CN107074623B - 隔绝性窗玻璃单元 - Google Patents

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Abstract

描述了包含在其间存在低压空间的第一和第二窗玻璃材料片的隔绝性窗玻璃单元。不面向该低压空间的第二窗玻璃材料片的主表面上具有低发射率涂层，该低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。在该低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在第一抗虹彩涂层。还描述了包含三个(第一、第二和第三)窗玻璃材料片的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一和第二窗玻璃材料片之间具有低压空间，并且在第一和第三窗玻璃材料片之间具有第二空间。在面向该低压空间的一个或两个主表面上存在低发射率涂层。第三窗玻璃材料片在其两个相对的主表面上具有低发射率涂层。

Description

隔绝性窗玻璃单元
本发明涉及具有改进的热隔绝性质的隔绝性窗玻璃单元。
已知包含至少两个间隔开的玻璃片的隔绝性窗玻璃单元。一种这种类型的隔绝性窗玻璃单元包含由周边密封件间隔开的两个窗玻璃片，并且通常被称为双层窗玻璃单元。
另一种类型的隔绝性窗玻璃单元包含由抽空的空间间隔开的两个玻璃片。在该抽空的空间中设置多个间隔物以在两个玻璃片之间保持约0.2mm的间隔。两个玻璃片的周边可以用焊料玻璃(例如如EP0860406B1所述)或有机材料(如EP1630344A1所述)密封。这种类型的隔绝性窗玻璃单元通常被称为真空隔绝性窗玻璃单元或VIG。VIG也在WO95/15296A1和EP0999330A1中描述。
还已知VIG可以是双层窗玻璃单元的一个板，例如如EP086040B1、EP103023A1和US8,377,524B2中所述。VIG与另一个板(例如玻璃片)间隔开。这种类型的隔绝性窗玻璃单元具有抽空的低压空间和空气空间(通常填充有惰性气体如氩或氪)。
众所周知，由于在外表面上形成的冷凝，隔绝性窗玻璃单元例如双层窗玻璃单元的外表面可变得雾化。这是来自外部窗玻璃的热量的排放的结果。对于面向外侧的双层窗玻璃单元的表面即外表面，如果不充足的热量从内部空间流到外表面(如具有低U值的隔绝性窗玻璃单元的情况)，外侧表面的温度下降。当存在足够高的相对外部大气湿度时，由于外表面的温度降到低于露点，这导致雾化，即冷凝或结霜沉积物。
本发明提供了具有改进的热性能的隔绝性窗玻璃单元。
因此，从第一方面来看，本发明提供了隔绝性窗玻璃单元，其包含第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片，在第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片之间存在第一空间，其中第一窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，并且第二窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，其中第一窗玻璃材料片的第二主表面和第二窗玻璃材料片的第一主表面面向第一空间，其中第一空间是具有小于大气压力的压力的低压空间，在第一空间中设置多个间隔物，其特征在于：第二窗玻璃材料片的第二主表面上具有低发射率涂层，该低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，并且在该低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在第一抗虹彩涂层。
与在第二窗玻璃材料片的第二主表面上没有低发射率涂层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，在第二窗玻璃材料片的第二主表面上提供低发射率涂层降低了隔绝性窗玻璃单元的U值。
这样的隔绝性窗玻璃单元可以安装在建筑物中。当安装在建筑物中时，优选第一窗玻璃材料片的第一主表面面向建筑物的外部，并且第二窗玻璃材料片的第二主表面面向建筑物的内部。或者，隔绝性窗玻璃单元可以安装在建筑物中，使得第一窗玻璃材料片的第一主表面面向建筑物的内部，并且第二窗玻璃材料片的第二主表面面向建筑物的外部。当隔绝性窗玻璃单元经构造成使得第二窗玻璃材料片的第二主表面面向其中安装隔绝性窗玻璃单元的建筑物的外部时，在第二窗玻璃材料片的第二主表面上提供低发射率涂层有助于减少第二窗玻璃材料片的第二主表面上的冷凝物的形成，这是因为第二窗玻璃材料片的温度可升高。
合适地，第一窗玻璃材料片与第二窗玻璃材料片间隔小于1mm，优选为0.05mm至0.5mm，更优选为0.1mm至0.3mm。
合适地，围绕第一和第二窗玻璃材料片每个的周边延伸的气密密封件将第一窗玻璃材料片接合到第二窗玻璃材料片。气密密封件确保第一空间保持在适当地低的压力下。设置在第一空间中的间隔物防止第一窗玻璃材料片的第二主表面与第二窗玻璃材料片的第一主表面接触。
在本发明的上下文中应当理解，当涂层具有在层B上的层A时，这并不排除在层A和层B之间存在一个或多个其它层即层C、D、E等的可能性。类似地，当窗玻璃材料料片的表面于其上具有层A'时，这并不排除在层A与窗玻璃材料片的该表面之间存在一个或多个其它层即层B、C、D、E等的可能性。
为了清楚起见，第一窗玻璃材料片的第一主表面也被称为隔绝性窗玻璃单元的表面i。为了清楚起见，第一窗玻璃材料片的第二主表面也称为隔绝性窗玻璃单元的表面ii。为了清楚起见，第二窗玻璃材料片的第一主表面也称为隔绝性窗玻璃单元的表面iii。为了清楚起见，第一窗玻璃材料片的第二主表面也被称为隔绝性窗玻璃单元的表面iv。
使用这种符号表示窗玻璃材料片的主表面，并且为了避免疑问，根据本发明的第一方面的隔绝性窗玻璃单元在表面iv上具有低发射率涂层。
再次为了避免疑问，取决于隔绝性窗玻璃单元安装在建筑物等中时的方向，表面i可面向建筑物的内部或建筑物的外部。
如本领域常规的那样，经构造以直接面向其中安装隔绝性窗玻璃单元的结构的外部环境的隔绝性窗玻璃单元的表面被称为表面1。与表面1相对的表面被称为表面2，即表面1是窗玻璃板的一个主表面，表面2是窗玻璃板的相对的主表面。隔绝性窗玻璃单元的与表面2相对的表面被称为表面3。与表面3相对的表面被称为表面4，等等以用于附加的窗玻璃板。例如，对于具有两个间隔开的窗玻璃板即玻璃的隔绝性窗玻璃单元，隔绝性窗玻璃单元的表面1面向其中安装隔绝性窗玻璃单元的结构的外部，并且表面4面向其中安装隔绝性窗玻璃单元的结构的内部。关于本申请中采用的命名习惯，本发明的第一方面的隔绝性窗玻璃单元的表面i或表面iv可为表面1。
优选地，表面iv上的低发射率涂层的至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面iv上的低发射率涂层的至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm与290nm之间，甚至更优选在100nm与250nm之间。
通过具有薄的氟掺杂的氧化锡层，低发射率涂层不太易受表面损伤的影响，因为该涂层不太粗糙。另外，成本降低，这是因为需要较少的涂层来实现抗冷凝性质。此外，与具有较厚的氟掺杂的氧化锡层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，隔绝性窗玻璃单元的G值更高。
在一些实施方案中，优选地，表面iv上的低发射率涂层的至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面iv上的低发射率涂层的至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
优选地，第一抗虹彩层包含第一层和第二层，其中第一抗虹彩层的第一层具有比第一抗虹彩层的第二层高的折射率并且第一抗虹彩层的第二层在第一抗虹彩层的第一层和第一低发射率涂层之间。
优选地，第一抗虹彩层的第一层包含氧化锡。
优选地，第一抗虹彩层的第二层包含二氧化硅。
优选地，第一抗虹彩层的第一层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，第一抗虹彩层的第二层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，在第二窗玻璃材料片和第一抗虹彩层之间存在第一雾度降低层。
优选地，第一雾度降低层包含二氧化硅。
优选地，第一雾度降低层的几何厚度在5nm和50nm之间，更优选在5nm和25nm之间。
在一些实施方案中，在表面iii上存在低发射率涂层。
优选地，在表面iii上的低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
在表面iii上的低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间的抗虹彩涂层具有与如上关于第一抗虹彩涂层所述相同的优选特征。
优选地，表面iii上的低发射率涂层包含至少一个银层和/或至少一个氟掺杂的氧化锡层。
