DE10235154B4

DE10235154B4 - Vorspannbares Schichtsystem für Glasscheiben

Info

Publication number: DE10235154B4
Application number: DE10235154A
Authority: DE
Inventors: Heinz Dr. Schicht; Lars Dr. Ihlo; Uwe Schmidt; Herbert Schindler
Original assignee: Saint Gobain Glass Deutschland GmbH
Current assignee: Saint Gobain Glass Deutschland GmbH
Priority date: 2002-08-01
Filing date: 2002-08-01
Publication date: 2005-01-05
Anticipated expiration: 2022-08-02
Also published as: US20060099427A1; JP2006503724A; AU2003274215A1; CN1671632A; AU2003274215A8; EP1527029A2; WO2004013059A2; US7074485B2; WO2004013059A3; DE10235154A1; KR20050030966A

Abstract

Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für Glasscheiben, mit einer Silberschicht als Funktionsschicht und folgender Schichtenfolge oberhalb der Silberschicht:
– eine unmittelbar auf die Funktionsschicht folgende chemisch gebundenen Wasserstoff enthaltende Opfermetallschicht aus Ti oder einer Legierung aus Ti und Zn und/oder Al;
– eine Schicht aus ZnO, die gegebenenfalls mit Al und/oder In dotiert ist;
– eine dielektrische Entspiegelungsschicht, die gegebenenfalls aus mehreren Teilschichten besteht, und
– eine Deckschicht aus ZnO:Al/TiO₂, ZnO:Al/Ti, Zn_xSn_yO_z/TiO₂, Zn_xSn_yO_z/Ti, Zn_xTi_yAl_zO_r, Ti_xAl_yO_z, Ti_xAl_y, Ti_xAl_yN_z, Ti_xAl_yO_zN_r, TiN, Ti, Zn_xSn_ySb_zO_r/TiO₂, Zn_xSn_ySb_zO_r/Ti oder Zn_xSn_yAl_zO_r/TiO₂.

Description

Die Erfindung betrifft ein thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für Glasscheiben, mit Silber als Funktionsschicht, einer oberhalb der Silberschicht angeordneten Opfermetallschicht, dielektrischen Entspiegelungsschichten und einer oxidischen, nitridischen oder oxinitridischen Deckschicht.

Low-E-Schichtsysteme müssen thermisch hoch belastbar sein, wenn beschichtete Glasscheiben einem Biege- und/oder Vorspannprozess unterworfen werden. Zwar sind thermisch stabile Schichten nicht erforderlich, wenn die Glasscheiben erst nach dem Biegen und Vorspannen beschichtet werden, doch hat das den Nachteil, dass sich dann Beschichtungsfehler nicht immer vermeiden lassen. Diese sind darauf zurückzuführen, dass der Wärmebehandlungsprozess oft zu lokalen Veränderungen der Glasoberfläche führt, die nach der Beschichtung sichtbar werden. Insbesondere hat aber eine dem Wärmebehandlungsprozess voraufgehende Beschichtung den wirtschaftlichen Vorteil, dass der Beschichtungsprozess vereinfacht wird, weil große Glasscheiben auf industriellen Großanlagen beschichtet werden können. Aus den beschichteten großen Glasscheiben werden dann die gewünschten Formate herausgeschnitten und auf herkömmliche Weise gebogen und/oder vorgespannt.

Thermisch hoch belastbare Schichtsysteme sind in verschiedenen Ausführungen bekannt. Bei einer ersten Gruppe von thermisch hoch belastbaren Schichtsystemen bestehen die Entspiegelungsschichten jeweils aus Si₃N₄, die von der Funktionsschicht aus Silber durch dünne Opfermetallschichten aus CrNi getrennt sind. Schichtsysteme mit diesem Aufbau sind beispielsweise in den Dokumenten EP 0567735 B1 , EP 0717014 B1 , EP 0771766 B1 , EP 0646551 B1 und EP 0796825 B1 beschrieben. Auch das in der EP 0883584 B1 beschriebene Schichtsystem gehört in diese Gruppe, wobei jedoch in diesem Fall die Opfermetallschicht aus Si besteht. Derartige Schichtsysteme sind zwar thermisch sehr stabil, sind aber wegen der bekannten Probleme beim Sputtern von Nitriden in der Herstellung sehr aufwendig. Außerdem ist das Sputtern verhältnismäßig dicker Si₃N₄-Schichten wegen mechanischer Spannungen in den Schichten nicht unproblematisch.

