PL175403B1 - Szkło warstwowe i sposób jego wytwarzania - Google Patents

Abstract

1. Szklo warstwowe powlekane warstwa napy- lana katodowo, znamienne tym, ze posiada podloze szklane, majace na zewnatrz szkla uklad warstw, skla- dajacy sie z dolnej warstwy Si3N4 o grubosci 40 nm do 42,5 nm oraz górnej warstwy z Si3N4 o grubosci 54 nm do 57,5 nm, zawierajacy pomiedzy nimi co naj- mniej dwie warstwy niklu lub stopu niklu i co najmniej jedna warstwe srebra. 14. Sposób wytwarzania szkla warstwowego w postaci cienkiego, trwalego ukladu warstwowego do regulacji promieniowania slonecznego na podlozu szklanym na drodze napylania katodowego, zna- mienny tym, ze warstwy napyla sie katodowo na podloze szklane w nastepujacej kolejnosci: w atmosfe- rze zawierajacej azot warstwe dolna z Si3N4, naste- pnie w atmosferze zawierajacej azot pierwsza warstwe ze stopu niklowo-chromowego, po czym w tej samej atmosferze, co w poprzednim etapie co najmniej jedna warstwe srebra, nastepnie w tej samej atmosferze, co w dwóch poprzednich etapach druga warstwe stopu niklowo-chromowego, oraz warstwe górna z Si3N4 w atmosferze zawierajacej azot. PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazkujest szkło warstwowe i sposóbjego wytwarzania, zwłaszcza szkło z powłoką napylaną katodowo, mające dużą przepuszczalność promieniowania widzialnego i doskonałe charakterystyki odbicia promieniowania podczerwonego, użyteczne jako szkło architektoniczne.

W przypadku płaskiego szkła architektonicznego, takiego jak wykonywane w procesie 'płynięcia, dwoma spośród wielu znanych technik wytwarzania powłok regulujących promieniowanie słoneczne na tych szkłach są sposób pirolityczny i sposób magnetyczny napylania katodowego. Wady dotychczas występujące w procesie napylania katodowego polegały na tym, że powłoki mogą być często łatwo ścierane (czyli są nietrwałe) i szczeliwo polimerowe stosowane przy wytwarzaniu wieloszybowych okien architektonicznych atakuje często powłokę. To z kolei powoduje zniszczenie uszczelnienia pomiędzy szybami, co pozwala na gromadzenie się pomiędzy nimi szkodliwych kondensatów. Z drugiej strony powłoki napylane katodowo mają zdolność osiągania małych wartości emisyjności i właściwość dużej przepuszczalności promieniowania widzialnego, w porównaniu z większością powłok pirolitycznych, co ma istotne znaczenie w niektórych szkłach architektonicznych.

Określenia emisyjność i przepuszczalność są znane i stosowane tutaj zgodnie ze znanym znaczeniem. Określenie przepuszczalność oznacza tutaj przepuszczalność promieniowania słonecznego, którą stanowi przepuszczalność światła widzialnego, przepuszczalność energii podczerwonej i przepuszczalność światła ultrafioletowego. Przepuszczalność całej energii słonecznej jest określana jako średnia ważona tych innych wielkości. Przepuszczalność promieniowania widzialnego jest określona standardową techniką czynnika oświetlającego C przy 380-720 nm, promieniowanie podczerwone ma 800-2100 nm, promieniowanie ultrafioletowe ma 300-400 nm i całkowite promieniowanie słonezne ma 300-210 nm. Dla uzyskania takiej emisyjności jest wykorzystywany szczególny zakres promieniowania podczerwonego (czyli 2500-40000 nm).

Przepuszczalność promieniowania widzialnego można mierzyć przy użyciu znanych, konwencjonalnych technik. Na przykład przy użyciu spektrofotometru, otrzymywana jest krzywa widmowa przepuszczalności dla każdej długości fali. Przepuszczalność promieniowania widzialnego jest potem obliczana przy użyciu ASTM E-308 Sposób obliczania kolorów przedmiotów przy użyciu systemu CIE (rocznik ASTM btandards, tom 14.2), przy czym można użyć mniejszej liczby punktów długości fal niż zalecana. Inną techniką pomiaru przepuszczalności promieniowania widzialnego jest użycie spektrometru, służącego do bezpośredniego pomiaru przepuszczalności promieniowania widzialnego.

Emisyjność (E) jest miarą lub charakterystyką zarówno pochłanianiaj ak i odbicia światła przy danych długościach fal, określaną wzorem:

E - = 1 - współczynnik odbicia powłoki

Dla zastosowań architektonicznych wartości emisyjności są istotne w tak zwanym zakresie środkowym, czasami nazywanym również zakresem dalekim widma podczerwieni, czyli dla długości fal około 2500-40000 nm. Określenie emisyjność jest stosowane tutaj do omówienia wartości emisyjności mierzonych w tym zakresie podczerwieni, co wyszczególniono w Standardzie ASTM z 1991 r. dk pomiaru eneggi i podceerwżen i w cehi obiiczenia emisyjności, zaproponowanym przez Primary GIsss Maehfaśturere' Comcil i zatytułowanym Sposób kontroli pomiaru i obliczania emitacji architektonicznych płaskich wyrobów szklanych przy użyciu pomiarów radiometrycznych. W tym standardzie emisyjność jest podzielona na dwie składowe, emisyjność półkulistą (Eh) i emisyjność normalną (E_n).

175 403

Znane jest uzyskiwanie danych dla pomiaru takich wartości emisyjności, na przykład przy użyciu spektrofotometru, który mierzy odbicie w funkcji długości fali, a emisyjność jest obliczana przy użyciu standardu ASTM z 1991 r.

Stosowane w opisie określenie rezystancja arkusza (Rs) jest określeniem znanym i odnosi się do rezystancji w omach dla dowolnego kwadratu układu warstwowego na podłożu szklanym przy przepływie prądu elektrycznego przez układ warstwowy. Rezystancja arkusza określa w jakim stopniu warstwa odbija promieniowanie podczerwone ijest stosowana wraz z emisyjnością jako wymiar tej własności. Jest ona mierzona przy użyciu 4-punktowego omomierza kontrolnego, takiego jak na przykład 4-punktowy próbnik rezystywności z głowicą magnetronową.

