DE10105199C1 - Vorspannbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben sowie mit dem Low-E-Schichtsystem beschichtete transparente Scheibe - Google Patents

Vorspannbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben sowie mit dem Low-E-Schichtsystem beschichtete transparente Scheibe

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Abstract

Ein thermisch hoch belastbares Schichtsystem mit Silber als Funktionsschicht, einer oberhalb der Silberschicht angeordneten Opfermetallschicht und dielektrischen Entspiegelungsschichten weist zwischen der Silberschicht und der Opfermetallschicht eine 0,5-5 nm dicke Metallnitridschicht auf. Diese besteht insbesondere aus Si¶3¶N¶4¶ oder AlN. Sie stellt eine wirksame Diffusionsbarriere dar und verhindet bei einer Wärmebehandlung das Eindiffundieren von Atomen des Opfermetalls in die Silberschicht. Die optischen und energetischen Eigenschaften der Silberschicht bleiben dadurch auch nach einer hohen thermischen Belastung (z. B. Biegen oder/und Vorspannen einer mit dem Schichtsystem versehenen Glasscheibe) im wesentlichen erhalten.

Description

Die Erfindung betrifft ein thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für Fensterschei­ ben mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Patentanspruchs 1.
Fensterscheiben mit einem Low-E-Schichtsystem (Low-E steht für "low emissivity", also nie­ drige Emissivität bzw. hohe Reflexion von Wellen im infraroten Spektrum) dienen insbeson­ dere zur Verbesserung der Wärmedämmung in Gebäude- und Fahrzeugfenstern. Die eigent­ liche Wärmedämmfunktion wird dabei meist durch eine Silberschicht (sog. "Funktions­ schicht") realisiert. Bei Isolierfenstern beispielsweise kann mit Scheiben mit einer Emissivität von E ≦ o,1 auf der dem Scheibenzwischenraum zugewandten Seite der Strahlungsaus­ tausch zwischen den Scheiben nahezu unterbunden werden. Dadurch wird es möglich, Iso­ lierfenster mit einem k-Wert von 1,1 W/m2K herzustellen.
Andererseits sollen Fenster mit optimalen Low-E-Schichtsystemen auch eine möglichst hohe Gesamtenergie-Durchlässigkeit (einen möglichst hohen g-Wert) aufweisen, um die einge­ strahlte Sonnenenergie für die Energiebilanz eines Gebäudes nutzen zu können. Schließlich soll die Transmission im sichtbaren Bereich des Spektrums möglichst hoch sein. Die Reflexi­ onsfarbe beschichteter Fenster soll wie die der konventionellen Isolierfenster farbneutral sein.
In manchen Fällen ist es erforderlich oder zweckmäßig, mit einem derartigen Low-E-Schicht­ system versehene Glasscheiben einer Biege- oder Vorspannbehandlung zu unterziehen. Zu diesem Zweck werden die Glasscheiben vor der eigentlichen Biege- oder Vorspannbehand­ lung auf eine Temperatur von etwa 650°C erwärmt. Bei dieser thermischen Belastung kommt es häufig aufgrund von Oxidations- und Diffusionsvorgängen zu strukturellen Verän­ derungen der Silberschicht. Diese Veränderungen der Silberschicht äußern sich, auch wenn sie mit bloßem Auge nicht erkennbar sind, in einer Verschlechterung der energetischen Wer­ te, insbesondere der Transmission und der Emissivität. Wenn beispielsweise Isoliergläser aus zwei 4 mm dicken Glasscheiben und einem 16 mm dicken mit Argon gefüllten Zwischen­ raum einen k-Wert von 1,1 W/m2K haben sollen, darf die Emissivität des Schichtsystems der Glasscheiben maximal 5% betragen. Das entspricht einem elektrischen Widerstand von maximal 4,5 Ohm/Flächeneinheit.
Es besteht ein großer Bedarf an solchen thermisch hoch belastbaren Schichtsystemen, de­ ren Emissivität und diffuse Streuung (Haze) auch nach einer thermischen (Vorspann-)Be­ handlung unter Beibehaltung der optischen Eigenschaften sehr niedrig sind, ohne dass die übrigen Qualitätskriterien der Schicht, wie Härte, Farbe und Korrosionsbeständigkeit, da­ durch beeinträchtigt werden.
