KR960031132A - 투명한 전도성 시트 - Google Patents

투명한 전도성 시트 Download PDF

Info

Publication number
KR960031132A
KR960031132A KR1019960002512A KR19960002512A KR960031132A KR 960031132 A KR960031132 A KR 960031132A KR 1019960002512 A KR1019960002512 A KR 1019960002512A KR 19960002512 A KR19960002512 A KR 19960002512A KR 960031132 A KR960031132 A KR 960031132A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
layer
transparent conductive
conductive sheet
group
Prior art date
Application number
KR1019960002512A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100347973B1 (ko
Inventor
다쓰이찌로 곤
사또시 이가라시
가즈오 야하따
히로유끼 후지시마
유지 다무라
Original Assignee
이따가끼 히로시
데이진 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP1582795A external-priority patent/JPH08211374A/ja
Priority claimed from JP01582595A external-priority patent/JP3423805B2/ja
Application filed by 이따가끼 히로시, 데이진 가부시끼가이샤 filed Critical 이따가끼 히로시
Publication of KR960031132A publication Critical patent/KR960031132A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100347973B1 publication Critical patent/KR100347973B1/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/306Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl acetate or vinyl alcohol (co)polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/042Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C08J7/0423Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/043Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/044Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/046Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/048Forming gas barrier coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345Insulating layers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/26Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode
    • H05B33/28Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode of translucent electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2429/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Derivatives of such polymer
    • C08J2429/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C08J2429/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2439/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen; Derivatives of such polymers
    • C08J2439/04Homopolymers or copolymers of monomers containing heterocyclic rings having nitrogen as ring member
    • C08J2439/06Homopolymers or copolymers of N-vinyl-pyrrolidones
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2463/00Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/05Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609Particulate metal or metal compound-containing
    • Y10T428/31612As silicone, silane or siloxane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652Of asbestos
    • Y10T428/31663As siloxane, silicone or silane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935Ester, halide or nitrile of addition polymer

Abstract

투명한 전도성 시트는 규소 산화물 기체 장벽층, 오르가노실리콘 화합물 함유 유기 수지 층 및 투명한 전도층이 플라스틱 기판의 한면에 순서대로 적층되거나 또는 앵커 도포층위에 폴리비닐 알콜 기재 수지 기체 장벽층 및 용매 내성 층이 순서대로 적층되어 이루어진다.

Description

투명한 전도성 시트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 내지 제4도는 본 발명에 따른 투명한 전도성 시트의 다양한 구현예의 단면도이다.
제5도는 액정 디스플레이의 구조예를 나타내는 단면도이다.

Claims (27)