Zur zweiten Gruppe thermisch hoch belastbarer Schichtsysteme gehören solche, die neben nitridischen Schichten wie Si₃N₄ oder AlN insbesondere im Deckschichtenbereich auch oxidische Schichten aufweisen. Beispielsweise beschreibt die DE 19640800 C2 ein Schichtsystem, bei dem zwischen der metallischen Blockerschicht und der oxidischen oder nitridischen Deckschicht eine Zwischenschicht aus einem Nitrid oder Oxinitrid aus dem Metall der Opfermetallschicht angeordnet ist. Ein anderes aus der DE 10105199 C1 bekanntes Schichtsystem dieser Art zeichnet sich dadurch aus, dass zwischen der Silberschicht und der Opfermetallschicht eine Schicht aus Si₃N₄ oder AlN angeordnet ist. Bei dem aus der EP 0834483 B1 bekannten Schichtsystem ist zwischen einer Opfermetallschicht aus Ti und der Deckschicht eine mindestens 5 nm dicke Zwischenschicht aus TiO₂, und auf dieser Zwischenschicht eine Deckschicht eines Oxids, Nitrids oder Oxinitrids von Bi, Sn, Zn oder einem Gemisch aus diesen Metallen angeordnet. Sowohl Zwischenschichten aus Si₃N₄ oder AlN als auch dicke Schichten aus TiO₂ sind aufwendig in der Herstellung. Außerdem stellen dicke hochbrechende Schichten aus TiO₂ hohe Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke, und bereits geringe Abweichungen in der Schichtdicke können nach dem Vorspannprozess zu Farbfehlern führen.

Bei einer dritten Gruppe von thermisch hoch belastbaren Schichtsystemen bestehen die einzelnen Schichten mit Ausnahme der Funktionsschicht und der Opfermetallschicht aus rein oxidischen Schichten. Da sich oxidische Schichten meist problemloser sputtern lassen, sind derartige Schichtsysteme wirtschaftlicher herzustellen. Die Opfermetallschicht hat jedoch in diesen Fällen eine verhältnismäßig große Dicke. Ein Schichtsystem dieser Art ist z. B. in der DE 19852358 C1 beschrieben. Das Opfermetall besteht in diesem Fall aus einer Aluminiumlegierung mit einem oder mehreren der Elemente Mg, Mn, Cu, Zn und Si als Legierungsbestandteil.

In der EP 0233003 B1 ist ebenfalls ein rein oxidisches Schichtsystem für Glasscheiben beschrieben, das sich für einen Biege- und/oder Vorspannprozess eignen soll. Bei diesem bekannten Schichtsystem ist über der Silberschicht eine Schicht aus Al, Ti, Zn oder Ta von 4 bis 15 nm Dicke angeordnet. Vorzugsweise ist eine Schicht aus Al, Ti, Zn oder Ta auch unter der Silberschicht angeordnet.

Auch in der DE 3941027 C2 ist ein oxidisches Schichtsystem beschrieben, das sich zum Biegen und/oder Vorspannen eignen soll. Bei diesem bekannten Schichtsystem ist unterhalb der Silberschicht eine ZnO-Schicht von nicht mehr als 15 nm Dicke angeordnet, und der Überzug für die Silberschicht ist ein Oxid eines Opfermetalls aus der Gruppe Titan, Aluminium, rostfreier Stahl, Wismut, Zinn oder Gemischen von diesen Oxiden, die durch Abscheidung des Opfermetalls und durch seine Überführung ins Oxid gebildet ist.

Aus der EP 0960077 B1 ist ein Schichtsystem mit dielektrischen Entspiegelungsschichten und einer infrarotreflektierenden Metallschicht bekannt, bei dem oberhalb der infrarotreflektierenden Metallschicht eine farbkorrigierende Metallschicht aus einem anderen Metall, und darüber eine Opfermetallschicht aus Al, Ti, Zr, Nb, Hf, Ta, Wo oder einer Legierung dieser Metalle angeord net ist. In diesem Fall werden die Oxidschichten in einer Atmosphäre aus 65 % Argon, 34 % Sauerstoff und 1 % Wasserstoff, und die Metallschichten in einer Atmosphäre aus 97,5 % Argon und 2,5 % Wasserstoff aufgesputtert. Der geringe Zusatz von Wasserstoff zum Arbeitsgas hat in diesem Fall den Zweck, ein Anoxidieren der Metallschichten beim reaktiven Sputtern der äußeren oxidischen Entspiegelungsschicht zu vermeiden.

