DE3688604T2 - Optisches Gerät und Verfahren zu dessen Herstellung. - Google Patents
Optisches Gerät und Verfahren zu dessen Herstellung.Info
- Publication number
- DE3688604T2 DE3688604T2 DE19863688604 DE3688604T DE3688604T2 DE 3688604 T2 DE3688604 T2 DE 3688604T2 DE 19863688604 DE19863688604 DE 19863688604 DE 3688604 T DE3688604 T DE 3688604T DE 3688604 T2 DE3688604 T2 DE 3688604T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- reflection properties
- group
- properties according
- reflection
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Revoked
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 70
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 47
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 38
- -1 glycidoxy group Chemical group 0.000 claims description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 26
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 20
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 17
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 12
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 9
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 claims description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 58
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 40
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 21
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 5
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 5
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 4
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC)(OC(C)=O)OC(C)=O KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYPWIQUCQXCZCF-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(C)OCC1CO1 SYPWIQUCQXCZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 229910001502 inorganic halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 2
- OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CCC)OCC1CO1 OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCCC([Si](OC)(OC)OC)OCC1CO1 FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(CC)OCC1CO1 KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHFXIFMCZUNFSI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound COC(CO[SiH](C)CCCOCC1CO1)OC AHFXIFMCZUNFSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOEZZGGTFYTLGU-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl)ethyl-(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound O1C2CC(CCC21)CC[SiH2]OCC(OC)(OC)OC SOEZZGGTFYTLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORDZXCQDZLMHAM-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-triphenoxysilane Chemical compound C1CC2OC2CC1CC[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ORDZXCQDZLMHAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-tripropoxysilane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)CCC2OC21 ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OELQSSWXRGADDE-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-eneperoxoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OO OELQSSWXRGADDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANVDOLWMYWKRFT-UHFFFAOYSA-N 4-[ethoxy(dimethyl)silyl]oxy-4-methylpentan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(C)OC(C)(C)CCCN ANVDOLWMYWKRFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N COC(OC)(OC)CO[SiH2]C Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 229910002319 LaF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019071 Mg—Ka Inorganic materials 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 241000219289 Silene Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(3-chloropropyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCl YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000005331 crown glasses (windows) Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical class C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OCC)OCC OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COCC1CO1 UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethoxy]silane Chemical compound C1C(C(C)O[Si](C)(OCC)OCC)CCC2OC21 MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(CC)OCC1CO1 FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCOCC1CO1 FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDCSZEZNBODVRT-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 VDCSZEZNBODVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OC)OC FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxy)silane Chemical compound C1C(CO[Si](C)(OC)OC)CCC2OC21 PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)COCC1CO1 CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)OCC1CO1 RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(CC)OCC1CO1 KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C=C GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIAPTIZYCRWAU-UHFFFAOYSA-N ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](CC)(OCCC)CCCOCC1CO1 YCIAPTIZYCRWAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008266 hair spray Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)CCCOCC1CO1 CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910001637 strontium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L strontium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Sr+2] FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC)CCC2OC21 OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COCC1CO1 UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZJZZLMNRUZINU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(C(CCC)[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 GZJZZLMNRUZINU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)OCC1CO1 SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CC)OCC1CO1 NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(CC)OCC1CO1 FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOCC1CO1 RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COCC1CO1 LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUKFIZNQZXDKLG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(C(CCC)[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 CUKFIZNQZXDKLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)OCC1CO1 DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen optischen Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften, der eine ausgezeichnete Schmutzabweisung, Kratzfestigkeit und Verarbeitbarkeit besitzt, sowie
- ein Verfahren zur Herstellung dieses optischen Gegenstandes. Insbesondere bezieht sich die
- vorliegende Erfindung auf einen optischen Gegenstand, der in nützlicher Weise in Form von optischen Elementen, beispielsweise optischen Linsen, wie Brillengläsern und Kammaralinsen, verwendet wird, sowie als Filter, die als Frontplatten von Kathodenstrahlröhren verwendet werden sollen und für Braunsche Röhren, die als Kathodenstrahlröhren verwendet werden sollen.
- Wann irgendetwas durch transparentes Material betrachtet wird, ist die Betrachtung gestört, wann reflektierte Strahlen stark sind und ein klares reflektiertes Bild auftritt und reflektierte Bilder, wie sogenannte Geisterbilder oder Reflexionsflecken, erscheinen, die ein unangenehmes Gefühl für die Augen verursachen. Weiterhin kann im Falle eines Spiegels aufgrund der von der Glasoberfläche reflektierten Strahlen der Inhalt nicht klar gesehen werden.
