JP4897510B2 - シクロテトラシロキサンの安定化方法及び組成物 - Google Patents
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Description
一般に、ここに記載される全ての安定性実験の組ごとに、1つ又は2つのブランク(添加剤を含まないTOMCATSタイプのシロキサン)について実験が行われた。TOMCATSタイプのシロキサン原料物質の複数の異なるバッチが使用された。明確を期して、ブランク実験からの結果はすべてこの例の中に含められている。これらの試験のために用いられたアンプルの容積は、標準的に80〜90mlであった。精製水で、次に試薬グレードのアセントで洗い流すことにより、石英アンプルを規定どおりに洗浄した。洗い流したアンプルを最低4時間にわたり175℃の乾燥用オーブンに入れた。乾燥したアンプルをオーブンからとり出し、暖かいうちに使用した。各アンプルに3.0〜7.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを投入した。アンプルの開放端部にテフロン(登録商標)(商標)のバルブを取付け、そしてアンプルの端部を液体窒素浴内に浸漬することによりTOMCATSタイプのシロキサンを冷却した。5分間真空に付すことによって、アンプルから空気を除去した。水素/酸素トーチを用いてネックでアンプルを密封した。密封したアンプルを、120℃の一定温度に保持した窒素パージされたオーブンに5日間入れた。5日後に、アンプルの加熱をやめ、室温まで冷却させた。試料が目視により非常に粘度が高いものであるか又は固体であるとみなされた場合、これらをGCで分析せず、代りに、これらを「>10質量%」の重合度であるとした。>10質量%の値は、類似の粘度増加を受けた以前の試料のGC分析に基づいていた。ここでもまた、高レベルの重合体はGCカラムを不可逆的に汚染する傾向をもつことから、大いに重合された試料についてはGC分析を実施しなかった。この例で説明したブランクのTOMCATSタイプのシロキサン試料は、0.18質量パーセントから>10質量パーセントまでの範囲の重合増加を示した。結果は、表1に要約されている。
標準的実験において、例1で説明した通りに予め清浄し乾燥したアンプルに0.50マイクロリットルの2,4−ペンタンジオンを入れた。このアンプルに、アンプルの内壁に付着したままの残留2,4−ペンタンジオン液を洗い落とすように注意しながら、5.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを加えた。このように調製したアンプルは、100体積ppmの2,4−ペンタンジオンとともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は清澄度に検出可能な変化は見られなかった。100ppmの2,4−ペンタンジオン添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサンの3.0ml〜7.0mlの試料について類似の試験を行なった。各ケースにおいて、試験後の試料に検出可能な可視的変化は見られなかった。これらの試料は、ゼロ乃至0.35質量パーセントの範囲の重合増加を示した。結果は、表1に要約されている。
標準的実験において、例1で説明した通りに予め清浄し乾燥したアンプルに5.0マイクロリットルの2,4−ペンタンジオンを入れた。このアンプルに、アンプルの内壁に付着したままの残留2,4−ペンタンジオン液を洗い落とすように注意しながら、5.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを加えた。このように調製したアンプルは、1000体積ppmの2,4−ペンタンジオンとともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は清澄度に検出可能な変化は見られなかった。100ppmの2,4−ペンタンジオン添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサンの3.0ml〜7.0mlの試料について類似の試験を行なった。各ケースにおいて、試験後の試料に検出可能な可視的変化は見られなかった。これらの試料は、0.11質量%乃至0.30質量パーセントの範囲の重合増加を示した。結果は、表1に要約されている。
例1で説明した通りに予め清浄し乾燥した2本のアンプルの各々に、0.70マイクロリットル及び3.0マイクロリットルの1−ヘキサン酸を入れた。アンプルの内壁に付着したままの残留1−ヘキサン酸液を洗い落とすように注意しながら、それぞれこれらのアンプルの各々に7.0ml及び3.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを加えた。このように調製したアンプルは、それぞれ100ppm(体積)及び1000ppm(体積)の1−ヘキサン酸とともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は静澄度に検出可能な変化は見られなかった。GCデータから、100ppm及び1000ppmの添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサン試料についてそれぞれ0.08質量パーセント及び2.84質量パーセントの重合の増加が示された。結果は表2に要約されている。
例1で説明した通りに予め清浄し乾燥した2本のアンプルの各々に、0.50マイクロリットル及び5.0マイクロリットルの無水酢酸を入れた。アンプルの内壁に付着したままの残留無水酢酸液を洗い落とすように注意しながら、各々のアンプルに5.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを添加した。このように調製したアンプルは、それぞれ100ppm(体積)及び1000ppm(体積)の無水酢酸とともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は静澄度に検出可能な変化は見られなかった。これらの試験を各添加剤濃度についてさらに2回くり返した。GCデータから、100ppmの添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサン試料について0.08質量パーセント〜0.38質量パーセントの重合の増加が示され、1000ppmの添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサン試料については0.14質量パーセント〜0.38質量パーセントの重合増加が示された。結果は表2に要約されている。
例1で説明した通りに予め清浄し乾燥したアンプルに0.61mg(0.48マイクロリットル)のグリセロールを入れた。このアンプルに、アンプルの内壁に付着したままの残留グリセロール液を洗い落とすように注意しながら、5.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを加えた。このように調製したアンプルは、100ppm(体積)のグリセロールとともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は清澄度に検出可能な変化は見られなかった。GCデータからは、100ppmの添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサン試料について0.12質量パーセントの重合増加が示された。結果は、表2に要約されている。