当表面iii上的低发射率涂层包含至少一个银层时，优选地，该至少一个银层的几何厚度在5nm和20nm之间。
当表面iii上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层时，优选地，表面iii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面iii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm和290nm之间，甚至更优选在100nm和250nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面iii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在250nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面iii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面iii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
当表面iii上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层时，优选在表面3上的低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在SiCOx的抗虹彩层。优选地，SiCOx层具有在50nm和100nm之间的几何厚度。
在一些实施方案中，在表面ii上存在低发射率涂层。
优选地，在表面ii上的低发射率涂层和第一窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
在表面ii上的低发射率涂层和第一窗玻璃材料片之间的抗虹彩涂层具有与如上关于第一抗虹彩涂层所述相同的优选特征。
优选地，表面ii上的低发射率涂层包含至少一个银层和/或至少一个氟掺杂的氧化锡层。
当表面ii上的低发射率涂层包含至少一个银层时，优选地，该至少一层银层的几何厚度在5nm和20nm之间。
当表面ii上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层时，优选地，表面ii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。在一些实施方案中，优选地，表面ii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间、更优选在100nm和290nm之间、甚至更优选在100nm和250nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面ii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在250nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面ii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面ii上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
当表面ii上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层时，优选地，在表面ii上的低发射率涂层和第一窗玻璃材料片之间存在SiCOx的抗虹彩层。优选地，SiCOx层具有在50nm和100nm之间的几何厚度。
在一些实施方案中，在表面i上存在低发射率涂层。
当隔绝性窗玻璃单元经构造使得第一窗玻璃材料片的第一主表面(即表面i)面向其中安装隔绝性窗玻璃单元的建筑物的外部时，在第一窗玻璃材料片的主表面上提供低发射率涂层有助于减少第一主表面上的冷凝物的形成，这是因为第一窗玻璃材料片的温度可升高。
优选地，在表面i上的低发射率涂层和第一窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
在表面i上的低发射率涂层和第一窗玻璃材料片之间的抗虹彩涂层具有与如上关于第一抗虹彩涂层所述相同的优选特征。
在一些实施方案中，在表面i上存在低发射率涂层，其包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，表面i上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
优选地，表面i上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm和290nm之间，甚至更优选在100nm和250nm之间。
通过具有薄的氟掺杂的氧化锡层，低发射率涂层不太易受表面损伤的影响，这是因为该涂层不太粗糙。另外，成本降低，这是因为需要较少的涂层来实现抗冷凝性质。此外，与具有较厚的氟掺杂的氧化锡层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，该隔绝性窗玻璃单元的G值更高。
在一些实施方案中，优选地，表面i上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，表面i上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
根据本发明的第一方面的隔绝性窗玻璃单元具有其它优选特征。
在一些实施方案中，在表面iv上的低发射率涂层上不存在其它层。
在一些实施方案中，在表面iv上的低发射率涂层上存在二氧化硅层。优选地，表面iv上的低发射率涂层上的二氧化硅层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在一些实施方案中，在表面iv上的低发射率涂层上存在二氧化钛层。优选地，表面iv上的低发射率涂层上的二氧化钛层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在其中于表面i上存在低发射率涂层的实施方案中，优选地在表面i上的低发射率涂层上存在二氧化硅层。优选地，表面i上的低发射率涂层上的二氧化硅层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在其中于表面i上存在低发射率涂层的实施方案中，优选地在表面i上的低发射率涂层上存在二氧化钛层。优选地，表面i上的低发射率涂层上的二氧化钛层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在其中于表面i上存在低发射率涂层的实施方案中，优选地在表面i上的低发射率涂层上不存在其它层。
在一些实施方案中，在表面iv上的低发射率涂层上存在减反射涂层。
优选地，表面iv上的低发射率涂层上的减反射涂层包含至少四个层。
优选地，表面iv上的低发射率涂层上的减反射涂层依次包含第一氧化锡层、第二二氧化硅层、第三氟掺杂的氧化锡层和第四二氧化硅层，其中第一氧化锡层在第二二氧化硅层和表面iv上的低发射率涂层之间。
优选地，表面iv上的低发射率涂层上的减反射涂层的第一氧化锡层具有在10nm和15nm之间的几何厚度。
优选地，表面iv上的低发射率涂层上的减反射涂层的第二二氧化硅层具有在20nm和30nm之间的几何厚度。
优选地，表面iv上的低发射率涂层上的减反射涂层的第三氟掺杂的氧化锡层具有在100nm和150nm之间的几何厚度。
优选地，表面iv上的低发射率涂层上的减反射涂层的第四二氧化硅层具有80nm和100nm之间的几何厚度。
在其中于表面i上存在低发射率涂层的实施方案中，优选在表面i上的低发射率涂层上存在减反射涂层。
优选地，表面i上的低发射率涂层上的减反射涂层包含至少四个层。
优选地，表面i上的低发射率涂层上的减反射涂层依次包含第一氧化锡层、第二二氧化硅层、第三氟掺杂的氧化锡层和第四二氧化硅层，其中第一氧化锡层在第二二氧化硅层和表面1上的低发射率涂层之间。
优选地，表面i上的低发射率涂层上的减反射涂层的第一氧化锡层具有8nm和15nm之间、更优选地在11nm和13nm之间的几何厚度。
优选地，表面i上的低发射率涂层上的减反射涂层的第二二氧化硅层具有20nm和30nm之间、更优选在22nm和27nm之间的几何厚度。
优选地，表面i上的低发射率涂层上的减反射涂层的第三氟掺杂氧化锡层具有在100nm和150nm之间、更优选在120nm和140nm之间的几何厚度。
优选地，表面i上的低发射率涂层上的减反射涂层的第四二氧化硅层具有70nm和120nm之间、更优选在80nm和100nm之间的几何厚度。
在一些实施方案中，表面iv上的低发射率涂层的粗糙度小于20nm，更优选在3nm和15nm之间，甚至更优选在5nm和12nm之间。
在其中于表面i上存在低发射率涂层的实施方案中，优选地，表面i上的低发射率涂层的粗糙度小于20nm，更优选在3nm和15nm之间，甚至更优选在5nm和12nm之间。
