HU212342B - Sputter-coated glass and method of making same - Google Patents

Sputter-coated glass and method of making same Download PDF

Info

Publication number
HU212342B
HU212342B HU9301271A HU9301271A HU212342B HU 212342 B HU212342 B HU 212342B HU 9301271 A HU9301271 A HU 9301271A HU 9301271 A HU9301271 A HU 9301271A HU 212342 B HU212342 B HU 212342B
Authority
HU
Hungary
Prior art keywords
layer
nickel
silver
thickness
chromium
Prior art date
Application number
HU9301271A
Other languages
English (en)
Other versions
HUT67675A (en
HU9301271D0 (en
Inventor
Klaus W Hartig
Philip J Lingle
Original Assignee
Guardian Industries
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=25367504&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=HU212342(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Guardian Industries filed Critical Guardian Industries
Publication of HU9301271D0 publication Critical patent/HU9301271D0/hu
Publication of HUT67675A publication Critical patent/HUT67675A/hu
Publication of HU212342B publication Critical patent/HU212342B/hu

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
    • C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C23C14/0652—Silicon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
    • G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12542—More than one such component
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12542—More than one such component
    • Y10T428/12549—Adjacent to each other
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12576—Boride, carbide or nitride component
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
    • Y10T428/12597—Noncrystalline silica or noncrystalline plural-oxide component [e.g., glass, etc.]

