JP2010516362A - バイポーラ装置及び組織の電気手術治療法 - Google Patents

Abstract

本発明は、バイポーラ装置及び組織の電気手術のための方法に関する。当該装置は、高周波電流を生成する高周波生成器に接続されて、少なくとも第１の電極及び第２の電極を備え当該第１の電極と当該第２の電極の間で電気アークを形成する装置の遠位末端に設けられた電極手段と、当該アークが保護ガス雰囲気下で形成され得るように少なくとも当該第１の電極と当該第２の電極との間の空間にアルゴン等の不活性ガスを供給するための少なくとも１つの管腔を有するパイプ、チューブ状のプローブ等のガス供給手段と、を有し、当該第１の電極及び当該第２の電極は、組織が、少なくとも部分的に当該アークによって生成された熱によって無電流で加熱される態様で互いに対して配されている。当該装置（及び方法）は、組織へのダメージを可能な限り除去して、処理が可能な限り単純かつ効率的に行われることを可能とすることを目的としている。

Description

本発明は、バイポーラ装置及び組織の電気手術治療法に関する。

電気手術装置は、高周波手術において、特に生体組織を凝固させるためだけではなく生物組織を切除するためにも長年使用されてきた。凝固処理において、高周波電流は、処理されるべき組織内を流れ、当該処理されるべき組織は、タンパク質凝固及び脱水の故に変化せしめられる。この場合、当該組織は、血管が閉じて出血が止まる態様において収縮する。切除処理は、高周波電流によっても可能である。

電気手術処理は、モノポーラ的及びバイポーラ的の両方で行われ得る。モノポーラ技術の場合において、電気手術装置は、単一の電流源しか有さないので、処理されるべき組織（すなわち患者）は、他の電位にされる（中立電極の利用）べきである。しかし、重要性が上昇しているのは、互いに電気的に絶縁されている２つの部分を有するバイポーラ装置である。２つの電極の間の電流経路は、計算可能であるので、患者の体にさらに拡大しない。このことは、例えば、手術中において、患者に接続されているペースメーカーや他の装置への影響を減少させる。

保護ガスの使用、特にアルゴンプラズマ凝固法（ＡＰＣ）における使用は、組織の非接触凝固を可能とし、効果的に止血して組織を失活させる。このタイプの凝固において、不活性作動（working）ガス、例えばアルゴンは、アルゴン計量及び誤差監視のために、アルゴンプラズマ凝固装置からガス供給手段を通って処理されるべき組織へ到達する。この目的のために、ガス供給手段は、ＡＰＣプローブ（probe）を有し、高周波電流を当該プローブの遠位末端に供給するために、当該ＡＰＣプローブ内に電極がさらに組み込まれる。当該電極は、治療中に組織に接触しないように、プローブ内またはプローブ上に配される。作動ガス及び高周波電圧の使用によって、プローブの遠位末端と組織との間にプラズマが生成され得、当該プラズマを介して組織に電流が加えられる。アルゴンプラズマ凝固は、組織の過度の炭化を防止し、煙の生成及び不快な臭気も防止する。

ＡＰＣによる処理は、通常は、モノポーラ装置を使用して行われる。その場合、本明細書において上述されているように、電流は、患者の体を通り抜けて入力点から中立電極までの長い距離に亘って流れる。さらに、中立電極の不適切な使用は、患者の深刻な火傷を引き起こし得る。上述したバイポーラ装置は、電流が２つの電極部分の間にしか流れないため、より穏やかな効果を奏するが、この場合においても、組織を損傷するリスク及び体に不必要な電流を導いてしまうリスクが存在する。

モノポーラＡＰＣの使用の他の欠点は、例えば、パルスモードにおける神経と筋肉の刺激を含む。手術による影響は、プローブの容量負荷（例えば、内視鏡の長さ）にも依存する。

原理上は、処理されるべき組織への電流の導入を調節することは、常に困難である。従って、望ましくない凝固または切除が、しばしば起きてしまう。さらに、導入電流は、複雑な手段を用いてのみ監視可能である。表面において、一様な凝固ゾーンを形成するのは難しく、良好な制御性を達成するのは困難である。

本発明の目的は、バイポーラ装置及び組織の電気手術治療法を提供することであり、当該治療法は、治療中に、組織へのダメージを可能な限り避けることが可能であり、当該治療は可能な限り単純かつ効率的に実行され得る。

この目的は、請求項１に記載の装置及び請求項１７に記載の方法によって達成される。

特に、装置に関して、この目的は、組織を処理する電気手術のためのバイポーラ装置によって達成され、
当該装置は、
高周波電流を生成する高周波生成器に接続されて、少なくとも第１の電極及び第２の電極を有しかつ当該第１の電極と当該第２の電極の間で電気アークを形成する当該装置の遠位末端に設けられた電極手段と、
当該アークが保護ガス雰囲気下で形成され得るように少なくとも当該第１の電極と当該第２の電極との間の空間にアルゴン等の不活性ガスを供給するための少なくとも１つの管腔を有するパイプ、チューブ状のプローブまたは同様のガス供給手段と、
を有し、
当該第１の電極及び当該第２の電極は、組織が、少なくとも部分的に当該アークによって生成された熱によって無電流で加熱される態様で互いに対して配されている。

