RU2012116532A - Способ получения слоев кубического оксида циркония - Google Patents
Способ получения слоев кубического оксида циркония Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012116532A RU2012116532A RU2012116532/02A RU2012116532A RU2012116532A RU 2012116532 A RU2012116532 A RU 2012116532A RU 2012116532/02 A RU2012116532/02 A RU 2012116532/02A RU 2012116532 A RU2012116532 A RU 2012116532A RU 2012116532 A RU2012116532 A RU 2012116532A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- cubic
- zirconium
- oxygen
- stabilizer
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0676—Oxynitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M8/00—Fuel cells; Manufacture thereof
- H01M8/10—Fuel cells with solid electrolytes
- H01M8/12—Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
- H01M8/124—Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the process of manufacturing or by the material of the electrolyte
- H01M8/1246—Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the process of manufacturing or by the material of the electrolyte the electrolyte consisting of oxides
- H01M8/1253—Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the process of manufacturing or by the material of the electrolyte the electrolyte consisting of oxides the electrolyte containing zirconium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
- C23C14/0042—Controlling partial pressure or flow rate of reactive or inert gases with feedback of measurements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3485—Sputtering using pulsed power to the target
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
1. Способ получения слоя на основе оксида циркония на покрываемой подложке, с использованием реактивного дугового распыления, с пульсирующим током искрового разряда и/или с приложением ортогонального искровой мишени магнитного поля, отличающийся тем, что используют смешанную мишень, включающую элементарный цирконий и по меньшей мере один стабилизатор.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что получают слой с кубической и/или тетрагональной кристаллической структурой.3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что выбирают парциальное давление кислорода выше 0,1 Па, предпочтительно по меньшей мере до 10 Па.4. Способ по п.1, отличающийся тем, что концентрационное соотношение оксида циркония и стабилизатора на слое по меньшей мере по существу задается концентрационным соотношением элементарного циркония и стабилизатора на смешанной мишени.5. Способ по п.1, отличающийся тем, что кубической и/или тетрагональной кристаллической структуры достигают выбором концентрации стабилизатора в смешанной мишени.6. Способ по п.1, отличающийся тем, что для формирования слоя с заданной морфологией применяют парциальное давление кислорода как по существу произвольный регулировочный параметр по меньшей мере в отношении создания кубической и/или тетрагональной кристаллической структуры.7. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакционный газ, помимо кислорода, включает азот.8. Способ получения слоя на основе оксида циркония на покрываемой подложке, с использованием реактивного дугового распыления, с пульсирующим током искрового разряда и/или с приложением ортогонального искровой мишени магнитного поля, отличающийся тем, что используют цир
Claims (28)
1. Способ получения слоя на основе оксида циркония на покрываемой подложке, с использованием реактивного дугового распыления, с пульсирующим током искрового разряда и/или с приложением ортогонального искровой мишени магнитного поля, отличающийся тем, что используют смешанную мишень, включающую элементарный цирконий и по меньшей мере один стабилизатор.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что получают слой с кубической и/или тетрагональной кристаллической структурой.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что выбирают парциальное давление кислорода выше 0,1 Па, предпочтительно по меньшей мере до 10 Па.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что концентрационное соотношение оксида циркония и стабилизатора на слое по меньшей мере по существу задается концентрационным соотношением элементарного циркония и стабилизатора на смешанной мишени.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что кубической и/или тетрагональной кристаллической структуры достигают выбором концентрации стабилизатора в смешанной мишени.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что для формирования слоя с заданной морфологией применяют парциальное давление кислорода как по существу произвольный регулировочный параметр по меньшей мере в отношении создания кубической и/или тетрагональной кристаллической структуры.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакционный газ, помимо кислорода, включает азот.
