной кислоты (H)Y,где R, R, R, R, Y и o имеют ранее описанные зн�

Claims

1. Композиция, содержащая источник ионов меди и по меньшей мере одну добавку, содержащую линейное или разветвленное полимерное соединение имидазолия, содержащее структурную единицы формулы L1

,

где R¹, R², R³ каждый независимо выбирается из атома водорода (Н) и органического радикала, имеющего от 1 до 20 атомов углерода,

R⁴ представляет собой двухвалентных, трехвалентных или мультивалентный органический радикал, который не содержит гидроксильную группу в α или β положении относительно атома азота имидазольных колец.

n представляет собой целое число.

2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что R¹ и R² представляют собой атомы водорода.

3. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что R³ представляет собой атом водорода.

4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что R⁴ представляет собой замещенный или незамещенный C2-C20 алкандиил.

5. Композиция по п.4, отличающаяся тем, что R⁴ не содержит гидроксильных групп.

6. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна добавка содержит противоион Y^o-, где о представляет собой целое число.

7. Композиция по п.6, отличающаяся тем, что противоионом Y^o- является хлорид, сульфат или ацетат.

8. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что среднечисловая молекулярная масса M_n полимерного соединения имидазолия, определенная с помощью гельпроникающей хроматографии, больше 500 г/моль.

9. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что полимерное соединение имидазолия содержит более 80 мас.% структурных единиц формулы L1.

10. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что добавку получают путем реакции

- α-дикарбонильного соединения R¹-CO-CO-R²,

- альдегида R³-CHO,

- по меньшей мере одного аминосоединения (NH₂-)_mR⁴

- протонной кислоты (H⁺)_oY^o-,

где R¹, R², R³, R⁴, Y и o имеют ранее описанные значения.

11. Композиция по п.10, отличающаяся тем, что аминосоединением является алифатический или ароматический диамин, триамин, мультиамин или их смеси.

12. Композиция по любому из пп.1-11, дополнительно содержащая один или более ускоряющих агентов.

13. Композиция по любому из пп.1-11, дополнительно содержащая один или более подавляющих агентов.

14. Применение добавки, как определено в любом из пп.1-13, в электролитической ванне для осаждения содержащих металл слоев.

15. Способ осаждения металлического слоя на подложку путем:

a) контакта электролитической ванны для нанесения металлического покрытия, содержащей композицию по любому из пп.1-13, с подложкой, и

b) создания плотности тока в подложке в течение периода времени, достаточного для осаждения металлического слоя на подложку.

16. Способ по п.15, отличающийся тем, что подложка содержит элементы поверхности микрометрового или субмикрометрового размера, и осаждение осуществляется с заполнением элементов поверхности микрометрового или субмикрометрового размера.

17. Способ по п.16, отличающийся тем, что элементы поверхности микрометрового или субмикрометрового размера имеют размер отверстия от 1 до 1000 нм и/или коэффициент пропорциональности 4 или более.