本発明の重要な点は、当該装置が、特に、治療の進んだ段階において、組織内に電流が導入されることを実質的に防止することにある。当該装置は、処理されるべき組織へ狙い通りに熱を持ち来たし、必要な熱の導入が組織に優しい正確な態様で行われる。従って、モノポーラＡＰＣ装置及びバイポーラ装置の利点が組み合わされ、同時に、以前にあった処理されるべき組織内への電流の導入の意図が可能な限り解消される。

保護ガスに周りを掃かれている互いに対向する電極の場合は、アーク（用語の真の意味において）の形成が許容され得る。アークの所定の「突出（bulge）」は、この場合、供給された保護ガス及びガスの流れに起因する。さらに、流れのメカニズム的要因（層流、乱流）に加えて、原子物理的（イオン化、電場内の自由電子による衝突励起）及び熱的要因も関与する。従って、例えば、ガスの熱励起は、アークの弓形形成を生起する複数の点における点弧（ignition）を確実にする。どのような場合においても、処理されるべき組織に対するアークの突出は、当該組織への熱移動を促進し、処理を容易とする。

電極と組織の表面との間の間隔（オペレータによって決定されるアプリケータ（applicator）間隔）が、設計によって規定された電極の末端間の間隔よりも小さい場合、各々の電極の末端から組織に向けて２つのアークが形成される。このことは、組織の表面において局部的な非常に限定された電流を生み、内因性の熱を生成する。しかし、局部限定によって、効果は極めて表面に止まり続ける。電極が組織の表面に付着した場合であっても、一方で、ＡＰＣで使用される高電圧の故に小さなアークが形成され、他方では、波高因子の故に切断には影響されない（従って、凝固は非常に表面的である）。小さなアプリケータ間隔においては、組織における内因性の熱及び外因性の熱の影響が混合して存在する。

本発明による装置は、（熱の原理によって）迅速にコンマ数ミリメータの貫通深さを提供し、当該貫通深さは、比較的長い時間に亘るさらなる処理経過を経ても、著しく増大することはない。従来の方法において（組織への電流導入）は、不必要な深さの失活が生起され、処理領域に隣接する領域内においても組織がしばしば破壊される。

第１の好ましい実施例において、当該電極が当該装置の遠位末端に設けられかつ配され、当該電極が少なくとも１つの管腔（lumen）及び／または少なくとも１つの絶縁層によって互いに隔離させられ、当該２つの電極の少なくとも１つの遠位末端の各々がアクティブ領域を形成して第１の電極と第２の電極との間でアークが形成され得る。

少なくともガス供給手段（パイプまたはプローブ）は、一般的にプラスチック材、セラミックまたは同様の絶縁材で形成されるので（全ての実施例に対して可能）、少なくとも１つの絶縁層は、当該手段すなわちパイプまたはプローブによって形成され得る。従って、例えば、電極は、当該ガス供給手段すなわちパイプまたはプローブ内に埋め込まれ得る。

当該電極が、特定の領域すなわちアクティブ領域内のみでアークを形成することを目的としている故に、当該電極は、さらに、特に、電気的に互いに絶縁されるべきである。管腔内の電極の単純な配置は、間隔を許容するので、アークの形成が回避される。しかし、アークの形成は、間隔の大きさ及び加えられた電圧に依存する。望まれない領域におけるアークの形成を回避するために、絶縁層が、当該アクティブ領域のみがアークの形成に利用可能な様に電極間で好ましく形成されるべきである。当該アクティブ領域を形成するために、例えば、適切な電圧において当該アクティブ領域間でアークが形成され得る様に、当該電極が絶縁層から突出している。

好ましくは、当該電極は、管腔内に、当該装置が伸張している方向（すなわち軸方向）において互いに対向して配される。当該電極は、ガス供給手段の管腔及び少なくとも１の絶縁層によって互いに分離して配される。当該ガス供給手段、すなわちパイプまたはチューブ等は、一般的に、プラスチック材、適切な場合はセラミックで形成されるので、当該電極は、この絶縁パイプまたはチューブ内に配され得る。この実施例において、当該２つの電極は、例えば互いに直径方向において対向するように、当該パイプまたはチューブの内部側面に固定され得る。当該電極は、例えば当該内部側面に、追加的な絶縁層である接着層によって固定され得る。当該接着層は、当該アクティブ領域の外部の当該電極間でアークが形成されない様に設けられる。当該電極は、この目的のために提供された凹部内、例えば当該パイプのスリーブ内に配され、当該電極の遠位末端間でアークが形成され得る様に、当該アクティブ領域が当該パイプから突出する。当該ガス供給手段のチューブ構造は、保護ガスが少なくとも当該電極のアクティブ領域へ供給されることを許容する。電極の接着結合は、当該電極を固定しかつ互いに絶縁するための単純で経済的な手段である。

