KR950031498A - 광학 기능성 재료 및 그의 제조 방법 - Google Patents

광학 기능성 재료 및 그의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR950031498A
KR950031498A KR1019950002780A KR19950002780A KR950031498A KR 950031498 A KR950031498 A KR 950031498A KR 1019950002780 A KR1019950002780 A KR 1019950002780A KR 19950002780 A KR19950002780 A KR 19950002780A KR 950031498 A KR950031498 A KR 950031498A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
refractive index
film
glare
antireflection film
Prior art date
Application number
KR1019950002780A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100237255B1 (ko
Inventor
모토히로 오카
미츠루 츠치야
노리나가 나카무라
기요타카 다케마츠
유리에 오타
히로코 스즈키
나츠코 야마시타
히루미 가타기로
Original Assignee
기타지아 요시토시
다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP6100582A external-priority patent/JPH07287102A/ja
Priority claimed from JP7041238A external-priority patent/JPH07333404A/ja
Application filed by 기타지아 요시토시, 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 filed Critical 기타지아 요시토시
Publication of KR950031498A publication Critical patent/KR950031498A/ko
Priority to KR1019980054326A priority Critical patent/KR100254311B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100237255B1 publication Critical patent/KR100237255B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

투명 기재 필름(11) 위에 직접 또는 다른 층을 매개로 하여 표면이 미세한 요철상의 방현층(12)이 형성되어 있고, 추가로 그 위에 방현층(12)의 굴절률 보다도 낮은 굴절률의 저굴절률층(13)이 형성되어 있다.
방현층(12)의 굴절률은 그 방현층(12)과 접하고 있는 저굴절률(13)의 면과는 반대쪽 면에 접하고 있는 층의 굴절률 보다도 높다, 이 저굴절률(13)에 SiOx막을 사용 할 수 잇지만, SiOx막 자체는 광학 기능막으로서, 가스 베리어성, 오염 방지성이 우수하고, 방습성, 내스크레치성, 기재 접착성, 투과성, 저굴절률성, 염료 열화 방지성 등에서 우수한 것을 특징으로 하는 광학 기능성 재료.
투명기재 필름(11)위에 표면층인 저굴절층(13)이 다른 층을 매개로 형성되어 있고, 다른 층의 적어도 1층이 수지를 주체로 하는 두께 0.5㎛ 이상이 고굴절률 하드 코팅층(12)으로 되어 있다. 그 고굴절률 하드코팅층(12)은 저굴절률층(13)과 직접 접하고 있다. 그 고굴절률 하드 코팅층(12)의 굴절률은 상기 고굴절률 하드 코팅층(12)의 저굴절률층(13) 쪽과는 반대면에 접하는 층의 굴절률 보다는 높은 것을 특징으로 한다. 이 반사 방지 필름은 편광판, 액정 표시 장치에 라미네이트되어 이용한다.

Description

광학 기능성 재료 및 그의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 굴절률이 1.49인 트리마세틸 셀룰로오즈(TAC) 필름 위에 굴절률이 1.46인 SiOx 증착막이 형성된 적층 필름을 나타낸 것이다, 제2도는 굴절률이 1.49인 하드 코팅층(HC 층)과 추가로 그 위에 굴절률이 1.46인 SiOx 증착막이 형성된 적층 필름을 나타낸 것이다, 제3도는 굴절률이 1.49인 트리아세틸 셀룰로오즈 필름 위에 굴절률이 1.55인 하드 코팅층과 추가로 그 위에 굴절률이 1.46인 SiOx 증착막이 형성된 적층 필름을 나타낸 것이다, 제4도는 굴절률이 1.49인 비누화 트리아세틸 셀룰로오즈 필름 위에 굴절률이 1.55인 프라이머 층을 설치하고, 또 그 위에 고굴절률 미립자인 ZnO를 분산시킨 수지로 이루어진 굴절률이 1.65인 하드 코팅층을 형성하고, 또 그 위에 굴절률이 1.46인 SiOx 증착막이 형성된 적층 필름을 나타낸 것이다, 제5도는 제1도에 나타낸 적층 필름의 분광 반사율 곡선을 나타낸 것이다, 제6도는 제2도에 나타낸 적층 필름의 분광 반사율 곡선을 나타낸 것이다, 제7도는 제3도에 나타낸 적층 필름의 분광 반사율 곡선을 나타낸 것이다, 제8도는 파장의 피치가 막 두께가 얇아지면 커지는 것을 나타낸 분광 반사율 곡선을 나타낸 것이다, 제9도는 제3도의 적층 필름에 있어서, HC층의 굴절률을 1.65로 높인 경우의 분광 반사율 곡선을 나타낸 것이다. 제10도는 제4도에 나타낸 적층 필름의 분광 반사율 곡선을 나타낸 것이다, 제11도는 TCA 개지 필름(굴절률 1.49)/고굴절률 하드 코팅층(굴절률 1.62/저굴절률(굴절률 1.46)으로 이루어진 적층 필름과 다른 적층 필름과의 분광 반사율 곡선을 비교하여 나타낸 것이다, 제12A도는 실시예 A1에서 얻어진 방현성 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도에다, 제12B도는 실시예 B1에서 얻어진 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도이다, 제13A도는 실시예 A2에서 얻어진 방현성 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도이다, 제13B도는 실시예 B2에서 얻어진 반사 방지 필름의 층 구성을 나타내 단면도이다, 제14A도는 실시예 A3에서 얻어진 방현상 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도이다, 제14B도는 본 발명의 방현성 반사 방지 필름이 라미네이트되어 이루어진 평광판의 구성을 나타낸 도면이다, 제15A도는 실시예 A4에서 얻어진 방현성 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도이다, 제 15B도는 본 발명의 반사 방지 필름이 라미네이트되어 이루어진 편광판을 사용한 액정 표시 장치의 층 구성을 나타낸 도면이다, 제16도는 실시예 A5에서 얻어진 방현성 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도이다, 제17도는 실시예 A8에서 얻어진 방현성 반사 방지 필름의 층구성을 나타낸 단면도이다, 제18도는 실시예 A9에서 얻어진 방현성 반사 방지 필름의 층 구성을 나타낸 단면도이다, 제19도는 본 발명의 방현성 반사 방지 필름이 라미네이트되어 이루어진 편광판의 층 구성을 나타낸 도면이다, 제20도는 본 발명의 방현성 반사 방지 필름이 라미네이트되어 이루어진 편광판을 사용한 액정 표시 장치의 층 구성을 나타낸 도면이다, 제21도는 빛의 반사 개념도를 나타낸 것이다, 제22도는 빛의 투과 개념도를 나타낸 도면이다.

