NO338153B1 - Plasmastråle med atmosfærisk trykk - Google Patents

Plasmastråle med atmosfærisk trykk Download PDF

Info

Publication number
NO338153B1
NO338153B1 NO20074465A NO20074465A NO338153B1 NO 338153 B1 NO338153 B1 NO 338153B1 NO 20074465 A NO20074465 A NO 20074465A NO 20074465 A NO20074465 A NO 20074465A NO 338153 B1 NO338153 B1 NO 338153B1
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
plasma
electrode
central electrode
central
proximal end
Prior art date
Application number
NO20074465A
Other languages
English (en)
Other versions
NO20074465L (no
Inventor
Robby Jozef Martin Rego
Danny Havermans
Jan Jozef Cools
Original Assignee
Vlaamse Instelling Voor Tech Onderzoek
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vlaamse Instelling Voor Tech Onderzoek filed Critical Vlaamse Instelling Voor Tech Onderzoek
Publication of NO20074465L publication Critical patent/NO20074465L/no
Publication of NO338153B1 publication Critical patent/NO338153B1/no

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/245—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated using internal electrodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)

Abstract

Oppfinnelsen vedrører en plasmastråleanordning for plasmabehandling av en gjenstand, innbefattende: en avlang sentral elektrode (2, 15), en avlang sylindrisk ytre elektrode (1) eller to ytre elektroder (15, 16) rundt den sentrale elektroden og koaksialt med denne, eller to elektroder som er i hovedsaken parallelle med den sentrale elektroden, en elektrisk isolator (3) eller isolatorer (18, 19) anordnet mellom den/de ytre elektroder og den sentrale elektroden, idet det foreligger et leveringsløp med en distal ende og en proksimal ende mellom den sentrale elektroden og den/de elektriske isolatorene. Videre forefinnes det en tilførselsåpning (6) anordnet ved leveringsløpets distale ende, for tilføring av en plasmadannende gass til leveringsløpet, og en kraftkilde (9) for tilveiebringelse av en spenning mellom den sentrale elektroden og den ytre elektroden. Det som kjennetegner oppfinnelsen er at den elektriske isolatoren har en radiell eller utadrettet forlengelse (40, 20) ved den proksimale enden, utenfor den ytre overflaten til den/de ytre elektrodene.

