NL8500749A - Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze niet-verdampbare getterinrichtingen en aldus vervaardigde getterinrichtingen. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze niet-verdampbare getterinrichtingen en aldus vervaardigde getterinrichtingen. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8500749A NL8500749A NL8500749A NL8500749A NL8500749A NL 8500749 A NL8500749 A NL 8500749A NL 8500749 A NL8500749 A NL 8500749A NL 8500749 A NL8500749 A NL 8500749A NL 8500749 A NL8500749 A NL 8500749A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- getter
- suspension
- particle size
- temperature
- particles
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 49
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 48
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 29
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 20
- 238000005247 gettering Methods 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- -1 titanium hydrides Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 229910000986 non-evaporable getter Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 7
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 229910000568 zirconium hydride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000001652 electrophoretic deposition Methods 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910011212 Ti—Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000006391 Ion Pumps Human genes 0.000 description 1
- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008340 ZrNi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003126 Zr–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- DNXNYEBMOSARMM-UHFFFAOYSA-N alumane;zirconium Chemical compound [AlH3].[Zr] DNXNYEBMOSARMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007891 compressed tablet Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000009730 filament winding Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000006194 liquid suspension Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000002594 sorbent Substances 0.000 description 1
- 239000003826 tablet Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007966 viscous suspension Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
- C25D13/02—Electrophoretic coating characterised by the process with inorganic material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J7/14—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J7/18—Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Discharge Lamp (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
70 7107 f ‘8MEI1985 7
Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze niet-verdampbare 1 —* getterinrichtingen en aldus vervaardigde getterinrichtingen.
Niet-verdampbare getterinrichtingen zijn bekend en worden toegepast voor het verwijderen van ongewenste gassen uit geëvacueerde of met een zeldzaam gas gevulde houders, zoals elektronenbuizen. Zij worden tevens toegepast voor het selectief verwijderen van gassen uit 5 een atmosfeer, zoals stikstof, binnen de omhulling van hoge intensi-teitsontladingslampen. Er zijn vele verschillende materialen ten ge-bruike als niet-verdampbare getters voorgesteld. Zo wordt in het Amerikaanse octrooischrift 3.203.901 de toepassing van een Zr-Al-lege-ring beschreven, in het bijzonder een legering die 84 gew.% Zr met als 10 rest Al bevat. In het Britse octrooischrift 1.533.487 wordt de getter-vormende samenstelling Zr^Ni beschreven. Zr-Fe-legeringen, die 15-30 gew.% Fe met als rest Zr bevatten zijn in het Amerikaanse octrooischrift 4.306.887 beschreven. Tevens zijn ternaire legeringen beschreven, zoals Zr-Ti-Fe en Zr-M^M^, waarin een metaal is, gekozen uit 15 vanadium en niobium en waarin een metaal is gekozen uit ijzer en nikkel. Getter-vormende samenstellingen gebaseerd op titaan zijn tevens bekend. Zie bijvoorbeeld het Amerikaanse octrooischrift 4.428.856. Deze gettermaterialen worden normaal toegepast in de vorm van een fijnverdeeld poeder met een deeltj esafmeting die in het alge-20 meen kleiner is dan ongeveer 125 micrometer. Het poedervormige getter-materiaal kan worden samengeperst onder vorming van een kogel of een zelfdragend tablet of het gettermateriaal kern tot een ringvormige houder worden samengeperst, die een U-vormige doorsnede heeft. Dergelijke getterinrichtingen kunnen betrekkelijk groot zijn maar zij hebben het 25 nadeel, dat gewoonlijk slechts de buitenlagen vein het poedervormige gettermateriaal in staat zijn gas te sorberen, terwijl de inwendige deeltjes niet aan het gassorptieproces deelnemen en een verspilling van kostbaar gettermateriaal betekenen.
Om de nadelen verbonden aan de toepassing van gettermate-30 rialen in de vorm van kogels of samengeperste tabletten of hun toepassing in ringhouders te overwinnen, wordt in het Amerikaanse octrooischrift 3.652.317 een methode aangegeven om mechanisch een substraat met een bekleding van gettermateriaaldeeltjes te produceren met een hoge specifieke oppervlakte tot massaverhouding. Hoewel bij deze me-35 thode een aanzienlijke besparing aan gettermateriaal wordt verkregen, 85 0 07 49 •______ *> » * ft -2- is deze zeer ingewikkeld en is dure apparatuur nodig. Het is tevens moeilijk de dikte van de gevormde bekleding in te stellen met als gevolg, dat de getterinrichting geen uniforme eigenschappen heeft.
Deze mechanische methode om een substraat met deeltjes te 5 bekleden is alleen bruikbaar indien de deeltjes veel harder zijn dan het substraat. Indien de deeltjes slechts in geringe mate harder zijn of zelfs zachter dan het substraat, dan zullen zij gedurende de mechanische bekledingsmethode plastische deformatie ondergaan en worden aan elkaar gelast. Als gevolg daarvan heeft de bekleding een lage spe-10 cifieke oppervlakte tot massaverhouding en is slecht hechtend aan het substraat.
In de Amerikaanse octrooischriften 3.856.709 en 3.975.304 wordt voorgesteld aan de zachte deeltjes harde deeltjes toe te voegen om een bekleding van zachte deeltjes op het substraat te verkrijgen, 15 die een hoge specifieke oppervlakte tot massaverhouding heeft. Ook voor deze bekledingswerkwijze is nog steeds een kostbare apparatuur nodig en het blijft moeilijk de dikte van de gevormde bekleding in te stellen. Met geen van de laatste twee voorgestelde methoden kan men op een substraat dat een dikte heeft die vergelijkbaar is met die van de 20 bekleding of kleiner is, een bevredigende bekleding verkrijgen in verband met penetratie van de deeltjes, waardoor een te grote deformatie van het substraat wordt veroorzaakt en dit zelfs soms volledig wordt doorboord. Verder zijn de deeltjes niet stevig aan het substraat bevestigd.
25 Het is verder moeilijk, zo niet onmogelijk, deze methode te gebruiken om andere materialen dan een lange doorlopende strip van steunmateriaal te bekleden. Het is niet mogelijk de strip te bekleden wanneer deze te hard is.
Om getterinrichtingen met zodanig hoge porositeit te produ-30 ceren dat een significante hoeveelheid van het gettermateriaal binnen het lichaam van de inrichting gas kan sorberen, wordt in het Amerikaanse octrooischrift 3.584.253 voorgesteld Zr-poeder te gebruiken, grondig gemengd met grafietpoeder als een anti-sintermiddel en aldus een groot oppervlak van gas-sorberend materiaal te handhaven. Gevonden is dat een 35 dergelijk samengesteld gettermateriaal zelfs bij kamertemperatuur gas kan sorberen. m het Amerikaanse octrooischrift 3.926.832 en de Britse 8500749 -3- « 4 octrooiaanvrage 2.077.487A van aanvraagster worden andere poreuze gettermaterialen beschreven, waarin het anti-sintermiddel een Zr-geba-seerde getterlegering omvat.
