RU2007129398A - Плазматрон атмосферного давления - Google Patents
Плазматрон атмосферного давления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2007129398A RU2007129398A RU2007129398/06A RU2007129398A RU2007129398A RU 2007129398 A RU2007129398 A RU 2007129398A RU 2007129398/06 A RU2007129398/06 A RU 2007129398/06A RU 2007129398 A RU2007129398 A RU 2007129398A RU 2007129398 A RU2007129398 A RU 2007129398A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- central electrode
- plasma
- electrode
- plasma torch
- torch according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
- H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
- H05H1/245—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated using internal electrodes
Claims (15)
1. Плазмотрон для плазменной обработки изделий, содержащий
продолговатый центральный электрод (2),
продолговатый цилиндрический наружный электрод (1), окружающий указанный центральный электрод и коаксиальный с указанным центральным электродом,
электрический изолятор (3), расположенный коаксиально между наружным электродом и центральным электродом, при этом между центральным электродом и электрическим изолятором образован разрядный канал, имеющий дальний конец и ближний конец,
подводящее отверстие (6), расположенное на дальнем конце разрядного канала, предназначенное для подачи плазмообразующего газа в разрядный канал,
источник питания (9) для создания напряжения между центральным электродом и указанным наружным электродом,
отличающийся тем, что электрический изолятор на ближнем конце выступает за пределы наружной поверхности наружного электрода в виде радиально расположенного кольца (20).
2. Плазмотрон по п.1, в котором электрический изолятор возле наружной поверхности наружного электрода дополнительно имеет выступающий участок (21), направленный в сторону дальнего конца.
3. Плазмотрон по п.1, в котором расстояние между наружной поверхностью центрального электрода и внутренней поверхностью электрического изолятора (4) лежит в пределах от 0,1 до 10 мм.
4. Плазмотрон по п.1, в котором источник питания (9) предназначен для создания напряжения переменного тока или напряжения прерывистого постоянного тока в пределах от 1 до 10 кВ.
5. Плазмотрон по любому из пп.1-4, в котором указанные электроды (1, 2) являются трубчатыми.
6. Плазмотрон по любому из пп.1-4, в котором указанный наружный электрод (1) имеет переднюю и заднюю стороны (70, 71), по существу, параллельные центральному электроду (2).
7. Плазмотрон по п.6, в котором указанный центральный электрод (2) имеет на ближнем конце круглое расширение (30), проходящее по всей длине (61) центрального электрода.
8. Плазмотрон по любому из пп.1-4, 7, дополнительно содержащий подводящий канал (7), проходящий через центральный электрод, предназначенный для введения химически активных соединений непосредственно в плазму послесвечения на ближнем конце.
9. Плазмотрон для осуществления плазменной обработки изделий, содержащий центральный электрод (15), два наружных электрода (16, 17), расположенных по обеим сторонам центрального электрода и, по существу, параллельных указанному центральному электроду, два электрических изолятора (18, 19), расположенных, по существу, параллельно между наружными электродами и центральным электродом, при этом между центральным электродом и электрическими изоляторами образован разрядный канал, имеющий дальний конец и ближний конец, подводящее отверстие (6), расположенное на дальнем конце разрядного канала, предназначенное для подачи плазмообразующего газа в разрядный канал, источник питания (9), предназначенный для создания напряжения между центральным электродом и наружными электродами, отличающийся тем, что его электрические изоляторы на ближнем конце выступают за пределы наружной поверхности наружного электрода.
10. Плазмотрон по п.9, в котором электрические изоляторы возле наружной поверхности наружного электрода дополнительно имеют выступающий участок (41), проходящий в направлении дальнего конца.
11. Плазмотрон по п.9, дополнительно содержащий подводящий канал (7), проходящий через центральный электрод, предназначенный для введения химически активных соединений непосредственно в плазму послесвечения на ближнем конце.
12. Плазмотрон по любому из пп.9-11, в котором центральный электрод (15) является плоским электродом.
13. Плазмотрон по любому из пп.9-11, в котором указанный центральный электрод содержит круглое расширение (30) на ближнем конце, проходящее по всей длине (61) центрального электрода.