- Als Mittel für die Verhinderung von Reflexionen wurde ein Verfahren eingesetzt, bei dem ein Basiskörper mit einem Material überdeckt wird, welches einen Brechungsindex besitzt, der vom Brechungsindex des Basiskörpers verschieden ist. Es ist bekannt, daß bei diesem Verfahren die Auswahl der Dicke der den Basiskörper bedeckenden Substanz wichtig ist, um den reflexionsverhindernden Effekt zu verstärken. So ist es bekannt, daß im Falle einer beispielsweise einschichtigen Beschichtung die Einstellung der optischen Dicke der Substanz, die einen niedrigeren Brechungsindex aufweist als der Basiskörper, auf ½ der Wellenlänge des einfallenden Lichtes oder ein ungeradzahliges Vielfaches davon ein Minimum an Reflexionsvermögen ergibt, was ein Maximum an Durchlässigkeit bedeutet.
- Die optische Dicke, auf die sich hier bezogen wird, ist durch ein Produkt aus dem Brechungsindex des die Beschichtung bildenden Materials und der Dicke der Beschichtung gegeben. Eins Schicht mit Anti-Reflexionseigenschaften, welche eine vielschichtige Struktur aufweist, kann hergestellt werden, und es wurden in Verbindung mit der Auswahl der Dicke der Beschichtungsschicht mehrere Vorschläge gemacht (A. Vasicek, "Optics of Thin Films", 159-283, North-Holland Publishing Company, Amsterdam (1960) ).
- In dem U.S. Patent Nr. 4 361 598 und der U.S. Patentanmeldung Serial No. 474 741 ist ein Verfahren geoffenbart, bei dem ein die oben erwähnte Bedingung der optischen Dicke erfüllender Mehrschichtenfilm mit Anti-Reflexionseigenschaften unter Verwendung einer Flüssigkeitszusammensetzung erzeugt wird.
- Bei einem Anti-Reflexionseigenschaften aufweisenden Film, der mittels des Vakuumdepositionsverfahrens erzeugt wird, ist das Film bildende Material hauptsächlich aus anorganischen Oxiden oder anorganischen Halogeniden zusammengesetzt, und der Film mit Anti-Reflexionseigenschaften besitzt im wesentlichen eine große Oberflächenhärte, aber wird leicht durch Handschmutz, Fingermarkierungen, Schweiß, Haarflüssigkeit, Haarspray oder dergleichen verschmutzt, und es ist schwierig, diese Schmutzflecken zu entfernen. Da die Gleitfähigkeit der Oberfläche schlecht ist, werden weiterhin leicht dicke Kratzer gebildet. Zusätzlich breitet sich, da die Wasserbenetzbarkeit groß ist, Wasser breit aus, wenn Regentropfen oder Wasserspritzer hängenbleiben, und im Falle eines Brillenglases oder dergleichen wird das Objekt über einen weiten Bereich verzerrt gesehen.
- In der Patentanmeldung GB-A-2 064 987 ist ein verbesserter Anti-Reflexionseffekt beschrieben, der durch Behandlung einer Oberflächenschicht, welche Partikel einer anorganischen Substanz, wie beispielsweise Silicium oder Aluminiumoxid enthält, mit einem aktivierten Gas hervorgebracht wird. Nachfolgend kann, wenn gewünscht, eine Schutzschicht als Beschichtung aufgebracht werden.
- Bei Filmen mit Anti-Reflexionseigenschaften, die in den ungeprüften japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 58-46301, Nr. 59-49501 und Nr. 59-50401 geoffenbart sind, ist es, um eine hohe Oberflächenhärte zu erzielen, notwendig, daß eine anorganische Substanz, die durch feine Partikel von Kiesalerde gebildet wird, in einem Anteil von mindestens 30 Gewichts-% in eine oberste Schutzbeschichtung eingebracht wird. Ein Film mit Anti-Reflexionseigenschaften, der mit einer solchen Filmzusammensetzung gebildet wird, ist jedoch schlecht im Hinblick auf die Oberflächengleitfähigkeit und kann leicht durch Reiben mit einem Tuch oder dergleichen zerkratzt werden.