Helaas is de industriële produktie van dergelijke poreuze 5 niet-verdampbare getterinrichtingen langdurig en arbeidsintensief. In een bepaalde techniek voor de vervaardiging van getterinrichtingen onder toepassing van het samengestelde gettermateriaal, wordt van het samengestelde materiaal een viskeuze suspensie bereid in een organische vloeistof, waarna de dragers individueel met deze suspensie 10 worden geverfd. Het is echter moeilijk, zo niet onmogelijk de hoeveelheid gettermateriaal, die op elke drager wordt aangebracht in te stellen. Daarbij is de toepassing van ontvlambare organische vloeistoffen, die ook nog giftig kunnen zijn, een risico voor het personeel, terwijl het verder zelfs met de verftechniek moeilijk, zo niet onmogelijk 15 is bepaalde vormen van gettermateriaaldragers te bedekken.
Een andere techniek betreft de toepassing van een mal waarin het samengestelde gettermateriaalmengsel wordt geschonken.
Hiervoor is echter voor elke getterinrichting een individuele mal nodig, zodat deze techniek kostbaar is en veel tijd vergt.
20 In het boek "Zirkonium, Seine Herstellung, Eigenschaften und flnwendungen in der Vakuumtechnik", c.F. Winter'sche Verlagshand-lung, Fussen/Bayern, 1953 beschrijft W. Espe een werkwijze voor het deponeren van Zr en Zr-hydride door middel van elektroforese, maar de verkregen bekleding heeft een lage porositeit.
25 Het is derhalve een doel van de onderhavige uitvinding te voorzien in een werkwijze voor het vervaardigen van niet-verdampbare getterinrichtingen, waarbij grotendeels één of meer van de nadelen van de bekende methoden worden vermeden.
Het is een ander doel van de onderhavige uitvinding te voor-30 zien in een werkwijze voor het vervaardigen van niet-verdampbare getterinrichtingen, waarbij het gebruik van overmatige hoeveelheden gettermateriaal wordt vermeden.
Het is nog een ander doel van de onderhavige uitvinding te voorzien in een werkwijze voor het vervaardigen van niet-verdampbare 35 getterinrichtingen, zonder toepassing van een dure of ingewikkelde produktieapparatuur.
t 8500749 * * * « -4-
Het is een volgend doel van de onderhavige uitvinding te voorzien in een werkwijze voor het vervaardigen van getterinrichtingen, die geschikt zijn voor massaproduktie, die niet arbeidsintensief zijn en met een minimaal risico voor het personeel.
5 Het is nog een ander doel van de onderhavige uitvinding te voorzien in een werkwijze voor het vervaardigen van niet-verdampbare getterinrichtingen met meerdere produceerbare mechanische en gassorptie-eigenschappen.
Het is nog weer een.ander doel van de onderhavige uitvin-10 ding te voorzien in een werkwijze voor het vervaardigen van niet-verdampbare getterinrichtingen, die praktisch elke vorm en afmeting van de drager hebben.
Verdere doeleinden en voordelen van de onderhavige uitvinding worden toegelicht met de nu volgende gedetailleerde beschrijving 15 en tekeningen waarin: ( fig. 1 een dwarsdoorsnede is van een experimentele inrich ting voor de produktie van niet-verdampbare getterinrichtingen volgens de uitvinding; fig. 2 een microfoto is, genomen met een scanning-elektronen-20 microscoop van het oppervlak van een getter inrichting, die is geproduceerd volgens de werkwijze van de onderhavige uitvinding, alvorens' deze is onderworpen aan het sinteringsproces; , fig. 3 een vergroting is van een deel van het oppervlak, weergegeven in fig. 2; 25 fig. 4 een verdere vergroting is van het deel van het opper vlak, weergegeven in fig. 3; fig. 5 een vergroting is van een deel van het oppervlak, weergegeven in fig. 2, maar nadat de getterinrichting is onderworpen aan het sinteringsproces; en 30 fign. 6 en 7 grafieken voorstellen, die de sorptie-eigen- schappen voor waterstof en koolmonoxyde van getterinrichtingen, geproduceerd volgens de onderhavige uitvinding met die geproduceerd volgens traditionele technieken, vergelijken.
8500749 -5- * « t
De onderhavige uitvinding voor2iet in een werkwijze voor het vervaardigen van een getterinrichting door middel van elektroforetische depositie van ten minste één poedervormig gettermateriaal gelijktijdig met een poedervormig anti-sintermiddel op een drager van elke gewenste 5 vorm. Deze kan b.v. bestaan uit een metalen draad van elke gewenste diameter. De draad kan recht zijn of gebogen in elke gewenste vorm, zoals b.v. een spiraal of een draadvormige wikkeling ten gebruike als verhitter in de getterinrichting zelf. De draad kan reeds zijn bekleed met een isolerend materiaal, zoals alumina. De drager kan tevens de vorm 10 hebben van een strip of lint van metaal, zoals roestvrij staal of ijzer of met nikkel gegalvaniseerd ijzer. Naar keuze kan de drager uit een metaal met hoge elektrische weerstand, zoals uit nichroom of uit grafiet bestaan. De strip kan voor de elektroforetische depositie van het gettermateriaal en het anti-sintermateriaa1 in elke gewenste vorm wor-15 den gebogen, zoals een cilinder of een zigzag- of harmonicavorm. Onafhankelijk van de vorm van de getterdrager wordt deze elektroforetisch bekleed door onderdompeling in een suspensie van deeltjes van ten minste één gettermateriaal en een anti-sintermiddel in een vloeistof. Tussen de getterdrager, die als een eerste elektrode fungeert en een tweede 20 elektrode wordt gelijkstroom doorgeleid, waardoor poedervormig gettermateriaal en anti-sintermateriaal, dat de getterdrager bekleedt, wordt gedeponeerd. De drager met zijn bekleding wordt dan uit de suspensie verwijderd en gedroogd. De beklede drager wordt vervolgens in een vacuümoven gebracht, waarin een druk van minder dan ongeveer 10 1 Pa 25 wordt gehandhaafd en verhit tot een temperatuur van niet hoger dan ongeveer 1100°C. Men laat de getter met drager afkoelen tot kamertemperatuur, waarna deze uit de vacuümoven wordt verwijderd en voor gebruik gereed is. De getterinrichting vertoont geen losse deeltjes en heeft een hoge weerstand tegen mechanische druk, vibratie en schokken.
