KR970077476A - 챔버내에 반도체 웨이퍼와 같은 공작물을 수직으로 이동시키고 위치시키기 위한 장치 - Google Patents

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Abstract

가공처리 챔버내에 반도체 웨이퍼를 위치시키기 위한 가열 및 리프팅 장치가 제공되어 있는데, 가공처리 챔버 내에 웨이퍼를 지지하기 위한 지지대와 상기, 지지대의 하부 구역으로부터 하향으로 연장하고 리드 스크류를 말단부에 제공한 샤프트와, 상기 지지대와 샤프트의 선형 수직 전이를 제공하기 위해 상기 샤프트에 동축으로 제공되는 구동 수단을 포함한다. 상기 장치는 상기 지지대와 구동 샤프트 사이에 위치된 콘플랫(CONFLAT)조립체를 또한 포함한다. 상기 콘플랫(CONFLAT) 조립체는 서로 이동가능하게 연결된 상부 및 하부의 편평한 평면 플레이트를 포함한다. 상부 플레이트는 지지대의 하부 구역에 연결되며, 하부 플레이트는 구동 샤프트의 상단부에 연결된다. 콘플랫(CONFLAT

Description

챔버내에 반도체 웨이퍼와 같은 공작물을 수직으로 이동시키고 위치시키기 위한 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 리프트 기구의 측면도.

Claims (33)