14. Способ получения плазменной струи, содержащий следующие шаги: берут плазмотрон по любому из пп.1-8, подают плазменный газ через подводящее отверстие, подают химически активное соединение (например мономер) через подводящее отверстие (6) и/или через центральный электрод, вводя химически активное соединение в плазменный разряд на открытом конце плазмы. создают между центральным электродом и наружным электродом напряжение величиной от 1 до 100 кВ.
15. Способ получения плазменной струи, содержащий следующие шаги: берут плазмотрон по любому из пп.9-13, подают плазменный газ через подводящее отверстие, подают химически активное соединение (например мономер) через подводящее отверстие (6) и/или через центральный электрод, вводя химически активное соединение в плазменный разряд на открытом конце плазмы.
создают между центральным электродом и наружным электродом напряжение величиной от 1 до 100 кВ.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP05447017.4 | 2005-02-04 | ||
EP05447017A EP1689216A1 (en) | 2005-02-04 | 2005-02-04 | Atmospheric-pressure plasma jet |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2007129398A true RU2007129398A (ru) | 2009-03-10 |
RU2391801C2 RU2391801C2 (ru) | 2010-06-10 |
Family
ID=34943252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2007129398/06A RU2391801C2 (ru) | 2005-02-04 | 2006-02-06 | Плазмотрон атмосферного давления |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8552335B2 (ru) |
EP (2) | EP1689216A1 (ru) |
JP (1) | JP5122304B2 (ru) |
KR (2) | KR20120135534A (ru) |
CN (1) | CN101129100B (ru) |
AT (1) | ATE515930T1 (ru) |
AU (1) | AU2006209814B2 (ru) |
CA (1) | CA2596589C (ru) |
DK (1) | DK1844635T3 (ru) |
IL (1) | IL184877A (ru) |
NO (1) | NO338153B1 (ru) |
PL (1) | PL1844635T3 (ru) |
RU (1) | RU2391801C2 (ru) |
WO (1) | WO2006081637A1 (ru) |
ZA (1) | ZA200706133B (ru) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4688850B2 (ja) * | 2007-07-27 | 2011-05-25 | 京セラ株式会社 | 構造体およびこれを用いた装置 |
ATE554197T1 (de) * | 2007-09-19 | 2012-05-15 | Vito | Verfahren zur stabilen hydrophilie-verstärkung eines substrats mittels plasmaablagerung bei atmosphärischem druck |
EP2180768A1 (en) * | 2008-10-23 | 2010-04-28 | TNO Nederlandse Organisatie voor Toegepast Wetenschappelijk Onderzoek | Apparatus and method for treating an object |
FR2947416B1 (fr) * | 2009-06-29 | 2015-01-16 | Univ Toulouse 3 Paul Sabatier | Dispositif d'emission d'un jet de plasma a partir de l'air atmospherique a temperature et pression ambiantes et utilisation d'un tel dispositif |
JP5940239B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2016-06-29 | 株式会社イー・スクエア | プラズマ表面処理装置およびその製造方法 |
JP5212346B2 (ja) * | 2009-12-11 | 2013-06-19 | 株式会社デンソー | プラズマ発生装置 |
CN102244970A (zh) * | 2010-05-12 | 2011-11-16 | 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 | 一种多喷头射频等离子体发生器 |
WO2012004175A1 (en) | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Vito Nv | Method and device for atmospheric pressure plasma treatment |
KR101133094B1 (ko) * | 2010-07-26 | 2012-04-04 | 광운대학교 산학협력단 | 다중 채널 플라즈마 제트 발생 장치 |
RU2465747C1 (ru) * | 2011-05-26 | 2012-10-27 | Государственное учебно-научное учреждение Физический факультет Московского государственного университета имени М.В. Ломоносова | Полимерный гаситель самостоятельного дугового разряда с металлическими электродами при электровзрыве проволочки |