Description

A találmány tárgya szórt bevonatú üvegtermék, amely üvegszubsztrátumból és arra felvitt rétegrendszerből áll. A találmány a szórt bevonatú üvegtermék előállítási eljárására is vonatkozik. Közelebbről a találmány szórt bevonatú, a látható tartományban nagy transzmittanciájú és az infravörös energiát jól visszaverő, az építőiparban felhasználható üvegekre vonatkozik.
Az építészeti síküveg, így az úsztatási eljárással előállított síküveg napfényátbocsátását szabályozó bevonatok előállítására szolgáló ismertebb eljárásokhoz tartozik a pirolitikus eljárás, valamint a magnetronban végzett szórásos bevonási eljárás. A szórásos bevonási eljárásban eddig tapasztalt hátrányok szerint a bevonatok gyakran könnyen ledörzsölhetők (azaz nem tartósak), az építészetben használt többrétegű üvegezésű ablakok kialakításában szokásos polimer szigetelőanyag pedig gyakran megtámadja a bevonatot. Ez viszont megszünteti a táblaüvegek közötti szigetelést, ami hátrányos módon lehetővé teszi, hogy az üvegtáblák között kondenzált anyag halmozódjék fel. A szórásos bevonatok másrészt viszont a pirolitikus bevonatokhoz viszonyítva lényeges előnyként kis emisszióképességet és a látható tartományban nagy transzmittanciát biztosítanak. Ezen két tulajdonság bizonyos építészeti üvegek szempontjából a legfontosabb tulajdonságokhoz tartozik.
Az „emisszióképesség” és a „transzmittancia” a technika állása szerint jól ismert fogalmak, és a leírásban ebben az értelemben használatosak. A transzmittancia kifejezés például a napfényre vonatkozó transzmittanciát jelenti, amely a látható tartományra vonatkozó transzmittancia. az infravörös energiára vonatkozó transzmittancia és az ultraibolya fényre vonatkozó transzmittancia értékeiből tevődik össze. A teljes napenergiára vonatkozó transzmittanciát általában ezen értékek súlyozott átlagával jellemzik. A transzmittancia ezen értékeinek meghatározására a szabványos C fényfonást alkalmazó eljárás használatos. A leírásban a látható tartományra vonatkozó transzmittancia értékét a 380-720 nm, az infravörös transzmittanciát a 8002100 nm, az ultraibolya transzmittanciát a 300400 nm, a napfényre vonatkozó teljes transzmittanciát pedig a 300-2100 nm hullámhossztartományban határozzuk meg. Az emisszióképesség meghatározására azonban az alábbiakban tárgyalt módon sajátos infravörös-tartományt (2500—40 000 nm) használunk.
A látható tartományra vonatkozó transzmittancia értékét meghatározhatjuk ismert, hagyományos eljárásokkal. Spektrofotométer, így Beckman 5240 típusú berendezés (gyártó cég: Beckman Sci. Inst. Corp.) használata útján az egyes hullámhosszaknál mért transzmisszió spektrális görbéjét kapjuk meg. A látható tartományra vonatkozó transzmisszió értékét ezután ismert módon számítjuk ki (az ASTM E-308 szabvány, ASTM Standards évkönyv 14.02 kötet). Kívánt esetben a hullámhossztartományban kevesebb mérési pontot használhatunk. A látható tartományra vonatkozó transzmittancia egy másik mérési eljárása spektrométer, így a kereskedelmi forgalomban kapható Spectragard spektrofotométer (gyártó cég: Pacific Scientific
Corporation) alkalmazásán alapszik. Ez a berendezés közvetlenül a látható tartományra vonatkozó transzmittancia értékét méri és jelzi ki.
Az emisszióképesség (E) adott hullámhossznál a fény elnyelésének és visszaverődésének mértéke. Általában a következő képlettel jellemzik:
E= 1-vissza verődésfi)m.
Építészeti szempontból az emisszióképesség értéke gyakran nagyon fontos az infravörös spektrum úgynevezett „középső tartományában”, amit olykor „távoli tartománynak” neveznek, azaz a 2500-40 000 nm tartományban. A leírásban használt „emisszióképesség” ezért ezen infravörös-tartományban meghatározott emisszióképesség értékeire vonatkozik, amint azt az üveggyártók bizottságának (Primary Glass Manufacturers’ Council) javaslata alapján a vonatkozó 1991. évi ASTM szabvány javaslata tartalmazza. Hivatkozásunk révén a leírásba beépített szabvány az emisszióképességet két komponensre, a hemiszférikus emisszióképességre (eh) és a normál emisszióképességre (En) bontja fel.
A tényleges adatgyűjtés az emisszióképesség ilyen értékeinek meghatározásához ismert, ehhez alkalmazható például Beckmann 4260 típusú, „VW” tartozékkal felszerelt spektrofotométer (gyártó cég: Beckman Scientific. Inst. Corp.). Ez a spektrofotométer a hullámhossz függvényében méri a visszaverődést, és ebből a fenti, 1991. évi ASTM szabvány szerinti módszert használva számítható az emisszióképesség.
A leírásban használt további kifejezés a „rétegellenállás”. A rétegellenállás (R0 a technika állásából ismert, és a leírásban ebben az értelemben használjuk. Általános értelemben véve ez a kifejezés egy üvegszubsztrátumon lévő rétegrendszer négyzet alakú részének ohm mértékegységben (Ω ) kifejezett ellenállását jelenti a rétegrendszeren átfolyó elektromos árammal szemben. A rétegellenállás utal arra, milyen jól veri vissza a réteg az infravörös energiát, és így gyakran használatos az emisszióképességgel együtt ennek az építészeti üvegek szempontjából olyan fontos tulajdonság mértékének kifejezésére. A rétegellenállás kényelmesen mérhető 4-pontos ellenállásmérő minta, így eldobható, 4-pontos ellenállásmérő minta használatával M-800 típusú Magnetron Instruments Corp. fejjel (gyártó cég: Signatone Corp. Santa Clara, Califomia, USA).
A fentiek szerint számos építészeti célra kívánatos, hogy az emisszióképesség és R, értéke a lehető legkisebb legyen, és így az ablaküveg az üvegnek ütköző infravörös energia jelentős részét visszaverje. Általában kis emisszióképességűnek tekintjük azokat az üvegeket, amelyeknek a hemiszférikus emisszióképessége (Eh) kisebb, mint 0,16, normál emisszióképessége (En) pedig kisebb, mint 0,12. Előnyösen Eh értéke legfeljebb 0,13, En értéke pedig legfeljebb 0,10. Ugyanakkor a rétegellenállás (Rs) értéke előnyösen kisebb, mint
10,5 Ω . Ahhoz, hogy ezek az üvegek a kereskedelmi forgalomban eladhatók legyenek, általában az kívánatos, hogy a látható tartományban a lehető legtöbb fényt átbocsássák, ami 2-6 mm vastag üvegek esetén a transzmittancia mérésére C fényforrást használó eljá2
HU 212 342 Β rással meghatározva legalább 76%. Ebben a vonatkozásban a látható transzmittancia 2-6 mm vastagságú üvegek esetén előnyösebben legalább 78%. A látható tartományra vonatkozó transzmittancia értéke még előnyösebben mintegy 80% vagy azt meghaladó érték, legelőnyösebben nagyobb, mint 80%.
A technika állásából ismert az építészeti üvegek azon előállítási eljárása, amely szerint úsztatott üvegtáblákra magnetronban végzett szórásos bevonási eljárással fém és/vagy fémoxidok vagy -nitridek többszörös rétegét viszik fel. Ismert fémek (így ezüst, arany és hasonlók), oxidok és nitridek számos permutációját és kombinációját vizsgálták meg és ismertették. Akitűzött cél elérésére ezen eljárások vagy sík vagy cső alakú targeteket (antikatódokat) használnak vagy pedig több targetet alkalmazó zónákban azok kombinációját. A találmány szerinti eljáráshoz előnyösen alkalmazható ismert berendezésre példa az Airco Corporation cégtől beszerezhető magnetron szórásos bevonó berendezés. Ezt a kereskedelmi forgalomban kapható berendezést a 4 356 073 és 4 442 916 számú USA-beli szabadalmi leírások ismertetik, amelyeket hivatkozásunk útján beépítünk leírásunkba.
Az előzőekben említett Airco szórásos bevonó berendezést ismert módon elsősorban olyan építészeti üveg előállítására használják, amelynek rétegrendszere az üvegtől (így szabványos úsztatott üvegtől) kifelé rendre a következő rétegeket tartalmazza:
Si3N4/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Si3N4.
Az eljárással szerzett tapasztalatok alapján a nikkel :króm ötvözet 80/20 tömegarányú nikkel/króm (így nikróm), ahol a két nikrómréteg vastagsága 7x10“ 4° m az ezüstréteg vastagsága csupán /OxlO4^ (eltekintve attól a megállapítástól, hogy az ezüstréteg 100 vastag lehet), az Si3N4-rétegek viszont viszonylag vastagok (így az alapozóréteg 320χ10ιηθ a fedőréteg pedig 450x104^ vastag). Az ezüstrétegről ténylegesen megállapították, hogy csekély (így 70x104° ) vastagsága folytán inkább félig összefüggő jellegű.
Az (alábbiakban részletesen ismertetett) 1. ábra sematikusan bemutat egy jellegzetes, ezen ismert Aircotermék előállítására használt Airco szórásos bevonó berendezést, amelyre az előzőekben hivatkoztunk. Az
1. ábrán bemutatott 1, 2, 4 és 5 zónák szilíciumból készült cső alakú targetekkel (t) vannak felszerelve, és a szórást 100%-os nitrogénatmoszférában folytatják le. A három zóna jellegzetesen sík, P targeteket alkalmaz, ezt a három közbülső réteg, azaz Ni:Cr/AG/Ni:Cr előállítására használják. Itt 100%-os argonatmoszférát használnak. Úgy vélték, és ez a szórásos bevonásra vonatkozó ismeretek részét képezte eddig, hogy a nitrogén hátrányosan befolyásolja az ezüstöt a szórásos bevonás során, ezért gondosan ügyeltek arra, hogy a három zónát lényegében nitrogénmentesen tartsák.
Míg ez a bevonat „tartós” volt (azaz a bevonat karcolással és kopással szemben ellenálló, valamint kémiailag stabil volt), és így a pirolitikus bevonatokhoz viszonyítva ez a tulajdonság kedvező volt, egyéb jellemzők tekintetében, különösen az infravörös viszszaverődés és a látható tartományban mutatott transzmittancia értéke nem érte el a csekély emisszióképességű építészeti üvegektől elvárt szintet. így egy 3 mm vastagságú üvegre (C fényfonással) meghatározott látható transzmittancia értéke általában csak 76%, Et, értéke 0,20-0,22, En értéke pedig 0,14-0,17. Mindkét típusú emisszióképessége meglehetősen magas. Ezenkívül a rétegellenállás (Rs) a viszonylag nagy 15,8 Ω értéket mutatja (az elfogadhatóbb értékek 10,5 körül vannak vagy még kisebbek). így míg a tartósság jelentősen javult, és ezek a bevonatok összeférhetőnek bizonyultak a hagyományos tömítőanyagokkal (ezért a többrétegű üveggel előállított ablakok gyártása terén ezen nehézség megszűnésével többé nem volt szükség a szokásosan alkalmazott éltörlésre), a napfény átbocsátásának szabályozásával kapcsolatos minőség számos korszerű építészeti célra nem érte el az optimális értéket.
A szabadalmi és tudományos irodalomban ezen Airco rétegrendszeren kívül beszámoltak egyéb bevonatokról is, amelyek az infravörös visszaverődést és egyéb fényátbocsátást szabályzó rétegekként ezüstöt és/vagy nikkel:króm ötvözetet tartalmaznak. Ezek között említhetjük a Fabry-Perot szűrőket és a technika állásához tartozó bevonatokat és eljárásokat, amelyeket a 3 682 528 és 4 799 745 számú USA-beli szabadalmi leírások (és az azokban tárgyalt és/vagy idézett irodalmi helyek) tárgyalnak. Ennek kapcsán megemlíthetők a számos, többek között a 4 179 181, 3 698 946, 3 978 273, 3 901 997 és 3 889 026 számú USA-beli szabadalmi leírásban ismertetett dielektromos, többrétegű fémszerkezetek. Bár egyéb ilyen bevonatok ismertek voltak, találmányunkat megelőzően a technika állásához tartozó ezen ismertetések egyike sem adott kitanítást vagy utalt arra a lehetőségre, amely szerint nagy termelékenységű szórásos bevonási eljárást alkalmazhatunk, és ezzel egyidejűleg olyan építészeti üveget biztosíthatunk, amely nemcsak megközelíti vagy eléri a pirolitikus bevonatok tartósságát, hanem amely a napfény átbocsátásának szabályozása terén is kitűnő tulajdonságokat mutat.
Megállapítható továbbá, hogy míg az Airco berendezés és működési eljárása alapvetően egészen elfogadható, termelékenysége tekintetében hiányosságok mutatkoznak. Ezen csökkent termelékenység oka azzal a feltevéssel kapcsolatos, hogy az ezüstöt a szórásos bevonás során el kell különíteni a nitrogéngáztól, ami megállapításaink szerint találmányunk esetén nem helytálló.
A fentiek értelmében nyilvánvalóan igény mutatkozik a műszaki gyakorlatban olyan szórás útján felvitt rétegrendszer iránt, amely a pirolitikus bevonatok tartósságát megközelíti vagy eléri, azonban a napfény átbocsátása terén is optimális tulajdonságokat mutat, ezáltal megoldja a pirolitikus eljárással kapcsolatos nehézséget. A leírásban a „tartós” vagy „tartósság” kifejezéseket a műszaki gyakorlatban szokásos értelemben használjuk, és ebben a tekintetben a pirolitikus eljárás útján elérhető vagy azt megközelítő mechanikai és kémiai ellenállást fejeznek ki a tönkremenetellel szemben. Az előzőekből az is nyilvánvaló, hogy a műszaki
HU 212 342 Β gyakorlatban igény mutatkozik magnetronban végzett szórásos bevonással előállított bevonat iránt, amely az előzőekben ismertetett Airco eljárással kapott bevonatok transzmittanciáját, emisszióképességét és - előnyösen - rétegellenállását is javítja, valamint fokozza ezen ismert eljárás termelékenységét.
A találmány feladata ezen szükségletek, továbbá a leírásból a szakember számára nyilvánvalóvá váló egyéb műszaki szükségletek kielégítése.
Általános értelemben a találmány szórt bevonatú üvegtermék, amely üvegszubsztrátumból és arra felvitt rétegrendszerből áll, ahol a rétegrendszer az üvegtől kifelé rendre egy Si3N4 alapozóréteget, egy első nikkel- vagy nikkelötvözet-réteget, legalább egy ezüstréteget, egy második nikkel- vagy nikkelötvözet-réteget és egy SI3N4 fedőréteget tartalmaz, és az alapozóréteg vastagsága legalább 340x10'° m, az első nikkel- vagy nikkelötvözet-réteg vastagsága legfeljebb 7xl0~'°m, az ezüstréteg vastagsága (84—105)xl0~’° m, a második nikkel- vagy nikkelötvözet-réteg vastagsága legfeljebb 7x10'° m, és a fedőréteg vastagsága legalább 480x10 10 m, továbbá a rétegrendszer adott esetben (90105)xl0“'° m Összvastagságú két ezüstréteg között egy harmadik, legfeljebb 7x10'° m vastagságú nikkelvagy nikkelötvözet-réteget tartalmaz, ahol az üvegszubsztrátum vastagsága 2-6 mm, a bevont üveg normál emisszióképessége (En) kisebb, mint 0,2, hemiszférikus emisszióképessége (Eh) pedig kisebb, mint 0.16. A találmány szerinti üvegtermék transzmittanciája a látható tartományban (C fényforrásra vonatkoztatva) legalább 78%.
A találmány különösen előnyös kiviteli alakjaiban a rétegrendszerek tartósak, és a látható tartományra vonatkozó, előzőekben definiált transzmittancia legalább mintegy 80% vagy azt meghaladó érték, legelőnyösebben nagyobb, mint 80%. Még előnyösebb kiviteli alakokban az emisszióképesség 80%. Még előnyösebb kiviteli alakokban az emisszióképesség értékeit a következő adatok jellemzik: Eh legfeljebb 0,13. En értéke pedig legfeljebb 0,10. Legelőnyösebben Eh 0,12-0,13, E„ pedig 0,09-0,10 értéket tesz ki. Ezekben a kiviteli alakokban a rétegellenállás tartománya előnyösen legfeljebb 10,5 Ω -ig terjed, legelőnyösebben 9-10 Ω .