- Verschiedene Mittel zur Oberflächenbehandlung sind vorgeschlagen und angeboten worden als Mittel zur Behebung dieser Nachteile, aber da jede von ihnen in Wasser oder Lösungsmitteln löslich ist, ist die hierdurch gegebene Wirkung zeitbedingt und die Dauerhaftigkeit ist schlecht.
- In der Absicht, die obengenannten Probleme, die den bekannten Techniken anheften, zu lösen, haben wir eine Untersuchung vorgenommen und als Ergebnis sind wir auf die vorliegende und weiter unten beschriebene Erfindung gekommen.
- Eine erste Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen optischen Artikel mit Anti-Reflexionseigenschaften zu schaffen- der eine ausgezeichnete Schmutzabweisung, Kratzfestigkeit und Verarbeitbarkeit besitzt.
- Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zu schaffen, mit dem ein derartiger optischer Gegenstand ohne Verschlechterung seines charakteristischen Aussehens durch Ungleichmäßigkeit der Interferenzfarben hergestellt wird.
- In Obereinstimmung mit einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein optischer Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften geschaffen, der einen auf ihm abgelagerten Ein- oder Mehrschichtenfilm mit Anti-Reflexionseigenschaften trägt. Die äußerste Schicht dieses Films (welche natürlich im Falle eines einschichtigen Films die einzige Schicht sein wird) ist eine Schicht aus Siliciumdioxid, das mittels eines physikalischen Dampfdepositionsverfahrens aufgetragen worden ist. Auf der Oberfläche des Anti-Reflexionsfilms befindet sich eine Beschichtung aus einer eine organische Substanz enthaltenden, aushärtenden Substanz. Der Oberflächenreflexionsgrad des optischen Gegenstandes ist geringer als 3 % und der stationäre Kontaktwinkel gegenüber Wasser beträgt mindestens 60º.
- In Übereinstimmung mit einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung von optischen Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften geschaffen, welches darin besteht, daß man auf der Oberfläche eines Basiskörpers einen anorganischen Einschichten- oder Mehrschichtenfilm mit Anti-Reflexionseigenschaften ablagert, bei dem die äußerste Schicht Siliciumdioxid ist, das mittels eines physikalischen Dampfdepositionsverfahrens aufgetragen worden ist, wobei man auf der Oberfläche des Anti-Reflexionsfilmes eine aushärtbare, eine organische Substanz enthaltende Substanz ablagert, die aus einer wasserabstoßenden, flüssigen Zusammensetzung besteht und die Beschichtung aushärtet.
- Bei der vorliegenden Erfindung wird der aus einer anorganischen Substanz bestehende Ein- oder Mehrschichtenfilm mit Anti-Reflexionseigenschaften aus einer Zusammensetzung gebildet, die mindestens 30 Gewichts-% eines anorganischen Oxids, eines anorganischen Halogenids oder einer Zusammensetzung hieraus besteht. Als Mittel zur Bildung dieses Films können unterschiedliche physikalische Dampfdepositionsverfahren genannt werden, wie beispielsweise ein Vakuumdepositionsverfahren, ein Ionenplattierverfahren und ein Bedampfungsverfahren sowie Beschichtungsverfahren, die eine Flüssigkeitszusammensetzung verwenden, welche zur Bildung eines Films fähig ist, der nach der Beschichtung mindestens 30 Gewichts-% einer anorganischen Substanz enthält, wie beispielsweise ein Schleuderbeschichtungaverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Streichbeschichtungsverfahren, ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Spritzbeschichtungsverfahren oder ein Gießbeschichtungsverfahren. Es ist jedoch ein wesentliches Merkmal der Erfindung, daß die äußerste Schicht des Films mit Anti-Reflexionseigenschaften aus Siliciumdioxid besteht, das mittels eines physikalischen Dampfdepositionsverfahrene aufgetragen worden ist.
- Als anorganische Substanz, die vorzugsweise für das physikalische Dampfdepositionsverfahren verwendet wird, kann genannt werden SiO&sub2;, MgF&sub2;, AlF&sub3;, BaF&sub2;, CaF&sub2;, LaF&sub3;, LiF, Na&sub3;AlF&sub8;, Na&sub5;AI&sub3;F&sub1;&sub4;, MaF und SrF&sub2;.