例1で説明した通りに予め清浄し乾燥した2本のアンプルの各々に3.0マイクロリットル及び30マイクロリットルの1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンを入れた。各々のアンプルに、アンプルの内壁に付着したままの残留1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン液を洗い落とすように注意しながら、3.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを加えた。このように調製したアンプルは、それぞれ1000ppm及び10,000ppm(体積)の1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンとともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は清澄度に検出可能な変化は見られなかった。GCデータからは、1000ppm及び10,000ppmの添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサンについてそれぞれ0.20質量パーセント及び0.66質量パーセントの重合増加が示された。結果は、表2に要約されている。
例1で説明した通りに予め清浄し乾燥した3本のアンプルの各々に0.30、30及び150マイクロリットルの1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサンを入れた。各々のアンプルに、アンプルの内壁に付着したままの残留1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン液を洗い落とすように注意しながら、3.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを加えた。このように調製したアンプルは、それぞれ100ppm(体積)、10,000ppm(体積)及び50,000ppm(体積)の1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサンとともにTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。アンプルを例1で説明したとおりに密封し、5日間120℃で加熱した。促進老化試験の完了後の目視によると、試験以前の初期試料に比べ、TOMCATSタイプのシロキサン試料の粘度、色又は清澄度に検出可能な変化は見られなかった。GCデータからは、上述のレベルの添加剤が添加されたTOMCATSタイプのシロキサンの試料について最高0.33質量パーセントの重合増加が示された。結果は、表2に要約されている。
サイドアーム及びコックを具備した2本の100ミリリットルPyrex Schlenkフラスコを真空ラインに連結した。サイドアームを通してフラスコから真空吸引しながら水素/酸素トーチを用いて間欠的に加熱することにより、徹底的にフラスコを乾燥させた。サイドアームのコック弁を閉じることにより真空ラインからフラスコを分離した。フラスコの上端のゴムの隔膜を通して注射器を用いて注入することによって各フラスコ内に5.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを導入した。2本のフラスコに、周囲圧力まで乾燥窒素ガスを充てんし直した。2本のフラスコの各々に、0.10ml及び1.0mlの無水アンモニアガスを導入した。このように調製したフラスコは、それぞれ、15及び150質量ppmのアンモニアが添加されたTOMCATSタイプのシロキサンを収容していた。フラスコを、24時間室温で放置した。試験の開始から2時間及び20時間後に注射器で2本のフラスコの各々から、1mlのTOMCATSタイプのシロキサンのアリコートをとり出した。重合の程度を見極めるため、GCによりこれら4つの試料を分析した。15ppmのNH3を添加したTOMCATSタイプのシロキサンの試料は、それぞれ2時間及び20時間後に0.11%及び0.18%の重合増加を示した。150ppmのNH3が添加されたTOMCATSタイプのシロキサンの試料は、それぞれ2時間及び20時間後に0.10%及び0.17%の重合増加を示していた。結果は、表3に要約されている。
例1で説明した通りに予め清浄し乾燥した2本のアンプルの各々に5.0mlのTOMCATSタイプのシロキサンを入れた。各アンプルには、ゴム隔膜でキャップされたサイドアームが備わっていた。アンプル中のTOMCATSタイプのシロキサン試料を液体窒素浴中への浸漬によって冷却した。5分間真空条件にさらすことによりアンプルから空気を除去した。この時点で、真空からアンプルを隔離し、各アンプル内にゴム隔膜を通して72mlの無水アンモニアガス(周囲圧力の)を注入した。これは、1.0質量パーセントのNH3と99.0質量パーセントのTOMCATSタイプのシロキサンに相当する。例1で説明した通りにトーチを用いて真空下でアンプルを密封した。液体窒素を取除き、TOMCATSタイプのシロキサン/アンモニア混合物をゆっくりと室温まで暖まるようにした。この液体は、室温まで暖まった後30分以内でかなり粘度が高いことが判明した。例1で説明した通りに120℃で5日間アンプルを加熱した。アンプルをオーブンから取り出し、室温まで冷却した。これらのTOMCATSタイプのシロキサン液は、コンシステンシーの点で糖蜜に似た、非常に粘度の高いものとなった。これらの試料は、GCにより分析するには重合し過ぎていることが見極められ、>10質量パーセントの重合度であるとされた。
100ppmの2,4−ペンタンジオンの添加
100ppmの2,4−ペンタンジオン及び50〜500ppmのBHTの添加
100ppmの2,4−ペンタンジオン及び50〜230ppmの2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ(TEMPO)の添加
Claims (19)
- シクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させる方法であって、当該シクロテトラシロキサンは下式