他の実施例において、電極は管腔内に配され、各々の場合において、絶縁層内に当該手段の伸張方向において互いに対向して分離されて設けられる。この場合、ガス供給手段が、上述のように絶縁ベッド（insulation bed）を形成するかまたは電極が管腔内に明確に覆われて「懸架」される。

第１の電極は、管腔内に当該装置の伸張方向に配され、第２の電極は、当該第１の電極から分離してかつ当該第１の電極と同軸に設けられるのが好ましい。管腔内において、当該電極が所望のアクティブ領域以外で互いに隔離されるように、少なくとも１の絶縁層が設けられるのが好ましい。この目的のために、当該第１の電極が絶縁層によって囲まれ得るかまたは当該第２のチューブ状電極が、当該チューブ状のガス供給手段内に組み込まれ得るので、当該第２の電極は当該第１の電極から絶縁される。電極の同軸構造（ピン電極、パイプ電極または環状電極）によって、適切な場合、アークの枝分かれ（branching）が達成され得、より大きな前面部が熱の生成に使用可能となる。

好ましくは、当該ガス供給手段は、互いに隔離されている少なくとも２つの管腔を含んでおり、電極が各々の管腔に設けられて、当該手段の伸張方向において、互いに分離されている。２つの管腔が組み込まれている装置は、単純な方法で電極を配することを可能とし、当該２つの管腔（適切ならば３以上）を介して、保護ガスに加えて、例えばすすぎ液を含む異なった流体を同時に供給可能である。

当該電極（特にそのアクティブ領域）は、互いに平行に設けられ得る。他の実施例において、当該電極は、少なくとも当該電極の遠位末端が互いに発散するように（すなわち互いに離れるように曲げられて）配されて、組織に向けられる細長いアークを形成する様に設けられる。電場の変化を受けて、アークの処理される組織の方向における「突出」「フォワード（forward）」が変化するので、オペレータは、当該手段を（特に内視鏡使用下において）組織に近づけすぎてはならない。

好ましくは、当該電極の遠位末端は、管腔（単数または複数）の外側に配されるすなわち当該遠位末端が、当該ガス供給手段から突出している。従って、アークは、当該電極と組織との間の自由空間内で形成され、アークの熱は、組織に向かってスムーズに伝達され得る。

代替的に、当該電極の遠位末端を、管腔（単数または複数）内に配することも可能であり、アークは、少なくとも部分的に当該管腔(単数または複数)内に形成され得る。好ましくは、当該装置の遠位末端におけるガス供給手段は、排出開口部を有し、当該排出開口部は、アークによって生成された熱が、処理されるべき組織に持ち来され得るように設けられる。従って、この場合、当該電極は当該装置から突出しておらず、当該ガス供給手段内に保護されるように設けられている。当該装置自体または遠位末端は、スペーサとともに提供されるので、当該電極が組織と接触するのは不可能である。この場合、当該装置の取り扱いは容易となる。何となれば、当該装置のどんな不適切な扱いがあっても、電極と処理されるべき組織との直接的な接触が防止され得るからである。

特に、この実施例においては、当該ガス供給手段がアークによって生成された熱が処理されるべき組織に持ち来され得る様に設けられる排出開口部を、遠位末端において有することが有利であり得る。このことは、例えば、当該装置が、側面凹部を有して、さらに良好な熱移動を可能とすることを意味する。この目的に対し、当該装置は、遠位末端において穴を開けられるかまたは互いに分離されたウェブ（web）もしくは同様の格子状の構造を有するようになされる。

１つの好ましい実施例においては、スペーサが当該遠位末端に設けられて、当該装置が処理されるべき組織から所定の間隔を保ち得るようになされる。このことは、一方では、組織との直接的な接触（電流の制御不能な流れ込み、組織の火傷、組織への当該電極の焼き付き）を防止し、他方では、（適切ならば）アークと組織との間の十分な間隔を提供する。従って、当該スペーサのサイズは、アークと組織との間の熱移動に適切な間隔を保証するようになされる。例えば、当該スペーサは、当該装置と一体的に（ワンピースで）接続されるかまたは必要ならば当該装置に取り付けられ得る。

特定の試みは、電極の互いの絶縁及びその結果としてもたらされた装置容量並びに絶縁材または絶縁層内で起こる誘電性損失によってなされる。このことは、内視鏡用途のプローブに特に適用される。好ましくは、この目的のために、電極の相対的な配置が補償されるべく発生する容量効果を許容する態様で、高周波生成器の出力フィルタが設けられる。すなわち、特に、比較的小さい上限容量及び適切ならば同軸に形成されたプローブは、フィルタに含まれ得かつ補償され得る。