  1. 챔버내에 반도체 웨이퍼와 같은 공작물을 수직으로 이동시키는 위치시키기 위한 장치에 있어서, 챔버내의 물품을 지지하기 위한 지지대와, 상기 지지대의 하부 구역으로부터 하향으로 연장하는 샤프트와, 상기 지지대와 샤프트의 선형 수직 전이를 제공하며 상기 샤프트의 말단부 근처의 상기 샤브트를 둘러싸고 상기 샤프트와 동축인 구동 수단을 포함하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 구동 수단위의 상기 샤프트를 둘러싼 베어링을 더 포함하고 있는 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구동 수단과 상기 지지대 사이의 상기 샤프트를 둘러싼 벨로우즈 조립체를 더 포함하고 있는 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 지지대에 상기 벨로우즈 조립체를 이동가능하게 연결하기 위한 수단을 더 포함하고 있는 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 이동가능한 연결 수단은 서로 이동가능하게 연결된 한 쌍의 편평한 평면 플레이트와, 상기 지지대의 하부 구역에 연결된 상기 조립체의 상부 프레이트와, 상기 샤프트의 상단부에 연결된 상기 조립체의 하부 프레이트를 포함하고 있는 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 이동가능한 연결 수단은 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트 사이에 금속 가스켓을 더 포함하고 있는 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 상부 플레이트의 하부 표면과 상기 하부 프레이트의 상부 맞물림면은 칼날형 엣지형태로 금속 밀봉되는 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 상부 플레이트 및 상기 하부 플레이트는 다수의 볼트에 의해 서로 제거가능하게 연결되어 있는 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 지지대는 가열 부재를 갖는 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 샤프트는 중공형 금속 실린더인 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 가열 부재에 연결되고 중공형 금속 실린더를 통해 통과하는 다수의 와이어와 냉각 라인을 더 포함하고 있는 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 구동 수단과 상기 지지대 사이의 위치에서 상기 샤프트를 둘러싼 상기 챔버의 하부벽에 이동가능하게 연결된 기저판을 더 포함하는 장치.
  13. 챔버내에 반도체 웨이퍼와 같은 공작물을 수직으로 이동시키고 위치시키기 위한 장치에 있어서, 챔버내의 물품을 지지하기 위한 지지대와 ,상기 지지대의 하부 구역으로부터 하햐으로 연장하는 샤프트와, 상기 샤프트의 말단부 근처의 샤프트를 둘러싼 회전가능한 중고형 샤프트 모터와, 그리고 상기 샤프트의 말단부와 구동가능하게 결합하기 위해 상기 샤프트 모터에 연결된 구동 플랜지를 포함하고 있는 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 구동 플랜지는 상기 플랜지의 상기 말단부에 근접한 샤프트를 둘러싸고 상기 샤프트의 말단부내의 형성된 리드 스크류와 회전가능하게 결합하기 위한 나사를 갖는 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 회전가능한 중공형 샤프트 모터 위의 상기 샤프트를 둘러싼 벨로우즈 조립체를 더 포함하고 있는 장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 회전가능한 중공형 샤프트 모터와 상기 지지대 사이의 상기 샤프트를 둘러싼 더 포함하고 있는 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 지지대에 상기 벨로우즈 조립체를 이동가능하게 연결하기 위한 수단을 더 포함하고 있는 장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 이동가능한 연결 수단은 서로 이동가능하게 연결된 한 쌍의 편평한 평면 플레이트와, 상기 지지대의 하부 구역에 연결된 상기 조립체의 상부 프레이트와, 상기 샤프트의 상단부에 연결된 상기 조립체의 하부 플레이트를 포함하고 있는 장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 이동가능한 연결 수단은 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트 사이에 금속가스켓을 더 포함하고 있는 장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 상부 플레이트의 하부면과 상기 하부 프레이트의 상부 맞물림면은 칼날형 엣지형태로 금속 밀봉되는 장치.
  21. 제18항에 있어서, 상기 상부 플레이트 및 상기 하부 플레이트는 다수의 볼트에 의해 서로 제거가능하게 연결되어 있는 장치.
  22. 제13항에 있어서, 상기 지지대는 가열 부재를 가지는 장치.
  23. 제22항에 있어서, 상기 샤프트는 중공형 금속 실린더인 장치.
  24. 제23항에 있어서, 상기 가열 부재에 연결되고 중공형 금속 실린더를 통해 통과하는 다수의 와이어와 냉각 라인을 더 포함하고 있는 장치.
  25. 제13항에 있어서, 상기 구동 수단과 상기 지지대 사이의 위치에서 상기 샤프트를 둘러싼 상기 챔버의 하부벽에 제거가능하게 연결된 기저판을 더 포함하고 있는 장치.
  26. 챔버에서 반도체 웨이퍼와 같은 공작물을 수직으로 전이시키기 위한 리프트 기구에 있어서, 상기 물품을 지지하기 위해 챔버내에 위치된 지지대와, 서로 이동가능하게 연결된 한쌍의 편평한 평면 플레이트와, 상기 지지대의 하부 구역에 연결된 상부 플레이트와, 상기 챔버의 하부벽을 통해 하향으로 연장하는상기 한쌍의 플레이트중 하나의 플레이트의 하부 표면에 여결돈 샤프트와, 그리고 상기 샤프트의 말단부에 연결된 외부 구동 기구를 포함하고 있는 리프트 기구.
  27. 제26항에 있어서, 상기 외부 구동 수단은 상기 샤프트의 원심 단부에 근접한 샤프트를 룰러싼 회전가능 한 중공형 샤프트 모터와, 상기 회전 가능한 중공형 샤프트 모터에 연결되고 샤프트와 말단부에 근접해 있는 상기 샤프트를 둘러싸고 있으며 상기 샤프트의 말단부내에 형성된 리드 스크류를 회전가능하게 결합하기 위한 나사가 제공되어 잇는 구동 플랜지를 포함하고 있는 리프트 기구.
  28. 제27항에 있어서, 상기 회전가능한 중공형 샤프트 모터 위의 상기 샤프트를 둘러싼 베어링을 더 포함하고 있는 리프트 기구.
  29. 제27항에 있어서, 상기 회전가능한 중공형 샤프트 모터와 상기 한 쌍의 편평한 평면 플레이트 사이의 상기 샤프트를 두러싼 벨로우즈 조립체를 더 포함하고 있는 리프트 기구.
  30. 제26항에 있어서, 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트 사이에 금속 가스켓을 포함하고 있는 리프트 기구.
  31. 제30항에 있어서, 상기 상부 플레이트의 하부 표면과 상기 하부 플레이트의 상부 맞물림면은 칼날형 엣지 형태로 금속 밀봉되는 리프트 기구.
  32. 제26항에 있어서, 사기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트는 다수의 볼트에 의해 서로 제거가능하게 연결되는 리프트 기구.
  33. 기판 가공처리챔버내에 기판을 수직으로 이동시키고 위치시키는 방법에 있어서, 챔버내에 물품을 지지하기 위한 지지대를 제공하는 단계와, 상기 지지대의 하부 구역으로부터 샤프트를 하향으로 연장하는 단계와, 상기 샤프트를 둘러싸고 이와 동축으로 샤프트와 지지대의 선형 수직 전이를 제공하는 단계를 포함하고 있는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970019434A 1996-05-20 1997-05-20 챔버내에 반도체 웨이퍼와 같은 공작물을 수직으로 이동시키고 위치시키기 위한 장치 KR970077476A (ko)

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