Description

Oppfinnelsen vedrører en plasmaanordning som brukes for plasmarensing,
- overflatemodifikasjon og - overflatebelegging. Mer særskilt vedrører oppfinnelsen en forbedret plasmastråle.
Plasmastråler under atmosfærisk trykk er kjent og er eksempelvis beskrevet i WO 98/35379 eller WO 99/20809. Disse plasmastråleinnretningene har to koaksialt anordnede elektroder som danner et plasmaleveringsrom (eng.: plasma discharge space) mellom den ytre diameteren til den sentralt plasserte elektroden og den indre diameteren til den ytre elektroden. En plasmastråle kan genereres ved en åpen ende av innretningen ved at det innføres en gasstrøm ved en lukket ende av innretningen samtidig som en tilstrekkelig spenning legges mellom elektrodene. Mellom elektrodene kan det være anordnet et dielektrisk materiale for å unngå buedannelse. Plasmastrålen kan benyttes for etsing, rensing eller belegging av en overflate. I de tidligere kjente innretningene, er det vanskelig å oppnå en tilfredsstillende effektiv plasmastråle. Dette skyldes visse begrensninger i de kjente innretningene. Eksempelvis er det for tiden umulig å aktivere gummi tilstrekkelig med en fornuftig dimensjonert, kjent og klassisk plasmastråle. Grunnen til dette er den utilstrekkelige energileveringen. De fleste plasmastråleinnretninger benytter derfor dyser for samling av plasmastrålen, for på den måten å oppnå en større plasmatetthet eller - densitet. Dette medfører imidlertid den ulempen at det behandlede punktet blir mindre og at det derfor kreves flere innretninger, mer tid eller større innretninger for behandling av en spesifikk overflate.
EP 0921713 beskriver også en innretning og fremgangsmåte for plasma prosessering av en gjenstand. Hensikten med den foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en forbedret og mer effektiv plasmastråleinnretning enn de hittil kjente løsningene.
Foreliggende oppfinnelse vedrører en plasmastråle under atmosfærisk trykk, hvilken plasmastråle innbefatter en sylindrisk 2-elektrodeinnretning eller en parallell 3-elektrodeinnretning. 2-elektrodeinnretningen kan være en rørformet innretning som har en sentral, sylindrisk metallelektrode og en ytre, sylindrisk metallelektrode. De sylindriske metallelektrodene er koaksiale og danner et plasmaleveringsløp. Innretningen har en åpen (proksimal) ende og en lukket (distal) ende. Plasmaleveringsløpet er åpent mot atmosfæren ved den åpne enden og har en gasstrømtilføringsåpning ved den lukkede enden. Mellom den nevnte sentrale, sylindriske metallelektroden og den nevnte ytre, sylindriske metallelektroden er det anordnet et dielektrisk materiale. Det kjennetegnende er at den nevnte dielektriske barrieren er radielt utvidet ved den åpne enden.
En utførelse av den parallelle innretningen innbefatter en sentral, flat eller spesielt utformet metallelektrode og to ytre metallelektroder. Elektrodene er i hovedsaken parallelle, dvs. med en konstant (+ 1 mm) avstand og danner et plasmaleveringsløp. Den parallelle innretningen har en åpen (proksimal) ende og en lukket (distal) ende. Plasmaleveringsløpet er åpent mot atmosfæren ved den åpne enden og innbefatter en gasstrømtilføringsåpning ved den lukkede enden. Mellom den sentrale metallelektroden og de ytre metallelektrodene er det anordnet et dielektrisk materiale. Det som kjennetegner utførelsen er at den nevnte dielektriske barrieren er forlenget utover ved den åpne enden. I en spesifikk utførelsesform er de ytre elektrodene forbundet ved sidene slik at det derved dannes én elektrode som er koaksial med den sentrale elektroden. Denne utførelsen og den rørformede utførelsen representerer således to varianter av den sylindriske innretningen med en indre og en ytre elektrode.
Foreliggende oppfinnelse vedrører således en plasmastråleanordning for plasmabehandling av en gjenstand. En sylindrisk 2-elektrodeutførelse og en parallell 3-elektrodeutførelse beskrives. Den sylindriske plasmastråleinnretningen innbefatter:
• en avlang sentral elektrode,
• en avlang sylindrisk ytre elektrode som omgir den sentrale elektroden og er koaksial med denne, • en elektrisk isolator som er koaksialt anordnet mellom den ytre elektroden og den sentrale elektroden, idet et leveringsløp med en distal ende og en proksimal ende er dannet mellom den sentrale elektroden og den elektriske isolatoren, • en tilførselsåpning ved den distale enden av leveringsløpet, for levering av en plasmadannende gass til leveringsløpet, • en kraftkilde for tilveiebringelse av en spenning mellom den sentrale elektroden og den ytre elektroden,
idet den nevnte elektriske isolatoren strekker seg i en radielt anordnet ring ved den proksimale enden, utenfor den ytre overflaten til den ytre elektroden. Elektrodene kan være rørformede og koaksiale og ha et sirkulært tverrsnitt, eller den sentrale elektroden kan være en flat, plateformet elektrode mens den ytre elektroden har en front- og en bakside som er i hovedsaken parallelle med den sentrale elektroden. Istedenfor en flat elektrode, kan den parallelle innretningen ha en sentral elektrode som - ved den proksimale enden - har en rund forlengelse langs elektrodelengden, mens den ytre elektrodens front- og bakside forblir parallelle med den sentrale elektroden.
I en foretrukket utførelsesform er det anordnet en tilførselskanal gjennom den sentrale elektroden, for innføring av reaktive kjemiske sammensetninger umiddelbart i plasmalysbue ved den proksimale enden.
Den 3-elektrode og parallelle plasmastråleinnretningen ifølge oppfinnelsen innbefatter:
• en sentral elektrode, eksempelvis en flat og plateformet elektrode,
• to ytre elektroder på begge sider av den sentrale elektroden og i hovedsaken anordnet parallelt med den sentrale elektroden, • to elektriske isolatorer som er anordnet i hovedsaken parallelt mellom de ytre elektrodene og den sentrale elektroden, idet et leveringsløp med en distal ende og en proksimal ende er dannet mellom den sentrale elektroden og de elektriske isolatorene, • en tilførselsåpning anordnet ved leveringsløpets distale ende, for tilføring av en plasmadannende gass til leveringsløpet, • fortrinnsvis, en tilføringskanal gjennom den sentrale elektroden for innføring av reaktive sammensetninger umiddelbart i plasmalysbue ved den proksimale enden, • en kraftkilde for tilveiebringelse av en spenning mellom den sentrale og de ytre elektrodene,
idet de elektriske isolatorene strekker seg utover ved den proksimale enden, utenfor den ytre overflaten til den ytre elektroden.
I plasmastråleanordningen ifølge oppfinnelsen strekker den elektriske isolatoren seg fortrinnsvis videre mot den distale enden ved den ytre elektrodens ytre overflate. Fordelaktig ligger avstanden mellom en ytre overflate på den sentrale elektroden og den indre overflaten i den elektriske isolatoren, mellom 0,1 og 10 mm. Kraftkilden er fortrinnsvis anordnet for tilveiebringelse av en veksel- eller pulset likestrømspenning mellom 1 og 10 kV for den rørformede utførelsesformen og mellom 1 og 100 kV for den parallelle utførelsesformen.