上述されたように、バイポーラ装置は、内視鏡用途に適するようになされ得る。例えば、侵襲の少ない処理の場合、当該装置は、少なくともガス供給手段が作業領域に、例えば、人体の開口部を通っている内視鏡装置の管（channel）通して達し得るようになされる。検査されるべき臓器内または体の空洞内へ挿入されている内視鏡は、好ましくは複数の管を有している柔軟なまたは剛体のパイプである。従って、上述された（ＡＰＣ）プローブに加え、様々な作業手段、例えば追加の手術装置を、通常は複数の管腔を有する内視鏡を介して作業領域まで持ち来すことが可能である。さらに、当該管腔を介して、すすぎ、吸引抽出または組織サンプルを採取することが可能である。さらに、当該内視鏡は、撮像手段で処理をモニタリングすることを可能とすべく光学システムを有する。

しかし、本発明による装置を、観血的手術に使用可能なようになすこともできる。この場合も、当該装置は、導入される電流の減少または完全なる除去の故に、患者が最小限のストレスしか受けないという利点を提供する。

好ましくは、磁気吹き消し手段、特に吹き消し磁石が当該装置に設けられ、組織に向けられ得る細長いアークが形成される。すなわち、比較的弱い場合であっても、磁界は、電流の周波数及び突出（同期ＡＣ磁界における）に対応した速度でのアークの電極への移動を発生させ得る。当該配置は、ローレンツ力を一定に維持するため（及びそれによって組織に向かった方向の突出を可能とするため）に当該磁界が特定の電流交番周波数で振動するようになされねばならないであろう。このことは、電磁石を使用することで実現され得る。従って、組織の方向へアークを前進させることが可能となり、当該装置を組織に近づけ過ぎる必要無しに組織を熱することが可能である。

１つの実施例において、電源（すなわちこの場合は高周波生成器）は、アークの形成に必要な電流を制御するための制御手段を配することが可能なようになされ、当該制御手段は、自動的に制御された処理シーケンスのために電流が制御されるかまたは調整され得るようになされる。このことは、検出されたアークに応じてまたは検出された電流値に応じて電流が制御または調整され得るように、当該制御手段に配され得るアークモニタ及び／または電流モニタによって行われるのが好ましい。従って、例えば、対応するさらなる制御は、当該アークの検出に基づいて制御または調整され得、オペレータは、この点に関して判断をする必要がない。

方法に関しては、バイポーラ装置を用いた組織の電気手術治療のための方法において目的が達成され、当該装置は、高周波電流を生成する高周波生成器に接続されて、少なくとも第１の電極及び第２の電極を有する当該装置の遠位末端に設けられた電極手段と、パイプ、チューブ状のプローブもしくは同様の管腔を有するガス供給手段と、を有し、以下のステップが提供される。
当該ステップは、
−治療されるべき組織まで当該装置を持ち来すステップ、
−当該電極手段によって当該組織が治療され得るように当該装置を位置決めするステップ、
−少なくとも第１の電極と第２の電極との間の間隔にアルゴンまたは同様の不活性ガスを当該ガス供給手段によって供給して、当該第１の電極と当該第２の電極との間において、アークを不活性ガス雰囲気下で形成するステップ、
−第１の電極と第２の電極との間で電気アークを形成して、少なくとも部分的に当該アークによって生成された熱によって電流無しの態様で当該組織を熱することが可能であるステップ、である。

本発明による装置の使用において、この方法は、組織を困難性無く熱すること及び組織を所望の程度まで失活させることを可能とする。適切ならば、組織の湿性を保ちつつ電流の導入を僅かにするように形成されることも許容され、アークが、電極と組織との間に発生させられ得る。最近の進んだ段階の治療において、組織が一度部分的に乾燥してしまうと、導入される電流は著しく減少し、適切ならば電流は完全に除去される。処理されるべき組織は、アークによって発生した熱によって単に失活、例えば凝固する。

主に電極間に生成されるアークの程度は、電極間及び電極と組織との間の間隔に依存する。本明細書において上述したように、スペーサは、所望の処理に従った間隔を保つ働きをすることが可能であり、オペレータは、過度に精密な方法で当該装置を扱う必要がない。