A találmány szerinti egyes kiviteli alakokban a rétegrendszer csupán öt rétegből áll. Egyéb előnyös megoldásokban a rétegrendszer tulajdonságai javíthatók egyéb ismert bevonatok útján, amelyek a találmány szerinti bevonatok alapvető minőségét nem befolyásolják. Bizonyos esetekben ezen további rétegek ténylegesen javíthatják a bevonatok alapvető minőségét. A találmány értelmében egy ilyen további rétegrendszer például lényegében hét rétegből áll azáltal, hogy az ezüstréteget egy nikkel alapú (így nikkel-króm) réteg annak belsejében két ezüstréteggé választja el, hogy a rétegrendszer az üvegtől kifelé a következő rétegeket tartalmazza:
Si3N4/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Ag/Ni:Cr/Si3N4.
Ez a hét rétegből álló rendszer a fent ismertetett ötrétegű rendszerhez viszonyítva valamelyest nagyobb tartósságot és karcolással szembeni ellenállást mutat, ezenkívül még az infravörös visszaverődés értéke is nagyobb.
További rétegek adott esetben magukban foglalhatnak további fedőrétegeket a karcolással szembeni ellenállás növelésére vagy a tapadás növelésére alkalmazott alapozórétegeket és hasonlókat. A találmány megvalósítása szempontjából azonban legelőnyösebbek az előzőekben ismertetett öt és hétrétegű rendszerek.
A találmány továbbá eljárás vékony, tartós, a napfény átbocsátását szabályozó, a fenti üvegtermék előállítására. Az eljárás során üvegszubsztrátumon szórással egymást követő műveletekben a következő rétegeket alakítjuk ki:
(a) nitrogéntartalmú atmoszférában (legalább 340 vastagságú Si3N4 alapozóréteget képezünk;
(b) nitrogéntartalmú atmoszférában egy legfeljebb 7 vastagságú első nikkel/króm-ötvözetréteget képezünk, amely a krómot nitrid alakjában tartalmazza;
(c) a (b) műveletben használt atmoszférában legalább egy (84-105^104° vastagságú ezüstréteget képezünk;
(d) a (b) és (c) műveletben használt atmoszférában egy második nikkel/króm-ötvözetréteget képezünk, amely a krómot nitrid alakjában tartalmazza;
(e) nitrogéntartalmú atmoszférában egy legalább 480x10' m vastagságú Si3N4 fedőréteget képezünk, ahol az üvegszubsztrátum (G) vastagsága 2-6 mm, a bevont üveg normál emisszióképessége (E„) kisebb, mint 0,12, hemiszférikus emisszióképessége (Ej,) pedig kisebb, mint 0,16.
A találmány gyakorlati megvalósításával kapcsolatban megállapítottuk, hogy az előnyös kiviteli alakokban és az elvárt optimális emisszióképesség és a transzmittanciával kapcsolatban elvárt tulajdonságok biztosítására lényeges a különböző rétegek vastagsága annak érdekében, hogy a megkívánt végső tulajdonságokat kapjuk. Az előzőekben ismertetett ötrétegű Airco rendszerrel összehasonlítva ilyen szempontból fontosnak találtuk, hogy az Airco előírások szerint 70x10 10 m vastagságú ezüstréteg vastagságát 20-30%-kal megnöveljük annak biztosítására, hogy ha egyetlen ezüstréteget alkalmazunk, az lényegében összefüggő legyen, és minden esetben megfelelő infravörös visszaverődési tulajdonságokat biztosítsunk. Ezért az Airco előírás szerinti 70x10,θ m vastagságú ezüstréteg helyett a találmány értelmében (90xl05)xl0'° m, előnyösen (95-105)x'° m teljes vastagságú ezüstréteget alkalmazunk.
A találmány szerinti ötrétegű rendszerben, így amikor egyetlen ezüstréteget alkalmazunk, annak vastagsága előnyösen 95-10'° m. Azokban a megoldásokban, amikor az ezüstréteget egy közbülső nikkel alapú réteggel két réteggé választjuk szét, azok teljes vastagsága (90-105)xl0'° m, előnyösen egyenként 50x10 10 m. Ebben a tekintetben megjegyzendő, hogy 50x10 10 m rétegvastagság esetén az ezüstrétegek nem teljesen folytonosak. Ez a körülmény - jóllehet nehézségeket vet fel az Airco rendszerben - a találmány gyakorlatában nem bizonyul hátrányosnak.
HU 212 342 Β
A találmány értelmében használt nikkel alapú rétegek előnyösen megegyeznek az Airco rendszerben használt nikkehkróm (80/20) nikrómréteggel. Az Airco előírás szerinti (legalább 10x10'° m vastagság helyett azonban a nikkel :króm-rétegek vastagságát általában 7x10'° m-nél kisebb értéken tartjuk (így legfeljebb 6x10“'° m vagy 15-20% csökkenésének megfelelő értéken).
Az ezüstréteg(ek) teljes vastagságához hasonlóan a találmány értelmében az Si3N4-rétegek vastagságát is megnöveljük az Airco rendszerhez viszonyítva. A vastagságnövelés mértéke előnyösen ugyanolyan nagyságrendű, mint az ezüst esetén, így 20%-ot kitevő vagy azt meghaladó érték. így az Airco előírás szerinti 320x10“'° m, illetve 450x10'° m vastagságú alapozóréteg és fedőréteg helyett (az alapozóréteg vékonyabb, mint a fedőréteg) a találmány megvalósítása során előnyösen legalább 400x10'° m vastagságú Si3N4 alapozóréteget és legalább 540x10'° m vastagságú fedőréteget használunk. Legelőnyösebben (400-425)xl0~ 10 m vastagságú alapozóréteget és (540-575)xl0'° m vastagságú fedőréteget használunk. Ezen Si3N4 rétegek célja elsődlegesen a reflexiós tulajdonságok, a szín, a kémiai ellenállóképesség, valamint a karcolással és kopással szembeni ellenállás befolyásolása.
Az építészetben elterjedten alkalmaznak többrétegű üvegezéssel ellátott ablakokat. Megállapítottuk, hogy a találmány szerinti rétegrendszerek teljesen összeférhetők az ilyen ablakok előállítása során használt hagyományos tömítőanyagokkal, és így a műszaki gyakorlatban fennálló (az előzőekben ismertetett) nehézséget ugyanolyan mértékben megoldja, mint az Airco rétegrendszer. A találmány szerinti előnyös megoldásokban ezért nincs szükség az élek törlésére.
A technika állása szerinti szakmai nézettel teljes ellentmondásban van a találmány azon megállapítása, hogy bizonyos előnyös rétegrendszerek esetén nemcsak szükségtelen az ezüst elkülönítése a szórás során a nitrogéntől, hanem előnyökkel, jár, ha mind az ezüst, mind a nikkel alapú réteg szórását együtt, ilyen környezetben folytatjuk le. Ilyen szempontból az ezüst alkalmassága tekintetében nem figyeltünk meg alapvető veszteséget. Ez viszont ahhoz a váratlan megállapításhoz vezetett, hogy a ha a nikkel alapú réteg krómot tartalmaz, és a krómot a szórás során nitriddé alakítjuk, meglepő módon javulnak a transzmittanciával kapcsolatos tulajdonságok. A találmány gyakorlati megvalósítása során előnyösen eljárhatunk úgy, hogy a nikkel alapú targetként nikkel :króm-ötvözetet használunk, és a krómot a szórás során (legalább részben) króm-nitriddé alakítjuk az ezüsttel közös szórási zónában. Megállapításunk szerint ez jelentősen javítja a végtermék transzmittanciáját a látható tartományban. Ezenkívül a költségek csökkennek, a termelékenység pedig nő azáltal, hogy ezt a nitridet ugyanazon zónában állítjuk elő, amelyben az ezüst szórása megy végbe.
Az Airco eljáráshoz viszonyítva megnövelt termelékenységet és csökkent költségeket a következő módon érjük el: az Airco (és egyéb hasonló) eljárásban a szilícium szórása nehéz és lassú, minthogy a targetekre (így az Airco eljárásban használt csőszerű targetekre) adott teljesítményt általában a berendezés teljesítőképességének határáig meg kell növelni annak következtében, hogy 100%-os nitrogénatmoszférát használnak. Feltételezve, hogy az ezüstöt nem szabad nitrogéntartalmú környezetben szórni, és a krómot nitriddé kívánnánk alakítani, a nikkel :króm-targeteket külön zónákban kellene elhelyezni, ami további költségeket okozna. Az eljárás másik változataként ezeket a targeteket ugyanazon nitrogéntartalmú zónákban kellene szórni, mint a szilíciumot, ez azonban lelassítaná a termelést az alkalmazható szilíciumtargetek számának csökkenése folytán. Az a felismerés, hogy a találmány gyakorlati megvalósítása során előnyös egyrészt a króm-nitrid előállítása, másrészt pedig a nitrogén a szórás során nem befolyásolja hátrányosan az ezüstöt, megszünteti az előzőekben ismertetett drága és kis termelékenységű eljárásváltozat megvalósításának szükségességét, minthogy a két nikkel :króm-target most közös zónában lehet az ezüsttargettel, és a szórást argon/nitrogén-atmoszférában folytathatjuk le az eddig szükségesnek vélt tiszta argonatmoszféra helyett. E tekintetben a találmány szerinti megoldás előnyös változataiban 50/50 térfogat% argon/nitrogén-atmoszférát alkalmazunk, bár annak összetétele széles határok között változva 0-75% argon és 100-25% nitrogén lehet.
Az Airco eljárásra vonatkozó kitanítás szerint az előzőek értelmében a szilíciumot 100% nitrogént tartalmazó környezetben szólják. Bár jelenleg a találmánynak megfelelően ez az egyik módja a szilícium szórásának, azt is megállapítottuk, hogy bizonyos körülmények (így kis méretű berendezés, kis gyártási kapacitás) esetén a szilícium szórása során argont adagolhatunk a nitrogénhez abból a célból, hogy ismert módon növeljük a szilícium szórási sebességét, miközben még elfogadható mennyiségű Si3N4 keletkezik.
Az előzőekben tárgyaltakra tekintettel a találmány kielégíti a technika állásában mutatkozó igényeket, ehhez új eljárást biztosít az előzőekben ismertetett gyártmányok előállítására. Ez magában foglalja az ugyanazon zónában elhelyezett Ni:Cr/Ag/Ni:Cr targetek útján végzett szórásos bevonást, miközben a króm ni ülőjének képződéséhez elegendő nitrogént tartalmazó atmoszférát alkalmazunk. Az ilyen atmoszféra előnyösen 0-75 térfogat% argont és 100-25 térfogat% nitrogént tartalmaz. Az atmoszféra komponenseinek aránya legelőnyösebben 50 térfogat% nitrogén és 50 térfogat% argon. A találmány szerinti eljárást lefolytathatjuk úgy, hogy az alapozóréteg és a fedőréteg szórását 100% nitrogént tartalmazó atmoszférában folytatjuk le, míg az eljárás egyéb változataiban a nitrogénhez 3-50 térfogat% argont használhatunk.
A következőkben a találmányt kiviteli példák alapján ismertetjük, ennek során hivatkozunk a csatolt ábrákra. Az
1. ábra az Airco berendezés sematikus rajza. A berendezést használhatjuk a találmány gyakorlati megvalósítására (ehhez a technika állása szerinti, az előzőekben ismertetett használati módtól eltérően alkalmazzuk). A
HU 212 342 Β
2. ábra a technika állásából ismert Airco rétegrendszer részleges metszeti rajzát mutatja oldalnézetben. A
3. ábra a találmány szerinti kiviteli alak részleges metszeti rajzát mutatja oldalnézetben. A
4. ábra a találmány egy másik kiviteli alakjának részleges metszeti rajzát mutatja oldalnézetben.
Az 1. ábra egy hagyományos magnetron szórásos bevonó berendezés, így az előzőekben idézett Airco berendezés szemléltető rajza. A találmány megvalósítása során előnyösen öt 1-5 zónát használunk. (A rétegeket egymást követően visszük fel a G üvegre, amint az A nyíl irányában halad.) Az 1 zóna szilíciumból (így a vezetőképesség miatt 3-5 tömeg% alumíniummal adagolt szilíciumból) készült hat cső alakú tw targetet tartalmaz. A 2 zóna ugyanazon anyagból készült hat további cső alakú t7_,2 targetet tartalmaz. Hasonló módon a 4. és 5. zóna ugyanazon anyagból készült, egyenként hat további cső alakú t19_24, illetve t25_30 targetet tartalmaz.
A középső 3 zónát előnyösen vagy három sík 31, 16 és 33 target (Pj_3) alkotja a 3. ábrán bemutatott ötrétegű rendszer előállítására, vagy pedig a 4. ábrán bemutatott hétrétegű rendszer előállításához öt-hat (cső alakú vagy sík típusú) target alkotja. A három sík targetból álló bemutatott rendszer természetesen a 2. ábrán feltüntetett, technika állása szerinti Airco rétegrendszer előállítására is alkalmazható. A 4. ábra szerinti hétrétegű rendszerhez a 3 zónában a targetek a szakember tudása alapján elrendezhetők, ezt az ábrán az egyszerűség kedvéért nem tüntettük fel. Feltételezve, hogy amint ilyen berendezések esetén az jellemző - az 1-2 és 4-5 zónákhoz hasonlóan hat target elhelyezésére van lehetőség, a szükséges három nikkel alapú (így nikróm) réteg elvárt viszonylag csekély vastagságának biztosítására az egyik eljárás értelmében a 31 és 33 targetek (azaz P! és P3) nikkel alapú targetek, és a 16 target (azaz P2) helyén Pj és P3 között targetsorozatot alkalmazunk, ahol t13 ezüst, t14 nikkel alapú, és t15 vagy t]6 közül az egyik ezüst.
Működés közben az 1-5 zónákat azok végén megfelelő C függönyök választják el, ezáltal mindegyik zónában adott, szabályzott atmoszféra tartható fenn a szórásos bevonáshoz használt, a technika állása szerint ismert valamennyi hagyományos berendezés esetén. Az előzőekben tárgyaltak szerint eddig úgy vélték, hogy ha szórásos bevonási műveletben targetként ezüstöt alkalmaznak, lényeges, hogy ez a zóna (azaz a 3 zóna) a lehetőség szerint lényegében nitrogéntől mentes legyen. A 2. ábrán bemutatott, technika állása szerinti rendszer előállításához használt ismert eljárásban ezért a használandó atmoszféraként 100%-os argongázt jelöltek meg. Úgy tartották továbbá, hogy a szilícium szórását 100%-os nitrogénben kell lefolytatni, ezért ezt az atmoszférát írták elő. Ezt a berendezést és ezen atmoszférákat használva, továbbá a sebességet és az elektromos teljesítményt a szórás műveletéhez szabályozva az ismert Airco eljárás a 2. ábrán bemutatotthoz hasonló rétegrendszert eredményezett. A 2. ábra G üvegszubsztrátumot tüntet fel. Az ilyen üvegszubsztrátum előnyösen 2-6 mm vastagságú síküveg volt, amelyet szokásosan az ismert úsztatási eljárással állítottak elő, ehhez az eljáráshoz hagyományosan szokásos szóda/mészkő/szilícium-dioxid kompozíciót használtak. Az 1-2 zónákban egy lényegében Si3N4-ből álló első 111 alapozóréteget állítottunk elő. Névleges vastagsága 325x10'° m volt. Az 1-2 zónákat lényegében 100%os nitrogénatmoszférában működtettük. Következőként a 3 zónát használtuk, amelyben lényegében 100%os argonatmoszférában először egy viszonylag vastag (így legalább 7x10'° m) 80/20 nikróm anyagú, 113 réteget állítottunk elő, majd egy viszonylag vékony (így 70x10'° m), nem összefüggő 115 ezüstréteget, amelynek folytonossági hiányait a 117 üregek szemléltetik. Ugyanezen 3 zónában az ezüstre ezt követően egy másik, viszonylag vastag (így legalább 7x10'° m) 80/20 nikróm anyagú 119 réteget vittünk fel. Ezután képeztük a 4-5 zónákban a Si3N4 anyagú 121 fedőréteget, amelynek vastagsága (450x10'° m) valamelyest meghaladta a 111 alapozóréteg vastagságát. Az előzőekben tárgyaltuk, hogy ezen üveg napfény átbocsátását szabályozó tulajdonságai nem érik el a kívánalmakat, és az ebből származó mintára vonatkozó mérési adatokat az alábbiakban a „szabványos Airco” (STD) jelöléssel adjuk meg.