Andre aspekter av oppfinnelsen vedrører en fremgangsmåte for tilveiebringelse av en plasmastrøm, innbefattende trinnene:
• tilveiebringelse av en plasmastråleanordning ifølge oppfinnelsen,
• tilveiebringelse av en plasmagasstrøm gjennom tilførselsåpningen,
• tilveiebringelse av en reaktiv kjemisk sammensetningsstrøm (eksempelvis monomer) gjennom tilførselsåpningen og/eller gjennom den sentrale elektroden, for innføring av den reaktive kjemiske sammensetningen i plasmaleveringen ved den åpne enden, og • tilveiebringelse av en spenning mellom 1 og 100 kV mellom den sentrale elektroden og den ytre elektroden.
Oppfinnelsen vil nå bli beskrevet nærmere under henvisning til tegningen, hvor
Fig. 1 viser en kjent plasmastråleanordning.
Fig. 2 rent skjematisk viser en plasmastråleanordning ifølge oppfinnelsen.
Fig. 3 viser rent skjematisk en parallell plasmastråleanordning ifølge oppfinnelsen. Fig. 4 rent skjematisk viser en spesiell utførelse av utførelsesformen med parallelle elektroder. Fig. 5 viser flere mulige tverrsnitt i parallelle plasmastråleanordninger ifølge oppfinnelsen.
Kjente plasmastråleanordninger, eksempelvis som vist i fig. 1, har vanligvis en ytre elektrode 11 og en indre elektrode 12. Mellom disse er det anordnet et dielektrisk materiale 13.
Den rørformede utførelsen av oppfinnelsen er vist i fig. 2 og er en atmosfæretrykk-plasmastråle med to koaksiale og sylindriske elektroder 1, 2 og med en spesielt utformet elektrisk isolator i form av et dielektrisk materiale 3. Den dielektriske barrieren strekker seg ut ved den proksimale enden av plasmastrålen, fortrinnsvis i form av en U-formet forlengelse 20. En plasmastråle arbeider ved temperaturer mellom 30 og 600°C og kan benyttes for plasmarensing, overflatemodifikasjon og overflatebelegging. Det U-formede dielektriske materialet har store fordeler i alle utførelsene. En ring, i form av en radiell utvidelse i den rørformede utførelsen, er en foretrukket utførelsesform (uten returbenet 21 i U'en). Ved anordningens distale ende er det en tilførselsåpning 6, for tilføring av plasmagass til løpet som er dannet mellom den sentrale elektroden og det dielektriske materialet 3. Fordelaktig er den sentrale elektroden 2 jordet 8, mens den ytre elektroden er forbundet med en spenningskilde 9. Elektroden 1, som er jordet, og elektroden 2, som er forbundet med en spenningskilde, representerer således en mulig utførelsesform. En utførelse hvor begge elektroder er forbundet med en spenningskilde, inngår også i oppfinnelsen. En tilførselskanal 7 gjennom den sentrale elektroden 2 kan være anordnet for innføring av reaktive sammensetninger umiddelbart i plasmalysbuen ved den åpne enden. Avstanden 4 mellom en ytre overflate av den sentrale elektroden og den indre overflaten til den elektriske isolatoren, ligger mellom 0,1 og 10 mm. Avstanden 5 er diameteren til den homogene plasmasonen. Avstanden 50 er høyden til den homogene plasmasonen, svarende til høyden til den ytre elektroden 1.
Den sentrale elektroden 2 og den ytre elektroden 1 kan være sylindrisk, med et sirkulært tverrsnitt, dvs. at de har rørform. Alternativt kan den sentrale elektroden være en flat elektrode 2 mens den ytre elektroden 1 er utført med en front- og en bakside 70, 71 (se fig. 5A), som ved sidene 72 er forbundet for dannelse av en sylindrisk, ytre elektrode 1. Isolatoren 3 har da også front- og baksider 73, 74 som er parallelle med den sentrale elektroden og ved 75 er forbundne for dannelse av en sylindrisk isolator 3.
Fig. 3 viser plasmastråleanordningen ifølge oppfinnelsen med tre parallelle elektroder. Anordningen har en sentral elektrode 15 og to parallelle elektroder 16, 17, én på hver side av den sentrale elektroden. Figuren viser et snitt gjennom anordningen. Den virkelige innretningen er naturligvis lukket på sidene. Mulige tverrsnitt er vist i fig. 5B-5D. De anordninger som er vist i fig. 5B-5D er lukket på sidene ved hjelp av egnede isoleringsmaterialer (ikke vist). Den parallelle anordningen i fig. 3 har to dielektriske deler 18, 19 som er i hovedsaken parallelle med elektrodene. Ved anordningens distale ende er det en tilførselsåpning 6 for tilførsel av en plasmadannende gass til det leveringsløpet som dannes mellom den sentrale elektroden og isolatorene. En tilførselskanal 7 gjennom den sentrale elektroden 15 kan være anordnet for innføring av reaktive sammensetninger umiddelbart i plasmalysbuen ved den åpne enden. Den sentrale elektrode 15 er jordet 8 mens de ytre elektrodene 16, 17 er forbundet med en spenningskilde 9. En utførelse hvor de ytre elektrodene 16, 17 er jordet og den sentrale elektroden 15 er forbundet med en spenningskilde, inngår også i oppfinnelsen. En utførelse hvor både den sentrale elektrode 15 så vel som de ytre elektrodene 16, 17 er forbundne med en spenningskilde, inngår også i oppfinnelsen. Ved anordningens proksimale ende er de dielektriske delene utformet med en utoverrettet forlengelse 40, fortrinnsvis i form av en U, eller med en plan utoverrettet forlengelse, uten returbenet 41 i U'en. Avstanden 4 mellom en ytre overflate på den sentrale elektroden og den indre overflaten til den elektriske isolatoren, ligger mellom 0,1 og 10 mm. Avstanden 5 er bredden til den homogene plasmasonen. Avstanden 60 er høyden til den homogene plasmasonen, svarende til høyden til de ytre elektrodene. Avstanden 61 er plasmasonens lengde, svarende til lengden (dybden) til anordningen.
Fig. 4 viser en mulig spesiell utførelse av den parallelle plasmastråleanordningen ifølge oppfinnelsen. I en slik utførelse er det en rund forlengelse 30 langs hele lengden av den sentrale metallelektrode 15 ved den åpne enden for plasmastrålen. Som vist i fig. 4 har både det spesielt utformede dielektriske materialet 18, 19 og de ytre metallelektrodene 16, 17 en spesiell form for derved å garantere en konstant (+ 1 mm) avstand mellom den ytre overflaten til den sentrale elektroden og den indre overflaten til den elektriske isolatoren. Henvisningstallet 60 viser høyden til plasmastrålen, henvisningstallet 5 viser bredden til den homogene og effektive plasmaetterstrømmingen og henvisningstallet 61 viser lengden av plasmasonen mellom de parallelle elektrodene. På grunn av den runde forlengelsen 30 økes konsentrasjonen i lysbuen og derved plasmadensiteten i lysbuen.