Claims (56)

  1. 투명 기재 필름 위에 직접 또는 다른 층을 매개로 하여 산화 규소막이 형성되어 있는 광학 기능성 필름에 있어서, 상기 산화 규소 막이 물에 대해 표면의 접촉각이 40~180도의 SiOx막 (X는 1.50≤x≤4.00)으로 된 것을 특징으로 하는 광학 기능성 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 SiOx막의 동 마찰 계수가 1 이하인 것을 특징으로 하는 광학 기능성 필름.
  3. 제1항에 있어서, 상기 SiOX막이 CVD, 바람직하게는 플라즈마 CVD에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 기능성 필름.
  4. 제1항에 있어서, CVD를 다음의 조건 하에서 실시하는 것에 의해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학 기능성 필름.
    (a) 유기 실록산을 원료 가스로 한다.
    (b) 원료 가스를 방전에 의해 플라즈마화 하는 플라즈마 CVD로 실시한다.
    (C) 무기 증착원의 부존재하에 CVD를 실시한다.
    (d) 피증착 기재 필름을 비교적 저온으로 유지시킨다.
    (e) 미분해 유기 실록산이 생성된 SiOx막에 존재하는 성막 조건으로 실시한다.
  5. (1) 투명 기재 필름위에 직접 또는 다른 층을 매개로 표면이 미세한 요철상의 방현층이 형성되어 있고, (2) 상기 방현층 위에 상기 방현층의 굴절률 보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층이 형성되어 있고, (3) 상기 방현층의 굴절률은 상기 방현층이 접하고 있는 상기 저굴절률층의 면과는 반대쪽의 면에 접해 있는 층의 굴절률 보다는 높은것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  6. 제5항에 있어서, 상기 방현층은 막 두께가 0.5㎛ 이상의 도막으로 된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 방현층은 바인더 수지를 주체로 하는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  8. 제5항에 있어서, 상기 방현층은 하드 성능을 갖는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  9. 제7항에 있어서, 상기 방현층의 바인더 수지는 열경화성 수지 및/ 또는 전리 방사선 경화형 수지인 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  10. 제5항에 있어서, 상기 방현층 표면의 미세한 요철은 엠보싱 필름으로 형성된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  11. 제5항에 있어서, 상기 방현층 표면의 미세한 요철은 매트재에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  12. 제7항에 있어서, 상기 방현층은 바인더 수지와 굴절률이 1.50 이상인 고굴절률 미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  13. 제12항에 있어서, 상기 고굴절률 미립자는 ZrO2, ZnO, TiO2, Sb2O2, SnO2, ITO, CeO2중에서 선택하는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  14. 제5항에 있어서, 상기 저굴절률층은 SiOx(X는 1.50≤x≤4.00)으로 된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  15. 제5항에 있어서, 상기 다른층은 접착제층, 프라이머층 및/ 또는 하드 코팅층인 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  16. 제14항에 있어서, 상기 저굴절률층은 물에 대해 표면의 접촉각이 40~180도의 SiOx막(X는 1.50≤x≤4.00)으로 된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  17. 제16항에 있어서, 상기 SiOx막의 동마찰 계수는 1이하인 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  18. 제16항에 있어서, 상기 SiOx막은 CVD, 바람직하게는 플라즈마 CVD에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
  19. 제18항에 있어서, CVD를 다음의 조건 하에서 실시하여서 얻어지는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름.
    (a) 유기 실록산을 원료 가스로 한다.
    (b) 원료 가스를 방전에 의해 플라즈마화 하는 플라즈마 CVD로 실시한다.
    (C) 무기 증착원의 부존재하에 CVD를 실시한다.
    (d) 피증착 기재 필름을 비교적 저온으로 유지시킨다.
    (e) 미분해 유기 실록산이 생성된 SiOx막에 존재하는 성막 조건으로 실시한다.
  20. (1) 투명 기재 필름 위에 직접 또는 다른 층을 매개로하여 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 미립자를 함유한 수지 조성물이며, 또한 상기 수지 조성물의 굴절률의 굴절률이 최종 제품으로서의 방현성 반사 방지 필름의 층 구성에 있어서 상기 수지 조성물을 사용하는 층의 아래쪽에 직접 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 수지 조성물을 코팅하고, (2) 형성된 도막 위에다 표면에 미세한 요철을 갖는 매트상의 엠보싱 필름을 미세한 요철면을 도포막 쪽으로 하여 라미네이트하고, (3) 얻어진 라미네이트물에 대해 가열 처리 및/ 또는 전리 방사선 조사 처리를 행하여 도막을 경화시키고, (4) 도막이 경화된 라미네이트물에서 상기 엠보싱 필름을 박리시킴으로써 표면에 미세한 요철을 갖는 방현층을 형성하고, (5) 상기 공정에서 얻어진 방현층 위에 상기 방현층 보다도 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층을 형성하는 것을 특징으로 하는 방현성 방지 필름의 제조 방법.
  21. (1) 표면에 미세한 요철을 갖는 매트상의 엠보싱 필름 위에 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 미립자를 함유한 수지 조성물이며, 또한 상기 수지 조성물의 굴절률이 최종 제품으로서의 방현성 반사 방지 필름의 층 구성에 있어서 상기 수지 조성물을 사용하는 층의 아래쪽에 직접 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 수지 조성물을 코팅하고, (2) 한편으로 투명 기재 필름에 대해, 직접 또는 다른 층을 매개로 하여 상기 공정에서 도막이 형성된 엠보싱 필름을 상기 도막을 안쪽으로 하여 라미네이트하고, (3) 이 라미네이트물에 대해 가열 처리 및/또는 전리 방사선 조사 처리를 행하여 상기 도막을 경화시키고, (4) 도막이 경화된 라미네이트물에서 상기 엠보싱 필름을 박리시킴으로써 표면에 미세한 요철을 갖는 방현층을 형성하고, (5) 상기 공정에서 형성된 방현층 위에 상기 방현층 보다도 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층을 형성하는 것을 특징으로 하는 방현성 방지 필름의 제조 방법.
  22. (1) 표면에 미세한 요철을 갖는 매트상의 엠보싱 필름 위에 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 미립자를 함유한 수지 조성물이며, 또한 상기 수지 조성물의 굴절률이 최종 제품으로서의 방현성 반사 방지 필름의 층 구성에 있어서, 상기 수지 조성물을 사용하는 층의 아래쪽에 직접 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 수지 조성물을 코팅하여 도막을 형성하고, (2) 상기 도막을 경화시켜 고굴절률 하드 코팅층으로 하고, (3) 한편으로, 투명 기재 필름의 표면 및 이면의 적어도 한 면에 접착층을 매개로 상기 공정의 고굴절률 하드 코팅층이 형성된 엠보싱 필름을 상기 고굴절률 하드 코팅층을 안쪽으로 하여 라미네이트 하고, (4) 상기 접착체 층을 경화시킨 후에 라미네이트물에서 상기 엠보싱 필름을 박리하여 표면에 미세한 요철을 갖는 고굴절률 하드 코팅층을 상기 투명 기재 필름 쪽에 전사시키고, (5) 이어서, 상기 고굴절률 하드 코팅층 위에 상기 고굴절률 하드 코팅층의 굴절률 보다 낮은 굴절률의 저굴절률 층을 설치하는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조방법.
  23. 제20항 내지 제22항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 다른층은 접착제층, 프라이머층 및/또는 하드 코팅층인 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조 방법.
  24. 제20항 내지 22항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 저굴절률층은 SiOx(X는 1.50≤x≤4.00)으로 된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조 방법.
  25. 제20항 내지 제22항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 저굴절률층은 물에 대해 표면의 접촉각이 40~180도의 SiOx(X는 1.50≤x≤4.00)으로 된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조방법.
  26. 제25항에 있어서, 상기 SiOx막의 동마찰 계수는 1이하인 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조 방법.
  27. 제25항에 있어서, 상기 SiOx막은 CVD, 바람직하게는 플라즈마 CVD에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조 방법.
  28. 제27항에 있어서, CVD를 다음의 조건 하에서 실시하는 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름의 제조 방법.
    (a) 유기 실록산을 원료 가스로 한다.
    (b) 원료 가스를 방전에 의해 플라즈마화 하는 플라즈마 CVD로 실시한다.
