PL175403B1 - Szkło warstwowe i sposób jego wytwarzania - Google Patents
Szkło warstwowe i sposób jego wytwarzaniaInfo
- Publication number
- PL175403B1 PL175403B1 PL93298732A PL29873293A PL175403B1 PL 175403 B1 PL175403 B1 PL 175403B1 PL 93298732 A PL93298732 A PL 93298732A PL 29873293 A PL29873293 A PL 29873293A PL 175403 B1 PL175403 B1 PL 175403B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- nickel
- silver
- layers
- glass
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 108
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 71
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 70
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 70
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 33
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 44
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 27
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XSNQEMWVLMRPFR-UHFFFAOYSA-N silver nitride Chemical compound [N-3].[Ag+].[Ag+].[Ag+] XSNQEMWVLMRPFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 24
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 185
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002478 γ-tocopherol Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0652—Silicon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
- Y10T428/12549—Adjacent to each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12576—Boride, carbide or nitride component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12597—Noncrystalline silica or noncrystalline plural-oxide component [e.g., glass, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Special Wing (AREA)
Abstract
1. Szklo warstwowe powlekane warstwa napy- lana katodowo, znamienne tym, ze posiada podloze szklane, majace na zewnatrz szkla uklad warstw, skla- dajacy sie z dolnej warstwy Si3N4 o grubosci 40 nm do 42,5 nm oraz górnej warstwy z Si3N4 o grubosci 54 nm do 57,5 nm, zawierajacy pomiedzy nimi co naj- mniej dwie warstwy niklu lub stopu niklu i co najmniej jedna warstwe srebra. 14. Sposób wytwarzania szkla warstwowego w postaci cienkiego, trwalego ukladu warstwowego do regulacji promieniowania slonecznego na podlozu szklanym na drodze napylania katodowego, zna- mienny tym, ze warstwy napyla sie katodowo na podloze szklane w nastepujacej kolejnosci: w atmosfe- rze zawierajacej azot warstwe dolna z Si3N4, naste- pnie w atmosferze zawierajacej azot pierwsza warstwe ze stopu niklowo-chromowego, po czym w tej samej atmosferze, co w poprzednim etapie co najmniej jedna warstwe srebra, nastepnie w tej samej atmosferze, co w dwóch poprzednich etapach druga warstwe stopu niklowo-chromowego, oraz warstwe górna z Si3N4 w atmosferze zawierajacej azot. PL PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazkujest szkło warstwowe i sposóbjego wytwarzania, zwłaszcza szkło z powłoką napylaną katodowo, mające dużą przepuszczalność promieniowania widzialnego i doskonałe charakterystyki odbicia promieniowania podczerwonego, użyteczne jako szkło architektoniczne.
W przypadku płaskiego szkła architektonicznego, takiego jak wykonywane w procesie 'płynięcia, dwoma spośród wielu znanych technik wytwarzania powłok regulujących promieniowanie słoneczne na tych szkłach są sposób pirolityczny i sposób magnetyczny napylania katodowego. Wady dotychczas występujące w procesie napylania katodowego polegały na tym, że powłoki mogą być często łatwo ścierane (czyli są nietrwałe) i szczeliwo polimerowe stosowane przy wytwarzaniu wieloszybowych okien architektonicznych atakuje często powłokę. To z kolei powoduje zniszczenie uszczelnienia pomiędzy szybami, co pozwala na gromadzenie się pomiędzy nimi szkodliwych kondensatów. Z drugiej strony powłoki napylane katodowo mają zdolność osiągania małych wartości emisyjności i właściwość dużej przepuszczalności promieniowania widzialnego, w porównaniu z większością powłok pirolitycznych, co ma istotne znaczenie w niektórych szkłach architektonicznych.
Określenia emisyjność i przepuszczalność są znane i stosowane tutaj zgodnie ze znanym znaczeniem. Określenie przepuszczalność oznacza tutaj przepuszczalność promieniowania słonecznego, którą stanowi przepuszczalność światła widzialnego, przepuszczalność energii podczerwonej i przepuszczalność światła ultrafioletowego. Przepuszczalność całej energii słonecznej jest określana jako średnia ważona tych innych wielkości. Przepuszczalność promieniowania widzialnego jest określona standardową techniką czynnika oświetlającego C przy 380-720 nm, promieniowanie podczerwone ma 800-2100 nm, promieniowanie ultrafioletowe ma 300-400 nm i całkowite promieniowanie słonezne ma 300-210 nm. Dla uzyskania takiej emisyjności jest wykorzystywany szczególny zakres promieniowania podczerwonego (czyli 2500-40000 nm).
Przepuszczalność promieniowania widzialnego można mierzyć przy użyciu znanych, konwencjonalnych technik. Na przykład przy użyciu spektrofotometru, otrzymywana jest krzywa widmowa przepuszczalności dla każdej długości fali. Przepuszczalność promieniowania widzialnego jest potem obliczana przy użyciu ASTM E-308 Sposób obliczania kolorów przedmiotów przy użyciu systemu CIE (rocznik ASTM btandards, tom 14.2), przy czym można użyć mniejszej liczby punktów długości fal niż zalecana. Inną techniką pomiaru przepuszczalności promieniowania widzialnego jest użycie spektrometru, służącego do bezpośredniego pomiaru przepuszczalności promieniowania widzialnego.
Emisyjność (E) jest miarą lub charakterystyką zarówno pochłanianiaj ak i odbicia światła przy danych długościach fal, określaną wzorem:
E - = 1 - współczynnik odbicia powłoki
Dla zastosowań architektonicznych wartości emisyjności są istotne w tak zwanym zakresie środkowym, czasami nazywanym również zakresem dalekim widma podczerwieni, czyli dla długości fal około 2500-40000 nm. Określenie emisyjność jest stosowane tutaj do omówienia wartości emisyjności mierzonych w tym zakresie podczerwieni, co wyszczególniono w Standardzie ASTM z 1991 r. dk pomiaru eneggi i podceerwżen i w cehi obiiczenia emisyjności, zaproponowanym przez Primary GIsss Maehfaśturere' Comcil i zatytułowanym Sposób kontroli pomiaru i obliczania emitacji architektonicznych płaskich wyrobów szklanych przy użyciu pomiarów radiometrycznych. W tym standardzie emisyjność jest podzielona na dwie składowe, emisyjność półkulistą (Eh) i emisyjność normalną (En).
175 403
Znane jest uzyskiwanie danych dla pomiaru takich wartości emisyjności, na przykład przy użyciu spektrofotometru, który mierzy odbicie w funkcji długości fali, a emisyjność jest obliczana przy użyciu standardu ASTM z 1991 r.
Stosowane w opisie określenie rezystancja arkusza (Rs) jest określeniem znanym i odnosi się do rezystancji w omach dla dowolnego kwadratu układu warstwowego na podłożu szklanym przy przepływie prądu elektrycznego przez układ warstwowy. Rezystancja arkusza określa w jakim stopniu warstwa odbija promieniowanie podczerwone ijest stosowana wraz z emisyjnością jako wymiar tej własności. Jest ona mierzona przy użyciu 4-punktowego omomierza kontrolnego, takiego jak na przykład 4-punktowy próbnik rezystywności z głowicą magnetronową.
Dla wielu zastosowań architektonicznych jest pożądane, żeby wartości emisyjności i Rs były tak małe jak jest to możliwe, żeby okno szklane odbijało znaczne ilości promieniowania podczerwonego padającego na szkło. Mówiąc ogólnie, za szkła o małym współczynniku E (czyli o małej emisyjności) są uważane te szkła, które mają emisyjność półkulistą Eh mniejszą niż około 0,16 i emisyjność normalną En mniejszą niż około 0,12. Korzystnie Eh wynosi około 0,13 lub mniej oraz En wynosi około 0,10 lub mniej. Równocześnie rezystancja arkusza Rs jest przy tym korzystnie mniejsza niż około 10,5 oma/kwadrat. Takie szkła przepuszczają, zgodnie z wymaganiami handlowymi około 76% promieniowania widzialnego lub więcej, przy czym stosuje się technikę czynnika oświetlającego C do pomiaru przepuszczalności szkieł o grubości około 2 mm - 6 mm. Przepuszczalność promieniowania widzialnego jest korzystniej równa około 78% lub więcej dla szkieł o grubości pomiędzy około 2 mm - 6 mm, a najkorzystniej około 80% lub więcej.
Technika wytwarzania szkła architektonicznego przez magnetronowe napylanie katodowe wielu warstw metalu i/lub tlenków lub azotków metali na arkusze szkła otrzymywanego w procesie płynięcia jest dobrze znana przy użyciu dużej liczby różnych kombinacji metali (na przykład Ag, Au i tym podobne), tlenków i azotków. Wykorzystuje się tu elektrody albo płaskie albo rurowe, lub ich kombinację oraz korzystnie magnetronowe urządzenie do napylania katodowego przedstawione w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 356 073 i 4 422 916.
Znane jest użycie wymienionego urządzenia do napylania katodowego przy wytwarzaniu szkieł architektonicznych mających układ warstwowy, kolejno od szkła (na przykład standardowego szkła otrzymanego w procesie płynięcia) na zewnątrz jak następuje:
Si3N4/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Si3N4 gdzie stop Ni:Crjest 80/20 wagowym Ni/Cr (czyli nichromem) i dwie warstwy nichromowe mają grubość 7 A, warstwa Ag ma grubość 70A (może mieć grubość do 100 A), a warstwy Si3N4 są grubsze (np. 320 A warstwa dolna i około 450 A warstwa górna). Warstwa srebra ma budowę raczej półciągłą ze względu na to, że jest cienka.
Chociaż ta znana powłoka uzyskuje dobrą trwałość (powłoka tajest odporna na zadrapania, odporna na zużycie i stabilna chemicznie) w porównaniu z powłokami pirolitycznymi, jej inne właściwości pogarszaj ą odbicie promieniowania podczerwonego i charakterystyki przepuszczalności promieniowania widzialnego. Na przykład dla szkła o grubości około 3 mm, przepuszczalność promieniowania widzialnego (czynnik oświetlający C) wynosi zwykle tylko około 76%, Eh wynosi 0,20-0,22 i Eh wynosi 0,14-0,17. Obie te wartości emisyjności są raczej duże. Rezystancja arkusza Rs ma wartość stosunkowo dużą 15,8 oma/kwadrat (korzystniejszą wartością jest około 10,5 lub mniejsza). Tak więc chociaż trwałość została znacznie poprawiona i chociaż' te .powłoki okazały się również odpowiednie dla zwykłych szczeliw (pokonując przez to ten problem występujący w znanym wieloszybowym oknie), jakość regulacji promieniowania słonecznego była gorsza niż optymalna dla wielu nowoczesnych celów architektonicznych.