Dla wielu zastosowań architektonicznych jest pożądane, żeby wartości emisyjności i Rs były tak małe jak jest to możliwe, żeby okno szklane odbijało znaczne ilości promieniowania podczerwonego padającego na szkło. Mówiąc ogólnie, za szkła o małym współczynniku E (czyli o małej emisyjności) są uważane te szkła, które mają emisyjność półkulistą Eh mniejszą niż około 0,16 i emisyjność normalną E_n mniejszą niż około 0,12. Korzystnie Eh wynosi około 0,13 lub mniej oraz En wynosi około 0,10 lub mniej. Równocześnie rezystancja arkusza Rs jest przy tym korzystnie mniejsza niż około 10,5 oma/kwadrat. Takie szkła przepuszczają, zgodnie z wymaganiami handlowymi około 76% promieniowania widzialnego lub więcej, przy czym stosuje się technikę czynnika oświetlającego C do pomiaru przepuszczalności szkieł o grubości około 2 mm - 6 mm. Przepuszczalność promieniowania widzialnego jest korzystniej równa około 78% lub więcej dla szkieł o grubości pomiędzy około 2 mm - 6 mm, a najkorzystniej około 80% lub więcej.

Technika wytwarzania szkła architektonicznego przez magnetronowe napylanie katodowe wielu warstw metalu i/lub tlenków lub azotków metali na arkusze szkła otrzymywanego w procesie płynięcia jest dobrze znana przy użyciu dużej liczby różnych kombinacji metali (na przykład Ag, Au i tym podobne), tlenków i azotków. Wykorzystuje się tu elektrody albo płaskie albo rurowe, lub ich kombinację oraz korzystnie magnetronowe urządzenie do napylania katodowego przedstawione w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 356 073 i 4 422 916.

Znane jest użycie wymienionego urządzenia do napylania katodowego przy wytwarzaniu szkieł architektonicznych mających układ warstwowy, kolejno od szkła (na przykład standardowego szkła otrzymanego w procesie płynięcia) na zewnątrz jak następuje:

Si3N4/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Si3N4 gdzie stop Ni:Crjest 80/20 wagowym Ni/Cr (czyli nichromem) i dwie warstwy nichromowe mają grubość 7 A, warstwa Ag ma grubość 70A (może mieć grubość do 100 A), a warstwy Si3N4 są grubsze (np. 320 A warstwa dolna i około 450 A warstwa górna). Warstwa srebra ma budowę raczej półciągłą ze względu na to, że jest cienka.

Chociaż ta znana powłoka uzyskuje dobrą trwałość (powłoka tajest odporna na zadrapania, odporna na zużycie i stabilna chemicznie) w porównaniu z powłokami pirolitycznymi, jej inne właściwości pogarszaj ą odbicie promieniowania podczerwonego i charakterystyki przepuszczalności promieniowania widzialnego. Na przykład dla szkła o grubości około 3 mm, przepuszczalność promieniowania widzialnego (czynnik oświetlający C) wynosi zwykle tylko około 76%, Eh wynosi 0,20-0,22 i Eh wynosi 0,14-0,17. Obie te wartości emisyjności są raczej duże. Rezystancja arkusza Rs ma wartość stosunkowo dużą 15,8 oma/kwadrat (korzystniejszą wartością jest około 10,5 lub mniejsza). Tak więc chociaż trwałość została znacznie poprawiona i chociaż' te .powłoki okazały się również odpowiednie dla zwykłych szczeliw (pokonując przez to ten problem występujący w znanym wieloszybowym oknie), jakość regulacji promieniowania słonecznego była gorsza niż optymalna dla wielu nowoczesnych celów architektonicznych.

Znane są także inne powłoki zawierające srebro i/lub Ni:Cr jako warstwy do regulacji odbicia promieniowania podczerwonego i innego promieniowania, na przykład filtry lub też inne powłoki ujawnione w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 682 528 i 4 799 745. Znane są również warstwowe układy dielektryczno-metalowe wytwarzane na

175 403 przykład według opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 179 181,3 698 946, 3 987 273, 3 901 997 i 3 889 026.

Wydajność znanych sposobów jest jednak niedostateczna, czego przyczyną jest przyjęcie założenia, żeby srebro było izolowane od gazowego N₂ podczas napylania katodowego. Przy napylaniu katodowym uważano, że N₂ niekorzystnie wpływa na srebro podczas tej operacji.

Otrzymywane powłoki nie były również trwałe. Stosowane tutaj określenia trwały lub trwałość oznaczają mechaniczną i chemiczną odporność na pogorszenie się jakości szkła, bliską lub równą osiąganej w procesie pirolitycznym.

Według wynalazku szkło warstwowe powlekane warstwą napylaną katodowo posiada podłoże szklane, mające na zewnątrz szkła układ warstw, składający się z dolnej warstwy Si^N.i o grubości 40 nm do 42,5 nm oraz górnej warstwy z Si3N o grubości 54 nm do 57,5 nm, zawierający pomiędzy nimi co najmniej dwie warstwy niklu lub stopu niklu i co najmniej jedną warstwę srebra.

Układ warstw jest trwały i przepuszczalność promieniowania widzialnego wynosi korzystnie przynajmniej 78%.

Przepuszczalność jest korzystnie większa niż 80%.

Emisyjność normalna En wynosi 0,10 lub mniej oraz emisyjność półkulista Eh wynosi 0,13 lub mniej.

Emisyjność normalna En wynosi korzystnie 0,09-0,10 i emisyjność półkulista Eh wynosi korzystnie 0,12-0,13.

Rezystancja arkusza wynosi 10,5 omów/kwadrat lub mniej.

Rezystancja arkusza wynosi korzystnie 9-10 omów/kwadrat.

Warstwy niklu i stopu niklu mają grubość mniejszą niż około 7 A, a warstwa srebra ma grubość większą niż 90 A.

Warstwa srebra ma grubość 90-105 A.

Pierwsza warstwa z Si3N4 ma grubość przynajmniej 400 A i druga warstwa z Si3N4 ma grubość przynajmniej 540 A.

Układ warstw składa się zasadniczo z pięciu warstw.