    (C) 무기 증착원의 부존재하에 CVD를 실시한다.
    (d) 피증착 기재 필름을 비교적 저온으로 유지시킨다.
    (e) 미분해 유기 실록산이 생성된 SiOx막에 존재하는 성막 조건으로 실시한다.
  29. 제5항에 기재된 방현성 반사 방지 필름이 편광 소자에 라미네이트로되어 이루어진 것을 특징으로 하는 편광판.
  30. 제29항에 기재된 편광판이 액정 표시 장치의 구동 요소로서 이용되고 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
  31. 물에 대해 40~180도의 접촉각을 갖는 SiOx막(X는 1.50≤x≤4.00)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학 기능성 막.
  32. 제31항에 있어서, 상기 SiOx막의 동마찰 계수는 1 이하인 것을 특징으로 하는 광학 기능성 막.
  33. 제31항에 있어서, 상기 SiOx막은 CVD, 바람직하게는 플라즈마 CVD에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 기능성 막.
  34. 제33항에 있어서, CVD를 다음의 조건 하에서 실시하여서 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학 기능성 막.
    (a) 유기 실록산을 원료 가스로 한다.
    (b) 원료 가스를 방전에 의해 플라즈마화 하는 플라즈마 CVD로 실시한다.
    (C) 무기 증착원의 부존재하에 CVD를 실시한다.
    (d) 피증착 기재 필름을 비교적 저온으로 유지시킨다.
    (e) 미분해 유기 실록산이 생성된 SiOx막에 존재하는 성막 조건으로 실시한다.
  35. (1) 투명 기재 필름의 표면 및 이면의 적어도 한면에 표면층인 저굴절률층이 다른 층을 매개로 형성되어 있고, (2) 상기 다른 층의 적어도 한 층이 바인더 수지를 주체로 하는 하드 코팅층이며, 상기 하드 코팅층은 저굴절률과 직접 접하고 있고, (3) 상기 하드 코팅층의 굴절률이 상기 하드 코팅층의 상기 저굴절률층 쪽과는 반대쪽 면에 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  36. 제35항에 있어서, 상기 하드 코팅층은 두께가 0.5㎛이상인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  37. 제35항에 있어서, 상기 하드 코팅층은 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다도 높은 굴절률 1.5 이상의 고굴절률 미립자를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  38. 제37항에 있어서, 상기 고굴절률 미립자는 ZrO2, ZnO, TiO2, Sb2O2, SnO2, ITO, CeO2중에서 선택된 1종 이상의 미립자인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  39. 제35항에 있어서, 상기 바인더 수지는 구성 분자 또는 원자로서 (1) 방향족 링, (2) F 이외의 할로겐 원자, (3) S, N, P의 원자 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 분자 및 원자를 포함하는 것을 특징으로하는 반사 방지 필름.
  40. 제35항에 있어서, 상기 바인더 수지가 열경화형 수지 및/또는 원자로서 (1) 방향족 링, (2) F 이외의 할로겐 원자, (3) S,N,P의 원자 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 분자 및 원자를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  41. 제35항에 있어서, 상기 저굴절률층은 SiOx(X는 1.50≤x≤4.00)으로 형성된 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  42. 제35항에 있어서, 상기 다른 층은 접착제층, 프라이머층 또는 하드 코팅층인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  43. (1) 투명 기재 필름의 표면 및 이면의 적어도 한면에 직접 또는다른 층을 매개로 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 미립자를 함유한 수지 조성물이며, 또한, 상기 수지 조성물의 굴절률이 최종 제품으로써의 반사 방지 필림의 층 구성에 있어서 상기 수지 조성물을 사용하는 층의 아래쪽에 직접 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 굴절률인 수지 조성물을 코팅하여 도막을 형성하고, (2) 상기 도막을 경화시켜 고굴절률 하드 코팅층으로 하고, (3) 이어서, 상기 고굴절률 하드 코팅층 위에 상기 고굴절률 하드 코팅층의 굴절률 보다도 낮은 저굴절률의 저굴절률 층을 설치하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  44. (1) 표면이 평활한 이형 필름에 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다도 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 미립자를 함유한 수지 조성물이며, 또한 상기 수지 조성물의 굴절률이 최종 제품으로써의 반사 방지 필립의 층 구성에 있어서 상기 수지 조성물을 사용하는 층의 아래쪽에 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 굴절률인 수지 조성물을 코팅하여 도막을 형성하고, (2) 한편으로, 투명 기지 필름의 표면 및 이면의 적어도 한 면에 직접 또는 다른 층을 매개로 하여 상기 공정의 도막이 형성된 이형 필름을 상기 도막을 안쪽으로 하여 라미네이트하고, (3) 이 라미네이트물에 대해 가열 처리 및/또는 전리 방사선 조사 처리를 행하여 상기 도막을 경화시키고, (4) 도막이 경화된 라미네이트물에서 상기 이형 필름을 박리시킴으로써 고굴절률 하드 코팅층을 상기 투명 기재 필름 쪽으로 전사시키고, (5) 다음에 상기 고굴절률 하드 코팅층 위에 상기 고굴절률 하드 코팅층의 굴절률 보다도 낮은 굴절률의 저굴절률층을 설치하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  45. (1) 표면에 평활한 이형 필름의 바인더 수지와 상기 바인더 수지의 굴절률 보다 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 미립자를 함유한 수지 조성물이며, 또한, 상기 수지 조성물의 굴절률이 최종제품으로써의 반사 방지 필름의 층 구성에서 상기 수지 조성물을 사용하는 층의 아래쪽에 직접 접하는 층의 굴절률 보다도 높은 굴절률인 수지 조성물을 코팅하여 도막을 형성하고, (2) 상기 도막을 경화시켜 고굴절률 하드 코팅층으로 하고, (3) 한편으로, 투명 기재 필름의 표면 및 이면의 적어도 한 면에 접착제층을 매개로 하며 상기 공정에서 고굴절률 하드 코팅층이 형성된 이형 필름을 상기 고굴절률 하드 코팅층을 안쪽으로 하여 라미네이트하고, (4) 상기 접착체 층을 경화시킨 후에 라미네이트물에서 상기 이형 필름을 박리하여 상기 고굴절률 하드 코팅층을 상기 투명 기재 필름쪽에 전사시키고, (5) 이어서, 상기 고굴절률 하드 코팅층 위에 상기 고굴절률 하드 코팅층의 굴절률 보다도 낮은 굴절률의 저굴절률 층을 설치하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조방법.
  46. 제43항 또는 제44항에 있어서, 상기 저굴절률층을 설치하는 방법은 기상법에 의해 설치하여서 되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  47. 제46항에 있어서, 상기 기상법은 플라지마 CVD법인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조방법.
  48. 제43항, 제44항 또는 45항에 있어서, 상기 저굴절률층은 SiOx(X는 1.50≤x≤4.00)으로 형성된 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  49. 제43항, 제44항 또는 45항에 있어서, 상기 저굴절률층을 설치하는 방법은 도포에 의해 설치하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  50. 제43항, 제44항 또는 45항에 있어서, 상기 다른 층은 접착제층, 프라이머층 또는 하드 코팅층인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  51. 제35항에 있어서, 상기 저굴절률층은 물에 대해 표면의 접촉각이 40~180도의 SiOx막(X는 1.50≤x≤4.00)으로 된 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  52. 제35항에 있어서, 상기 SiOx막의 동마찰 계수는 1 이하이 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  53. 제35항에 있어서, 상기 SiOx막은 CVD, 바람직하게는 플라즈마 CVD에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  54. 제53항에 있어서, CVD를 다음의 조건 하에서 실시하여서 얻어지는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
    (a) 유기 실록산을 원료 가스로 한다.
    (b) 원료 가스를 방전에 의해 플라즈마화 하는 플라즈마 CVD로 실시한다.
    (C) 무기 증착원의 부존재하에 CVD를 실시한다.
    (d) 피증착 기재 필름을 비교적 저온으로 유지시킨다.
    (e) 미분해 유기 실록산이 생성된 SiOx막에 존재하는 성막 조건으로 실시한다.
  55. 제35항에 기재된 반사 방지 필름이 편광 소자에 라미네이트 되어 있는 것을 특징으로 하는 편광판.
  56. 제55항에 기재된 편광판이 액정 표시 장치의 구성요소로서 이용되고 있는 액정표시장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950002780A 1994-02-15 1995-02-15 광학 기능성 재료 및 그의 제조 방법 KR100237255B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980054326A KR100254311B1 (ko) 1994-02-15 1998-12-11 광학 기능성 재료