US9831069B2 (en) * | 2011-06-03 | 2017-11-28 | Wacom | CVD apparatus and method for forming CVD film |
CN102307426A (zh) * | 2011-06-24 | 2012-01-04 | 北京大学 | 一种等离子体发生装置 |
US10225919B2 (en) * | 2011-06-30 | 2019-03-05 | Aes Global Holdings, Pte. Ltd | Projected plasma source |
US20130302215A1 (en) * | 2012-05-10 | 2013-11-14 | Hua-Ming Liu | Combination dielectric barrier discharge reactor |
KR101415688B1 (ko) | 2012-07-18 | 2014-07-04 | 한국기초과학지원연구원 | 관형 플라즈마 표면 처리 장치 |
CN102883516A (zh) * | 2012-10-31 | 2013-01-16 | 重庆大学 | 一种新型针-环式等离子体射流装置 |
CN103179772B (zh) * | 2013-03-08 | 2016-04-20 | 河北大学 | 产生大气压直流辉光放电的方法及其专用装置 |
AT514555B1 (de) * | 2013-08-27 | 2015-02-15 | Fronius Int Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmastrahls |
US11278983B2 (en) | 2013-11-13 | 2022-03-22 | Hypertherm, Inc. | Consumable cartridge for a plasma arc cutting system |
US11432393B2 (en) | 2013-11-13 | 2022-08-30 | Hypertherm, Inc. | Cost effective cartridge for a plasma arc torch |
US10456855B2 (en) | 2013-11-13 | 2019-10-29 | Hypertherm, Inc. | Consumable cartridge for a plasma arc cutting system |
US11684995B2 (en) | 2013-11-13 | 2023-06-27 | Hypertherm, Inc. | Cost effective cartridge for a plasma arc torch |
US9981335B2 (en) | 2013-11-13 | 2018-05-29 | Hypertherm, Inc. | Consumable cartridge for a plasma arc cutting system |
ITPD20130310A1 (it) | 2013-11-14 | 2015-05-15 | Nadir S R L | Metodo per la generazione di un getto o jet di plasma atmosferico e dispositivo minitorcia al plasma atmosferico |
AU2015301727B2 (en) | 2014-08-12 | 2020-05-14 | Hypertherm, Inc. | Cost effective cartridge for a plasma arc torch |
US20160089695A1 (en) * | 2014-09-25 | 2016-03-31 | United States Government As Represented By The Secretary Of The Army | Bondable fluorinated barrier coatings |
EP3233991B1 (en) * | 2014-12-17 | 2023-02-01 | Si02 Medical Products, Inc. | Plasma treatment with non-polymerizing compounds that leads to reduced biomolecule adhesion to thermoplastic articles |
CN104540313B (zh) * | 2014-12-26 | 2017-04-19 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 大气压中空基底电极等离子体射流发生装置 |
CN104883806B (zh) * | 2015-03-06 | 2018-09-25 | 苏州大学 | 一种等离子射流装置和组件以及一种晶硅电池表面氧化和除污的方法 |
KR101733994B1 (ko) | 2015-04-07 | 2017-05-11 | 주식회사 피글 | 진공 펌프를 이용한 기체 압력 제어 플라즈마 발생 장치 |
CN104812154A (zh) * | 2015-04-22 | 2015-07-29 | 西安交通大学 | 一种三电极介质阻挡放电等离子体发生装置 |
CA2984439C (en) * | 2015-04-30 | 2021-06-08 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma treatment with non-polymerizing compounds that leads to reduced dilute biomolecule adhesion to thermoplastic articles |
US9711333B2 (en) * | 2015-05-05 | 2017-07-18 | Eastman Kodak Company | Non-planar radial-flow plasma treatment system |
KR102569883B1 (ko) | 2015-08-04 | 2023-08-22 | 하이퍼썸, 인크. | 액체-냉각식 플라즈마 아크 토치용 카트리지 |
DK3163983T3 (da) * | 2015-10-28 | 2020-08-24 | Vito Nv | Apparat til plasmabehandling med indirekte atmosfærisk tryk |
DE102016209097A1 (de) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Plasmadüse |
CN106231771A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-12-14 | 大连民族大学 | 一种等离子体喉镜杀菌装置的保护机构 |