- Als anorganische Substanz, die vorzugsweise für das eine Flüssigkeitszusammensetzung verwendende Beschichtungsverfahren benutzt wird, kann ein Hydrolyseprodukt eines Silicats genannt werden, welches durch die folgende allgemeine Formel (I) darstellbar ist:
- Si(OR)&sub4; (I)
- wobei R für eine Alkylgruppe, eine Acylgruppe oder eine Alkoxyalkylgruppe sowie fein zerteilte Kieselerde, insbesondere kolloidal verteiltes Kieselsol.
- Es ist unbedingt notwendig, daß der die Oberflächenschicht bildende Film, welcher mittels des physikalischen Dampfdepositionsverfahrens oder mittels des Beschichtungsverfahrens mit einer Flüssigkeitszusammensetzung aufgebracht wird mindestens 30 Gewichts-% der anorganischen Substanz enthalten sollte. Wenn der Anteil an anorganischer Substanz weniger als 30, Gewichts-% beträgt, kann keine ausreichende Oberflächenhärte erhalten werden, und die deutlichen Verbesserungen der Schmutzabweisung und der Kratzfestigkeit, die Ziel der vorliegenden Erfindung sind, können nicht erreicht werden.
- Der fein zerteilte Kieselerde enthaltende Film, welcher durch Verwendung des oben erwähnten kolloidal verteilten Kieselsols erhalten wird, enthält fein zerteilte Kieselerde mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von 1 bis 200 nm, vorzugsweise 5 bis 150 nm. Als fein zerteilte Kieselerde kann ein Sol aus kolloidal verteilter Kieselerde in einer hydrophilen Lösung, etwa Wasser oder ein Alkohol, genannt werden, sowie hydrophobe, fein zerteilte Kieselerde, die durch Veresterung der Oberflächen der Partikel des oben erwähnten Kieselsols mit einem langkettigen Alkohol erhalten wird. Der Anteil der fein zerteilten Kieselerde in dem Film sollte entsprechend dem Objekt und seinem Gebrauch bestimmt werden, aber um seine Härte und sein Anheften am Basiskörper zu verbessern und die Bildung von Brüchen zu vermeiden, ist es vorzuziehen, daß der Gehalt an fein zerteilter Kieselerde 2 bis 80 Gewichts-%, insbesondere 5 bis 70 Gewichts-%, beträgt. Wenn die durchschnittliche Partikelgröße kleiner als 1 nm ist, wird die Stabilität der Partikel schlecht, und es können keine Produkte erhalten werden, die eine gleichförmige Qualität aufweisen. Wenn die durchschnittliche Partikelgröße 290 nm übersteigt, ist die Transparenz des Films niedrig, und es können keine Produkte erhalten werden, die ein gutes Aussehen aufweisen.
- Als Komponente (im folgenden als "Trägerkomponente" bezeichnet), die außer der fein zerteilten Kieselerde verwendet wird, kann jedes Material verwendet werden, wenn die Transparenz hierdurch nicht verschlechtert wird. So kann beispielsweise Polyvinylacetat, ein Verseifungsprodukt hiervon, ein Acrylpolymer, eine Celluloseverbindung, ein Melaminharz, ein Epoxidharz, ein Polyorganosiloxanharz, ein Polyvinyl-Butyral-Harz und ein Urethanharz verwendet werden. Diese Träger können einzeln oder in Form von Mischungen aus zwei oder mehreren von ihnen verwendet werden. Anstelle von thermoplastischen Trägern können quervernetzte Produkte verwendet werden. Die Verwendung von quervernetzten Produkten ist wirksam für die Verbesserung solcher Eigenschaften, wie Wärmebeständigkeit, Heißwasserbeständigkeit und chemische Beständigkeit. Um die Oberflächenhärte zu verbessern, ist es vorzuziehen, unter den oben erwähnten Trägern ein Polyorganosiloxanharz zu verwenden. Als typisches Beispiel für die Zusammensetzung zur Bildung eines Polyorgansiloxanharzes kann eine organische Siliciumverbindung genannt werden, die durch die folgende allgemeine Formel (II) und/oder ein Hydrolyseprodukt davon repräsentiert ist.