In der DE 690 02 000 T2 (= EP 0442162 B1 ) ist ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mit einem Film aus Titanhydrid beschrieben, der in kerntechnischen Anlagen als Antikorrosionsbeschichtung, sowie zum Schutz der inneren Oberfläche von Tanks für wasserstoffreiche Treibstoffe Anwendung findet. Bei diesem Verfahren wird Titan mit einem Arbeitsgas aufgesputtert, das 0,01 bis 5 % Wasserstoff enthält. Anschließend wird diese Titanschicht zur Hydrierung in einem zweiten Schritt der Wirkung eines kalten Plasmas unterworfen, welches durch eine ionische Entladung in einer Atmosphäre aus Wasserstoff oder Wasserstoffisotopen gebildet wird, die 0–50 % eines Inertgases enthält.

Alle bekannten Schichtsysteme ändern nach der für das Biegen und/oder das Vorspannen der Glasscheiben erforderlichen Wärmebehandlung mehr oder weniger deutlich sichtbar ihre Reflexionsfarbe. Außerdem weisen sie in der Regel eine infolge der Wärmebehandlung erhöhte Emissivität und einen erhöhten Streulichtanteil auf. Wärmebehandelte beschichtete Glasscheiben, die in ein und derselben Fassade neben nicht wärmebehandelten Glasscheiben mit dem gleichen Schichtsystem eingebaut sind, sind aufgrund der veränderten Reflexionsfarbe mit dem Auge als solche zu erkennen. Es ist deshalb für diesen Zweck ein anderes vorspannbares Schichtsystem erforderlich, dessen Eigenschaften mit denen eines nicht wärmebehandelten Schichtsystems vergleichbar sind.

Die gleichzeitige Erfüllung der drei wichtigen Bedingungen, nämlich Einhaltung einer eng definierten Reflexionsfarbe sowie möglichst keine oder nur geringe Erhöhung des Streulichtanteils und der Emissivität durch den Wärmebehandlungsprozess, sind um so schwieriger zu erreichen, je höher die Anforderungen an die Farbneutralität des Schichtsystems sind.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein weitgehend farbneutrales Schichtsystem mit im wesentlichen oxidischen Entspiegelungsschichten zu entwickeln, das nach einem thermischen Behandlungsprozess, wie er zum Biegen und/oder zum Vorspannen der Glasscheiben erforderlich ist, in der Reflexion im wesentlichen die gleichen Farbparameter wie ein vorgegebenes nicht wärmebehandeltes oxidisches Schichtsystem aufweist, und bei dem durch die Wärmebehandlung der Streulichtanteil und die Emissivität möglichst wenig erhöht werden. Gleichzeitig soll das Schichtsystem eine hohe Härte und eine hohe chemische Beständigkeit aufweisen.

Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass die Opfermetallschicht aus Ti oder einer Legierung aus Ti und Zn und/oder Al besteht und chemisch gebundenen Wasserstoff enthält, dass sich an die Opfermetallschicht eine Schicht aus gegebenenfalls mit Al und/oder In dotiertem ZnO anschließt, und dass die Deckschicht aus einer Titanverbindung besteht.

Schichtsysteme mit dem erfindungsgemäßen Aufbau sind auf verhältnismäßig wirtschaftliche Weise herstellbar und weisen eine hohe Härte und hohe chemische Beständigkeit auf. Insbesondere aber zeichnen sie sich dadurch aus, dass sie bei einem Wärmebehandlungsprozess auch bei hohen Temperaturen ihren Farbeindruck gut reproduzierbar gezielt verändern und nur eine sehr geringe Erhöhung des Streulichtanteils und niedrige Emissivität aufweisen.