CN106231770A (zh) * | 2016-09-09 | 2016-12-14 | 国网江苏省电力公司电力科学研究院 | 一种工作气体和外部环境气体可控的等离子体射流发生与参数诊断系统 |
CN106455281A (zh) * | 2016-10-13 | 2017-02-22 | 上海交通大学 | 一种集成掩膜板的大气压等离子体射流装置 |
CN106714435B (zh) * | 2016-11-15 | 2019-06-14 | 北京理工大学 | 一种大面积大气压等离子体射流产生装置 |
US20190209854A1 (en) * | 2017-06-16 | 2019-07-11 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Reactive gas application apparatus, and method of treating animals excluding humans |
GB2565852B (en) * | 2017-08-25 | 2022-04-06 | Air Quality Res Limited | Dielectric barrier discharge device and method and apparatus for treating a fluid |
TWI691237B (zh) | 2018-02-13 | 2020-04-11 | 國立交通大學 | 常壓電漿束產生裝置 |
CN108566714A (zh) * | 2018-06-09 | 2018-09-21 | 贵州电网有限责任公司 | 一种等离子体射流装置 |
PL3586954T3 (pl) | 2018-06-22 | 2023-12-27 | Molecular Plasma Group Sa | Ulepszony sposób i urządzenie do osadzania powłok na podłożu za pomocą strumienia plazmy pod ciśnieniem atmosferycznym |
EP3840541A1 (en) | 2019-12-20 | 2021-06-23 | Molecular Plasma Group SA | Improved shield for atmospheric pressure plasma jet coating deposition on a substrate |
EP3848191A1 (en) | 2020-01-07 | 2021-07-14 | Glanzstoff Industries A.G. | Reinforcement material and elastomeric product reinforced therewith |
EP3848426A1 (en) | 2020-01-07 | 2021-07-14 | Molecular Plasma Group SA | Method for altering adhesion properties of a surface by plasma coating |
EP4289519A1 (en) | 2022-06-10 | 2023-12-13 | Basf Se | Plasma-created barriers for packaging |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3241476A1 (de) * | 1982-11-10 | 1984-05-10 | Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen | Verfahren zur einleitung von ionisierbarem gas in ein plasma eines lichtbogenbrenners und plasmabrenner zur durchfuehrung des verfahrens |
US4825806A (en) * | 1984-02-17 | 1989-05-02 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Film forming apparatus |
KR900003310B1 (ko) * | 1986-05-27 | 1990-05-14 | 리가가구 겡큐소 | 이온 발생 장치 |
US4820370A (en) * | 1986-12-12 | 1989-04-11 | Pacific Western Systems, Inc. | Particle shielded R. F. connector for a plasma enhanced chemical vapor processor boat |
US5105123A (en) * | 1988-10-27 | 1992-04-14 | Battelle Memorial Institute | Hollow electrode plasma excitation source |
FR2666821B1 (fr) * | 1990-09-19 | 1992-10-23 | Ugine Aciers | Dispositif de traitement superficiel d'une plaque ou d'une tole d'un materiau metallique par plasma basse temperature. |
JP3206095B2 (ja) * | 1991-04-12 | 2001-09-04 | 株式会社ブリヂストン | 表面処理方法及びその装置 |
JP3413661B2 (ja) * | 1991-08-20 | 2003-06-03 | 株式会社ブリヂストン | 表面処理方法及びその装置 |
JP3267810B2 (ja) * | 1993-07-20 | 2002-03-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 被膜形成方法 |
JPH07211654A (ja) * | 1994-01-12 | 1995-08-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | プラズマ発生装置およびその動作方法 |
JP3148495B2 (ja) | 1994-01-13 | 2001-03-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | プラズマ発生装置およびその動作方法 |
DE69531880T2 (de) * | 1994-04-28 | 2004-09-09 | Applied Materials, Inc., Santa Clara | Verfahren zum Betreiben eines CVD-Reaktors hoher Plasma-Dichte mit kombinierter induktiver und kapazitiver Einkopplung |