Znane są także inne powłoki zawierające srebro i/lub Ni:Cr jako warstwy do regulacji odbicia promieniowania podczerwonego i innego promieniowania, na przykład filtry lub też inne powłoki ujawnione w opisach patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 682 528 i 4 799 745. Znane są również warstwowe układy dielektryczno-metalowe wytwarzane na
175 403 przykład według opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 179 181,3 698 946, 3 987 273, 3 901 997 i 3 889 026.
Wydajność znanych sposobów jest jednak niedostateczna, czego przyczyną jest przyjęcie założenia, żeby srebro było izolowane od gazowego N2 podczas napylania katodowego. Przy napylaniu katodowym uważano, że N2 niekorzystnie wpływa na srebro podczas tej operacji.
Otrzymywane powłoki nie były również trwałe. Stosowane tutaj określenia trwały lub trwałość oznaczają mechaniczną i chemiczną odporność na pogorszenie się jakości szkła, bliską lub równą osiąganej w procesie pirolitycznym.
Według wynalazku szkło warstwowe powlekane warstwą napylaną katodowo posiada podłoże szklane, mające na zewnątrz szkła układ warstw, składający się z dolnej warstwy Si^N.i o grubości 40 nm do 42,5 nm oraz górnej warstwy z Si3N o grubości 54 nm do 57,5 nm, zawierający pomiędzy nimi co najmniej dwie warstwy niklu lub stopu niklu i co najmniej jedną warstwę srebra.
Układ warstw jest trwały i przepuszczalność promieniowania widzialnego wynosi korzystnie przynajmniej 78%.
Przepuszczalność jest korzystnie większa niż 80%.
Emisyjność normalna En wynosi 0,10 lub mniej oraz emisyjność półkulista Eh wynosi 0,13 lub mniej.
Emisyjność normalna En wynosi korzystnie 0,09-0,10 i emisyjność półkulista Eh wynosi korzystnie 0,12-0,13.
Rezystancja arkusza wynosi 10,5 omów/kwadrat lub mniej.
Rezystancja arkusza wynosi korzystnie 9-10 omów/kwadrat.
Warstwy niklu i stopu niklu mają grubość mniejszą niż około 7 A, a warstwa srebra ma grubość większą niż 90 A.
Warstwa srebra ma grubość 90-105 A.
Pierwsza warstwa z Si3N4 ma grubość przynajmniej 400 A i druga warstwa z Si3N4 ma grubość przynajmniej 540 A.
Układ warstw składa się zasadniczo z pięciu warstw.
Układ warstw, składający się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z Si3N4, drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu i piątej warstwy z Si3N4.
W innym wykonaniu wynalazku układ warstw składa się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z Si3N4, drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu, piątej warstwy ze srebra, szóstej warstwy z niklu lub stopu niklu i siódmej warstwy z Si3N4.
Każda z warstw ze srebra ma grubość 50 A i każda z warstw nichromowych ma grubość mniejszą niż 7 A.
Co najmniej jedna z warstw niklu lub stopu niklowego jest stopem niklowo-chromowym i zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.
Wszystkie z warstw niklowych lub stopu niklowego są stopem niklowo-chromowym, w którym zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.
Stop niklowo-chromowy zawiera wagowo około 80% niklu i 20% chromu.
Przepuszczalność wynosi przynajmniej 80% lub więcej, emisyjność normalna En wynosi 0,10 lub mniej i emisyjność półkulista Eh wynosi 0,13 lub mniej.
Szkło ma rezystancję arkusza 10,5 omów/kwadrat lub mniej.
Grubość dowolnej warstwy dichromowej jest mniejsza niż 7 A i całkowita grubość srebra wynosi 90-105 A.
Szkło posiada tylko jedną warstwę srebra o grubości 95 A.
Szkło posiada dwie warstwy srebra rozdzielone przez warstwę nichromową, przy czym każda z warstw srebra ma grubość 50 A
W korzystnych postaciach wykonania wynalazku układ warstwowy składa się z powyższych pięciu warstw i żadnych innych. Układ warstwowy może być powiększony o inne znane powłoki, które nie zakłócają i nie pogarszają podstawowych własności powłok według wynalazku. Te dodatkowe warstwy poprawiają zasadnicze włąsności powłok. Jeden tego rodzaju
175 403 układ warstwowy stanowi na przykład układ siedmiu warstw, wytworzony przez rodzielenie warstwy srebra na dwie warstwy srebra przez warstwę na bazie niklu (np. niklowo-chromową) tak, że układ warstw od szkła na zewnątrz składa się teraz z:
Si3\VNi:Cr/Ag/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Si3N4
Ten układ siedmiowarstwowy ma zwykle nieco większą trwałość i odporność na zarysowanie w porówananiu z opisanym powyżej układem pięciowarstwowym, jak również nawet większy współczynnik odbicia promieniowania podczerwonego.
Następne warstwy mogą równocześnie posiadać dowolne powłoki górne dla zwiększenia odporności na zadrapanie lub powłoki dolne dla celów zwiększenia przyczepności i podobnych. Jednak najkorzystniejsze układy są układami pięcio- i siedmiowarstwowymi.
W celu uzyskania pożądanych optymalnych charakterystyk emisyjności i przepuszczalności, grubości warstw są bardzo ważne ze względu na wymagane wyniki końcowe. Ważne jest użycie srebra o zwiększonej grubości poza zalecane dotychczas 70 A, o około 20%-30% więcej, aby zapewnić, gdy srebro jest pojedynczą warstwą, zasadniczo ciągłą warstwę srebra i we wszystkich przypadkach zapewnić właściwe własności odbicia promieniowania podczerwonego. Zatem w tym wynalazku zamiast wykorzystywania zalecanej dotychczas warstwy srebra 7θ A, stosowana jest całkowita grubość srebra około 90-105 A i korzystnie 95-105 A.
W przypadku układu pięciowarstwowego według wynalazku, na przykład posiadającego pojedynczą warstwę Ag, korzystna jego grubość wynosi 95 A. W tych przykładach wykonania, gdzie warstwa srebra jest podzielona na dwie warstwy przez warstwę na bazie niklu, całkowita grubość obu warstw powinna wynosić 90-105 A i korzystnie każda powinna wynosić 50 A. Wobec tego należy zaznaczyć, że warstwy srebra o wymiarze 50 A stają się nieco nieciągłe. Pomimo tego stanu, który stanowi problem w znanych układach przy realizacji wynalazku nie obserwuje się żadnych niekorzystnych cech.
Stosowane warstwy na bazie niklu są korzystnie nichromem Ni:Cr (80/20) stosowanym w znanych układach. Jednak zamiast użycia zalecanej dotychczas grubości 10 A (lub większej), warstwy Ni:Cr mają zwykle grubość mniejszą niż 7 A (na przykład 6 A lub mniej albo zmniejszoną o około 15-20%).
W podobny sposób do stosowania całkowitej warstwy lub warstw srebra, każda z warstw Si3N4 według wynalazku jest grubsza niż warstwy znanych układów. W korzystnych postaciach wykonań wzrost grubości srebra, jest tego samego rzędu wielkości, co wzrost grubości srebra na przykład około 20% lub większy. Tak więc w korzystnych postaciach wykonań, zamiast użycia warstwy dolnej i warstwy górnej z Si3N4, każdej odpowiednio o grubości 320 A i 450A, (warstwa dolna jest nieco cieńsza niż warstwa górna), według wynalazku korzystnajest grubość warstwy dolnej z Si3N4 przynajmniej 400 A i grubość warstwy górnej przynajmniej 540 A. Najkorzystniejsza jest warstwa dolna 400 A - 425 A i warstwa górna 540 A - 575 A. Celem tych warstw z Si3N4 jest głównie przeciwodbicie, regulacja koloru, odporność chemiczna, odporność na zarysowanie i odporność na zużycie.
Okna wielowarstwowe są popularne w zastosowaniach architektonicznych. Układy warstwowe według wynalazku są właściwe dla zwykłych szczeliw stosowanych przy wykonywaniu tych okien i dlatego pokonują ten problem w takim samym stopniu, jak znany układ warstwowy.
Według wynalazku sposób wytwarzania szkła warstwowego w postaci cienkiego, trwałego układu warstwowego do regulacji promieniowania słonecznego na podłożu szklanym, polega na tym, że warstwy napyla się katodowo na podłoże szklane w następującej kolejności: w atmosferze zawierającej azot warstwę dolną z SbN4, następnie w atmosferze zawierającej azot pierwszą warstwę ze stopu niklowo-chromowego, po czym w tej samej atmosferze, co w poprzednim etapie co najmniej jedną warstwę srebra, następnie w tej samej atmosferze, co w dwóch poprzednich etapach drugą warstwę stopu niklowo-chromowego, oraz warstwę górną z Si3N4 w atmosferze zawierającej azot.
Warstwy napyla się katodowo w wielu strefach odizolowanych od siebie, przy czym warstwy z Si3N4 napyla się katodowo w co najmniej dwóch oddzielnych strefach, w atmosferze zasadniczo 100% N2. Warstwy Ni:azotek Cr i srebra napyla się katodowo w tej samej strefie i
175 403 w atmosferze składającej się zasadniczo z mieszaniny zawierającej objętościowo około do 75% Ar i 100%-25% N2.
Stosuje się mieszaninę Ar i N2 około 50% objętościowych każdego z gazów.
Stosuje się elektrody rurowe składające się zasadniczo z krzemu do wytwarzania warstwy S13N4 przez napylanie katodowe i elektrody płaskie do wytwarzania warstw Ni:azotek Cr i srebra odpowiednio z nichromu i srebra.
Uzyskuje się przepuszczalność większą niż 80%.
Uzyskuje się emisyjność normalną En 0,10 lub mniej i emisyjność półkulistą Eh 0,13 lub mniej.
Uzyskuje się rezystancję arkusza 10,5 omów/kwadrat lub mniej.
Etapy tworzenia pierwszej i drugiej warstwy stopu niklowo-chromowego prowadzi się do osiągnięcia warstwy o grubości 7 A, a etap tworzenia warstwy srebra prowadzi się do osiągnięcia warstwy lub warstw o całkowitej grubości 90-150 A.
Najczęściej stosuje się układ warstw z pięciu warstw wytworzonych w kolejnych etapach.