在本发明的第一方面的一些实施方案中，隔绝性窗玻璃单元包含面向第一窗玻璃材料片并且通过第二空间与其分隔的第三窗玻璃材料片，第三窗玻璃材料片具有第一主表面和第二主表面，其中该隔绝性窗玻璃单元经构造使得第三窗玻璃材料片的第二主表面和第一窗玻璃材料片的第一主表面(即表面i)面向该第二空间。
优选地，第二空间是空气空间。
优选地，第二空间填充有惰性气体，例如氩或氪。
优选地，第三窗玻璃材料片与第一窗玻璃材料片间隔大于2mm，优选为5mm至50mm，更优选为5mm至25mm。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上具有低发射率涂层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面于其上具有低发射率涂层。优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层包含至少一个银层和/或至少一个氟掺杂的氧化锡层。
具有第三窗玻璃材料片的本发明的第一方面的实施方案(在第三窗玻璃材料片的第一主表面上具有低发射率涂层)具有其它优选特征。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层和第三窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
优选地，抗虹彩层包含第一层和第二层，其中抗虹彩层的第一层具有比抗虹彩层的第二层高的折射率，并且抗虹彩层的第二层在抗虹彩层的第一层和第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层之间。
优选地，抗虹彩层的第一层包含氧化锡。
优选地，抗虹彩层的第二层包含二氧化硅。
优选地，抗虹彩层的第一层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，抗虹彩层的第二层具有在10nm和50nm之间，优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片和第三窗玻璃材料片的第一主表面上的抗虹彩涂层之间存在雾度降低层。
优选地，雾度降低层包含二氧化硅。
优选地，雾度降低层的厚度在5nm和50nm之间，更优选在5nm和25nm之间。
当第三窗玻璃材料片的第一主表面上于其上具有低发射率涂层时，优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm和290nm之间，甚至更优选在100nm和250nm之间。
通过具有薄的氟掺杂的氧化锡层，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层不太易受表面损伤的影响，这是因为该涂层不太粗糙。另外，成本降低，这是因为需要较少的涂层来实现抗冷凝性质。此外，与具有较厚的氟掺杂的氧化锡层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，该隔绝性窗玻璃单元的G值更高。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上不存在其它层。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在二氧化硅层。优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的二氧化硅层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在二氧化钛层。优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的二氧化钛层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在减反射涂层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的减反射涂层包含至少四个层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的减反射涂层依次包含第一氧化锡层、第二二氧化硅层、第三氟掺杂的氧化锡层和第四二氧化硅层，其中第一氧化锡层在第二二氧化硅层和第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的减反射涂层的第一氧化锡层具有在10nm和15nm之间的几何厚度。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的减反射涂层的第二二氧化硅层具有在20nm和30nm之间的几何厚度。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的减反射涂层的第三氟掺杂的氧化锡层具有在100nm和150nm之间的几何厚度。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的减反射涂层的第四二氧化硅层具有80nm和100nm之间的几何厚度。
具有在其第二主表面上存在低发射率涂层的第三窗玻璃材料片的本发明的第一方面的实施方案具有其它优选特征。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层和第三窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
优选地，抗虹彩层包含第一层和第二层，其中抗虹彩层的第一层具有比抗虹彩层的第二层高的折射率并且抗虹彩层的第二层在抗虹彩层的第一层和第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层之间。
优选地，抗虹彩层的第一层包含氧化锡。
优选地，抗虹彩层的第二层包含二氧化硅。
优选地，抗虹彩层的第一层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，抗虹彩层的第二层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片和第三窗玻璃材料片的第二主表面上的抗虹彩涂层之间存在雾度降低层。
优选地，雾度降低层包含二氧化硅。
优选地，雾度降低层的厚度在5nm和50nm之间，更优选在5nm和25nm之间。
在一些实施方案中，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm和290nm之间，甚至更优选在100nm之间和250nm。
通过具有薄的氟掺杂的氧化锡层，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层不太易受表面损伤的影响(例如当被运输时或在组装隔绝性窗玻璃期间)，这是因为该涂层是不太粗糙。另外，成本降低，这是因为需要较少的涂层来实现抗冷凝性质。此外，与具有较厚的氟掺杂的氧化锡层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，隔绝性窗玻璃单元的G值更高。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选地在300nm和350nm之间。
在一些实施方案中，优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上不存在其它层。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上存在二氧化硅层。优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上的二氧化硅层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上存在二氧化钛层。优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上的二氧化钛层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
从第二方面，本发明提供了隔绝性窗玻璃单元，其包含第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片，在第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片之间存在第一空间，其中第一窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，并且第二窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，其中第一窗玻璃材料片的第二主表面和第二窗玻璃材料片的第一主表面面向第一空间，其中第一空间是具有小于大气压力的压力的低压空间，在第一空间中设置多个间隔物，其中第二窗玻璃材料片的第一主表面和/或第一窗玻璃材料片的第二主表面于其上具有低发射率涂层，该隔绝性窗玻璃单元还包含面向第一窗玻璃材料片并且通过第二空间与其分隔的第三窗玻璃材料片，第三窗玻璃材料片具有第一主表面和第二主表面，其中第三窗玻璃材料片的第二主表面和第一窗玻璃材料片的第一主表面面向该第二空间，并且其中第三窗玻璃材料片的第二主表面上具有低发射率涂层，其特征在于：第三窗玻璃材料片的第一主表面于其上具有低发射率涂层。
