KR950032322A - 시클릭 구조들을 함유하는 플루오르화된 중합체들과 공중합체들 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2=CX1F의 구조(여기서 X1,X2은 F, C1, H이고;X3와X4는 F, CF3임)인 하나나 그 이상이 플루오르화된 디엔들의 중합체들과 공중합체들에 관한 것으로, 상기 디엔들은 본질적으로 시클릭 반복 단위들을 형성하고, 공중합체을 제조하는데 사용하는 공단위체들은 에틸렌 불포화 플루오르화된 화합물이다.
또한, 본 발명은 하나의 할로겐화된 올레핀과 하나의 하이포를라이트 CX3X4(OF)2(여기서 X3와X4는 서로 동일하거나 다른F, CF3)사이의 용매내에서의 반응과 하나의 하이포폴라이트 분자와 두개의 올레핀 분자들 사이의 선형적인 첨가물의 탈할로겐화반응이나 탈할로겐화수소반응을 포함하는, 상기 구조를 가지는 플루오르화된 디엔들을 제조하는 공정들에 관한 것이다.
본 발명에 의한 중합체들과 공중합체들은 특별히, 높은 온도들에서 사용되는 코딩제를 제조하는데 적합하다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (30)
- 하나나 그 이상이 플루오르화된 CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2=CX1F의 구조(여기서 X1와 X2은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)의 디엔들이 다음과 같은 구조들을 가지는 시클릭 반복 단위들을 형성하는 디엔들의 중합체들과 공중합체들.여기서, X1,X2,X3,X4는 상기한 바와 같으며, 상기 공중합체들을 제조하는데 사용되는 공단위체들은 적어도 하나가 다음과 같은 구조를 가지는 에틸렌 불포화 화합물이다.c) CY1Y2CY3Z여기서 Y1,Y,2Y3는 서로 동일하거나 다른 F, C1, H이고 Z는 F, C1, Rf, 기껏해야 2개의 탄소 원자들을 함유하는 화합물이다.또는d)여기서 W1과 W2는 서로 동일하거나 다른 F, CF3를 나타내고, W3는 F 또는 H를 나타내고, W4는 F, H, 또는 Rf가 1 내지 5개의 탄소 원자들을 가지는 퍼플로로알킬릭 라디칼인 Rf또는 O-Rf이다.
- 제1항에 있어서, 상기의 X1,X2는 X1=X2인 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복단위들을 형성하는 디엔들의 중합체들과 공중합체들.
- 제2항에 있어서, 상기의 X1,X2는 X1=X2=F인 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복단위들을 형성하는 디엔들의 중합체들과 공중합체들.
- 제3항에 있어서, 상기 플루오르화된 디엔들은 CF2=CF-O-CF=CF2이고, 디엔들로부터 유도되는 반복단위들은 다음과 같은 구조들을 가지는 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복단위들을 형성하는 디엔들의 중합체들과 공중합체들.
- 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 공중합체들은, 테트라플로로에틸렌, 비닐리덴플로라이드, 에틸렌, 클로로트리플로로에틸렌, 트리플로로에틸렌, 퍼플로로메틸비닐에테르, 퍼플로로프로필비닐에테르, 퍼플로로프로펜, 퍼를로로 2,2-디메틸-1,3-디옥솔, 퍼플로로 1,3-디옥솔, 2,2,4-트리플로로-5-트리플로로메톡시-1,3-디옥솔 등으로부터 선택되어지는 공단위체를 포함하는 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복단위들을 형성하는 디엔들의 공중합체들.
- 제5항에 있어서, 상기 공단위체는 테트라플로로에틸렌인 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복단위들을 형성하는 디엔들의 공중합체들.
- 제5항에 있어서, 상기 공단위체는 테트라플로로에틸렌인 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복단위들을 형성하는 디엔들의 공중합체들.
- 제5항에 있어서, 상기 공단위체는 퍼플로로 1,3-디옥솔, 퍼플로로 2,2-디메틸-1,3-디옥솔, 2,3,4-트리플로로-5-트리플로로메톡시-1,3-디옥솔 등으로부터 선택되어지는 것임을 특징으로 하는 시클릭 반복 단위들을 형성하는 디엔들의 공중합체들.
- CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2=CX1F의 구조(여기서 X1와 X2은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들.
- CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2'=CX1'F의 구조(여기서 X1와 X2은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F 또는 CF3이고;X1'과 X2'이 서로 다르다는 조건하에, 서로 동일하거나 다른 X1또는 X2이다.)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들.
- CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2=CX1F의 구조(여기서 X1은 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들.
- CF2=CF-O-CX3X4-O-CF=CF2의 구조(X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들.
- CF2=CF-O-CF2-O-CF=CF2의 구조를 가지는 퍼플로비스비닐옥시메탄.