- R¹aR²&sub2;Si(OR³)4-a-b (II),
- wobei R¹ und R² jeweils für eine Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit einer Halogengruppe, eine Epoxygruppe, eine Glycidoxygruppe, eine Aminogruppe, eine Marcaptogruppe, eine Methecryloxygruppe oder eine Cyanogruppe stehen, während R³ eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Alkoxyalkylgruppe, eine Acylgruppe oder eine Phenylgruppe bedeutet und a und b für 0 oder 1 stehen und (a + b) 1 oder 2 bedeuten.
- Als typische Beispiele für die organische Siliciumverbindung können genannt werden: Trialkoxysilane, Triacyloxysilane und Triphenoxysilane wie z. B. Methyltrimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, Methyltrimethoxyethoxysilan, Methyltriacetoxysilan, Methyltributoxysilan, Ethyltrimethoxysilan, Ethyltriethoxysilan, Vinyltrimethoxysilan, Vinyltriethoxysilan, Vinyltriacetoxysilan, Vinyltrimethoxyethoxysilan, Phenyltrimethoxysilan, Phenyltriethoxysilan, Phenyltriacetoxysilan, γ-Chloropropyltrimethoxysilan, γ-Chloropropyltriethoxysilan, γ-Chloropropyltriacetoxysilan, 3,3,3-Trifluoropropyltrimethoxysilan, γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, γ-Aminopropyltrimethoxysilan, γ-Mercaptopropyltrimethoxysilan, γ-Mercaptopropyltriethoxysilan, N-β-(Aminoethyl) -Y-Aminopropyltrimethoxysilan, β-Cyanoethyltriethoxysilan, Mathyltriphenoxysilen, Chloromethyltrimethoxysilan, Chloromethyltriethoxysilan, Glycidoxymethyltrimethoxysilan, Glycidoxymethyltriethoxysilan, α-Glycidoxyethyltrimethoxysilan, α-Glycidoxyethyltriethoxysilan, β-Glycidoxyethyltrimethoxysilan, β-Glycidoxyethyltriethoxysilan, -Glycidoxypropyltrimethoxysilan, α-Glycidoxypropyltriethoxysilan, β-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, β-Glycidoxypropyltriethoxysilan, γ-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, γ-Glycidoxypropyltriethoxysilan, δ-Glycidoxypropyltripropoxysilan, γ-Glycidoxypropyltributoxysilan, γ-Glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilan, γ-Glycidoxypropyltriphenoxysilan, α-Glycidoxybutyltrimathoxysilan, α-Glycidoxybutyltriethoxysilan, β-Glycidoxybutyltrimethoxysilan, β-Glycidoxybutyltriethoxysilan, º-Glycidoxybutyltrimethoxysilan, γ-Glycidoxybutyltriethoxysilan, α-Glycidoxybutyltrimethoxysilan, α-Glycidoxybutyltriethoxysilan, (3,4-Epoxycyclohexyl)-methyltrimethoxysilan, (3,4-Epoxycyclohexyl)-methyltriethoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)-ethyltrimethoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltributoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxyethoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilan, γ-(3,4-Epoxycyclohexyl)propyltrimethoxysilan, γ-(3,4-Epoxycyclohexyl)propyltriethoxysilan, α-(3,4-Epoxycyclohexyl)butyltrimethoxysilan, α-(3,4-Epoxycyclohexyl)butyltriethoxysilan und Hydrolyseprodukte davon sowie Dialkoxysilane, Diphenoxysilane und Diecyloxysilane, wie z. B. Dimethyldimethoxysilan, Phenylmethyldimethoxysilan, Dimethyldiethoxysilan, Phenylmethyldiethoxysilan, γ-Chloropropylmethyldimethoxysilan, γ-Chloropropylmethyldiethoxysilan, Dimathyldiscetoxysilan, γ-Methacryloxypropylmethyldimethoxysilan, γ-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilan, γ-Mercaptopropylmethyldimethoxysilan, γ-Mercaptopropylmethyldiethoxysilan, γ-Aminopropylmathyldimathoxysilan, γ-Aminopropylmethyldiethoxysilan, Methylvinyldimethoxysilan, Methylvinyldisthoxysilan, Glycidoxymethylmethyldimethoxysilan, Glycidoxymethylmethyldiethoxysilan, α-Glycidoxyethylmethyldimethoxysilan, α-Glycidoxyethylmethyldiathoxysilan, β-Glycidoxyethylmethyldimethoxysilan, β-Glycidoxyethylmethyldiethoxysilan, α-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilan, α-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan, β-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilan, β-Glycidoxypropylmethyldiathoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldipropoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldibutoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldiphenoxysilan, γ-Glycidoxypropylethyldimethoxysilan, γ-Glycidoxypropylethyldiethoxysilan, γ-Glycidoxypropylethyldipropoxysilan, γ-Glycidoxypropylvinyldimethoxysilan, γ-Glycidoxypropylvinyldiethoxysilan, γ-Glycidoxypropylphenyldimethoxysilan, γ-Glycidoxypropylphenyldiethoxysilane und Hydrolyseprodukte davon.