合适地，第一窗玻璃材料片与第二窗玻璃材料片间隔小于1mm，优选间隔为0.05mm至0.5mm，更优选间隔为0.1至0.3mm。
优选地，第二空间是空气空间。
优选地，第二空间填充有惰性气体，例如氩或氪。
优选地，第三窗玻璃材料片与第一窗玻璃材料片间隔大于2mm，优选间隔为5mm至50mm，更优选间隔为5mm至25mm。
优选地，在第一窗玻璃材料片的第二主表面上存在低发射率涂层，其包含至少一个银层和/或至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，在第二窗玻璃材料片的第一主表面上存在低发射率涂层，其包含至少一个银层和/或至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层和第三窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
优选地，抗虹彩层包含第一层和第二层，其中抗虹彩层的第一层具有比抗虹彩层的第二层高的折射率，并且抗虹彩层的第二层在抗虹彩层的第一层和第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层之间。
优选地，抗虹彩层的第一层包含氧化锡。
优选地，抗虹彩层的第二层包含二氧化硅。
优选地，抗虹彩层的第一层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，抗虹彩层的第二层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片和第三窗玻璃材料片的第一主表面上的抗虹彩涂层之间存在雾度降低层。
优选地，雾度降低层包含二氧化硅。
优选地，雾度降低层的厚度在5nm和50nm之间，更优选在5nm和25nm之间。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm和290nm之间，甚至更优选在100nm和250nm之间。
通过具有薄的氟掺杂的氧化锡层，低发射率涂层不太易受表面损伤的影响，这是因为涂层不太粗糙。另外，成本降低，这是因为需要较少的涂层以实现抗冷凝性质。此外，与具有较厚的氟掺杂的氧化锡层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，该隔绝性窗玻璃单元的G值更高。
在一些实施方案中，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在250nm和350nm之间。
在一些实施方案中，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
在一些实施方案中，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，优选在500nm和580nm之间。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上不存在其它层。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在二氧化硅层。优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的二氧化硅层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在二氧化钛层。优选地，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的二氧化钛层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在减反射涂层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的该减反射涂层包含至少四个层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上的该减反射涂层依次包含第一氧化锡层、第二二氧化硅层、第三氟掺杂的氧化锡层和第四二氧化硅层，其中第一氧化锡层在第二二氧化硅层和第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层之间。
优选地，第一氧化锡层具有在10nm和15nm之间的几何厚度。
优选地，第二二氧化硅层具有在20nm和30nm之间的几何厚度。
优选地，第三氟掺杂的氧化锡层具有在100nm和150nm之间的几何厚度。
优选地，第四二氧化硅层具有在80nm和100nm之间的几何厚度。
优选地，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层和第三窗玻璃材料片之间存在抗虹彩涂层。
优选地，抗虹彩层包含第一层和第二层，其中抗虹彩层的第一层具有比抗虹彩层的第二层高的折射率，并且抗虹彩层的第二层在抗虹彩层的第一层和第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层之间。
优选地，抗虹彩层的第一层包含氧化锡。
优选地，抗虹彩层的第二层包含二氧化硅。
优选地，抗虹彩层的第一层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
优选地，抗虹彩层的第二层具有在10nm和50nm之间、优选在15nm和35nm之间的几何厚度。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，优选在第三窗玻璃材料片和第三窗玻璃材料片的第二主表面上的抗虹彩涂层之间存在雾度降低层。
优选地，雾度降低层包含二氧化硅。
优选地，雾度降低层的厚度在5nm和50nm之间，更优选在5nm和25nm之间。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间，更优选在100nm和290nm之间，甚至更优选在100nm和250nm之间。
通过具有薄的氟掺杂的氧化锡层，低发射率涂层不太易受表面损伤的影响，这是因为涂层不太粗糙。另外，成本降低，这是因为需要较少的涂层以实现抗冷凝性能。此外，与具有较厚的氟掺杂的氧化锡层的相同隔绝性窗玻璃单元相比，该隔绝性窗玻璃单元的G值更高。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间，更优选在300nm和350nm之间。
优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间，更优选在500nm和580nm之间。
在本发明的第二方面的一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上不存在其它层。
在一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上存在二氧化硅层。优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上的二氧化硅层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
在一些实施方案中，在第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上存在二氧化钛层。优选地，第三窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上的二氧化钛层具有在5nm和50nm之间的几何厚度。
本发明的第一和第二方面的实施方案具有其它优选特征。这些其它优选特征可以以任何组合和与本发明的第一和/或第二方面使用。
在本发明的第一和第二方面中，合适的窗玻璃材料是玻璃，特别是钠钙硅玻璃或硼硅酸盐玻璃。典型的钠钙硅玻璃组成为(按重量计)，SiO2 69-74％；A12O3 0-3％；Na2O10-16％；K2O 0-5％；MgO 0-6％；CaO 5-14％；SO3 0-2％；Fe2O3 0.005-2％。
优选地，在本发明的第一和第二方面中使用的窗玻璃材料片具有在2mm和10mm之间、更优选在3mm和8mm之间、甚至更优选在3mm和6mm之间的厚度。
对于特定的隔绝性窗玻璃单元，窗玻璃材料片可具有相同或不同的厚度。
对于特定的隔绝性窗玻璃单元，窗玻璃材料片可具有相同或不同的玻璃组成。
根据本发明的第一和第二方面的隔绝性窗玻璃可包含多于三个的窗玻璃材料片。
根据本发明的第一和第二方面的隔绝性窗玻璃可包含两个或更多个低压空间。
根据本发明的第一和第二方面的隔绝性窗玻璃可包含两个或真空隔绝性窗玻璃面板。
根据本发明的第一和第二方面的窗玻璃单元可用作建筑物中的窗户，其中第二窗玻璃材料片的第二主表面面向该建筑物的内部。
