KR970054066A - 커패시터 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 커패시터 제조방법에 관한 것으로 특히, 커패시터 면적을 늘리는데 적합하도록 한 커패시터 제조방법에 관한 것이다.
이를 위한 본 발명의 커패시터 제조방법은 기판위에 ILD층, 질화막 및 제1산화막을 형성하는 단계, 상기 ILD층, 질화막 제1산화막을 선택적으로 제거하여 복수개의 제1노드 콘택홀을 형성하는 단계, 상기 복수개의 제1노드 콘택홀내 및 제1산화막 일부위에 복수개의 제1노드를 형성하는 단계, 상기 복수개의 제1노드를 포함한 기판전면에 제2산화막을 형성하는 단계, 상기 복수개의 각 제1노드 사이의 ILD층, 질화막 및 제1, 제2산화막을 선택적으로 제거하여 복수개의 제2노드 콘택홀을 형성하는 단계, 상기 복수개의 제2노드 콘택홀내 및 제2산화막 일부위에 복수개의 제2노드를 형성하는 단계, 상기 제1, 제2산화막을 제거하여 복수개의 제1, 제2노드를 노출시키는 단계, 상기 노출된 복수개의 제1, 제2노드 전면에 유전체막을 형성하는 단계, 상기 유전체막을 포함한 기판 전면에 플레이트 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.
따라서, 커패시터 면적을 크게 확장할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래의 커패시터 제조공정 단면도.
제2도는 본 발명의 커패시터 제조공정 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 기판 2 : ILD층
3 : 질화막 4 : 제1산화막
5 : 제1노드 콘택홀 6 : 제1노드
7 : 제2산화막 8 : 제2노드 콘택홀
9 : 제2노드 10 : 유전체막
11 : 플레이트 전극
Claims (1)
- 기판위에 ILD층, 질화막 및 제1산화막을 형성하는 단계, 상기 ILD층, 질화막 및 제1산화막을 선택적으로 제거하여 복수개의 제1노드 콘택홀을 형성하는 단계, 상기 복수개의 제1노드 콘택홀내 제1산화막 일부위에 복수개의 제1노드를 형성하는 단계, 상기 복수개의 제1노드를 포함한기판전면에 제2산화막을 형성하는 단계, 상기 복수개의 각 제1노드 사이의 ILD층, 질화막 제1, 제2산화막을 선택적으로 제거하여 복수개의 제2노드 콘택홀을 형성하는 단계, 상기 복수개의 제2노드 콘택홀내 및 제2산화막을 일부위에 복수개의 제2노드를 형성하는 단계, 상기 제1, 제2산화막을 제거하여 복수개의 제1, 제2노드를 노출시키는 단계, 상기 노출된 복수개의 제1, 제2노드 전면에 유전체막을 형성하는 단계, 상기 유전체막을 포함한 기판 전면에 플레이트 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 커패시터 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950058880A KR0174645B1 (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 커패시터 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950058880A KR0174645B1 (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 커패시터 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970054066A true KR970054066A (ko) | 1997-07-31 |
| KR0174645B1 KR0174645B1 (ko) | 1999-02-01 |
Family
ID=19445105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950058880A KR0174645B1 (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 커패시터 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0174645B1 (ko) |
-
1995
- 1995-12-27 KR KR1019950058880A patent/KR0174645B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0174645B1 (ko) | 1999-02-01 |
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