KR960007083A - 엑시머 레이저빔 조사장치 - Google Patents

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Abstract

다중반사된 엑시머레이저빔의 강도 분포가 비균일지라도 엑시머조사빔을 적절히 조사하여 피가공물을 가공할 수 있는 엑시머레이저빔 조사장치, 마스키는 엑시머레이저빔을 통과시키는 광 통과부 및 그것을 반사하는 반사부를 구비하고 있다. 반사부에 대향되게 배치된 고반사거울은 반사부에서 마스크에 반사되는 엑시머레이저빔을 반사한다.
전사렌즈는 마스크를 통하여 피가공물상에 조사하기 위해 송출된 엑시머레이저빔의 패턴을 전사한다. 제어수단은 마스크와 반사수단간에 반사될 때 엑시머레이저빔이 이동하는 방향과 일치되는 스캔 이동방향으로 서로 동기되게 동일축에 따라 마스크 및 피가공물을 이동하도록 피가공물 이동기구 및 마스크이동기구를 제어하여 피가공물을 엑시머레이저빔으로 스캔되게 한다. 피가공물은 높은 정확성과 신뢰도로 마스크의 패턴에 따라 균일하게 그리고 안정되게 가공될 수 있다.

Description

엑시머 레이저빔 조사장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 이 발명의 실시예1에 의한 엑시머레이저빔 조사장치의 구성을 나타내는 사시도,
제 2A도는 엑시머레이저빔 조사장치이 마스크, 전사렌즈 및 피가공물을 x축 방향에서 본 측면도,
제 2B도는 피가공물의 상부표면에 조사되는 y축 방향의 빔 강도분포를 나타내는 설명도,
제 3A도는 마스크, 전사렌즈 및 피가공물을 y축 방향에서 본 측면도,
제 3B도는 피가공물에 조사되는 x축 방향의 빔강도분포를 나타내는 설명도,
제 4A도는 제1도에 표시된 엑시머레이저빔 조사장치의 마스크 및 고반사거울로 구성된 다중반사부를 나타내는 측면도,
제 4B도는 패턴마스크의 상부 평면도,
제 4C도는 스캔이동방향에 있어서 마스크상의 위치의 기능으로서 스캔이동속도의 제어를 나타내는 설명도.

Claims (20)