可以使用已知的沉积技术(例如大气压化学气相沉积(APCVD)或溅射)沉积本文所述的任何涂层。如本领域已知的，通常使用APCVD沉积氧化物层。可以使用已知的溅射技术沉积银层。
在本发明的上下文中，根据EN12898和EN673确定U值。
在本发明的上下文中，使用原子力显微镜确定粗糙度值，并根据ISO/DIS 25178-2(2007)就参数而言进行定义。
现在将通过仅参考附图(未按比例)示例来描述本发明的实施方案，其中：
图1示出了根据本发明的第一方面的真空隔绝性窗玻璃的一部分的示意图；
图2示出了根据本发明的第一方面的另一个真空隔绝性窗玻璃的一部分的示意图；
图3示出了根据本发明的第一方面的隔绝性窗玻璃单元的一部分的示意图；
图4示出了根据本发明的第一方面的另一个真空隔绝性窗玻璃的一部分的示意图；
图5示出了根据本发明的第二方面的隔绝性窗玻璃单元的一部分的示意图；
图6示出了根据本发明的第一或第二方面的用于隔绝性窗玻璃的涂覆玻璃片的示意图；和
图1示出了根据本发明的第一方面的隔绝性窗玻璃单元的一部分的示意图。在这个具体实例中，隔绝性窗玻璃单元是真空隔绝性窗玻璃单元1(VIG)。例如在EP0999330A1中描述这样的VIG的制造。
VIG 1具有第一玻璃片3和第二玻璃片5。第一玻璃片3具有第一主表面7和相对的第二主表面(图中未标出)。第二涂覆玻璃片具有第一主表面和相对的第二主表面(两者都未在图中标出)。
每个玻璃片3,5是使用浮法制造的钠钙硅组合物。每个玻璃片3,5厚3mm。
第一玻璃片3通过多个不锈钢间隔物11(在图1中仅示出其中五个)与第二玻璃片5间隔开。间隔物在两个玻璃片3,5之间保持空间12。空间12是在VIG 1的构造期间被抽空的低压空间。焊料玻璃等的周边密封件10确保空间12保持在低压，即周边密封件10是气密密封件。
在第一玻璃片3的第二主表面上是低发射率涂层13。在第二玻璃片5的第二主表面上是低发射率涂层15。
VIG 1经构造使得在使用中第一涂覆玻璃片3的第一主表面7面向其中安装VIG 1的建筑物的外部，并且第二涂覆玻璃片5的第二主表面(以及因此低发射率涂层15)面向其中安装VIG的建筑物的内部。
对VIG的表面使用常规命名命名法，第一主表面7是VIG的表面1，第一玻璃片3的相对的第二主表面是VIG的表面2，第二涂覆玻璃片5的第一主表面是VIG的表面3，第二玻璃片5的第二主表面上的低发射率涂层15的外表面是VIG的表面4。低发射率涂层15的外表面用图1上的数字9标示。
使用本申请中采用的符号，第一主表面7可对应于表面i，在这种情况下，玻璃片3的相对的第二主表面向应于表面ii，第二涂覆玻璃片5的第一主表面向应于表面iii(即，涂覆玻璃片5的面向空间12的表面)，且玻璃片5的相对的主表面向应于表面iv。
低发射率涂层13包含单层的溅射银，但可包含双层或三层的溅射银。每个银层可具有在5nm和20nm之间的厚度。在US5,344,718和US5,557,462中描述了这样的涂层的实例。或者，低发射率涂层13包含使用常压化学沉积在玻璃表面上沉积的至少一个氟掺杂的氧化锡层。低发射率涂层13可与低发射率涂层15相同。低发射率涂层13可由如下构成：具有75nm的几何厚度的SiCOx底涂层和该底涂层上的氟掺杂的氧化锡(SnO2：F)的低发射率层(具有320nm的几何厚度)，即在第二主表面上具有以下结构的低发射率涂层13的玻璃片3
玻璃/SiCOx(75nm)/SnO2：F(320nm)。
参考图6更详细地描述低发射率涂层15。
在图1所示的实施方案的替代方案中，在第一玻璃片3的第二主表面上不存在低发射率涂层13，例如，玻璃片3可为未涂覆的玻璃片。
在图1所示的实施方案的另一个替代方案中，改变窗玻璃的取向，使得第一涂覆玻璃片3的第一主表面7面向其中安装VIG 1的建筑物的内部，且第二涂覆玻璃片5的第二主表面(以及因此低发射率涂层15)面向其中安装VIG的建筑物的外部，即低发射率涂层15面向太阳。当以这种方式配置VIG时，VIG的面向主表面的外部上的低发射率涂层可有助于减少其上的冷凝物的形成，因为玻璃片5的温度可升高。在这种替代方案中，玻璃片3可为未涂覆的玻璃片。
在上面关于图1所述的任何替代方案中，在玻璃片5的第一主表面即玻璃片5的面向空间12的表面上可存在低发射率涂层。
图2示出了根据本发明的第一方面的另一隔绝性窗玻璃单元的一部分的示意图。该隔绝性窗玻璃单元也是真空隔绝性窗玻璃单元21(VIG)。
VIG 21具有第一玻璃片23和第二玻璃片25。第一玻璃片23具有第一主表面和相对的第二主表面(均未在图中标出)。第二玻璃片具有第一主表面和相对的第二主表面(均未在图中标出)。
每个玻璃片23,25是使用浮法制造的钠钙硅组合物。每个玻璃片3,5是3mm厚但可为6mm厚。
第一玻璃片23通过多个不锈钢间隔物22(在图2中仅示出其中的五个，间隔物22与图1中的间隔物11相同)与第二玻璃片25间隔开。间隔物22在两个玻璃片23,25之间保持空间32。空间32是在VIG 21的构造期间被抽空的低压空间。焊料玻璃等的周边密封件30确保空间32保持在低压下，即周边密封件30是气密密封件。
在第一玻璃片23的第一主表面上是低发射率涂层31。在第一玻璃片23的第二主表面上是低发射率涂层33。在第二玻璃片25的第二主表面是低发射率涂层35。
VIG 21经构造使得在使用中第一涂覆玻璃片23的第一主表面(以及因此低发射率涂层31)面向其中安装VIG 21的建筑物的外部，并且第二涂覆玻璃片25的第二主表面(以及因此低发射率涂层35)面向其中安装VIG 21的建筑物的内部。
低发射率涂层33包含单层的溅射银，但可包含双层或三层的溅射银。每个银层可以具有在5nm和20nm之间的厚度。在US5,344,718和US5,557,462中描述了这样的涂层的实例。或者，低发射率涂层33包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，其通过使用常压化学沉积而沉积在玻璃表面上(典型地在通过浮法生产玻璃时)。低发射率涂层33可与低发射率涂层35相同。低发射率涂层33可由如下构成：具有75nm的几何厚度的SiCOx底涂层和该底涂层上的氟掺杂的氧化锡的低发射率层(具有320nm的几何厚度)，即具有在其第二主表面上具有如下结构的低发射率涂层33的玻璃片23
玻璃/SiCOx(75nm)/SnO2：F(320nm)。
参考图6更详细地描述低发射率涂层31和35。
图3示出了隔绝性窗玻璃单元41的一部分。隔绝性窗玻璃单元41包含在其主表面上具有低发射率涂层45的3mm钠钙硅玻璃片43和参考图1所述的VIG 1。这样的隔绝性窗玻璃单元通常被称为三层窗玻璃隔绝性窗玻璃单元，因为存在三个窗玻璃材料片以及片之间的两个空间。
VIG 1通过金属间隔物44和聚氨酯等的周边密封件410与涂覆玻璃片间隔约12mm，由此形成空间42。空间42是空气空间，并且可以填充有惰性气体例如氩或氪。
低发射率涂层45在玻璃片43的面向该空间42的主表面上。
低发射率涂层45包含单层的溅射银，但可包含双层或三层的溅射银。每个银层可以具有在5nm和20nm之间的厚度。在US5,344,718和US5,557,462中描述了这样的涂层的实例。或者，低发射率涂层45包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，其使用常压化学沉积而沉积在玻璃表面上(典型地在通过使用浮法生产玻璃时)。低发射率涂层45可与低发射率涂层15相同。低发射率涂层45可由如下构成：具有75nm的几何厚度的SiCOx底涂层和该底涂层上的氟掺杂的氧化锡的低发射率层(具有320nm的几何厚度)，即具有在其第二主表面上具有如下结构的低发射率涂层45的玻璃片43
玻璃/SiCOx(75nm)/SnO2：F(320nm)。
隔绝性窗玻璃单元41经构造使得在使用中玻璃片43的未涂覆表面面向建筑物的外部。这被称为表面1。玻璃片43的涂覆表面面向空气空间42并被称为表面2。VIG 1的玻璃片3的面向空气空间42的表面被称为表面3。将VIG 1的玻璃片3的面向低压空间12的涂覆表面称为表面4。VIG 1的玻璃片5的面向低压空间12的未涂覆表面被称为表面5，并且VIG 1的玻璃片5的涂覆表面被称为表面6且面向建筑物的内部。
这是用于命名三层窗玻璃隔绝性窗玻璃单元的表面的常规命名。
表面2、4和6上的低发射率涂层45、13和15分别降低了隔绝性窗玻璃单元41的U值。
在图3所示实例的变体中，玻璃片43可在两个主表面上涂覆有低发射率涂层，即表面1于其上具有低发射率涂层。
在该变体中，表面1上的低发射率涂层可与低发射率涂层45相同。优选玻璃片43的面向空气空间的主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，并且优选地与参考图6描述的低发射率涂层15相同。优选地，表面1上的低发射率涂层与参考图1和6描述的涂层15相同。在表面上提供低发射率涂层1有助于提高玻璃片43的温度，由此有助于减少冷凝物在其上的形成。
在图3所示的隔绝性窗玻璃的另一变体中，可颠倒玻璃片43和VIG 1的位置。
图4示出了根据本发明的第一方面的另一隔绝性窗玻璃单元的示意图。在这个具体实例中，隔绝性窗玻璃单元是真空隔绝性窗玻璃单元51(VIG)，且类似于上述的VIG 1和VIG21。