A 3. ábra az 1. ábrán feltüntetett berendezéssel előállítható két, találmány szerinti terméket ismertet. Az ismertetésnek megfelelően (2-6 mm vastagságú) úsztatott üveg G szubsztrátumon öt réteg van kialakítva. Az első 211 réteg anyaga Si3N4, ezt az 1-2 zónákban képeztük, lényegében 100%-os nitrogénatmoszféraban. Bizonyos körülmények között (így kisebb méretek esetén) eljárhatunk úgy, hogy bizonyos mennyiségű argont vezetünk be például a 2 zónába a szilícium szórásának növelésére. A következő 213 (213Z), 215 és 219 (219') rétegeket a 3 zónában képeztük.
A találmány értelmében a 3 zónában alkalmazhatunk lényegében 100%-os argonatmoszférát. Ebben az esetben a 31 target (PJ előnyösen 80/20 nikróm, kívánt esetben azonban lehet nikkel vagy egyéb nikkel alapú ötvözet. A napfény átbocsátásával kapcsolatos tulajdonságok javítására, és így a 2. ábra szerinti termékkel járó nehézségek leküzdésére a lényegében tisztán fémes 213 réteg vastagságát 7x10*° m-nél kisebb értéken tartjuk. Ehhez a 2. ábra szerinti termék előállításához viszonyítva a 31 targetre (PJ alkalmazott teljesítményt legalább 20%-kal csökkentjük. Ezután a 2. ábra szerinti termékhez képest további javulás elérésére a 16 targetből (P2) előállított 215 ezüstréteg vastagságát a 115 rétegéhez viszonyítva megnöveljük [(90105)xl0'° m], ezáltal a 215 réteget lényegében folytonossá tesszük. Ezt elérhetjük egyszerűen azáltal, hogy a P2 targetre alkalmazott teljesítményt a 115 réteg előállítása során használt értékhez viszonyítva 20-33%kal vagy még nagyobb mértékben megnöveljük. Ezután egy további, lényegében tisztán fémes 80/20 nikróm (vagy egyéb nikkel alapú) 219 réteget képezünk a 213 réteg előállításával azonos módon és azonos vastagsággal. Ezt követően a 4 és 5 zónákban a 211 alapozóréteg előállításához hasonló módon Si3N4 fedő6
HU 212 342 Β réteget képezünk. A 221 réteg vastagsága valamilyen meghaladja a 211 rétegét (így a 400x10'° m vastag 211 réteghez hasonlítva 540x10'° m vastagságú). Bár a találmány szerinti Si3N4 alapozó- és fedőrétegek (így a 211 és 221 vagy az alább ismertetendő 311 és 321 rétegek) vastagsága megegyezhet az Airco termékben lévő rétegek (így a 111 és 121 rétegek) vastagságával, előnyösen azonban mindegyik réteg vastagságát megnöveljük az Airco termék rétegeihez viszonyítva. Ezt azáltal érjük el, hogy a szórásos bevonó berendezés teljesítményét megnöveljük, ezen megnövelt vastagságok elérésére az 1-2 és 4-5 zónákban megközelítőleg 20%-kal vagy azt meghaladó mértékben. A kapott rétegrendszer tartóssága közelítőleg megegyezik a 2. ábra szerinti tennék rétegrendszerével, a karcolással szembeni ellenállás ugyan csekély mértékben kisebb, azonban kitűnő emisszióképességet, transzmittanciát és rétegellenállást mutat a 2. ábra szerinti termékhez képest (így a transzmittancia megközelíti a 80%-os szintet, az emisszióképesség és az R, értéke pedig lényegesen kisebb).
A 3. ábrán szemléltetett, különösen előnyös kiviteli alakban előnyösen az 1. ábra szerinti berendezést használva sajátos eljárást alkalmaztunk, amelynek révén a napfény átbocsátásával kapcsolatban még jobb tulajdonságokat értünk el. Ebben a sajátos eljárásban a találmány első kiviteli alakjával kapcsolatban leírt alapvető műveleteket alkalmaztuk azzal az eltéréssel, hogy az eddigi szakmai nézetekkel pontosan ellentétben a 3 zónában argonnal együtt nitrogéngázt alkalmaztunk és a 31 és 33 targetek (Pj, P3) közül az egyik, előnyösen mindkettő anyagaként nikkel-krómötvözetet alkalmaztunk, úgy hogy a nikkel:króm-réteg(ek)ben (azaz a 213' és/vagy 219' rétegben) a krómot króm-nitridként választottuk le. Ebben a tekintetben az Ar:N2 arány a szükségletnek megfelelően változhat, általánosságban véve azonban azt tapasztaltuk, hogy 100-25 térfogat% N2 és 0,-75 térfogat% Ar, előnyösen az 50%:50% Ar:N2 arány javított tulajdonságokat (így transzmittanciát és Rs értéket) biztosít a találmány előzőekben ismertetett első kiviteli alakjához viszonyítva. Ezen megoldás előnyös változataiban a rétegvastagság értékeit az első kiviteli alakéval egyezésben tartjuk. A teljesítmény jellemző értékeit az alábbiakban ismertetjük.
A 4. ábrán bemutatott rétegrendszert az előzőekben ismertetettek szerint állíthatjuk elő úgy, hogy a nikkel alapú rétegeket vagy lényegében tisztán fémes rétegekként alakítjuk ki, vagy pedig nitrogéntartalmú argonatmoszférát és egy vagy több targetként nikkel-króm-ötvözetet használunk az előzőekben ismertetettek szerint. Egy vagy több (előnyösen mindegyik) Ni:Cr-rétegben króm-nitrid előállítása útján még jobb eredményeket érünk el. Az ismertetett megoldásban ezenkívül a 3. ábra egyetlen ezüst anyagú 215 rétegét egy közbülső nikkel alapú réteggel két ezüstréteggé választjuk szét. A 4. ábra szerinti megoldáshoz ezért a 3 zónában (az ábrán fel nem tüntetett) megfelelő számú targetet használunk, az 1-2 zónákban Si3N4 alapozó rétegként a 311 réteget, a 4-5 zónákban pedig Si3N4 alapozó rétegként a 311 réteget, a 4-5 zónákban pedig Si3N4 fedőrétegként a 321 réteget állítjuk elő. A 311 és 321 rétegek esetén előnyösen ugyanazon vastagságot alkalmazzuk, minta 211, illetve 221 rétegnél.
A 4. ábra elsődlegesen abban különbözik a 3. ábrától, hogy a 3 zónában először a nikkel alapú (azaz előnyösen 80/20 nikróm) fémes 313 réteget vagy annak nitriddel helyettesített változataként a 313' réteget állítjuk elő, amelynek vastagsága kisebb, mint 7x10 10 m. Ezt követően egy mintegy 50x10“'° m vastagságú, ezüst anyagú 315A réteget képezünk, majd ezt követően egy másik, 7x10'° m-nél kisebb vastagságú, nikkel alapú, fémes 314 réteget vagy annak nitriddel helyettesített változataként a 314' réteget. Ezután mintegy 50x10'° m vastagságú, második ezüst anyagú 315B réteget alakítunk ki, amit egy másik, 7x10'° lnnél kisebb vastagságú, nikkel alapú, fémes 319 réteg vagy annak nitriddel helyettesített változataként a 319' réteg követ. Ezzel kapcsolatban megjegyzendő, hogy az egyesített ezüstrétegek teljes vastagsága előnyösen 90-105)xl0'° m. Az előzőek értelmében a rendszert Si3N4 fedőrétegként a 321 réteggel zárjuk le.
Amint az várható, ha a 4. ábra szerinti megoldásban az ezüst anyagú 315A és 315B rétegek vastagsága egyenként csak 50x10'° m, a 2. ábrán látható megoldás 117 üregeihez hasonlóan a 317 üregek által megjelenített folytonossági hiányok lépnek fel. Míg az ilyen folytonossági hiányok a 2. ábra szerinti megoldásban jelentős hátrányokat okoznak, a 4. ábra szerinti megoldásban ez nem következik be. A 4. ábra szerinti hétrétegű rendszer tartósabb, mint a 3. ábrának megfelelő két korábbi megoldás, és amíg alacsonyabb transzmittanciát mutat, mint ezek a megoldások (azaz a minimális 76%-os szintet alig haladja meg), emisszióképessége és Rs értéke jobb, mint a 3. ábra szerinti megoldások esetén. Ennek pontos oka nem ismert, úgy véljük azonban, hogy ezt lényegében az ezüst elválasztása idézi elő egy közbülső, nikkel alapú (így nikkel:króm) réteg útján összekapcsolt két réteggé. Ennek kapcsán úgy véljük, hogy a közbülső nikkel alapú réteg alapvető fontosságú, funkcionális réteg, amely alapvető módon járul hozzá a nagyobb tartóssághoz, különösen ha olyan Ni:Cr (így 80/20 nikróm) ötvözet alakjában van jelen, ahol a krómot króm-nitriddé alakítottuk.
A találmányt a következőkben példákkal szemléltetjük.
Példák
Az 1. ábrán látható berendezéssel egy a 2. ábrán látható szokásos Airco rendszert (STD) és két, a 3. ábrán ismertetett kiviteli alakot állítottunk elő. A találmány szerinti első megoldást A típusnak, a második megoldást (azaz ahol nitridet képeztünk két, a 213' és 219' réteg alakjában) B típusúnak jelöljük. A ti-12 li9-30 targetekhez Airco gyártmányú, alumíniummal adalékok, cső alakú szilíciumot használtunk. A 31 target (P,) és a 33 target (P3) 80 tömeg% nikkelt és 20 tömeg% krómot tartalmazott. A 16 target (P2) ezüst volt. Az alkalmazott üveg 3 mm vastagságú,
HU 212 342 Β szóda/mészkő/szilícium-dioxid úsztatott üveg volt (gyártó cég: Guardian Industries Corp.). A berendezést 7,76 m/perc sebességgel működtettük. Az 1-2 és 4-5 zónákban 3,32x10* Pa nyomást tartottunk fenn. Az Airco rendszer (STD), valamint a találmány szerinti A típus esetén 100%-os argonatmoszférát használtunk. A B típus esetén 50 térfogat%/50 térfogat% argon/nitrogén-atmoszférát használtunk. Az egyes targetekhez használt elektromos betáplálás adatai a következők:
3. táblázat
target száma B típus, 3 zóna teljesítmény (kW)*
feszültség (V) áramerősség (A)*
31 403 5,0 2,0
16 446 32 14,2
33 400 5,1 2,0
*: nitrid előállítása esetén ugyanazon rétegvastagsághoz a feszültség, áramerősség és teljesítmény értéke nagyobb.
1. táblázat
target száma A és B típus, 1-2 és 4-5 zónák teljesítmény (kW)
feszültség (V) áramerősség (A)
1 470 124 58,0
2 481 115 55,5
3 431 21 8,9
4 446 123 55,0
5 446 124 55,5
6 449 124 55,5
7 440 123 54,1
8 449 130 58,2
9 429 123 52,7
10 420 123 51,5
11 479 30 14,3
12 450 112 50,4
19 425 136 57,5
20 444 135 60,0
21 453 129 50,6
22 426 130 55,0
23 415 104 43,1
24 441 135 59,5
25 458 35 16,1
26 477 138 65,6
27 455 133 60,5
28 478 137 58,6
29 447 86 38,2
30 429 86 36,8
4. táblázat
target száma STD, 1-5 zónák
áramerősség (A) teljesítmény (kW)
1 1 zóna 80
2 80
3 80
4 80
5 80
6 80
7 2 zóna 80
8 80
9 80
10 80
11 80
12 80
31 3 zóna 3,8 1,5
16 18,4 8,1
33 3,8 1,5
19 4 zóna 135
20 105
21 125
22 125
23 105
24 25
25 5 zóna 125
26 120
27 50
28 110
29 110
30 80
5. táblázat
2. táblázat
target száma A típus, 3 zóna teljesítmény (kW)
feszültség (V) áramerősség (A)
31 390 2,6 1,0
16 447 22,8 10,2
33 392 2,6 1,0
rétegrendszer Összehasonlító eredmények
látható transzmit- tancia üvegoldali visszaverődés (Rg) filmoldali visszaverődés (Rf)
A típus Y(%) 78,75 8,42 4,08
C fényforrás X 0,3097 0,2610 0,2449
HU 212 342 Β
rétegrendszer Összehasonlító eredmények
látható transzmit- tancia üvegoldali visszaverődés (Ro) filmoldali visszaverődés (Rf)
2° OBS. y 0,3192 0,2722 0,2427
a* -1,69 -1,64 +1,64
b* +1,03 -11,57 -14,68
B típus Y 79,57 7,56 3,75
C fényforrás X 0,3089 0,2641 0,2559
2° OBS. y 0,3190 0,2709 0,2441
a* -1,98 -0,40 +3,77
b* +0,84 -11,19 -13,45
STD Y 76,45 8,26 5,09
C fényforrás X 0,3078 0,2626 0,2723
2“ OBS: y 0,3163 0,2801 0,2857
a* -1,19 -3,25 -1,76
b* -0,30 -9,88 -6,95
A táblázatban szereplő mennyiségeket az ASTM E3O8-85 szabványban meghatározott értelemben használjuk. Az adatokat szabványos (6700 K színhőmérsékletű) C fényforrással 2°-os megfigyelési szög mellett (2° OBS.) határoztuk meg. Az egyes jelölések jelentése a következő:
Y: a 380-780 nm hullámhossztartományban végzett spektrális mérések alapján számított színösszetevő,
x. y: színkoordináták, a*, b*: derékszögű koordinátarendszerbe transzformált szín koordináták,
Rq, Rf: nappali megvilágítást reprezentáló fényforrás segítségével az üvegszubsztrátum, illetve a bevonatrendszer oldaláról beeső fénnyel meghatározott fényvisszaverődés.
6. táblázat
rétegrendszer Összehasonlító eredmények
En Eh RS(Q )
A típus 0,10 0,13 10,0
B típus 0,10 0,13 9,4
STD 0,16 0,20 15,8
A találmánynak megfelelő két további minta szemlélteti a réteg, különösen a nikkel alapú réteg vastagságának befolyását a transzmittanciára és az infravörös energia visszaverődésére. A két B típusú üveget az 1 és 2, majd az 4 és 5 zónákban lényegében azonos körülmények között állítottuk elő, így az Si3N4 alapozóréteget és fedőréteget 100%-os nitrogénatmoszférában hoztuk létre. Az 1, 2, 4 és 5 zónákban a 31 targetek (Pt) alumíniummal adalékolt szilíciumtargetek voltak, a 33 target (P3) 80/20 nikróm, a 16 target (P2) pedig ezüst anyagú volt. Az egyedüli eltérés az volt, hogy a 3 zónában különböző teljesítményt alkalmaztunk, amint azt a következő táblázat mutatja. Az üveg 3 mm vastagságú, szóda/mészkő/szilícium-dioxid-típusú úsztatott üveg volt.
7. táblázat
3 zóna, 50/50 Ar/N2-atmoszféra
target teljesítménye (kW) transzmittancia (C fényforrás)
P,(31) P2(16) cn <n rn CX. Rs Eh Y% a* b*
1 számú üveg
1,5 15,0 1,5 8,3 0,11 80,97 -1,88 +1,13
2 számú üveg
2,0 14,0 2,0 9,1 0,12 80,02 -1,71 +0,70
Amint látható, a két Ni:Cr-(nitrid)-réteg vastagságának enyhe növekedésével és az ezüstréteg vastagságának csekély csökkenésével az infravörös visszaverődés és a transzmittancia értéke csökkent. Azonban mindkét üveg elfogadható többrétegű üvegezésű építőipari ablakokban való alkalmazás számára.
Az A típusú üveg további példáit állítottuk elő, ehhez a különböző zónákban az alább ismertetett, eltérő teljesítményszintet használtuk. Az üveg megegyezett a 7. táblázatban közölt adatok meghatározásához használt szabványos úsztatott üveggel, vastagsága 3 mm volt.
8. táblázat
üveg szá- ma tar- get szá- ma áram- erős- ség (A) telje- sít- mény (kW) Rs Eh Y% transzmit- tancia C fényforrás
a* b*
1 1- 12, 19- 30 85 9,6 0,13 77,11 -2,28 -1,53
4 35
31 2,9 1,1
16 10,2
33 2,9 1,1
2 1-3, 5-12 85 10,3 0,14 78,02 -2,38 -1,56
19- 30 85
4 35
31 2,6 1,0
16 10,2
33 2,6 1,0
3 33 2,6 1,0 10,0 0,13 77,84 -2,45 -1,66
16 10,4
4 16 2,6 10,4 9,8 0,13 79,41 -2,13 -0,30
19- 30 105
HU 212 342 Β
üveg szá- ma tar- get szá- ma áram- erős- ség (A) telje- sít- mény (kW) Rs Eh Y% transzmit- tancia C fényforrás
a* b*
5 1-3, 5-12 90 10,4 9,8 0,13 79,20 -2,10 -0,40
10- 30 90
4 40
6 4 40 10,4 9,8 0,13 79,48 -1,95 +0,17
19- 30 115
1-3, 5-12 95
19- 30 115
4 40
31, 16, 33 10,4 9,7 0,12 79,61 -1,89 +0,05
8 31. 16, 33 10.4 9,7 0,13 79,78 -1,81
19- 30 120
8 40 !
31, 16. 33 10,4 9,8 0,13 79,95 -1,80 +0,15
10 1-3, 5- 10. 12 105 9,8 0,13 79,48 -1,68 +0,66
19- 30 125
4 95
11 30 10,4 10,4
11 11 30 10,4 9,7 0,12 79,66 -1,74 +0,62
12 1-2, 5- 10. 12 107 10,1 0,13 79,76 -1,61 +0,68
3,4 47
11 32
19- 30 125
31, 33 1,0
16 10,2
13* 16 10,2 1,0 9,9 0,13 79,60 -1,62 +0,64
·: ez az üveg előnyös többrétegű üvegezésű ablakokban való ipari alkalmazáshoz
A fenti leírás alapján a szakember számára számos egyéb jellemző, módosulat és javított változat lesz nyilvánvaló. Az ilyen jellemzőket, módosításokat és javított változatokat ezért a találmány részének tekintjük, a találmány oltalmi körét pedig a következő igénypontok határozzák meg.