  1. 하나 이상의 플라스틱 기판, 금속 산화물층 및/또는 폴리비닐 알콜 기재 수지층의 기체 장벽층, 용매 내성층, 및 플라스틱 기판면에 배치된 용매 내성층 상의 최외각 층인 투명한 전기적 전도층을 포함하는 투명한 전도성 시트에 있어서, 금속 산화물층이 존재한다면, 그 외부 표면에 오르가노실리콘 화합물을 함유하는 유기수지층이 제공되고, 폴리비닐 알콜 기재 수지층이 존재한다면, 그 기판 면에 경화 페녹시 기재 수지층의 앵커층이 제공됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 층상의 상기 유기 수지층은 하기 일반식(1) 및/또는 (2)로 표시되는 알콕시실란의 가수분해물 및 1차 복사 경화 수지의 혼합물을 함유하는 수지 조성물의 경화층임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    R1-Si(OR2)3(1)
    Si(OR2)4(2)
    [상기 식중, R1은 메틸 또는 에틸, 또는 비닐, 아크릴로일, 메트아크릴로일, 아미노 또는 에폭시기를 함유하는 기이고, R2는 메틸 또는 에틸이다.]
  3. 제2항에 있어서, 상기 오르가노실리콘 화합물 함유 유기 수지층은 상기 용매 내성층임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  4. 제2항에 있어서, 상기 경화 층의 상기 수지 조성물은 상기 1차 복사 경화 수지 및 상기 가수분해물을 20 : 1 내지 1 : 3의 고체 중량비로 함유함을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  5. 제2항에 있어서, 상기 알콕시실란 가수분해물은 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메트아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란 및 γ-글리시드옥시플로필트리메톡시실란으로부터 선택되는 알콕시실란의 가수분해물임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  6. 제1항에 있어서, 상기 1차 복사 경화 수지는 다가 아크릴레이트 성분을 함유함을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  7. 제6항에 있어서, 상기 1차 복사 경화 수지는 하기 일반식(8)로 표시되는 다가 아크릴레이트 성분을 함유함을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    (8)
    [상기 식중, X는 하기 식으로 표시되는 2가 기이다 ;
    (상기 식중, R은 수소원자, 할로겐원자, 또는 메틸 또는 에틸 기이고, n은 평균값으로 0.5 내지 2범위의 수이다.)]
  8. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 층상의 오르가노실리콘 화합물 함유 유기 수지 층은 하기 일반식(3)으로 표시되는 오르가노실리콘 화합물의 가수분해에 의하여 제조되는 중합체로 만들어짐을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    (3)
    [상기 식중, R3은 수소, 페닐기, 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 하기 일반식(4)로 표시되는 기 :
    (4)
    (상기 식중, x는 1 내지 12의 정수이고, R7및 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이다.)
    R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고, R5및 R6은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, y는 1 내지 12의 정수이고, w는 0 또는 1 내지 12의 정수이고, z는 1 내지 3의 정수이며, 및 w+z=3이다.]
  9. 제8항에 있어서, 상기 용매 내성 층은 아크릴 이소시아네이트를 함유하는 2차 복사 경화 수지이며, 앵커층으로서 상기 오르가노실리콘 화합물 함유 유기 수지 층상에 형성됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  10. 제9항에 있어서, 상기 2차 복사 경화 수지는 수지 총량을 기준으로, 분자당 2 이상의 아크릴 기를 갖는 지방족 다가 아크릴 수지 50중량% 이상을 함유하는 아크릴 기재 수지임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  11. 제10항에 있어서, 상기 아크릴 기재 수지는 복사 활성 아크릴기 및 이소시아네이트기를 함유하며, 하기 일반식(7)로 표시됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    [상기 식중, R은 탄소수 6 이하의 알킬렌기 또는 탄소수 4 이하의 알킬렌 산화물기이다.]
  12. 제9항에 있어서, 상기 2차 복사 경화 수지의 상기 아크릴 이소시아네이트의 함량은 수지 부분에 대하여 5 내지 20중량%임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  13. 제1항에 있어서, 상기 앵커 도포층의 상기 페녹시 기재 수지는 하기 일반식(5)로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 페녹시 수지, 페녹시 에테르 수지 및 페녹시 에스테르 수지로부터 선택되는 하나 이상의 유형의 페녹시 기재 수지, 및 둘 이상의 이소시아네이트기를 함유하는 다가 이소시아네이트 화합물의 혼합물로 구성되는 열 가교 수지를 경화하여 수득되는 경화층임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    [상기 식중, R9내지 R14는 동일하거나 상이하며, 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기일 수 있고, R15는 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기이며, X는 에테르 또는 에스테르기이며, m은 0 내지 3의 정수이고, n은 20 내지 300의 정수이다.]