Generelt kan de nedenfor angitte dr iftskarakter i stikker benyttes når plasmastråleanordningen ifølge oppfinnelsen brukes: - Elektrisk kraft for den rørformede anordningen med en elektrodehøyde 50 på 10 cm (heretter kalt rørformet anordning): 20-750 watt. - Elektrisk kraft for den parallelle anordningen, herunder en parallell anordning (med én ytterelektrode) med en elektrodehøyde 50, 60 på 10 cm og en elektrodelengde 61 på 10 cm (heretter benevnt parallellanordning): 100-500 watt. Energien som benyttes vil være avhengig av anvendelsen.
- Elektrisk spenning (8): 1-100 kV.
- Plasmagasstrøm (6): 1-400 l/min. for den rørformede anordningen, 10-4000 l/min. for parallellanordningen. - Temperaturen til forvarmet plasmagass: 20-400°C. (Dette betyr at plasmagassen kan forvarmes opp til 400°C før innføringen i plasmastrålen). - Plasmagasser: N2, luft, He, Ar, CO2+ bindinger av disse gasser med H2,
O2, SF6, CF4, mettede og umettede hydrokarbongasser, fluorinerte hydrokarbongasser. - Monomerstrøm: 1-2000 g/min. (gjennom kanalen 7 i den sentrale elektroden imidlertid inn i plasmalysbuen). - Tilført gasstrøm: 0,1-30 l/min. (gjennom kanalen 7 i den sentrale elektroden og umiddelbart inn i plasmalysbuen). - Indre gapavstand (4): 0,1-10 mm (avhengig av plasmagassen og anvendelsen). - Diameter (for den rørformede anordningen) eller bredden 5 (for parallellanordningen) av den homogene plasmasonen: 6-80 mm. - Lengden til den effektive plasmalysbuen: 5-100 mm (avhengig av anvendelsen).
Når det legges en høy vekselspenning eller pulset likestrøm på én av elektrodene, skjer det en dielektrisk barriereutladning mellom dielektrikumet og den indre elektroden. De aktive andelene i plasmaet blåses ut med plasmagasstrømmen. En slik etterfølgende lysbue rettes mot et prøvestykke og på denne måten kan tredimensjonale gjenstander plasmabehandles. Når det benyttes en pulset likestrøm vil frekvensen fordelaktig ligge mellom 1 og 200 kHz, mer fordelaktig mellom 50 og 100 kHz.
Fordelene med det radielt eller i retning utover rettede dielektrikum fra plasmastråleanordningen ifølge oppfinnelsen, kan oppsummeres som de følgende tre konsepter: avstanden til plasmakilden, aktiveringsbredden og forbruket av plasmagass.
Avstand til plasmakilden
Det skal nevnes at radikaler, og særlig ioner, i plasmastrålen har meget kort levetid, og så godt som ikke blir transportert utenfor leveringsområdet. Metastabile andeler i plasmaet vil på den annen side ha lengre levetider under atmosfæretrykk, typisk i størrelsesordene noen hundre millisekunder. En slik lengre levetid muliggjør at de tas ut av plasmavolumet med plasmagasstrømmen. Det er de mest reaktive metastabile andelene som først går tapt. Jo nærmere man befinner seg plasmakilden, desto mer reaktiv vil plasmalysbuen være. Med den nye plasmastråleanordningen ifølge oppfinnelsen kan prøvestykker bringes opp til 2 mm fra den aktuelle plasmakilden. Eksperimenter viser at en stabil aktivering av visse polymerer bare kan realiseres når den beskrevne plasmastråleutformingen benyttes med det radielt eller utover forløpende dielektrikum.
Eksempler
Plasmaaktivering av gummi:
Gummi er umulig å aktivere tilstrekkelig med det klassiske konseptet: avstanden gummi/plasmakilde synes å være for stor. De mest reaktive og i dette tilfellet nødvendige andeler i plasmaet går tapt før de treffer gummiprøven.
Ved å bruke et U-formet dielektrikum så som vist i fig. 2, kan det oppnås en mer reaktiv plasmalysbue.
Parametere:
- Energi: 400 watt
- Frekvens: 70 kHz
- Plasmagass: 65 1 luft/min.
- Precursor: ingen
- Temperatur i plasma etter lysbuen: 65°C
- Avstand gummi/plasmakilde: 4 mm
- Overflateenergi før plasmaaktivering: + 20 dyn
- Overflateenergi etter plasmaaktivering: > 75 dyn
- Overflateenergi 1 uke etter plasmaaktivering: 62 dyn.
Plasmaaktivering av PVC:
PVC er termisk følsomt. Den aktivering som oppnås med det klassiske konseptet er ikke stabilt over tid. Etter noen få timer vil aktiveringen være fullstendig tapt.
Ved å bruke et U-formet dielektrikum kan det oppnås en mer reaktiv plasmalysbue.
- Energi: 300 watt
- Frekvens: 32 kHz
- Plasmagass: 601 N2/min.
- Precursor: ingen
- Temperatur i plasmalysbue: 60°C
- Avstand PVC/plasmakilde: 5-7 mm
- Overflateenergi før plasmaaktivering: 45 dyn
- Overflateenergi etter plasmaaktivering: > 75 dyn
- Overflateenergi 1 uke etter plasmaaktiveringen: 64 dyn
- Overflateenergi 1 måned etter plasmaaktiveringen: 56 dyn
- Overflateenergi 4 måneder etter plasmaaktiveringen: 54 dyn.
Aktiveringsbredde
Dersom flate prøver bringes nært inntil plasmalysbuen vil de aktive andelene i plasmalysbuen spres ut over et visst område mellom plasmastrålen og prøvene. Dette betyr at det aktiverte punktet kan være meget bredere enn plasmastrålens diameter. Jo nærmere prøvene bringes til den aktuelle plasmakilden, desto bredere vil det aktiverte punktet være. Eksperimenter har bekreftet at med plasmastrålen ifølge oppfinnelsen (med U-formet dielektrikum) kan dette aktiverte punktet for samme plasmabetingelser være meget bredere enn ifølge det klassiske konseptet.
Eksempler
Plasmaaktivering av polyetylen:
En øking av bredden til det aktiverte punktet vil redusere de totale bearbeidelseskostnadene for en (multi-) plasmastråle. Ved bruk av en plasmastråle ifølge oppfinnelsen kan det oppnås en mer reaktiv plasmalysbue og aktive andeler spres ut over et bredere område.
- Energi: 200 watt.
- Frekvens: 50 kHz.
- Plasmagass: 50 1 N2/min.
- Precursor: ingen.
- Temperatur i plasma etter lysbue: 65°C.
- Diameter for plasmastrålen: 15 mm.
- Overflateenergi før plasmaaktivering: 32 dyn.
- Overflateenergi etter plasmaaktivering: 62 dyn.
Med det klassiske konseptet var bredden til det homogent aktiverte punktet maksimalt 32 mm ved en avstand prøve/plasmastråle på 1,5 mm.
Plasmaaktivering av polypropylen:
Øking av bredden til det aktiverte punktet vil redusere de totale bearbeidelseskostnadene for en (multi-) plasmastråle. Ved bruk av en plasmastråle ifølge oppfinnelsen kan det oppnås en mer reaktiv plasmalysbue og aktive andeler spres ut over et bredere område.
- Energi: 200 watt.
- Frekvens: 50 kHz.
- Plasmagass: 50 1 luft/min.
- Precursor: ingen.
- Temperatur i plasma etter lysbue: 65°C.
- Diameter for plasmastrålen: 15 mm.
- Overflateenergi før plasmaaktivering: 36 dyn.
- Overflateenergi etter plasmaaktivering: 70 dyn.
Med det klassiske konseptet var bredden til det homogene aktiverte punktet maksimalt 33 mm ved en avstand prøve/plasmastråle på 1,5 mm.
Forbruk av plasmagass/plasmaenergi
Som følge av at prøvene kan bringes nærmere den aktuelle plasmasonen, går færre reaktive andeler tapt i lysbuen. Sammenlignet med en klassisk plasmastråle kan det således oppnås samme virkning med et lavere forbruk av gass og/eller energi. Denne siste fordelen kan ses på som en indirekte følge av de to foran nevnte fordeler.
Det er eksperimentelt vist at det kreves mindre gass og/eller energi for oppnåelse av samme plasmaaktiveringsvirkning. Slike eksperimenter kan gjennomføres av en fagperson.

Claims (15)

1. Plasmastråleanordning for plasmabehandling av en gjenstand med en plasmastråle under atmosfærisk trykk, innbefattende: • En avlang senterelektrode (2), • En avlang og sylindrisk ytterelektrode (1) rundt nevnte senterelektrode og koaksialt med denne, • En elektrisk isolator (3) som er anordnet koaksialt mellom ytterelektroden (1) og nevnte senterelektrode (2), idet det mellom senterelektroden (2) og den elektriske isolatoren (3) foreligger et leveringsløp med en distal ende og en proksimal ende, • En tilføringsåpning (6) ved leveringsløpets distale ende for tilføring av en plasmadannende gass til leveringsløpet, • En kraftkilde (9) for tilveiebringelse av en spenning mellom nevnte senterelektrode (2) og ytterelektroden (1), karakterisert vedat den elektriske isolatoren (3) strekker seg i en radielt anordnet ring (20) ved den proksimale enden, utenfor ytterelektrodens (1) ytre overflate.
2. Plasmastråleanordning ifølge krav 1, karakterisert vedat den elektriske isolatoren videre strekker seg (21) mot den distale enden ved den ytre overflaten til ytterelektroden.
3. Plasmastråleanordning ifølge krav 1 eller 2, karakterisert vedat avstanden mellom en ytre overflate på senterelektroden og den indre overflaten til den elektriske isolatoren (4), ligger mellom 0,1 og 10 mm.
4. Plasmastråleanordning ifølge et av kravene 1-3, karakterisert vedat kraftkilden (9) er anordnet for tilveiebringelse av en veksel- eller puls-likestrømspenning mellom 1 og 10 kV.
5. Plasmastråleanordning ifølge et av kravene 1-4, karakterisert vedat elektrodene (1, 2) er rørformet.
6. Plasmastråleanordning ifølge et av kravene 1-4, karakterisert vedat ytterelektroden (1) har en front- og en bakside (70, 71), hvilke sider forløper i hovedsaken parallelt med senterelektroden (2).
7. Plasmastråleanordning ifølge krav 6, karakterisert vedat senterelektroden (2) har en rund forlengelse (30) ved den proksimale enden, langs hele lengden (61) til senterelektroden.
8. Plasmastråleanordning ifølge et av kravene 1-7, karakterisert veden tilførselskanal (7) gjennom senterelektroden (2), for innføring av reaktive kjemiske sammensetninger umiddelbart i plasmalysbuen ved den proksimale enden.
9. Plasmastråleanordning for plasmabehandling av en gjenstand med en plasmastråle under atmosfærisk trykk, innbefattende • en sentral elektrode (15), • to ytre elektroder (16, 17) på begge sider av den sentrale elektroden og i hovedsaken anordnet parallelt med denne, • to elektriske isolatorer (18, 19) som er anordnet i hovedsaken parallelt mellom de ytre elektrodene og den sentrale elektroden, idet det dannes et leveringsløp med en distal ende og en proksimal ende mellom den sentrale elektroden og de elektriske isolatorene, • en tilførselsåpning (6) anordnet ved den distale enden av leveringsløpet, for tilføring av en plasmadannende gass til leveringsløpet, • en kraftkilde (9) for tilveiebringelse av en spenning mellom den sentrale elektroden og de ytre elektrodene, karakterisert vedat de elektriske isolatorene strekker seg ut ved den proksimale enden og utenfor den ytre overflaten til den ytre elektroden.
10. Anordning ifølge krav 9, karakterisert vedat de elektriske isolatorene videre strekker seg (41) mot den distale enden ved den ytre overflaten til de ytre elektrodene.
11. Anordning ifølge krav 9 eller 10, karakterisert veden tilførselskanal (7) gjennom den sentrale elektroden, for innføring av reaktive sammensetninger umiddelbart i plasmalysbuen ved den proksimale enden.
12. Anordning ifølge et av kravene 9-11, karakterisert vedat den sentrale elektroden (15) er en flat elektrode.
13. Anordning ifølge et av kravene 9-11, karakterisert vedat den sentrale elektroden har en rund forlengelse (30) ved den proksimale enden, langs hele lengden (61) til den sentrale elektroden.
14. Fremgangsmåte for fremstilling av en plasmastrøm, innbefattende trinnene: • tilveiebringelse av en plasmastråleanordning ifølge et av kravene 1-8, • tilveiebringelse av en plasmagasstrøm gjennom tilførselsåpningen, • tilveiebringelse av en reaktiv kjemisk sammensetningsstrøm (eksempelvis monomer) gjennom tilførselsåpningen (9) og/eller gjennom den sentrale elektroden, for innføring av den reaktive kjemiske sammensetningen i plasmaleveringen ved den åpne enden av plasmaet, og • tilveiebringelse av en spenning mellom 1 og 100 kV mellom den sentrale elektroden og den ytre elektroden.
15. Fremgangsmåte for fremstilling av en plasmastrøm, innbefattende trinnene: • tilveiebringelse av en plasmastråleanordning ifølge et av kravene 9-13, • tilveiebringelse av en plasmagasstrøm gjennom tilførselsåpningen, • tilveiebringelse av en reaktiv kjemisk sammensetningsstrøm (eksempelvis monomer) gjennom tilførselsåpningen (6) og/eller gjennom den sentrale elektroden, for innføring av den reaktive kjemiske sammensetningen i plasmaleveringen ved den åpne enden av plasmaet, og • tilveiebringelse av en spenning mellom 1 og 100 kV mellom den sentrale elektroden og den ytre elektroden.
NO20074465A 2005-02-04 2007-09-03 Plasmastråle med atmosfærisk trykk NO338153B1 (no)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05447017A EP1689216A1 (en) 2005-02-04 2005-02-04 Atmospheric-pressure plasma jet
PCT/BE2006/000008 WO2006081637A1 (en) 2005-02-04 2006-02-06 Atmospheric-pressure plasma jet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NO20074465L NO20074465L (no) 2007-09-03
NO338153B1 true NO338153B1 (no) 2016-08-01