- Diese organischen Siliciumverbindungen können einzeln oder in Form einer Mischung aus zwei oder mehreren von ihnen verwendet werden. Um die Farbbarkeit zu verbessern, ist es vorzuziehen, daß eine organische Siliciumverbindung verwendet wird, welche eine Epoxy-Gruppe oder eine Glycidoxy-Gruppe enthält.
- Um solche Eigenschaften, wie Wetterverträglichkeit und Schweißverträglichkeit, zu verbessern, und um die Anti-Reflexionswirkung durch Reduktion des Brechungsindex des Beschichtungsfilms zu erhöhen, ist es vorzuziehen, eine organische Siliciumverbindung zu verwenden, welche eine Methylgruppe, eine γ-Chloropropylgruppe oder eine Vinylgruppe enthält.
- Um die Aushärtetemperaturen zu erniedrigen und das Aushärten zu beschleunigen, ist es vorzuziehen, daß diese organische Siliciumverbindung im hydrolisierten Zustand verwendet wird.,
- Das Hydrolyseprodukt kann durch Hinzufügung von reinem Wasser oder einer sauren, wäßrigen Lösung, wie beispielsweise Salzsäure, Essigsäure oder Schwefelsäure, zu der organischen Silan-Verbindung und Umrühren des Gemisches erzeugt werden. Der Hydrolysegrad kann leicht durch Einstellung des hinzugefügten Anteils an reinem Wasser oder der sauren, wäßrigen Lösung gesteuert werden. Um das Aushärten zu fördern, ist es besonders vorzuziehen, wenn reines Wasser oder die saure, wäßrige Lösung in einem Anteil von 1 bis 3 Mol pro Mol der Gruppe OR³ in der allgemeinen Formel (II) hinzugefügt wird.
- Wenn durch die Hydrolyse ein Alkohol oder dergleichen gebildet wird, ist es mögliche die Hydrolyse in Abwesenheit eines Lösungsmittels durchzuführen, aber um die Hydrolyse gleichmäßig durchzuführen, ist es möglich, die Hydrolyse auszuführen, nachdem die organische Siliciumverbindung mit einem Lösungsmittel gemischt worden ist. Ein geeigneter Anteil eines Alkohole oder dergleichen, der durch die Hydrolyse gebildet wurde, kann durch Erwärmen und/oder unter einem herabgesetzten Druck je nach Notwendigkeit abgeführt werden, und nach dem Abführen des Alkohole oder dergleichen kann ein geeignetes Lösungsmittel hinzugefügt werden. Als Lösungsmittel können erwähnt werden Alkohole, Ester, Ether, Ketone, halogenierte Kohlenwasserstoffe und aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol und Xylol. Ein gemischtes Lösungsmittel aus zwei oder mehreren dieser Lösungsmittel kann je nach Notwendigkeit verwendet werden. Um die Hydrolysereaktion zu begünstigen und die Vorkondensation oder eins andere Reaktion zu beschleunigen, ist es möglich, die Temperatur über die Raumtemperatur anzuheben. Selbstverständlich kann die Hydrolysetemperatur zur Steuerung der Vorkonsensation unter die Raumtemperatur abgesenkt werden.
- Um das organische Polysiloxanharz zu modifizieren, um beispielsweise das Anheften an einem Kunststoffbasiskörper zu verbessern und die Färbbarkeit des Beschichtungsfilme zu verbessern, ist es vorzuziehen, daß ein Epoxidharz hinzugefügt wird.
- Die Dicke des Oberflächenfilms sollte in Abhängigkeit von den geforderten Eigenschaften außer dem Anti-Reflexionseffekt bestimmt werden, aber um den höchsten Anti-Reflexionseffekt zu erzielen, ist es vorzuziehen, daß die optische Dicke das Oberflächenfilms ½ der Wellenlänge des einfallenden Lichtes oder ein ungeradzahliges Vielfaches hiervon beträgt.