Układ warstw, składający się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z Si3N4, drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu i piątej warstwy z Si3N4.

W innym wykonaniu wynalazku układ warstw składa się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z Si3N4, drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu, piątej warstwy ze srebra, szóstej warstwy z niklu lub stopu niklu i siódmej warstwy z Si3N4.

Każda z warstw ze srebra ma grubość 50 A i każda z warstw nichromowych ma grubość mniejszą niż 7 A.

Co najmniej jedna z warstw niklu lub stopu niklowego jest stopem niklowo-chromowym i zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.

Wszystkie z warstw niklowych lub stopu niklowego są stopem niklowo-chromowym, w którym zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.

Stop niklowo-chromowy zawiera wagowo około 80% niklu i 20% chromu.

Przepuszczalność wynosi przynajmniej 80% lub więcej, emisyjność normalna En wynosi 0,10 lub mniej i emisyjność półkulista Eh wynosi 0,13 lub mniej.

Szkło ma rezystancję arkusza 10,5 omów/kwadrat lub mniej.

Grubość dowolnej warstwy dichromowej jest mniejsza niż 7 A i całkowita grubość srebra wynosi 90-105 A.

Szkło posiada tylko jedną warstwę srebra o grubości 95 A.

Szkło posiada dwie warstwy srebra rozdzielone przez warstwę nichromową, przy czym każda z warstw srebra ma grubość 50 A

W korzystnych postaciach wykonania wynalazku układ warstwowy składa się z powyższych pięciu warstw i żadnych innych. Układ warstwowy może być powiększony o inne znane powłoki, które nie zakłócają i nie pogarszają podstawowych własności powłok według wynalazku. Te dodatkowe warstwy poprawiają zasadnicze włąsności powłok. Jeden tego rodzaju

175 403 układ warstwowy stanowi na przykład układ siedmiu warstw, wytworzony przez rodzielenie warstwy srebra na dwie warstwy srebra przez warstwę na bazie niklu (np. niklowo-chromową) tak, że układ warstw od szkła na zewnątrz składa się teraz z:

Si3\VNi:Cr/Ag/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Si3N4

Ten układ siedmiowarstwowy ma zwykle nieco większą trwałość i odporność na zarysowanie w porówananiu z opisanym powyżej układem pięciowarstwowym, jak również nawet większy współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego.

Następne warstwy mogą równocześnie posiadać dowolne powłoki górne dla zwiększenia odporności na zadrapanie lub powłoki dolne dla celów zwiększenia przyczepności i podobnych. Jednak najkorzystniejsze układy są układami pięcio- i siedmiowarstwowymi.

W celu uzyskania pożądanych optymalnych charakterystyk emisyjności i przepuszczalności, grubości warstw są bardzo ważne ze względu na wymagane wyniki końcowe. Ważne jest użycie srebra o zwiększonej grubości poza zalecane dotychczas 70 A, o około 20%-30% więcej, aby zapewnić, gdy srebro jest pojedynczą warstwą, zasadniczo ciągłą warstwę srebra i we wszystkich przypadkach zapewnić właściwe własności odbicia promieniowania podczerwonego. Zatem w tym wynalazku zamiast wykorzystywania zalecanej dotychczas warstwy srebra 7θ A, stosowana jest całkowita grubość srebra około 90-105 A i korzystnie 95-105 A.

W przypadku układu pięciowarstwowego według wynalazku, na przykład posiadającego pojedynczą warstwę Ag, korzystna jego grubość wynosi 95 A. W tych przykładach wykonania, gdzie warstwa srebra jest podzielona na dwie warstwy przez warstwę na bazie niklu, całkowita grubość obu warstw powinna wynosić 90-105 A i korzystnie każda powinna wynosić 50 A. Wobec tego należy zaznaczyć, że warstwy srebra o wymiarze 50 A stają się nieco nieciągłe. Pomimo tego stanu, który stanowi problem w znanych układach przy realizacji wynalazku nie obserwuje się żadnych niekorzystnych cech.

Stosowane warstwy na bazie niklu są korzystnie nichromem Ni:Cr (80/20) stosowanym w znanych układach. Jednak zamiast użycia zalecanej dotychczas grubości 10 A (lub większej), warstwy Ni:Cr mają zwykle grubość mniejszą niż 7 A (na przykład 6 A lub mniej albo zmniejszoną o około 15-20%).

W podobny sposób do stosowania całkowitej warstwy lub warstw srebra, każda z warstw Si3N4 według wynalazku jest grubsza niż warstwy znanych układów. W korzystnych postaciach wykonań wzrost grubości srebra, jest tego samego rzędu wielkości, co wzrost grubości srebra na przykład około 20% lub większy. Tak więc w korzystnych postaciach wykonań, zamiast użycia warstwy dolnej i warstwy górnej z Si3N4, każdej odpowiednio o grubości 320 A i 450A, (warstwa dolna jest nieco cieńsza niż warstwa górna), według wynalazku korzystnajest grubość warstwy dolnej z Si3N4 przynajmniej 400 A i grubość warstwy górnej przynajmniej 540 A. Najkorzystniejsza jest warstwa dolna 400 A - 425 A i warstwa górna 540 A - 575 A. Celem tych warstw z Si3N4 jest głównie przeciwodbicie, regulacja koloru, odporność chemiczna, odporność na zarysowanie i odporność na zużycie.

Okna wielowarstwowe są popularne w zastosowaniach architektonicznych. Układy warstwowe według wynalazku są właściwe dla zwykłych szczeliw stosowanych przy wykonywaniu tych okien i dlatego pokonują ten problem w takim samym stopniu, jak znany układ warstwowy.

Według wynalazku sposób wytwarzania szkła warstwowego w postaci cienkiego, trwałego układu warstwowego do regulacji promieniowania słonecznego na podłożu szklanym, polega na tym, że warstwy napyla się katodowo na podłoże szklane w następującej kolejności: w atmosferze zawierającej azot warstwę dolną z SbN4, następnie w atmosferze zawierającej azot pierwszą warstwę ze stopu niklowo-chromowego, po czym w tej samej atmosferze, co w poprzednim etapie co najmniej jedną warstwę srebra, następnie w tej samej atmosferze, co w dwóch poprzednich etapach drugą warstwę stopu niklowo-chromowego, oraz warstwę górną z Si3N4 w atmosferze zawierającej azot.