Family

ID=34943252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO20074465A NO338153B1 (no) 2005-02-04 2007-09-03 Plasmastråle med atmosfærisk trykk

Country Status (15)

Country Link
US (1) US8552335B2 (no)
EP (2) EP1689216A1 (no)
JP (1) JP5122304B2 (no)
KR (2) KR20120135534A (no)
CN (1) CN101129100B (no)
AT (1) ATE515930T1 (no)
AU (1) AU2006209814B2 (no)
CA (1) CA2596589C (no)
DK (1) DK1844635T3 (no)
IL (1) IL184877A (no)
NO (1) NO338153B1 (no)
PL (1) PL1844635T3 (no)
RU (1) RU2391801C2 (no)
WO (1) WO2006081637A1 (no)
ZA (1) ZA200706133B (no)

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4688850B2 (ja) * 2007-07-27 2011-05-25 京セラ株式会社 構造体およびこれを用いた装置
ATE554197T1 (de) * 2007-09-19 2012-05-15 Vito Verfahren zur stabilen hydrophilie-verstärkung eines substrats mittels plasmaablagerung bei atmosphärischem druck
EP2180768A1 (en) * 2008-10-23 2010-04-28 TNO Nederlandse Organisatie voor Toegepast Wetenschappelijk Onderzoek Apparatus and method for treating an object
FR2947416B1 (fr) * 2009-06-29 2015-01-16 Univ Toulouse 3 Paul Sabatier Dispositif d'emission d'un jet de plasma a partir de l'air atmospherique a temperature et pression ambiantes et utilisation d'un tel dispositif
JP5940239B2 (ja) * 2009-11-02 2016-06-29 株式会社イー・スクエア プラズマ表面処理装置およびその製造方法
JP5212346B2 (ja) * 2009-12-11 2013-06-19 株式会社デンソー プラズマ発生装置
CN102244970A (zh) * 2010-05-12 2011-11-16 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 一种多喷头射频等离子体发生器
WO2012004175A1 (en) 2010-07-09 2012-01-12 Vito Nv Method and device for atmospheric pressure plasma treatment
KR101133094B1 (ko) * 2010-07-26 2012-04-04 광운대학교 산학협력단 다중 채널 플라즈마 제트 발생 장치
RU2465747C1 (ru) * 2011-05-26 2012-10-27 Государственное учебно-научное учреждение Физический факультет Московского государственного университета имени М.В. Ломоносова Полимерный гаситель самостоятельного дугового разряда с металлическими электродами при электровзрыве проволочки
US9831069B2 (en) * 2011-06-03 2017-11-28 Wacom CVD apparatus and method for forming CVD film
CN102307426A (zh) * 2011-06-24 2012-01-04 北京大学 一种等离子体发生装置
US10225919B2 (en) * 2011-06-30 2019-03-05 Aes Global Holdings, Pte. Ltd Projected plasma source
US20130302215A1 (en) * 2012-05-10 2013-11-14 Hua-Ming Liu Combination dielectric barrier discharge reactor
KR101415688B1 (ko) 2012-07-18 2014-07-04 한국기초과학지원연구원 관형 플라즈마 표면 처리 장치
CN102883516A (zh) * 2012-10-31 2013-01-16 重庆大学 一种新型针-环式等离子体射流装置
CN103179772B (zh) * 2013-03-08 2016-04-20 河北大学 产生大气压直流辉光放电的方法及其专用装置
AT514555B1 (de) * 2013-08-27 2015-02-15 Fronius Int Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmastrahls
US11278983B2 (en) 2013-11-13 2022-03-22 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US11432393B2 (en) 2013-11-13 2022-08-30 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US10456855B2 (en) 2013-11-13 2019-10-29 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US11684995B2 (en) 2013-11-13 2023-06-27 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US9981335B2 (en) 2013-11-13 2018-05-29 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
ITPD20130310A1 (it) 2013-11-14 2015-05-15 Nadir S R L Metodo per la generazione di un getto o jet di plasma atmosferico e dispositivo minitorcia al plasma atmosferico
AU2015301727B2 (en) 2014-08-12 2020-05-14 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US20160089695A1 (en) * 2014-09-25 2016-03-31 United States Government As Represented By The Secretary Of The Army Bondable fluorinated barrier coatings
EP3233991B1 (en) * 2014-12-17 2023-02-01 Si02 Medical Products, Inc. Plasma treatment with non-polymerizing compounds that leads to reduced biomolecule adhesion to thermoplastic articles
CN104540313B (zh) * 2014-12-26 2017-04-19 中国科学院西安光学精密机械研究所 大气压中空基底电极等离子体射流发生装置
CN104883806B (zh) * 2015-03-06 2018-09-25 苏州大学 一种等离子射流装置和组件以及一种晶硅电池表面氧化和除污的方法
KR101733994B1 (ko) 2015-04-07 2017-05-11 주식회사 피글 진공 펌프를 이용한 기체 압력 제어 플라즈마 발생 장치
CN104812154A (zh) * 2015-04-22 2015-07-29 西安交通大学 一种三电极介质阻挡放电等离子体发生装置
CA2984439C (en) * 2015-04-30 2021-06-08 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma treatment with non-polymerizing compounds that leads to reduced dilute biomolecule adhesion to thermoplastic articles
US9711333B2 (en) * 2015-05-05 2017-07-18 Eastman Kodak Company Non-planar radial-flow plasma treatment system
KR102569883B1 (ko) 2015-08-04 2023-08-22 하이퍼썸, 인크. 액체-냉각식 플라즈마 아크 토치용 카트리지
DK3163983T3 (da) * 2015-10-28 2020-08-24 Vito Nv Apparat til plasmabehandling med indirekte atmosfærisk tryk
DE102016209097A1 (de) * 2016-03-16 2017-09-21 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmadüse
CN106231771A (zh) * 2016-08-31 2016-12-14 大连民族大学 一种等离子体喉镜杀菌装置的保护机构
CN106231770A (zh) * 2016-09-09 2016-12-14 国网江苏省电力公司电力科学研究院 一种工作气体和外部环境气体可控的等离子体射流发生与参数诊断系统
CN106455281A (zh) * 2016-10-13 2017-02-22 上海交通大学 一种集成掩膜板的大气压等离子体射流装置
CN106714435B (zh) * 2016-11-15 2019-06-14 北京理工大学 一种大面积大气压等离子体射流产生装置
US20190209854A1 (en) * 2017-06-16 2019-07-11 Sekisui Chemical Co., Ltd. Reactive gas application apparatus, and method of treating animals excluding humans
GB2565852B (en) * 2017-08-25 2022-04-06 Air Quality Res Limited Dielectric barrier discharge device and method and apparatus for treating a fluid
TWI691237B (zh) 2018-02-13 2020-04-11 國立交通大學 常壓電漿束產生裝置
CN108566714A (zh) * 2018-06-09 2018-09-21 贵州电网有限责任公司 一种等离子体射流装置
PL3586954T3 (pl) 2018-06-22 2023-12-27 Molecular Plasma Group Sa Ulepszony sposób i urządzenie do osadzania powłok na podłożu za pomocą strumienia plazmy pod ciśnieniem atmosferycznym
EP3840541A1 (en) 2019-12-20 2021-06-23 Molecular Plasma Group SA Improved shield for atmospheric pressure plasma jet coating deposition on a substrate
EP3848191A1 (en) 2020-01-07 2021-07-14 Glanzstoff Industries A.G. Reinforcement material and elastomeric product reinforced therewith
EP3848426A1 (en) 2020-01-07 2021-07-14 Molecular Plasma Group SA Method for altering adhesion properties of a surface by plasma coating
EP4289519A1 (en) 2022-06-10 2023-12-13 Basf Se Plasma-created barriers for packaging

