RU2009117577A - Слоистая система с по меньшей мере одним слоем смешанных кристаллов многокомпонентного оксида - Google Patents

Слоистая система с по меньшей мере одним слоем смешанных кристаллов многокомпонентного оксида Download PDF

Info

Publication number
RU2009117577A
RU2009117577A RU2009117577/02A RU2009117577A RU2009117577A RU 2009117577 A RU2009117577 A RU 2009117577A RU 2009117577/02 A RU2009117577/02 A RU 2009117577/02A RU 2009117577 A RU2009117577 A RU 2009117577A RU 2009117577 A RU2009117577 A RU 2009117577A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
layered system
mixed crystals
source
mixed
Prior art date
Application number
RU2009117577/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2456371C2 (ru
Inventor
Юрген РАММ (CH)
Юрген РАММ
Бено ВИДРИГ (CH)
Бено ВИДРИГ
Михель АНТЕ (AT)
Михель Анте
Кристиан ВОЛЬРАБ (AT)
Кристиан ВОЛЬРАБ
Original Assignee
Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах (Ch)
Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=37607420&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=RU2009117577(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах (Ch), Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах (Ch)
Publication of RU2009117577A publication Critical patent/RU2009117577A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2456371C2 publication Critical patent/RU2456371C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

1. Наносимая способом PVD слоистая система для покрытия детали, которая содержит по меньшей мере один слой смешанных кристаллов многокомпонентного оксида следующего состава: ! (Me11-xMe2x)2O3, ! причем каждый из Me1 и Me2 означает по меньшей мере один из элементов Al, Cr, Fe, Li, Mg, Mn, Nb, Ti, Sb или V и при этом элементы Me1 и Me2 отличаются друг от друга, отличающаяся тем, что кристаллическая решетка слоя смешанных кристаллов имеет структуру корунда, которая в спектре слоя смешанных кристаллов, измеренном методом рентгеновской дифракции, характеризуется по меньшей мере тремя, предпочтительно четырьмя, в частности пятью линиями, приписываемыми структуре корунда. ! 2. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что структура корунда слоя смешанных кристаллов термически настолько стабильна, что параметр решетки a и/или c слоя смешанных кристаллов после 30 мин выдерживания на воздухе при по меньшей мере 1000°C или при по меньшей мере 1100°C смещается максимум на 2%, предпочтительно максимум на 1%. ! 3. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов имеет стехиометрическое или подстехиометрическое содержание кислорода. ! 4. Слоистая система по п.3, отличающаяся тем, что содержание кислорода на 0-15%, предпочтительно на 0-10% ниже стехиометрического состава соединения. ! 5. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов является мелкокристаллическим со средним размером кристаллита менее 0,2 мкм, предпочтительно менее 0,1 мкм. ! 6. Слоистая система по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что Me1 означает Al, Me2 означает по меньшей мере один из элементов Cr, Fe, Li, Mg, Mn, Nb, Ti, Sb или V и 0,2≤x≤0,98, предпочтительно 0,3≤x≤0,

Claims (49)

1. Наносимая способом PVD слоистая система для покрытия детали, которая содержит по меньшей мере один слой смешанных кристаллов многокомпонентного оксида следующего состава:
(Me11-xMe2x)2O3,
причем каждый из Me1 и Me2 означает по меньшей мере один из элементов Al, Cr, Fe, Li, Mg, Mn, Nb, Ti, Sb или V и при этом элементы Me1 и Me2 отличаются друг от друга, отличающаяся тем, что кристаллическая решетка слоя смешанных кристаллов имеет структуру корунда, которая в спектре слоя смешанных кристаллов, измеренном методом рентгеновской дифракции, характеризуется по меньшей мере тремя, предпочтительно четырьмя, в частности пятью линиями, приписываемыми структуре корунда.
2. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что структура корунда слоя смешанных кристаллов термически настолько стабильна, что параметр решетки a и/или c слоя смешанных кристаллов после 30 мин выдерживания на воздухе при по меньшей мере 1000°C или при по меньшей мере 1100°C смещается максимум на 2%, предпочтительно максимум на 1%.
3. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов имеет стехиометрическое или подстехиометрическое содержание кислорода.
4. Слоистая система по п.3, отличающаяся тем, что содержание кислорода на 0-15%, предпочтительно на 0-10% ниже стехиометрического состава соединения.
5. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов является мелкокристаллическим со средним размером кристаллита менее 0,2 мкм, предпочтительно менее 0,1 мкм.
6. Слоистая система по одному из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что Me1 означает Al, Me2 означает по меньшей мере один из элементов Cr, Fe, Li, Mg, Mn, Nb, Ti, Sb или V и 0,2≤x≤0,98, предпочтительно 0,3≤x≤0,95.
7. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов имеет содержание инертного газа и галогена каждое ниже 2 ат.%.
8. Слоистая система по п.7, отличающаяся тем, что содержание инертного газа в слое смешанных кристаллов составляет максимум 0,1 ат.%, предпочтительно максимум 0,05 ат.%, и/или содержание галогенов максимум 0,5 ат.%, предпочтительно максимум 0,1 ат.%, или слой смешанных кристаллов предпочтительно, по существу, не содержит инертный газ и/или галоген.
9. Слоистая система по п. 1, отличающаяся тем, что напряжение в слое смешанных кристаллов настолько мало, что отклонение параметра решетки многокомпонентных оксидов от значения, определенного по закону Вегарда, меньше или равно 1%, предпочтительно меньше или равно 0,8%.
10. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что напряжение слоя, измеренное на слое смешанных кристаллов толщиной 2 мкм, имеет напряжение сжатия или напряжение растяжения со значением менее ±0,8 ГПа, предпочтительно менее ±0,5 ГПа.
11. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов является многослойной структурой из по меньшей мере двух разных поочередно осажденных многокомпонентных оксидов.
12. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов имеет многослойную структуру из по меньшей мере одного многокомпонентного оксида, а также дополнительного оксида в чередующемся порядке.
13. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что многокомпонентный оксид является двойным оксидом, в частности (AlCr)2O3 или (AlV)2O3.
14. Слоистая система по п. 13, отличающаяся тем, что дополнительные оксиды представляют собой, в частности, HfO2, Ta2O5, TiO2, ZrO2, γ-Al2O3 или оксид со структурой корунда, как Cr2O3, V2O3, Fe2O3, FeTiO3, MgTiO2 или α-Al2O3.
15. Слоистая система по п.1, отличающаяся тем, что дополнительно к слою смешанных кристаллов между деталью и слоем смешанных кристаллов и/или верхним слоем на слое смешанных кристаллов имеется по меньшей мере один промежуточный слой, в частности адгезионный слой и/или твердый слой, который предпочтительно содержит один из металлов подгрупп IV, V и VI Периодической системы, и/или Al, Si, Fe, Ni, Co, Y, La, или их смесь.
16. Слоистая система по п.15, отличающаяся тем, что металлы твердого слоя и/или верхнего слоя являются соединениями с N, C, O, B или их смесями, причем предпочтительны соединения с N или CN.
17. Слоистая система по п.15 или 16, отличающаяся тем, что твердый слой содержит TiN, TiCN, AlTiN, AlTiCN, AlCrN или AlCrCN, а верхний слой содержит AlCrN, AlCrCN, Cr2O3 или Al2O3, в частности γ-Al2O3 или α-Al2O3.
18. Слоистая система по п.15, отличающаяся тем, что промежуточный слой и/или твердый слой имеют многослойную структуру.
19. Слоистая система по п. 15, отличающаяся тем, что промежуточный слой и слой смешанных кристаллов, соответственно верхний слой и слой смешанных кристаллов расположены как чередующаяся многослойная структура.
20. Слоистая система по п.15, отличающаяся тем, что слоистая система имеет общую толщину более 10 мкм, предпочтительно более 20 мкм.
21. Слоистая система по п.15, отличающаяся тем, что слой смешанных кристаллов имеет толщину более 5 мкм, предпочтительно более 8 мкм.