Warstwy napyla się katodowo w wielu strefach odizolowanych od siebie, przy czym warstwy z Si3N4 napyla się katodowo w co najmniej dwóch oddzielnych strefach, w atmosferze zasadniczo 100% N2. Warstwy Ni:azotek Cr i srebra napyla się katodowo w tej samej strefie i

175 403 w atmosferze składającej się zasadniczo z mieszaniny zawierającej objętościowo około do 75% Ar i 100%-25% N₂.

Stosuje się mieszaninę Ar i N₂ około 50% objętościowych każdego z gazów.

Stosuje się elektrody rurowe składające się zasadniczo z krzemu do wytwarzania warstwy S13N4 przez napylanie katodowe i elektrody płaskie do wytwarzania warstw Ni:azotek Cr i srebra odpowiednio z nichromu i srebra.

Uzyskuje się przepuszczalność większą niż 80%.

Uzyskuje się emisyjność normalną En 0,10 lub mniej i emisyjność półkulistą Eh 0,13 lub mniej.

Uzyskuje się rezystancję arkusza 10,5 omów/kwadrat lub mniej.

Etapy tworzenia pierwszej i drugiej warstwy stopu niklowo-chromowego prowadzi się do osiągnięcia warstwy o grubości 7 A, a etap tworzenia warstwy srebra prowadzi się do osiągnięcia warstwy lub warstw o całkowitej grubości 90-150 A.

Najczęściej stosuje się układ warstw z pięciu warstw wytworzonych w kolejnych etapach.

W innej postaci wykonania stosuje się układ warstw z siedmiu warstw, a etapy tworzenia pierwszej i drugiej warstwy stopu niklowo-chromowego i warstwy lub warstw srebra prowadzi się w taki sposób, aby utworzyć co najmniej dwie warstwy srebra z warstwą pośrednią niklu i azotku chromowego pomiędzy nimi.

Warstwy Si napyla się katodowo korzystnie w atmosferze zawierającej mieszaninę argonu i N₂.

Według wynalazku w przypadku pewnych korzystnych układów warstw nie tylko niepotrzebne jest izolowanie srebra od N 2 podczas napylania katodowego, lecz korzystne jest wprowadzenie napylania katodowego zarówno srebra jak i niklu bazowego wspólnie w takim otoczeniu. Nie występuje żadna znaczna strata wydajności Ag. Jeżeli warstwa na bazie niklu zawiera chrom i ten chrom jest przemieniany w azotek podczas napylania katodowego, następuje poprawa przepuszczalności. W korzystnych postaciach wykonania wynalazku na bazie Ni jest stop Ni:Cr i Cr podczas napylania katodowego jest przemieniany (przynajmniej częściowo) w azotek chromu w tej samej strefie napylania katodowego wraz ze srebrem. To powoduje znaczne zwiększenie przepuszczalności promieniowania widzialnego w końcowym produkcie. W dodatku, przez wytworzenie tego azotku w tej samej strefie, w której występuje napylanie katodowe srebra, zmniejszany jest koszt i zwiększana jest wydajność.

Poprawiona wydajność i zmniejszone koszty, porównując ze znanym sposobem, określane są następująco: W znanym sposobie napylanie katodowe Si jest trudne i powolne, ponieważ moc musi być zwiększona, ponieważ stosowaną atmosferą jest 100% N₂. Przy założeniu, że srebro nie musi być napylane katodowo w środowisku zawierającym N2 i przy przemianie Cr w azotek, elektrody Ni:Cr musiałyby być wprowadzone do oddzielnych stref, co stanowi utrudnienie. Odmianą jest napylanie katodowe w tych samych strefach zawierających N2, jak też i Si, lecz to powoduje spowolnienie procesu ze względu na zmniejszenie liczby elektrod Si dostępnych do użytku. Według wynalazku jest zarówno korzystne utworzenie azotku chromu, jak również obecność N2 nie wpływa ujemnie na srebro podczas napylania katodowego, dzięki czemu eliminuje się potrzebę mało wydajnych i kosztownych sposobów, ponieważ elektrody Ni:Cr mogą teraz być zaistalowane w tej samej strefie, co elektroda srebrna, a napylanie katodowe może być teraz przeprowadzone w atmosferze Ar/N2, w przeciwieństwie do czystej atmosfery argonu, co dotychczas uważano za konieczne. Wobec tego w korzystnych postaciach wykonania wynalazku wykorzystuje się atmosferę 50/50 objętościowo A/N2, chociaż dopuszczalny jest szeroki zakres pomiędzy 0%-75% Ar i 100%-25% N2.

Napylanie katodowe Si według znanych sposobów przebiega w środowisku 100% N2. Jednak w pewnych warunkach (np. mała jednostka, mała produkcja), podczas napylania katodowego do N2 można dodać w sposobie według wynalazku argon w celu poprawy szybkości napylania katodowego Si, przy tworzeniu się nadal dopuszczalnej ilości Si3N4.

Napylanie katodowe powłoki na wykonane z Ni:Cr/Ag/Ni:Cr elektrody zachodzi w tym samym obszarze, przy użyciu atmosfery zawierającej wystarczającą ilość N2, aby wytworzyć azotek z Cr. W pewnych postaciach wykonania wynalazku napylanie katodowe warstwy dolnej i warstwy górnej jest przeprowadzane w atmosferze 100% N2, podczas gdy w innych argon może

175 403 być zastosowany w ilościach około 3%-50% objętościowych wraz z N2, aby zwiększyć wydajność.

Wynalazek umożliwia wykorzystanie wysoce wydajnego procesu napylania katodowego powłok do uzyskania na przykład szkła architektonicznego, które nie tylko ma trwałość równą powłokom pirolitycznym, lecz które osiąga również doskonałą jakość i zdolność regulacji przepuszczalnego promieniowania słonecznego.

Zaletą wynalazku jest zapewnienie układu warstwowego napylanego katodowo, którego trwałość jest równa trwałości powłok pirolitycznych, a który osiąga również optymalne charakterystyki regulacji promieniowania słonecznego oraz jest prostszy od sposobu pirolitycznego.

Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie znane urządzenie, które jest wykorzystywane do przeprowadzania sposobu według wynalazku, fig. 2 - znany układ warstw w częściowym widoku bocznym w przekroju, fig. 3 - pierwszy przykład wykonania układu warstw według wynalazku w częściowym widoku bocznym w przekroju, fig. 4 - drugi przykład wykonania układu warstw według wynalazku w częściowym widoku bocznym w przekroju.

Na figurze 1 jest przedstawione znane magnetronowe urządzenie do napylania katodowego. Według wynalazku jest zastosowanych korzystnie pięć stref 1, 2, 3, 4, 5. W strefach 1, 2,4 i 5 są elektrody krzemowe t, a napylanie jest przeprowadzane w atmosferze 100% N2. Strefa 3 wykorzystuje zwykle elektrody płaskie P i jest stosowana do wytwarzania trzech warstw pośrednich, tj. Ni:Cr/Ag/Ni:Cr. Warstwy są kolejno nakładane na szkło G, gdy wzrasta ono w kierunku strzałki A. Strefa 1 zawiera sześć rurowych elektrod ii-6 z krzemu (Si) (np. Si z domieszką 3-5 % wagowych Al dla umożliwienia przewodzenia). Strefa 2 zawiera sześć dalszych rurowych elektrod ¢7-12 z tego samego materiału. W podobny sposób każda strefa 4 i 5 zawiera sześć dalszych rurowych elektrod €19-24 i t25-30 z tego samego materiału.

Środkowa strefa 3 jest korzystnie utworzona albo z trzech płaskich elektrod P1-3 (31,16 i 33) do wytworzenia pięciowarstwowego układu, takiego jak pokazany na fig. 3, albo z pięciu-sześciu elektrod typu rurowego lub płaskiego do utworzenia układu siedmiowarstwowego, jak pokazany na fig. 4. Taki potrójny płaski układ elektrod może być również użyty do wykonania znanego układu warstwowego z fig. 2. Układ elektrod dla siedmiowarstwowego układu z fig. 4 w strefie 3 jest możliwy do wyboru przez specjalistę. Zakładając, że dyspozycyjność położeń sześciu elektrod w strefach 1-2 i 4-5 jest typowa dla tego urządzenia, przy zastosowaniu małej grubości trzech wymaganych warstw na bazie niklu (np. nichromowych), stosuje się elektrody 31 i 33 (czyli P1 i P3) jako elektrody na bazie niklu i zamiast elektrody 16 (czyli P2) stosuje się sekwencję elektrod pomiędzy obiektami P1 i P3, gdzie 113 jest ze srebra, tu na bazie niklu, a zarówno <15 lub ti6 są ze srebra.

Podczas pracy strefy 1-5 są rozdzielone przez właściwe przesłony C, ustalające w każdej strefie kontrolowaną atmosferę. Dotychczas uważano, że przy wykorzystaniu srebra jako elektrody w operacji napylania katodowego, jest ważne utrzymanie jego strefy, tj. strefy 3, jako pozbawionej N2. W znanym sposobie z fig. 2, jako korzystna atmosfera jest określane 100% Ar. Uważano także, że napylanie katodowe Si powinno zachodzić w 100% N2.

Na figurze 2 jest przedstawiony znany układ warstw wytwarzany znanym sposobem. Podłoże szklane G jest to korzystnie arkuszem szklanym o grubości około 2 mm - 6 mm, wykonanym na przykład w procesie płynięcia ze zwykłego zestawu sodowo-wapniowo-kwarcowego. W strefach 1-2 była tworzona pierwsza warstwa dolna 111 składająca się zasadniczo z

100% N2. Następnie była wykorzystywana strefa 3, przy użyciu atmosfery zasadniczo 100% argonu w celu wytwarzania najpierw stosunkowo grubej (na przykład 7 A lub więcej) warstwy 113 z nichromu 80/20, po czym stosunkowo cienkiej (na przykład 70 A), raczej nieciągłej warstwy srebrnej 115, której nieciągłość jest przedstawiona przez luki 117. W tej samej strefie 3 była następnie nakładana na srebro inna, stosunkowo cienka (na przykład 7 A lub więcej) warstwa 119 nichromu 80/20. Następnie w strefach 4-5 była tworzona warstwagórna 121 z S13N4 o grubości nieco większej niż grubość warstwy górnej 111 (na przykład 450 A).

Figura 3 przedstawia dwa przykłady wykonania wynalazku, które mogą być zrealizowane przy użyciu urządzenia z fig. 1. Występuje tu pięć warstw utworzonych na podłożu G z płynącego

175 403 szkła (o grubości 2 mm - 6 mm). Pierwsza warstwa 211 jest z SisNą i jest wytwarzana w strefach

1-2 stosujących atmosferę zasadniczo 100% N2. Optymalnie w pewnych warunkach (na przykład, gdy wymiary są mniejsze), na przykład do strefy 2 może być wprowadzone trochę argonu, aby zwiększyć napylanie katodowe Si. Następnie w strefie 3 są wytwarzane warstwy 213 (213'), 215 i 219 (219').

W jednym przykładzie wykonania wynalazku atmosfera wykorzystywana w strefie 3 zawiera zasadniczo 100% argonu, a obiekt P1 /31/ jest korzystnie nichromem 80/20, choć może być niklem lub innym stopem na bazie niklu. W celu uzyskania poprawionych charakterystyk regulacji promieniowania słonecznego, a więc pokonania problemów związanych z wyrobem z fig. 2, warstwa 213, która jest zasadniczo warstwą czysto metaliczną, ma grubość mniejszą niż 7 A. Jest to dokonywane przez zmniejszenie mocy o około 20% lub więcej dla obiektu P /31/ w porównaniu z używaną przy wytwarzaniu wyrobu z fig. 2. Następnie warstwa 215 ze srebra, wytwarzana z elektrody P /16/, jest korzystnie pogrubiana (na przykład do 90-105 A), porównując z warstwą 115, i tworzy warstwę 215 zasadniczo ciągłą. Uzyskuje się to przez zwiększenie mocy dla obiektu P2 o około 20%-33% lub więcej, porównując z mocą używaną dla warstwy 115.