当該シクロテトラシロキサンに、2,4−ペンタンジオン、1−ヘキサン酸、グリセロール、無水酢酸、β−ジケトンRC(O)CH2C(O)R、脂肪族カルボン酸RCOOH、脂肪族ジカルボン酸HOOC−(CH2)n−COOH(式中、1≦n≦8)、フェノールC6R(6-n)(OH)n(式中、1≦n≦5)、ポリオールCH2X(CHX)nCH2X(式中、X=H又はOH、ただし少なくとも2つのXはOHであり、1≦n≦8)、無水物RCH2−C(O)−O−C(O)−CH2R、ヒドロドシロキサンR3Si−(O−SiR2)n−OSiR3(式中、0≦n≦8)(これら全ての式中、Rは水素、ノルマル、枝分かれ又は環状C1-10アルキル基からなる群から個別に選択される)、及びそれらの混合物から選択される、有効量の防止剤を供給することを含み、当該防止剤がヒドロドシロキサンR3Si−(O−SiR2)n−OSiR3タイプの防止剤である場合には1質量%未満を供給する、シクロテトラシロキサンの安定化方法。 - 遊離基スカベンジャーを前記シクロテトラシロキサンに供給することを含む、請求項1記載の方法。
- 前記遊離基スカベンジャーが、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ、2−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、プロピルエステル3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、2−(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ベンゼンジオール、ジフェニルピクリルヒドラジル、4−tert−ブチルカテコール、N−メチルアニリン、p−メトキシジフェニルアミン、ジフェニルアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、p−ヒドロキシジフェニルアミン、フェノール、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス(メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル)−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート)メタン、フェノチアジン、アルキルアミドノイソ尿素、チオジエチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート)、1,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイル)ヒドラジン、トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、環状ネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、4,4’−チオビス(6−tert−ブチル−m−クレゾール)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−p−クレゾール)、オキサリルビス(ベンジリデンヒドラジド)及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- 前記2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールが50〜500ppm(体積)の量で供給される、請求項3記載の方法。
- 前記2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシが50〜230ppm(体積)の量で供給される、請求項3記載の方法。
- 電子材料の製造における酸化ケイ素用化学気相成長プロセスで使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させる方法であって、2,4−ペンタンジオン、1−ヘキサン酸、グリセロール、無水酢酸、1(体積)%未満の1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン及びそれらの混合物からなる群から選択される重合防止剤を前記1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンに供給すること、及び前記1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンに遊離基スカベンジャーを供給することを含む、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの安定化方法。
- 前記遊離基スカベンジャーが2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項6記載の方法。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを含み、且つ、2,4−ペンタンジオン、1−ヘキサン酸、グリセロール、無水酢酸、1(体積)%未満の1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン及びそれらの混合物からなる群から選択される重合防止剤と遊離基スカベンジャーを含む、重合に対して安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- (a)1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、(b)2,4−ペンタンジオン、1−ヘキサン酸、グリセロール、無水酢酸、1(体積)%未満の1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、1(体積)%未満の1,1,1,3,5,5,5−へプタメチルトリシロキサン、β−ジケトンRC(O)CH2C(O)R、脂肪族カルボン酸RCOOH、脂肪族ジカルボン酸HOOC−(CH2)n−COOH(式中、1≦n≦8)、フェノールC6R(6-n)(OH)n(式中、1≦n≦5)、ポリオールCH2X(CHX)nCH2X(式中、X=H又はOHであり、ただし少なくとも2つのXはOH、1≦n≦8)、無水物RCH2−C(O)−O−C(O)−CH2R、1質量%未満のヒドロドシロキサンR3Si−(O−SiR2)n−OSiR3(式中、0≦n≦8)(これら全ての式中、Rは水素、ノルマル、枝分かれ又は環状C1−10アルキル基からなる群から個別に選択される)及びそれらの混合物からなる群から選択される、中性乃至弱酸性の重合防止剤、及び(c)2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ、2−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、プロピルエステル3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、2−(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ベンゼンジオール、ジフェニルピクリルヒドラジル、4−tert−ブチルカテコール、N−メチルアニリン、p−メトキシジフェニルアミン、ジフェニルアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、p−ヒドロキシジフェニルアミン、フェノール、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス(メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル)−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート)メタン、フェノチアジン、アルキルアミドノイソ尿素、チオジエチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート)、1,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイル)ヒドラジン、トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、環状ネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、4,4’−チオビス(6−tert−ブチル−m−クレゾール)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−p−クレゾール)、オキサリルビス(ベンジリデンヒドラジド)及びそれらの混合物からなる群から選択される遊離基スカベンジャー、を含む、重合に対し安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び2,4-ペンタジオンを含む、重合に対し安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスで使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び1−ヘキサン酸を含む、重合に対し安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及びグリセロールを含む、重合に対し安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び無水酢酸を含む、重合に対し安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、2,4−ペンタジオン、及び次の群、すなわち2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ及びそれらの混合物からなる群から選択された遊離基スカベンジャーを含む、重合に対し安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1−ヘキサン酸、及び次の群、すなわち2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ及びそれらの混合物からなる群から選択された遊離基スカベンジャーを含む、重合に対して安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、グリセロール、及び次の群、すなわち2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ及びそれらの混合物からなる群から選択された遊離基スカベンジャーを含む、重合に対して安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- 1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、無水酢酸、及び次の群、すなわち2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ及びそれらの混合物からなる群から選択された遊離基スカベンジャーを含む、重合に対して安定化された、電子材料製造において酸化ケイ素用前駆物質として化学気相成長プロセスにおいて使用される1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
- (a)1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、(b)2,4−ペンタンジオン、1−ヘキサン酸、グリセロール、無水酢酸、β−ジケトンRC(O)CH2C(O)R、脂肪族カルボン酸RCOOH、脂肪族ジカルボン酸HOOC−(CH2)n−COOH(式中、1≦n≦8)、フェノールC6R(6-n)(OH)n(式中、1≦n≦5)、ポリオールCH2X(CHX)nCH2X(式中、X=H又はOH、ただし少なくとも2つのXはOHであり、1≦n≦8)、無水物RCH2−C(O)−O−C(O)−CH2R、1質量%未満のヒドロドシロキサンR3Si−(O−SiR2)n−OSiR3(式中、0≦n≦8)(これら全ての式中、Rは水素、ノルマル、枝分かれ又は環状C1−10アルキル基からなる群から個別に選択される)及びそれらの混合物から選択される重合防止剤、及び(c)2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ、2−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、プロピルエステル3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、2−(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ベンゼンジオール、ジフェニルピクリルヒドラジル、4−tert−ブチルカテコール、N−メチルアニリン、p−メトキシジフェニルアミン、ジフェニルアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、p−ヒドロキシジフェニルアミン、フェノール、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス(メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル)−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート)メタン、フェノチアジン、アルキルアミドノイソ尿素、チオジエチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート)、1,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイル)ヒドラジン、トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、環状ネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、4,4’−チオビス(6−tert−ブチル−m−クレゾール)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−p−クレゾール)、オキサリルビス(ベンジリデンヒドラジド)及びそれらの混合物から選択される遊離基スカベンジャー、を含む、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成物。
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