22. Способ нанесения покрытий вакуумным напылением на деталь для получения слоя смешанных кристаллов многокомпонентного оксида, причем электродуговой разряд между по меньшей мере одним анодом и выполненным как мишень катодом источника дуги осуществляется в кислородсодержащем технологическом газе, отличающийся тем, что у поверхности мишени не создается никакое магнитное поля или создается лишь маленькое, по существу, перпендикулярное поверхности мишени внешнее магнитное поле, имеющее поперечный компонент Bz, а также, по существу, меньший радиальный или параллельный поверхности компонент Br для поддержки процесса испарения, причем мишень является сплавной мишенью, которая, по существу, соответствует составу слоя смешанных кристаллов, который осаждается со структурой корунда.
23. Способ по п.22, отличающийся тем, что состав металлов слоя смешанных кристаллов после нормирования на полное содержание металлов в отношении соответствующих долей металла отличается от содержания в составе мишени не более чем на 10%, предпочтительно не более чем на 5%, в частности не более чем на 3%.
24. Способ по п. 22 и 23, отличающийся тем, что поперечный к поверхности мишени компонент Bz устанавливается на уровне от 3 до 50 Гс, но предпочтительно от 5 до 25 Гс.
25. Способ по п.22, отличающийся тем, что для создания небольшого магнитного поля к магнитной системе, состоящей из по меньшей мере одной аксиально поляризованной катушки, которая имеет геометрию, сходную с периметром мишени, подводится ток возбуждения.
26. Способ по п. 22, отличающийся тем, что искровой разряд или по меньшей мере один источник дуги снабжается одновременно как постоянным током, так и пульсирующим или переменным током.
27. Способ нанесения покрытий вакуумным напылением на деталь для получения слоя смешанных кристаллов многокомпонентного оксида, в котором в кислородсодержащем технологическом газе осаждают слой на деталь с выполненным как мишень первым электродом дугового источника или источника распыления, а также со вторым электродом, причем источник одновременно снабжается как постоянным током или постоянным напряжением, так и пульсирующим или переменным током, соответственно пульсирующим или переменным напряжением, отличающийся тем, что мишень является сплавной мишенью, которая, по существу, соответствует составу слоя смешанных кристаллов, который осаждается со структурой корунда.
28. Способ по п.27, отличающийся тем, что состав металлов смешанного кристаллического слоя после нормирования на полное содержание металлов в отношении соответствующей доли металла отличается от содержания в составе мишени не более чем на 10 ат.%, предпочтительно не более чем 5 ат.%, в частности не более чем на 3 ат.%.
29. Способ по п.27, отличающийся тем, что источник является источником дуги и второй электрод отделен от источника дуги или расположен как анод источника дуги.
30. Способ по п.29, отличающийся тем, что оба электрода работают, будучи соединенными с отдельными источником питания импульсным током.
31. Способ по п.30, отличающийся тем, что второй электрод работает как катод другого источника дуговой испарителя и он так же работает соединенным с питанием постоянного тока.
32. Способ по п.30, отличающийся тем, что второй электрод работает как катод источника распыления, в частности магнетронного источника, и он также соединен с электропитанием, в частности с питанием постоянного тока.
33. Способ по п.30, отличающийся тем, что второй электрод выполнен как тигель для испарения и работает как анод низковольтного дугового испарителя.
34. Способ по п.26 или 27, отличающийся тем, что питание постоянным током и питание импульсным током разделяются разъединяющим фильтром, причем он предпочтительно содержит по меньшей мере один запирающий диод.
35. Способ по п.26 или 27, отличающийся тем, что питание осуществляется основным током, так что плазменный разряд на источнике поддерживается, по существу, бесперебойным, в частности, на источниках дугового испарителя.
36. Способ по п.26 или 27, отличающийся тем, что питание пульсирующим током или пульсирующим напряжением осуществляется с фронтами импульса, которые имеют крутизну более 2,0 В/нс, которая предпочтительно находится по меньшей мере от 0,02 до 2,0 В/нс, предпочтительно по меньшей мере от 0,1 до 1,0 В/нс, и возникает разряд высокой мощности.