  14. 제13항에 있어서, 상기 열 가교 수지는 페녹시 기재 수지에서의 히드록실기에 대한 다가 이소시아네이트화합물에서의 이소시아네이트기의 수 비의 값, 즉 NCO/OH가 0.2 내지 3임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  15. 제13항에 있어서, 상기 일반식(5)의 R9및 R10은 메틸기이고, R11내지 R14는 수소이며, R15는 펜틸렌기임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  16. 제13항에 있어서, 상기 앵커 도포층의 상기 다가 이소시아네이트 화합물은 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌 이소시아네이트, 톨릴렌 디이소시아네이트-트리메티롤프로판 부가물, 및 헥사메틸렌 디이소시아네이트에서 선택됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  17. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 층 및 상기 폴리비닐 알콜 기재 수지층이 상기 플라스틱 기판의 동일한 면에 적용되며, 상기 폴리비닐 알콜 기재 수지층은 상기 금속 산화물 층의 외면에 위치함을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  18. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 층 및 상기 폴리비닐 알콜 기재 수지층이 상기 플라스틱 기판의 상이한 면에 각각 제공됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  19. 제1항에 있어서, 상기 플라스틱 기판은 용액 주형법으로 형성된 두께 70 내지 200㎛의 플라스틱 시트이며, 그 투명한 전도성 시트는 20nm 이하의 지연치 및 550nm 파장에서 80% 이상의 광투과도를 가짐을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  20. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 층은 SiOx(1.5≤x≤2)로 표시되는 평균 조성을 갖는 규소 산화물로 만들어진 5 내지 100nm 두께의 층임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  21. 제1항에 있어서, 상기 투명한 전도 층은 주로 무정형의 인듐 산화물로 이루어지며, 한 성분으로서 5 내지 15중량%의 주석을 함유하고, 20 내지 200nm의 필름 두께를 가짐을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  22. 제21항에 있어서, 상기 1차 복사 경화 수지 및 상기 알콕시실란 가수분해물을 혼합하여 제조되는 상기 수지 조성물의 상기 경화 층에, 상기 투명한 전도 층이 직접 형성됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  23. 제1항에 있어서, 용매 내성 보호층으로서 노보락형 에폭시 기재 경화 수지, 실리콘 기재 경화 수지 또는 다가 아크릴레이트 함유 복사 경화성 수지로부터 형성된 경화층을 더 포함함을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  24. 제23항에 있어서, 상기 에폭시 기재 경화 수지는 하기 일반식(6)으로 표시되는 노브락형 에폭시 수지임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    [상기 식중, R16은 H 또는 CH3이고, R17은 H 또는 글리시딜페닐 에테르기이고, 및 n은 1 내지 50의 정수이다.]
  25. 제23항에 있어서, 상기 실리콘 기재 경화 수지는 40중량% 이상의 트리알콕시실란을 함유하는 실리콘 기재 경화 수지임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
  26. 투명한 플라스틱 기판의 한 면에 1차 기체 장벽층, 1차 용매 내성층 및 투명한 전도층이 순서대로 적층되고, 그 기판의 다른 면에 2차 기체 장벽층 및 2차 용매 내성층이 순서대로 적층되어 이루어진 투명한 전도성 시트에 있어서, 1차 기체 장벽층은 규소 산화물층이고, 상기 1차 용매 내성층은 하기 일반식(1) 및/또는 (2)로 표시되는 알콕시실란의 가수분해물 및 1차 복사 경화 수지를 20 : 1 내지 1 : 3의 고형 중량비로 혼합하여 제조되는 수지 조성물의 경화 층이고 ;
    R1-Si(OR2)3(1)
    Si(OR2)4(2)
    [상기 식중, R1은 메틸 또는 에틸, 또는 비닐, 아크릴로일, 메트아크릴로일, 아미노 또는 에폭시기를 함유하는 기이고, R2는 메틸 또는 에틸이다.], 상기 2차 기체 장벽층은 폴리비닐 알콜 기재 수지이고, 상기 2차 기체장벽층 및 상기 투명한 플라스틱 기판 사이에, 하기 일반식(5)로 표시되는 반복단위를 함유하는 페녹시 수지, 페녹시 에테르 수지 및 페녹시 에스테르 수지로부터 선택되는 하나 이상의 유형의 페녹시 기재 수지와 둘 이상의 이소시아네이트기를 함유하는 다가 이소시아네이트 화합물의 혼합물로 이루어지는 열 가교 수지를 경화함으로 수득되는 경화층인 앵커 도포층이 제공됨을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트 :
    [상기 식중, R9내지 R14는 동일하거나 상이하며, 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기일 수 있고, R15는 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기이며, X는 에테르 또는 에스테르기이며, m은 0 내지 3의 정수이고, n은 20 내지 300의 정수이다.]
  27. 제26항에 있어서, 상기 2차 용매 내성 층은 노보락형 에폭시 기재 경화 수지, 실리콘 기재 수지 또는 다가 아크릴레이트 함유 복사 경화성 수지로부터 형성되는 경화 층임을 특징으로 하는 투명한 전도성 시트.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960002512A 1995-02-02 1996-02-02 투명한전도성시트 KR100347973B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP95-15825 1995-02-02
JP1582795A JPH08211374A (ja) 1995-02-02 1995-02-02 透明導電性フィルム
JP01582595A JP3423805B2 (ja) 1995-02-02 1995-02-02 積層フィルム及びその製造方法
JP95-15827 1995-02-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960031132A true KR960031132A (ko) 1996-09-17
KR100347973B1 KR100347973B1 (ko) 2003-03-15