30 Een op deze wijze geproduceerde getterinrichting is bijzon der geschikt voor toepassingen waarbij hoge sorptiesnelheden vereist zijn, zoals in beeldversterkers, vidicon-televisiecamerabuizen, voor verschillende componenten van vacuümelektronenbuizen en zelfs voor kinescopen, waarbij de vorming van een bariumlaag op de inwendige 35 oppervlakken absoluut moet worden voorkomen, alsmede op afbuigplaten of keerschotten of turbo-moleculaire pompen en tevens voor elektroden en componenten in samenhang met ionenpompen.
8500749 * -6-
* I
Het gettermateriaal' als suspensie omvat ten minste één poeder van een metaal of een metaallegering of de hydriden daarvan of van een mengsel van deze componenten. Indien het gewenst is een metaal of metaalhydride als gettermateriaal te gebruiken, dan wordt dit bij 5 voorkeur gekozen uit Zr, Ta, Hf, Nb, Ti en Th en uranium of een hydride daarvan of een mengsel daarvan. De gettermaterialen met de meeste voorkeur zijn Ti en Zr en in het bijzonder de hydriden daarvan.
Het anti-sintermiddel in suspensie kan bijvoorbeeld grafiet of.een vuurvast metaal, zoals W, Mo, Nb en Ta zijn. Indien het gewenst 10 is een anti-sintermiddel dat tevens gettereigenschappen heeft te gebruiken, heeft het de voorkeur een gettermetaallegering toe te passen. Een binaire legering met deze eigenschappen die de voorkeur heeft is een Zr-Al-legering, die 5-30 gew.% Al (rest Zr) omvat. De Zr-Al-legering met de meeste voorkeur is de legering met 84 gew.% Zr en 16 gew.% 15 Al. Andere binaire legeringen die voor gebruik in de werkwijze van de onderhavige uitvinding geschikt zijn, zijn bijvoorbeeld Zr-Ni-legerin-gen of Zr-Fe-legeringen. Men kan tevens ternaire legeringen toepassen, zoals Zr-Ti-Fe - legeringen of bij voorkeur Zr-M^-M2~legeringen, waarbij een metaal is uit de groep vanadium en niobium en M2 een metaal is 20 uit de groep nikkel en ijzer. De ternaire legering met de meeste voorkeur is een Zr-V-Fe-legering.
Gevonden is dat indien de deeltjes van de component in suspensie een deeltjesgrootte hebben groter dan ongeveer 100 micrometer, i zij niet elektroforetisch kunnen worden gedeponeerd, terwijl indien de 25 deeltjesgrootte te klein is geen poreuze bekleding kan worden gevormd. De poeders dienen derhalve een deeltjesgrootte kleiner dan ongeveer 100 micrometer en bij voorkeur kleiner dan ongeveer 60 micrometer te bezitten. Bij voorkeur hebben zij een deeltjesgrootte groter dan ongeveer 20 micrometer bij een gemiddelde deeltjesgrootte van ongeveer 30 40 micrometer.
Wanneer het gettermateriaal (eerste poeder) elektroforetisch tezamen met het anti-sintermiddel (tweede poeder) wordt gedeponeerd, kan de gewichtsverhouding van het eerste poeder tot het tweede poeder elke gewenste waarde aannemen. De voorkeursverhouding van gettermate-35 riaal tot anti-sintermateriaal ligt echter tussen 5:1 en 1:4, waarbij de verhouding met de meeste voorkeur tussen 3,5:1 en 2:1 ligt.
8500749 4 s.
-ΙΏΒ vloeistof, waarin het gettermateriaal en het anti-sintermiddel worden gesuspendeerd, is elke vloeistof, waaruit het gettermateriaal en het anti-sintermiddel elektroforetisch kunnen worden gedeponeerd.
Deze omvat bij voorkeur water en met de meeste voorkeur gedestilleerd 5 water, waarin een water-mengbare, organische verbinding is opgelost. Geschikte organische verbindingen zijn vloeibare organische verbindingen en mengsels daarvan, zoals alcoholen, ketonen of esters en in het bijzonder alkanolen. Voor de elektroforetische depositie van getter-materialen is de voorkeursorganische verbinding ethylalcohol, aange-10 zien deze niet giftig is en niet ontvlambaar bij mengen met water..
De gewichtsverhouding tussen water en de organische verbinding kan elke verhouding zijn waarmee de elektroforetische depositie van poedervormige gettermaterialen en anti-sintermiddelen, die in het mengsel zijn gesuspendeerd mogelijk is. De volumeverhouding van water tot de 15 organische verbinding ligt echter bij voorkeur in het gebied van 3:1 tot 1:3. De verhoudingen met de meeste voorkeur zijn van 1:1 tot 1;2,5.
Het heeft voordelen een "binder" aan het waterige organische verbindingsmengsel toe te voegen. De binder voert twee functies Uit: * 20 hij bevordert de handhaving van de gettermateriaalpoeders in suspensie en levert in de tweede plaats een meer samenhangende afgezette laag.
De binder kan aan de vloeistof in een hoeveelheid van tot ten hoogste 15 vol.% en bij voorkeur niet meer dan 5% worden toegevoegd.
25 In de suspensie ligt de gewichtsverhouding van de vaste > deeltjes tot de vloeistof tussen bij voorkeur 3:1 en 1:2 en met de meeste voorkeur tussen 2:1 en 1:1. Elke binder, die de bovengenoemde functies kan uitvoeren, is bruikbaar. Een geschikte binder blijkt echter een oplossing van aluminiumhydroxyde in water te zijn, die op ge-30 schikte wijze kan worden bereid door aluminiumkrullen volgens in de techniek bekende methoden op te lossen in een aluminiumnitraatoplossing.
Een verder voordeel bij de toepassing van deze binder is dat een zure oplossing wordt geleverd met een pH-waarde tussen onge-35 veer 3 en 4, waardoor een voldoend hoge en constante depositiesnelheid van de materialen in suspensie op de drager wordt gegarandeerd, wanneer 8500749
„ V
-8- deze laatste aan de negatieve elektrode van de spanningsbron van de elektroforetische depositie-apparatuur is aangesloten.
Voor het deponeren van een bekleding op de drager wordt deze laatste in een bad ondergedompeld dat de materialen in vloeibare 5 suspensie bevat, waarna een gelijkstroom van de getterdrager als eerste elektrode naar een tweede elektrode, die op een positieve potentiaal ten opzichte van de drager wordt gehouden, wordt doorgeleid.