37. Способ по п.26 или 27, отличающийся тем, что питание импульсным током осуществляется с частотой от 1 до 200 кГц.
38. Способ по п.26 или 27, отличающийся тем, что питание импульсным током осуществляется с различными параметрами ширины импульса.
39. Способ по п.26 или 27, отличающийся тем, что пульсирующее магнитное поле прикладывается к по меньшей мере одному источнику дуги.
40. Способ по п.39, отличающийся тем, что изменение магнитного поля проводится пульсирующим током или частью пульсирующего тока источника дуги.
41. Способ по п.22 или 27, отличающийся тем, что по меньшей мере один источник дуги не охлаждается и не обогревается.
42. Способ по п.22 или 27, отличающийся тем, что источники работают с технологическим газом, который по меньшей мере на 80%, предпочтительно на 90%, в частности предпочтительно на 100% состоит из кислорода.
43. Способ по п.22 или 27, отличающийся тем, что температура нанесения покрытия устанавливается ниже 650°C, предпочтительно 550°C.
44. Инструмент или деталь для применения при высоких температурах и/или высоких химических нагрузках, отличающиеся тем, что они покрыты слоистой системой по одному из пп.1-21.
45. Инструмент или деталь по п.44, отличающиеся тем, что основным материалом инструмента по меньшей мере в областях, подвергающихся износу, является инструментальная сталь, быстрорежущая сталь, PM-сталь или HM, металлокерамика или CBN-спеченный материал, и основным материалом детали по меньшей мере в областях, подвергающихся износу, является нетеплостойкая сталь, быстрорежущая сталь, PM-сталь или HM, металлокерамика, SiC-, SiN- или CBN-спеченный материал или поликристаллический алмаз.
46. Инструмент по п.44, отличающийся тем, что он является режущим инструментом, в частности неперетачиваемой пластиной из быстрорежущей стали, HM, металлокерамики, CBN, SiN, SiC или PM-стали или покрытой алмазом неперетачиваемой пластиной.
47. Инструмент по п.44, отличающийся тем, что он представляет собой штамповочный инструмент, в частности кузнечный инструмент.
48. Инструмент по п.44, отличающийся тем, что он представляет собой форму для литья под давлением.
49. Деталь по п.44, отличающаяся тем, что деталь является компонентом двигателя внутреннего сгорания, в частности форсункой, поршневым кольцом, поршневым толкателем, лопаткой турбины.
RU2009117577/02A 2006-10-10 2007-09-03 Слоистая система с по меньшей мере одним слоем смешанных кристаллов многокомпонентного оксида RU2456371C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH01614/06 2006-10-10
CH16142006 2006-10-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009117577A true RU2009117577A (ru) 2010-11-20
RU2456371C2 RU2456371C2 (ru) 2012-07-20

Family

ID=37607420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009117577/02A RU2456371C2 (ru) 2006-10-10 2007-09-03 Слоистая система с по меньшей мере одним слоем смешанных кристаллов многокомпонентного оксида

Country Status (17)

Country Link
EP (1) EP2082079B1 (ru)
JP (2) JP5725466B2 (ru)
KR (1) KR101508159B1 (ru)
CN (1) CN101522950B (ru)
AU (1) AU2007306494B2 (ru)
BR (1) BRPI0719774A2 (ru)
CA (1) CA2665044C (ru)
HK (1) HK1135439A1 (ru)
IL (1) IL198044A (ru)
MX (1) MX2009003130A (ru)
MY (1) MY151941A (ru)
NZ (1) NZ576185A (ru)
RU (1) RU2456371C2 (ru)
TW (1) TWI421356B (ru)
UA (1) UA99819C2 (ru)
WO (1) WO2008043606A1 (ru)