Family

ID=26352044

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960002512A KR100347973B1 (ko) 1995-02-02 1996-02-02 투명한전도성시트

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6136444A (ko)
EP (1) EP0726579B1 (ko)
KR (1) KR100347973B1 (ko)
CA (1) CA2168529A1 (ko)
DE (1) DE69630829T2 (ko)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6306348B1 (en) * 1993-11-01 2001-10-23 Nanogen, Inc. Inorganic permeation layer for micro-electric device
CA2200829C (en) 1996-03-25 2006-02-21 Toru Hanada Liquid crystal display element with a transparent electrode substrate, and the transparent electrode substrate
US5882841A (en) * 1996-12-26 1999-03-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide photographic light-sensitive material and method for processing thereof
EP1046946B1 (en) * 1998-01-09 2008-05-28 Nissha Printing Co., Ltd. Liquid crystal display of touch input type, and method of manufacture
EP1103885B1 (en) * 1998-06-18 2006-08-16 Kaneka Corporation Transparent touch panel and liquid crystal display with transparent touch panel
EP1026652B1 (en) * 1998-07-27 2005-01-26 Seiko Epson Corporation Arrangement of spacer beads in the seal of an electro-optic display to prevent damage to underlying conductors
KR20020048425A (ko) * 1999-09-30 2002-06-22 해리 제이. 레온 하르트 마이크로전자 어레이 상의 생체분자 부착 부위
JP2001109014A (ja) * 1999-10-05 2001-04-20 Hitachi Ltd アクティブマトリクス型液晶表示装置
US6303082B1 (en) * 1999-12-15 2001-10-16 Nanogen, Inc. Permeation layer attachment chemistry and method
US6524517B1 (en) * 1999-12-15 2003-02-25 Nanogen, Inc. Methods for molding and grafting highly uniform polymer layers onto electronic microchips
JP4562227B2 (ja) * 2000-01-31 2010-10-13 日東電工株式会社 光学用樹脂基板の製造方法
DE60128508D1 (de) * 2000-03-28 2007-07-05 Toyo Boseki Transparenter leitender Film, transparentes leitendes Blatt und berührungsempfindliche Tafel
TWI265861B (en) * 2000-08-21 2006-11-11 Nippon Catalytic Chem Ind Gas barrier resin
US6743516B2 (en) * 2000-09-29 2004-06-01 Guardian Industries Corporation Highly durable hydrophobic coatings and methods
JP2002343580A (ja) * 2001-05-11 2002-11-29 Pioneer Electronic Corp 発光ディスプレイ装置及びその製造方法
US6727970B2 (en) 2001-06-25 2004-04-27 Avery Dennison Corporation Method of making a hybrid display device having a rigid substrate and a flexible substrate
US6856086B2 (en) * 2001-06-25 2005-02-15 Avery Dennison Corporation Hybrid display device
TW588345B (en) * 2001-09-28 2004-05-21 Sony Corp Optical recording medium and its manufacturing method
WO2003032332A1 (fr) * 2001-10-05 2003-04-17 Bridgestone Corporation Film transparent electroconducteur, son procede de fabrication, et ecran tactile y relatif
US6960298B2 (en) 2001-12-10 2005-11-01 Nanogen, Inc. Mesoporous permeation layers for use on active electronic matrix devices
KR100527088B1 (ko) * 2001-12-31 2005-11-09 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 플라스틱 기판을 이용한 액정표시장치
KR20030067125A (ko) * 2002-02-07 2003-08-14 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 지주 스페이서 일체형 플라스틱 기판을 갖는 액정표시장치
JP2003315775A (ja) * 2002-04-26 2003-11-06 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
KR100484102B1 (ko) * 2002-05-16 2005-04-18 삼성에스디아이 주식회사 투명도전막 형성용 조성물, 이로부터 형성된 투명도전막및 상기 투명도전막을 채용한 화상표시장치
US6811815B2 (en) 2002-06-14 2004-11-02 Avery Dennison Corporation Method for roll-to-roll deposition of optically transparent and high conductivity metallic thin films
US20040229051A1 (en) 2003-05-15 2004-11-18 General Electric Company Multilayer coating package on flexible substrates for electro-optical devices