Es wurden bereits verschiedene Vorschläge zur Verbesserung solcher Schichtsysteme ge­ macht. Damit sollen die gewünschten optischen und energetischen Werte der beschichteten Scheiben auch bei Glasscheiben eingehalten werden, die nach dem Beschichten gebogen oder vorgespannt werden. Eine Verschlechterung der Schichteigenschaften durch die Wär­ mebehandlung soll verhindert oder zumindest in Grenzen gehalten werden.
Aus DE-A1-196 32 788 ist ein vorspannbares Schichtsystem der genannten Art bekannt, bei dem die dielektrischen Entspiegelungsschichten aus einem Oxid der Metalle Sn, Zn, Ti, Si oder Bi, oder aus SiN oder AlN, und die Opfermetallschicht aus einer AlMgMn-Legierung bestehen. Die Opfermetallschicht weist eine Dicke von 5 bis 10 nm auf. Als "vorspannbar" werden hier solche Schichtsysteme bezeichnet, welche die beim Vorspannen oder/und Bie­ gen von damit beschichteten Glasscheiben auftretenden hohen Temperaturen schadlos er­ tragen.
DE-A1-196 40 800 beschreibt ein Schichtsystem auf Silberbasis, bei dem zwischen der Op­ fermetallschicht und der Entspiegelungs-Deckschicht eine Zwischenschicht aus einem Oxid, Nitrid oder Oxinitrid aus dem Metall der Opfermetallschicht angeordnet ist. Die Entspiege­ lungs-Deckschicht besteht aus einem Oxid, Nitrid oder Oxinitrid eines anderen Metalles als dem Metall der Opfermetallschicht.
Aus den Dokumenten EP-B1-0 567 735, EP-B1-0 717 014, EP-B1-0 771 766, EP-B1-0 646 551 und EP-A2-0 796 825 sind vorspannbare Schichtsysteme mit einer Silberschicht als Funktionsschicht bekannt, bei denen die beiden Entspiegelungsschichten jeweils aus Si3N4, und die Opfermetallschicht aus Ni oder NiCr bestehen.
Auch das in EP-B1-0 883 584 beschriebene vorspannbare Schichtsystem weist Entspiege­ lungsschichten vorzugsweise aus Si3N4 auf, jedoch besteht die Opfermetallschicht in diesem Fall aus Silizium.
Ein aus DE-A1-198 50 023 bekanntes vorspannbares Schichtsystem zeichnet sich dadurch aus, dass in die von einer unteren und einer oberen Opfermetallschicht eingeschlossene Sil­ berschicht eine unteroxidische NiCrOx-Schicht mit einer Dicke zwischen 0,1 und 2 nm einge­ bettet ist. Die Opfermetallschichten bestehen aus unteroxidischem NiCrOx oder unteroxidi­ schem NiCrOx und TiO2. Dieses bekannte Schichtsystem soll ein Vorspannen und Biegen der beschichteten Glasscheibe ermöglichen, ohne dass sich dadurch die optischen Eigen­ schaften des Schichtsystems nennenswert ändern. Insbesondere soll die diffuse Streuung (Haze) nach der Wärmebehandlung geringer als 5% sein.
Die DE-C1-198 52 358 beschreibt ein thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem mit der Schichtenfolge Glas-MeO-ZnO-Zn-Ag-AlMe-MeO-ZnxMeyOn, wobei in diesem Fall die Opfermetallschicht AlMe oberhalb der Silberschicht eine Aluminiumlegierung mit einem oder mehreren der Elemente Si, Mg, Mn, Cu und Zn als Legierungsbestandteil ist.
Ferner ist aus US-A-5,425,861 ein Low-E-Schichtsystem mit einer zwischen zwei NiCr-Op­ fermetallschichten eingeschlossenen Silberschicht bekannt. Die NiCr-Schichten werden ge­ mäß diesem Dokument in einer Stickstoff enthaltenden Atmosphäre abgeschieden, so dass im Ergebnis ein hoher Anteil des Chroms der Opfermetallschicht als Nitrid vorliegt. Insge­ samt wird ein Schichtsystem mit dem Aufbau Glas-Si3N4-NiCrNx-Ag-NiCrNx-Si3N4 er­ zeugt. Damit wird zwar eine hohe Schichthärte erreicht, aber die optisch-energetischen Ei­ genschaften wie Transmission, Emissivität und Streulicht entsprechen nicht höchsten An­ sprüchen, weil das nitridierte Chrom an den Silbergrenzschichten lichtabsorbierende Eigen­ schaften entwickelt.
Aus JP-A-63 238 260 und JP-A-02 080 352 (beide in Patent Abstracts of Japan) ist es jeweils bekannt, eine Silberschicht zwischen zwei AlN- bzw. AlNx-Schichten einzubetten. Hinsichtlich der Feuchtebeständigkeit und auch der Widerstandsfähigkeit gegen hohe thermische Belas­ tungen wie Vorspannen oder Biegen auf Glasscheiben sind diese Schichten schlechter ein­ zuschätzen als entsprechende Siliziumnitrid-Schichten.
Schließlich offenbart DE-T2-696 04 132 ein Low-E-Schichtsystem mit dem Aufbau Glas- Al:ZnO-PdAg-Metall oder Nitrid-Al:ZnO. Dort werden Ti, Zn, Ta oder NiCr als Opfermetal­ le und wird SiNx als Nitridschicht verwendet, um das Silber vor Oxidation zu schützen. Eine solche Schichtfolge bringt zwar besonders gute Feuchtebeständigkeit, jedoch ist sie anderer­ seits nicht thermisch hoch belastbar, da die mit einer Dicke von 1-5 nm offenbarte Nitrid­ schicht zu dünn zum Erreichen eines genügenden Schutzeffekts ist.
Keines der bekannten Schichtsysteme erfüllt alle erforderlichen Eigenschaften in optimaler Weise. In den meisten Fällen weisen die Schichtsysteme nach der Wärmebehandlung eine zu hohe Emissivität und eine verhältnismäßig hohe diffuse Streuung (Haze) auf.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein thermisch hoch belastbares Low-E-Schicht­ system der eingangs genannten Art noch weiter zu verbessern.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Es versteht sich, dass solche Schichtsysteme nicht ausschließlich auf Glassubstraten ver­ wendet werden können, sondern auch auf anderen transparenten (Kunststoff-)Materialien als Substrat sinnvoll einsetzbar sind bzw. abgeschieden werden können. Kunststoff-Materialien sind natürlich nicht so hoch thermisch belastbar wie Glas.
Es hat sich gezeigt, dass eine Metallnitridschicht zwischen der Silberschicht und der Opfer­ metallschicht eine wirksame Barriere darstellt. Sie verhindert oder verringert stark die Diffu­ sion von Atomen des Opfermetalls in die Silberschicht und umgekehrt. Dabei sind Metallnitri­ de verhältnismäßig stabile Verbindungen, die ihrerseits keine Neigung zu Diffusionsbewe­ gungen in die Silberschicht hinein aufweisen. Auf diese Weise behält die Silberschicht an ih­ rer besonders gefährdeten oberen Grenzfläche auch nach einer hohen thermischen Belas­ tung weitgehend ihre ursprüngliche Struktur, so dass ihre guten optischen und energetischen Eigenschaften insgesamt im wesentlichen erhalten bleiben.
Die Opfermetallschicht besteht vorzugsweise aus Cr, Ni, Al, Ti, Mg, Mn, Si, Zn oder Cu, oder aus einer Legierung dieser Metalle.
Auch unterhalb der Silberschicht kann eine Opfermetallschicht vorgesehen sein. Vorzugs­ weise besteht diese Opfermetallschicht ebenfalls aus einem der genannten Metalle oder aus einer Legierung dieser Metalle. Auch in diesem Fall ist dann zwischen der Opfermetallschicht und der Silberschicht eine Metallnitridschicht angeordnet.
Bei Schichtsystemen, bei denen die Silberschicht auf einer teilkristallinen ZnO-Schicht abge­ schieden ist, ist die Anordnung einer Metallnitridschicht unterhalb der Silberschicht nicht er­ forderlich.
Die Entspiegelungs-Grundschicht und die obere Entspiegelungs-Deckschicht können als oxi­ dische und/oder nitridische und/oder oxinitridische Einzelschicht oder als beliebige Schich­ tenfolge einer oder mehrerer derartiger Einzelschichten entsprechend dem Stand der Technik realisiert werden.
Die Auswahl und die Dicke der einzelnen Schichten werden in dem beschriebenen Rahmen so getroffen, dass die optischen Werte wie Transmission und Reflexionsfarbe der beschich­ teten (Glas-)Scheibe sich bei der Wärmebehandlung signifikant und reproduzierbar verän­ dern. Insbesondere wird die Lichttransmission deutlich erhöht, und die Reflexionsfarbe er­ fährt nach Durchführung der Wärmebehandlung einen Farbboxwechsel. Als Farbboxwechsel bezeichnen Fachleute eine Änderung der Färbung oder Tönung (Reflexionsfarbe) einer Schicht oder eines Schichtsystems. Die möglichen Farben können in einem speziellen Koor­ dinatensystem beschrieben werden. Da sich Schichtfarben in diesem Koordinatensystem nicht punktgenau reproduzieren lassen, werden zwischen Lieferanten und Kunden Farb- Toleranzbereiche festgelegt, die dann als Farbbox bezeichnet werden. Unter einem Farbbox­ wechsel ist dann eine solche Änderung der Färbung oder Tönung zu verstehen, die über die Grenzen einer ersten Farbbox (Ausgangszustand) hinaus in eine andere Farbbox (Ziel- oder Sollzustand) übergeht.
Nach der Wärmebehandlung beträgt die diffuse Streuung maximal 0,3% und die Emissivität maximal 5%. Selbstverständlich muß das Schichtsystem auch alle anderen Anforderungen bezüglich der Gebrauchseigenschaften und der chemischen Beständigkeit erfüllen, die an derartige Schichten gestellt werden.
Deshalb kann das erfindungsgemäße Schichtsystem durchaus auch ohne Wärmebehand­ lung insbesondere auf geeigneten Kunststoffsubstraten (z. B. Polycarbonat) verwendet wer­ den, da seine sehr guten Wärmedämmeigenschaften von der Wärmebehandlung nicht we­ sentlich verändert werden.
Im folgenden wird die Erfindung anhand zweier Ausführungsbeispiele näher beschrieben, die jeweils einem Vergleichsbeispiel nach dem Stand der Technik gegenüber gestellt werden. Dabei werden zur Bewertung der Schichteigenschaften an den beschichteten Glasscheiben die nachfolgend genannten Messungen und Tests durchgeführt:
A. Messung der Licht-Transmission T für 550 nm;
B. Messung der Farbparameter in der Reflexion im La*b*-System;
C. Messung des elektrischen Flächenwiderstandes;
D. Messung der Emissivität E mit Gerät Sten Löfving MK2;
E. Schwitzwassertest nach DIN 50017 mit visueller Beurteilung;
F. Messung der elektrochemischen Beständigkeit (EMK-Test); dieser Test ist beschrie­ ben in Z. Silikattechnik 32 (1981) S. 216. Der Test erlaubt eine Aussage über die Passivierungsqualität der Deckschicht oberhalb der Silberschicht sowie über das Korrosionsverhalten der Ag-Schicht;
G. Erichsen-Waschtest nach ASTM 2486, visuelle Beurteilung;
H. Messung der Ritzhärte; hierbei wird eine gewichtsbelastete Nadel mit definierter Geschwindigkeit über die Schicht gezogen. Das Gewicht in g, bei dem Ritzspuren sichtbar werden, dient als Maß für die Ritzhärte.
I. Messung des Streulichtes in % mit dem Streulichtmeßgerät der Firma Gardner.
Vergleichsbeispiel 1
Auf einer industriellen Durchlauf-Beschichtungsanlage wird folgendes Schichtsystem nach dem Stand der Technik mit Hilfe des Verfahrens der magnetfeldunterstützten reaktiven Kato­ denzerstäubung auf Floatglasscheiben aufgebracht, wobei die Dicke der einzelnen Schich­ ten jeweils in nm angegeben ist:
Glas/25SnO2/9ZnO:Al/11,6Ag/6AlMgMn/38SnO2/2ZnSnSbOx
Die ZnO:Al-Schicht wird reaktiv aus einem metallischen ZnAl-Target mit 2 Gew.-% Al gesput­ tert. Die Opfermetallschicht wird aus einem metallischen Target gesputtert, das 94 Gew.-% Al, 4,5 Gew.-% Mg und 1 Gew.-% Mn enthält. Die oberste Teilschicht der Entspiegelungs- Deckschicht wird reaktiv aus einem metallischen Target gesputtert, das aus 68 Gew.-% Zn, 30 Gew.-% Sn und 2 Gew.-% Sb besteht.
Die Durchführung der oben genannten Tests an mehreren Proben vor der Wärmebehand­ lung ergaben im Mittel folgende Werte:
A. Transmission: T550 = 76 - 77%
B. Farbparameter: a* = 4,06 b* = -7,17
C. Elektrischer Widerstand: R = 6,8-6,9 Ohm/Quadratfläche
D. Emissivität: E = 7,7%
E. Schwitzwassertest: rote Flecke
F. EMK-Test: 132 mV
G. Waschtest: 350 Hübe 1 mittlerer Kratzer
H. Ritzhärte: 65-132 g
I. Streulicht: 0,17%
Mehrere Proben des beschichteten Glases wurden auf 650°C erhitzt und durch schroffes Abkühlen vorgespannt. Die an den vorgespannten Gläsern durchgeführten Tests bzw. Mes­ sungen führten zu folgenden Ergebnissen:
A. Transmission: T550 = 88,9%
B. Farbparameter: a* = 1,0 b* = -5,1
C. Elektrischer Widerstand: R = 4,3 Ohm/Quadratfläche
D. Emissivität: E = 5,3%
H. Ritzhärte: 64-208 g
I. Streulicht: 0,35%
Die signifikanten Unterschiede der Farbkoordinaten a* und b* vom nicht vorgespannten zum vorgespannten Zustand der Glasscheiben belegen den erörterten Farbboxwechsel des Schichtsystems.
Ausführungsbeispiel 1
Auf derselben Beschichtungsanlage wie beim Vergleichsbeispiel wurde folgendes erfin­ dungsgemäße Schichtsystem hergestellt:
Glas/25SnO2/9ZnO:Al/11,5Ag/3Si3N4/5AlMgMn/38SnO2/2ZnSnSbOx
Die Messungen und Tests an den beschichteten Glasscheiben vor der Wärmebehandlung ergaben folgende Werte:
A. Transmission: T550 = 75,5%
B. Farbparameter: wie Vergleichsbeispiel
C. Elektrischer Widerstand: R = 6,7 Ohm/Quadratfläche
D. Emissivität: E = 7,5%
E. Schwitzwassertest: ohne Fehler
F. EMK-Test: 44 mV
G. Waschtest: nach 350 Hüben keine Kratzer
H. Ritzhärte: 64-218 g
I. Streulicht: 0,14%
Nach dem Vorspannen wurden an mehreren Proben die gleichen Messungen und Tests durchgeführt wie beim Vergleichsbeispiel, und zwar mit folgenden Ergebnissen:
A. Transmission: T550 = 88%
B. Farbparameter: wie beim Vergleichsbeispiel
C. Elektrischer Widerstand: R = 3,6 Ohm/Quadratfläche
D. Emissivität: E = 4,0%
H. Ritzhärte: 70-200 g
I. Streulicht: 0,25%
Ersichtlich steigt die Lichttransmission des Schichtsystems bzw. der beschichteten Glas­ scheibe während der Wärmebehandlung sehr stark an, wobei die Emissivität noch geringer ist als beim Vergleichsbeispiel. Die Farbwerte verändern sich in gleicher Weise wie beim Vergleichsbeispiel, was bedeutet, dass die "Ziel-Farbbox" auch mit dem erfindungsgemäßen Schichtsystem sicher erreicht wird.
Vergleichsbeispiel 2
Auf derselben Beschichtungsanlage wie bei den vorhergehenden Beispielen wurde folgen­ des dem Stand der Technik entsprechende Schichtsystem hergestellt:
Glas/25SnO2/9ZnO:Al/11,5Ag/3ZnAl/38SnO2/2ZnSnSbOx
Die Opfermetallschicht wurde aus einem metallischen Target mit 98 Gew.-% Zn und 2 Gew.- % Al gesputtert.