VIG 51具有第一玻璃片53和第二玻璃片55。第一玻璃片53具有第一主表面和相对的第二主表面(均未在图中标出)。第二涂覆玻璃片具有第一主表面和相对的第二主表面(均未在图中标出)。
每个玻璃片53,55是使用浮法制成的钠钙硅组合物。每个玻璃片53,55为3mm厚。
第一玻璃片53通过多个不锈钢间隔物52(在图4中仅示出其中的五个)与第二玻璃片55间隔开。间隔物在两个玻璃片53,55之间保持约0.2mm的空间62。空间62是在VIG 51的构造期间被抽空的低压空间。焊料玻璃等的周边密封件60确保空间62保持在低压下，即周边密封件60是气密密封件。
玻璃片53的第二主表面面向空间62。玻璃片55的第一主表面面向空间62。
玻璃片53的两个主表面都是未涂覆的。在玻璃片55的第一主表面上是低发射率涂层63。在玻璃片55的第二主表面上是低发射率涂层65。
VIG 51经构造使得在使用中第一玻璃片53的第一主表面面向其中安装VIG 51的建筑物的外部，并且第二玻璃片55的第二主表面(以及因此低发射率涂层65)面向其中安装VIG 51的建筑物的内部。
低发射率涂层63包含单层的溅射银，但是可包含双层或三层的溅射银。每个银层可具有在5nm和20nm之间的厚度。在US5,344,718和US5,557,462中描述了这样的涂层的实例。或者，低发射率涂层63包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，其使用常压化学沉积而沉积在玻璃表面上。低发射率涂层63可与低发射率涂层65相同。低发射率涂层63可由如下构成：具有75nm的几何厚度的SiCOx底涂层和该底涂层上的氟掺杂的氧化锡的低发射率层(具有320nm的几何厚度)，即具有在其第一主表面上有如下结构的低发射率涂层63的玻璃片55
玻璃/S iCOx(75nm)/SnO2：F(320nm)。
参考图6更详细地描述低发射率涂层65。
在图4所示的实施方案的替代方案中，可颠倒VIG 51的取向，使得在使用中即当安装在建筑物中时，低发射率涂层65面向建筑物的外部，并且第一玻璃片53不面向空间62的未涂覆主表面面向其中安装VIG的建筑物的内部。
在另一个实施方案中，并且参考图2、3和4，可以用图2的VIG 21或图4的VIG 51替代图3的VIG 1。
图5示出了根据本发明的第二方面的隔绝性窗玻璃单元71的一部分的示意图。
隔绝性窗玻璃单元71包含通过金属间隔物72和周边密封件74与VIG 81间隔开12mm的3mm厚的钠钙硅玻璃片73。在玻璃片73和VIG 81之间具有空气空间76。
玻璃片73具有第一主表面和相对的第二主表面。玻璃片73的第二主表面面向空气空间76。在玻璃片73的第一主表面上存在低发射率涂层75，且在玻璃片73的第二主表面上存在低发射率涂层77。
低发射率涂层77包含单层的溅射银，但是可包含双层或三层的溅射银。每个银层可具有在5nm和20nm之间的厚度。在US5,344,718和US5,557,462中描述了这样的涂层的实例。或者，低发射率涂层77包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，其使用常压化学沉积而沉积在玻璃表面上。低发射率涂层77可与低发射率涂层75相同。低发射率涂层77可由如下构成：具有75nm的几何厚度的SiCOx底涂层和该底涂层上的氟掺杂的氧化锡的低发射率层(具有320nm的几何厚度)，即SiCOx层与玻璃表面接触且SnO2：F层在SiCOx层上。
参考图6更详细地描述低发射率涂层75。
VIG 81包含通过多个不锈钢间隔物82彼此间隔开约0.2mm的第一玻璃片83和第二玻璃片85。间隔物在两个玻璃片83,85之间保持空间92。空间92是在VIG 81的构造期间被抽空的低压空间。焊料玻璃等的周边密封件80确保空间92保持在低压下，即周边密封件80是气密密封件。
玻璃片83具有面向空气空间76的第一主表面和面向低压空间92的第二主表面。在玻璃片83的第二主表面上是低发射率涂层93。低发射率涂层可与低发射率涂层77相同。
玻璃片85具有面向低压空间92的第一主表面和相对的第二主表面。玻璃片85的两个主表面都是未涂覆的。
在使用中，玻璃片85的第二主表面面向其中安装隔绝性窗玻璃单元71的建筑物的内部。
在图5中，表面1上的额外的低发射率涂层75有助于提高玻璃片73的温度以减少冷凝物在其上的形成。
图6示出了根据本发明的第一或第二方面的可用作隔绝性窗玻璃中的板的涂覆玻璃片的横截面图。
参考图6，例如如WO97/42357A1中所描述的，使用在浮法炉的浮浴区域中的常压化学气相沉积采用涂层结构115涂覆包含3mm厚的透明浮法玻璃片105的涂覆板101。
玻璃片105的组成是具有0.11重量％的Fe2O3含量的常规透明浮法玻璃组合物(钠钙硅玻璃)，但是在另一个实施方案中，Fe2O3含量在0.001重量％和0.1重量％之间，典型地约为0.05重量％。在另一个实例中，使用较高的Fe2O3含量的浮法玻璃组合物，其具有的Fe2O3含量为约0.18重量％。
首先用具有15nm的几何厚度的SiO2层102涂覆热浮法玻璃带。该层102是雾度降低层，使得本发明的涂覆玻璃片具有比没有该层的涂覆玻璃片小的雾度。可使用其它这样的涂层，例如Si3N4。
接下来，在SiO2层上沉积具有25nm的几何厚度的SnO2层104。该层形成抗虹彩涂层结构的一部分。接下来，在SnO2层104上沉积具有30nm的几何厚度的SiO2层106。25nm SnO2层和30nm SiO2层的组合是抗虹彩涂层。层104是抗虹彩涂层的第一层，且层106是抗虹彩涂层的第二层。
最后，在30nm厚的SiO2层上沉积氟掺杂的氧化锡(SnO2：F)层108。SnO2：F层108具有230nm的几何厚度。
层102、104、106和108形成涂层结构115。涂层结构115是低发射率涂层。
涂层结构115对应于图1中的低发射率涂层15，图2中的低发射率涂层31和/或低发射率涂层35，图4中的低发射率涂层65和图5中的低发射率涂层75。
如果SnO2：F层108太厚，则会有较多的损坏倾向，例如在被处理或清洁时。因此，不必在低发射率涂层108上使用任何额外的涂覆层。其它涂覆层可沉积在低发射率涂层108上，尽管这增加了成本和制造复杂性。
由于低发射率SnO2：F层108变得较薄，涂层的耐久性增加，但发射率增加，这是不希望的。对于图6所示的涂覆基材，涂层的发射率为0.22。
SnO2：F层的粗糙度被确定为约10nm。可以使用原子力显微镜测量粗糙度，并根据ISO/DIS 25178-2(2007)就参数而言进行定义。
将上述的相同涂层沉积在3.92mm厚的低铁浮法玻璃片(具有0.02重量％Fe2O3)上。根据EN410(2011)/673(CEN)计算，该涂覆片的可见光透射率为84.6％。
在图6所示的涂层结构115的替代方案中，可以不存在SiO2层102，而是层104与玻璃片105的表面接触。在该实施方案中，SnO2层104的几何厚度可在20nm和30nm之间，并且层104上的SiO2层106的几何厚度可以具有在10nm和30nm之间的几何厚度。SiO2层106上的氟掺杂的氧化锡层(SnO2：F)108可具有在300nm和400nm之间的几何厚度，典型地为约320nm。或者，SiO2层106上的氟掺杂的氧化锡层(SnO2：F)108可具有大于400nm的几何厚度，典型地最高达约600nm，即在500-580nm范围内。
所描述的涂层结构115可以用作根据本发明的第一和第二方面的窗玻璃材料的一个或多个主表面上的低发射率涂层。
本发明的实例与在其暴露表面上没有低发射率涂层的等效隔绝性窗玻璃单元相比具有降低的U值。在隔绝性窗玻璃单元的面向外部的表面(即表面1)上提供低发射率涂层具有以下优点：可以向隔绝性窗玻璃单元提供抗冷凝性质，而不需要覆盖所述表面上的低发射率涂层。这降低了制造成本和制造复杂性。通过使用相对薄的低发射率层，涂层相对光滑，并且不太易受到暴露于外部环境的类似较厚涂层可以以其他方式所发生的损坏。
总之，从第一方面来说，在这里描述了包含在其间具有低压空间的第一和第二窗玻璃材料片的隔绝性窗玻璃单元。第二窗玻璃材料片的不面向低压空间的主表面具有低发射率涂层，其在该低发射率涂层上包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。在低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在第一抗虹彩涂层。另外，从第二方面来说，在这里描述了包含三个(第一、第二和第三)窗玻璃材料片的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一和第二窗玻璃材料之间具有低压空间，并且在第一和第三窗玻璃材料片之间具有第二空间，如本文所述。在第二方面，在面向低压空间的一个或两个主表面上存在低发射率涂层，并且第三窗玻璃材料片在其两个相对的主表面上具有低发射率涂层。

Claims (71)

1.用于安装在建筑物中的隔绝性窗玻璃单元，使得该隔绝性窗玻璃单元的一个表面面向建筑物的外部且该隔绝性窗玻璃单元的一个表面面向建筑物的内部，该隔绝性窗玻璃单元包含第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片，