Eine besondere Rolle spielt dabei offenbar die Zusammensetzung der Schicht des Opfermetalls, die in einer Ar/H₂-Arbeitsgasatmosphäre gesputtert wird. Da metallisches Ti die Eigenschaft hat, Wasserstoff zu binden, wird die Schutzwirkung der Opfermetallschicht gegenüber der Silberschicht durch ein reduzierendes „Wasserstoff-Polster" zusätzlich erhöht. Der Wasserstoff in der Opfermetallschicht ist mit geeigneten analytischen Methoden nachweisbar.

Als besonders geeignete Legierung für die Opfermetallschicht haben sich beispielsweise Titanlegierungen mit 50 bis 80 Gew.-% Ti und 20 bis 50 Gew.-% Al erwiesen.

Auch die Anordnung der ggf. mit Al oder In dotierten ZnO-Schicht unmittelbar auf der Opfermetallschicht trägt zu dem gewünschten Ergebnis wesentlich bei. Dabei kann diese ZnO-Schicht so dick sein, dass sie als solche bereits die Entspiegelungsschicht darstellt, so dass unmittelbar auf diese ZnO-Schicht die Deckschicht folgt. Es ist jedoch auch möglich, nur eine relativ dünne ZnO-Schicht vorzusehen, die dann als Teilschicht der Entspiegelungsschicht wirkt, während die sich daran anschließende Teilschicht der Entspiegelungsschicht beispielsweise aus SnO₂ besteht. In diesem Fall ist es jedoch erforderlich, dass die Dicke der ZnO-Schicht wenigstens 3 nm beträgt.

Bei der Deckschicht des Schichtsystems handelt es sich vorzugsweise um ein Mischoxid mit Spinellstruktur, jedoch sind auch binäre Legierungen des Typs Ti/Al geeignet. Insbesondere eignen sich für die Deckschicht die folgenden Verbindungen: ZnO:Al/TiO₂, ZnO:Al/Ti, Zn_xSn_yO_z/TiO₂, Zn_xSn_yO_z/Ti, Zn_xTi_yAl_zO_r, Ti_xAl_yO_z, Ti_xAl_y, Ti_xAl_yN_z, Ti_xAl_yO_zN_r, Zn_xSn_ySb_zO_r/TiO₂, Zn_xSn_ySb_zO_r/Ti oder Zn_xSn_yAl_zO_r/TiO₂. Soweit es sich hierbei um Titanlegierungen handelt, stellen diese den Zustand der Deckschicht vor dem Wärmebehandlungsprozess dar, in dessen Verlauf sie dann in die oxidische Form überführt werden.

Bevorzugte Zusammensetzungen der Opfermetallschicht und der übrigen Schichten des Schichtsystems sowie die bevorzugten Dickenbereiche der einzelnen Schichten ergeben sich aus den Unteransprüchen.

Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels näher beschrieben, das einem Vergleichsbeispiel nach dem Stand der Technik gegenüber gestellt wird. Dabei werden zur Bewertung der Schichteigenschaften an den beschichteten Glasscheiben die folgenden Messungen und Tests durchgeführt:

A. Messung der Transmission T einer beschichteten Glasscheibe bei 550 nm;
B. Messung der Farbparameter in der Reflexion im Lab-System (DIN 5033), wobei als Farbreferenz ein ISO-Null-Muster verwendet wird. Zu den Farbparametern dieses Referenzmusters müssen festgelegte Toleranzwerte Δ eingehalten werden, die bei dem hier behandelten Schichtsystem im vorgespannten Zustand wie folgt festgelegt wurden: ΔL = ±3,0; Δa = ±1,4; Δb = –3,5 bis +1,0
C. Messung des elektrischen Flächenwiderstandes mit den Geräten FPP 5000 Veeco Instr. und dem Handmeßgerät SQO HM-1;
D. Messung der Emissivität E mit Gerät Sten Löfving MK2;
E. Schwitzwassertest nach DIN 50017 mit visueller Beurteilung;
F. Messung der elektrochemischen Beständigkeit (EMK-Test); dieser Test ist beschrieben in Z.Silikattechnik 32 (1981) 5.216. Der Test erlaubt eine Aussage über die Passivierungsqualität der Deckschicht oberhalb der Silberschicht sowie über das Korrosionsverhalten der Ag-Schicht;
G. Erichsen-Waschtest nach ASTM 2486, visuelle Beurteilung;
H. Messung der Ritzhärte; hierbei wird eine gewichtsbelastete Nadel mit definierter Geschwindigkeit über die Schicht gezogen. Das Gewicht in g, bei dem Ritzspuren sichtbar werden, dient als Maß für die Ritzhärte;
I. Messung des Streulichtes in % mit dem Streulichtmessgerät der Firma Gardner.