Er blijkt dat de potentiaal, die men moet aanleggen niet groter mag zijn dan ongeveer 60 V. Bij een potentiaal groter dan ongeveer 60 V 10 begint zich aan de elektrode, waar de materialen worden gedeponeerd, waterstof te ontwikkelen. Deze waterstofontwikkeling is zeer ongewenst, aangezien deze het depositieproces verstoort en een laag gedeponeerde materialen produceert die niet voldoende aan de drager blijft hechten. Verder wordt de elektroforetische depositiestroom meer gebruikt voor 15 de produktie van waterstof dan voor de afzetting, hetgeen tot een vermindering· van het rendement van het afzettingsproces leidt. De aanwezigheid van waterstof is tevens gevaarlijk, omdat explosieve reacties met de atmosfeer mogelijk zijn. Bij een potentiaal lager dan ongeveer 10 V zijn uitermate lange tijdsperioden noodzakelijk om een voldoende 20 dikke bekleding van het gettermateriaal en het anti-s intermiddel op het substraat te deponeren. Verder wordt de regeling van het depositieproces moeilijker, aangezien de afzetting een minder uniforme dikte verkrijgt. Gebleken is dat in het algemeen potentialen van ongeveer 30 V gedurende een tijdsperiode van ongeveer 15 seconden voldoende 25 zijn om een bevredigende poreuze afzetting van niet-verdampbare getter-materialen en anti-sintermiddelen te verkrijgen. Wanneer voldoende gettermateriaal en anti-sintermiddel zijn gedeponeerd, wordt de spanningsbron uitgeschakeld en de getterdrager met zijn bekleding uit het elektroforetische depositiebad verwijderd. Het heeft dan de voorkeur 30 de getter inrichting af te spoelen in een organisch oplosmiddel, zoals diëthylether of aceton om eventuele losse deeltjes gettermateriaal of anti-sintermiddel, die aan het oppervlak van de afgezette laag kunnen kleven, te verwijderen. Bovendien wordt eventueel vocht uit de getter-inrichting verwijderd, die daarna in warme lucht wordt gedroogd en dan 35 in een vacuümoven gebracht. De bekleding van niet-verdampbaar gettermateriaal wordt daarna gesinterd door middel van inductieverhitting 8500749 -9- 9 % bij een temperatuur kleiner dan ongeveer 1100°C en bij een druk kleiner dan ongeveer 10 1 Pa en bij voorkeur minder dan ongeveer 10 3 Pa.
De temperatuur ligt bij voorkeur in het gebied van ongeveer 850 tot ongeveer 1000°C. Men laat de getterinrichting daarna tot kamertempe-5 ratuur afkoelen, waarna deze uit de vacuumoven wordt verwijderd en voor gebruik gereed is.
Onder sinteren wordt hier het verhitten van de gedeponeerde deeltjeslaag verstaan bij een voldoende tijdsperiode en temperatuur om onderlinge adhesie van de deeltjes te doen ontstaan, maar niet voldoen-10 de om het vrije oppervlak significant te verminderen. Gevonden is, dat om een gedeponeerde laag met maximale porositeit te verkrijgen, de verhitting in een geschikte cyclus dient plaats te vinden, welke de volgende trappen omvat: 1) snelle verhitting tot een temperatuur van niet hoger dan 15 350°C en lager dan 450°C in een tijdsperiode van ongeveer 1 minuut; 2) handhaving van deze temperatuur gedurende ongeveer 15 minuten om alle waterstof uit het hydride vrij te maken bij een zodanige ontwikkeling dat een goede porositeit van het eindprodukt wordt gegarandeerd, en die niet zo krachtig is, dat verlies van hechtvermo-20 gen van de deeltjes wordt veroorzaakt of een plasmaontlading nabij de getterinrichting optreedt, 3) achtereenvolgens verhoging van de temperatuur tot ongeveer 930eC in een tijdsperiode van ongeveer 2 minuten; 4) handhaving van die temperatuur gedurende ongeveer 5 minu-25 ten voor de eindsintering; 5) vrije afkoeling door straling binnen de uitgeschakelde oven, waaruit de getter wordt verwijderd wanneer zijn temperatuur niet hoger is dan 50°C.
Voorbeeld I
30 In een 1 liter-kunstoffles werden 250 cm3 gedestilleerd water en 250 cm3 ethanol gebracht. Er werd 450 g titaanhydride met een deeltjesgrootte van kleiner dan 60 micrometer (Degussa) toegevoegd, tezamen met 166 g van een legering van 84% Zr met als rest Al, met een deeltjesgrootte kleiner dam 54 micrometer. 15 cm van "natte 35 binder" werden daarna toegevoegd en de kunststoffles werd afgesloten en mechanisch gedurende een periode van meer dan 4 uur geschud.
8500749 * f -10-
De suspensie is dan voor gebruik gereed, maar indien het gedurende een bepaalde periode vóór het gebruik wordt opgeslagen dient men het opnieuw gedurende een periode van ten minste 2 uur vóór het gebruik te schudden.
5 Voor het gelijktijdig elektroforetisch deponeren van getter- materiaal en anti-sintermiddel uit een suspensie wordt een elektrofo-retische inrichting 10 toegepast, die schematisch in fig. 1 is weergegeven. Inrichting 10 omvat een glazen beker 12, waarin een magnetisch roerelement 14 is geplaatst en een elektrode 16, die bestaat uit 10 een holle stalen cilinder met een diameter van 7 cm en een dikte van ongeveer 2 mm en een hoogte van 8,5 cm. De elektrode 16 wordt centraal binnen de beker 12 opgehangen door middel van kleine haken 18, 18'.
Een pasgeroerde suspensie 20 bereid als boven beschreven werd in de beker gegoten tot de elektrode 16 tot een hoogte van ongeveer 2 cm was 15 bedekt, waarbij de positieve elektrode van een spanningsbron 22 werd aangesloten aan elektrode 16 door middel van draad 24, bevestigd aan de kleine haak 18'. De negatieve elektrode van de spanningsbron 22 werd aan een getterdrager 24 aangesloten door middel van een tweede draad 26. Hoewel fig. 1 de getterdrager in de vorm van een holle cilin-20 der aangeeft, werd in het onderhavige voorbeeld gebruik gemaakt van een getterdrager in de vorm van een strip van roestvrij staal met een dikte van 0,094 mm. De stalen strip, vastgehouden door draad 26 werd langs de as van elektrode 16 in de suspensie 20 gebracht. Het magnetische roerelement 14 werd gestopt en een potentiaal van 30 V werd ge-25 durende een periode van 20 seconden tussen de stalen strip en de elektrode 16 aangelegd. De strip werd uit de suspensie verwijderd en van draad 26 losgemaakt, grondig in aceton gewassen en daarna gedurende ongeveer een half uur in warme lucht gedroogd. De strip, bekleed met een mengsel van titaanhydride en Zr-Al-legering werd daarna in een 30 vacuümoven gebracht, waar de druk werd verlaagd tot minder dan 10 ^ Pa, terwijl de temperatuur daarvan langzaam gedurende een periode van ongeveer 20 minuten tot 930°C werd opgevoerd. Gedurende de temperatuurtoename werd de temperatuur nadat deze 400°C had bereikt echter gedurende ongeveer 15 minuten vastgehouden, teneinde waterstof uit de 35 samenstelling te verwijderen. Nadat de temperatuur 900°c had bereikt werd deze 5 minuten vastgehouden, waarna men het monster tot kamertemperatuur liet afkoelen. De beklede strip werd uit de vacuumoven verwijderd.