在第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片之间存在第一空间，
其中第一窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，并且第二窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，
其中第一窗玻璃材料片的第二主表面和第二窗玻璃材料片的第一主表面面向第一空间，
其中第一空间是具有小于大气压力的压力的低压空间，
在第一空间中设置多个间隔物，
其特征在于：气密密封件确保第一空间保持在低压下,
第一窗玻璃材料片与第二窗玻璃材料片间隔小于1mm，
第二窗玻璃材料片的第二主表面在其上具有低发射率涂层，
该低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，并且在该低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在第一抗虹彩涂层，且
其中面向建筑物内部的隔绝性窗玻璃单元的表面是第二窗玻璃材料片的第二主表面。
2.用于安装在建筑物中的隔绝性窗玻璃单元，使得该隔绝性窗玻璃单元的一个表面面向建筑物的外部且该隔绝性窗玻璃单元的一个表面面向建筑物的内部，该隔绝性窗玻璃单元包含第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片，
在第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片之间存在第一空间，
其中第一窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，并且第二窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，
其中第一窗玻璃材料片的第二主表面和第二窗玻璃材料片的第一主表面面向第一空间，
其中第一空间是具有小于大气压力的压力的低压空间，
在第一空间中设置多个间隔物，
其特征在于：气密密封件确保第一空间保持在低压下,
第一窗玻璃材料片与第二窗玻璃材料片间隔小于1mm，
在第二窗玻璃材料片的第一主表面上具有低发射率涂层，
第二窗玻璃材料片的第二主表面在其上具有低发射率涂层，
第二窗玻璃材料片的第二主表面上的该低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层，并且在该低发射率涂层和第二窗玻璃材料片之间存在第一抗虹彩涂层，且
其中面向建筑物外部的隔绝性窗玻璃单元的表面是第二窗玻璃材料片的第二主表面。
3.根据权利要求1或2所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
4.根据权利要求3所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间。
5.根据权利要求4所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和290nm。
6.根据权利要求4所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和250nm之间。
7.根据权利要求1或2所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在250nm和350nm之间。
8.根据权利要求1或2所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间。
9.根据权利要求8所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和350nm之间。
10.根据权利要求1或2所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间。
11.根据权利要求10所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在500nm和580nm之间。
12.根据前述权利要求1-2,5-6,9和11中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层包含第一层和第二层，其中该第一抗虹彩涂层的第一层具有比该第一抗虹彩涂层的第二层高的折射率，并且该第一抗虹彩涂层的第二层在该第一抗虹彩涂层的第一层和该低发射率涂层之间。
13.根据权利要求12所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层的第一层包含氧化锡。
14.根据权利要求12所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层的第二层包含二氧化硅。
15.根据权利要求12所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层的第一层具有在10nm和50nm之间的几何厚度。
16.根据权利要求15所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层的第一层具有在15nm和35nm之间的几何厚度。
17.根据权利要求12所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层的第二层具有在10nm和50nm之间的几何厚度。
18.根据权利要求17所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一抗虹彩涂层的第二层具有在15nm和35nm之间的几何厚度。
19.根据前述权利要求12所述的隔绝性窗玻璃单元，还包含在第二窗玻璃材料片与该第一抗虹彩涂层之间的第一雾度降低层。
20.根据权利要求19所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一雾度降低层包含二氧化硅。
21.根据权利要求19所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一雾度降低层的几何厚度在5nm和50nm之间。
22.根据权利要求21所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第一雾度降低层的几何厚度在5nm和25nm之间。
23.根据前述权利要求1所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一窗玻璃材料片的第二主表面上存在低发射率涂层和/或在第二窗玻璃材料片的第一主表面上存在低发射率涂层。
24.根据前述权利要求2所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一窗玻璃材料片的第二主表面上具有低发射率涂层。
25.根据权利要求23或24所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层和/或第二窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含至少一个银层和/或至少一个氟掺杂的氧化锡层。
26.根据权利要求25所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层和/或第二窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含至少一个具有在5nm和20nm之间的几何厚度的银层。
27.根据权利要求25所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层和/或第二窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含具有在100nm和600nm之间的几何厚度的至少一个氟掺杂的氧化锡层。
28.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其包含在第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层。
29.根据权利要求28所述的隔绝性窗玻璃单元，包含在第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层和第一窗玻璃材料片之间的第二抗虹彩涂层。
30.根据权利要求29所述的隔绝性窗玻璃单元，其中该第二抗虹彩涂层包含第一层和第二层，其中该第二抗虹彩涂层的第一层具有比该第二抗虹彩涂层的第二层高的折射率，并且其中该第二抗虹彩涂层的第二层在该第二抗虹彩涂层的第一层和第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层之间。