本発明の他の実施例は、従属請求項によって明らかになる。

本発明は、図面を参照してさらに詳しく説明される実施例に基づいて以下に説明される。

図１は、電流接続手段及び把持手段を有する本発明による装置の実施例を示す図であり、当該装置は、内視鏡の管に案内されかつ電源及びガス源に接続されている。 図２は、図１に示された本発明による装置を示す図であり、当該装置の遠位末端の断面図である。 図３は、図２に示された装置の遠位末端を示す図であり、図２のIII−III線に沿った断面図である。 図４は、本発明による装置の他の実施例を示す図であり、当該装置の遠位末端の断面図である。 図５は、図４に示された装置の遠位末端を示す図であり、図４のV−V線に沿った断面図である。 図６は、本発明による装置の他の実施例を示す図であり、当該装置の遠位末端の断面図である。 図７は、図６に示された装置の遠位末端を示す図であり、図６のVII−VII線に沿った断面図である。 図８は、本発明による装置の他の実施例を示す図であり、当該装置の遠位末端の断面図である。 図９は、図８に示された装置の遠位末端を示す図であり、図８のIX−IX線に沿った断面図である。 図１０は、電極手段の図である。 図１１は、吹き消し磁石を有する電極手段の図である。 図１２は、本発明による装置の使用における組織の失活の深さを示す図である。 図１３は、従来技術による装置の使用における組織の失活の深さを示す図である。

以下の説明において、同一の参照符号は、同一及び対応する部分に使用される。

図１は、本発明による装置１０の実施例を示しており、装置１０は、電流接続手段４１及び把持手段４０を装置１０の近位端に有しており、当該装置は、電源４２及びガス源９０に接続されている。

本発明による装置は、組織１１０を処理することを許容し、電極手段の第１の電極２０と第２の電極２１との間において、アークＬが形成されて、それによって生成された熱によって組織１１０が失活させられる。この目的のために、電極２０、２１は、電極２０、２１の所望のアクティブ領域２０ｂ、２１ｂの間でアークＬが形成されるように装置１０の遠位末端１１に配される。この実施例において、当該電極は、互いに離間して配され、互いに平行である。この平行配置は、弓形のアークの形成を可能とし、これによって組織への熱の移動が容易となる。

好ましくは、装置１０は、ガス供給手段１３有し、それによって、アークＬは、保護ガス（例えばアルゴン）雰囲気において、供給可能な保護ガスによって点弧可能である。この実施例において示されているように、パイプ形状またはチューブ状態様で当該装置が構成された場合、当該パイプまたはチューブは、ガス供給手段１３を形成する。従って、保護ガスは、電極２０、２１の周囲を掃き、アークＬは、安全保護ガス雰囲気下で発生する。例えば、このことは、アーク点弧領域から、体の空孔内にある爆発性のあるガスを隔離し続けるために必要である。アルゴン等である当該ガスは、適切ならば対応する手術手段を介して装置１０に接続されているガス供給源９０からもたらされる。

この実施例において、当該装置は、内視鏡１００の作動管１０１内に挿入され、それによって、処理されるべき組織１１０に体の開口を通って持ち来されることが可能である。従って、低侵襲性治療において、患者の体を切開する必要が無い。しかしながら、当該装置は観血的手術にも使用可能である。

図に示されているように、電流接続手段４１は、（当該装置の操作性を向上させるために）把持手段４０に配されている。装置１０は、電流接続手段を介して高周波電流を生成する高周波生成器４２に接続され得る。高周波生成器４２は、制御手段８０に接続され、電流が制御されて、適切ならば自動的に処理シーケンスが進行し得るように構成される。アークの形成も検知され、処理シーケンス（電流制御、電圧制御）のさらなる制御が可能となる。

装置１０は、当該装置１０の遠位末端において電極手段を有し、電極２０の遠位末端２０ａ、２１ａは、パイプまたはチューブから突出して、装置１０の伸長方向Ｅすなわち軸方向に沿って伸長している。従って、電極の端部は、互いに平行に配され、アークＬがそれらの間で点弧され得る（当該点弧は、電極のアクティブ領域でなされる）。これによって発生した熱は、例えば、組織を凝固させるべく使用される。この様にして、従来装置を使用した電流の狙いを付けた導入の場合よりも組織に対する失活深さ（貫通深さ）を非常に浅くすることが可能となる。これに関して、特に、図１２と図１３とを比較する。図１２は、例えば、（熱の利用に注目した）本発明による装置を使用した場合の時間ｔに亘る（典型的な）組織内への凝固の深さを示している。図１３は、狙いを付ける態様で組織に電流が導入されている従来技術による装置の貫通特性を示している（この場合も、失活深さまたは貫通深さは時間ｔに亘って示されている）。本発明による装置が、組織への損傷を少なくしつつ、効果的かつ非常に穏やかな態様で処理を行うことを可能とすることが明確である。凝固の進行は、さらに正確に予測され得、組織内の熱の生成も効果的に調節され得る。

電極２０、２１及び組織１１０の間のアーク形成が回避されるべきなので、当該組織から装置１０までの所定の間隔が必要となる。このことは、スペーサ５０によって単純な方法で行われる。スペーサ５０は、例えば、装置１０の遠位末端１１に（すなわち原理的にはガス供給手段に）取り付けられ得るので、オペレータは、過度に精密な態様で当該装置を操作する必要はない。