8. Способ получения слоя на основе оксида циркония на покрываемой подложке, с использованием реактивного дугового распыления, с пульсирующим током искрового разряда и/или с приложением ортогонального искровой мишени магнитного поля, отличающийся тем, что используют циркониевую мишень из элементарного циркония, и в качестве реакционного газа, помимо кислорода, применяют азот.
9. Способ по п.8, отличающийся тем, что получают слой с кубической и/или тетрагональной кристаллической структурой.
10. Способ по одному из пп. 8 или 9, отличающийся тем, что путем регулирования условий давления при дуговом распылении формируют слой, который содержит цирконий, кислород и азот, с кубической и/или тетрагональной кристаллической структурой.
11. Способ по п.8, отличающийся тем, что содержание кислорода устанавливают регулированием величины расхода потока газа, содержание азота устанавливают с помощью регулирования общего давления.
12. Способ по п.8, отличающийся тем, что слой на основе оксида циркония как слой чистого ZrO2 с кубической кристаллической структурой размещают на кристаллизованном с кубической структурой слое, содержащем цирконий, кислород и азот.
13. Способ по одному из пп.1 или 8 для получения слоя как слоя в пакете слоев.
14. Способ по одному из пп.1 или 8, отличающийся тем, что вариацией содержания кислорода/азота получают слой в виде многослойного покрытия.
15. Способ по одному из пп.1 или 8, отличающийся тем, что нанесение слоя происходит при температуре подложки между 200°С и 700°С.
16. Способ по одному из пп.1 или 8, отличающийся тем, что формирование кубической или тетрагональной фазы происходит далеко от состояния термического равновесия.
17. Способ по одному из пп.1 или 8, отличающийся тем, что в материал слоя внедряют оксиды иных металлов, нежели циркония.
18. Способ по одному из пп.1 или 8, причем покрываемая подложка имеет металлическую поверхность, отличающийся тем, что на металлическую поверхность наносят опорный слой, затем на опорный слой наносят слой, причем опорный слой предпочтительно состоит из иного металла, нежели Zr, нитрида или оксида, предпочтительно из ZrN.
19. Способ по одному из пп.1 или 8, отличающийся тем, что не используют никакого иного рабочего газа, такого как аргон.
20. Применение способа по п.12 для получения слоя, который может преобразовываться в моноклинную фазу, предпочтительно для приработки с пониженным трением.
21. Применение способа по одному из пп.1-19 для получения слоя твердого электролита в топливном элементе.
22. Применение способа по п.21, для которого действителен по меньшей мере один из следующих признаков:
• свободно выбирают стабилизатор;
• устанавливают по меньшей мере состав слоя, фазовый состав и морфологию слоя главным образом независимо друг от друга путем регулирования параметров процесса испарения;
• морфология слоя может быть установлена от стекловидной до столбчатой;
• слой твердого электролита получают без стабилизатора.
• слой получают с градиентом состава материала слоя по направлению размера его толщины, предпочтительно градиент от Zr к ZrN, к ZrO к ZrO2, с возможностью свободного выбора морфологии и фазы.
23. Применение способа по одному из пп.1-7, 13-19 для получения слоя в качестве ростовой подложки для YSZ.
24. Применение способа по одному из пп.1-19 для повышения ионного транспорта вдоль границ зерен, причем размер кристаллитов в слое предпочтительно устанавливают в нанометровом диапазоне.
25. Анод для источника дугового распыления, в частности для исполнения способа по одному из пп.1-19, в частности в вариантах его применения по одному из пп.20-24, включающий:
• корпус анода с анодной поверхностью,
• вдоль анодной поверхности нагревательную спираль, которая электрически изолирована от корпуса анода,
• электрически изолированные от корпуса анода контакты для подключения нагревательной спирали.
26. Анод по п.25, отличающийся тем, что корпус анода формируют из листового материала.
27. Способ эксплуатации установки для дугового распыления с анодом по п.25 или 26, отличающийся тем, что анодную поверхность, по меньшей мере для частичной очистки от мешающего наслоения, подвергают воздействию переменных температур путем включения/выключения нагревательной спирали, в результате чего анодная поверхность деформируется, и мешающее наслоение осыпается.