31.根据权利要求29或权利要求30所述的隔绝性窗玻璃单元，还包含在第一窗玻璃材料片和该第二抗虹彩涂层之间的第二雾度降低层。
32.根据权利要求28所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
33.根据权利要求32所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
34.根据权利要求32所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间。
35.根据权利要求34所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和290nm之间。
36.根据权利要求34所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和250nm之间。
37.根据权利要求32或33所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间。
38.根据权利要求37所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和350nm之间。
39.根据权利要求32或33所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间。
40.根据权利要求32或33所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在500nm和580nm之间。
41.根据权利要求28所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在二氧化硅层或二氧化钛层。
42.根据权利要求28所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上存在减反射涂层。
43.根据权利要求28所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层上不存在其它层。
44.根据权利要求28所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层具有小于20nm的粗糙度。
45.根据权利要求44所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层具有在3nm和15nm之间的粗糙度。
46.根据权利要求44所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第一窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层具有在5nm和12nm之间的粗糙度。
47.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上存在二氧化硅层或二氧化钛层。
48.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上存在减反射涂层。
49.根据权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中在第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层上不存在其它层。
50.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层具有小于20nm的粗糙度。
51.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层具有在3nm和15nm之间的粗糙度。
52.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层具有在5nm和12nm之间的粗糙度。
53.根据前述权利要求1所述的隔绝性窗玻璃单元，包含面向第一窗玻璃材料片并且通过第二空间与其分隔的第三窗玻璃材料片，第三窗玻璃材料片具有第一主表面和第二主表面，其中该隔绝性窗玻璃单元经构造使得第三窗玻璃材料片的第二主表面和第一窗玻璃材料片的第一主表面面向该第二空间。
54.根据权利要求53所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面和/或第三窗玻璃材料片的第二主表面于其上具有低发射率涂层。
55.根据权利要求54所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上具有低发射率涂层，该低发射率涂层于其上包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
56.根据权利要求55所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
57.根据权利要求53所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层在该隔绝性窗玻璃单元的表面6上。
58.根据权利要求1所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第二窗玻璃材料片的第二主表面上的低发射率涂层在该隔绝性窗玻璃单元的表面4上。
59.隔绝性窗玻璃单元，包含第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片，在第一窗玻璃材料片和第二窗玻璃材料片之间存在第一空间，其中第一窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，并且第二窗玻璃材料片具有第一主表面和相对的第二主表面，其中第一窗玻璃材料片的第二主表面和第二窗玻璃材料片的第一主表面面向第一空间，其中第一空间是具有小于大气压力的压力的低压空间，在第一空间中设置多个间隔物，其中第二窗玻璃材料片的第一主表面和/或第一窗玻璃材料片的第二主表面于其上具有低发射率涂层，该隔绝性窗玻璃单元还包含面向第一窗玻璃材料片并且通过第二空间与其分隔的第三窗玻璃材料片，第三窗玻璃材料片具有第一主表面和第二主表面，其中第三窗玻璃材料片的第二主表面和第一窗玻璃材料片的第一主表面面向该第二空间，并且其中第三窗玻璃材料片的第二主表面于其上具有低发射率涂层，其特征在于：气密密封件确保第一空间保持在低压下,第一窗玻璃材料片与第二窗玻璃材料片间隔小于1mm，且第三窗玻璃材料片的第一主表面于其上具有低发射率涂层。
60.根据权利要求59所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层包含至少一个氟掺杂的氧化锡层。
61.根据权利要求60所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的该第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和600nm之间。
62.根据权利要求60或权利要求61所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和300nm之间。
63.根据权利要求62所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和290nm。
64.根据权利要求62所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在100nm和250nm之间。
65.根据权利要求60或权利要求61所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和400nm之间。
66.根据权利要求60或权利要求61所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在300nm和350nm之间。
67.根据权利要求60或权利要求61所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在400nm和600nm之间。
68.根据权利要求60或权利要求61所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在500nm和580nm之间。
69.根据权利要求60或权利要求61所述的隔绝性窗玻璃单元，其中第三窗玻璃材料片的第一主表面上的低发射率涂层的该至少一个氟掺杂的氧化锡层的几何厚度在250nm和350之间。
70.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中所述窗玻璃材料片中的一个或多个是玻璃片。
71.根据前述权利要求1-2中任一项所述的隔绝性窗玻璃单元，其中所述窗玻璃材料片中的一个或多个是钠钙硅玻璃或硼硅酸盐玻璃。
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