Następnie jest wytwarzana warstwa 219 z zasadniczo czystego nichromu metalicznego 80/20 (lub inna na bazie niklu) w taki sposób, jak warstwa 213, i o takiej samej grubości. Potem następuje wytwarzanie w strefach 4 i 5 warstwy górnej 221 z SisNą w podobny sposób, jak dla warstwy dolnej 211. Warstwa 221 jest zwykle nieco grubsza niż warstwa 211 (na przykład 540 A w porównaniu z 400 A dla warstwy 211). Chociaż nieraz grubości górnej i dolnej warstwy z S13N4 (np. 211 i 221 lub 311 i 321 opisanych poniżej) według wynalazku mogą być takie same jak w znanym wyrobie (np. 111 i 121), w korzystnych wykonaniach wynalazku każda z nich jest pogrubiana. Jest to osiągane przez zwiększenie mocy urządzenia do napylania katodowego w strefach 1-2 i 4-5 w przybliżeniu o 20% lub więcej. Końcowy układ warstw ma trwałość w przybliżeniu taką samą jak układ warstw wyrobu z fig. 2, z nieco mniejszą odpornością na zarysowanie, lecz znacznie większą emisyjnością, przepuszczalnością i wytrzymałością arkusza wyrobu, przy czym przepuszczalności zbliżają się do poziomu 80%, a wartości emisyjności i Rs są znacznie mniejsze.

W innym, szczególnie korzystnym przykładzie wykonania z fig. 3, jest stosowany unikalny sposób wykorzystujący urządzenie z fig. 1 i są osiągane nawet lepsze właściwości regulacji promieniowania słonecznego. Ten sposób obejmuje takie same podstawowe etapy, jak w pierwszym przykładzie wykonania, oprócz tego, że jest stosowany gazowy N2 wraz z argonem w strefie 3 i stop niklowo-chromowy jako jeden albo korzystnie obie elektrody P1 /31/ i P31331 tak, że metal chromowy jest osadzony jako jej azotek w warstwie/ach/ Ni:Cr, czyli jako jedna albo obie warstwy 213’ i/lub 219’. Stosunek argonu do N2 zmienia się w zależności od potrzeby, a stosunek objętościowy 0%-75% Ar do 100%-25% N2 i korzystnie 50%-50% Ar do N2 dają poprawione charakterystyki (np. lepszą przepustowość i R_s), nawet porównując z pierwszym przykładem wykonania wynalazku. Korzystnie grubości są takie same jak w pierwszym przykładzie wykonania.

Układ warstw z fig. 4 jest wytwarzany przez nakładanie warstw na bazie niklu jako zasadniczo czysto metalicznych warstw, przy użyciu środowiska argonu, zawierającego N2 i stopu niklowo-chromowego jako jednej lub więcej elektrod, przez co uzyskuje się poprawione wyniki poprzez wytworzenie azotku chromowego w jednej lub większej liczbie warstw Ni:Cr. W tym przykładzie wykonania pojedyncza warstwa 215 ze srebra z fig. 3 jest dzielona na dwie warstwy ze srebra, z warstwą na bazie niklu pomiędzy nimi. Przykład wykonania z fig. 4 jest realizowany przy użyciu właściwej liczby elektrod (nie pokazanych) w strefie 3, przez wytworzenie w strefach 1-2 warstwy dolnej 311 z Si3N4 i w strefach 4-5 warstwy górnej 321 z Si3N4. Korzystne jest zastosowanie takich samych grubości warstw 311 i 321 jak warstw 211 i 221.

Figura 4 różni się od fig. 3 głównie tym, że w strefie 3 jest najpierw wytwarzana warstwa metaliczna 313 na bazie niklu (czyli korzystnie 80/20 nichromu) lub jej podstawienie azotkiem 313'o grubości mniejszej niż 7 A. Następnie jest wytwarzana pierwsza warstwa 315A ze srebra o grubości 50 A, po której następuje inna warstwa metaliczna 314 na bazie niklu lub jej podstawienie azotkiem 314' o grubości mniejszej niż 7 A. Potem jest wytwarzana druga warstwa

175 403

315B ze srebra o grubości około 50 A, po której następuje inna warstwa metaliczna 319 na bazie niklu lub jej podstawienie azotkiem 319' o grubości mniejszej niż 7 A. Całkowita grubość połączonych warstw ze srebra wynosi korzystnie 90-105 A. Układ kończy się warstwą górną 321 z S13N4.

Wówczas, gdy w przykładzie wykonania z fig. 4, każda z warstw 315A,B ze srebra ma grubość tylko 50 A, pojawiają się nieciągłości reprezentowane przez luki 317, podobnie jak luki 117 z fig. 2. Takie nieciągłości nie występują w przykładzie wykonania z fig. 4.

Siedmiowarstwowy układ z fig. 4 jest bardziej trwały niż w dwóch przykładach wykonania z fig. 3 i chociaż ma on mniejszą przepuszczalność niż w tych przykładach wykonania, nieznacznie większą od minimalnego poziomu 76%, jego emisyjność i wartości Rs są lepsze niż w przykładach wykonań z fig. 3 dzięki rozdzieleniu srebra w dwie warstwy, w połączeniu z użyciem pośredniej warstwy na bazie Ni, np. Ni:Cr. Pośrednia warstwa na bazie Ni jest ważną funkcjonalną warstwą, która pomaga w osiągnięciu większej trwałości, szczególnie gdy jest ona w postaci stopu Ni:Cr, np. 80/20 nichromu, gdzie chrom został przemieniony w jego azotek.