28. Способ по п.27, отличающийся тем, что с помощью нагревательной спирали также нагревают подложку, покрываемую путем дугового распыления.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US24575009P | 2009-09-25 | 2009-09-25 | |
| US61/245,750 | 2009-09-25 | ||
| PCT/EP2010/064136 WO2011036246A2 (de) | 2009-09-25 | 2010-09-24 | Verfahren zur herstellung von kubischen zirkonoxidschichten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012116532A true RU2012116532A (ru) | 2013-10-27 |
| RU2551739C2 RU2551739C2 (ru) | 2015-05-27 |
Family
ID=43067236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012116532/02A RU2551739C2 (ru) | 2009-09-25 | 2010-09-24 | Способ получения слоев кубического оксида циркония |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9945024B2 (ru) |
| EP (2) | EP2597171B8 (ru) |
| JP (2) | JP2013506049A (ru) |
| KR (2) | KR20120080612A (ru) |
| CN (2) | CN107299313A (ru) |
| BR (1) | BR112012006570B1 (ru) |
| CA (1) | CA2775044C (ru) |
| DE (1) | DE202010017875U1 (ru) |
| ES (2) | ES2660745T3 (ru) |
| RU (1) | RU2551739C2 (ru) |
| WO (1) | WO2011036246A2 (ru) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5343836B2 (ja) * | 2009-12-10 | 2013-11-13 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 固体酸化物形燃料電池およびその製造方法 |
| DE102011083541A1 (de) * | 2011-09-27 | 2013-03-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Speicherelement |
| DE102013005437A1 (de) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Empa | Hartstoffschichten mit ausgewählter Wärmeleitfähigkeit |
| RU2588619C2 (ru) * | 2014-03-06 | 2016-07-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Наноструктурное композитное покрытие из оксида циркония |
| RU2606815C2 (ru) * | 2014-03-06 | 2017-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Способ нанесения теплозащитного композитного покрытия, содержащего оксид циркония, на металлическую поверхность изделия |
| RU2607055C2 (ru) * | 2014-04-29 | 2017-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Способ нанесения теплозащитного композитного покрытия, содержащего оксид циркония, на металлическую поверхность изделия |
| RU2606826C2 (ru) * | 2014-05-05 | 2017-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Способ формирования на рабочей поверхности детали из никелевого сплава теплозащитного нанокомпозитного покрытия |
| RU2607390C2 (ru) * | 2015-06-05 | 2017-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) | Способ формирования керамического покрытия на основе диоксида циркония на изделии из титанового сплава |
| US11338457B2 (en) * | 2016-12-26 | 2022-05-24 | Kyocera Corporation | Knife |
| CN107777673A (zh) * | 2017-11-13 | 2018-03-09 | 武汉科技大学 | 一种基于低温还原的立方氮化锆粉体及其制备方法 |
| JP7319667B2 (ja) * | 2019-10-25 | 2023-08-02 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 熱遮蔽コーティング、及びこれを用いたタービン用ブレード部材、航空機用ジェットエンジン、発電用ガスタービン |
| US11513059B2 (en) | 2020-04-06 | 2022-11-29 | Solar Turbines Incorporated | Contamination sensor for gas turbine engines |
| US11735212B1 (en) * | 2022-04-25 | 2023-08-22 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Thermally assisted magnetic head including a record/read separate protective structure, head gimbal assembly and hard disk drive each having the thermally assisted magnetic head |
