KR960014412A - 표면의 수분 제거 및 안정화 방법 - Google Patents

표면의 수분 제거 및 안정화 방법 Download PDF

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KR960014412A
KR960014412A KR1019950036988A KR19950036988A KR960014412A KR 960014412 A KR960014412 A KR 960014412A KR 1019950036988 A KR1019950036988 A KR 1019950036988A KR 19950036988 A KR19950036988 A KR 19950036988A KR 960014412 A KR960014412 A KR 960014412A
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마크 파인 스티븐
데이비드 존슨 앤드류
질리스 랜건 존
Original Assignee
윌리엄 에프. 마쉬
에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
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Abstract

본 발명은 전자 부품 제조 설비의 고순도 가스의 운송용 금속회로와 같이, 표면으로부터 수분을 제거하고 수분의 재흡착을 막도록 상기 금속 표면을 안정화시키는 방법에 관한 것이다. 상기 수분 제거 및 안정화는 일반식 RaSiXbYcZd의 조성(상기식 중, a=1-3;6, c 및 d는 각각 0-3이고 a+b+c+d=4; R은 1개 이상의 유기 기이고; X, Y 또는 Z중의 적어도 하나는 쉽게 가수분해될 수 있는 실리콘에의 결합을 가짐)의 건조제를 사용하여 개선할 수 있다. 상기 수분 제거 및 안정화는 65℃이상, 주위 온도 이상에서 수행된다.

Description

표면의 수분 제거 및 안정화 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 약 14.7psig 이상의 압력에서 일반식 RaSiXbYcZd의 조성(상기식 중, a=1-3;6, c 및 d는 각각 0-3이고 a+b+c+d=4; R은 1개 이상의 유기 기이고; X, Y 및 Z는 각각 수소, 할로겐, 알콕시, 아민 또는 -N(H)Si(R3)이고, 단, X, Y 또는 Z 중의 하나 이상은 쉽게 가수분해될 수 있는 실리콘과의 결합을 가짐)을 갖는 건조제를 함유하는 담체 가스의 흐름과 표면을 접촉시켜서 흡착된 수분을 표면으로부터 제거하고 그 표면을 안정화시켜서 수분이 재흡착되는 것을 막는 단계를 포함하는, 수분이 흡착되어 있는 표면상의 수분 제거 및 수분 안정화 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유기 기는 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 알킬-, 알케닐-, 또는 알키닐-치환된 아릴, 아릴 치환된 알킬-, 알케닐- 또는 알키닐- 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 건조제는 하기 일반식의 조성인 방법 :
    상기식 중 R은 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 알킬-, 알케닐-, 또는 알키닐-치환된 아릴, 아릴 치환된 알킬-, 알케닐- 또는 알키닐- 및 그 혼합물이며, a는 1-3이다.
  4. 제3항에 있어서, R은 메틸, 에틸, 비닐, 프로필, 부틸, 펜탄, 헥실, 시클로헥실, 페닐 또는 그 혼합물인 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 건조제는 하기 일반식의 조성인 방법.
    상기식 중 R은 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 알킬-, 알케닐-, 또는 알키닐-치환된 아릴, 아릴 치환된 알킬-, 알케닐- 또는 알키닐- 및 그 혼합물이며, X는 플루오르, 브롬, 염소, 요오드 또는 그 혼합물이며, a, b 및 c는 각각 1-2이며, a+b+c=4이다.
  6. 제5항에 있어서, R은 메틸, 에틸, 비닐, 프로필, 부틸, 펜탄, 헥실, 시클로헥실, 페닐 또는 그 혼합물인 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 건조제는 하기 일반식의 조성을 갖는 방법.
    상기식 중 R 및 R′는 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 알킬-, 알케닐-, 또는 알키닐-치환된 아릴, 아릴 치환된 알킬-, 알케닐- 또는 알키닐- 및 그 혼합물이며, a는 1-3이다.
  8. 제7항에 있어서, R 및 R′는 각각 메틸, 에틸, 비닐, 프로필, 부틸, 펜탄, 헥실, 시클로헥실, 페닐 또는 그 혼합물인 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 건조제는 하기 일반식의 조성을 갖는 방법 :
    상기식 중, R은 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴,알킬-, 알케닐-, 또는 알키닐-치환된 아릴, 아릴치환된 알킬-, 알케닐- 또는 알케닐 - 및 그 혼합물이다.
  10. 제9항에 있어서, R은 메틸, 에틸, 비닐, 프로필, 부틸, 펜탄, 헥실, 시클로헥실, 페닐 또는 그 혼합물인 방법.
  11. 제1항에 있어서, 건조제를 함유하는 담개 가스와 상기 흐름을 약 65℃이하의 온도에서 상기 표면과 접촉시키는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 상기 표면은 금속 표면인 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 금속 표면은 강철인 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 금속 표면은 고순도 가스 운송 장치의 내부 파이프인 방법.
  15. 하기 (a) 및 (b) 단계를 포함하여, 수분이 흡착된 고순도 가스 파이프 내표면의 수분을 제거하고 안정화 시키는 방법; (a) 0.1부피% 이하의 수분 함량을 갖는 비활성 가스로 상기 파이프를 퍼즈하는 단계; 및 (b)상기 표면을 약 14.7pasig 이상 및 약 65℃이하의 온도에서 일반식 RaSiXbYcZd의 조성(상기식 중, a=1-3; b, c 및 d는 각각 0-3이고 a+b+c+d=4; R은 1개 이상의 유기 기이고; X, Y 및 Z는 각각수소, 할로겐, 알콕시, 아민 또는 -N(H)Si(R3)이고 단, X, Y 또는 Z중의 적어도 하나는 쉽게 가수분해될 수 있는 실리콘과의 결합을 가짐)을 갖는 건조제를 함유하는 담체가스의 흐름과 접촉시켜서 상기 표면으로부터 습착된 수분을 제거하고 그 표면을 안정화시켜서 수분의 재흡착을 막는 단계.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100417035B1 (ko) * 2001-07-06 2004-02-25 박정선 유기 전계발광 소자