W innej postaci wykonania stosuje się układ warstw z siedmiu warstw, a etapy tworzenia pierwszej i drugiej warstwy stopu niklowo-chromowego i warstwy lub warstw srebra prowadzi się w taki sposób, aby utworzyć co najmniej dwie warstwy srebra z warstwą pośrednią niklu i azotku chromowego pomiędzy nimi.
Warstwy Si napyla się katodowo korzystnie w atmosferze zawierającej mieszaninę argonu i N2.
Według wynalazku w przypadku pewnych korzystnych układów warstw nie tylko niepotrzebne jest izolowanie srebra od N 2 podczas napylania katodowego, lecz korzystne jest wprowadzenie napylania katodowego zarówno srebra jak i niklu bazowego wspólnie w takim otoczeniu. Nie występuje żadna znaczna strata wydajności Ag. Jeżeli warstwa na bazie niklu zawiera chrom i ten chrom jest przemieniany w azotek podczas napylania katodowego, następuje poprawa przepuszczalności. W korzystnych postaciach wykonania wynalazku na bazie Ni jest stop Ni:Cr i Cr podczas napylania katodowego jest przemieniany (przynajmniej częściowo) w azotek chromu w tej samej strefie napylania katodowego wraz ze srebrem. To powoduje znaczne zwiększenie przepuszczalności promieniowania widzialnego w końcowym produkcie. W dodatku, przez wytworzenie tego azotku w tej samej strefie, w której występuje napylanie katodowe srebra, zmniejszany jest koszt i zwiększana jest wydajność.
Poprawiona wydajność i zmniejszone koszty, porównując ze znanym sposobem, określane są następująco: W znanym sposobie napylanie katodowe Si jest trudne i powolne, ponieważ moc musi być zwiększona, ponieważ stosowaną atmosferą jest 100% N2. Przy założeniu, że srebro nie musi być napylane katodowo w środowisku zawierającym N2 i przy przemianie Cr w azotek, elektrody Ni:Cr musiałyby być wprowadzone do oddzielnych stref, co stanowi utrudnienie. Odmianą jest napylanie katodowe w tych samych strefach zawierających N2, jak też i Si, lecz to powoduje spowolnienie procesu ze względu na zmniejszenie liczby elektrod Si dostępnych do użytku. Według wynalazku jest zarówno korzystne utworzenie azotku chromu, jak również obecność N2 nie wpływa ujemnie na srebro podczas napylania katodowego, dzięki czemu eliminuje się potrzebę mało wydajnych i kosztownych sposobów, ponieważ elektrody Ni:Cr mogą teraz być zaistalowane w tej samej strefie, co elektroda srebrna, a napylanie katodowe może być teraz przeprowadzone w atmosferze Ar/N2, w przeciwieństwie do czystej atmosfery argonu, co dotychczas uważano za konieczne. Wobec tego w korzystnych postaciach wykonania wynalazku wykorzystuje się atmosferę 50/50 objętościowo A/N2, chociaż dopuszczalny jest szeroki zakres pomiędzy 0%-75% Ar i 100%-25% N2.
Napylanie katodowe Si według znanych sposobów przebiega w środowisku 100% N2. Jednak w pewnych warunkach (np. mała jednostka, mała produkcja), podczas napylania katodowego do N2 można dodać w sposobie według wynalazku argon w celu poprawy szybkości napylania katodowego Si, przy tworzeniu się nadal dopuszczalnej ilości Si3N4.
Napylanie katodowe powłoki na wykonane z Ni:Cr/Ag/Ni:Cr elektrody zachodzi w tym samym obszarze, przy użyciu atmosfery zawierającej wystarczającą ilość N2, aby wytworzyć azotek z Cr. W pewnych postaciach wykonania wynalazku napylanie katodowe warstwy dolnej i warstwy górnej jest przeprowadzane w atmosferze 100% N2, podczas gdy w innych argon może
175 403 być zastosowany w ilościach około 3%-50% objętościowych wraz z N2, aby zwiększyć wydajność.
Wynalazek umożliwia wykorzystanie wysoce wydajnego procesu napylania katodowego powłok do uzyskania na przykład szkła architektonicznego, które nie tylko ma trwałość równą powłokom pirolitycznym, lecz które osiąga również doskonałą jakość i zdolność regulacji przepuszczalnego promieniowania słonecznego.
Zaletą wynalazku jest zapewnienie układu warstwowego napylanego katodowo, którego trwałość jest równa trwałości powłok pirolitycznych, a który osiąga również optymalne charakterystyki regulacji promieniowania słonecznego oraz jest prostszy od sposobu pirolitycznego.
Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie znane urządzenie, które jest wykorzystywane do przeprowadzania sposobu według wynalazku, fig. 2 - znany układ warstw w częściowym widoku bocznym w przekroju, fig. 3 - pierwszy przykład wykonania układu warstw według wynalazku w częściowym widoku bocznym w przekroju, fig. 4 - drugi przykład wykonania układu warstw według wynalazku w częściowym widoku bocznym w przekroju.
Na figurze 1 jest przedstawione znane magnetronowe urządzenie do napylania katodowego. Według wynalazku jest zastosowanych korzystnie pięć stref 1, 2, 3, 4, 5. W strefach 1, 2,4 i 5 są elektrody krzemowe t, a napylanie jest przeprowadzane w atmosferze 100% N2. Strefa 3 wykorzystuje zwykle elektrody płaskie P i jest stosowana do wytwarzania trzech warstw pośrednich, tj. Ni:Cr/Ag/Ni:Cr. Warstwy są kolejno nakładane na szkło G, gdy wzrasta ono w kierunku strzałki A. Strefa 1 zawiera sześć rurowych elektrod ii-6 z krzemu (Si) (np. Si z domieszką 3-5 % wagowych Al dla umożliwienia przewodzenia). Strefa 2 zawiera sześć dalszych rurowych elektrod ¢7-12 z tego samego materiału. W podobny sposób każda strefa 4 i 5 zawiera sześć dalszych rurowych elektrod €19-24 i t25-30 z tego samego materiału.
Środkowa strefa 3 jest korzystnie utworzona albo z trzech płaskich elektrod P1-3 (31,16 i 33) do wytworzenia pięciowarstwowego układu, takiego jak pokazany na fig. 3, albo z pięciu-sześciu elektrod typu rurowego lub płaskiego do utworzenia układu siedmiowarstwowego, jak pokazany na fig. 4. Taki potrójny płaski układ elektrod może być również użyty do wykonania znanego układu warstwowego z fig. 2. Układ elektrod dla siedmiowarstwowego układu z fig. 4 w strefie 3 jest możliwy do wyboru przez specjalistę. Zakładając, że dyspozycyjność położeń sześciu elektrod w strefach 1-2 i 4-5 jest typowa dla tego urządzenia, przy zastosowaniu małej grubości trzech wymaganych warstw na bazie niklu (np. nichromowych), stosuje się elektrody 31 i 33 (czyli P1 i P3) jako elektrody na bazie niklu i zamiast elektrody 16 (czyli P2) stosuje się sekwencję elektrod pomiędzy obiektami P1 i P3, gdzie 113 jest ze srebra, tu na bazie niklu, a zarówno <15 lub ti6 są ze srebra.
Podczas pracy strefy 1-5 są rozdzielone przez właściwe przesłony C, ustalające w każdej strefie kontrolowaną atmosferę. Dotychczas uważano, że przy wykorzystaniu srebra jako elektrody w operacji napylania katodowego, jest ważne utrzymanie jego strefy, tj. strefy 3, jako pozbawionej N2. W znanym sposobie z fig. 2, jako korzystna atmosfera jest określane 100% Ar. Uważano także, że napylanie katodowe Si powinno zachodzić w 100% N2.
Na figurze 2 jest przedstawiony znany układ warstw wytwarzany znanym sposobem. Podłoże szklane G jest to korzystnie arkuszem szklanym o grubości około 2 mm - 6 mm, wykonanym na przykład w procesie płynięcia ze zwykłego zestawu sodowo-wapniowo-kwarcowego. W strefach 1-2 była tworzona pierwsza warstwa dolna 111 składająca się zasadniczo z
100% N2. Następnie była wykorzystywana strefa 3, przy użyciu atmosfery zasadniczo 100% argonu w celu wytwarzania najpierw stosunkowo grubej (na przykład 7 A lub więcej) warstwy 113 z nichromu 80/20, po czym stosunkowo cienkiej (na przykład 70 A), raczej nieciągłej warstwy srebrnej 115, której nieciągłość jest przedstawiona przez luki 117. W tej samej strefie 3 była następnie nakładana na srebro inna, stosunkowo cienka (na przykład 7 A lub więcej) warstwa 119 nichromu 80/20. Następnie w strefach 4-5 była tworzona warstwagórna 121 z S13N4 o grubości nieco większej niż grubość warstwy górnej 111 (na przykład 450 A).
Figura 3 przedstawia dwa przykłady wykonania wynalazku, które mogą być zrealizowane przy użyciu urządzenia z fig. 1. Występuje tu pięć warstw utworzonych na podłożu G z płynącego
175 403 szkła (o grubości 2 mm - 6 mm). Pierwsza warstwa 211 jest z SisNą i jest wytwarzana w strefach
1-2 stosujących atmosferę zasadniczo 100% N2. Optymalnie w pewnych warunkach (na przykład, gdy wymiary są mniejsze), na przykład do strefy 2 może być wprowadzone trochę argonu, aby zwiększyć napylanie katodowe Si. Następnie w strefie 3 są wytwarzane warstwy 213 (213'), 215 i 219 (219').
W jednym przykładzie wykonania wynalazku atmosfera wykorzystywana w strefie 3 zawiera zasadniczo 100% argonu, a obiekt P1 /31/ jest korzystnie nichromem 80/20, choć może być niklem lub innym stopem na bazie niklu. W celu uzyskania poprawionych charakterystyk regulacji promieniowania słonecznego, a więc pokonania problemów związanych z wyrobem z fig. 2, warstwa 213, która jest zasadniczo warstwą czysto metaliczną, ma grubość mniejszą niż 7 A. Jest to dokonywane przez zmniejszenie mocy o około 20% lub więcej dla obiektu P /31/ w porównaniu z używaną przy wytwarzaniu wyrobu z fig. 2. Następnie warstwa 215 ze srebra, wytwarzana z elektrody P /16/, jest korzystnie pogrubiana (na przykład do 90-105 A), porównując z warstwą 115, i tworzy warstwę 215 zasadniczo ciągłą. Uzyskuje się to przez zwiększenie mocy dla obiektu P2 o około 20%-33% lub więcej, porównując z mocą używaną dla warstwy 115.