8500749 -11- 9 m
Fign. 2, 3 en 4 zijn microfoto's van een scanning-elektronen-microscoop van het oppervlak van de elektroforetisch beklede strip van roestvrij staal bij een vergroting van respectievelijk 16, 400 en 1800x. Deze microfoto's werden genomen voordat de elektroforetisch gedepo-5 neerde laag was onderworpen aan de vacuümverwarmingstrap en derhalve vóór het sinteren.
Fig. 5 is een andere microfoto van het oppervlak, nadat de beklede strip aan de vacuümverwarmingstrap als beschreven was onderworpen. Deze microfoto met een vergroting van 300x toont duidelijk aan 10 dat de warmtetrap geen significante vermindering van de porositeit
van de open structuur van de gedeponeerde bekleding tot stand brengt. Voorbeeld II
* Een cilindrische getterdrager werd vervaardigd uit een 1 cm brede roestvrij stalen strip met een dikte van 0,094 mm. De procedure 15 van voorbeeld I werd exact gevolgd met als enige verschil, dat de getterdrager werd vervangen door de cilindrische getterdrager. Een aantal vain deze cilindrische getterinrichtingen, elektroforetisch bekleed met een mengsel van titaanhydride en zirkonium-aluminiumlegering en onderworpen aam het vacuüm-sinterproces, werd geproduceerd en onderworpen 20 aan gassorptieproeven. De resultaten van de gassorptieproeven worden aangegeven in de grafieken van fign. 6 en 7.
Voorbeeld III
Dit vergelijkende voorbeeld werd uitgevoerd teneinde de eigenschappen van een bekende getter te vergelijken met die van de 25 uitvinding. Er werden getterkogels verkregen, die waren gemaakt door samenpersen van een mengsel van poeders van titaan en een Zr-Al-lege-ring. De kogels omvatten een cirkelvormige stalen houder met een opening aan één kant met een diameter van 4 mm en een opening aan de andere kant met een diameter van 5,5 mm. De kogelhoogte was 4,3 mm. Deze 30 kogels werden aan dezelfde gassorptieproeven als de getterinrichtingen van voorbeeld II onderworpen. De gassorptieproefresultaten worden ter vergelijking in de grafieken van fign. 6 en 7 aangegeven.
8500749 » · -12-
Bespreking van de gassorptieproefresultaten.
Pig. 6 geeft de sorptiesnelheid van de getterinrichtingen
als een functie van de hoeveelheid gas, die na activering bij 900°C
gedurende 10 minuten wordt gesorteerd. De druk van het gesorteerde gas -4 5 boven de getterinrichting wordt constant op 4 x 10 Pa gehouden.
Grafiek 1 is de gassorptiekarakteristiek voor het gas CO voor een getterinrichting van de uitvinding, vervaardigd als beschreven in voorbeeld II. Grafiek 2 is een sorptiekarakteristiek verkregen door een getterinrichting van de uitvinding, wanneer het gesorteerde gas Hj is.
10 De streeplijnen nabij de grafieken 1 en 2 zijn de sorptiegrafieken die men zou verkrijgen, indien de gasinlaatstroom-geleidbaarheid de gasstroomsnelheid in de gettermonsterproefkamer niet had beperkt. Grafiek 3 geeft de gassorptiekarakteristiek voor CO van een traditionele getterinrichting volgens voorbeeld III. Grafiek 4 is de sorptiekarakteris-15 tiek van een traditionele getterinrichting, verkregen met H^ als gesorteerd gas.
Fig. 7 toont de sorptiekarakteristiek, wanneer de active-ringstemperatuur van de getterinrichting gedurende 10 minuten 500°C was. Grafieken 1' en 2' verwijzen naar getterinrichtingen van de uitvinding 20 voor de gassen respectievelijk CO en H2, terwijl daarentegen de grafieken 3' en 4' verwijzen naar de sorptiekarakteristieken van een traditionele getterinrichting voor opnieuw·CO en Hj.
Uit de grafieken blijkt duidelijk dat de sorptie-eigen-schappen van de getterinrichtingen van de onderhavige uitvinding aan-25 zienlijk beter zijn dan die van de traditionele getterinrichtingen.
* 8500749
Claims (28)
1. Werkwijze voor het vervaardigen van een poreuze, niet- verdampbare getterinrichting, gekenmerkt door de volgende trappen: I) onderdompeling van een getterdrager in een suspensie, welke suspensie omvat: een mengsel van deeltjes van een gettermate- 5 riaal en deeltjes van een anti-sintermiddel in een vloeistof, welke vloeistof water en een water-mengbare organische verbinding omvat; waarna II) een elektrische gelijkstroom tussen de getterdrager als eerste elektrode en een tweede elektrode in de suspensie wordt 10 dóórgeleid waardoor een poreuze bekleding van het mengsel van deeltjes van het gettermateriaal en anti-sintermiddel op de getterdrager wordt gedeponeerd en een beklede drager wordt geleverd; en daarna III) het verwijderen van de beklede drager uit de suspensie en vervolgens
15 IV) het sinteren van de beklede drager bij een druk lager dan 10 * Pa en bij een temperatuur tussen 850 en 1100°C.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de deel tjes van genoemde eerste en tweede poeders een deeltjesgrootte kleiner dan 100 micrometer hebben.
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de deeltjesgrootte van genoemde deeltjes tussen 20 en €0 micrometer ligt, bij een gemiddelde deeltjesgrootte van 40 micrometer.
4. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat genoemde organische verbinding wordt gekozen uit alcoholen, ketonen en 25 esters.
5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de volumeverhouding van water tot organische verbinding tussen 3:1 en 1:3 ligt.
6. Werkwijze volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat genoemde 30 volumeverhouding tussen 1:1 en 1:2,5 ligt.
7. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk', dat genoemde organische verbinding ethylalcohol is. »
8. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het water in genoemde suspensie gedestilleerd water is. 8500749 fl -14-
9. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat genoemde vloeistof voor de deeltjessuspensie verder een binder omvat.
10. Werkwijze volgens conclusie 9, met het kenmerk, dat genoemde binder een oplossing van aluminiumhydroxyde in water is.
11. Werkwijze volgens conclusie 9, met het kenmerk, dat de binder aan genoemde vloeistof in een volumepercentage lager dan 5% wordt toegevoegd.
12. Werkwijze volgens conclusie 9, met het kenmerk, dat de gewichtsverhouding van vaste deeltjes tot totale vloeistof in genoemde 10 suspensie tussen 2:1 en 1:1 ligt.
13. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de gewichtsverhouding van genoemd gettermateriaal tot genoemd anti-sinter-middel tussen 3,5:1 en 2:1 ligt.
14. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat genoemd 15 gettermateriaal wordt gekozen uit Ti, Zr en hydriden daarvan en genoemd anti-sintermiddel wordt gekozen uit grafiet, vuurvaste metalen en metallische getterlegeringen.
15. Werkwijze volgens conclusie 14, met het kenmerk, dat genoemd gettermateriaal wordt gekozen uit titaanhydriden en zirkoon- 20 hydriden en genoemd anti-sintermiddel een Zr-gebaseerde legering omvat.
16. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat vdór genoemde sintertrap IV een verhittingstrap bij een temperatuur van 350°C tot 450°C wordt uitgevoerd tot alle waterstof uit het hydride is vrijgemaakt.
17. Werkwijze volgens conclusie 16, met het kenmerk, dat ge noemde temperatuur van 350eC tot 450eC in een tijdsduur van ongeveer 1 minuut wordt bereikt en daarna gedurende ongeveer 15 minuten wordt gehandhaafd.
18. Werkwijze voor het vervaardigen van een poreuze, niet- 30 verdampbare getterinrichting, gekenmerkt door de volgende trappenr A. het onderdompelen van een metallische getterdrager in een suspensie, bestaande uit een mengsel van deeltjes van: 1. titaanhydride met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 micrometer en groter dan 20 micrometer en met een gemiddelde deel-35 tjesgrootte van 40 micrometer en « 8500749 'J - -15- 2. een Zr-gebaseerde legering met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 micrometer en groter dan 20 micrometer en een gemiddelde deeltjesgrootte van 40 micrometer, waarbij de gewichtsverhouding van 1. tot 2. tussen 2,5:1 en 2:1 ligt, in een vloeistof omvattende:· 5 a) gedestilleerd water b) ethylalcohol en c) een oplossing van Al-hydroxyde in water, waarin de volumeverhouding a):b) tussen 1:1 en 1:2 ligt, het volume-percentage van c) ten opzichte van a)+b) kleiner is dan 5% en de ge-10 wichtsverhouding van vaste deeltjes tot vloeistof tussen 2:1 en 1:1 ligt? B. het doorleiden van een elektrische gelijkstroom tussen de metallische getterdrager als eerste elektrode en een tweede elektrode, waarbij de laatste een potentiaal heeft die niet groter is dan 15 60 V ten opzichte van de metallische getterdrager gedurende een tijds periode niet groter dan 60 seconden, waardoor aldus een poreuze bekleding van een mengsel van deeltjes van titaanhydride en een Zr-Al-legering op de metallische getterdrager wordt bekleed? C. het verwijderen van de beklede metallische getterdrager 20 uit de suspensie? D. het drogen van de beklede metallische getterdrager? en E. het snel verhitten van de beklede metallische getter- -3 drager bij een druk lager dan 10 Pa tot een temperatuur tussen 350eC en 450°C, het handhaven van deze temperatuur tot alle waterstof uit 25 het titaanhydride is vrijgemaakt en het daarna verhitten tot een temperatuur tussen 900°C en 1000eC voor het sinteren, gevolgd door koelen tot een temperatuur beneden 50°C.
19. Werkwijze volgens conclusie 18, met het kenmerk, dat genoemde Zr-gebaseerde legering een Zr-Al-binaire legering met 84 gew.%
30 Zr en als rest Ά1 is.
20. Werkwijze volgens conclusie 18, met het kenmerk, dat genoemde Zr-gebaseerde legering de ternaire legering Zr-V-Fe is.
21. Poreuze niet-verdampbare getterinrichting verkregen volgens de werkwijze van conclusie 1.
22. Poreuze niet-verdampbare getterinrichting verkregen volgens de werkwijze van conclusie 18. 8500749 -16-
23. Getterinrichting volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat deze een component van een vacuümelektronenbuis omvat.
24. Getterinrichting volgens conclusie 21, met het kenmerk, dat deze een afbuigplaat voor turbo-moleculaire pompen omvat.
25. Werkwijze voor het vervaardigen van een poreuze, niet-ver- dampbare getterinrichting, gekenmerkt door de volgende trappen: I. het onderdompelen van een roestvrij stalen getterdrager in een suspensie, welke suspensie in wezen bestaat uit: A„ titaanhydride met een deeltjesafmeting kleiner dan 10 60 micrometer en groter dan 20 micrometer bij een gemiddelde deeltjes grootte van 40 micrometer; B. een Zr-Al-legering, die 84% Zr en 16% Al omvat, welke Zr-Al-legering een deeltjesgrootte van kleiner dan 60 micrometer en groter dan 20 micrometer bij een gemiddelde deeltjesgrootte van 40 micro- 15 meter heeft; C. water; D. ethylalcohol; en E„ aluminiumhydroxyde; waarbij de gewichtsverhouding van A:B tussen 3,5:1 en 2:1 ligt; 20 de volumeverhouding van C:D tussen 1:1 en 2:1 ligt; het volume van E kleiner is dan 5% van het totale volume van C en D; en de gewichtsverhouding van vaste deeltjes tot vloeistof in genoemde suspensie tussen 2:1 en 1:1 ligt; waarna II. een potentiaal van 20-40 V tussen genoemde getterdrager 25 als een eerste elektrode en een tweede elektrode gedurende een periode van 15 seconden tot 50 seconden wordt aangelegd, waardoor een poreuze bekleding van een mengsel van titaanhydride en Zr-Al-legering op de getterdrager wordt gedeponeerd en een beklede drager wordt gevormd; waarna
30 III. de beklede drager uit de suspensie wordt verwijderd en vervolgens IV. de beklede drager met aceton wordt gespoeld en dan V. de beklede drager wordt gedroogd en -3 VI. de beklede drager bij een druk kleiner dan 10 Pa wordt 35 verhit tot een temperatuur tussen 350°C en 450°C en vervolgens VII. de beklede drager gedurende een voldoende tijdsperiode op een druk lager dan 10 ^ Pa en een temperatuur tussen 350°C en 450°C 8500749 -17- wordt gehouden om alle waterstof uit het titaanhydride vrij te maken, waardoor het titaanhydride in metallisch titaan wordt omgezet; en dan VIII. de beklede drager wordt gesinterd bij een temperatuur tussen 900°C en 1000°C onder vorming van de poreuze, niet-verdampbare 5 getterinrichting en tenslotte IX. genoemde getterinrichting tot kamertemperatuur wordt gekoeld. i t 8500740
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT2009784 | 1984-03-16 | ||