US5776553A (en) * | 1996-02-23 | 1998-07-07 | Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Method for depositing diamond films by dielectric barrier discharge |
DE19735362C2 (de) * | 1996-08-14 | 2002-12-19 | Fujitsu Ltd | Gasreaktor |
US6027617A (en) * | 1996-08-14 | 2000-02-22 | Fujitsu Limited | Gas reactor for plasma discharge and catalytic action |
FR2754969B1 (fr) * | 1996-10-18 | 1998-11-27 | Giat Ind Sa | Torche a plasma a etancheite amelioree |
US5756959A (en) * | 1996-10-28 | 1998-05-26 | Hypertherm, Inc. | Coolant tube for use in a liquid-cooled electrode disposed in a plasma arc torch |
JPH10199697A (ja) * | 1997-01-10 | 1998-07-31 | Pearl Kogyo Kk | 大気圧プラズマによる表面処理装置 |
US5961772A (en) | 1997-01-23 | 1999-10-05 | The Regents Of The University Of California | Atmospheric-pressure plasma jet |
DE69840654D1 (de) | 1997-10-20 | 2009-04-23 | Univ California | Aufbringen von beschichtungen mit einem plasmastrahl unter atmosphärendruck |
JP3057065B2 (ja) * | 1997-12-03 | 2000-06-26 | 松下電工株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
TW503263B (en) * | 1997-12-03 | 2002-09-21 | Matsushita Electric Works Ltd | Plasma processing apparatus and method |
JP2000192244A (ja) * | 1998-10-16 | 2000-07-11 | Canon Inc | 堆積膜の形成装置及び形成方法 |
EP0997926B1 (en) * | 1998-10-26 | 2006-01-04 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Plasma treatment apparatus and method |
US6262523B1 (en) * | 1999-04-21 | 2001-07-17 | The Regents Of The University Of California | Large area atmospheric-pressure plasma jet |
JP4164716B2 (ja) * | 1999-04-27 | 2008-10-15 | 岩崎電気株式会社 | 無電極電界放電エキシマランプおよび無電極電界放電エキシマランプ装置 |
WO2000070117A1 (en) * | 1999-05-14 | 2000-11-23 | The Regents Of The University Of California | Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device |
JP2001023972A (ja) * | 1999-07-10 | 2001-01-26 | Nihon Ceratec Co Ltd | プラズマ処理装置 |
US6228438B1 (en) * | 1999-08-10 | 2001-05-08 | Unakis Balzers Aktiengesellschaft | Plasma reactor for the treatment of large size substrates |
JP4444437B2 (ja) * | 2000-03-17 | 2010-03-31 | キヤノンアネルバ株式会社 | プラズマ処理装置 |
US6911225B2 (en) * | 2001-05-07 | 2005-06-28 | Regents Of The University Of Minnesota | Method and apparatus for non-thermal pasteurization of living-mammal-instillable liquids |
US7274015B2 (en) * | 2001-08-08 | 2007-09-25 | Sionex Corporation | Capacitive discharge plasma ion source |
JP3823037B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2006-09-20 | 積水化学工業株式会社 | 放電プラズマ処理装置 |
TW497986B (en) * | 2001-12-20 | 2002-08-11 | Ind Tech Res Inst | Dielectric barrier discharge apparatus and module for perfluorocompounds abatement |
US6896854B2 (en) * | 2002-01-23 | 2005-05-24 | Battelle Energy Alliance, Llc | Nonthermal plasma systems and methods for natural gas and heavy hydrocarbon co-conversion |
US20030157000A1 (en) * | 2002-02-15 | 2003-08-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Fluidized bed activated by excimer plasma and materials produced therefrom |
US20050016456A1 (en) * | 2002-02-20 | 2005-01-27 | Noriyuki Taguchi | Plasma processing device and plasma processing method |
JP4092937B2 (ja) * | 2002-04-11 | 2008-05-28 | 松下電工株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP4231250B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2009-02-25 | 積水化学工業株式会社 | プラズマcvd装置 |