Następnie jest wytwarzana warstwa 219 z zasadniczo czystego nichromu metalicznego 80/20 (lub inna na bazie niklu) w taki sposób, jak warstwa 213, i o takiej samej grubości. Potem następuje wytwarzanie w strefach 4 i 5 warstwy górnej 221 z SisNą w podobny sposób, jak dla warstwy dolnej 211. Warstwa 221 jest zwykle nieco grubsza niż warstwa 211 (na przykład 540 A w porównaniu z 400 A dla warstwy 211). Chociaż nieraz grubości górnej i dolnej warstwy z S13N4 (np. 211 i 221 lub 311 i 321 opisanych poniżej) według wynalazku mogą być takie same jak w znanym wyrobie (np. 111 i 121), w korzystnych wykonaniach wynalazku każda z nich jest pogrubiana. Jest to osiągane przez zwiększenie mocy urządzenia do napylania katodowego w strefach 1-2 i 4-5 w przybliżeniu o 20% lub więcej. Końcowy układ warstw ma trwałość w przybliżeniu taką samą jak układ warstw wyrobu z fig. 2, z nieco mniejszą odpornością na zarysowanie, lecz znacznie większą emisyjnością, przepuszczalnością i wytrzymałością arkusza wyrobu, przy czym przepuszczalności zbliżają się do poziomu 80%, a wartości emisyjności i Rs są znacznie mniejsze.
W innym, szczególnie korzystnym przykładzie wykonania z fig. 3, jest stosowany unikalny sposób wykorzystujący urządzenie z fig. 1 i są osiągane nawet lepsze właściwości regulacji promieniowania słonecznego. Ten sposób obejmuje takie same podstawowe etapy, jak w pierwszym przykładzie wykonania, oprócz tego, że jest stosowany gazowy N2 wraz z argonem w strefie 3 i stop niklowo-chromowy jako jeden albo korzystnie obie elektrody P1 /31/ i P31331 tak, że metal chromowy jest osadzony jako jej azotek w warstwie/ach/ Ni:Cr, czyli jako jedna albo obie warstwy 213’ i/lub 219’. Stosunek argonu do N2 zmienia się w zależności od potrzeby, a stosunek objętościowy 0%-75% Ar do 100%-25% N2 i korzystnie 50%-50% Ar do N2 dają poprawione charakterystyki (np. lepszą przepustowość i Rs), nawet porównując z pierwszym przykładem wykonania wynalazku. Korzystnie grubości są takie same jak w pierwszym przykładzie wykonania.
Układ warstw z fig. 4 jest wytwarzany przez nakładanie warstw na bazie niklu jako zasadniczo czysto metalicznych warstw, przy użyciu środowiska argonu, zawierającego N2 i stopu niklowo-chromowego jako jednej lub więcej elektrod, przez co uzyskuje się poprawione wyniki poprzez wytworzenie azotku chromowego w jednej lub większej liczbie warstw Ni:Cr. W tym przykładzie wykonania pojedyncza warstwa 215 ze srebra z fig. 3 jest dzielona na dwie warstwy ze srebra, z warstwą na bazie niklu pomiędzy nimi. Przykład wykonania z fig. 4 jest realizowany przy użyciu właściwej liczby elektrod (nie pokazanych) w strefie 3, przez wytworzenie w strefach 1-2 warstwy dolnej 311 z Si3N4 i w strefach 4-5 warstwy górnej 321 z Si3N4. Korzystne jest zastosowanie takich samych grubości warstw 311 i 321 jak warstw 211 i 221.
Figura 4 różni się od fig. 3 głównie tym, że w strefie 3 jest najpierw wytwarzana warstwa metaliczna 313 na bazie niklu (czyli korzystnie 80/20 nichromu) lub jej podstawienie azotkiem 313'o grubości mniejszej niż 7 A. Następnie jest wytwarzana pierwsza warstwa 315A ze srebra o grubości 50 A, po której następuje inna warstwa metaliczna 314 na bazie niklu lub jej podstawienie azotkiem 314' o grubości mniejszej niż 7 A. Potem jest wytwarzana druga warstwa
175 403
315B ze srebra o grubości około 50 A, po której następuje inna warstwa metaliczna 319 na bazie niklu lub jej podstawienie azotkiem 319' o grubości mniejszej niż 7 A. Całkowita grubość połączonych warstw ze srebra wynosi korzystnie 90-105 A. Układ kończy się warstwą górną 321 z S13N4.
Wówczas, gdy w przykładzie wykonania z fig. 4, każda z warstw 315A,B ze srebra ma grubość tylko 50 A, pojawiają się nieciągłości reprezentowane przez luki 317, podobnie jak luki 117 z fig. 2. Takie nieciągłości nie występują w przykładzie wykonania z fig. 4.
Siedmiowarstwowy układ z fig. 4 jest bardziej trwały niż w dwóch przykładach wykonania z fig. 3 i chociaż ma on mniejszą przepuszczalność niż w tych przykładach wykonania, nieznacznie większą od minimalnego poziomu 76%, jego emisyjność i wartości Rs są lepsze niż w przykładach wykonań z fig. 3 dzięki rozdzieleniu srebra w dwie warstwy, w połączeniu z użyciem pośredniej warstwy na bazie Ni, np. Ni:Cr. Pośrednia warstwa na bazie Ni jest ważną funkcjonalną warstwą, która pomaga w osiągnięciu większej trwałości, szczególnie gdy jest ona w postaci stopu Ni:Cr, np. 80/20 nichromu, gdzie chrom został przemieniony w jego azotek.
Typowy, standardowy układ warstw pokazany przykładowo na fig. 2 i dwa przykłady wykonań układu, pokazane przykładowo na fig. 3, były wytwarzane przy użyciu urządzenia z fig. 1. Pierwszy przykład wykonania wynalazku jest omawiany jako typ A, a drugi, gdy azotek jest wytwarzany w obu warstwach 213’ i 219’; jest omawiany jako typ B. Stosowane elektrody stanowiły elektrody rurowe z Si z domieszką glinu dla 1u2 i 119.30. Elektrody Pi/31/ i P3 /33/ wynosiły wagowo 80% Ni i 20% Cr. Elektroda P2 /16/ była ze srebra. Stosowane szkło było zwykłym szkłem sodowo-wapniowo-kwarcowym, wytwarzanym w procesie płynięcia i mającym grubość 3 mm. Stosowana szybkość linii wynosiła 876 cm/min. Ciśnienie e strefach 1-2 i 4-5 było równe 2,5x10'3 T. W tych strefach była wykorzystywana atmosfera 100% N2. W strefie 3 było ciśnienie 2,0x10 3 T. Dla znanego układu i typu A według wynalazku była używana atmosfera 100% argonu. Dla typu B była używana atmosfera 50% Ar/50% N2. Zasilanie elektryczne dla każdej elektrody było następujące:
Tabela 1
Typy A i B, strefy 1-2 i 4-5 | |||
Elektroda Nr | Wolty /V/ | Ampery /A/ | Moc /kW/ |
1 | 470 | 124 | 58, 0 |
2 | 481 | 115 | 55, 5 |
3 | 431 | 21 | 8, 9 |
4 | 446 | 123 | 55, 0 |
5 | 446 | 124 | 55, 5 |
6 | 449 | 124 | 55, 5 |
7 | 440 | 123 | 54,1 |
8 | 449 | 130 | 58,2 |
9 | 429 | 123 | 52,7 |
10 | 420 | 123 | 51,5 |
11 | 479 | 30 | 14,3 |
12 | 450 | 112 | 50, 4 |
175 403 cd. tabeli 1
Typy A i B | i, strefy 1-2 i | 4-5 | |
Elektroda Nr | Wolty /V/ | Ampery /A/ | Moc /kW/ |
19 | 425 | 136 | 57,5 |
20 | 444 | 135 | 60, 0 |
21 | 453 | 129 | 50, 6 |
22 | 426 | 130 | 55, 0 |
23 | 415 | 104 | 43, 1 |
24 | 441 | 135 | 59, 5 |
25 | 458 | 35 | 16, 1 |
26 | 477 | 138 | 65, 6 |
27 | 455 | 133 | 60,5 |
28 | 478 | 137 | 58, 6 |
29 | 447 | 86 | 38,2 |
30 | 429 | 86 | 36, 8 |
Tabela 2
Typ Al, strefa 3 | |||
Elektroda Nr | Wolty /V/ | Ampery /A/ | Moc /kW/ |
31 | 390 | 2, 6 | 1,0 |
16 | 447 | 22, 8 | 10, 2 |
33 | 392 | 2, 6 | 1,0 |
175 403
Tabela 3
Typ B, strefa 3 | |||
Elektroda Nr | Wolty /V/ | Ampery /A/* | Moc /kW/* |
31 | 403 | 5, 0 | 2,0 |
16 | 446 | 32 | 14,2 |
33 | 400 | 5,1 | 2,0 |
* Moc, ampery i wolty muszą być większe dla pewnej grubości warstwy, gdy jest wytwarzany azotek.