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19638709A1 (de) * 1996-09-21 1998-04-09 Sts Gmbh Sanierung Tech System Verfahren zur Sanierung technischer Bauteile unter Verwendung von Stickstoff sowie eine Anlage dazu
JP2975917B2 (ja) * 1998-02-06 1999-11-10 株式会社半導体プロセス研究所 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
US7029826B2 (en) * 2000-06-23 2006-04-18 Honeywell International Inc. Method to restore hydrophobicity in dielectric films and materials
US20030017359A1 (en) * 2001-07-17 2003-01-23 American Air Liquide, Inc. Increased stability low concentration gases, products comprising same, and methods of making same
US7832550B2 (en) * 2001-07-17 2010-11-16 American Air Liquide, Inc. Reactive gases with concentrations of increased stability and processes for manufacturing same
CA2448697C (en) * 2001-07-17 2012-09-25 L'air Liquide - Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method of making a passivated surface
AU2003220039A1 (en) * 2002-03-04 2003-09-22 Supercritical Systems Inc. Method of passivating of low dielectric materials in wafer processing
EP1495366A1 (en) * 2002-04-12 2005-01-12 Supercritical Systems Inc. Method of treatment of porous dielectric films to reduce damage during cleaning
AU2003214502A1 (en) * 2002-05-29 2003-12-12 L'air Liquide - Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitati Reduced moisture compositions comprising an acid gas and a matrix gas, articles of manufacture comprising said compositions and processes for manufacturing same
CN1742363B (zh) * 2003-01-25 2010-10-13 霍尼韦尔国际公司 受损电介质材料和电介质膜的修复和恢复
US7709371B2 (en) * 2003-01-25 2010-05-04 Honeywell International Inc. Repairing damage to low-k dielectric materials using silylating agents
US7914847B2 (en) * 2003-05-09 2011-03-29 Asm America, Inc. Reactor surface passivation through chemical deactivation
KR101090895B1 (ko) * 2003-05-09 2011-12-08 에이에스엠 아메리카, 인코포레이티드 화학적 비활성화를 통한 반응기 표면의 패시베이션
JP2007533940A (ja) * 2003-07-30 2007-11-22 ベーエスハー ボッシュ ウント ジーメンス ハウスゲレーテ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 少なくとも1つの部分プログラム段階「乾燥」を有する装置を運転する方法
US8475666B2 (en) * 2004-09-15 2013-07-02 Honeywell International Inc. Method for making toughening agent materials
EP1528430A1 (en) * 2003-10-30 2005-05-04 ASML Netherlands B.V. A device manufacturing method, as well as a lithographic apparatus
US20060040054A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Pearlstein Ronald M Passivating ALD reactor chamber internal surfaces to prevent residue buildup
US7678712B2 (en) * 2005-03-22 2010-03-16 Honeywell International, Inc. Vapor phase treatment of dielectric materials
US7500397B2 (en) * 2007-02-15 2009-03-10 Air Products And Chemicals, Inc. Activated chemical process for enhancing material properties of dielectric films
US20090026924A1 (en) * 2007-07-23 2009-01-29 Leung Roger Y Methods of making low-refractive index and/or low-k organosilicate coatings
US7750095B2 (en) 2008-08-22 2010-07-06 Chevron Phillips Chemical Company Lp System and method for reducing fouling in a reactor
US8293658B2 (en) * 2010-02-17 2012-10-23 Asm America, Inc. Reactive site deactivation against vapor deposition
US8590705B2 (en) 2010-06-11 2013-11-26 Air Products And Chemicals, Inc. Cylinder surface treated container for monochlorosilane
US9223203B2 (en) 2011-07-08 2015-12-29 Asm International N.V. Microcontact printed films as an activation layer for selective atomic layer deposition
IN2014KN01689A (ko) * 2012-02-09 2015-10-23 Georgia Pacific Chemicals Llc
EP2861779A1 (en) * 2012-06-15 2015-04-22 Praxair Technology Inc. Cylinder preparation for maintaining stability of stored materials

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3307271A (en) * 1964-02-06 1967-03-07 Du Pont Process for drying polymers
BE754997A (fr) * 1969-08-20 1971-02-19 Packo Joseph J Methode et compositions de colmatage des fuites
US3716384A (en) * 1971-05-12 1973-02-13 Packo J Compositions for sealing leaks in vessels
US4723363A (en) * 1986-12-29 1988-02-09 Motorola Inc. Process for removal of water
JPH085623B2 (ja) * 1989-09-27 1996-01-24 株式会社神戸製鋼所 クレーンの安全装置
JP3162480B2 (ja) * 1991-06-03 2001-04-25 レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード 金属表面に接触する低濃度のガス状水素化物の安定性を高めるために金属表面を不活性化する方法
US5255445A (en) * 1991-06-06 1993-10-26 American Air Liquide, Chicago Research Center Process for drying metal surfaces using gaseous hydrides to inhibit moisture adsorption and for removing adsorbed moisture from the metal surfaces
JPH05310445A (ja) * 1992-05-13 1993-11-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd 撥水性ガラス物品およびその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100417035B1 (ko) * 2001-07-06 2004-02-25 박정선 유기 전계발광 소자

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