ZA (1) ZA200902479B (ru)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE531933C2 (sv) * 2007-12-14 2009-09-08 Seco Tools Ab Belagt hårdmetallskär för bearbetning av stål och rostfria stål
JP4850189B2 (ja) * 2008-01-08 2012-01-11 日立ツール株式会社 被覆工具
JP5234925B2 (ja) * 2008-04-03 2013-07-10 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜およびその形成方法ならびに硬質皮膜被覆部材
JP4850204B2 (ja) * 2008-04-14 2012-01-11 日立ツール株式会社 被覆工具
DE102008021912C5 (de) 2008-05-01 2018-01-11 Cemecon Ag Beschichtungsverfahren
DE102008026358A1 (de) 2008-05-31 2009-12-03 Walter Ag Werkzeug mit Metalloxidbeschichtung
JP5435326B2 (ja) * 2008-09-02 2014-03-05 日立金属株式会社 ダイカスト用被覆金型およびその製造方法
JP2012505308A (ja) * 2008-10-10 2012-03-01 エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト，トリュープバッハ 非ガンマ相立方晶ＡｌＣｒＯ
JP5061394B2 (ja) * 2008-10-31 2012-10-31 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具
WO2011007848A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 日立ツール株式会社 硬質皮膜被覆工具及びその製造方法
US9416438B2 (en) 2009-07-22 2016-08-16 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfaffikon Method for producing coatings with a single composite target
DE102009028579B4 (de) * 2009-08-17 2013-08-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Beschichtete Körper aus Metall, Hartmetall, Cermet oder Keramik sowie Verfahren zur Beschichtung derartiger Körper
ES2749354T3 (es) * 2009-09-25 2020-03-19 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon Procedimiento para la preparación de capas de óxido de zirconio cúbicas
DE102009044838A1 (de) * 2009-12-09 2011-06-16 Karlsruher Institut für Technologie Metastabilisiertes, nanostabilisiertes Material und Verfahren zu dessen Herstellung
EP2369031B1 (de) * 2010-03-18 2016-05-04 Oerlikon Trading AG, Trübbach Beschichtung auf nial2o4 basis in spinellstruktur
JP5333418B2 (ja) * 2010-03-31 2013-11-06 日立ツール株式会社 硬質皮膜被覆工具の製造方法
US10253407B2 (en) * 2010-06-22 2019-04-09 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Arc deposition source having a defined electric field
JP5527415B2 (ja) * 2010-08-04 2014-06-18 株式会社タンガロイ 被覆工具
CN103189330B (zh) 2010-11-01 2014-09-24 昭和电工株式会社 氧化铝质烧结体、磨粒和砂轮
WO2012095994A1 (ja) * 2011-01-14 2012-07-19 日立ツール株式会社 硬質皮膜被覆工具及びその製造方法
JP5660457B2 (ja) * 2011-01-19 2015-01-28 日立金属株式会社 硬質皮膜被覆金型
DE102011053372A1 (de) * 2011-09-07 2013-03-07 Walter Ag Werkzeug mit chromhaltiger Funktionsschicht
KR101382665B1 (ko) * 2012-03-22 2014-04-07 삼성정밀화학 주식회사 리튬이온 이차전지용 양극활물질, 그 제조방법 및 이것을 포함하는 리튬이온 이차전지
JP5358006B2 (ja) * 2012-07-17 2013-12-04 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜およびその形成方法ならびに硬質皮膜被覆部材
EP2986752B1 (de) * 2013-04-16 2021-04-07 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Oxidationsschutzschicht auf chrombasis
WO2014187570A1 (de) 2013-05-23 2014-11-27 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Barriereschicht für turbolader
DE102013221102A1 (de) 2013-10-17 2015-05-07 Mahle International Gmbh Stahlkolben für eine Brennkraftmaschine und Verfahren zu dessen Herstellung
CN105917020B (zh) 2013-11-03 2019-09-20 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 氧化阻挡层
DE102014104672A1 (de) * 2014-04-02 2015-10-08 Kennametal Inc. Beschichtetes Schneidwerkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung
CN105624677B (zh) * 2014-11-03 2017-11-28 南京中车浦镇城轨车辆有限责任公司 硬质合金刀具表面金刚石/TiAlN复合涂层制备方法