Tabela 4
Standardowy układ warstw/, strefy 1-5 | ||
Elektroda Nr | Ampery /A/ | Moc /kW/ |
1 | 80 | |
2 | 80 | |
3 | 80 | |
4 Strefa 1 | 80 | |
5 | 80 | |
6 | 80 | |
7 | 80 | |
8 | 80 | |
9 Strefa 2 | 80 | |
10 | 80 | |
11 | 80 | |
12 | 80 |
175 403 cd. tabeli 4
Standardowy układ warstw, strefy 1-5 | ||
Elektroda Nr | Ampery /A/ | Moc /kW/ |
31 | 3, 8 | 1,5 |
16 Strefa 3 | 18,4 | 8,1 |
33 | 3,8 | 1,5 |
19 | 135 | |
20 | 105 | |
21 | 125 | |
22 Strefa 4 | 125 | |
23 | 105 | |
24 | 25 | |
25 | 125 | |
26 | 120 | |
27 Strefa 5 | 50 | |
28 | 110 | |
29 | 110 | |
30 | 80 |
175 403
Tabela 5
Wyniki porównawcze | ||||
Układ | warstw | Przepuszczalność promieniowania widzialnego | Odbicie /Rg/ od strony szkła | Odbicie /Rf/ od strony powłoki |
Typ A | Y/%/ | 78, 75 | 8,42 | 4,08 |
Ośw.C | X | 0,3097 | 0,2610 | 0,2449 |
2°oOs. | y | 0,3192 | 0,2722 | 0,2427 |
a* | -1, 69 | -1, 64 | + 1,64 | |
b* | + 1, 03 | -11,57 | -14,68 | |
Typ B | Y | 79, 57 | 7, 56 | 3,75 |
Ośw.C | X | 0,3089 | 0, 2641 | 0,2559 |
2°obs . | Y | 0,3190 | 0,2709 | 0,2441 |
a* | -1, 98 | -0,40 | + 3, 77 | |
b* | + 0, 84 | -11,19 | -13,45 | |
standardowy układ warstw Y | 76, 45 | 8,26 | 5, 09 | |
Ośw.C | X | 0,3078 | 0, 2626 | 0,2723 |
2°obs. | Y | 0,3163 | 0,2801 | 0,2857 |
a* | -1,19 | -3, 25 | -1,76 | |
b* | -0, 30 | -9, 88 | -6, 95 |
175 403
Tabela 6
Wyniki porównawcze | |||
Układ warstw | En | Eh | Rs/omy/kwadrat/ |
Typ A | 0, 10 | 0,13 | 10, 0 |
Typ | 0,10 | 0,13 | 9,4 |
Standardowy układ warstw | 0,16 | 0,20 | 15, 8 |
Jako dwa inne przykłady wynalazku dla demonstracji wpływu grubości warstw, szczególnie warstwy na bazie Ni, na przepuszczalność i odbicie promieniowania podczerwonego, wykonano dwa szkła typu B, przy zastosowaniu zasadniczo identycznych warunków w strefach 1 i 2 oraz a strefach 4 i 5, przy czym dolna i górna warstwa S13N4 były wytwarzane w atmosferze 100% N2. Elektrody w strefach 1, 2,4 i 5 były elektrodami Si z domieszką glinu Al, natomiast elektrody P1 /31/ i P3 /33/ były z nichromu 80/20, a elektroda P2 /16/ była ze srebra. Jedyną różnicą było to, że w strefie 3 zastosowano różne poziomy mocy, co podano w następującej tabeli. Szkło było wykonane w procesie płynięcia jako szkło typu sodowo-wapniowo-kwarcowego o grubości 3 mm.
Tabela 7
Strefa 3, atmosfera Ar/N2=50/50 | |||||||
Elektroda /kW/ | Przepuszczalność /Ośw.C/ | ||||||
Pi/31 | P 2/16/ | P3/33 | Rs | Eh | Y% | a* | b* |
Szkło | nr 1 | ||||||
1,5 | 15, 0 | 1,5 | 8,3 | 0,11 | 80, 97 | -1, 88 | + 1, 13 |
Szkło | nr 2 | ||||||
2,0 | 14,0 | 2,0 | 9,1 | 0,12 | 80, 02 | -1,71 | + 0,70 |
175 403
Przez nieznaczne zwiększenie grubości dwóch warstw azotków Ni:Cr i nieznaczne zmniejszenie grubości warstwy srebra, odbicie promieniowania podczerwonego i wartości przepuszczalności są zmniejszane. Oba te szkła są korzystne przy zastosowaniu w wieloszybowsśh oknach architektonicznych.
Następne przykłady szkła typu A były wytwarzane przy zastosowaniu różnych poziomów mocy w różnych strefach, a szkło było standardowym szkłem z powyższej tabeli 7 i miało grubość 3 mm.
Tabela 8
Nr szkła | Nr elektrody | Ampery | kW | Rs | Eh | Przepuszczalność (Ośw. C) | ||
Y% | a* | b* | ||||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 |
1 | 1-12,19-30 | 85 | 9,6 | 0,13 | 77,11 | -2,28 | -1,53 | |
4 | 35 | |||||||
31 | 2,9 | 1,1 | ||||||
16 | 10,2 | |||||||
33 | 2,9 | 1,1 | ||||||
2 | 1-3,5-12 | 85 | 10,3 | 0,14 | 78,02 | -2,38 | -1,56 | |
19-30 | 85 | |||||||
4 | 35 | |||||||
31 | 2,6 | 1,0 | ||||||
16 | 10,2 | |||||||
33 | 2,6 | 1,0 | ||||||
3 | H | 10,0 | 0,13 | 77,84 | -2,45 | -1,66 | ||
16 | 10,4 | |||||||
4 | 9,8 | 0,13 | 79,41 | -2,13 | -0,30 | |||
19-30 | 105 | |||||||
5 | 1-3,5-12 | 90 | 9,8 | 0,13 | 79,20 | -2,10 | -0,40 | |
19-30 | 90 | |||||||
4 | 40 | |||||||
6 | II | 9,8 | 0,13 | 79,48 | -1,95 | +0,17 | ||
19-30 | 115 | |||||||
7 | 1-3,5-12 | 95 | ||||||
19-30 | 115 | |||||||
4 | 40 | |||||||
31,16,33 | 9,7 | 0,12 | 79,61 | -1,89 | +0,05 | |||
8 | H | 9,7 | 0,13 | 79,78 | -1,81 | +0,31 | ||
19-30 | 120 | |||||||
4 | 40 |
175 403 cd tabeli 8
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 |
31,16,33 | II | 9,8 | 0,13 | 79,95 | -1,80 | +0,15 | ||
10 | 1-3,5-10,12 | 105 | 9,8 | 0,13 | 79,48 | -1,68 | +0,66 | |
19-30 | 125 | |||||||
4 | 95 | |||||||
11 | 30 | |||||||
M | ||||||||
11 | H | II | 9,7 | 0,12 | 79,66 | -1,74 | +0,62 | |
12 | 1-:2,5-10,12 | 107 | 10,1 | 0,13 | 79,76 | -1,61 | +0,68 | |
3,4 | 47 | |||||||
11 | 32 | |||||||
19-30 | 125 | |||||||
31,33 | 1,0 | |||||||
16 | 10,2 | |||||||
13* | II | 9,9 | 0,13 | 79,60 | -1,62 | +0,64 |
* To szkło jest szczególnie korzystne do zastosowania na okna warstwowe.
175 403
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 4,00 zł
Claims (17)
- Zastrzeżenia patentowe1. Szkło warstwowe powlekane warstwą napylaną katodowo, znamienne tym, że posiada podłoże szklane, mające na zewnątrz szkła układ warstw, składający się z dolnej warstwy S13N4 o grubości 40 nm do 42,5 nm oraz górnej warstwy z SijNą o grubości 54 nm do 57,5 nm, zawierający pomiędzy nimi co najmniej dwie warstwy niklu lub stopu niklu i co najmniej jedną warstwę srebra.
- 2. Szkło według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera układ warstw, składający się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z S13N4, drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu i piątej warstwy z Si3N4.
- 3. Szkło według zastrz. 2, znamienne tym, że warstwy niklu lub stopu niklu mają grubość mniejszą niż 7 A, a warstwa srebra ma grubość większą niż 90 A.
- 4. Szkło według zastrz. 3, znamienne tym, że warstwa srebra ma grubość 90-105 A.
- 5. Szkło według zastrz. 2, znamienne tym, że pierwsza warstwa z Si3N4 ma grubość przynajmniej 400 A, a druga warstwa z S13N4 ma grubość przynajmniej 540 A.
- 6. Szkło według zastrz. 1, znamienne tym, że układ warstw składa się zasadniczo, od szkła na zewnątrz, z pierwszej warstwy z S13N4, z drugiej warstwy z niklu lub stopu niklu, trzeciej warstwy ze srebra, czwartej warstwy z niklu lub stopu niklu, piątej warstwy ze srebra, szóstej warstwy z niklu lub stopu niklu i siódmej warstwy z Si3N4.
- 7. Szkło według zastrz. 6, znamienne tym, że każda z warstw ze srebra ma grubość 50 A i każda z warstw z niklu lub stopu niklu ma grubość mniejszą niż 7 A.
- 8. Szkło według zastrz. 1, znamienne tym, że co najmniej jedna z warstw niklu lub stopu niklowego jest stopem niklowo-chromowym i zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.
- 9. Szkło według zastrz. 8, znamienne tym, że wszystkie z warstw niklowych lub stopu niklowego są stopem niklowo-chromowym, w którym zasadnicza część chromu jest jego azotkiem.
- 10. Szkło według zastrz. 9, znamienne tym, że stop niklowo-chromowy zawiera wagowo 80% niklu i 20% chromu.
- 11. Szkło według zastrz. 10, znamienne tym, że grubość dowolnej warstwy nichromowej jest mniejsza niż 7 A i całkowita grubość warstwy ze srebra wynosi około 90-105 A.
- 12. Szkło według zastrz. 11, znamienne tym, że posiada tylko jedną warstwę srebra o grubości 95 A.
- 13. Szkło według zastrz. 11, znamienne tym, że posiada dwie warstwy srebra rozdzielone przez warstwę nichromową, przy czym każda z warstw srebra ma grubość 50 A.
- 14. Sposób wytwarzania szkła warstwowego w postaci cienkiego, trwałego układu warstwowego do regulacji promieniowania słonecznego na podłożu szklanym na drodze napylania katodowego, znamienny tym, że warstwy napyla się katodowo na podłoże szklane w następującej kolejności: w atmosferze zawierającej azot warstwę dolną z S13N4, następnie w atmosferze zawierającej azot pierwszą warstwę ze stopu niklowo-chromowego, po czym w tej samej atmosferze, co w poprzednim etapie co najmniej jedną warstwę srebra, następnie w tej samej atmosferze, co w dwóch poprzednich etapach drugą warstwę stopu niklowo-chromowego, oraz warstwę górną z Si3N4 w atmosferze zawierającej azot.
- 15. Sposób według zastrz. 14, znamienny tym, że warstwy napyla się katodowo w wielu strefach odizolowanych od siebie, przy czym warstwy z Si3N4 napyla się katodowo w co najmniej dwóch oddzielnych strefach, w atmosferze zasadniczo 100% N2, a warstwy Ni:azotek Cr i srebra napyla się katodowo w tej samej strefie i w atmosferze składającej się · zasadniczo z mieszaniny zawierającej objętościowo do 75% Ar i 100%-25% N2.