Applications Claiming Priority (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP94-42022 1994-02-15
JP42022/1994 1994-02-15
JP4202294 1994-02-15
JP94-100582 1994-04-14
JP10058394 1994-04-14
JP94-100583 1994-04-14
JP100582/1994 1994-04-14
JP6100582A JPH07287102A (ja) 1994-04-14 1994-04-14 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置
JP100583/1994 1994-04-14
JP94-41238 1995-01-06
JP41238/1994 1995-02-06
JP7041238A JPH07333404A (ja) 1994-02-15 1995-02-06 光学機能性膜、光学機能性フィルム、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980054326A Division KR100254311B1 (ko) 1994-02-15 1998-12-11 광학 기능성 재료

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950031498A true KR950031498A (ko) 1995-12-18
KR100237255B1 KR100237255B1 (ko) 2000-01-15

Family

ID=27461020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950002780A KR100237255B1 (ko) 1994-02-15 1995-02-15 광학 기능성 재료 및 그의 제조 방법

Country Status (6)

Country Link
US (3) US5909314A (ko)
EP (3) EP1837684A3 (ko)
KR (1) KR100237255B1 (ko)
CA (1) CA2142580C (ko)
DE (2) DE69529433T2 (ko)
TW (1) TW274539B (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100625734B1 (ko) * 1999-04-15 2006-09-20 코니카 미놀타 홀딩스 가부시키가이샤 편광판용 보호 필름
KR100872621B1 (ko) * 1999-02-19 2008-12-09 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 섬광의 정량적 평가방법