スペーサ５０は、装置１０と一体的であるかまたは明確な部品として提供され得る。適切ならば、当該スペーサは、排出開口部６０または同様の送り穴（perforation）もしくは凹部を有し得、熱がそれらを通って移送され得る。

図２は、図１に示された本発明による装置１０を示しており、装置１０の遠位末端１１が断面で示されている。この図において、電極配置がさらに詳細に示されている。従って、第１の電極及び第２の電極２０、２１は、当該装置のパイプまたはチューブの内側面おいて、正反対に配されている。装置１０内の電極２０、２１の相互干渉を除去するために、当該電極は、絶縁層３０内に設けられている。この電気的かつ全体的に熱的絶縁性も有する絶縁層は、例えば、接着層であっても良く、当該接着層によって電極が当該パイプまたはチューブの内表面に接着される。

アークＬを形成するために、電極２０、２１のアクティブ領域２０ｂ、２１ｂが絶縁されずにパイプから突出している。

図２に従って、電極２０、２１は、当該電極の間に、ガスを供給するための管腔１４が含まれるように、互いに配されている。当該管腔を通って、ガス（アルゴン等）が供給され得、当該電極の周囲を掃く。当該保護ガスは、特に、電極２０、２１の遠位末端２０ａ、２１ａの周囲を掃くので、本明細書において後述されるように、アークは保護ガス雰囲気内で形成される。当該管腔内に表示されている矢印は、流体の供給方向を示している。

図３は、装置１０の遠位末端１１の、図２のIII−III線に沿った断面図である。接着層３１（または任意の他のタイプの絶縁体）が、この場合、パイプの遠位末端の内表面を完全に覆うので、当該電極は、アクティブ領域から隔離されて当該層の中に設けられる。

当該パイプまたはプローブ、すなわちガス供給手段内に凹部を設けることも可能であるので、当該電極は、当該ガス供給手段の絶縁材内に挿入され得かつそこから当該装置の長手方向Ｅに伸長し得る。

図４及び図５は、図２及び図３に示された実施例と同様の実施例を示している。これらの図は、各々、装置１０の遠位末端１１、各々が絶縁層３１、３２によって覆われかつ装置１０の管腔１４内に伸長方向Ｅにおいて配されている２つの電極２０、２１、を示している。当該覆われた電極は、パイプの内部に、例えば保持要素で固定され得、例えば、互いに直径方向に対向して配され得る。これは、図４のV−V線に沿った断面を示している図５から特に明らかである。この場合も、当該電極のアクティブ領域２０ｂ、２１ｂは、アークを形成するために当該装置から突出している。当該パイプすなわちガス供給手段は、それ自体が絶縁層３０を形成する。

図１から図５に示された実施例は、当該電極の端部間において明確に画定された態様でアークが形成されることを可能とする。

図６は、本発明による装置１０の他の実施例を示しており、装置１０の遠位末端１１が断面で示されている。図７は、図６に示された装置の遠位末端を、図６のVII−VII線に沿った断面図で示している。電極２０、２１の同軸配置は、この実施例において提供され、第１の電極２０が、装置１０のパイプ１３すなわちガス供給手段内の実質的な中心に配され、第２のチューブ状の電極２１は、当該第１の電極と同軸にかつ当該第１の電極と間隔を空けて配される。当該間隔の故に、ガスを供給するために必要な管腔１４が、２つの電極２０、２１の間に含まれる。第２の電極２１は、絶縁体３０で形成されたプローブ内に設けられるので、電極２０、２１の遠位末端２０ａ、２１ａの以外では、当該電極間の相互作用は発生し得ない。

図８は、本発明による装置１０の他の実施例を示しており、当該装置の遠位末端１１が断面で示されている。図９は、図８に示された装置の遠位末端を示しており、図８のIX−IX線に沿った断面を示している。当該配置においては、楕円断面を有するプローブ（図９参照）が示されており、２つの管腔１４、１５が、絶縁体３０で形成されたプローブ内に設けられている。当該２つの管腔が各々絶縁層３１、３２によって取り囲まれているので、各々の管腔１４、１５に案内された電極２０、２１は、互いに絶縁されている。当該管腔内で当該電極を固定するために、当該管腔は、らせん状領域を有し、当該管腔内に当該電極を各々、絶縁被覆３１、３２に固定可能である。従って、当該電極は、当該装置内にしっかりと固定される。

複数の管腔は、例えば、様々な流体すなわちすすぎ液等を作業領域へ持ち来すことを許容する。特に、当該電極は、互いに明確に離れて配されて絶縁される必要はない。何となれば、絶縁は、どんな場合においても当該２つの管腔によって提供されるからである。