WO2016125396A1 (ja) * 2015-02-05 2016-08-11 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
JP2016148101A (ja) * 2015-02-05 2016-08-18 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
CN105089711B (zh) * 2015-06-25 2017-08-08 重庆德蚨乐机械制造有限公司 涡轮增压器及其喷嘴环
EP3380645B1 (de) * 2015-11-27 2024-05-01 CemeCon AG Beschichtung eines körpers mit diamantschicht und hartstoffschicht
JP6960406B2 (ja) * 2015-12-22 2021-11-05 サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ 被覆切削工具及び方法
BR112018015729A2 (pt) * 2016-02-12 2019-01-08 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon sistema tribológico de um motor de combustão interna com revestimento
JP2019507025A (ja) * 2016-02-19 2019-03-14 ヴァルター アーゲー 切削装置
AT15220U1 (de) * 2016-03-07 2017-03-15 Ceratizit Austria Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Hartstoffschicht auf einem Substrat, Hartstoffschicht, Zerspanwerkzeug sowie Beschichtungsquelle
DE102016108088B4 (de) * 2016-04-20 2018-05-09 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Beschichteter Kolbenring mit Schutzschicht
DE102016108734B4 (de) 2016-05-11 2023-09-07 Kennametal Inc. Beschichteter Körper und Verfahren zur Herstellung des Körpers
DE102016212874A1 (de) * 2016-07-14 2018-01-18 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Schutzbeschichtung für eine thermisch beanspruchte Struktur
KR101844575B1 (ko) * 2016-12-23 2018-04-03 주식회사 포스코 골드 컬러 강판 및 그 제조방법
JP6507399B2 (ja) * 2017-03-28 2019-05-08 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
EP3406751A1 (en) * 2017-05-24 2018-11-28 Walter Ag A coated cutting tool and a method for its production
CN109136871B (zh) * 2018-09-04 2020-04-10 北京航空航天大学 一种双极脉冲磁控溅射方法
EP3867420A1 (en) * 2018-10-17 2021-08-25 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Pvd barrier coating for superalloy substrates
CN110144512B (zh) * 2019-05-15 2020-07-24 株洲精工硬质合金有限公司 铁基无磁硬质合金材料及其制备方法、应用
DE102019113117B4 (de) * 2019-05-17 2023-12-28 voestalpine eifeler Vacotec GmbH Verfahren zum Herstellen eines Kaltumformwerkzeugs sowie Kaltumformwerkzeug
KR102055320B1 (ko) * 2019-05-29 2019-12-13 한국생산기술연구원 물리증착용 타겟, 이에 의한 질화물 경질피막 및 이들의 제조방법
CN110221187A (zh) * 2019-06-20 2019-09-10 应急管理部四川消防研究所 一种炭化路径样品及其制备方法
WO2021064816A1 (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 日本碍子株式会社 下地基板及びその製造方法
US11371150B2 (en) 2020-01-04 2022-06-28 Kennametal Inc. Coating and coated cutting tool comprising the coating
CN111945111B (zh) * 2020-08-27 2024-08-30 威士精密工具(上海)有限公司 一种沉积在立方氮化硼刀具表面的复合涂层及沉积方法
CN115011920B (zh) * 2021-03-05 2023-09-05 株洲钻石切削刀具股份有限公司 含双层氧化物的复合涂层切削刀具
CN115011919B (zh) * 2021-03-05 2024-02-13 株洲钻石切削刀具股份有限公司 含多周期氧化物层的复合涂层切削刀具

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58185767A (ja) * 1982-04-23 1983-10-29 Hitachi Ltd 蒸着方法
DD255446A3 (de) * 1985-12-23 1988-04-06 Hochvakuum Dresden Veb Hartstoffschicht mit hoher verschleissfestigkeit und dekorativ schwarzer eigenfarbe
US5310607A (en) * 1991-05-16 1994-05-10 Balzers Aktiengesellschaft Hard coating; a workpiece coated by such hard coating and a method of coating such workpiece by such hard coating
RU2046835C1 (ru) * 1992-08-05 1995-10-27 Нагайцев Владимир Федорович Способ вакуумного напыления покрытий
CH688863A5 (de) * 1994-06-24 1998-04-30 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Beschichten mindestens eines Werkstueckes und Anlage hierfuer.