DE10304537A1 (de) * 2003-02-04 2004-08-12 Kuraray Specialities Europe Gmbh Kunststoff-Formkörper, Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung
US7695805B2 (en) * 2004-11-30 2010-04-13 Tdk Corporation Transparent conductor
JP4425167B2 (ja) * 2005-03-22 2010-03-03 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4624152B2 (ja) * 2005-03-24 2011-02-02 富士フイルム株式会社 プラスチックフィルム、ガスバリアフィルム、およびそれを用いた画像表示素子
JP4663381B2 (ja) * 2005-04-12 2011-04-06 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4698310B2 (ja) * 2005-07-11 2011-06-08 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
US7722929B2 (en) 2005-08-18 2010-05-25 Corning Incorporated Sealing technique for decreasing the time it takes to hermetically seal a device and the resulting hermetically sealed device
US20070040501A1 (en) 2005-08-18 2007-02-22 Aitken Bruce G Method for inhibiting oxygen and moisture degradation of a device and the resulting device
US7829147B2 (en) 2005-08-18 2010-11-09 Corning Incorporated Hermetically sealing a device without a heat treating step and the resulting hermetically sealed device
US20090022981A1 (en) * 2005-09-20 2009-01-22 Mitsubishi Plastics, Inc. Laminated film having gas barrier characteristics
JP2009511290A (ja) * 2005-10-05 2009-03-19 ダウ・コーニング・コーポレイション 被覆基板及びその製造方法
US8845866B2 (en) * 2005-12-22 2014-09-30 General Electric Company Optoelectronic devices having electrode films and methods and system for manufacturing the same
US8274729B2 (en) 2006-03-03 2012-09-25 Gentex Corporation Thin-film coatings, electro-optic elements and assemblies incorporating these elements
US8169681B2 (en) 2006-03-03 2012-05-01 Gentex Corporation Thin-film coatings, electro-optic elements and assemblies incorporating these elements
MX2008011009A (es) * 2006-03-03 2008-09-05 Gentex Corp Revestimientos de pelicula delgada mejorados, elementos electro-opticos y ensambles que incorporan estos elementos.
US8368992B2 (en) 2006-03-03 2013-02-05 Gentex Corporation Electro-optical element including IMI coatings
JP4717674B2 (ja) * 2006-03-27 2011-07-06 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4757709B2 (ja) * 2006-05-26 2011-08-24 株式会社豊田中央研究所 樹脂ガラス用積層体及びその製造方法
US20080048178A1 (en) 2006-08-24 2008-02-28 Bruce Gardiner Aitken Tin phosphate barrier film, method, and apparatus
US7687103B2 (en) * 2006-08-31 2010-03-30 Gamida For Life B.V. Compositions and methods for preserving permeation layers for use on active electronic matrix devices
US7639335B2 (en) * 2007-03-19 2009-12-29 Epson Imaging Devices Corporation Electro-optical device and electronic apparatus
WO2008122293A1 (en) * 2007-04-04 2008-10-16 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Packaging laminate, method for manufacturing of the packaging laminate and packaging container produced there from
AR068223A1 (es) 2007-09-07 2009-11-11 Avery Dennison Corp Eiqueta para enmascarar, hoja de material para etiquetas y metodo relacionado
JP5099893B2 (ja) 2007-10-22 2012-12-19 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、その製造方法及びそれを備えたタッチパネル
KR20120082129A (ko) * 2011-01-13 2012-07-23 도레이첨단소재 주식회사 전자부품 제조용 점착테이프
KR101295705B1 (ko) * 2011-04-25 2013-08-16 도레이첨단소재 주식회사 투명 플라스틱기판용 페녹시수지 조성물 및 이를 이용한 투명 플라스틱 기판소재
TWI486258B (zh) * 2013-11-15 2015-06-01 Far Eastern New Century Corp Low resistance transparent conductive laminate, low resistance patterned transparent Conductive laminated body and touch panel