Family Cites Families (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57190950A (en) | 1981-05-20 | 1982-11-24 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Plate making method for photosensitive flat printing sheet |
| RU2176681C2 (ru) * | 1989-11-22 | 2001-12-10 | Волков Валерий Венедиктович | Способ получения покрытий в вакууме, устройство для получения покрытий в вакууме, способ изготовления устройства для получения покрытий в вакууме |
| DE4238688A1 (de) | 1992-11-17 | 1994-05-19 | Bosch Gmbh Robert | Gesinterter Festelektrolyt mit hoher Sauerstoffionenleitfähigkeit |
| JP3195492B2 (ja) * | 1993-03-15 | 2001-08-06 | 株式会社神戸製鋼所 | アークイオンプレーティング装置及びアークイオンプレーティングシステム |
| US5418003A (en) | 1993-09-10 | 1995-05-23 | General Electric Company | Vapor deposition of ceramic materials |
| US5518597A (en) | 1995-03-28 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cathodic arc coating apparatus and method |
| US5872080A (en) | 1995-04-19 | 1999-02-16 | The Regents Of The University Of California | High temperature superconducting thick films |
| JP3401365B2 (ja) * | 1995-05-25 | 2003-04-28 | 日本電子株式会社 | プラズマ発生装置およびイオンプレーティング装置 |
| US6042878A (en) | 1996-12-31 | 2000-03-28 | General Electric Company | Method for depositing a ceramic coating |
| US5872070A (en) | 1997-01-03 | 1999-02-16 | Exxon Research And Engineering Company | Pyrolysis of ceramic precursors to nanoporous ceramics |
| US5879532A (en) * | 1997-07-09 | 1999-03-09 | Masco Corporation Of Indiana | Process for applying protective and decorative coating on an article |
| JP4253855B2 (ja) | 1998-01-23 | 2009-04-15 | 東ソー株式会社 | 蒸着材 |
| US6312819B1 (en) | 1999-05-26 | 2001-11-06 | The Regents Of The University Of California | Oriented conductive oxide electrodes on SiO2/Si and glass |
| US6245280B1 (en) | 1999-06-21 | 2001-06-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method and apparatus for forming polycrystalline particles |
| JP2001355060A (ja) * | 2000-06-12 | 2001-12-25 | Canon Inc | 超微粒子膜の形成方法 |
| SE519931C2 (sv) * | 2000-06-19 | 2003-04-29 | Chemfilt R & D Ab | Anordning och förfarande för pulsad, starkt joniserad magnetronsputtering |
| US6391164B1 (en) * | 2000-06-23 | 2002-05-21 | Isak I. Beilis | Deposition of coatings and thin films using a vacuum arc with a non-consumable hot anode |
| JP2002256419A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | アーク蒸発源、その点弧方法、及びそれを用いた蒸着膜の反射率制御方法 |
| US6586115B2 (en) | 2001-04-12 | 2003-07-01 | General Electric Company | Yttria-stabilized zirconia with reduced thermal conductivity |
| JP3876168B2 (ja) | 2002-02-14 | 2007-01-31 | 三菱重工業株式会社 | アブレイダブルコーティング及びその作製方法 |
| JP4050593B2 (ja) | 2002-11-01 | 2008-02-20 | 日本特殊陶業株式会社 | ガスセンサ素子及びこれを用いたガスセンサ |
| US20040180252A1 (en) * | 2003-03-14 | 2004-09-16 | General Electric Company | Fuel cell and method for manufacturing fuel cell |
| FR2860790B1 (fr) | 2003-10-09 | 2006-07-28 | Snecma Moteurs | Cible destinee a etre evaporee sous faisceau d'electrons, son procede de fabrication, barriere thermique et revetement obtenus a partir d'une cible, et piece mecanique comportant un tel revetement |
| US7291403B2 (en) | 2004-02-03 | 2007-11-06 | General Electric Company | Thermal barrier coating system |
| JP4465352B2 (ja) | 2004-03-11 | 2010-05-19 | 株式会社キャタラー | 排ガス浄化触媒 |
| JP4548020B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-09-22 | 株式会社デンソー | ジルコニア構造体およびその製造方法 |