- 16. Sposób według zastrz. 15, znamienny tym, że stosuje się mieszaninę Ar i N2 zawierającą około 50% objętościowych każdego z gazów.175 403
- 17. Sposób wedlugzastrz.l4,znamienny tym. ic warstwęSi napyl asię katodowow atmosferze zawierającej mieszaninę argonu i N2.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/876,350 US5344718A (en) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | High performance, durable, low-E glass |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL298732A1 PL298732A1 (en) | 1994-01-10 |
PL175403B1 true PL175403B1 (pl) | 1998-12-31 |
Family
ID=25367504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL93298732A PL175403B1 (pl) | 1992-04-30 | 1993-04-28 | Szkło warstwowe i sposób jego wytwarzania |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5344718A (pl) |
EP (1) | EP0567735B2 (pl) |
JP (1) | JP2588831B2 (pl) |
KR (1) | KR960010585B1 (pl) |
CN (1) | CN1044358C (pl) |
AT (1) | ATE172701T1 (pl) |
AU (1) | AU659714B2 (pl) |
BR (1) | BR9301659A (pl) |
CA (1) | CA2089421C (pl) |
CZ (1) | CZ284490B6 (pl) |
DE (1) | DE69321754T3 (pl) |
DK (1) | DK0567735T3 (pl) |
ES (1) | ES2125920T3 (pl) |
HU (1) | HU212342B (pl) |
MX (1) | MX9301838A (pl) |
NO (1) | NO931570L (pl) |
NZ (1) | NZ247491A (pl) |
PL (1) | PL175403B1 (pl) |
RU (1) | RU2090919C1 (pl) |
SK (1) | SK39393A3 (pl) |
TR (1) | TR28296A (pl) |
ZA (1) | ZA932087B (pl) |
Families Citing this family (207)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW250618B (pl) * | 1993-01-27 | 1995-07-01 | Mitsui Toatsu Chemicals | |
CA2120877A1 (en) * | 1993-04-28 | 1994-10-29 | Jesse D. Wolfe | Durable first and second surface mirrors |
CA2120875C (en) * | 1993-04-28 | 1999-07-06 | The Boc Group, Inc. | Durable low-emissivity solar control thin film coating |
US5395698A (en) * | 1993-06-04 | 1995-03-07 | Ppg Industries, Inc. | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making |
US5688585A (en) | 1993-08-05 | 1997-11-18 | Guardian Industries Corp. | Matchable, heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same |
US6673438B1 (en) | 1994-05-03 | 2004-01-06 | Cardinal Cg Company | Transparent article having protective silicon nitride film |
MX9605356A (es) * | 1994-05-03 | 1997-12-31 | Cardinal Ig Co | Articulo transparente que tiene pelicula de nitruro de silicio protectora. |
US5521765A (en) * | 1994-07-07 | 1996-05-28 | The Boc Group, Inc. | Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter |
US5514476A (en) * | 1994-12-15 | 1996-05-07 | Guardian Industries Corp. | Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom |
FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
US5557462A (en) * | 1995-01-17 | 1996-09-17 | Guardian Industries Corp. | Dual silver layer Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom |
AU680786B2 (en) * | 1995-06-07 | 1997-08-07 | Guardian Industries Corporation | Heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same |
US6142642A (en) * | 1995-06-29 | 2000-11-07 | Cardinal Ig Company | Bendable mirrors and method of manufacture |
US6086210A (en) * | 1995-06-29 | 2000-07-11 | Cardinal Ig Company | Bendable mirrors and method of manufacture |
US5770321A (en) * | 1995-11-02 | 1998-06-23 | Guardian Industries Corp. | Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom |
MX9605168A (es) * | 1995-11-02 | 1997-08-30 | Guardian Industries | Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos. |
US6316111B1 (en) * | 1996-03-01 | 2001-11-13 | Cardinal Cg Company | Heat-emperable coated glass article |
US6231999B1 (en) * | 1996-06-21 | 2001-05-15 | Cardinal Ig Company | Heat temperable transparent coated glass article |
DE19643550A1 (de) * | 1996-10-24 | 1998-05-14 | Leybold Systems Gmbh | Lichttransparentes, Wärmestrahlung reflektierendes Schichtensystem |
FR2757151B1 (fr) * | 1996-12-12 | 1999-01-08 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
US20050096288A1 (en) * | 1997-06-13 | 2005-05-05 | Aragene, Inc. | Lipoproteins as nucleic acid vectors |
US6495251B1 (en) | 1997-06-20 | 2002-12-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silicon oxynitride protective coatings |
US6132881A (en) * | 1997-09-16 | 2000-10-17 | Guardian Industries Corp. | High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom |
EP1051364B1 (en) | 1997-10-31 | 2002-04-10 | Cardinal CG Company | Heat-bendable mirrors |
US6040939A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-21 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates |
US6398925B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-06-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods and apparatus for producing silver based low emissivity coatings without the use of metal primer layers and articles produced thereby |
US6416194B1 (en) * | 1999-02-11 | 2002-07-09 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Thermostable back-surface mirrors |
US6797388B1 (en) | 1999-03-18 | 2004-09-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby |
US6335086B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-01 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
US6277480B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-21 | Guardian Industries Corporation | Coated article including a DLC inclusive layer(s) and a layer(s) deposited using siloxane gas, and corresponding method |
US6447891B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-09-10 | Guardian Industries Corp. | Low-E coating system including protective DLC |
US6303225B1 (en) | 2000-05-24 | 2001-10-16 | Guardian Industries Corporation | Hydrophilic coating including DLC on substrate |
US6284377B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-09-04 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
US6312808B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-11-06 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating with DLC & FAS on substrate |
US6273488B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-14 | Guardian Industries Corporation | System and method for removing liquid from rear window of a vehicle |
US6338901B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-01-15 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
US6280834B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-08-28 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC and/or FAS on substrate |
US6368664B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-04-09 | Guardian Industries Corp. | Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon |
US6461731B1 (en) * | 1999-05-03 | 2002-10-08 | Guardian Industries Corp. | Solar management coating system including protective DLC |
US6475573B1 (en) | 1999-05-03 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Method of depositing DLC inclusive coating on substrate |
US6261693B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-07-17 | Guardian Industries Corporation | Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass |
US6078425A (en) * | 1999-06-09 | 2000-06-20 | The Regents Of The University Of California | Durable silver coating for mirrors |
US6475626B1 (en) | 1999-12-06 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles and methods of making same |
US6514620B1 (en) * | 1999-12-06 | 2003-02-04 | Guardian Industries Corp. | Matchable low-E I G units and laminates and methods of making same |
US6495263B2 (en) | 1999-12-06 | 2002-12-17 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles and methods of making same |
US20020031674A1 (en) † | 2000-03-06 | 2002-03-14 | Laird Ronald E. | Low-emissivity glass coatings having a layer of silicon oxynitride and methods of making same |
US6623846B2 (en) | 2000-03-06 | 2003-09-23 | Guardian Industries Corp. | Low-emissivity glass coatings having a layer of nitrided nichrome and methods of making same |
US6389772B2 (en) | 2000-04-19 | 2002-05-21 | William B. Gleckman | Universal building unit for building structures |
US7462398B2 (en) * | 2004-02-27 | 2008-12-09 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with zinc oxide over IR reflecting layer and corresponding method |
US7267879B2 (en) | 2001-02-28 | 2007-09-11 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon oxynitride adjacent glass |
US6445503B1 (en) | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
US7462397B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-12-09 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon nitride inclusive layer adjacent glass |
US7344782B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-03-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US6887575B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-05-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s) |
US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
US7879448B2 (en) | 2000-07-11 | 2011-02-01 | Guardian Industires Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US6416872B1 (en) | 2000-08-30 | 2002-07-09 | Cp Films, Inc. | Heat reflecting film with low visible reflectance |
US6336999B1 (en) | 2000-10-11 | 2002-01-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et Al Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Apparatus for sputter-coating glass and corresponding method |
US7311961B2 (en) * | 2000-10-24 | 2007-12-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
US20020172775A1 (en) * | 2000-10-24 | 2002-11-21 | Harry Buhay | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
DE10105199C1 (de) | 2001-02-06 | 2002-06-20 | Saint Gobain | Vorspannbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben sowie mit dem Low-E-Schichtsystem beschichtete transparente Scheibe |
EP1362015B2 (en) † | 2001-02-08 | 2017-01-11 | Guardian Industries Corp. | Low-e matchable coated articles and methods of making same |
US6524714B1 (en) * | 2001-05-03 | 2003-02-25 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with metal nitride layer and methods of making same |
US6627317B2 (en) | 2001-05-17 | 2003-09-30 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with anti-migration barrier layer between dielectric and solar control layers, and methods of making same |
US6667121B2 (en) * | 2001-05-17 | 2003-12-23 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with anti-migration barrier between dielectric and solar control layer portion, and methods of making same |
US20030043464A1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-03-06 | Dannenberg Rand David | Optical coatings and associated methods |
US20030049464A1 (en) | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
EP1903013A1 (en) * | 2001-09-13 | 2008-03-26 | Guardian, Industries Corp. | Low-E matchable coated articles, and methods of making the same |
US6605358B1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-08-12 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles, and methods |
US6936347B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-08-30 | Guardian Industries Corp. | Coated article with high visible transmission and low emissivity |
US6942923B2 (en) | 2001-12-21 | 2005-09-13 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
US6602608B2 (en) | 2001-11-09 | 2003-08-05 | Guardian Industries, Corp. | Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same |
US6589658B1 (en) | 2001-11-29 | 2003-07-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
US6586102B1 (en) | 2001-11-30 | 2003-07-01 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
US6830817B2 (en) | 2001-12-21 | 2004-12-14 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
EP1748035B1 (en) * | 2002-03-01 | 2010-10-20 | Cardinal CG Company | Thin film coating having transparent base layer |
US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
US6749941B2 (en) | 2002-03-14 | 2004-06-15 | Guardian Industries Corp. | Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with silicon-rich silicon nitride layer |
EP1497235B1 (en) * | 2002-04-25 | 2017-12-27 | Vitro, S.A.B. de C.V. | Method of making coated articles having an oxygen barrier coating and coated articles made thereby |
CZ306231B6 (cs) * | 2002-04-25 | 2016-09-07 | Ppg Ind Ohio | Výrobky s ochranným povlakem a katodové terče pro výrobu předmětů s povlakem |