US6841943B2 (en) * | 2002-06-27 | 2005-01-11 | Lam Research Corp. | Plasma processor with electrode simultaneously responsive to plural frequencies |
-
2005
- 2005-02-04 EP EP05447017A patent/EP1689216A1/en not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-02-06 AT AT06705055T patent/ATE515930T1/de active
- 2006-02-06 US US11/815,302 patent/US8552335B2/en active Active
- 2006-02-06 AU AU2006209814A patent/AU2006209814B2/en active Active
- 2006-02-06 WO PCT/BE2006/000008 patent/WO2006081637A1/en active Application Filing
- 2006-02-06 DK DK06705055.9T patent/DK1844635T3/da active
- 2006-02-06 CN CN2006800040318A patent/CN101129100B/zh active Active
- 2006-02-06 KR KR1020127031317A patent/KR20120135534A/ko active IP Right Grant
- 2006-02-06 KR KR1020077017851A patent/KR20070103750A/ko active IP Right Grant
- 2006-02-06 EP EP06705055A patent/EP1844635B1/en active Active
- 2006-02-06 RU RU2007129398/06A patent/RU2391801C2/ru active
- 2006-02-06 CA CA2596589A patent/CA2596589C/en active Active
- 2006-02-06 JP JP2007553419A patent/JP5122304B2/ja active Active
- 2006-02-06 PL PL06705055T patent/PL1844635T3/pl unknown
-
2007
- 2007-07-24 ZA ZA200706133A patent/ZA200706133B/xx unknown
- 2007-07-26 IL IL184877A patent/IL184877A/en active IP Right Grant
- 2007-09-03 NO NO20074465A patent/NO338153B1/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2006209814A1 (en) | 2006-08-10 |
WO2006081637A1 (en) | 2006-08-10 |
CN101129100A (zh) | 2008-02-20 |
CN101129100B (zh) | 2011-02-02 |
ATE515930T1 (de) | 2011-07-15 |
AU2006209814B2 (en) | 2011-01-20 |
EP1689216A1 (en) | 2006-08-09 |
EP1844635B1 (en) | 2011-07-06 |
KR20120135534A (ko) | 2012-12-14 |
NO338153B1 (no) | 2016-08-01 |
JP2008529243A (ja) | 2008-07-31 |
CA2596589A1 (en) | 2006-08-10 |
PL1844635T3 (pl) | 2012-01-31 |
DK1844635T3 (da) | 2011-09-12 |
KR20070103750A (ko) | 2007-10-24 |
EP1844635A1 (en) | 2007-10-17 |
JP5122304B2 (ja) | 2013-01-16 |
CA2596589C (en) | 2013-09-03 |
ZA200706133B (en) | 2008-11-26 |
US8552335B2 (en) | 2013-10-08 |
RU2391801C2 (ru) | 2010-06-10 |
US20080308535A1 (en) | 2008-12-18 |
IL184877A (en) | 2011-12-29 |
NO20074465L (no) | 2007-09-03 |
IL184877A0 (en) | 2007-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2007129398A (ru) | Плазматрон атмосферного давления | |
JP5663819B2 (ja) | プラズマ源及び当該プラズマ源を備える医療機器 | |
US20110126712A1 (en) | Separating contaminants from gas ions in corona discharge ionizing bars | |
US20100019677A1 (en) | Plasma producing apparatus and method of plasma production | |
US6998574B2 (en) | Welding torch with plasma assist | |
CN104411083B (zh) | 一种产生连续低温大截面大气压等离子体羽的装置及方法 | |
US20050205410A1 (en) | Capillary-in-ring electrode gas discharge generator for producing a weakly ionized gas and method for using the same | |
KR20120041475A (ko) | 노즐 구조에 의한 상압 플라즈마 토치 발생장치 | |
US7329833B2 (en) | System for improved high-frequency arc starting of a welding process | |
KR101683052B1 (ko) | 유전체 장벽 방전을 이용한 오존발생장치용 전극 및 이를 이용한 오존발생장치 | |
JP6991543B2 (ja) | プラズマ生成装置及びこれを用いたプラズマ生成方法 | |
CN109872940B (zh) | 一种利用介质阻挡放电辅助离子化的离子源装置 | |
Laroussi et al. | Non-equilibrium plasma sources | |
UA20352U (en) | Discharge chamber of ozonizer | |
KR20180080251A (ko) | 코로나 방전 이온화 바에서 가스 이온으로부터 오염물의 분리 |