- 다음과 같은 단계들을 포함하는 CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2'=CX1'F의 구조(여기서 X1와 X2은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F 또는 CF3이고;X1'과 X2'은 X1과 X2가 서로 다를 때에는 X1'과 X2'이 서로 다르다는 조건하에, 서로 동일하거나 다른 X1또는 X2이다.)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들을 제조하는 공정.i)-140℃내지 +60℃의 온도에서, 화학식 CX1CX5=CX2X6(여기서 X1,X2,X5,X6은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H 또는 Br, Br은 기껏해야 2개이고 2개인 경우에 다른 탄소 원자들에 결합되어 있다. X1과 X5는 둘다 F가 될 수 없으며, X2와 X6은 둘다 F가 될 수 없고, X1과 X2는 X5와 X6이 F와 다르고 동시에 H가 아닌 경우에만 F이다.)의 올레핀을 일반적인 화학식 CX3X4(OF)2(여기서 X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3)의 하이포플로라이트가 비활성 용매내에 0.001M 내지 10M의 농도로 녹아서 본질적으로 항상 존재하는 반응기에 첨가한다.ii)두 올레핀 분자들과 하나의 하이포플로라이트 분자 사이의 반응 생성물을 단계i)에서 얻어지는 반응 혼합물로부터 분별증류에 의하여 분리한다.iii) 단계ii)에서 얻어진 생성물을 탈할로겐화반응 또는 탈할로겐화수소 반응시킨다. 이때 제거되는 할로겐 원자들은 C1 또는 Br이다.
- 다음과 같은 단계들을 포함하는 CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2=CX1F의 구조(여기서 X1은 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.i)-140℃내지 +60℃의 온도에서, 화학식 CX1CX5=CX1X6(여기서 X1,X5,X6은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H 또는 Br, X1과 X5는 둘다 F가 될 수 없으며, X1와 X6은 둘다 F가 될 수 없고, X1과 X5와 X6이 Br와 다를 경우에만 Br이고 X1는 X5와 X6이 F와 다르고 동시에 H가 아닌 경우에만 F이다.)의 올레핀을 일반적인 화학식 CX3X4(OF)2(여기서 X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3)의 하이포플로라이트가 비활성 용매내에 0.001M 내지 10M의 농도로 녹아서 본질적으로 항상 존재하는 반응기에 첨가한다.ii)두 올레핀 분자들과 하나의 하이포플로라이트 분자 사이의 반응 생성물을 단계i)에서 얻어지는 반응 혼합물로부터 분별증류에 의하여 분리한다.iii) 단계ii)에서 얻어진 생성물을 탈할로겐화반응 또는 탈할로겐화수소 반응시킨다. 이때 제거되는 할로겐 원자들은 C1 또는 Br이다.
- 다음과 같은 단계들을 포함하는 CF2=CF-O-CX3X4-O-CF=CF2의 구조(X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비닐비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.i)-140℃내지 +60℃의 온도에서, 화학식 CFX5=CFX6(여기서 X5는 C1이고, X6는 C1 또는 Br이다.)의 올레핀을 일반적인 화학식 CX3X4(OF)2(여기서 X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3)의 하이포플로라이트가 비활성 용매내에 0.001M 내지 10M의 농도로 녹아서 본질적으로 항상 존재하는 반응기에 첨가한다.ii)두 올레핀 분자들과 하나의 하이포플로라이트 분자 사이의 반응 생성물을 단계i)에서 얻어지는 반응 혼합물로부터 분별증류에 의하여 분리한다.iii) 단계ii)에서 얻어진 생성물을 탈할로겐화반응 또는 탈할로겐화수소 반응시킨다. 이때 제거되는 할로겐 원자들은 C1 또는 Br이다.
- 제14항 내지 제16항중 어느 한 항에 있어서, 상기 하이포플로라이트의 농도는 0.1M 내지 4M인 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응 온도는 -120℃ 내지 0℃인 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제14항 내지 제18항에 있어서, 상기 하이플로라이트의 용액은 극성 타입의 용매의 용액인 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제19항에 있어서, 상기 용매는 하이드로겐플로로카본들, 하이드로겐클로로카본들, 플로로클로로카본들, 하이드로겐클로로플로로카본들, 트리플로로아세트산, 트리플로로아세틱안하이드라이드, 아세틱니트릴, 하이드로플로릭산, 설퍼디옥사이드, 트리플로로메탄술폭닉산, CF2C1-CFCL-SO2F, 상기 용매의 혼합물들과 하나나 그 이상의 상기 용매들과 극성이 낮은 용매의 혼합물들로부터 선택되어지는 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제14항에 있어서, 상기 올레핀은 CFC1=CFC1, CHC1=CHC1, CHC1=CCl2, CCl2=CF2, CF2=CF2, CFH=CFCl, CFCl=CHCl, CH2=CFCl로부터 선택되어지는 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 다음과 같은 단계들을 포함하는 CFX1=CX2-O-CX3CX4-O-CX2′=CX1′F구조(여기서 X1과 X2′은 X1과 X2가 서로 다를 때에는 X1′과 X2′이 서로 다르다는 조건하에, 서로 동일하거나 다른 X1또는 X2이다.)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들을 제조하는 공정.i)-140℃내지 +60℃의 온도에서, 일반적인 화학식 CX3X4(OF)2(여기서 X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3)의 하이포플로라이트를 화학식 CX1CX5=CX|2X6(여기서 X1,X2,X5,X6은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H 또는 Br, Br은 기껏해야 2개이고 2개인 경우에 다른 탄소 원자들에 결합되어 있다. X1과 X5는 둘다 F가 될 수 없으며, X2와 X6은 둘다 F가 될 수 없고, X1과 X2는 X5와 X6이 F와 다르고 동시에 H가 아닌 경우에만 F이다.)의 올레핀이 극성 타입의 비활성 용매내에 녹아 있는 반응기에 첨가한다.ii)두 올레핀 분자들과 하나의 하이포플로라이트 분자 사이의 반응 생성물을 단계i)에서 얻어지는 반응 혼합물로부터 분별증류에 의하여 분리한다.iii) 단계ii)에서 얻어진 생성물을 탈할로겐화반응 또는 탈할로겐화수소 반응시킨다. 이때 제거되는 할로겐 원자들은 C1 또는 Br이다.