| US7473072B2 (en) | 2005-02-01 | 2009-01-06 | Honeywell International Inc. | Turbine blade tip and shroud clearance control coating system |
| US9997338B2 (en) | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
| KR101141868B1 (ko) * | 2005-09-01 | 2012-05-11 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟, 투명 도전막 및 투명 전극 |
| DE102006046126A1 (de) * | 2006-06-28 | 2008-01-03 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co Kg | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Gegenstands durch Sputtern eines keramischen Targets |
| US20100055266A1 (en) * | 2006-07-17 | 2010-03-04 | Erich Josef Windhab | Stable foam and process for its manufacture |
| US7857948B2 (en) | 2006-07-19 | 2010-12-28 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Method for manufacturing poorly conductive layers |
| AU2007306494B2 (en) * | 2006-10-10 | 2012-05-31 | Oerlikon Trading Ag, Truebbach | Layer system having at least one mixed crystal layer of a polyoxide |
| US7939181B2 (en) | 2006-10-11 | 2011-05-10 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Layer system with at least one mixed crystal layer of a multi-oxide |
| CN101307424B (zh) * | 2007-05-16 | 2011-02-02 | 中国科学院金属研究所 | 一种氧化锆涂层制备工艺 |
| WO2008145459A1 (de) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumbehandlungsanlage und vakuumbehandlungsverfahren |
| BRPI0722169A2 (pt) | 2007-11-01 | 2014-04-08 | Oerlikon Trading Ag | Processo para a fabricação de uma superfície tratada, e fontes de plasma a vácuo |
| JP5297267B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2013-09-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 切削工具用または成型用金型用の耐摩耗性に優れる酸化物皮膜被覆材 |
-
2010
- 2010-09-24 RU RU2012116532/02A patent/RU2551739C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2010-09-24 EP EP13154999.0A patent/EP2597171B8/de active Active
- 2010-09-24 KR KR1020127010575A patent/KR20120080612A/ko active Application Filing
- 2010-09-24 CN CN201710548833.5A patent/CN107299313A/zh active Pending
- 2010-09-24 CN CN201080053523.2A patent/CN102666908B/zh active Active
- 2010-09-24 DE DE202010017875U patent/DE202010017875U1/de not_active Expired - Lifetime
- 2010-09-24 ES ES10763334.9T patent/ES2660745T3/es active Active
- 2010-09-24 CA CA2775044A patent/CA2775044C/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-24 BR BR112012006570-0A patent/BR112012006570B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-09-24 WO PCT/EP2010/064136 patent/WO2011036246A2/de active Application Filing
- 2010-09-24 ES ES13154999T patent/ES2749354T3/es active Active
- 2010-09-24 EP EP10763334.9A patent/EP2480699B1/de active Active
- 2010-09-24 KR KR1020177016720A patent/KR101850667B1/ko active IP Right Grant
- 2010-09-24 JP JP2012530271A patent/JP2013506049A/ja active Pending
- 2010-09-24 US US13/497,283 patent/US9945024B2/en active Active
-
2014
- 2014-12-17 JP JP2014254893A patent/JP5946896B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20130153408A1 (en) | 2013-06-20 |
| RU2551739C2 (ru) | 2015-05-27 |
| EP2597171B1 (de) | 2019-07-10 |
| CN107299313A (zh) | 2017-10-27 |
| WO2011036246A2 (de) | 2011-03-31 |
| EP2480699A2 (de) | 2012-08-01 |
| KR101850667B1 (ko) | 2018-05-31 |
| ES2749354T3 (es) | 2020-03-19 |
| CA2775044C (en) | 2018-04-24 |
| CN102666908B (zh) | 2020-07-21 |
| EP2480699B1 (de) | 2017-12-06 |
| KR20170073734A (ko) | 2017-06-28 |
| JP5946896B2 (ja) | 2016-07-06 |