KR102024262B1 (ko) * 2015-12-30 2019-09-23 주식회사 엘지화학 도전성 필름
JPWO2019065080A1 (ja) * 2017-09-29 2020-10-22 日東電工株式会社 エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56130010A (en) * 1980-03-18 1981-10-12 Toyo Boseki Transparent conductive film
JPS5720718A (en) * 1980-07-11 1982-02-03 Toyobo Co Ltd Polarizing plate with transparent conductive layer
US4709991A (en) * 1983-04-26 1987-12-01 Seiko Epson Kabushiki Kaisha Liquid crystal display with barrier layer to reduce permeability
JPH0644116B2 (ja) * 1984-07-31 1994-06-08 東洋紡績株式会社 液晶表示パネル用電極基板
JPS6173924A (ja) * 1984-09-20 1986-04-16 Ricoh Co Ltd 液晶表示素子
JPH071400B2 (ja) * 1985-11-05 1995-01-11 三菱化成株式会社 電子写真感光体
JP2632673B2 (ja) * 1986-09-14 1997-07-23 東洋紡績 株式会社 液晶表示パネル用電極基板
JPS6395942A (ja) * 1986-10-13 1988-04-26 三菱化学株式会社 透明導電性フイルム
JPH039323A (ja) * 1989-06-07 1991-01-17 Teijin Ltd 液晶表示パネル用電極基板
JPH04299109A (ja) * 1991-03-28 1992-10-22 Fujimori Kogyo Kk 光学用積層体
JP3158667B2 (ja) * 1991-08-01 2001-04-23 セイコーエプソン株式会社 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子の再生方法
JP2755844B2 (ja) * 1991-09-30 1998-05-25 シャープ株式会社 プラスチック基板液晶表示素子
JPH05185568A (ja) * 1992-01-14 1993-07-27 Diafoil Co Ltd 液晶表示パネル用フィルム
JPH06136159A (ja) * 1992-10-27 1994-05-17 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 透明導電性フィルムおよびその製造法
JP3425775B2 (ja) * 1992-11-06 2003-07-14 藤森工業株式会社 光学用部材の表面保護フィルム
JP3305022B2 (ja) * 1992-12-02 2002-07-22 藤森工業株式会社 電極基板
JPH06234186A (ja) * 1993-02-10 1994-08-23 Mitsui Toatsu Chem Inc 高ガスバリヤー性透明電極フィルム
EP0649047B1 (en) * 1993-03-29 2003-11-05 Toray Industries, Inc. Plastic optical article and process for producing the same
JP3017912B2 (ja) * 1993-12-13 2000-03-13 シャープ株式会社 液晶表示装置用電極基板及び液晶表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE69630829D1 (de) 2004-01-08
KR100347973B1 (ko) 2003-03-15
DE69630829T2 (de) 2004-09-23
CA2168529A1 (en) 1996-08-03
US6136444A (en) 2000-10-24
EP0726579A3 (en) 1997-05-14
EP0726579B1 (en) 2003-11-26
EP0726579A2 (en) 1996-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960031132A (ko) 투명한 전도성 시트
EP3281984B1 (en) Fluoroalkyl-containing curable organopolysiloxane composition, cured object obtained therefrom, and electronic component or display device including said cured object
KR970065679A (ko) 오염 방지막 형성용 조성물, 광학 소자, 및 표시 장치
CA2507030A1 (en) Gas barrier laminate film
CA2455897A1 (en) Multi-layer composites formed from compositions having improved adhesion, coating compositions, and methods related thereto
EP1035439A3 (en) Photosensitive resin composition, color filter, and copolymer resin useful for them
KR20200107974A (ko) 실리콘 점착제 조성물, 점착 필름 및 점착 테이프
WO2013094585A1 (ja) ガラス繊維複合化樹脂基板
US20140174523A1 (en) Sheet for photovoltaic cell
CN103338930B (zh) 底漆组合物和层合物
KR102603841B1 (ko) 점착 시트
US6475329B1 (en) Primer for silicone compositions
KR870011480A (ko) 발광 표시장치용 반사방지판
KR102131994B1 (ko) 하드 코팅 필름
KR20140085264A (ko) 하드코팅 필름 및 그 제조방법
JP2006095783A (ja) 透明ガスバリア性フィルム、及びそれを用いたディスプレイ用基板
US20160032109A1 (en) Coating composition
CN111592675A (zh) 一种适用性广的多功能保护膜材料
WO2019212215A1 (ko) 하드 코팅 필름
US20230066264A1 (en) Coating compositions
CA2196179A1 (en) Surface coating material, hardened film of the material, and synthetic resin molding covered with the film
KR20220074409A (ko) 광학 적층체 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 장치
JPH0949926A (ja) 偏光板プロテクト用粘着剤組成物
KR20200049567A (ko) 하드 코팅 적층체
US10072155B2 (en) Coating composition

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110628

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee