CN103848576A - 一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法 - Google Patents

Abstract

本发明是有关于一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,包括：玻璃基片、氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅膜层；其中：在所述玻璃基片上依次设置有所述氮化硅膜层、所述镍铬膜层、所述银膜层、所述镍铬膜层、所述氮化硅膜层。该产品具有高透光率、耐高温和辐射率低的优点。

Description

一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法

技术领域

本发明涉及一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃,特别是涉及一种含有五层膜结构的耐高温单银低辐射镀膜玻璃透光率的方法。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。此种玻璃既可用于家庭窗户，也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所。

高透光率低辐射镀膜玻璃较一般的低辐射镀膜玻璃具有较高的可见光透光率，外观效果通透性好，室内采光自然,而且具有很高的隔热性能。在寒冷地区，冬季时间长，气温低，室内的热量向室外更低的气温环境失散。冬天太阳热辐射透过玻璃进入室内，以此来增加室内的热能，而室内的暖气、家电、人体等发出的远红外被阻隔反射回室内，有效降低了暖气的能耗。制作成中空玻璃的高透光率低辐射镀膜玻璃具有更优良的节能效果。

现在市场上已经有一些可钢化耐高温低辐射镀膜玻璃，这些可钢化耐高温低辐射镀膜玻璃其保护层必须达到一定厚度才能有效发挥保护银膜的作用，但同时因为保护层厚度的增加也限制了产品的可见光透过率。目前市场上缺乏一种高透光率、耐高温单银低辐射镀膜玻璃产品。

保护层材质的选择及其厚度直接影响到最终成品的可见光透过率。目前多数厂家采用氧化钛膜做保护层以提高可见光透过率。但由于钛的溅射效率较低，通常都必须使用很高的生产功率；再者，为了达到保护效果的厚度，还需降低玻璃的行进速度。因此，为提高透光率使用氧化钛膜通常都会付出很大的代价，直接导致效率下降，成本升高。

有鉴于上述现有的提高镀膜玻璃透光率的方法存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型的提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法，能够改进一般现有的提高镀膜玻璃透光率的方法，使镀膜玻璃更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。

发明内容

本发明的目的在于，克服现有的低辐射镀膜玻璃存在的缺陷，而提供一种新型结构的提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法，所要解决的技术问题是使其在现有设备基础上，控制膜层的厚度，既有效保护受热过程中的银层不受氧化，又要有效调节最终产品的透光率高于70%，能耐630℃左右高温，且能阻挡外界氧气、玻璃内的钠离子等对银层侵蚀的膜层组合。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其中包括：玻璃基片、氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅膜层；其中：在所述玻璃基片上依次设置有所述氮化硅膜层、所述镍铬膜层、所述银膜层、所述镍铬膜层、所述氮化硅膜层。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于氮化硅薄膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度为39纳米-40纳米。

前述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于镍铬薄膜沉积到氮化硅表面为第二层膜，厚度为1纳米-1.1纳米。

前述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于银薄膜沉积到镍铬表面为第三层膜，厚度为9纳米-10纳米。

前述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于镍铬薄膜沉积到银表面为第四层膜，厚度为1纳米-1.1纳米。

前述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于氮化硅薄膜沉积到镍铬表面为第五层膜，厚度为42纳米-50纳米。

本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上可知,为达到上述目的，本发明提供了一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,包括：玻璃基片、氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅膜层；其中：在所述玻璃基片上依次设置有所述氮化硅膜层、所述镍铬膜层、所述银膜层、所述镍铬膜层、所述氮化硅膜层。