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0921713A2 (en) * 1997-12-03 1999-06-09 Matsushita Electric Works, Ltd. Plasma processing apparatus and method

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3241476A1 (de) * 1982-11-10 1984-05-10 Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen Verfahren zur einleitung von ionisierbarem gas in ein plasma eines lichtbogenbrenners und plasmabrenner zur durchfuehrung des verfahrens
US4825806A (en) * 1984-02-17 1989-05-02 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Film forming apparatus
KR900003310B1 (ko) * 1986-05-27 1990-05-14 리가가구 겡큐소 이온 발생 장치
US4820370A (en) * 1986-12-12 1989-04-11 Pacific Western Systems, Inc. Particle shielded R. F. connector for a plasma enhanced chemical vapor processor boat
US5105123A (en) * 1988-10-27 1992-04-14 Battelle Memorial Institute Hollow electrode plasma excitation source
FR2666821B1 (fr) * 1990-09-19 1992-10-23 Ugine Aciers Dispositif de traitement superficiel d'une plaque ou d'une tole d'un materiau metallique par plasma basse temperature.
JP3206095B2 (ja) * 1991-04-12 2001-09-04 株式会社ブリヂストン 表面処理方法及びその装置
JP3413661B2 (ja) * 1991-08-20 2003-06-03 株式会社ブリヂストン 表面処理方法及びその装置
JP3267810B2 (ja) * 1993-07-20 2002-03-25 株式会社半導体エネルギー研究所 被膜形成方法
JPH07211654A (ja) * 1994-01-12 1995-08-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd プラズマ発生装置およびその動作方法
JP3148495B2 (ja) 1994-01-13 2001-03-19 株式会社半導体エネルギー研究所 プラズマ発生装置およびその動作方法
DE69531880T2 (de) * 1994-04-28 2004-09-09 Applied Materials, Inc., Santa Clara Verfahren zum Betreiben eines CVD-Reaktors hoher Plasma-Dichte mit kombinierter induktiver und kapazitiver Einkopplung
US5776553A (en) * 1996-02-23 1998-07-07 Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. Method for depositing diamond films by dielectric barrier discharge
DE19735362C2 (de) * 1996-08-14 2002-12-19 Fujitsu Ltd Gasreaktor
US6027617A (en) * 1996-08-14 2000-02-22 Fujitsu Limited Gas reactor for plasma discharge and catalytic action
FR2754969B1 (fr) * 1996-10-18 1998-11-27 Giat Ind Sa Torche a plasma a etancheite amelioree
US5756959A (en) * 1996-10-28 1998-05-26 Hypertherm, Inc. Coolant tube for use in a liquid-cooled electrode disposed in a plasma arc torch
JPH10199697A (ja) * 1997-01-10 1998-07-31 Pearl Kogyo Kk 大気圧プラズマによる表面処理装置
US5961772A (en) 1997-01-23 1999-10-05 The Regents Of The University Of California Atmospheric-pressure plasma jet
DE69840654D1 (de) 1997-10-20 2009-04-23 Univ California Aufbringen von beschichtungen mit einem plasmastrahl unter atmosphärendruck
JP3057065B2 (ja) * 1997-12-03 2000-06-26 松下電工株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2000192244A (ja) * 1998-10-16 2000-07-11 Canon Inc 堆積膜の形成装置及び形成方法
EP0997926B1 (en) * 1998-10-26 2006-01-04 Matsushita Electric Works, Ltd. Plasma treatment apparatus and method
US6262523B1 (en) * 1999-04-21 2001-07-17 The Regents Of The University Of California Large area atmospheric-pressure plasma jet
JP4164716B2 (ja) * 1999-04-27 2008-10-15 岩崎電気株式会社 無電極電界放電エキシマランプおよび無電極電界放電エキシマランプ装置
WO2000070117A1 (en) * 1999-05-14 2000-11-23 The Regents Of The University Of California Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device
JP2001023972A (ja) * 1999-07-10 2001-01-26 Nihon Ceratec Co Ltd プラズマ処理装置
US6228438B1 (en) * 1999-08-10 2001-05-08 Unakis Balzers Aktiengesellschaft Plasma reactor for the treatment of large size substrates
JP4444437B2 (ja) * 2000-03-17 2010-03-31 キヤノンアネルバ株式会社 プラズマ処理装置
US6911225B2 (en) * 2001-05-07 2005-06-28 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization of living-mammal-instillable liquids
US7274015B2 (en) * 2001-08-08 2007-09-25 Sionex Corporation Capacitive discharge plasma ion source
JP3823037B2 (ja) * 2001-09-27 2006-09-20 積水化学工業株式会社 放電プラズマ処理装置
TW497986B (en) * 2001-12-20 2002-08-11 Ind Tech Res Inst Dielectric barrier discharge apparatus and module for perfluorocompounds abatement
US6896854B2 (en) * 2002-01-23 2005-05-24 Battelle Energy Alliance, Llc Nonthermal plasma systems and methods for natural gas and heavy hydrocarbon co-conversion
US20030157000A1 (en) * 2002-02-15 2003-08-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Fluidized bed activated by excimer plasma and materials produced therefrom
US20050016456A1 (en) * 2002-02-20 2005-01-27 Noriyuki Taguchi Plasma processing device and plasma processing method
JP4092937B2 (ja) * 2002-04-11 2008-05-28 松下電工株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP4231250B2 (ja) * 2002-07-05 2009-02-25 積水化学工業株式会社 プラズマｃｖｄ装置
US6841943B2 (en) * 2002-06-27 2005-01-11 Lam Research Corp. Plasma processor with electrode simultaneously responsive to plural frequencies