  1. 엑시머레이저빔을 출사하는 엑시머레이저발진기와, 엑시머레이저발진기에서의 엑시머레이저빔을 통과시키고 피가공물상에 형성되게 패턴을 형성하는 통과부 및 엑시머레이저빔을 반사시키는 반사부를 구비한 마스크와, 엑시머레이저빔이 이동될 때 반사수단과 마스크간에서 다중반사하기 위해 반사부에 대향 배치되어 반사부에서 반사된 엑시머레이저빔을 마스크에 향하여 반사시키는 반사수단과 마스크를 통과한 엑시머레이저빔의 패턴을 피가공물상에 전사하여 조사하기 위한 전사렌즈와, 전사렌즈의 광축에 대하여 직각 방향으로 피가공물을 이동시키기 위한 피가공물 기공기구와, 전사렌즈의 광축에 대하여 직각방향으로 마스크를 이동시키기 위한 마스크이동기구와, 엑시머레이저발진기 피가공물 이동기구 및 마스크이동기구를 제어하기 위한 제어수단과, 를 구비한 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 제어수단은 마스크 및 피가공물을 동일측에 따라 동기 이동시킴과 동시에 동기 이동시의 스캔이동방향을 마스크와 반사수단간의 엑시머레이저빔의 반사이동방향과 일치시킨 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  2. 제1항에 있어서, 고정되게 배치된 엑시머레이저방진기 및 반사수단과, 서로 평행되게 배치된 반사수단 및 마스크와 반사수단에 의해 방해 되지 않고 소저으이 경사각으로 마스크상에 조사되는 엑시머레이저빔과, 를 구비한 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 마스크와 피가공물은 동기 스캔이동시 서로 대항되게 동일측에 따라 이동되는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  3. 제1항에 있어서, 제어수단은 마스크 및 피가공물이 동기 스캔 이동되는 길이가 피가공물에 조사되여 패턴을 형성하는 마스크의 유효패턴영역의 길이보다 길게 되도록 피가공물 이동기구 및 마스크이동기구를 제어하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  4. 제1항에 있어서, 제어수단은 마스크 및 피가공물이 조사된 피가공물의 영역에 대응하는 길이에 안정속도로 이동하도록 동기 스캔 이동을 개시하는 위치를 선정하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  5. 제1항에 있어서, 마스크 및 피가공물이 동기 스캔이동시 이동하는 속도를 검출하는 속도측정수단을 구비한 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 제어수단은 동기이동시의 스캔이동속도가 피가공물에 대한 소정의 두께를 구비한 피가공물이 동기 스캔이동시 소정 속도로 이동할때 소정두께이 피가공물을 소정의 주파수의 엑시머레이저빔으로 균일하게 그리고 안정되게 가공될 수 있도록 소정주파수 및 소정두께를 선택하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  6. 제1항에 있어서, 피가공물의 두께를 측정하기 위해 제어수단과 연계도며 제공된 두께 측정수단을 구비한 엑시머레이저빔조사장치에 있어서, 제어수단은, 동기이동시에 피가공물의 두께가 변화하는 경우, 피가공물의 두께가 소정두께보다 클때에는 엑시머레이저발진기의 발진반복주파수를 소정주파수보다 증대시키고, 피가공물의 두께가 소정두께보다 적을때에는 발진반복주파수를 소정주파수보다 감소시키는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  7. 제6항에 있어서, 소정의 두께를 구비한 피가공물이 동기스캔이동시 소정속도로 이동할때 소정두께의 파가공물을 소정의 주파수의 엑시머레이저빔으로 균일하게 그리고 안정되게 가공될 수 있도록 소정주파수 및 소정두께를 선택하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  8. 제1항에 있어서, 피가공물의 두께를 측정하기 위해 제어수단과 연계되어 제공된 두께측정수단을 구비한 엑시머레이저 조사장치에 있어서, 제어수단은 피가공물의 두께가 동기 이동시 변화하는 것을 두께측정수단이 검출할때, 마스크 및 피가공물의 스캔 이동속도를 제어하여 피가공물의 두께가 소정두께보다 클때에는 스캔이동속도를 감소시키고, 피가공물의 두께가 소정두께보다 적을때에는 마스크 및 피가공물의 스캔이동속도를 소정속도보다 증대시키는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  9. 제8항에 있어서, 소정속도 및 소정두께는 피가공물이 동기 스캔이동시 소정속도로 이동될 경우 소정두께의 피가공물을 소정주파수의 엑시머레이저빔으로 균일되게 그리고 안정되게 가공될 수 있게 선정되는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  10. 제1항에 있어서, 피가공물의 재질이 가공하기 어려운가 또는 쉬운가를 판정하는 피가공물 가공판정수단을 구비한 엑시머레이저 조사장치에 있어서, 제어수단은, 동기 스캔이동시에 파가공물의 재질이 엑시머레이저빔의 조사영역내에서 변화를 피가공물 가공판정수단이 검출시, 피가공물의 재질이 가공하기 쉬울때에는 엑시머레이저발진기의 발진반복주파수를 소정주파수보다 감소시키고, 피가공물의 재질이 가공하기 어려울때에는 발진반복주파수를 소정주파수보다 증대시키는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  11. 제10항에 있어서, 가공곤란도 및 가공용이도를 피가공물의 재질이 엑시머레이저빔의 단일 펄스의 조사로 에칭되는 에칭율로 미리 결정하고 있는 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 피가공물의 재질의 가공곤란도 및 가공용이도에 관한 정보가 엑시머레이저빔으로 조사되는 피가공물의 영역내에 재질에 따라 서로 다른 각 영역에 대해 기억장치에 저장되며, 기억장치 및 피가공물 가공판정수단이 제어수단과 연계되어 제공된 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  12. 제1항에 있어서, 피가공물의 재질이 가공하기 어려운가 또는 가공하기 쉬운가를 판정하는 피가공물 가공판정수단을 구비한 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 동기 스캔이동시에 피가공물의 재질이 엑시머레이저빔의 조사영역내에서 변화하는 경우 피가공물이 가공되기 쉬운 재질의 경우에는 스캔이동속도를 소정속도보다 증대시키고, 피가공물이 가공되기 어려운 재질의 경우에는 스캔이동속도를 소정속도보다 감소시키는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  13. 제12항에 있어서, 고공곤란도 및 가공용이도를 피가공물이 재질이 엑시머레이저빔의 단일 펄스의 조사로 에칭되는 에칭율로 미리 결정하고 있는 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 피가공물의 재질이 가공곤란도 및 가공용이도에 관한 정보가 엑시머레이저빔으로 조사되는 피가공물의 영역내에 재질에 따라 서로 다른 각 영역에 대해 기억장치에 저장되며, 기억장치 및 피가공물 가공판정수단이 제어수단과 연계되어 제공된 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  14. 제1항에 있어서, 제어수단 제어하에, 엑시머레이저빔의 조사를 반복하는 경우 마스크 및 피가공물의 스캔이동방향과 전사렌즈의 광축방향과의 양방에 대해서 직각방향으로 마스크 및 피가공물을 스텝 급송이동을 하는 스텝 급송이동수단을 구비한 마스크이동기구 및 피가공이동기구로 구성된 엑시머레이저빔 조사장치에 있어서, 직각방향의 스텝급송이동량을 마스크와 반사수단간에서 다중반사를 하면서 직각방향으로 조사 엑시머레이저빔을 이동하는 반사 이동길이보다 적게 설정하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  15. 제1항에 있어서, 제어수단은 엑시머레이저빔의 펄스간에 있어 동기 이동시의 마스크 및 피가공물의 스캔이동량이 엑시머레이저빔의 반사 이동길이보다 적제 되도록, 마스큼 및 피가공물의 스캔 이동속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  16. 제1항에 있어서, 제어수단은, 엑시머레이저빔 펄스간에 있어 동기 스캔이동시의 마스크 및 피가공물의 스캔이동량이 엑시머레이저빔의 반사 이동길이보다 적제 되도록, 엑시머레이저발진기의 발진반복주파수를 제어하는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  17. 제1항에 있어서, 피가공물에 대한 조사영역내에 조사불용영역이 존재할 경우, 조사불용영역에 대한 엑시머레이저빔의 스캔이동시에 있어서 엑시머레이저발진기를 정지시키는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  18. 제17항에 있어서, 조사불용영역에 관한 정보가 제어수단과 연계된 기억장치에 저장되는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  19. 제1항에 있어서, 제어수단에 의해 제어되어 엑시머레이저빔의 광로중에 선택적으로 삽입되는 차폐판을 구비하고, 제어수단은, 피가공물에 대한 조사영역내에 조사불용영역이 존재하는 경우에 조사불용영역에 대한 엑시머레이저빔의 스캔 이동시에 있어서 광로중에 차폐판을 삽입하고, 피가공물에 엑시머레이저빔을 조사 않시키는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
  20. 제19항에 있어서, 조사불용영역에 관한 정보는 제어수단과 연계된 기억장치에 저장되는 것을 특징으로 하는 엑시머레이저빔 조사장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950027280A 1994-08-30 1995-08-29 엑시머 레이저빔 조사장치 KR960007083A (ko)

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