Claims (29)

  1. SZABADALMI IGÉNYPONTOK
    1. Szórt bevonatú üvegtermék, amely üvegszubsztrátumból és arra felvitt rétegrendszerből áll, ahol a rétegrendszer az üvegtől kifelé rendre egy Si3N4 alapozóréteget, egy első nikkel- vagy nikkelötvözet-réteget, legalább egy ezüstréteget, egy második nikkel- vagy nikkelötvözet-réteget és egy Si3N4 fedőréteget tartalmaz, azzal jellemezve, hogy az alapozóréteg (211; 311) vastagsága legalább 340x10_1° m, az első nikkelvagy nikkelötvözet-réteg (213/213'; 313/313') vastagsága legfeljebb 7xlO~10 m, az ezüstréteg (215) vastagsága (84-105)χ10~ιθ m, a második nikkel- vagy nikkelötvözet-réteg (219/219'; 319/319') vastagsága legfeljebb 7xlO”10 m, és a fedőréteg (221; 321) vastagsága legalább 480x10-10 m, továbbá a rétegrendszer adott esetben (90-105)χ10”1θ m összvastagságú két ezüstréteg (315A, 315B) között egy harmadik, legfeljebb 7xl0”*°m vastagságú nikkel- vagy nikkelötvözet-réteget (314/314') tartalmaz, ahol az üvegszubsztrátum (G) vastagsága 2-6 mm, a bevont üveg normál emisszióképessége (E„) kisebb, mint 0,2, hemiszférikus emisszióképessége (Eh) pedig kisebb, mint 0,16.
  2. 2. Az 1. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy transzmittanciája a látható tartományban legalább 78%.
  3. 3. A 2. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy transzmittanciája a látható tartományban nagyobb, mint 80%.
  4. 4. A 2. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy En értéke 0,10, Eh értéke pedig legfeljebb 0,13.
  5. 5. A 4. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy En értéke 0,09-0,10, Eh értéke pedig 0,120,13.
  6. 6. A 2. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy rétegellenállása legfeljebb 10,5 Ω .
  7. 7. A 6. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy rétegellenállása 9-10 Ω .
  8. 8. Az 1. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy egyetlen, 90χ10’ιθ m-t meghaladó vastagságú ezüstréteget (215) tartalmaz.
  9. 9. A 8. igénypont szerinti üvegtermék, azzcd jellemezve, hogy (90-105)xl0”’° m vastagságú ezüstréteget (215) tartalmaz.
  10. 10. A 8. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy legalább 400x10”10 m vastagságú Si3N4 alapozóréteget (211; 311) és legalább 540xl0-1°m vastagságú Si3N4 fedőréteget (221; 321) tartalmaz.
  11. 11. Az 1. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy a rétegrendszer 5 réteget tartalmaz.
  12. 12. Az 1. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jel+0
    HU 212 342 Β lemezve, hogy a rétegrendszer az üvegtől kifelé rendre első rétegként egy Si3N4-réteget (311), másodikként egy nikrómréteget (313/313'), harmadikként egy ezüstréteget (315A), negyedikként egy nikrómréteget (314/314'), ötödikként egy ezüstréteget (315B), hatodikként egy nikrómréteget (319/319') és hetedikként egy Si3N4-réteget (321) tartalmaz.
  13. 13. A 12. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy 50x10‘° m vastagságú ezüstrétegeket (315A, 315B) és legfeljebb 7xlO~10 m vastagságú nikrómrétegeket (313/313'; 314/314'; 319/319') tartalmaz.
  14. 14. Az 1. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy a nikkel- vagy nikkelötvözet-rétegek (213, 219; 313, 314, 319) egyikeként nikkel/króm-ötvözet-réteget (213', 219'; 313', 314', 319') tartalmaz, amely a krómot nitrid alakjában tartalmazza.
  15. 15. A 14. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy mindegyik nikkelötvözet-rétegként (213', 219'; 313', 314', 319') nikkel/króm-ötvözetet tartalmaz, amely a krómot nitrid alakjában tartalmazza.
  16. 16. A 15. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy a nikkel/króm-ötvözet 80 tömeg% nikkelt és 20 tömeg% krómot tartalmaz.
  17. 17. A 16. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy transzmittanciája legalább 80%, En-értéke legfeljebb 0,10, Eh-értéke pedig legfeljebb 0,13.
  18. 18. A 17. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy rétegellenállása legfeljebb 10,5 Ω .
  19. 19. A 18. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy (90-105)xl0’° m összvastagságú ezüstréteget (215; 315A, 315B) tartalmaz.
  20. 20. A 19. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy egyetlen, 95x10’° m vastagságú ezüstréteget (215) tartalmaz.
  21. 21. A 19. igénypont szerinti üvegtermék, azzal jellemezve, hogy egy nikrómréteg (314/314') által elválasztva két ezüstréteget (315A, 315B) tartalmaz, ahol mindegyik ezüstréteg (315A, 315B) vastagsága 50x10’° m.
  22. 22. Eljárás vékony, tartós, a napfény átbocsátását szabályozó, az 1. igénypont szerinti üvegtermék előállítására, azzal jellemezve, hogy üvegszubsztrátumon (G) szórással egymást követő műveletekben a következő rétegeket alakítjuk ki:
    (a) nitrogéntartalmú atmoszférában (legalább 340x10 10 m vastagságú Si3N4 alapozóréteget (211; 311) képezünk;
    (b) nitrogéntartalmú atmoszférában egy legfeljebb
    7x10’° m vastagságú első nikkel/króm-ötvözetréteget (213/213'; 313/313') képezünk, amely a krómot nitrid alakjában tartalmazza;
    (c) a (b) műveletben használt atmoszférában legalább egy (84-105)xl0’° m vastagságú ezüstréteget (215; 315A.315B) képezünk;
    (d) a (b) és (c) műveletben használt atmoszférában egy második nikkel/króm-ötvözetréteget (219/219'; 319/319') képezünk, amely a krómot nitrid alakjában tartalmazza;
    (e) nitrogéntartalmú atmoszférában egy legalább 480x10’° m vastagságú Si3N4 fedőréteget (221; 321) képezünk, ahol az üvegszubsztrátum (G) vastagsága 2-6 mm, a bevont üveg normál emisszióképessége (E„) kisebb, mint 0,12, hemiszférikus emisszióképessége (Eh) pedig kisebb, mint 0,16.
  23. 23. A 22. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a szórást több, egymástól elválasztott zónában (1, 2, 3, 4, 5) végezzük, és a Si3N4-rétegeket (211, 221; 311, 321) legalább két egymástól elválasztott zónában (1, 2; 4,5) lényegében 100%-os nitrogénatmoszférában képezzük, a nikkel:króm-nitrid-rétegeket (213', 219'; 313', 314', 319') és ezüstrétegeket (215; 315A, 315B) ugyanazon zónában (3) képezzük 0,75 térfogat% argon és 100-25 térfogat% nitrogén elegyéből álló atmoszférában.
  24. 24. A 23. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy 50 térfogat% argon és 50 térfogat% nitrogén elegyéből álló atmoszférában folytatjuk le.
  25. 25. A 24. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a szórás útján képzett Si3N4-réteghez (211, 221; 311, 321) szilíciumból álló cső alakú targetet (t,—130), a nikkel:króm-nitrid-rétegekhez (213', 219'; 313', 314', 319') sík nikrómtargetet (Pb P3), az ezüstrétegekhez (215; 315A, 315B) sík ezüsttargetet (P2) használunk.
  26. 26. A 25. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy 7xl0’°m-néI vékonyabb nikkel :króm-nitridréteget (213', 219'; 313', 314', 319') és összesen (90105)xl0’° m teljes vastagságú ezüstréteget (215; 315A, 315B) képezünk.
  27. 27. A 22. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az (a)—(e) műveletekkel képzett öt rétegből álló rétegrendszert alakítunk ki.
  28. 28. A 22. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy hét rétegből álló rétegrendszert alakítunk ki, ahol az ezüstréteget legalább két, egymástól nikkel :króm-nitrid közbülső réteggel (314') elválasztott rétegként (315A, 315B) képezzük ki.
  29. 29. A 22. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a szilícium szórását argon és nitrogén elegyét tartalmazó atmoszférában folytatjuk le.
HU9301271A 1992-04-30 1993-04-30 Sputter-coated glass and method of making same HU212342B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/876,350 US5344718A (en) 1992-04-30 1992-04-30 High performance, durable, low-E glass

