JP2005528737A - 雰囲気プラズマ表面処理方法およびそれを実行するための装置 - Google Patents
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Abstract
Description
− 表面の活性化、特に接着性または濡れ性を改善するための活性化、
− 消毒、殺菌、
− エッチング、
− 膜堆積、
− 焼灼
のうちの1つまたはいくつかを含む可能性がある。
さらに、そのような方法は、金属表面の処理に役立たないであろう。その理由は、そのような表面は接地されると第2の電極として作用するからである。したがって、金属に与える前記アークの影響は、あらゆる電極に典型的な劣化現象(電極スポットの発生、侵食、溶融、加熱、原子構造の破壊など)を伴うであろう。
− 電気アークによって発生する熱および電気アークに伴う電流が、発生する火傷および処置対象体を通って流れる電流によって引き起こされる損傷に鑑みて、生物学的組織の表面処理など多くの用途にとって不都合であること。さらにこの方法がエネルギー効率的でないこと。
− 低い温度勾配の条件下での装置の冷却の必要性に鑑みて、ガスの流量が極めて大きいこと。
− 電極から作り出される電気アークとの接触の結果として石英チューブが破損を受けること。
− この装置は小型化することが難しいことである。
− 放電はフィラメント形状電極の点効果およびガスの流れによって影響を受けるアークであって、それが電極の端部間の電流の流線を妨げること。処理の位置精度を達成することが難しく、したがって低品質であること。
− 記載された装置が流量ならびに電力の永続的な調節と永続的なモニタリングを必要とし、これが使用者による使用を複雑にすることである。
本発明の別の目的は、雰囲気プラズマによる生物学的組織の表面の処理のために、効率的かつ正確な処理を可能にする一方で組織の火傷および損傷を回避または最小限化する方法を実行するための方法ならびに装置を提供することである。
信頼性があり、かつ制御されていないプラズマの消滅という問題を低減または回避する雰囲気プラズマ表面処理方法を提供することが好都合である。
極めて大面積の物質の処置、特に火傷の処置を可能にするプラズマ処理方法およびその方法を実行するための装置を提供することが好都合である。
Jはガス粒子の活性化エネルギーであり、
nはガスの粒子密度であり、
Qは電子とガス粒子の弾性衝突の実効断面であり、
eは電子の電荷である。
(JnQ/e)キャリヤ・ガス<E<(JnQ/e)雰囲気ガス
放電の挙動はまた、2つのカラム内のプラズマの流量によっても決定される。2つの限界流量が存在する。第1の限界、G1は2つのキャリヤ・ガスのチューブ間で放電がアークの形を有する低い流量である。2つの電極(チューブ)間でアークは明らかになるのでこの動作条件は容易に検出することが可能である。その中の温度は約6000〜7000℃に達する可能性がある。この動作条件は最新技術に相当する。
G1≦G≦G2
G1 *≦G*≦G2 *
ここでG1 *は、ものよりも下では従来のアークがチューブ/電極の間に発生するG*の値であり、G2 *は、ものよりも上では放電が吹き消される、すなわちもはや存在しなくなる最大流量である。
本発明の他の目的および有利な特徴は特許請求項の範囲、この後になされる本発明の実施形態の説明、および添付の図面から明らかになるであろう。
図1aは、管状電極の軸A1、A2の交点が処理対象表面上にくるような方法で電極の端部と処理対象表面の間の距離dを調節することによって局所に制限された処理が実行されるケースを例示している。この処理は最小の表面積を備えた処理ゾーン上のエネルギーの最大の集中(すなわち最大エネルギー密度)に相当する。
Relocal=ρlamvδ/μlam〜ρlamvγ/μlam〜ρaddvγ/μadd<103
を満たし、ここでρとvはそれぞれガスの密度と速度であり、δとγは特性寸法であり(図2aおよび2b参照)、μはガスの粘度であり、Reはレイノルズ数である。添え字「lam」および「add」はそれぞれ層流のガスおよびサポート・ガスに関連する。この実施形態では、局所化された不安定性(乱流)は、周囲の媒質によって吸収されて発展せず、層流を保つ。
− たとえレイノルズ数が103よりも大きい時でもプラズマ流が層流にされ、(熱的、流体力学的、および構造的)相互作用が分子でなされ、かつ非対流性であり、したがってそれらははるかに小さい程度であること。それに対応する損失が強力に削減されること。
小径のチューブとして構成され、内側にキャリヤ・ガスが流れる電極は、とりわけ以下の利点を与える。
・管状電極の小さい断面のために、誘電性本体の方向で熱流が小さい。定常的動作条件の下でも、動作中の装置の様々な部分は低温を維持する。
・装置が低いガス流量で信頼性良く動作し、その用途の潜在的領域は実際に制限がないことが経験により示されている。