CA2483260C (en) * | 2002-05-06 | 2008-12-09 | Guardian Industries Corp. | Sputter coating apparatus including ion beam source(s), and corresponding method |
DE10235154B4 (de) * | 2002-08-01 | 2005-01-05 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Vorspannbares Schichtsystem für Glasscheiben |
US6787005B2 (en) | 2002-09-04 | 2004-09-07 | Guardian Industries Corp. | Methods of making coated articles by sputtering silver in oxygen inclusive atmosphere |
US20040111806A1 (en) * | 2002-12-11 | 2004-06-17 | Scheper William Michael | Compositions comprising glycol ether solvents and methods employing same |
GB2396436B (en) | 2002-12-19 | 2006-06-28 | Thales Plc | An optical filter |
US7005190B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-02-28 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles |
US6994910B2 (en) * | 2003-01-09 | 2006-02-07 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium nitride IR reflecting layer |
EP1597067A4 (en) * | 2003-02-13 | 2009-09-02 | Guardian Industries | ARTICLES COATED WITH A NITRIDEE LAYER AND METHODS OF MAKING THE SAME |
US6852419B2 (en) * | 2003-02-21 | 2005-02-08 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium chromium nitride IR reflecting layer and method of making same |
AU2004225545B2 (en) * | 2003-03-28 | 2008-08-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials, methods for making the substrates, and cathode targets of titanium and aluminum metal |
US6974630B1 (en) | 2003-05-20 | 2005-12-13 | Guardian Industries Corp. | Coated article with niobium chromium inclusive barrier layer(s) and method of making same |
EP1641723B1 (en) * | 2003-06-24 | 2008-01-02 | Cardinal CG Company | Concentration-modulated coatings |
US20050223500A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-10-13 | The Procter & Gamble Company | Solvent treatment of fabric articles |
US7087309B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-08-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method |
US7153579B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-12-26 | Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique S.A, (C.R.V.C.) | Heat treatable coated article with tin oxide inclusive layer between titanium oxide and silicon nitride |
US7223479B2 (en) * | 2003-09-29 | 2007-05-29 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with dual layer undercoat |
FR2862961B1 (fr) * | 2003-11-28 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat transparent utilisable alternativement ou cumulativement pour le controle thermique, le blindage electromagnetique et le vitrage chauffant. |
US7081302B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
US9051211B2 (en) * | 2004-04-27 | 2015-06-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Effects of methods of manufacturing sputtering targets on characteristics of coatings |
EP1594153B1 (de) | 2004-05-05 | 2010-02-24 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Beschichtungsvorrichtung mit grossflächiger Anordnung von drehbaren Magnetronkathoden |
US8500965B2 (en) * | 2004-05-06 | 2013-08-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | MSVD coating process |
US7108889B2 (en) * | 2004-05-18 | 2006-09-19 | Guardian Industries Corp. | Glass interleaving material and method |
US8524051B2 (en) * | 2004-05-18 | 2013-09-03 | Centre Luxembourg de Recherches pour le Verre et al Ceramique S. A. (C.R.V.C.) | Coated article with oxidation graded layer proximate IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US7585396B2 (en) * | 2004-06-25 | 2009-09-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with ion treated overcoat layer and corresponding method |
US7311975B2 (en) * | 2004-06-25 | 2007-12-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article having low-E coating with ion beam treated IR reflecting layer and corresponding method |
US7550067B2 (en) * | 2004-06-25 | 2009-06-23 | Guardian Industries Corp. | Coated article with ion treated underlayer and corresponding method |
US7229533B2 (en) * | 2004-06-25 | 2007-06-12 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article having low-E coating with ion beam treated and/or formed IR reflecting layer |
US7563347B2 (en) * | 2004-06-25 | 2009-07-21 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus |
US7419725B2 (en) * | 2004-09-01 | 2008-09-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US7189458B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-03-13 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US7217461B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-05-15 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US7198851B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-04-03 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US20060065350A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Guardian Industries Corp. | Method of making heat treated coated glass article, and intermediate product used in same |
US7291251B2 (en) * | 2004-10-19 | 2007-11-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Method of making coated article with IR reflecting layer(s) using krypton gas |
US7267748B2 (en) * | 2004-10-19 | 2007-09-11 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. | Method of making coated article having IR reflecting layer with predetermined target-substrate distance |
US7390572B2 (en) * | 2004-11-05 | 2008-06-24 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer(s) and method of making same |
US20060246218A1 (en) | 2005-04-29 | 2006-11-02 | Guardian Industries Corp. | Hydrophilic DLC on substrate with barrier discharge pyrolysis treatment |
US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
US7166359B2 (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-23 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Blue colored coated article with low-E coating |
US7597963B2 (en) * | 2005-07-08 | 2009-10-06 | Guardian Industries Corp. | Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with specific color characteristics and low sheet resistance |
DE102005038139B4 (de) * | 2005-08-12 | 2008-05-21 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem und dessen Verwendung |
US7342716B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
US7572511B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-08-11 | Cardinal Cg Company | High infrared reflection coatings |
US7339728B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-04 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient |
US7845142B2 (en) | 2005-12-27 | 2010-12-07 | Guardian Industries Corp. | High R-value window unit with vacuum IG unit and insulating frame |
US8377524B2 (en) | 2005-12-27 | 2013-02-19 | Guardian Industries Corp. | High R-value window unit |
DE102006014796B4 (de) * | 2006-03-29 | 2009-04-09 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate |
DE102006023115A1 (de) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Schott Ag | Backlightsystem mit IR-Absorptionseigenschaften |
US8420162B2 (en) * | 2006-07-07 | 2013-04-16 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article using rapid heating for reducing emissivity and/or sheet resistance, and corresponding product |
DE102006037909A1 (de) * | 2006-08-11 | 2008-02-14 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Temperbares, Infrarotstrahlung reflektierendes Schichtsystem und Verfahren zu seiner Herstellung |
CN100595172C (zh) * | 2006-10-19 | 2010-03-24 | 林嘉宏 | 可钢化低辐射镀膜玻璃及其生产方法 |
US8076571B2 (en) | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US8203073B2 (en) | 2006-11-02 | 2012-06-19 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US7964788B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-06-21 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
FR2911130B1 (fr) * | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
US7655313B2 (en) * | 2007-03-15 | 2010-02-02 | Guardian Industries Corp. | Low-E coated articles and methods of making same |
CN101100354B (zh) * | 2007-06-25 | 2011-01-19 | 沈阳建筑大学 | 一种低辐射玻璃的制作方法 |
DE102007033338B4 (de) * | 2007-07-16 | 2010-06-02 | Schott Ag | Hartstoffbeschichteter Glas- oder Glaskeramik-Artikel und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Glas- oder Glaskeramik-Artikels |
FR2922886B1 (fr) * | 2007-10-25 | 2010-10-29 | Saint Gobain | Substrat verrier revetu de couches a resistivite amelioree. |
US7888594B2 (en) | 2007-11-20 | 2011-02-15 | Guardian Industries Corp. | Photovoltaic device including front electrode having titanium oxide inclusive layer with high refractive index |
US8617716B2 (en) | 2008-03-20 | 2013-12-31 | Agc Glass Europe | Film-coated glazing having a protective layer of mixed titanium oxide |
US8409717B2 (en) | 2008-04-21 | 2013-04-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
US8263227B2 (en) † | 2008-06-25 | 2012-09-11 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same |
US8722210B2 (en) * | 2008-08-14 | 2014-05-13 | Lg Hausys, Ltd. | Low emissivity glass and method for manufacturing the same |
US8022291B2 (en) | 2008-10-15 | 2011-09-20 | Guardian Industries Corp. | Method of making front electrode of photovoltaic device having etched surface and corresponding photovoltaic device |
FR2937366B1 (fr) † | 2008-10-17 | 2010-10-29 | Saint Gobain | Vitrage multiple incorporant au moins un revetement antireflet et utilisation d'un revetement antireflet dans un vitrage multiple |
US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
US8834976B2 (en) | 2010-02-26 | 2014-09-16 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same |
US8524337B2 (en) | 2010-02-26 | 2013-09-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating |
US8939606B2 (en) | 2010-02-26 | 2015-01-27 | Guardian Industries Corp. | Heatable lens for luminaires, and/or methods of making the same |
US8815059B2 (en) | 2010-08-31 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation |
US9932267B2 (en) * | 2010-03-29 | 2018-04-03 | Vitro, S.A.B. De C.V. | Solar control coatings with discontinuous metal layer |
US10654748B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings providing increased absorption or tint |
US10654747B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with subcritical copper |
US20120090246A1 (en) * | 2010-10-15 | 2012-04-19 | Guardian Industries Corp. | Refrigerator/freezer door, and/or method of making the same |
US9487437B2 (en) * | 2011-02-11 | 2016-11-08 | Guardian Industries Corp. | Substrates or assemblies having indirectly laser-fused frits, and/or method of making the same |
US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
CN102653455B (zh) | 2011-03-01 | 2015-05-13 | 苏州大学 | 低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
US8709604B2 (en) * | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
US8679633B2 (en) * | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
KR20130034334A (ko) * | 2011-09-28 | 2013-04-05 | 한국전자통신연구원 | 태양 전지를 포함하는 진공창 및 그 제조 방법 |
FR2988387B1 (fr) * | 2012-03-21 | 2017-06-16 | Saint Gobain | Vitrage de controle solaire |
US9150003B2 (en) * | 2012-09-07 | 2015-10-06 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having absorbing layers for low film side reflectance and low visible transmission |
RU2676306C2 (ru) | 2013-02-28 | 2018-12-27 | Гардиан Индастриз Корп. | Оконные модули, изготовленные с использованием керамической фритты, которая растворяет покрытия, нанесенные методом физического осаждения из паровой фазы (pvd), и/или соответствующие способы |
CN103848576A (zh) * | 2013-09-05 | 2014-06-11 | 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 | 一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法 |
CN103802379B (zh) * | 2014-01-26 | 2015-08-05 | 林嘉佑 | 一种含银合金的可钢化低辐射镀膜玻璃 |
US20170051164A1 (en) | 2014-05-09 | 2017-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Article with hardcoat and method of making the same |
FR3021311A1 (fr) * | 2014-05-23 | 2015-11-27 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a couche metallique partielle, vitrage et procede. |
FR3021310B1 (fr) * | 2014-05-23 | 2022-11-18 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a couche metallique partielle, vitrage et procede. |