Vergleichsbeispiel
Auf einer industriellen Durchlauf-Beschichtungsanlage wird folgendes Schichtsystem nach dem Stand der Technik ( DE 3941027 C2 ) mit Hilfe des Verfahrens der magnetfeldunterstützten reaktiven Katodenzerstäubung auf Floatglasscheiben aufgebracht, wobei die Dicke der einzelnen Schichten jeweils in nm angegeben ist:
Glas/3TiO₂/22SnO₂/13ZnO:Al/12Ag/5TiAl/20SnO₂/10TiO₂
Die ZnO:Al-Schicht wird reaktiv aus einem metallischen ZnAl-Target mit 2 Gew.-% Al gesputtert. Die Opfermetallschicht wird aus einem metallischen Target gesputtert, das 64 Gew.-% Ti und 36 Gew.-% Al enthält. Die Deckschicht wird reaktiv aus einem metallischen Titan-Target gesputtert.
Die Durchführung der oben genannten Tests an mehreren Proben vor der Wärmebehandlung ergab im Mittel folgende Werte:

A. Transmission: T₅₅₀ = 76–77 %
B. Farbparameter: ΔL –0,2 Δa 4,47 Δb –5,31
C. Flächenwiderstand: R = 6,8–6,9 Ω/☐
D. Emissivität: E = 7,8 %
E. Schwitzwassertest: rote Flecken
F. EMK-Test: 140 mV
G. Waschtest: 350 Hübe beginnende Schichtablösung
H. Ritzhärte: 60–210 g
I. Streulicht: 0,17 %

Mehrere 60 × 80 cm große Proben des beschichteten Glases wurden auf 680–700°C erhitzt und durch schroffes Abkühlen vorgespannt. An den vorgespannten Gläsern wurden die nachfolgend aufgeführten Tests bzw. Messungen durchgeführt. Der Schwitzwassertest, der EMK-Test, der Waschtest und der Ritzhärte-Test wurden nicht durchgeführt, da sich diese Werte erfahrungsgemäß durch den Wärmebehandlungsprozess nicht verschlechtern. Die durchgeführten Tests führten zu folgenden Ergebnissen:

A. Transmission: T₅₅₀ = 88,5 %
B. Farbparameter: ΔL 1,3 Δa 1,56 Δb –3,95
C. Flächenwiderstand: R = 4,0–4,6 Ω/☐
D. Emissivität: E = 5,8–6,8 %
I. Streulicht: 0,35 %

Die Erhöhung des Streulichtanteils durch die Wärmebehandlung von 0,17 % auf 0,35 % ist noch tolerierbar. Eine Emissivität von 5,8–6,8 % ist jedoch zu hoch, um Isolierglasscheiben mit einem k-Wert von 1,1 W/m²K herzustellen. Auch die Farbparameter liegen nach dem Vorspannen außerhalb der Toleranzgrenzen. Visuell erscheinen die Glasscheiben in der Reflexion rötlichblau. Auch durch umfangreiche Variationen der Dicken der einzelnen Schichten gelang es nicht, eine farbneutralere Reflexionsfarbe mit den Zielfarbwerten zu erreichen.
Ausführungsbeispiel
Auf derselben Beschichtungsanlage wie beim Vergleichsbeispiel wurde folgendes erfindungsgemäße Schichtsystem hergestellt, wobei sowohl für die Abscheidung der Opfermetallschicht als auch für die Abscheidung der Deckschicht jeweils ein metallisches Target einer Legierung aus 64 Gew.-% Ti und 36 Gew.-% Al verwendet wurde:
Glas/25SnO₂/9ZnO:Al/11,5Ag/2TiAl(TiH_x)/5ZnO:Al/33SnO₂/3Ti_xAl_yO_zN_r
Die Abscheidung der Opfermetallschicht erfolgte in einem Ar/H₂-Arbeitsgasgemisch (90/10 Vol.-%), und die Abscheidung der oxinitridischen Deckschicht in einem Ar/N₂/O₂-Arbeitsgasgemisch.
Die Messungen und Tests an den beschichteten Glasscheiben vor der Wärmebehandlung ergaben folgende Werte:

A. Transmission: T₅₅₀ = 78,3 %
B. Farbparameter: ΔL –0,9 Δa 2,80 Δb –3,8
C. Flächenwiderstand: R = 5,7 Ω/☐
D. Emissivität: E = 6,6–6,7 %
E. Schwitzwassertest: ohne Fehler
F. EMK-Test: –64 mV
G. Waschtest: nach 1000 Hüben keine Kratzer
H. Ritzhärte: 150–260 g
I. Streulicht: 0,18 %

Nach dem Vorspannen wurden an mehreren Proben die gleichen Messungen und Tests durchgeführt wie bei den vorgespannten Glasscheiben des Vergleichsbeispiels. Die Tests erbrachten folgende Ergebnisse:

A. Transmission: T₅₅₀ = 88,3 %
B. Farbparameter: ΔL 1,0 Δa 1,2 Δb –2,4
C. Flächenwiderstand R = 3,6–4,0 Ω/☐
D. Emissivität E = 4,8–5,0 %
I. Streulicht 0,27 %

Die ermittelten Werte lassen sowohl bei der nicht wärmebehandelten Schicht als auch bei der wärmebehandelten Schicht deutliche Verbesserungen erkennen. Insbesondere erfüllt die wärmebehandelte Schicht die vorgegebenen Farbparameter. Die Reflexionsfarbe ist deutlich farbneutraler als bei dem Vergleichsbeispiel. Der funktionale Zusammenhang zwischen Flächenwiderstand und Emissivität entspricht besser der physikalischen Abhängigkeit und erlaubt die Herstellung von
Isolierglasscheiben mit einem k-Wert von 1,1 W/m²K. Der Streulichtanteil ist durch die Wärmebehandlung deutlich weniger gestiegen als bei Vergleichsbeispiel. Das deutet darauf hin, dass die Ag-Schicht nur geringfügig destrukturiert ist. Auch die Ergebnisse der übrigen Tests, wie Schwitzwassertest, EMK-Test, Waschtest und Ritzhärte, die an den nicht wärmebehandelten Proben durchgeführt wurden, sind überdurchschnittlich gut. Das Schichtsystem lässt sich auf einer industriellen Beschichtungsanlage stabil und reproduzierbar herstellen.

Claims

Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für Glasscheiben, mit einer Silberschicht als Funktionsschicht und folgender Schichtenfolge oberhalb der Silberschicht: – eine unmittelbar auf die Funktionsschicht folgende chemisch gebundenen Wasserstoff enthaltende Opfermetallschicht aus Ti oder einer Legierung aus Ti und Zn und/oder Al; – eine Schicht aus ZnO, die gegebenenfalls mit Al und/oder In dotiert ist; – eine dielektrische Entspiegelungsschicht, die gegebenenfalls aus mehreren Teilschichten besteht, und – eine Deckschicht aus ZnO:Al/TiO₂, ZnO:Al/Ti, Zn_xSn_yO_z/TiO₂, Zn_xSn_yO_z/Ti, Zn_xTi_yAl_zO_r, Ti_xAl_yO_z, Ti_xAl_y, Ti_xAl_yN_z, Ti_xAl_yO_zN_r, TiN, Ti, Zn_xSn_ySb_zO_r/TiO₂, Zn_xSn_ySb_zO_r/Ti oder Zn_xSn_yAl_zO_r/TiO₂.
Schichtsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Opfermetallschicht aus einer TiAl-Legierung mit 20 bis 50 Gew.-% Al besteht.
Schichtsystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Opfermetallschicht eine Dicke von 1 bis 5 nm aufweist.
Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht aus ZnO 0,5 bis 10 Gew.-% Al und/oder In enthält.
Schichtsystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht aus ZnO eine Dicke von wenigstens 3 nm aufweist.
Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Schicht aus ZnO und der Deckschicht als Teilschicht der dielektrischen oberen Ent spiegelungsschicht eine Schicht aus SnO₂, Si₃N₄, ZnO, Al₂O₃ und/oder SiO₂ angeordnet ist.
Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch den Schichtaufbau Glas-SnO₂-ZnO:Al-Ag-TiAl(TiH_x)-ZnOAl-SnO_z-Ti_xAl_yO_zN_r.