w=CU2/2
になり、ここでUはコンデンサの端子の両端間の電圧である。立ち上がりの勾配は放電に引き続いて接続されるインダクタンスLによって決定される。
処理された材料:ポリエチレン
ポリプロピレン
ポリエチレンテレフタレート
電流源:U=1000V、I=100mA
キャリヤ・ガス:Kr(20%)+O2(80%)
雰囲気空気中で処理
表面エネルギーWsurfaceの計算
Wsurface=cwater(1+cosθ)
cwater=71.2mJ/m2
θ−接触角、(度)
接触角θはDigidropタイプの装置、モデルCA−S−150で測定される。
処理された材料:ポリプロピレン
電流源:U=100V、I=100mA
キャリヤ・ガス:Xe(10%)+O2(90%)
雰囲気空気中で処理
塗料:エアロゾルの缶から塗布される光沢塗料
プラスチック材料に対する塗料の接着性の測定は標準方法(規格50488/01)を使用して実行された。
処理された材料:ポリプロピレン
ガス:Ar(20%)+(Ar、N2、O2、CO2または空気)(80%)
電流源:U=100V、I=100mA
雰囲気空気中で処理
処理された材料:820g/m2の比重を備えた布(ポリエステル)
電流源:U=1000V、I=100mA
キャリヤ・ガス:Ar(10%)+酸素(90%)
活性化は、垂直方向に設置されたサンプル中での水の上昇速度(上昇の持続時間に対する高さの比として算出される)を判定することによって測定される。
容器:プラスチック材料−ポリプロピレン
電流源:U=1000V、I=100mA
ガス:Ar(10%)+空気(90%)
微生物:Aspergillus niger ATCC 16404
Byssochlamys nivea 1910−90
生存微生物の計数は微生物学の分野で従来から実施されている方法を使用して実行された。
処理された材料:セラミック材料(例えばタイル)
電流源:U=1000V、I=100mA
改質ガス:Ar(20%)+(O2、O2+CF4、空気)(80%)
重合ガス:Ar(30%)+C3F6(70%)
接触角を測定するために使用された液体:水、オイル、石油
接触角はDigidropタイプの装置、モデルCA−S−150で測定された。
処理された材料:ポリエステル布(比重:450g/m2)
電流源:U=1000V、I=100mA
改質ガス:Ar(10%)+O2(90%)
重合ガス:Ar(30%)+C3F6(70%)
接触角を測定するために使用された液体:水
接触角はDigidropタイプの装置、モデルCA−S−150で測定された。
この特定の実施例ではキャリヤ・ガスはクリプトンである。プラズマ装置は雰囲気空気中で機能する。図15と16の写真で、ここでは互いに平行に走る2つの管状電極が明らかにわかる。これらの電極から輝く平行のプラズマ・ジェットが発射されている。これらのジェットの間の有意に暗い隙間は、電子が通過し、かつプラズマが熱力学的および化学的平衡から脱け出るゾーンに相当する。電子は極めて高いエネルギーを有し、それらの平均行程距離値は高く、数ミリメートルに達する。それらが動力学的エネルギーをジェットから出るガスに励起エネルギーとして移すのはジェットのゾーン内だけである。2つの可視プラズマ通路は管状電極から発射されるキャリヤ・ガスをイオン化する電子の流れによって形成され、このガスは雰囲気ガス(このケースでは空気)よりも低いイオン化エネルギーを有する。
1.出血の焼灼
2.火傷からの血漿滲出の抑止
外科手術がブタに施された。使用された装置は上記の実施例8のように2つの管状電極を備えたプラズマ発生器を含み、それらの電極を通ってイオン化エネルギー(イオン化のエンタルピー)が雰囲気空気よりも低いガス(Ar、Kr、Xe)が導入された。処理ゾーンに、中間にあるノズルを経由してO2、CO2、N2といったガスが導入された。発生器の周波数は300kHzであった。電圧の大きさは300Vであった。管状電極を経由して導入されたガスの流量は0.1l/minから2l/minの範囲であった。追加ガスの流量は0.2l/minから3l/minの範囲であった。
操作は第3度の火傷を背中に受けたブタに施された。上記と同じ条件下で上述の装置を使用すると、このタイプの火傷の特徴である血漿の浸潤(滲出)を焼灼することが可能となった。
Claims (36)
- 雰囲気プラズマによって表面を処理する方法において、プラズマ発生器を使用して少なくとも2つのプラズマ・ジェットを発生させる工程を含み、プラズマ・ジェットが、雰囲気のガス状媒質よりも低いイオン化エンタルピーを有するキャリヤ・ガスもしくはキャリヤ・ガス混合物の流れの中で放電によって作り出される方法であって、電極として機能する前記プラズマ・ジェット間に配置された放電のゾーンが非自立性であり、かつ表面を処理するための活性ガスで主に構成されるプラズマを発生させ、放電を作り出す電場の強度Eが条件、すなわち