DE102014108679A1 (de) | 2014-06-20 | 2015-12-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optisches Element mit einer reflektierenden Beschichtung |
CN107074623B (zh) | 2014-10-20 | 2021-05-04 | 皮尔金顿集团有限公司 | 隔绝性窗玻璃单元 |
US10723102B2 (en) | 2015-04-20 | 2020-07-28 | 3M Innovative Properties Company | Durable low emissivity window film constructions |
FR3052769B1 (fr) * | 2016-06-15 | 2018-07-13 | Saint-Gobain Glass France | Feuille de verre avec email reflechissant le rayonnement infrarouge |
US10227819B2 (en) | 2017-02-24 | 2019-03-12 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having doped silver IR reflecting layer(s) |
US10233532B2 (en) | 2017-03-01 | 2019-03-19 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having reflecting system with silver and zinc based barrier layer(s) |
US10233531B2 (en) | 2017-03-01 | 2019-03-19 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having protective doped silver layer for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same |
US10179946B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-01-15 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and niobium bismuth based high index layer and method of making same |
US10196735B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-02-05 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and doped titanium oxide dielectric layer(s) and method of making same |
US10253560B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-04-09 | Guardian Glass, LLC | Coated article with IR reflecting layer(s) and overcoat for improving solar gain and visible transmission |
US10287673B2 (en) | 2017-03-07 | 2019-05-14 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(S) and yttrium inclusive high index nitrided dielectric layer |
US10266937B2 (en) | 2017-03-09 | 2019-04-23 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and hafnium inclusive high index nitrided dielectric layer |
US10138159B2 (en) | 2017-03-09 | 2018-11-27 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric film having multiple layers |
US10138158B2 (en) | 2017-03-10 | 2018-11-27 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric layers |
EP3612867A4 (en) | 2017-04-17 | 2021-01-06 | 3e Nano Inc. | ENERGY REGULATING COATINGS, ASSOCIATED STRUCTURES, DEVICES, AND MANUFACTURING PROCESSES |
US10556821B2 (en) | 2017-04-26 | 2020-02-11 | Guardian Glass, LLC | Laminated window including different glass substrates with low-E coating adjacent vehicle or building interior and/or methods of making the same |
US10472274B2 (en) | 2017-07-17 | 2019-11-12 | Guardian Europe S.A.R.L. | Coated article having ceramic paint modified surface(s), and/or associated methods |
US20190043640A1 (en) | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Vitro Flat Glass, LLC | Protective Layer Over a Functional Coating |
US10650935B2 (en) | 2017-08-04 | 2020-05-12 | Vitro Flat Glass Llc | Transparent conductive oxide having an embedded film |
US20190040523A1 (en) | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Vitro Flat Glass, LLC | Method of Decreasing Sheet Resistance in an Article Coated with a Transparent Conductive Oxide |
US11078718B2 (en) | 2018-02-05 | 2021-08-03 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with quadruple metallic layers |
EP3752659A1 (en) | 2018-02-15 | 2020-12-23 | Vitro Flat Glass LLC | Coated article having a protective coating containing silicon nitride and/or silicon oxynitride |
US20190345754A1 (en) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Guardian Glass, LLC | Vacuum insulating glass (vig) window unit |
US10590031B2 (en) * | 2018-05-11 | 2020-03-17 | Guardian Glass, LLC | Method and system utilizing ellipsometry to detect corrosion on glass |
US10562812B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-02-18 | Guardian Glass, LLC | Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same |
US10830933B2 (en) | 2018-06-12 | 2020-11-10 | Guardian Glass, LLC | Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same |
WO2020083691A1 (en) | 2018-10-25 | 2020-04-30 | Agc Glass Europe | Low reflectance solar control glazing |
US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
WO2020190441A1 (en) | 2019-03-19 | 2020-09-24 | Applied Materials, Inc. | Hydrophobic and icephobic coating |
US10696584B1 (en) * | 2019-11-26 | 2020-06-30 | Guardian Europe S.A.R.L. | Coated article with low-E coating having protective contact layer including Ag, Ni, and Cr for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same |
CN111876738A (zh) * | 2020-07-25 | 2020-11-03 | 童玲 | 一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机 |
US11959272B1 (en) | 2020-11-25 | 2024-04-16 | Herbert L. deNourie | Building construction |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3272986A (en) * | 1963-09-27 | 1966-09-13 | Honeywell Inc | Solar heat absorbers comprising alternate layers of metal and dielectric material |
US3649359A (en) * | 1969-10-27 | 1972-03-14 | Optical Coating Laboratory Inc | Multilayer filter with metal dielectric period |
US3698946A (en) * | 1969-11-21 | 1972-10-17 | Hughes Aircraft Co | Transparent conductive coating and process therefor |
US3682528A (en) * | 1970-09-10 | 1972-08-08 | Optical Coating Laboratory Inc | Infra-red interference filter |
DE2203943C2 (de) * | 1972-01-28 | 1974-02-21 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | Wärmerefexionsscheibe, die gute Farbgleichmäßigkeit aufweist, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
US3846152A (en) * | 1972-05-12 | 1974-11-05 | Ppg Industries Inc | Selective reflecting metal/metal oxide coatings |
US3900673A (en) * | 1972-08-28 | 1975-08-19 | Libbey Owens Ford Co | Automotive glazing structure |
DE2256441C3 (de) * | 1972-11-17 | 1978-06-22 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | In Durchsicht und Draufsicht farbneutrale wärmereflektierende Scheibe und ihre Verwendung in Verbundsicherheits- und Doppelscheiben |
DE2334152B2 (de) * | 1973-07-05 | 1975-05-15 | Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth | Wärmereflektierende, 20 bis 60% des sichtbaren Lichtes durchlassende Fensterscheibe mit verbesserter Farbneutralltät In der Ansicht und ihre Verwendung |
US3990784A (en) * | 1974-06-05 | 1976-11-09 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Coated architectural glass system and method |
US3962488A (en) * | 1974-08-09 | 1976-06-08 | Ppg Industries, Inc. | Electrically conductive coating |
US4337990A (en) * | 1974-08-16 | 1982-07-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
US4556277A (en) * | 1976-05-27 | 1985-12-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
US4179181A (en) * | 1978-04-03 | 1979-12-18 | American Optical Corporation | Infrared reflecting articles |
US4223974A (en) * | 1978-08-02 | 1980-09-23 | American Optical Corporation | Enhanced bonding of silicon oxides and silver by intermediate coating of metal |
US4204942A (en) * | 1978-10-11 | 1980-05-27 | Heat Mirror Associates | Apparatus for multilayer thin film deposition |
FR2474701A1 (fr) * | 1979-12-19 | 1981-07-31 | France Etat | Filtre optique interferentiel de protection contre les radiations infrarouges et application |
DE3039821A1 (de) * | 1980-10-22 | 1982-06-03 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendung |
US4335166A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-15 | Cardinal Insulated Glass Co. | Method of manufacturing a multiple-pane insulating glass unit |
US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4422916A (en) * | 1981-02-12 | 1983-12-27 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
JPS57195207A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Olympus Optical Co Ltd | Light absorbing film |
US4444635A (en) * | 1981-07-22 | 1984-04-24 | Hitachi, Ltd. | Film forming method |
JPS5890604A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 赤外線遮蔽積層体 |
EP0098088B1 (en) * | 1982-06-30 | 1987-03-11 | Teijin Limited | Optical laminar structure |
DE3311815C3 (de) * | 1983-03-31 | 1997-12-04 | Leybold Ag | Verfahren zum Herstellen von Scheiben |
US4780372A (en) * | 1984-07-20 | 1988-10-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Silicon nitride protective coatings for silvered glass mirrors |
US4716086A (en) * | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
US4799745A (en) * | 1986-06-30 | 1989-01-24 | Southwall Technologies, Inc. | Heat reflecting composite films and glazing products containing the same |
US4847157A (en) * | 1986-08-28 | 1989-07-11 | Libbey-Owens-Ford Co. | Glass coating method and resulting article |
US5201926A (en) * | 1987-08-08 | 1993-04-13 | Leybold Aktiengesellschaft | Method for the production of coated glass with a high transmissivity in the visible spectral range and with a high reflectivity for thermal radiation |
CA2041038C (en) † | 1990-05-10 | 2001-01-02 | Jesse D. Wolfe | Durable low-emissivity thin film interference filter |
DE4135701C2 (de) * | 1991-10-30 | 1995-09-28 | Leybold Ag | Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung |
US5229194A (en) * | 1991-12-09 | 1993-07-20 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable sputter-coated glass systems |
-
1992
- 1992-04-30 US US07/876,350 patent/US5344718A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-02-12 CA CA002089421A patent/CA2089421C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-19 AU AU33191/93A patent/AU659714B2/en not_active Ceased
- 1993-02-25 DE DE69321754T patent/DE69321754T3/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-25 AT AT93102994T patent/ATE172701T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-02-25 ES ES93102994T patent/ES2125920T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-25 DK DK93102994T patent/DK0567735T3/da active
- 1993-02-25 EP EP93102994A patent/EP0567735B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-24 ZA ZA932087A patent/ZA932087B/xx unknown
- 1993-03-31 MX MX9301838A patent/MX9301838A/es not_active IP Right Cessation
- 1993-04-07 TR TR00309/93A patent/TR28296A/xx unknown
- 1993-04-21 JP JP5117845A patent/JP2588831B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-26 SK SK393-93A patent/SK39393A3/sk unknown
- 1993-04-26 CZ CZ93735A patent/CZ284490B6/cs unknown
- 1993-04-26 NZ NZ247491A patent/NZ247491A/en unknown
- 1993-04-26 KR KR1019930007014A patent/KR960010585B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-04-27 BR BR9301659A patent/BR9301659A/pt not_active IP Right Cessation
- 1993-04-28 PL PL93298732A patent/PL175403B1/pl unknown
- 1993-04-29 NO NO93931570A patent/NO931570L/no not_active Application Discontinuation
- 1993-04-30 HU HU9301271A patent/HU212342B/hu not_active IP Right Cessation
- 1993-04-30 CN CN93105250A patent/CN1044358C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-30 RU RU9393004817A patent/RU2090919C1/ru active
-
1994
- 1994-01-10 US US08/179,129 patent/US5425861A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL175403B1 (pl) | Szkło warstwowe i sposób jego wytwarzania | |
US5800933A (en) | Neutral, high performance, durable low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom | |
AU677859B2 (en) | Heat treatment convertible coated glass and method of converting same | |
EP0717014B1 (en) | Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom | |
EP0796825B1 (en) | A sputter coated glass article which is durable, of low emissivity and has a substantially neutral visible reflected colour, insulating glass units made therefrom, and methods of making same | |
US6132881A (en) | High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom | |
EP0722913B1 (en) | Dual silver layer low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom | |
AU680786B2 (en) | Heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same | |
MXPA96005168A (en) | Coating system with low-emissivity glass, durable, high-performance, neutral, insulated glass units processed from the same, and methods for the manufacture of mis | |
US5677065A (en) | Transparent substrate fitted with a stack of silver layers, with application to heated laminated windows |