Typowy, standardowy układ warstw pokazany przykładowo na fig. 2 i dwa przykłady wykonań układu, pokazane przykładowo na fig. 3, były wytwarzane przy użyciu urządzenia z fig. 1. Pierwszy przykład wykonania wynalazku jest omawiany jako typ A, a drugi, gdy azotek jest wytwarzany w obu warstwach 213’ i 219’; jest omawiany jako typ B. Stosowane elektrody stanowiły elektrody rurowe z Si z domieszką glinu dla 1u2 i 119.30. Elektrody Pi/31/ i P3 /33/ wynosiły wagowo 80% Ni i 20% Cr. Elektroda P2 /16/ była ze srebra. Stosowane szkło było zwykłym szkłem sodowo-wapniowo-kwarcowym, wytwarzanym w procesie płynięcia i mającym grubość 3 mm. Stosowana szybkość linii wynosiła 876 cm/min. Ciśnienie e strefach 1-2 i 4-5 było równe 2,5x10'3 T. W tych strefach była wykorzystywana atmosfera 100% N2. W strefie 3 było ciśnienie 2,0x10 3 T. Dla znanego układu i typu A według wynalazku była używana atmosfera 100% argonu. Dla typu B była używana atmosfera 50% Ar/50% N2. Zasilanie elektryczne dla każdej elektrody było następujące:

Tabela 1

Typy A i B, strefy 1-2 i 4-5
Elektroda Nr	Wolty /V/	Ampery /A/	Moc /kW/
1	470	124	58, 0
2	481	115	55, 5
3	431	21	8, 9
4	446	123	55, 0
5	446	124	55, 5
6	449	124	55, 5
7	440	123	54,1
8	449	130	58,2
9	429	123	52,7
10	420	123	51,5
11	479	30	14,3
12	450	112	50, 4

175 403 cd. tabeli 1

	Typy A i B	i, strefy 1-2 i	4-5
Elektroda Nr	Wolty /V/	Ampery /A/	Moc /kW/
19	425	136	57,5
20	444	135	60, 0
21	453	129	50, 6
22	426	130	55, 0
23	415	104	43, 1
24	441	135	59, 5
25	458	35	16, 1
26	477	138	65, 6
27	455	133	60,5
28	478	137	58, 6
29	447	86	38,2
30	429	86	36, 8

Tabela 2

Typ Al, strefa 3
Elektroda Nr	Wolty /V/	Ampery /A/	Moc /kW/
31	390	2, 6	1,0
16	447	22, 8	10, 2
33	392	2, 6	1,0

175 403

Tabela 3

Typ B, strefa 3
Elektroda Nr	Wolty /V/	Ampery /A/*	Moc /kW/*
31	403	5, 0	2,0
16	446	32	14,2
33	400	5,1	2,0

* Moc, ampery i wolty muszą być większe dla pewnej grubości warstwy, gdy jest wytwarzany azotek.

Tabela 4

Standardowy układ warstw/, strefy 1-5
Elektroda Nr	Ampery /A/	Moc /kW/
1	80
2	80
3	80
4 Strefa 1	80
5	80
6	80
7	80
8	80
9 Strefa 2	80
10	80
11	80
12	80

175 403 cd. tabeli 4

Standardowy układ warstw, strefy 1-5
Elektroda Nr	Ampery /A/	Moc /kW/
31	3, 8	1,5
16 Strefa 3	18,4	8,1
33	3,8	1,5
19	135
20	105
21	125
22 Strefa 4	125
23	105
24	25
25	125
26	120
27 Strefa 5	50
28	110
29	110
30	80

175 403

Tabela 5

Wyniki porównawcze
Układ	warstw	Przepuszczalność promieniowania widzialnego	Odbicie /Rg/ od strony szkła	Odbicie /Rf/ od strony powłoki
Typ A	Y/%/	78, 75	8,42	4,08
Ośw.C	X	0,3097	0,2610	0,2449
2°oOs.	y	0,3192	0,2722	0,2427
	a*	-1, 69	-1, 64	+ 1,64
	b*	+ 1, 03	-11,57	-14,68
Typ B	Y	79, 57	7, 56	3,75
Ośw.C	X	0,3089	0, 2641	0,2559
2°obs .	Y	0,3190	0,2709	0,2441
	a*	-1, 98	-0,40	+ 3, 77
	b*	+ 0, 84	-11,19	-13,45
standardowy układ warstw Y	76, 45	8,26	5, 09
Ośw.C	X	0,3078	0, 2626	0,2723
2°obs.	Y	0,3163	0,2801	0,2857
	a*	-1,19	-3, 25	-1,76
	b*	-0, 30	-9, 88	-6, 95

175 403

Tabela 6

Wyniki porównawcze
Układ warstw	En	Eh	Rs/omy/kwadrat/
Typ A	0, 10	0,13	10, 0
Typ	0,10	0,13	9,4
Standardowy układ warstw	0,16	0,20	15, 8

Jako dwa inne przykłady wynalazku dla demonstracji wpływu grubości warstw, szczególnie warstwy na bazie Ni, na przepuszczalność i odbicie promieniowania podczerwonego, wykonano dwa szkła typu B, przy zastosowaniu zasadniczo identycznych warunków w strefach 1 i 2 oraz a strefach 4 i 5, przy czym dolna i górna warstwa S13N4 były wytwarzane w atmosferze 100% N2. Elektrody w strefach 1, 2,4 i 5 były elektrodami Si z domieszką glinu Al, natomiast elektrody P1 /31/ i P3 /33/ były z nichromu 80/20, a elektroda P2 /16/ była ze srebra. Jedyną różnicą było to, że w strefie 3 zastosowano różne poziomy mocy, co podano w następującej tabeli. Szkło było wykonane w procesie płynięcia jako szkło typu sodowo-wapniowo-kwarcowego o grubości 3 mm.

Tabela 7

Strefa 3, atmosfera Ar/N2=50/50
Elektroda /kW/	Przepuszczalność /Ośw.C/
Pi/31	P 2/16/	P3/33	Rs	Eh	Y%	a*	b*
			Szkło	nr 1
1,5	15, 0	1,5	8,3	0,11	80, 97	-1, 88	+ 1, 13
			Szkło	nr 2
2,0	14,0	2,0	9,1	0,12	80, 02	-1,71	+ 0,70

175 403

Przez nieznaczne zwiększenie grubości dwóch warstw azotków Ni:Cr i nieznaczne zmniejszenie grubości warstwy srebra, odbicie promieniowania podczerwonego i wartości przepuszczalności są zmniejszane. Oba te szkła są korzystne przy zastosowaniu w wieloszybowsśh oknach architektonicznych.

Następne przykłady szkła typu A były wytwarzane przy zastosowaniu różnych poziomów mocy w różnych strefach, a szkło było standardowym szkłem z powyższej tabeli 7 i miało grubość 3 mm.