Publications (3)

Publication Number Publication Date
HU9301271D0 HU9301271D0 (en) 1993-09-28
HUT67675A HUT67675A (en) 1995-04-28
HU212342B true HU212342B (en) 1996-05-28

Family

ID=25367504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
HU9301271A HU212342B (en) 1992-04-30 1993-04-30 Sputter-coated glass and method of making same

Country Status (22)

Country Link
US (2) US5344718A (hu)
EP (1) EP0567735B2 (hu)
JP (1) JP2588831B2 (hu)
KR (1) KR960010585B1 (hu)
CN (1) CN1044358C (hu)
AT (1) ATE172701T1 (hu)
AU (1) AU659714B2 (hu)
BR (1) BR9301659A (hu)
CA (1) CA2089421C (hu)
CZ (1) CZ284490B6 (hu)
DE (1) DE69321754T3 (hu)
DK (1) DK0567735T3 (hu)
ES (1) ES2125920T3 (hu)
HU (1) HU212342B (hu)
MX (1) MX9301838A (hu)
NO (1) NO931570L (hu)
NZ (1) NZ247491A (hu)
PL (1) PL175403B1 (hu)
RU (1) RU2090919C1 (hu)
SK (1) SK39393A3 (hu)
TR (1) TR28296A (hu)
ZA (1) ZA932087B (hu)