Families Citing this family (146)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5909314A (en) * 1994-02-15 1999-06-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical functional materials and process for producing the same
US6383559B1 (en) * 1995-12-07 2002-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
JPH10111401A (ja) * 1996-08-14 1998-04-28 Daikin Ind Ltd 反射防止処理物品
JP3773340B2 (ja) * 1996-12-18 2006-05-10 大日本印刷株式会社 低屈折率ＳｉＯ２ 膜及びその製造方法
JP4101339B2 (ja) 1997-09-25 2008-06-18 大日本印刷株式会社 光拡散フィルム、その製造方法、拡散層付偏光板及び液晶表示装置
TW536644B (en) 1997-10-29 2003-06-11 Ushio Electric Inc Polarized light radiation device for alignment film of liquid crystal display element
JPH11248906A (ja) * 1998-03-06 1999-09-17 Hitachi Koki Co Ltd レンズ及びこれを用いた光学装置
US6319594B1 (en) * 1998-03-17 2001-11-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Low reflective antistatic hardcoat film
DE19840318A1 (de) 1998-09-04 2000-03-09 Bayer Ag Reaktivbindemittel mit verlängerter Topfzeit
EP1754994B1 (en) * 1998-09-22 2007-12-12 FUJIFILM Corporation Process for the preparation of an anti-reflection film
US6532047B1 (en) 1998-10-27 2003-03-11 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Irradiation device for polarized light for optical alignment of a liquid crystal cell element
TWI246460B (en) * 1999-01-14 2006-01-01 Sumitomo Chemical Co Anti-reflection film
KR100737229B1 (ko) * 1999-02-05 2007-07-09 후지필름 홀딩스 가부시끼가이샤 무광성 고투과율 필름, 그것을 이용한 편광판 및 액정표시장치
KR100356989B1 (ko) * 1999-04-13 2002-10-18 주식회사 엘지씨아이 투명 도전성필름 일체형 편광판, 편광판 일체형 터치패널 및 터치패널 일체형 평판 디스플레이
JP3515426B2 (ja) * 1999-05-28 2004-04-05 大日本印刷株式会社 防眩フィルムおよびその製造方法
US20060158735A1 (en) * 2004-02-20 2006-07-20 Tonar William L Electro-optic device having a self-cleaning hydrophilic coating
US6193378B1 (en) * 1999-06-25 2001-02-27 Gentex Corporation Electrochromic device having a self-cleaning hydrophilic coating
US6465044B1 (en) * 1999-07-09 2002-10-15 Silicon Valley Group, Thermal Systems Llp Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone
JP2001042125A (ja) * 1999-08-04 2001-02-16 Nitto Denko Corp 偏光部材、光学部材及び液晶表示装置
EP1094340B1 (en) * 1999-09-29 2007-07-18 FUJIFILM Corporation Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate, and image display device
US6888593B1 (en) 1999-09-29 2005-05-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate, and image display device
US7167615B1 (en) 1999-11-05 2007-01-23 Board Of Regents, The University Of Texas System Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same
US6873387B2 (en) * 2000-02-28 2005-03-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, sheet polarizer and liquid crystal display device
US6768945B2 (en) * 2000-03-01 2004-07-27 Accu Weather, Inc. Method, system, and software for calculating a multi factor temperature index
JP2001244188A (ja) * 2000-03-02 2001-09-07 Optron Inc 真空紫外用光学部材およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2001330822A (ja) * 2000-03-14 2001-11-30 Seiko Epson Corp 液晶表示装置及び電子機器
JP4502445B2 (ja) * 2000-03-16 2010-07-14 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの製造方法
US6778240B2 (en) * 2000-03-28 2004-08-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate, and image display device
JP2002014421A (ja) * 2000-06-28 2002-01-18 Seiko Epson Corp 電気光学装置及びプロジェクタ
US6409354B1 (en) * 2000-08-23 2002-06-25 Vtec Technologies, Inc. Transparent plastic or polymer based mirror apparatus and method for making the same
JP4455743B2 (ja) * 2000-09-12 2010-04-21 山本光学株式会社 偏光レンズの製造方法
JP2002169001A (ja) * 2000-09-22 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd 防眩性フィルムおよび液晶表示装置
US6686431B2 (en) 2000-11-01 2004-02-03 Avery Dennison Corporation Optical coating having low refractive index
JP2002189106A (ja) * 2000-12-20 2002-07-05 Dainippon Printing Co Ltd 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに防眩性フィルムを用いた表示装置
JP4840894B2 (ja) * 2000-12-20 2011-12-21 山本光学株式会社 偏光性成形体および同品の製造方法
JP2002196117A (ja) * 2000-12-25 2002-07-10 Nitto Denko Corp 光拡散層、光拡散性シート及び光学素子
JP2002200690A (ja) * 2000-12-28 2002-07-16 Bridgestone Corp 反射防止フィルム
EP1235108A1 (en) * 2001-02-22 2002-08-28 Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG Antireflective coating material and semiconductor product with an ARC layer
JP5054872B2 (ja) * 2001-02-22 2012-10-24 恵和株式会社 光拡散シート及びこれを用いたバックライトユニット
TWI276861B (en) * 2001-03-07 2007-03-21 Nitto Denko Corp Liquid crystal cell substrate, the method of producing the same and the liquid crystal display using the same
US6689476B2 (en) * 2001-06-27 2004-02-10 Guardian Industries Corp. Hydrophobic coating including oxide of Ni and/or Cr
US6703463B2 (en) 2001-08-01 2004-03-09 Avery Dennison Corporation Optical adhesive coating having low refractive index
US6833600B2 (en) * 2001-09-25 2004-12-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical component and method manufacturing the same
CN100347596C (zh) * 2001-10-04 2007-11-07 富士胶片株式会社 透射型液晶显示器
JP2003133270A (ja) * 2001-10-26 2003-05-09 Jsr Corp 化学機械研磨用窓材及び研磨パッド
AU2003208003A1 (en) * 2002-01-11 2003-07-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antiglare optical film, polarizing plate and display unit using the same
JP2003248104A (ja) * 2002-02-26 2003-09-05 Konica Corp 光学フィルム、それを用いた偏光板、表示装置及び光学フィルムの製造方法
AU2005200563B2 (en) * 2002-03-18 2007-07-26 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
CA2421538C (en) * 2002-03-18 2007-11-20 Hoya Corporation Optical member and process for producing it and thin films
TWI274662B (en) * 2002-03-29 2007-03-01 Toray Industries Laminated film, filter for display and display
CN1646947A (zh) * 2002-04-08 2005-07-27 日东电工株式会社 光扩散片、光学元件以及图像显示装置
US7245434B2 (en) * 2002-04-25 2007-07-17 Nitto Denko Corporation Light-diffusing sheet, optical element and image display
US7083752B2 (en) * 2002-05-20 2006-08-01 Eastman Kodak Company Cellulose acetate films prepared by coating methods
US7163738B2 (en) * 2002-05-20 2007-01-16 Eastman Kodak Company Polyvinyl alcohol films prepared by coating methods
US7012746B2 (en) * 2002-05-20 2006-03-14 Eastman Kodak Company Polyvinyl butyral films prepared by coating methods
US7048823B2 (en) * 2002-05-20 2006-05-23 Eastman Kodak Company Acrylic films prepared by coating methods
US20030215582A1 (en) * 2002-05-20 2003-11-20 Eastman Kodak Company Optical films prepared by coating methods
US20030215581A1 (en) * 2002-05-20 2003-11-20 Eastman Kodak Company Polycarbonate films prepared by coating methods
US20030215583A1 (en) * 2002-05-20 2003-11-20 Eastman Kodak Company Sulfone films prepared by coating methods
WO2004017105A1 (en) * 2002-08-15 2004-02-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, polarizing plate and image display device
TW557363B (en) * 2002-10-15 2003-10-11 Optimax Tech Corp Anti-glare film
WO2004039891A1 (ja) * 2002-10-29 2004-05-13 Jsr Corporation 硬化性組成物及びそれを用いた反射防止用積層体
JP4363029B2 (ja) * 2002-11-06 2009-11-11 ソニー株式会社 分割波長板フィルターの製造方法
US7125504B2 (en) * 2002-11-13 2006-10-24 Eastman Kodak Company Optical switch microfilms
KR101088329B1 (ko) * 2003-01-16 2011-11-30 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 방현필름, 그 제조방법 및 방현필름을 구비한 표시장치
WO2004078459A1 (en) * 2003-02-28 2004-09-16 Toray Plastics (America), Inc. High refractive index coated embossable film and method for producing it
US6888676B2 (en) * 2003-03-20 2005-05-03 Nokia Corporation Method of making polarizer and antireflection microstructure for mobile phone display and window
JP4217097B2 (ja) * 2003-04-03 2009-01-28 ダイセル化学工業株式会社 防眩性フィルム
JP4340788B2 (ja) * 2003-04-22 2009-10-07 シャープ株式会社 基板への偏光板貼付装置
KR20050021055A (ko) * 2003-08-26 2005-03-07 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
KR20050022582A (ko) * 2003-08-27 2005-03-08 제일모직주식회사 광확산판 및 광확산판을 포함하는 액정 표시 장치
TW594271B (en) * 2003-09-23 2004-06-21 Optimax Tech Corp Polarization plate capable of increasing LCD contrast of large viewing angle
US20050286132A1 (en) * 2003-10-30 2005-12-29 Tonar William L Electrochromic device having a self-cleaning hydrophilic coating with a controlled surface morphology
ATE520051T1 (de) * 2003-10-30 2011-08-15 Gentex Corp Elektrochromische einrichtung mit selbstreinigender hydrophiler beschichtung mit einer säurebeständigen unterschicht