- 다음과 같은 단계들을 포함하는 CFX1=CX1-O-CX3X4-O-CX2=CX1F의 구조(여기서 X1은 F, C1, H이고;X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.i) -140℃내지 +60℃의 온도에서, 화학식 CX3X4(OF)2(여기서 X3과 X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3)의 하이포플로라이트를 화학식 CX1CX5=CX1X6(여기서 X1,X5,X6은 서로 동일하거나 다른 F, C1, H 또는 Br, X1과 X5는 둘다 F가 될수 없으며, X1와 X6은 둘다 F가 될 수 없고, X1는 X5와 X6이 Br와 다를 경우에만 Br이고, X1는 X5와 X6이 F와 다르고 동시에 H가 아닌 경우에만 F이다.)의 올레핀이 극성 타입의 비활성 용매내에 녹아 있는 반응기에 첨가한다.ii)두 올레핀 분자들과 하나의 하이포플로라이트 분자 사이의 반응 생성물을 단계i)에서 얻어지는 반응 혼합물로부터 분별증류에 의하여 분리한다.iii) 단계ii)에서 얻어진 생성물을 탈할로겐화반응 또는 탈할로겐화수소 반응시킨다. 이때 제거되는 할로겐 원자들은 C1 또는 Br이다.
- 다음과 같은 단계들을 포함하는 CF2=CF-O-CX3X4-O-CF=CF2의 구조(X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3임)를 가지는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.i)-1400C내지 +600C의 온도에서, 일반적인 화학식 CX3X4(OF)|2(여기서 X3와X4는 서로 동일하거나 다른 F, CF3)의 하이포플로라이트를 화학식 CFX5=CFX6(여기서 X5는 C1이고, X6은 Cl 또는 Br이다.)의 올레핀이 극성 타입의 비활성 용매내에 녹아 있는 반응기에 첨가한다.ii)두 올레핀 분자들과 하나의 하이포플로라이트 분자 사이의 반응 생성물을 단계i)에서 얻어지는 반응 혼합물로부터 분별증류에 의하여 분리한다.iii) 단계ii)에서 얻어진 생성물을 탈할로겐화반응 또는 탈할로겐화수소 반응시킨다. 이때 제거되는 할로겐 원자들은 C1 또는 Br이다.
- 제22항 내지 제24항중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응 온도는 -120℃ 내지 0℃인 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제22항 내지 제24항중 어느 한 항에 있어서, 상기 용매는 하이드로겐프로로카본들, 하이드로겐크로로카본들, 프로로클로로카본들, 하이드로겐클로로플로로카본들, 트리플로로아세트산, 트리플로로아세틱안하이드라이드, 아세틱니트릴, 하이드로플로릭산, 설퍼디옥사이드, 트리플로로메탄술포닉, CF2Cl-CFCl-SO2F, 상기 용매의 혼합물들과, 하나나 그 이상의 상기 용매들과 극성이 낮은 용매의 혼합물들로부터 선택되어지는 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄이 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제22항에 있어서, 상기 올레핀은 CFC1=CFC1, CHC1=CHC1, CHC1=CCl2, CCl2=CCl2, CF2=CF2, CFH=CFCl, CFCl=CHCl, CH2=CCl|2, CH2=CFCl로부터 선택되어지는 것임을 특징으로 하는 비스비닐옥시메탄의 플루오르화된 유도체들의 제조공정.
- 제14항 내지 제22항중 어느 한 항에 의한 공정의 단계 i), 단계ii)를 거친 후에 얻어질 수 있는 비스에톡시메탄의 플루오르화된 유도체들.
- 제1항 내지 제8항중 어느 한 항에 의한 중합체들과 공중합체들을 코딩 조성물을 제조하는데 사용하는 방법.
- 제28항에 의한 플루오르화된 화합물들을 환경에 대한 영향에 작은 용매로서 사용하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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