Families Citing this family (206)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW250618B (hu) * 1993-01-27 1995-07-01 Mitsui Toatsu Chemicals
CA2120877A1 (en) * 1993-04-28 1994-10-29 Jesse D. Wolfe Durable first and second surface mirrors
CA2120875C (en) * 1993-04-28 1999-07-06 The Boc Group, Inc. Durable low-emissivity solar control thin film coating
US5395698A (en) * 1993-06-04 1995-03-07 Ppg Industries, Inc. Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making
US5688585A (en) 1993-08-05 1997-11-18 Guardian Industries Corp. Matchable, heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same
JP3348245B2 (ja) * 1994-05-03 2002-11-20 カージナル アイジー カンパニー 保護用窒化ケイ素フィルムを有する透明物品
US6673438B1 (en) * 1994-05-03 2004-01-06 Cardinal Cg Company Transparent article having protective silicon nitride film
US5521765A (en) * 1994-07-07 1996-05-28 The Boc Group, Inc. Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter
US5514476A (en) * 1994-12-15 1996-05-07 Guardian Industries Corp. Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom
FR2728559B1 (fr) * 1994-12-23 1997-01-31 Saint Gobain Vitrage Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire
US5557462A (en) * 1995-01-17 1996-09-17 Guardian Industries Corp. Dual silver layer Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom
AU680786B2 (en) 1995-06-07 1997-08-07 Guardian Industries Corporation Heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same
US6142642A (en) * 1995-06-29 2000-11-07 Cardinal Ig Company Bendable mirrors and method of manufacture
US6086210A (en) * 1995-06-29 2000-07-11 Cardinal Ig Company Bendable mirrors and method of manufacture
MX9605168A (es) 1995-11-02 1997-08-30 Guardian Industries Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos.
US5770321A (en) * 1995-11-02 1998-06-23 Guardian Industries Corp. Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom
US6316111B1 (en) * 1996-03-01 2001-11-13 Cardinal Cg Company Heat-emperable coated glass article
US6231999B1 (en) * 1996-06-21 2001-05-15 Cardinal Ig Company Heat temperable transparent coated glass article
DE19643550A1 (de) * 1996-10-24 1998-05-14 Leybold Systems Gmbh Lichttransparentes, Wärmestrahlung reflektierendes Schichtensystem
FR2757151B1 (fr) * 1996-12-12 1999-01-08 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique
US20050096288A1 (en) * 1997-06-13 2005-05-05 Aragene, Inc. Lipoproteins as nucleic acid vectors
US6495251B1 (en) 1997-06-20 2002-12-17 Ppg Industries Ohio, Inc. Silicon oxynitride protective coatings
US6132881A (en) * 1997-09-16 2000-10-17 Guardian Industries Corp. High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom
DE69804866T9 (de) 1997-10-31 2007-10-31 Cardinal Cg Co., Eden Prairie Hitzebiegbare spiegel
US6040939A (en) * 1998-06-16 2000-03-21 Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates
US6398925B1 (en) * 1998-12-18 2002-06-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods and apparatus for producing silver based low emissivity coatings without the use of metal primer layers and articles produced thereby
US6416194B1 (en) * 1999-02-11 2002-07-09 Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. Thermostable back-surface mirrors
US6797388B1 (en) 1999-03-18 2004-09-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby
US6338901B1 (en) 1999-05-03 2002-01-15 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC on substrate
US6312808B1 (en) 1999-05-03 2001-11-06 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating with DLC & FAS on substrate
US6280834B1 (en) 1999-05-03 2001-08-28 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC and/or FAS on substrate
US6303225B1 (en) 2000-05-24 2001-10-16 Guardian Industries Corporation Hydrophilic coating including DLC on substrate
US6273488B1 (en) 1999-05-03 2001-08-14 Guardian Industries Corporation System and method for removing liquid from rear window of a vehicle
US6335086B1 (en) 1999-05-03 2002-01-01 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC on substrate
US6475573B1 (en) 1999-05-03 2002-11-05 Guardian Industries Corp. Method of depositing DLC inclusive coating on substrate
US6261693B1 (en) * 1999-05-03 2001-07-17 Guardian Industries Corporation Highly tetrahedral amorphous carbon coating on glass
US6368664B1 (en) 1999-05-03 2002-04-09 Guardian Industries Corp. Method of ion beam milling substrate prior to depositing diamond like carbon layer thereon
US6284377B1 (en) 1999-05-03 2001-09-04 Guardian Industries Corporation Hydrophobic coating including DLC on substrate
US6447891B1 (en) 1999-05-03 2002-09-10 Guardian Industries Corp. Low-E coating system including protective DLC
US6461731B1 (en) * 1999-05-03 2002-10-08 Guardian Industries Corp. Solar management coating system including protective DLC
US6277480B1 (en) 1999-05-03 2001-08-21 Guardian Industries Corporation Coated article including a DLC inclusive layer(s) and a layer(s) deposited using siloxane gas, and corresponding method
US6078425A (en) * 1999-06-09 2000-06-20 The Regents Of The University Of California Durable silver coating for mirrors
US6514620B1 (en) * 1999-12-06 2003-02-04 Guardian Industries Corp. Matchable low-E I G units and laminates and methods of making same
US6495263B2 (en) 1999-12-06 2002-12-17 Guardian Industries Corp. Low-E matchable coated articles and methods of making same
US6475626B1 (en) 1999-12-06 2002-11-05 Guardian Industries Corp. Low-E matchable coated articles and methods of making same
US6623846B2 (en) 2000-03-06 2003-09-23 Guardian Industries Corp. Low-emissivity glass coatings having a layer of nitrided nichrome and methods of making same
US20020031674A1 (en) † 2000-03-06 2002-03-14 Laird Ronald E. Low-emissivity glass coatings having a layer of silicon oxynitride and methods of making same
US6389772B2 (en) 2000-04-19 2002-05-21 William B. Gleckman Universal building unit for building structures
US6576349B2 (en) 2000-07-10 2003-06-10 Guardian Industries Corp. Heat treatable low-E coated articles and methods of making same
US7462397B2 (en) * 2000-07-10 2008-12-09 Guardian Industries Corp. Coated article with silicon nitride inclusive layer adjacent glass
US7344782B2 (en) * 2000-07-10 2008-03-18 Guardian Industries Corp. Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US6887575B2 (en) * 2001-10-17 2005-05-03 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s)
US7267879B2 (en) 2001-02-28 2007-09-11 Guardian Industries Corp. Coated article with silicon oxynitride adjacent glass
US7879448B2 (en) * 2000-07-11 2011-02-01 Guardian Industires Corp. Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US7462398B2 (en) * 2004-02-27 2008-12-09 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with zinc oxide over IR reflecting layer and corresponding method
US6445503B1 (en) 2000-07-10 2002-09-03 Guardian Industries Corp. High durable, low-E, heat treatable layer coating system
US6416872B1 (en) 2000-08-30 2002-07-09 Cp Films, Inc. Heat reflecting film with low visible reflectance
US6336999B1 (en) 2000-10-11 2002-01-08 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et Al Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Apparatus for sputter-coating glass and corresponding method
US20020172775A1 (en) * 2000-10-24 2002-11-21 Harry Buhay Method of making coated articles and coated articles made thereby
US6869644B2 (en) * 2000-10-24 2005-03-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making coated articles and coated articles made thereby
US7311961B2 (en) * 2000-10-24 2007-12-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making coated articles and coated articles made thereby
DE10105199C1 (de) * 2001-02-06 2002-06-20 Saint Gobain Vorspannbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben sowie mit dem Low-E-Schichtsystem beschichtete transparente Scheibe
ATE378299T1 (de) 2001-02-08 2007-11-15 Guardian Industries Farbkonstante niedrig-e beschichtete gegenstände und verfahren zu deren herstellung
US6524714B1 (en) * 2001-05-03 2003-02-25 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated articles with metal nitride layer and methods of making same
US6667121B2 (en) 2001-05-17 2003-12-23 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with anti-migration barrier between dielectric and solar control layer portion, and methods of making same
US6627317B2 (en) 2001-05-17 2003-09-30 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated articles with anti-migration barrier layer between dielectric and solar control layers, and methods of making same
US20030043464A1 (en) * 2001-08-30 2003-03-06 Dannenberg Rand David Optical coatings and associated methods
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings
EP1903013A1 (en) * 2001-09-13 2008-03-26 Guardian, Industries Corp. Low-E matchable coated articles, and methods of making the same
US6605358B1 (en) 2001-09-13 2003-08-12 Guardian Industries Corp. Low-E matchable coated articles, and methods
US6936347B2 (en) * 2001-10-17 2005-08-30 Guardian Industries Corp. Coated article with high visible transmission and low emissivity
US6942923B2 (en) 2001-12-21 2005-09-13 Guardian Industries Corp. Low-e coating with high visible transmission
US7232615B2 (en) * 2001-10-22 2007-06-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating stack comprising a layer of barrier coating
US6602608B2 (en) 2001-11-09 2003-08-05 Guardian Industries, Corp. Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same
US6589658B1 (en) 2001-11-29 2003-07-08 Guardian Industries Corp. Coated article with anti-reflective layer(s) system
US6586102B1 (en) 2001-11-30 2003-07-01 Guardian Industries Corp. Coated article with anti-reflective layer(s) system
US6830817B2 (en) 2001-12-21 2004-12-14 Guardian Industries Corp. Low-e coating with high visible transmission
ATE383322T1 (de) * 2002-03-01 2008-01-15 Cardinal Cg Co Dünnfilmbeschichtung mit einer transparenten grundierungsschicht
US6919133B2 (en) 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
US6749941B2 (en) 2002-03-14 2004-06-15 Guardian Industries Corp. Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with silicon-rich silicon nitride layer
AU2003239167B2 (en) * 2002-04-25 2007-01-18 Ppg Industries Ohio, Inc. Coated articles having a protective coating and cathode targets for making the coated articles
ES2661324T3 (es) * 2002-04-25 2018-03-28 Vitro, S.A.B. De C.V. Método para la fabricación de artículos revestidos que tienen un revestimiento de barrera al oxígeno y artículos revestidos fabricados de este modo
WO2003095695A2 (en) * 2002-05-06 2003-11-20 Guardian Industries Corp. Sputter coating apparatus including ion beam source(s), and corresponding method
DE10235154B4 (de) * 2002-08-01 2005-01-05 Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh Vorspannbares Schichtsystem für Glasscheiben
US6787005B2 (en) * 2002-09-04 2004-09-07 Guardian Industries Corp. Methods of making coated articles by sputtering silver in oxygen inclusive atmosphere
US20040111806A1 (en) * 2002-12-11 2004-06-17 Scheper William Michael Compositions comprising glycol ether solvents and methods employing same
GB2396436B (en) 2002-12-19 2006-06-28 Thales Plc An optical filter
US7005190B2 (en) * 2002-12-20 2006-02-28 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles
US6994910B2 (en) * 2003-01-09 2006-02-07 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with niobium nitride IR reflecting layer
WO2004074531A2 (en) * 2003-02-13 2004-09-02 Guardian, Industries Corp. Coated articles with nitrided layer and methods of making same
US6852419B2 (en) * 2003-02-21 2005-02-08 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with niobium chromium nitride IR reflecting layer and method of making same
MXPA05010170A (es) * 2003-03-28 2005-11-08 Ppg Ind Ohio Inc Sustratos recubiertos con mezclas de materiales de titanio y aluminio, metodos para hacer los sustratos, y blancos catodicos de metal titanio y aluminio.
US6974630B1 (en) 2003-05-20 2005-12-13 Guardian Industries Corp. Coated article with niobium chromium inclusive barrier layer(s) and method of making same
CA2530443C (en) 2003-06-24 2012-08-28 Cardinal Cg Company Concentration-modulated coatings
US20050223500A1 (en) * 2003-06-27 2005-10-13 The Procter & Gamble Company Solvent treatment of fabric articles
US7087309B2 (en) * 2003-08-22 2006-08-08 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method
US7153579B2 (en) * 2003-08-22 2006-12-26 Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique S.A, (C.R.V.C.) Heat treatable coated article with tin oxide inclusive layer between titanium oxide and silicon nitride
US7223479B2 (en) * 2003-09-29 2007-05-29 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with dual layer undercoat
FR2862961B1 (fr) * 2003-11-28 2006-02-17 Saint Gobain Substrat transparent utilisable alternativement ou cumulativement pour le controle thermique, le blindage electromagnetique et le vitrage chauffant.
US7081302B2 (en) * 2004-02-27 2006-07-25 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer
US9051211B2 (en) * 2004-04-27 2015-06-09 Ppg Industries Ohio, Inc. Effects of methods of manufacturing sputtering targets on characteristics of coatings
DE502004010804D1 (de) * 2004-05-05 2010-04-08 Applied Materials Gmbh & Co Kg Beschichtungsvorrichtung mit grossflächiger Anordnung von drehbaren Magnetronkathoden
US8500965B2 (en) * 2004-05-06 2013-08-06 Ppg Industries Ohio, Inc. MSVD coating process
US8524051B2 (en) 2004-05-18 2013-09-03 Centre Luxembourg de Recherches pour le Verre et al Ceramique S. A. (C.R.V.C.) Coated article with oxidation graded layer proximate IR reflecting layer(s) and corresponding method
US7108889B2 (en) * 2004-05-18 2006-09-19 Guardian Industries Corp. Glass interleaving material and method
US7550067B2 (en) * 2004-06-25 2009-06-23 Guardian Industries Corp. Coated article with ion treated underlayer and corresponding method
US7585396B2 (en) * 2004-06-25 2009-09-08 Guardian Industries Corp. Coated article with ion treated overcoat layer and corresponding method
US7563347B2 (en) * 2004-06-25 2009-07-21 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus
US7229533B2 (en) * 2004-06-25 2007-06-12 Guardian Industries Corp. Method of making coated article having low-E coating with ion beam treated and/or formed IR reflecting layer
US7311975B2 (en) * 2004-06-25 2007-12-25 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article having low-E coating with ion beam treated IR reflecting layer and corresponding method
US7419725B2 (en) * 2004-09-01 2008-09-02 Guardian Industries Corp. Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US7189458B2 (en) * 2004-09-01 2007-03-13 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US7198851B2 (en) * 2004-09-01 2007-04-03 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US7217461B2 (en) * 2004-09-01 2007-05-15 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US20060065350A1 (en) * 2004-09-27 2006-03-30 Guardian Industries Corp. Method of making heat treated coated glass article, and intermediate product used in same
US7267748B2 (en) * 2004-10-19 2007-09-11 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. Method of making coated article having IR reflecting layer with predetermined target-substrate distance
US7291251B2 (en) * 2004-10-19 2007-11-06 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Method of making coated article with IR reflecting layer(s) using krypton gas
US7390572B2 (en) * 2004-11-05 2008-06-24 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with IR reflecting layer(s) and method of making same
US20060246218A1 (en) 2005-04-29 2006-11-02 Guardian Industries Corp. Hydrophilic DLC on substrate with barrier discharge pyrolysis treatment
US7597962B2 (en) * 2005-06-07 2009-10-06 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with IR reflecting layer and method of making same
US7166359B2 (en) * 2005-06-27 2007-01-23 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Blue colored coated article with low-E coating
US7597963B2 (en) * 2005-07-08 2009-10-06 Guardian Industries Corp. Insulating glass (IG) window unit including heat treatable coating with specific color characteristics and low sheet resistance
DE102005038139B4 (de) * 2005-08-12 2008-05-21 Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem und dessen Verwendung
US7342716B2 (en) * 2005-10-11 2008-03-11 Cardinal Cg Company Multiple cavity low-emissivity coatings
US7572511B2 (en) * 2005-10-11 2009-08-11 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings
US7339728B2 (en) * 2005-10-11 2008-03-04 Cardinal Cg Company Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient
US7845142B2 (en) * 2005-12-27 2010-12-07 Guardian Industries Corp. High R-value window unit with vacuum IG unit and insulating frame
US8377524B2 (en) 2005-12-27 2013-02-19 Guardian Industries Corp. High R-value window unit
DE102006014796B4 (de) * 2006-03-29 2009-04-09 Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate
DE102006023115A1 (de) * 2006-05-16 2007-11-22 Schott Ag Backlightsystem mit IR-Absorptionseigenschaften
US8420162B2 (en) * 2006-07-07 2013-04-16 Guardian Industries Corp. Method of making coated article using rapid heating for reducing emissivity and/or sheet resistance, and corresponding product
DE102006037909A1 (de) * 2006-08-11 2008-02-14 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Temperbares, Infrarotstrahlung reflektierendes Schichtsystem und Verfahren zu seiner Herstellung
CN100595172C (zh) * 2006-10-19 2010-03-24 林嘉宏 可钢化低辐射镀膜玻璃及其生产方法
US8203073B2 (en) 2006-11-02 2012-06-19 Guardian Industries Corp. Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same
US8076571B2 (en) 2006-11-02 2011-12-13 Guardian Industries Corp. Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same
US7964788B2 (en) 2006-11-02 2011-06-21 Guardian Industries Corp. Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same
FR2911130B1 (fr) * 2007-01-05 2009-11-27 Saint Gobain Procede de depot de couche mince et produit obtenu
US7655313B2 (en) 2007-03-15 2010-02-02 Guardian Industries Corp. Low-E coated articles and methods of making same
CN101100354B (zh) * 2007-06-25 2011-01-19 沈阳建筑大学 一种低辐射玻璃的制作方法
DE102007033338B4 (de) * 2007-07-16 2010-06-02 Schott Ag Hartstoffbeschichteter Glas- oder Glaskeramik-Artikel und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Glas- oder Glaskeramik-Artikels
FR2922886B1 (fr) * 2007-10-25 2010-10-29 Saint Gobain Substrat verrier revetu de couches a resistivite amelioree.
US7888594B2 (en) 2007-11-20 2011-02-15 Guardian Industries Corp. Photovoltaic device including front electrode having titanium oxide inclusive layer with high refractive index
EA020277B1 (ru) 2008-03-20 2014-10-30 Агк Гласс Юроп Остекление с защитными слоями
US8409717B2 (en) 2008-04-21 2013-04-02 Guardian Industries Corp. Coated article with IR reflecting layer and method of making same
US8263227B2 (en) † 2008-06-25 2012-09-11 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same
US8722210B2 (en) * 2008-08-14 2014-05-13 Lg Hausys, Ltd. Low emissivity glass and method for manufacturing the same
US8022291B2 (en) 2008-10-15 2011-09-20 Guardian Industries Corp. Method of making front electrode of photovoltaic device having etched surface and corresponding photovoltaic device
FR2937366B1 (fr) † 2008-10-17 2010-10-29 Saint Gobain Vitrage multiple incorporant au moins un revetement antireflet et utilisation d'un revetement antireflet dans un vitrage multiple
US10000411B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology
US10060180B2 (en) 2010-01-16 2018-08-28 Cardinal Cg Company Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology
US11155493B2 (en) 2010-01-16 2021-10-26 Cardinal Cg Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US10000965B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductive coating technology
US9862640B2 (en) 2010-01-16 2018-01-09 Cardinal Cg Company Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US8815059B2 (en) 2010-08-31 2014-08-26 Guardian Industries Corp. System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation
US8524337B2 (en) 2010-02-26 2013-09-03 Guardian Industries Corp. Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating
US8834976B2 (en) 2010-02-26 2014-09-16 Guardian Industries Corp. Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same
US8939606B2 (en) 2010-02-26 2015-01-27 Guardian Industries Corp. Heatable lens for luminaires, and/or methods of making the same
US9932267B2 (en) 2010-03-29 2018-04-03 Vitro, S.A.B. De C.V. Solar control coatings with discontinuous metal layer
US10654748B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US10654747B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
US20120090246A1 (en) * 2010-10-15 2012-04-19 Guardian Industries Corp. Refrigerator/freezer door, and/or method of making the same
US9487437B2 (en) * 2011-02-11 2016-11-08 Guardian Industries Corp. Substrates or assemblies having indirectly laser-fused frits, and/or method of making the same
US8557391B2 (en) * 2011-02-24 2013-10-15 Guardian Industries Corp. Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same
CN102653455B (zh) 2011-03-01 2015-05-13 苏州大学 低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法
US8709604B2 (en) * 2011-03-03 2014-04-29 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same
US8679633B2 (en) * 2011-03-03 2014-03-25 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same
KR20130034334A (ko) * 2011-09-28 2013-04-05 한국전자통신연구원 태양 전지를 포함하는 진공창 및 그 제조 방법
FR2988387B1 (fr) * 2012-03-21 2017-06-16 Saint Gobain Vitrage de controle solaire
US9150003B2 (en) * 2012-09-07 2015-10-06 Guardian Industries Corp. Coated article with low-E coating having absorbing layers for low film side reflectance and low visible transmission
RU2018145297A (ru) 2013-02-28 2019-01-22 Гардиан Индастриз Корп. Оконные модули, изготовленные с использованием керамической фритты, которая растворяет покрытия, нанесенные методом физического осаждения из паровой фазы (pvd), и/или соответствующие способы
CN103848576A (zh) * 2013-09-05 2014-06-11 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 一种提高耐高温低辐射镀膜玻璃透光率的方法
CN103802379B (zh) * 2014-01-26 2015-08-05 林嘉佑 一种含银合金的可钢化低辐射镀膜玻璃
WO2015171340A1 (en) 2014-05-09 2015-11-12 3M Innovative Properties Company Article with hardcoat and method of making the same
FR3021310B1 (fr) * 2014-05-23 2022-11-18 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a couche metallique partielle, vitrage et procede.
FR3021311A1 (fr) * 2014-05-23 2015-11-27 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a couche metallique partielle, vitrage et procede.
DE102014108679A1 (de) 2014-06-20 2015-12-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Optisches Element mit einer reflektierenden Beschichtung
WO2016063007A1 (en) 2014-10-20 2016-04-28 Pilkington Group Limited Insulated glazing unit
US10723102B2 (en) 2015-04-20 2020-07-28 3M Innovative Properties Company Durable low emissivity window film constructions
FR3052769B1 (fr) * 2016-06-15 2018-07-13 Saint-Gobain Glass France Feuille de verre avec email reflechissant le rayonnement infrarouge
US10227819B2 (en) 2017-02-24 2019-03-12 Guardian Glass, LLC Coated article with low-E coating having doped silver IR reflecting layer(s)
US10233532B2 (en) 2017-03-01 2019-03-19 Guardian Glass, LLC Coated article with low-E coating having reflecting system with silver and zinc based barrier layer(s)
US10233531B2 (en) 2017-03-01 2019-03-19 Guardian Glass, LLC Coated article with low-E coating having protective doped silver layer for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same
US10179946B2 (en) 2017-03-03 2019-01-15 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and niobium bismuth based high index layer and method of making same
US10196735B2 (en) 2017-03-03 2019-02-05 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and doped titanium oxide dielectric layer(s) and method of making same
US10253560B2 (en) 2017-03-03 2019-04-09 Guardian Glass, LLC Coated article with IR reflecting layer(s) and overcoat for improving solar gain and visible transmission
US10287673B2 (en) 2017-03-07 2019-05-14 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(S) and yttrium inclusive high index nitrided dielectric layer
US10138159B2 (en) 2017-03-09 2018-11-27 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric film having multiple layers
US10266937B2 (en) 2017-03-09 2019-04-23 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and hafnium inclusive high index nitrided dielectric layer
US10138158B2 (en) 2017-03-10 2018-11-27 Guardian Glass, LLC Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric layers
AU2018255726B2 (en) 2017-04-17 2023-02-16 3E Nano Inc. Energy control coatings, structures, devices, and methods of fabrication thereof
US10556821B2 (en) 2017-04-26 2020-02-11 Guardian Glass, LLC Laminated window including different glass substrates with low-E coating adjacent vehicle or building interior and/or methods of making the same
US10472274B2 (en) 2017-07-17 2019-11-12 Guardian Europe S.A.R.L. Coated article having ceramic paint modified surface(s), and/or associated methods
US20190040523A1 (en) 2017-08-04 2019-02-07 Vitro Flat Glass, LLC Method of Decreasing Sheet Resistance in an Article Coated with a Transparent Conductive Oxide
US10650935B2 (en) 2017-08-04 2020-05-12 Vitro Flat Glass Llc Transparent conductive oxide having an embedded film
US20190043640A1 (en) 2017-08-04 2019-02-07 Vitro Flat Glass, LLC Protective Layer Over a Functional Coating
US11078718B2 (en) 2018-02-05 2021-08-03 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with quadruple metallic layers
JP2021513950A (ja) 2018-02-15 2021-06-03 ビトロ フラット グラス エルエルシー 窒化ケイ素及び／又は酸窒化ケイ素を含む保護コーティングを有するコーティングされた物品
US20190345754A1 (en) 2018-05-09 2019-11-14 Guardian Glass, LLC Vacuum insulating glass (vig) window unit
US10590031B2 (en) 2018-05-11 2020-03-17 Guardian Glass, LLC Method and system utilizing ellipsometry to detect corrosion on glass
US10830933B2 (en) 2018-06-12 2020-11-10 Guardian Glass, LLC Matrix-embedded metamaterial coating, coated article having matrix-embedded metamaterial coating, and/or method of making the same
US10562812B2 (en) 2018-06-12 2020-02-18 Guardian Glass, LLC Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same
WO2020083691A1 (en) 2018-10-25 2020-04-30 Agc Glass Europe Low reflectance solar control glazing
US11028012B2 (en) 2018-10-31 2021-06-08 Cardinal Cg Company Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same
US11530478B2 (en) 2019-03-19 2022-12-20 Applied Materials, Inc. Method for forming a hydrophobic and icephobic coating
US10696584B1 (en) * 2019-11-26 2020-06-30 Guardian Europe S.A.R.L. Coated article with low-E coating having protective contact layer including Ag, Ni, and Cr for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same
CN111876738A (zh) * 2020-07-25 2020-11-03 童玲 一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3272986A (en) * 1963-09-27 1966-09-13 Honeywell Inc Solar heat absorbers comprising alternate layers of metal and dielectric material
US3649359A (en) * 1969-10-27 1972-03-14 Optical Coating Laboratory Inc Multilayer filter with metal dielectric period
US3698946A (en) * 1969-11-21 1972-10-17 Hughes Aircraft Co Transparent conductive coating and process therefor
US3682528A (en) * 1970-09-10 1972-08-08 Optical Coating Laboratory Inc Infra-red interference filter
DE2203943C2 (de) * 1972-01-28 1974-02-21 Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth Wärmerefexionsscheibe, die gute Farbgleichmäßigkeit aufweist, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung
US3846152A (en) * 1972-05-12 1974-11-05 Ppg Industries Inc Selective reflecting metal/metal oxide coatings
US3900673A (en) * 1972-08-28 1975-08-19 Libbey Owens Ford Co Automotive glazing structure
DE2256441C3 (de) * 1972-11-17 1978-06-22 Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth In Durchsicht und Draufsicht farbneutrale wärmereflektierende Scheibe und ihre Verwendung in Verbundsicherheits- und Doppelscheiben
DE2334152B2 (de) * 1973-07-05 1975-05-15 Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth Wärmereflektierende, 20 bis 60% des sichtbaren Lichtes durchlassende Fensterscheibe mit verbesserter Farbneutralltät In der Ansicht und ihre Verwendung
US3990784A (en) * 1974-06-05 1976-11-09 Optical Coating Laboratory, Inc. Coated architectural glass system and method
US3962488A (en) * 1974-08-09 1976-06-08 Ppg Industries, Inc. Electrically conductive coating
US4337990A (en) * 1974-08-16 1982-07-06 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
US4556277A (en) * 1976-05-27 1985-12-03 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
US4179181A (en) * 1978-04-03 1979-12-18 American Optical Corporation Infrared reflecting articles
US4223974A (en) * 1978-08-02 1980-09-23 American Optical Corporation Enhanced bonding of silicon oxides and silver by intermediate coating of metal
US4204942A (en) * 1978-10-11 1980-05-27 Heat Mirror Associates Apparatus for multilayer thin film deposition
FR2474701A1 (fr) * 1979-12-19 1981-07-31 France Etat Filtre optique interferentiel de protection contre les radiations infrarouges et application
DE3039821A1 (de) * 1980-10-22 1982-06-03 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendung
US4335166A (en) * 1980-11-21 1982-06-15 Cardinal Insulated Glass Co. Method of manufacturing a multiple-pane insulating glass unit
US4356073A (en) * 1981-02-12 1982-10-26 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus
US4422916A (en) * 1981-02-12 1983-12-27 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus
JPS57195207A (en) * 1981-05-26 1982-11-30 Olympus Optical Co Ltd Light absorbing film
US4444635A (en) * 1981-07-22 1984-04-24 Hitachi, Ltd. Film forming method
JPS5890604A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 赤外線遮蔽積層体
DE3370195D1 (en) * 1982-06-30 1987-04-16 Teijin Ltd Optical laminar structure
DE3311815C3 (de) * 1983-03-31 1997-12-04 Leybold Ag Verfahren zum Herstellen von Scheiben
US4780372A (en) * 1984-07-20 1988-10-25 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Silicon nitride protective coatings for silvered glass mirrors
US4716086A (en) * 1984-12-19 1987-12-29 Ppg Industries, Inc. Protective overcoat for low emissivity coated article
US4799745A (en) * 1986-06-30 1989-01-24 Southwall Technologies, Inc. Heat reflecting composite films and glazing products containing the same
US4847157A (en) * 1986-08-28 1989-07-11 Libbey-Owens-Ford Co. Glass coating method and resulting article
US5201926A (en) * 1987-08-08 1993-04-13 Leybold Aktiengesellschaft Method for the production of coated glass with a high transmissivity in the visible spectral range and with a high reflectivity for thermal radiation
AU655173B2 (en) † 1990-05-10 1994-12-08 Boc Group, Inc., The Durable low-emissivity thin film interference filter
DE4135701C2 (de) * 1991-10-30 1995-09-28 Leybold Ag Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung
US5229194A (en) * 1991-12-09 1993-07-20 Guardian Industries Corp. Heat treatable sputter-coated glass systems