US20050196604A1 (en) * 2004-03-05 2005-09-08 Unifoil Corporation Metallization process and product produced thereby
JP4344638B2 (ja) * 2004-03-26 2009-10-14 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム及びその製造方法、製造装置
JP4641829B2 (ja) * 2004-03-29 2011-03-02 大日本印刷株式会社 防眩性積層体
WO2006013906A1 (en) * 2004-08-02 2006-02-09 Fujifilm Corporation Optical film, producing method therefor, polarizing plate and image display apparatus
GB2417461B (en) * 2004-08-17 2008-03-26 Set Europ Ltd Anti-reflective moulded plastic components and methods for making the same
KR20060024527A (ko) * 2004-09-14 2006-03-17 삼성전자주식회사 광학 유닛, 이에 채용된 광 재생 부재의 제조 방법 및이를 갖는 표시장치
US7713613B2 (en) * 2004-10-01 2010-05-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Composition for antistatic layer
US20060147614A1 (en) * 2004-12-30 2006-07-06 3M Innovative Properties Company Transferable antireflection material for use on optical display
DE102005059485B4 (de) * 2005-02-11 2012-08-02 Carl Zeiss Vision Gmbh Verfahren zum Beschichten von Gegenständen aus Kunststoff
US7502088B2 (en) * 2005-03-17 2009-03-10 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device having an antiglare layer
JP4063292B2 (ja) * 2005-08-05 2008-03-19 セイコーエプソン株式会社 プラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法
JP2007102179A (ja) * 2005-09-07 2007-04-19 Sumitomo Chemical Co Ltd 高耐久偏光板及び液晶表示装置
DE102005043205A1 (de) * 2005-09-09 2007-03-22 Siemens Ag Anzeige mit einem elektrooptischen Display
US8067094B2 (en) * 2005-12-23 2011-11-29 3M Innovative Properties Company Films including thermoplastic silicone block copolymers
KR101309394B1 (ko) * 2005-12-23 2013-09-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 열가소성 실리콘 블록 공중합체를 포함하는 다층 필름
KR20070071346A (ko) * 2005-12-30 2007-07-04 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 복굴절성 중합체 층을 포함하는 휘도 증강용 광학필름복합체
KR100773993B1 (ko) * 2006-03-10 2007-11-08 (주)케이디티 광여기 시트
KR100728940B1 (ko) * 2006-03-10 2007-06-14 (주)케이디티 광여기 시트
US9291745B2 (en) * 2006-03-28 2016-03-22 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminated body
JP4145332B2 (ja) * 2006-03-28 2008-09-03 日東電工株式会社 ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、光学素子および画像表示装置
US8124215B2 (en) * 2006-03-28 2012-02-28 Nitto Denko Corporation Hard-coated antiglare film, method of manufacturing the same, optical device, polarizing plate, and image display
CN101479777B (zh) 2006-05-31 2011-07-06 株式会社半导体能源研究所 显示设备和电子装置
KR101419869B1 (ko) * 2006-05-31 2014-07-16 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치
JP4805785B2 (ja) * 2006-10-24 2011-11-02 Ｍｇｃフィルシート株式会社 防眩性積層体、塗膜防眩性積層体、防眩性材料、及び該防眩性材料の製造方法
WO2008069162A1 (en) 2006-12-05 2008-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
JP5060138B2 (ja) * 2007-02-20 2012-10-31 富士通コンポーネント株式会社 光学窓部材
WO2008102882A1 (ja) * 2007-02-23 2008-08-28 Nippon Sheet Glass Company, Limited 反射防止構造体
EP2137570A4 (en) * 2007-03-19 2011-12-21 Via Optronics Gmbh Advanced Liquid Crystal Display System And Method
TWI327958B (en) * 2007-05-28 2010-08-01 Daxon Technology Inc Antireflective film and method for making thereof
US20110117331A1 (en) * 2008-04-03 2011-05-19 Henrik Bang Mikkelsen Method for manufacturing an optical film
JP5659471B2 (ja) * 2008-09-04 2015-01-28 大日本印刷株式会社 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置
US8611010B2 (en) * 2008-09-30 2013-12-17 3M Innovative Properties Company Substrate comprising unmatched refractive index primer at optically significant thickness
KR20110110240A (ko) 2008-12-30 2011-10-06 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 반사방지 용품 및 이의 제조 방법
WO2010078306A2 (en) 2008-12-30 2010-07-08 3M Innovative Properties Company Method for making nanostructured surfaces
EP2379443B1 (en) 2008-12-30 2018-07-11 3M Innovative Properties Company Nanostructured articles and methods of making nanostructured articles
JP5468369B2 (ja) * 2009-12-01 2014-04-09 小島プレス工業株式会社 自動車用樹脂ガラス及びその製造方法
US20110151222A1 (en) * 2009-12-22 2011-06-23 Agc Flat Glass North America, Inc. Anti-reflective coatings and methods of making the same
US20130003179A1 (en) * 2010-03-03 2013-01-03 3M Innovative Properties Company Composite with nano-structured layer and method of making the same
JP5758881B2 (ja) * 2010-03-29 2015-08-05 株式会社きもと ニュートンリング防止シート、その製造方法及びタッチパネル
JP6100684B2 (ja) 2010-05-07 2017-03-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー マイクロ構造化表面を含む反射防止フィルム
DE102010048088A1 (de) 2010-10-01 2012-04-05 Carl Zeiss Vision Gmbh Optische Linse mit kratzfester Entspiegelungsschicht
CN102963054A (zh) * 2011-09-01 2013-03-13 东莞市纳利光学材料有限公司 一种防眩目、油污和指纹印的保护膜
CN102963085A (zh) * 2011-09-01 2013-03-13 东莞市纳利光学材料有限公司 一种高透明防油污保护膜
JP6355185B2 (ja) * 2011-09-27 2018-07-11 エスケイシー ハイテク アンド マーケティング カンパニー リミテッド 高輝度光学シートを製造する方法
US9568646B2 (en) * 2011-11-04 2017-02-14 Cam Holding Corporation Methods for reducing diffuse reflection of nanostructure-based transparent conductive films and touch panels made of the same
CN108594338B (zh) 2011-11-04 2019-11-26 凯姆控股有限公司 基于纳米结构的光学堆及具有该光学堆的显示器
US20130171375A1 (en) * 2011-12-30 2013-07-04 POLYTRON TECHNOLOGIES, INC. and POLYTRONIX, INC. Smart film structure
WO2013111735A1 (ja) * 2012-01-25 2013-08-01 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 光学フィルム
KR101360821B1 (ko) * 2012-02-01 2014-02-12 (주)에스이피 반사방지 효과와 내지문성을 구비한 투명기판
JP5304939B1 (ja) * 2012-05-31 2013-10-02 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法
WO2014011328A1 (en) 2012-07-09 2014-01-16 Corning Incorporated Anti-glare and anti-sparkle transparent structures
WO2014021644A1 (ko) * 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
KR101734425B1 (ko) 2013-09-24 2017-05-11 주식회사 엘지화학 드라이 필름 솔더 레지스트의 제조 방법과, 이에 사용되는 필름 적층체
WO2015095123A1 (en) 2013-12-19 2015-06-25 3M Innovative Properties Company Multilayer composite article
US9994676B2 (en) 2014-06-23 2018-06-12 3M Innovative Properties Company Silicon-containing polymer and method of making a silicon-containing polymer
US10345488B2 (en) * 2015-03-10 2019-07-09 Dell Products L.P. Cover glass comprising anti-glare and anti-reflective coating for reducing adverse optical effects
EP3308218A4 (en) * 2015-06-11 2019-01-09 E Ink California, LLC COMPOSITE COLORED PARTICLES
US11709156B2 (en) 2017-09-18 2023-07-25 Waters Technologies Corporation Use of vapor deposition coated flow paths for improved analytical analysis
US11709155B2 (en) 2017-09-18 2023-07-25 Waters Technologies Corporation Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
KR20200040137A (ko) 2018-10-08 2020-04-17 삼성전자주식회사 적층 필름, 및 적층 필름을 포함하는 표시 장치
CN109267034B (zh) * 2018-11-30 2020-09-04 信利光电股份有限公司 一种屏幕的制作方法
GB201819929D0 (en) * 2018-12-06 2019-01-23 Dupont Teijin Films Us Lp Polymeric film and uses thereof
US11678975B2 (en) 2019-04-05 2023-06-20 Amo Groningen B.V. Systems and methods for treating ocular disease with an intraocular lens and refractive index writing
US11944574B2 (en) 2019-04-05 2024-04-02 Amo Groningen B.V. Systems and methods for multiple layer intraocular lens and using refractive index writing
US11583389B2 (en) 2019-04-05 2023-02-21 Amo Groningen B.V. Systems and methods for correcting photic phenomenon from an intraocular lens and using refractive index writing
US11564839B2 (en) 2019-04-05 2023-01-31 Amo Groningen B.V. Systems and methods for vergence matching of an intraocular lens with refractive index writing
US11583388B2 (en) 2019-04-05 2023-02-21 Amo Groningen B.V. Systems and methods for spectacle independence using refractive index writing with an intraocular lens
US11529230B2 (en) 2019-04-05 2022-12-20 Amo Groningen B.V. Systems and methods for correcting power of an intraocular lens using refractive index writing
US11918936B2 (en) 2020-01-17 2024-03-05 Waters Technologies Corporation Performance and dynamic range for oligonucleotide bioanalysis through reduction of non specific binding
US20220011478A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Textured region of a substrate to reduce specular reflectance incorporating surface features with an elliptical perimeter or segments thereof, and method of making the same
CN113946063B (zh) * 2021-09-25 2023-06-30 明月镜片股份有限公司 一种夜间驾驶镜的制造工艺