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0921713A2 (en) * 1997-12-03 1999-06-09 Matsushita Electric Works, Ltd. Plasma processing apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
AU2006209814A1 (en) 2006-08-10
WO2006081637A1 (en) 2006-08-10
CN101129100A (zh) 2008-02-20
CN101129100B (zh) 2011-02-02
ATE515930T1 (de) 2011-07-15
AU2006209814B2 (en) 2011-01-20
EP1689216A1 (en) 2006-08-09
EP1844635B1 (en) 2011-07-06
KR20120135534A (ko) 2012-12-14
JP2008529243A (ja) 2008-07-31
CA2596589A1 (en) 2006-08-10
PL1844635T3 (pl) 2012-01-31
DK1844635T3 (da) 2011-09-12
KR20070103750A (ko) 2007-10-24
EP1844635A1 (en) 2007-10-17
RU2007129398A (ru) 2009-03-10
JP5122304B2 (ja) 2013-01-16
CA2596589C (en) 2013-09-03
ZA200706133B (en) 2008-11-26
US8552335B2 (en) 2013-10-08
RU2391801C2 (ru) 2010-06-10
US20080308535A1 (en) 2008-12-18
IL184877A (en) 2011-12-29
NO20074465L (no) 2007-09-03
IL184877A0 (en) 2007-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO338153B1 (no) Plasmastråle med atmosfærisk trykk
US6867387B2 (en) Device for plasma incision of matter with a specifically tuned radiofrequency electromagnetic field generator
JP2005528737A (ja) 雰囲気プラズマ表面処理方法およびそれを実行するための装置
US20140311891A1 (en) Tubular floating electrode dielectric barrier discharge for applications in sterilization and tissue bonding
JP5441051B2 (ja) プラズマ照射装置
WO2004002293A3 (en) Systems and methods for electrosurgical tissue treatment
AU2002223972A1 (en) Plasma arc sur surgical device and method
JP2002263173A (ja) 低周波プラズマを用いた消毒システムの電力システムおよび方法
JP2002355295A (ja) プラズマに与えられる低周波電力をパルス化するように構成されたスイッチングモジュールを用いた消毒システム
JP2004154562A (ja) デジタル信号プロセッサによって制御されるプラズマ発生器を備えた消毒システム
JP2002191679A (ja) 低周波プラズマを用いた消毒方法および消毒システム
WO2015141000A1 (ja) 殺菌機能付き水栓装置及びシンク
JP5154647B2 (ja) パルスプラズマ生成のためのカソード組立体
NL1026532C2 (nl) Methode en middelen voor generatie van een plasma bij atmosferische druk.
RU203340U1 (ru) Управляемый газонаполненный разрядник
CN212163807U (zh) 一种等离子体发生器
KR102067407B1 (ko) 플라즈마 발생기
CZ27172U1 (cs) Systém mikrotrysky pro generování plazmatu v kapalinách
CN111432545A (zh) 一种等离子体发生器
CZ27173U1 (cs) Systém trysky pro generování plazmatu v kapalinách
Watanabe et al. Treatment of volatile organic compounds using secondary emission electron gun
RU2227173C2 (ru) Вакуумно-дуговой источник плазмы для обработки трубчатых изделий
EA002935B1 (ru) Способ плазменной резки материалов, в частности, с помощью генератора с настроенным высокочастотным электромагнитным полем
JP2020161332A (ja) プラズマ処理装置
Farish et al. The Development of Fast Single-Shot and Repetitively-Operated SF6 Closing Switches for Pulsed-Power Applications