さらに、同軸配置される第１の電極２０（図６及び図７）も、らせん状領域によって装置内に固定可能である。

当該電極は、全ての実施例において、電力供給手段すなわち供給ライン（または放電ライン）４３、４４に接続され、高周波生成器に接続され得る。

図１０は、当該電極の端部２０ａ、２１ａの概略図であり、当該端部は、当該端部のアクティブ領域２０ｂ、２１ｂにおいて、互いに発散していくように配されている。従って、組織１１０方向において、上述した配置（電極の互いに平行に配されている遠位末端）に比べて細長いアークＬを形成することが可能であるので、組織への熱移動が単純化される。

図１１は、単純な形式で、組織方向において細長いアークの形成の他の可能性を示している。この目的のために、ローレンツ力が、処理されるべき組織１１０に向かうアークＬの形成を生起させるように、磁石７０が装置１０または当該装置の遠位末端１１に配される。電磁石は、交流電流の場合であっても、アークが所望の方向に突出することをローレンツ力が許容することを保証する。従って、磁気吹き消し手段７０は、アークの画定された形成を可能とする。

上述の検討が明らかにしたように、電気手術装置は、電流の導入を大きく減少させつつ組織が処理されることを許容し、本発明による装置によって生成された熱のみが使用される。このことは、組織の高い程度のかつ不必要な火傷及び失活現象を防止可能である。適切ならば、組織の保湿しつつ、処理開始において、組織への極めて少ない電力の導入が許容されるべきである。さらなる処理においては、主にアークによって生成された熱によってさらなる失活が許容され得る。

さらに、図面内に示されたハッチングは、材料の性質を示すことを意図していないことに注意すべきである。例えば、１つの電極は（通常は、他の電極と同一の材料で形成されるが）、他の電極が単に実線でハッチングされている一方で、破線及び実線のハッチングで示されている。このことは、第１の電極及び第２の電極の識別を可能とすることを目的としている。当該装置を形成するために必要な絶縁層は、例えば、プラスチック材またはセラミックで形成され得る。この場合、当該絶縁層は、主に電気絶縁性及び全体的に熱絶縁性を有する材料で形成される。

１０ 装置
１１ 装置の遠位末端
１２ 装置の近位端
１３ 装置のガス供給手段（パイプ、チューブ）
１４ 管腔
１５ 管腔
２０ 第１の電極
２０ａ 第１の電極の遠位末端
２０ｂ アクティブ領域
２１ 第２の電極
２１ａ 第２の電極の遠位末端
２１ｂ アクティブ領域
３０ 絶縁層
３１ 絶縁層
３２ 絶縁層
４０ 把持手段
４１ 電流接続手段
４２ 電源、高周波生成器
４３ 供給ライン、電流供給手段
４４ 供給ライン、電流供給手段
５０ スペーサ
６０ 排出開口部
７０ 磁気吹き消し手段
８０ 制御手段
９０ ガス供給源
１００ 内視鏡
１０１ 装置の導管
１１０ 組織
Ｅ 装置の伸長方向
Ｌ アーク
ｔ 持続時間

Claims (17)