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4188451A (en) * 1978-04-12 1980-02-12 General Electric Company Polycarbonate article coated with an adherent, durable, silica filled organopolysiloxane coating and process for producing same
US4207357A (en) * 1978-11-13 1980-06-10 General Electric Company Method for coating a polycarbonate article with silica filled organopolysiloxane
EP0166363B1 (en) * 1984-06-26 1991-08-07 Asahi Glass Company Ltd. Low reflectance transparent material having antisoiling properties
US4551361A (en) * 1984-11-15 1985-11-05 Owens-Illinois, Inc. Tintable scratch resistant coating
EP0203730B1 (en) * 1985-04-30 1993-06-23 Toray Industries, Inc. Anti-reflection optical article and process for preparation thereof
CA1293655C (en) * 1985-04-30 1991-12-31 Takashi Taniguchi Anti-reflection optical article and process for preparation thereof
JPS6280603A (ja) * 1985-10-04 1987-04-14 Toray Ind Inc 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法
US5759643A (en) * 1987-01-16 1998-06-02 Seiko Epson Corporation Polarizing plate and method of production
US5028566A (en) * 1987-04-10 1991-07-02 Air Products And Chemicals, Inc. Method of forming silicon dioxide glass films
JP2579292B2 (ja) * 1987-08-24 1997-02-05 大日本印刷株式会社 艶消フィルムの製造方法
US5742118A (en) * 1988-09-09 1998-04-21 Hitachi, Ltd. Ultrafine particle film, process for producing the same, transparent plate and image display plate
JPH02148902A (ja) 1988-11-30 1990-06-07 Hitachi Ltd アンテナ方向調整装置
JPH02153844A (ja) * 1988-12-05 1990-06-13 Toyota Motor Corp 耐摩耗性機能性二層薄膜およびその製造方法
DE4117257B4 (de) * 1989-12-27 2006-03-30 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Optisch wirkendes Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung für transparente Substrate
JPH0719777B2 (ja) * 1990-08-10 1995-03-06 株式会社半導体プロセス研究所 半導体装置の製造方法
JPH04124047A (ja) * 1990-09-17 1992-04-24 Nissan Motor Co Ltd ガラス表面の撥水処理方法
DE69130947T2 (de) * 1991-01-08 1999-07-08 Fujitsu Ltd Verfahren zur bildung eines siliciumoxid-filmes
JP2831140B2 (ja) * 1991-02-14 1998-12-02 三菱重工業株式会社 遮熱・着雪防止塗料
US5424130A (en) * 1991-05-13 1995-06-13 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Water repellent glass and process for producing the same
JP2555797B2 (ja) * 1991-05-13 1996-11-20 トヨタ自動車株式会社 撥水ガラス及びその製造方法
FR2677773B1 (fr) * 1991-06-12 1994-04-29 Air Liquide Procede d'elaboration d'une structure optique et structure optique ainsi realisee.
US5278703A (en) * 1991-06-21 1994-01-11 Digital Equipment Corp. Embedded servo banded format for magnetic disks for use with a data processing system
JPH04338901A (ja) * 1991-07-15 1992-11-26 Toray Ind Inc Ｃｒｔ用フィルター
JPH0597478A (ja) * 1991-10-04 1993-04-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 撥水性ガラス物品およびその製造方法
US5413865A (en) * 1992-01-31 1995-05-09 Central Glass Company, Limited Water-repellent metal oxide film and method of forming same on glass substrate
JP2716330B2 (ja) * 1992-11-13 1998-02-18 セントラル硝子株式会社 低反射ガラスおよびその製法
US5627426A (en) * 1993-03-22 1997-05-06 General Electric Company Lamp with IR reflecting film and light-scattering coating
US5747152A (en) * 1993-12-02 1998-05-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Transparent functional membrane containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and process for producing the same
JPH07230177A (ja) * 1993-12-22 1995-08-29 Canon Inc 電子写真感光体、その製造方法及び該電子写真感光体を有する電子写真装置
US5489328A (en) * 1994-01-31 1996-02-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Water repellent agent
US5909314A (en) * 1994-02-15 1999-06-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical functional materials and process for producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100872621B1 (ko) * 1999-02-19 2008-12-09 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 섬광의 정량적 평가방법
KR100625734B1 (ko) * 1999-04-15 2006-09-20 코니카 미놀타 홀딩스 가부시키가이샤 편광판용 보호 필름