| IT20097/84A IT1173866B (it) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | Metodo perfezionato per fabbricare dispositivi getter non evarobili porosi e dispositivi getter cosi' prodotti |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8500749A true NL8500749A (nl) | 1985-10-16 |
| NL192478B NL192478B (nl) | 1997-04-01 |
| NL192478C NL192478C (nl) | 1997-08-04 |
Family
ID=11163775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8500749A NL192478C (nl) | 1984-03-16 | 1985-03-15 | Werkwijze voor het vervaardigen van een poreuze niet-verdampbare getterinrichting. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4628198A (nl) |
| JP (1) | JPH0821316B2 (nl) |
| DE (1) | DE3509465C2 (nl) |
| FR (1) | FR2561438B1 (nl) |
| GB (1) | GB2157486B (nl) |
| IT (1) | IT1173866B (nl) |
| NL (1) | NL192478C (nl) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4874339A (en) * | 1985-08-09 | 1989-10-17 | Saes Getters S.P.A. | Pumping tubulation getter |
| US5456740A (en) * | 1994-06-22 | 1995-10-10 | Millipore Corporation | High-efficiency metal membrane getter element and process for making |
| US5911560A (en) * | 1994-10-31 | 1999-06-15 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US6109880A (en) * | 1994-10-31 | 2000-08-29 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system including focus shields |
| US5972183A (en) * | 1994-10-31 | 1999-10-26 | Saes Getter S.P.A | Getter pump module and system |
| US6142742A (en) * | 1994-10-31 | 2000-11-07 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US5685963A (en) * | 1994-10-31 | 1997-11-11 | Saes Pure Gas, Inc. | In situ getter pump system and method |
| US5908579A (en) * | 1994-12-02 | 1999-06-01 | Saes Getters, S.P.A. | Process for producing high-porosity non-evaporable getter materials and materials thus obtained |
| US5610438A (en) * | 1995-03-08 | 1997-03-11 | Texas Instruments Incorporated | Micro-mechanical device with non-evaporable getter |
| US6110807A (en) * | 1995-06-07 | 2000-08-29 | Saes Getters S.P.A. | Process for producing high-porosity non-evaporable getter materials |
| IT1283484B1 (it) * | 1996-07-23 | 1998-04-21 | Getters Spa | Metodo per la produzione di strati sottili supportati di materiale getter non-evaporabile e dispositivi getter cosi' prodotti |
| WO1998052210A1 (en) * | 1997-05-15 | 1998-11-19 | Saes Getters S.P.A. | Getter devices for halogen lamps and process for their production |
| US6040657A (en) * | 1997-08-15 | 2000-03-21 | Itt Manufacturing Enterprises | Thin faceplate image intensifier tube having an improved vacuum housing |
| IT1295366B1 (it) | 1997-10-20 | 1999-05-12 | Getters Spa | Sistema getter per pannelli piatti al plasma impiegati come schermi |
| IT1297013B1 (it) | 1997-12-23 | 1999-08-03 | Getters Spa | Sistema getter per la purificazione dell'atmosfera di lavoro nei processi di deposizione fisica da vapore |
| JP3518855B2 (ja) | 1999-02-26 | 2004-04-12 | キヤノン株式会社 | ゲッター、ゲッターを有する気密容器および画像形成装置、ゲッターの製造方法 |
| IT1312248B1 (it) * | 1999-04-12 | 2002-04-09 | Getters Spa | Metodo per aumentare la produttivita' di processi di deposizione distrati sottili su un substrato e dispositivi getter per la |
| US6420002B1 (en) | 1999-08-18 | 2002-07-16 | Guardian Industries Corp. | Vacuum IG unit with spacer/pillar getter |
| IT1318937B1 (it) * | 2000-09-27 | 2003-09-19 | Getters Spa | Metodo per la produzione di dispositivi getter porosi con ridottaperdita di particelle e dispositivi cosi' prodotti |
| ITMI20010995A1 (it) * | 2001-05-15 | 2002-11-15 | Getters Spa | Dispensatori di cesio e processo per il loro uso |
| ITMI20012389A1 (it) | 2001-11-12 | 2003-05-12 | Getters Spa | Catodo cavo con getter integrato per lampade a scarica e metodi per la sua realizzazione |
| GB2386126B (en) * | 2002-03-06 | 2006-03-08 | Ceres Power Ltd | Forming an impermeable sintered ceramic electrolyte layer on a metallic foil substrate for solid oxide fuel cell |
| US7553355B2 (en) * | 2003-06-23 | 2009-06-30 | Matheson Tri-Gas | Methods and materials for the reduction and control of moisture and oxygen in OLED devices |
| ITMI20032208A1 (it) * | 2003-11-14 | 2005-05-15 | Getters Spa | Catodo con getter integrato e bassa funzione lavoro per lampade a catodo freddo. |
| US20060225817A1 (en) * | 2005-04-11 | 2006-10-12 | Konstantin Chuntonov | Gas sorbents on the basis of intermetallic compounds and a method for producing the same |
| DE102008021349A1 (de) | 2008-04-29 | 2009-11-05 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Elektrodengestell für eine Entladungslampe und Verfahren zum Herstellen eines Elektrodengestells sowie Entladungslampe |
| CN101325139B (zh) * | 2008-07-04 | 2010-06-09 | 北京有色金属研究总院 | 一种根部带防掉粉装置的吸气元件的制备方法 |
| US9079136B2 (en) * | 2009-05-21 | 2015-07-14 | Battelle Memorial Institute | Thin, porous metal sheets and methods for making the same |
| US10265660B2 (en) | 2009-05-21 | 2019-04-23 | Battelle Memorial Institute | Thin-sheet zeolite membrane and methods for making the same |
| US20120156394A1 (en) * | 2009-09-03 | 2012-06-21 | Ihi Corporation | Discharge surface treatment |
| WO2011026201A2 (en) * | 2009-09-04 | 2011-03-10 | Katholieke Universiteit Leuven | Metallic coatings on metallic substrates |
| KR102137754B1 (ko) * | 2012-08-31 | 2020-07-24 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 희토류 영구자석의 제조 방법 |
| CN103801252A (zh) * | 2012-11-15 | 2014-05-21 | 北京有色金属研究总院 | 一种带有保护层的吸气剂及其制备方法 |
| CN103055798A (zh) * | 2013-01-15 | 2013-04-24 | 北京联创宏业真空科技有限公司 | 一种吸气剂 |
| US10661223B2 (en) | 2017-06-02 | 2020-05-26 | Applied Materials, Inc. | Anneal chamber with getter |
| CN109834263A (zh) * | 2017-11-29 | 2019-06-04 | 北京有色金属研究总院 | 一种高强度高吸气性能Zr-V系吸气材料的制备方法 |
| CN110820031A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-02-21 | 有研工程技术研究院有限公司 | 一种微型吸气剂的制备方法 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA781592A (en) * | 1968-03-26 | Provisor Henri | Filament wire for use in the cathode of a thermionic valve | |