本发明的目的是提供一种含有五层薄膜结构的耐高温单银低辐射镀膜玻璃提高透光率的方法，在现有设备基础上，控制膜层的厚度，既有效保护受热过程中的银层不受氧化，又要有效调节最终产品的透光率高于70%，能耐630℃左右高温，且能阻挡外界氧气、玻璃内的钠离子等对银层侵蚀的膜层组合。本发明采用如下技术方案来实现：首先采购新鲜的浮法玻璃基片，玻璃基片在工厂镀膜机上依次镀上氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氮化硅膜层，构成一种由五层膜结构组成的单银低辐射镀膜玻璃。精准控制银膜厚度，准确控制第二、四层镍铬膜层的厚度，保证成品耐高温的同时有效提高可见光的透光率。

借由上述技术方案，本发明一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法至少具有下列优点及有益效果：该产品具有高透光率、耐高温和辐射率低的优点。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。

附图说明

图1为本发明一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法的结构示意图。

1：玻璃基片  2：氮化硅膜层

3：镍铬膜层  4：银膜层

5：镍铬膜层  6：氮化硅膜层

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

请参阅图1所示，图1为本发明一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法的结构示意图。

本发明提供了一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,包括：玻璃基片1、氮化硅膜层2、镍铬膜层3、银膜层4、镍铬膜层5、氮化硅膜层6；其中：在所述玻璃基片1上依次设置有所述氮化硅膜层2、所述镍铬膜层3、所述银膜层4、所述镍铬膜层5、所述氮化硅膜层6。

本发明提供的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃，在应用时：

是在高真空环境下，用磁控溅射镀膜机在浮法玻璃表面上镀制五层纳米材料膜的方法，生产一种具有高透光率、耐高温、包含有一个银层的低辐射镀膜玻璃。

所述的高透光率的耐高温低辐射镀膜玻璃是在工厂镀膜机设备上按如下方法完成：首先镀膜室抽真空至本底真空度5×10﹣4Pa以下，充入工艺气体（氩气、氮气、氧气），使镀膜室内工艺气体压力稳定在2.5×10﹣1Pa左右，接通溅射电源，靶材开始溅射，玻璃经清洗机清洗合格后进入真空室，经过靶材时，靶材原子或其化合物就会沉积到玻璃表面。

第一个靶靶材为非金属硅，工艺气体为氮气，将氮化硅薄膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度39至40纳米；第二个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬薄膜沉积到氮化硅表面为第二层膜，厚度1至1.1纳米；第三个靶靶材为金属银，工艺气体为氩气，将银薄膜沉积到镍铬表面为第三层膜，厚度9至10纳米；第四个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬薄膜沉积到银表面为第四层膜，厚度1至1.1纳米；第五个靶靶材为硅，工艺气体为氮气,将氮化硅薄膜沉积到镍铬表面为第五层膜，厚度42至50纳米。

第二、四层镍铬层总厚度对整个膜系的透光率和颜色会产生影响，第二、四层镍铬和第三层银的膜厚的埃米级变化会引起膜系透光率的变化。增厚1纳米银层厚度对透光率的影响基本可通过减薄0.25纳米镍铬层厚度来补偿。因此，保证银层厚度，减小第二、四层镍铬层膜厚，可以有效提高透光率。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (6)

1.一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于包括：玻璃基片（1）、氮化硅膜层（2）、镍铬膜层（3）、银膜层（4）、镍铬膜层（5）、氮化硅膜层（6）；其中：

在所述玻璃基片（1）上依次设置有所述氮化硅膜层（2）、所述镍铬膜层（3）、所述银膜层（4）、所述镍铬膜层（5）、所述氮化硅膜层（6）。

2.如权利要求1所述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于氮化硅薄膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度为39纳米-40纳米。

3.如权利要求1所述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于镍铬薄膜沉积到氮化硅表面为第二层膜，厚度为1纳米-1.1纳米。

4.如权利要求1所述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于银薄膜沉积到镍铬表面为第三层膜，厚度为9纳米-10纳米。

5.如权利要求1所述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于镍铬薄膜沉积到银表面为第四层膜，厚度为1纳米-1.1纳米。

6.如权利要求1所述的一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法,其特征在于氮化硅薄膜沉积到镍铬表面为第五层膜，厚度为42纳米-50纳米。