| WO2011036246A3 (de) | 2011-06-16 |
| CA2775044A1 (en) | 2011-03-31 |
| KR20120080612A (ko) | 2012-07-17 |
| EP2597171B8 (de) | 2019-08-21 |
| BR112012006570A2 (pt) | 2017-08-29 |
| DE202010017875U1 (de) | 2012-11-28 |
| CN102666908A (zh) | 2012-09-12 |
| JP2013506049A (ja) | 2013-02-21 |
| EP2597171A1 (de) | 2013-05-29 |
| US9945024B2 (en) | 2018-04-17 |
| JP2015110840A (ja) | 2015-06-18 |
| BR112012006570B1 (pt) | 2019-07-16 |
| ES2660745T3 (es) | 2018-03-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012116532A (ru) | Способ получения слоев кубического оксида циркония | |
| Liu et al. | Hot corrosion behavior of Sc2O3–Y2O3–ZrO2 thermal barrier coatings in presence of Na2SO4+ V2O5 molten salt | |
| Pederson et al. | Application of vacuum deposition methods to solid oxide fuel cells | |
| Ju et al. | Preparation of Ni–Fe bimetallic porous anode support for solid oxide fuel cells using LaGaO3 based electrolyte film with high power density | |
| Ovenstone et al. | Phase stability of BSCF in low oxygen partial pressures | |
| Matsumoto et al. | Low thermal conductivity and high temperature stability of ZrO2–Y2O3–La2O3 coatings produced by electron beam PVD | |
| JP6255647B2 (ja) | 結晶膜、結晶膜の製造方法、蒸着装置及びマルチチャンバー装置 | |
| Sønderby et al. | Magnetron sputtered gadolinia-doped ceria diffusion barriers for metal-supported solid oxide fuel cells | |
| Paek et al. | A study on properties of yttrium-stabilized zirconia thin films fabricated by different deposition techniques | |
| Fontana et al. | Metallic interconnects for solid oxide fuel cell: Effect of water vapour on oxidation resistance of differently coated alloys | |
| JP5117372B2 (ja) | 断熱材並びにその製法及び用途 | |
| Sun et al. | Atmospheric plasma-sprayed BaZr0. 1Ce0. 7Y0. 1Yb0. 1O3− δ (BZCYYb) electrolyte membranes for intermediate-temperature solid oxide fuel cells | |
| Seo et al. | Nanoscale interface engineering for solid oxide fuel cells using atomic layer deposition | |
| Ma et al. | Characterization of ceria–yttria stabilized zirconia plasma-sprayed coatings | |
| Goto et al. | Morphology and preferred orientation of Y2O3 film prepared by high-speed laser CVD | |
| Bae et al. | Characterization of Yttria‐Stabilized Zirconia Thin Films Prepared by Radio Frequency Magnetron Sputtering for a Combustion Control Oxygen Sensor | |
| JP2016026987A (ja) | プロトン伝導性酸化物 | |
| Sawka | Metal-organic chemical vapour deposition of lanthana-doped ceria layers at low temperatures | |
| Jiang et al. | Fabrication and characterization of Y2O3 stabilized ZrO2 films deposited with aerosol-assisted MOCVD | |
| Meng et al. | Preparation of YSZ electrolyte coatings for SOFC by electron beam physical vapor deposition combined with a sol infiltration treatment | |
| Laukaitis et al. | Samarium doped cerium oxide thin films deposited by e-beam technique | |
| Garcia et al. | Yttria-stabilized zirconia obtained by MOCVD: applications | |
| Kiratzis | Applications of the technique of solution aerosol thermolysis (SAT) in solid oxide fuel cell (SOFC) component fabrication | |
| Ju et al. | High power SOFC using LSGM film on NiFe porous bi-metal substrate | |
| Mishra et al. | Fabrication of nanosized lanthanum zirconate powder and deposition of thermal barrier coating by plasma spray process |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20200925 |