(JnQ/e)キャリヤ・ガス≦E≦(JnQ/e)雰囲気ガス
を満足させ、
ここでJはガス粒子の活性化のエネルギーであり、
nはこのガスの粒子密度であり、
Qは電子とこのガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、
eは電子の電荷であることを特徴とする方法。 - プラズマ・ジェットが、キャリヤ・ガスが注入される通路を有する管状の電極から作り出されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 電気的降伏がプラズマ・ジェット間で作り出されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 処理される表面上のプラズマ部分のゾーンを広げるために、処理される表面に対して実質的に直角に方向付けられる磁場が加えられることを特徴とする、前記請求項に記載の方法。
- 局所限定されているか広いかいずれかである処理ゾーンを作り出すためにプラズマ・ジェットが調節可能に方向付けられ、このゾーンが慣性の流体力学的力とアンペールの力によって処理対象表面に押しつけられることを特徴とする、前記請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 電極の軸が互いに平行であることを特徴とする、前記請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 雰囲気プラズマによって表面を処理する方法であって、キャリヤ・ガスが注入される通路を有する管状電極および第2の電極を含むプラズマ発生器によって少なくとも1つのプラズマ・ジェットを発生させる工程を含み、プラズマ・ジェットが、雰囲気のガス状媒質よりも低いイオン化エンタルピーを有するキャリヤ・ガスもしくはキャリヤ・ガス混合物の流れの中で放電によって作り出され、電極として機能するプラズマ・ジェットと第2の電極間に生じる放電が非自立性であり、かつ表面を処理するための活性ガスで本質的に形成されるプラズマを作り出し、放電を作り出す電場の強度Eが条件、すなわち
(JnQ/e)キャリヤ・ガス≦E≦(JnQ/e)雰囲気ガス
を満足させ、
ここでJはガス粒子の活性化のエネルギーであり、
nはこのガスの粒子密度であり、
Qは電子とこのガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、
eは電子の電荷である方法。 - 表面を処理するためのプラズマが、キャリヤ・ガスもしくはキャリヤ・ガス混合物Q1とは異なるガスもしくはガスの混合物Q2、Q3の中で形成されることを特徴とする、前記請求項のいずれか1項に記載の方法。
- プラズマが単極性または二極性の電気パルスによって作り出され、パルスの立ち上がりの持続時間、パルスの持続時間およびパルス間の経過時間が調節されることを特徴とする、前記請求項のいずれか1項に記載の方法。
- 雰囲気プラズマによる表面処理のための装置であって、少なくとも2つの電極を含み、電極のうちの一方がキャリヤ・ガス供給システムから供給されるキャリヤ・ガス用の中央流路を形成するチューブとして設けられ、電極が、条件すなわち
(JnQ/e)キャリヤ・ガス≦E≦(JnQ/e)雰囲気ガス
を満足させる強度Eを有する放電を作り出す電場を制御するように構成された電源回路に接続され、
ここでJはガス粒子の活性化のエネルギーであり、
nはこのガスの粒子密度であり、
Qは電子とこのガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、
eは電子の電荷であり、
さらにキャリヤ・ガス供給システムを含み、各電極がキャリヤ・ガス用の中央流路を形成するチューブとして設けられる装置。 - 雰囲気プラズマによる表面処理のための装置であって、0°から180°の範囲の角度で交差する軸を有するチューブとして設けられた少なくとも2つの電極を含み、条件すなわち
(JnQ/e)キャリヤ・ガス≦E≦(JnQ/e)雰囲気ガス
を満足させる強度Eを有する放電を作り出す電場を制御するように構成された電源回路が電極に接続され、
ここでJはガス粒子の活性化のエネルギーであり、
nはこのガスの粒子密度であり、
Qは電子とこのガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、