| GB723987A (en) * | 1951-12-28 | 1955-02-16 | Emi Ltd | Improvements in or relating to electron discharge devices |
| GB983932A (en) * | 1961-07-17 | 1965-02-24 | British Iron Steel Research | Improvements in or relating to the formation of metal coatings |
| US3203901A (en) * | 1962-02-15 | 1965-08-31 | Porta Paolo Della | Method of manufacturing zirconiumaluminum alloy getters |
| BE637608A (nl) * | 1962-09-21 | |||
| FR1355710A (fr) * | 1963-02-06 | 1964-03-20 | Radiotechnique | Perfectionnement aux filaments de chauffage de cathodes pour tubes électroniques |
| NL6712083A (nl) * | 1967-09-02 | 1969-03-04 | ||
| DE1764092C3 (de) * | 1968-04-01 | 1974-01-03 | Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen | Gettervorrichtung zum Einbau in elektrische Entladungsgefäße |
| US3652317A (en) * | 1970-05-01 | 1972-03-28 | Getters Spa | Method of producing substrate having a particulate metallic coating |
| DE2204714C3 (de) * | 1972-02-01 | 1979-10-18 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zum Herstellen von Getterkörpern |
| US3856709A (en) * | 1972-04-29 | 1974-12-24 | Getters Spa | Coating a substrate with soft particles |
| US3975304A (en) * | 1972-05-03 | 1976-08-17 | S.A.E.S. Getters S.P.A. | Coating a substrate with soft particles |
| IT963874B (it) * | 1972-08-10 | 1974-01-21 | Getters Spa | Dispositivo getter perfezionato contenente materiale non evapora bile |
| IT971931B (it) * | 1972-12-14 | 1974-05-10 | Getters Spa | Dispositivo getter con supporto poroso |
| US4146497A (en) * | 1972-12-14 | 1979-03-27 | S.A.E.S. Getters S.P.A. | Supported getter |
| IT978256B (it) * | 1973-01-19 | 1974-09-20 | Getters Spa | Dispositivo getter con supporto poroso avente un elemento di fis saggio solidale con il supporto stesso e metodo per produrre tale dispositivo |
| IT1037196B (it) * | 1975-04-10 | 1979-11-10 | Getters Spa | Elemento di combustibile per reattore nucleare impiegante zr2ni come metallo getterante |
| JPS5248523A (en) * | 1975-10-16 | 1977-04-18 | Ise Electronics Corp | Production method of getter |
| GB1605142A (en) * | 1978-05-30 | 1982-01-27 | English Electric Valve Co Ltd | Luminescent screen devices |
| IT1115156B (it) * | 1979-04-06 | 1986-02-03 | Getters Spa | Leghe zr-fe per l'assorbimento di idrogeno a basse temperature |
| DD147292B1 (de) * | 1979-11-22 | 1986-03-12 | Werk Fernsehelektronik Veb | Nicht verdampfendes getter und verfahren zu seiner herstellung |
| IT1198325B (it) * | 1980-06-04 | 1988-12-21 | Getters Spa | Struttura e composizione getteranti,particolarmente adatti per basse temperature |
| US4355229A (en) * | 1980-11-28 | 1982-10-19 | Rca Corporation | Intensified charge coupled image sensor having universal header assembly |
| US4360445A (en) * | 1981-06-16 | 1982-11-23 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Oxygen stabilized zirconium-vanadium-iron alloy |
| NL8201750A (nl) * | 1982-04-28 | 1983-11-16 | Philips Nv | Inrichting voorzien van een geevacueerd vat met een getter en een getterhulpmiddel. |
| DE3218625A1 (de) * | 1982-05-18 | 1983-11-24 | Messer Griesheim Gmbh, 6000 Frankfurt | Getter aus aktiven, feindispersen metallen |
| US4428856A (en) * | 1982-09-30 | 1984-01-31 | Boyarina Maya F | Non-evaporable getter |
-
1984
- 1984-03-16 IT IT20097/84A patent/IT1173866B/it active
-
1985
- 1985-03-08 US US06/709,641 patent/US4628198A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-08 US US06/709,644 patent/US5242559A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-14 GB GB08506665A patent/GB2157486B/en not_active Expired
- 1985-03-14 FR FR858503788A patent/FR2561438B1/fr not_active Expired
- 1985-03-15 JP JP5072085A patent/JPH0821316B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-15 NL NL8500749A patent/NL192478C/nl not_active IP Right Cessation
- 1985-03-15 DE DE3509465A patent/DE3509465C2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1173866B (it) | 1987-06-24 |
| NL192478B (nl) | 1997-04-01 |
| GB2157486A (en) | 1985-10-23 |
| NL192478C (nl) | 1997-08-04 |
| JPH0821316B2 (ja) | 1996-03-04 |
| GB8506665D0 (en) | 1985-04-17 |
| US5242559A (en) | 1993-09-07 |
| GB2157486B (en) | 1988-11-23 |
| JPS617537A (ja) | 1986-01-14 |
| FR2561438B1 (fr) | 1989-04-28 |
| DE3509465A1 (de) | 1985-09-19 |
| FR2561438A1 (fr) | 1985-09-20 |
| IT8420097A0 (it) | 1984-03-16 |
| DE3509465C2 (de) | 1998-11-12 |
| US4628198A (en) | 1986-12-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL8500749A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze niet-verdampbare getterinrichtingen en aldus vervaardigde getterinrichtingen. | |
| JP3103115B2 (ja) | ゲッターを収容するフィールドエミッターフラットディスプレー及びその製造法 | |
| TWI278523B (en) | Method for manufacturing porous getter devices with reduced particle loss and devices so manufactured | |
| NL8500751A (nl) | Beeldversterker met een elektroforetische getterinrichting. | |
| RU2224808C2 (ru) | Металл для электроники и способ его получения | |
| WO2015164994A1 (zh) | 一种多孔金属材料的制备方法及其应用 | |
| JP3419788B2 (ja) | 非蒸発型ゲッタ材料の担持された薄層の製造方法及びそれにより製造されたゲッタ装置 | |
| US4146497A (en) | Supported getter | |
| KR20040106234A (ko) | 음극 증착에 의해 얻어지는 비-증발성 게터 다층 증착물및 그 제조 방법 | |
| RU96118914A (ru) | Дисплей с плоским экраном с автоэлектронным эмиттером, содержащий газопоглотитель, и процесс его получения | |
| JPS63182283A (ja) | ゲッター装置製造方法 | |
| JPH09510506A (ja) | 多孔質金属複合体 | |
| US3356912A (en) | Porous electrode | |
| JP4555301B2 (ja) | 冷陰極ランプのための一体化されたゲッターと低仕事関数を有する陰極及びその製造方法 | |
| EP0436477A2 (en) | Gettering device and system for a cathode ray tube | |
| US3598646A (en) | Method for preparing oxide-coated cathodes | |
| JPH0630214B2 (ja) | 含浸カソードおよびその製造方法 | |
| JPH0215979B2 (nl) | ||
| JPH01242148A (ja) | 多孔質ニッケル電極触媒 | |
| MXPA06005402A (en) | Cathodewith integrated getter and low work function for cold cathode lamps |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |
Effective date: 20050315 |