Tabela 8

Nr szkła	Nr elektrody	Ampery	kW	Rs	Eh	Przepuszczalność (Ośw. C)
Y%	a*	b*
1	2	3	4	5	6	7	8	9
1	1-12,19-30	85		9,6	0,13	77,11	-2,28	-1,53
	4	35
	31	2,9	1,1
	16		10,2
	33	2,9	1,1
2	1-3,5-12	85		10,3	0,14	78,02	-2,38	-1,56
	19-30	85
	4	35
	31	2,6	1,0
	16		10,2
	33	2,6	1,0
3	H			10,0	0,13	77,84	-2,45	-1,66
	16		10,4
4				9,8	0,13	79,41	-2,13	-0,30
	19-30	105
5	1-3,5-12	90		9,8	0,13	79,20	-2,10	-0,40
	19-30	90
	4	40
6			II	9,8	0,13	79,48	-1,95	+0,17
	19-30	115
7	1-3,5-12	95
	19-30	115
	4	40
	31,16,33			9,7	0,12	79,61	-1,89	+0,05
8			H	9,7	0,13	79,78	-1,81	+0,31
	19-30	120
	4	40

175 403 cd tabeli 8

1	2	3	4	5	6	7	8	9
	31,16,33		II	9,8	0,13	79,95	-1,80	+0,15
10	1-3,5-10,12	105		9,8	0,13	79,48	-1,68	+0,66
	19-30	125
	4	95
	11	30
			M
11		H	II	9,7	0,12	79,66	-1,74	+0,62
12	1-:2,5-10,12	107		10,1	0,13	79,76	-1,61	+0,68
	3,4	47
	11	32
	19-30	125
	31,33		1,0
	16	10,2
13*			II	9,9	0,13	79,60	-1,62	+0,64

* To szkło jest szczególnie korzystne do zastosowania na okna warstwowe.

175 403

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 4,00 zł

Claims (17)

1. Zastrzeżenia patentowe

   1. Szkło warstwowe powlekane warstwą napylaną katodowo, znamienne tym, że posiada podłoże szklane, mające na zewnątrz szkła układ warstw, składający się z dolnej warstwy S13N4 o grubości 40 nm do 42,5 nm oraz górnej warstwy z SijNą o grubości 54 nm do 57,5 nm, zawierający pomiędzy nimi co najmniej dwie warstwy niklu lub stopu niklu i co najmniej jedną warstwę srebra.
2. 2. Szkło według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera układ warstw, składający się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z S13N4, drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu i piątej warstwy z Si3N4.
3. 3. Szkło według zastrz. 2, znamienne tym, że warstwy niklu lub stopu niklu mają grubość mniejszą niż 7 A, a warstwa srebra ma grubość większą niż 90 A.
4. 4. Szkło według zastrz. 3, znamienne tym, że warstwa srebra ma grubość 90-105 A.
5. 5. Szkło według zastrz. 2, znamienne tym, że pierwsza warstwa z Si3N4 ma grubość przynajmniej 400 A, a druga warstwa z S13N4 ma grubość przynajmniej 540 A.
6. 6. Szkło według zastrz. 1, znamienne tym, że układ warstw składa się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z S13N4, z drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu, piątej warstwy ze srebra, szóstej warstwy z niklu lub stopu niklu i siódmej warstwy z Si3N4.
7. 7. Szkło według zastrz. 6, znamienne tym, że każda z warstw ze srebra ma grubość 50 A i każda z warstw z niklu lub stopu niklu ma grubość mniejszą niż 7 A.
8. 8. Szkło według zastrz. 1, znamienne tym, że co najmniej jedna z warstw niklu lub stopu niklowego jest stopem niklowo-chromowym i zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.
9. 9. Szkło według zastrz. 8, znamienne tym, że wszystkie z warstw niklowych lub stopu niklowego są stopem niklowo-chromowym, w którym zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.
10. 10. Szkło według zastrz. 9, znamienne tym, że stop niklowo-chromowy zawiera wagowo 80% niklu i 20% chromu.
11. 11. Szkło według zastrz. 10, znamienne tym, że grubość dowolnej warstwy nichromowej jest mniejsza niż 7 A i całkowita grubość warstwy ze srebra wynosi około 90-105 A.
12. 12. Szkło według zastrz. 11, znamienne tym, że posiada tylko jedną warstwę srebra o grubości 95 A.
13. 13. Szkło według zastrz. 11, znamienne tym, że posiada dwie warstwy srebra rozdzielone przez warstwę nichromową, przy czym każda z warstw srebra ma grubość 50 A.
14. 14. Sposób wytwarzania szkła warstwowego w postaci cienkiego, trwałego układu warstwowego do regulacji promieniowania słonecznego na podłożu szklanym na drodze napylania katodowego, znamienny tym, że warstwy napyla się katodowo na podłoże szklane w następującej kolejności: w atmosferze zawierającej azot warstwę dolną z S13N4, następnie w atmosferze zawierającej azot pierwszą warstwę ze stopu niklowo-chromowego, po czym w tej samej atmosferze, co w poprzednim etapie co najmniej jedną warstwę srebra, następnie w tej samej atmosferze, co w dwóch poprzednich etapach drugą warstwę stopu niklowo-chromowego, oraz warstwę górną z Si3N4 w atmosferze zawierającej azot.
15. 15. Sposób według zastrz. 14, znamienny tym, że warstwy napyla się katodowo w wielu strefach odizolowanych od siebie, przy czym warstwy z Si3N4 napyla się katodowo w co najmniej dwóch oddzielnych strefach, w atmosferze zasadniczo 100% N2, a warstwy Ni:azotek Cr i srebra napyla się katodowo w tej samej strefie i w atmosferze składającej się · zasadniczo z mieszaniny zawierającej objętościowo do 75% Ar i 100%-25% N2.
16. 16. Sposób według zastrz. 15, znamienny tym, że stosuje się mieszaninę Ar i N2 zawierającą około 50% objętościowych każdego z gazów.

    175 403
17. 17. Sposób wedlugzastrz.l4,znamienny tym. ic warstwęSi napyl asię katodowow atmosferze zawierającej mieszaninę argonu i N2.