eは電子の電荷である装置。 - 管状電極の軸の交点が処理対象表面よりも下に配置され、それが電極から出るプラズマ流を処理対象表面に沿って流れるように推進することを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- ガス流のうちの1つまたはいくつかが円筒状または平坦なノズルから方向付けられ、処理対象表面に衝突する活性ガスの組成を変えるような方法で、処理対象表面の方向で管状電極の間に位置決めされることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 櫛を形成するような方法で管状電極の複数対が線に沿って配置され、処理される目標物の広い表面を掃引することを可能にすることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 電極間の角度および電極間の距離を調節するための手段を含む、前記請求項のいずれか1項に記載の装置。
- 管状電極を経由して導入されるガス、プラズマ・ジェット間に導入されるガスの流量、電極間の電流および電圧降下の大きさを調節するための手段を有する、前記請求項のいずれか1項に記載の装置。
- 処理される材料の表面への電極の距離を調節するための手段を有する、前記請求項のいずれか1項に記載の装置。
- 管状電極が、それらの軸が互いに平行になるような方法で位置決めされる、請求項11に記載の装置。
- 複数の縦方向チューブのシステムがハニカムとして設けられ、キャリヤ・ガスの流速の分布に特異的なプロファイルを与えるように変化する長さを有するチューブが、電極から発射されるプラズマ流中の乱流を回避するように設計される、請求項11に記載の装置。
- 管状電極の間に注入されるガス流が放射状にかつプラズマ・ジェットの方向に方向付けられることを確実化するために電極間に放射状の穿孔を備えたノズルが設けられる、請求項11に記載の装置。
- 三相電源から供給を受ける3つの管状電極を含み、キャリヤ・ガスがそこから等距離の同軸のチューブを経由して供給されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 冷却された磁場発生器が電極間に設けられ、処理される表面に対して直角の磁場を作り出すことを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 放電を作り出すための電源が直流電源であることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 放電を作り出すための電源が三相交流電源であることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 放電を作り出すための電源が、立ち上がり、持続時間および周波数が調節可能なパルスを発生する電源であることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 管状電極が、同軸の金属チューブによって取り巻かれた誘電性材料で作製されたチューブとして設けられ、高周波電源によって電力供給され、かつプラズマ・ゾーンに向けて方向付けられたガスによって冷却されることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- キャリヤ・ガスの流れを処理対象ゾーンに合焦させるために、管状電極が円錐のチューブとして設けられることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 電極のスポットによって作り出される熱を分散させるような方法で、管状電極が外部から冷却され、内部にチューブのリングを装着されることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 処理される表面にプラズマを押しつける流体力学的な力を処理対象表面上に衝撃波を作り出すことによって増大させるために、管状電極が超音波ノズルもしくはLavalノズルとして設けられることを特徴とする、請求項10または11に記載の装置。
- 第2の電極が、管状電極に関して同軸に配置された先端を切り取った中空の円錐として設けられることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 第2の電極がロッドとして設けられることを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 親水性または疎水性の特性を与えるために織物材料を処理するための前記請求項のいずれか1項に記載の装置の使用法。
- 親水性または疎水性の特性を与えるためにセラミック材料を処理するための前記請求項のいずれか1項に記載の装置の使用法。
- 外科手術時の医学−生物学的組織の血液焼灼のための前記請求項のいずれか1項に記載の装置の使用法。
- 火傷からのリンパ液の滲出を止めるための前記請求項のいずれか1項に記載の装置の使用法。
- 塗料、接着剤、または他の物質に対する接着性を上げるために金属目標物、弱導電性目標物、および誘電性目標物の表面を活性化するための前記請求項のいずれか1項に記載の装置の使用法。
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