An den mit diesem Schichtsystem beschichteten Glasproben wurde der EMK-Test durchge­ führt, der einen Wert von 120 mV ergab. Dann wurden die Proben einer Vorspannbehand­ lung unterworfen. Nach dem Vorspannen war die Schicht leicht wolkig. An den vorgespann­ ten Glasproben wurden die Messungen für die drei wichtigsten Parameter, nämlich die Mes­ sung der Emissivität E, des elektrischen Flächenwiderstandes und des Streulichts durchge­ führt. Die Messungen ergaben folgende Werte:
C. Elektrischer Widerstand: R = 3,2 Ohm/Quadratfläche
D. Emissivität: E = 7,3%
I. Streulicht: 0,46%
Ausführungsbeispiel 2
Ebenfalls auf der gleichen Beschichtungsanlage wie bei den bisherigen Beispielen wurden Glasscheiben mit folgendem erfindungsgemäßen Schichtsystem hergestellt:
Glas/25SnO2/9ZnO:Al/11,5Ag/3Si3N4/3ZnAl/38SnO2/2ZnSnSbOx
Die Durchführung des EMK-Tests vor dem Vorspannen ergab einen Wert von 8 mV. Die visuelle Beurteilung zeigte auch nach dem Vorspannen eine optisch fehlerfreie Schicht. An den vorgespannten Glasscheiben wurden die gleichen Tests durchgeführt wie beim Ver­ gleichsbeispiel. Sie ergaben folgende Werte:
C. Elektrischer Widerstand: R = 3,27 Ohm/Quadratfläche
D. Emissivität: E = 4,2%
I. Streulicht: 0,29%
Vergleicht man die Eigenschaften der erfindungsgemäß beschichteten Glasscheiben nach dem Vorspannen mit denen der Vergleichsbeispiele, so ist deutlich zu sehen, dass in beiden Fällen durch das Einfügen der 3 nm dicken Si3N4-Schicht zwischen der Silberschicht und der Opfermetallschicht insbesondere bezüglich der Korrosionsbeständigkeit, der Emissivität und des Streulichts eine deutliche Verbesserung erreicht wird.

Claims (10)

1. Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben, insbe­ sondere für Glasscheiben, als Substrat, mit Silber als Funktionsschicht, einer ober­ halb der Silberschicht angeordneten Opfermetallschicht, einer der Scheibenoberflä­ che benachbarten dielektrischen Entspiegelungs-Grundschicht und einer Entspiege­ lungs-Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Silberschicht und der oberhalb der Silberschicht angeordneten Opfermetallschicht eine Schicht aus Metallnitrid angeordnet ist.
2. Low-E-Schichtsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht aus Metallnitrid eine Dicke von 0,5 bis 5 nm aufweist.
3. Low-E-Schichtsystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallnitridschicht eine wenigstens annähernd stöchiometrische Zusam­ mensetzung aufweist.
4. Low-E-Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch ge­ kennzeichnet, dass die Metallnitridschicht aus Si3N4 oder AlN besteht.
5. Low-E-Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn­ zeichnet, dass die obere Opfermetallschicht aus Cr, Ni, Al, Ti, Mg, Mn, Si, Zn oder Cu, oder aus einer Legierung dieser Metalle besteht.
6. Low-E-Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn­ zeichnet, dass die Silberschicht auf einer teilkristallinen ZnO:Al-Schicht abgeschie­ den ist.
7. Low-E-Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn­ zeichnet, dass auch unterhalb der Silberschicht eine Opfermetallschicht angeordnet ist, die aus Cr, Ni, Al, Ti, Mg, Mn, Si oder Cu, oder aus einer Legierung dieser Metalle besteht und durch eine Metallnitridschicht von der Silberschicht getrennt ist.
8. Low-E-Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch folgenden Schichtaufbau:
Substrat-SnO2-ZnO:Al-Ag-Si3N4-AlMgMn-SnO2-ZnSnSbOx.
9. Low-E-Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch folgenden Schichtaufbau:
Substrat-SnO2(25 nm)-ZnO:Al(9 nm)-Ag(11,5 nm)-Si3N4(3 nm)-ZnAl(3 nm)- SnO2(38 nm)-ZnSnSbOx(2 nm).
10. Mit einem Low-E-Schichtsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 9 beschichte­ te transparente Scheibe, insbesondere Glasscheibe, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Transmission T550 von 84 bis 88%, eine diffuse Streuung von 0,2 bis 0,35%, und auf der Schichtseite eine Emissivität von 4,0 bis 5,0% aufweist.
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