Also Published As

Publication number Publication date
EP0667541A2 (en) 1995-08-16
US5909314A (en) 1999-06-01
DE69535591T2 (de) 2008-05-29
EP1837684A2 (en) 2007-09-26
CA2142580A1 (en) 1995-08-16
EP0667541B1 (en) 2003-01-22
DE69529433D1 (de) 2003-02-27
KR100237255B1 (ko) 2000-01-15
EP1837684A3 (en) 2008-02-13
US6340404B1 (en) 2002-01-22
EP0667541A3 (en) 1997-10-29
CA2142580C (en) 1999-11-09
DE69529433T2 (de) 2003-08-14
TW274539B (ko) 1996-04-21
EP1249716A1 (en) 2002-10-16
US6064524A (en) 2000-05-16
DE69535591D1 (de) 2007-10-18
EP1249716B1 (en) 2007-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950031498A (ko) 광학 기능성 재료 및 그의 제조 방법
EP1160080B1 (en) Antireflection sheet and process for producing the same
JPH10206603A (ja) 反射防止フィルム及びその製造方法
TWI486973B (zh) 透明導電層壓薄膜、其製造方法以及包含該透明導電層壓薄膜的觸控螢幕
BR112013018268A2 (pt) elemento transparente com reflexão difusa
JPH07333404A (ja) 光学機能性膜、光学機能性フィルム、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置
JP2005096322A (ja) 機能性層転写フィルム、並びに、防汚層及び機能性層転写体
JP2000214302A (ja) 反射防止フィルム及びその製造方法
CN112694847A (zh) 一种具有防眩光、减反射以及防指纹的薄膜
US20020090521A1 (en) Silica layers and antireflection film using same
JP5235315B2 (ja) 透明電極付き基板の製造方法
JPH10300902A (ja) 反射防止フィルム及びその製造方法
US6599618B1 (en) Wavelength selective photocatalytic dielectric elements on polytetrafluoroethylene (PTFE) refractors having indices of refraction greater than 2.0
JP2005017544A (ja) 反射防止フィルム、および画像表示装置
WO2014156889A1 (ja) 積層フィルム及びそのフィルムロール、並びにそれから得られうる光透過性導電性フィルム及びそれを利用したタッチパネル
JP2002122703A (ja) 反射防止積層体および光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置
JP2000221302A (ja) 反射防止フィルム及びその製造方法
JP4320866B2 (ja) 反射防止積層体、光学機能性積層体、および表示装置
KR101360821B1 (ko) 반사방지 효과와 내지문성을 구비한 투명기판
JPH07296672A (ja) タッチパネル
KR102168964B1 (ko) 눈부심 방지 기능을 갖는 고투명 배리어 필름 및 그 제조방법
JPH10206604A (ja) 反射防止フィルム
JP2006317957A (ja) 反射防止フィルム
JP2004255635A (ja) 透明積層フィルム、反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP2011107618A (ja) 反射防止シート

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120928

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130927

Year of fee payment: 15