Also Published As

Publication number Publication date
CN1078219A (zh) 1993-11-10
CA2089421A1 (en) 1993-10-31
HUT67675A (en) 1995-04-28
PL175403B1 (pl) 1998-12-31
MX9301838A (es) 1994-01-31
US5344718A (en) 1994-09-06
JPH06171984A (ja) 1994-06-21
DK0567735T3 (da) 1999-07-05
US5425861A (en) 1995-06-20
EP0567735B2 (en) 2004-04-14
PL298732A1 (en) 1994-01-10
DE69321754D1 (de) 1998-12-03
DE69321754T2 (de) 1999-06-24
NO931570D0 (no) 1993-04-29
CN1044358C (zh) 1999-07-28
CZ73593A3 (en) 1994-12-15
CZ284490B6 (cs) 1998-12-16
BR9301659A (pt) 1993-11-03
HU9301271D0 (en) 1993-09-28
DE69321754T3 (de) 2005-01-27
AU659714B2 (en) 1995-05-25
KR960010585B1 (ko) 1996-08-06
SK39393A3 (en) 1993-11-10
NO931570L (no) 1993-11-01
RU2090919C1 (ru) 1997-09-20
JP2588831B2 (ja) 1997-03-12
CA2089421C (en) 1997-04-29
ZA932087B (en) 1993-10-15
EP0567735B1 (en) 1998-10-28
NZ247491A (en) 1995-07-26
TR28296A (tr) 1996-04-09
AU3319193A (en) 1993-11-04
ES2125920T3 (es) 1999-03-16
EP0567735A1 (en) 1993-11-03
ATE172701T1 (de) 1998-11-15
KR930021561A (ko) 1993-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HU212342B (en) Sputter-coated glass and method of making same
EP0796825B1 (en) A sputter coated glass article which is durable, of low emissivity and has a substantially neutral visible reflected colour, insulating glass units made therefrom, and methods of making same
US6014872A (en) Methods of making insulating glass units with neutral, high performance, durable low-E glass coating systems
CA2443742C (en) Heat treatable coated articles with metal nitride layer and methods of making same
US6159607A (en) Heat treatable, durable, ir-reflecting sputter-coated glasses and method of making same
RU2379377C2 (ru) Композиция покрытия на основе металла и соответствующие подложки с нанесенным покрытием
JP2786400B2 (ja) 熱処理可能な被膜ガラス及びその製法
HU219378B (en) A sputter coated glass and insulating glass
RU2120919C1 (ru) Способ получения зеркал и зеркало
HU217948B (hu) Szórt bevonatú üveg, valamint hőszigetelő üvegezés
JPH08508708A (ja) ガラス上のコーティング
US5751484A (en) Coatings on glass
CA2435083C (en) Low-e matchable coated articles and methods of making same
MXPA97001710A (en) Low emissivity glass system, durable, highly visible, neutral, glass insulating units manufactured from it, and method to manufacture the mis
NZ286301A (en) Glass article having layers of sputter coatings of nickel (alloy) and an outer coat of silicon nitride, but no silver layer

Legal Events

Date Code Title Description
HMM4 Cancellation of final prot. due to non-payment of fee