1. 組織（１１０）の電気手術治療のためのバイポーラ装置であって、
   高周波電流を生成する高周波生成器に接続されて、少なくとも第１の電極（２０）及び第２の電極（２１）を備え前記第１の電極と前記第２の電極との間で電気アークを形成する前記装置（１０）の遠位末端（１１）に設けられた電極手段と、
   少なくとも１つの管腔（１４）を有し、少なくとも前記第１の電極（２０）と前記第２の電極（２１）との間の空間内にアルゴンまたは同様の不活性ガスを供給し、保護ガス雰囲気下で前記アーク（Ｌ）を形成し得るパイプ、チューブ状プローブまたは同様のガス供給手段（１３）と、を含み、
   前記第１の電極（２０）及び前記第２の電極（２１）は、前記組織が少なくとも部分的に、前記アーク（Ｌ）によって生成された熱によって電流無しの態様で熱せられ得るように互いに配されていることを特徴とする装置。
2. 請求項１記載のバイポーラ装置であって、前記電極（２０、２１）が、少なくとも１つの管腔（１４）及び／または少なくとも１つの絶縁層（３０、３１、３２）によって互いに離間して配されるように前記装置（１０）の前記遠位末端（１１）に配されかつ設けられ、少なくとも前記電極（２０、２１）の遠位末端（２０ａ、２１ａ）が、前記アーク（Ｌ）が前記第１の電極（２０）と前記第２の電極（２１）との間に形成され得る態様でアクティブ領域（２０ｂ、２１ｂ）を各々形成することを特徴とする装置。
3. 請求項１または２記載のバイポーラ装置であって、
   前記電極（２０、２１）が、前記管腔（１４）内に配され、前記装置（１０）の伸長方向（Ｅ）内において互いに対向しておりかつ前記ガス供給手段（１３）及び少なくとも１つの絶縁層（３０、３１、３２）によって互いに離間して設けられていることを特徴とする装置。
4. 先行する請求項の１つ記載のバイポーラ装置であって、前記電極（２０、２１）が、前記管腔（１４）内に設けられており、各々が絶縁層（３１、３２）に埋め込まれており、前記装置（１０）の伸長方向（Ｅ）において互いに対向しかつ互いに離間していることを特徴とする装置。
5. 先行する請求項の１つ、特に請求項１または２に記載のバイポーラ装置であって、前記第１の電極（２０）が、前記管腔（１４）内で前記装置（１０）の伸長方向（Ｅ）に設けられており、前記第２の電極（２１）が、前記第１の電極（２０）と同軸に、互いに離間して設けられ、前記管腔（１４）内において、少なくとも１つの絶縁層（３０）が、前記電極（２０、２１）が互いに分離されるように設けられていることを特徴とする装置。
6. 先行する請求項の１つ、特に請求項１または２に記載のバイポーラ装置であって、前記ガス供給手段（１３）が、互いに分離されている少なくとも２つの管腔（１４、１５）を含み、前記電極（２０、２１）が、前記装置（１０）の伸長方向（Ｅ）において、各々の管腔内（１４、１５）に配されて互いに離間して配されていることを特徴とする装置。
7. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、少なくとも１つの前記電極の前記遠位末端（２０ａ、２１ａ）が互いに発散していくように設けられて、前記組織（１１０）上に向けられ得る細長いアーク（Ｌ）を形成する様に前記電極（２０、２１）が設けられていることを特徴とする装置。
8. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、前記電極（２０、２１）の前記遠位末端（２０ａ、２１ａ）が、前記管腔（１４）または管腔群（１４、１５）の外側に設けられていることを特徴とする装置。
9. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、前記電極（２０、２１）の前記遠位末端（２０ａ、２１ａ）が、管腔（１４）または管腔群（１４、１５）の内側に設けられ、前記アーク（Ｌ）が、少なくとも部分的に前記管腔または前記管腔群内に形成され得ることを特徴とする装置。
10. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、前記ガス供給手段（１３）が、前記装置（１０）の前記遠位末端（１１）において、排出開口部（６０）を有し、前記排出開口部（６０）が、前記アーク（Ｌ）によって生成された熱が前記処理されるべき組織（１１０）に達し得るように設けられていることを特徴とする装置。
11. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、前記装置（１０）が、スペーサ（５０）が前記遠位末端（１１）に配され得るようになされ、前記装置（１０）が、前記処理されるべき組織（１１０）から所定の間隔を維持され得ることを特徴とする装置。
12. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、前記高周波生成器（４２）の出力フィルタが提供され、前記出力フィルタが、前記電極（２０、２１）の相対的な配置が、補償されるべく発生する容量効果を許容するようになされていることを特徴とする装置。
13. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、前記装置（１０）が、観血的手術において使用され得るようになされていることを特徴とする装置。
14. 先行する請求項の１つ、特に請求項１から１２のうちの１つに記載のバイポーラ装置であって、少なくとも前記ガス供給手段（１３）が、剛体のまたは柔軟な内視鏡（１００）の装置導管（１０１）を通って、前記処理されるべき組織（１１０）まで到達させられ得るように、前記装置（１０）がなされていることを特徴とする装置。
15. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、
    磁気吹き消し手段（７０）、特に吹き消し磁石が、前記組織（１１０）上に向けられ得る細長いアーク（Ｌ）を形成するように前記装置（１０）に設けられていることを特徴とする装置。
16. 先行する請求項の１つに記載のバイポーラ装置であって、
    前記高周波生成器（４２）は、前記アークを形成するために必要な電流を制御するための制御手段（８０）が配され得るようになされ、前記制御手段（８０）は、前記電流が自動的に制御された処理シーケンスのために制御または調整され得るようになされていることを特徴とする装置。
17. バイポーラ装置を使用して組織を電気手術する方法であって、
    前記装置が、
    高周波電流を生成する高周波生成器に接続されて、少なくとも第１の電極（２０）及び第２の電極（２１）を備える前記装置（１０）の遠位末端（１１）に設けられた電極手段と、
    少なくとも１つの管腔を有するパイプ、チューブ状プローブまたは同様のガス供給手段と、を有し、
    前記方法が、
    当該処理されるべき組織まで前記装置を持ち来すステップと、
    前記組織が前記電極によって処理可能なように前記装置を位置決めするステップと、
    前記ガス供給手段によって、少なくとも前記第１の電極と前記第２の電極との間の空間内にアルゴンまたは同様の不活性ガスを供給して、前記第１の電極と前記第２の電極との間において、保護ガス雰囲気下でアークを形成するステップと、
    前記第１の電極と前記第２の電極との間で電気アークを形成して、前記組織を、少なくとも部分的に前記アークによって生成された熱によって電流無しの態様で熱し得るステップと、
    を含むことを特徴とする方法。
    
    
    
    
    
    
    

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