JP4155641B2 (ja) * 1998-10-27 2008-09-24 住友電工ハードメタル株式会社 耐摩耗性被膜およびその製造方法ならびに耐摩耗部材
JP4502475B2 (ja) * 2000-08-04 2010-07-14 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜および耐摩耗部材並びにその製造方法
JP4576522B2 (ja) * 2002-08-16 2010-11-10 独立行政法人物質・材料研究機構 多層セラミックス高次構造体とその製造方法
US6767627B2 (en) * 2002-12-18 2004-07-27 Kobe Steel, Ltd. Hard film, wear-resistant object and method of manufacturing wear-resistant object
JP4427271B2 (ja) * 2003-04-30 2010-03-03 株式会社神戸製鋼所 アルミナ保護膜およびその製造方法
JP4780513B2 (ja) * 2005-01-21 2011-09-28 三菱マテリアル株式会社 硬質被覆層が高速切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具
SG193877A1 (en) * 2005-03-24 2013-10-30 Oerlikon Trading Ag Hard material layer
US9997338B2 (en) * 2005-03-24 2018-06-12 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for operating a pulsed arc source

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010506049A (ja) 2010-02-25
HK1135439A1 (en) 2010-06-04
AU2007306494A1 (en) 2008-04-17
KR101508159B1 (ko) 2015-04-14
CA2665044C (en) 2016-08-23
IL198044A (en) 2015-05-31
JP5725466B2 (ja) 2015-05-27
MY151941A (en) 2014-07-31
TW200833851A (en) 2008-08-16
EP2082079A1 (de) 2009-07-29
KR20090074035A (ko) 2009-07-03
CN101522950A (zh) 2009-09-02
CN101522950B (zh) 2012-08-29
AU2007306494B2 (en) 2012-05-31
RU2456371C2 (ru) 2012-07-20
BRPI0719774A2 (pt) 2014-04-22
NZ576185A (en) 2012-10-26
ZA200902479B (en) 2010-07-28
MX2009003130A (es) 2009-06-22
UA99819C2 (ru) 2012-10-10
JP2014077201A (ja) 2014-05-01
TWI421356B (zh) 2014-01-01
EP2082079B1 (de) 2019-09-18
WO2008043606A1 (de) 2008-04-17
CA2665044A1 (en) 2008-04-17
IL198044A0 (en) 2009-12-24
JP6000233B2 (ja) 2016-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009117577A (ru) Слоистая система с по меньшей мере одним слоем смешанных кристаллов многокомпонентного оксида
US7939181B2 (en) Layer system with at least one mixed crystal layer of a multi-oxide
US8173278B2 (en) Coated body
CA2601722C (en) Hard material layer
JP4713413B2 (ja) 硬質皮膜およびその製造方法
US8557405B2 (en) Coated member
US8603617B2 (en) Tool having a metal oxide coating
JP2014531328A (ja) クロム含有機能層を有する工具
JP5373781B2 (ja) 多層金属酸化物被覆を有する工具とその被覆工具の製造方法
JP5771884B2 (ja) スピネル型構造のＮｉＡｌ２Ｏ４をベースとしたコーティング
JP5035980B2 (ja) 高速ミーリング加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法
JP5035979B2 (ja) 高速ミーリング加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法
US9126273B2 (en) Tool for the cutting machining of workpieces and process for coating substrate bodies
JP2004230515A (ja) 高機能加工用工具
US20240003015A1 (en) Al-Si Corrosion Protection Coatings
JP2008279561A (ja) 表面被覆切削工具
BRPI0719774B1 (pt) Sistema em camadas com pelo menos uma camada de cristal misto de um polióxido, e peça para emprego a altas temperaturas e/ou alta carga química