- In diesem Falle kann ein minimaler Reflexionsgrad, das bedeutet eine maximale Durchlässigkeit, erreicht werden.
- Im übrigen ist die optische Dicke gegeben durch ein Produkt aus dem Brechungsindex des filmbildenden Materials und der Dicke des Films.
- Die untere Schicht, die unterhalb des oben erwähnten Oberflächenfilms angeordnet ist, ist nicht besonders kritisch. Insbesondere kann der Oberflächenfilm direkt auf den Basiskörper aufgebracht werden, aber um den Anti-Reflexionseffekt zu verbessern, ist es vorzuziehen, daß der Basiskörper mit mindestens einer Schicht beschichtet wird, die einen Brechungsindex besitzt, der höher ist als der das Oberflächenfilms. Wie erwähnt, sind mehrere Vorschläge für die Dicke und den Brechungsindex des Oberflächenfilms in derartigen Mehrschichten-Anti-Reflexions-Filmen gemacht worden.
- Um einen optischen Gegenstand zu erhalten, der die Eigenschaft hat, elektromagnetische Wellen abzuschirmen und einen antistatischen Effekt neben einem Anti-Reflexionseffekt aufweist, ist es vorzuziehen, daß mindestens eine Schicht des Mehrschichtenfilms transparent und elektrischleitend ist. Als transparente, elektrischleitende Schicht können Filme aus Metallen wie Au, Ag und Al genannt werden sowie Filme aus anorganischen Oxiden, wie beispielsweise Zinnoxid, Indiumoxid und eine Mischung hiervon. Ein Film aus anorganischen Oxiden des letztgenannten Typs ist vorzuziehen, weil bei ihm die Absorption im Bereich der sichtbaren Strahlung sehr klein ist.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung wird auf die Oberfläche des Einschichten- oder Mehrschichten- Anti-Reflexionsfilms, der die hauptsächlich aus anorganischen Substanzen bestehende Oberflächenschicht aufweist, eine Schicht aus einer organischen Substanz aufgetragen, die eine aushärtende Substanz enthält. Die eine aushärtende Substanz enthaltende organische Substanz, auf die hier Bezug genommen wird, ist eine Substanz, welche eine dreidimensional quervernetzbare Substanz enthält. Es ist absolut notwendig, daß der Oberflächenreflexionsgrad des optischen Gegenstandes nach der Bildung der aushärtenden Beschichtung niedriger als 3% sein sollte und der stationäre Kontaktwinkel gegenüber Wasser mindestens 60º betragen sollte.
- Der Oberflächenreflexionsgrad, auf den hier Bezug genommen wird, bedeutet das gesamte Strahlenreflexionsvermögen auf der als aushärtende Beschichtung aufgetragenen Oberfläche. Im Falle eines optischen Gegenstandes, der einen Film mit Anti-Reflexionseigenschaften aufweist und auf jeder der beiden Oberflächen eine, eine organische Substanz enthaltende aushärtende Beschichtung besitzt, sollte der Reflexionsgrad an beiden Oberflächen kleiner als 6% sein. Wenn der Oberflächenreflexionsgrad des optischen Gegenstandes nach dem Aufbringen der aushärtenden Beschichtung nicht kleiner als 3% ist, kann ein Erreichen des Anti-Reflexionseffektes nicht erwartet werden. In dem Falle, in welchem der optische Gegenstand farblos und transparent ist, kann die Hälfte des Wertes, der durch Abziehen der gesamten Strahlendurchlässigkeit von 100% erhalten wird als Reflexionsvermögen an einer Oberfläche angesehen werden.
- Wenn der Oberflächenreflexionsgrad nicht kleiner als 3% ist, wird im Falle eines Brillenglases ein reflektiertes Bild, wie beispielsweise ein Geisterbild oder ein Reflexionsflecken, erzeugt, das bzw. der ein unangenehmes Gefühl in den Augen hervorruft, und im Falle eines Filters für Spiegel oder für Kathodenstrahlröhren wird der Gehalt oder die abgebildete Figur durch an der Oberfläche reflektierte Strahlen unscharf gemacht.
- Es ist weiterhin absolut notwendig, daß bei dem optischen Gegenstand nach dem Aufbringen der aushärtenden Beschichtung der stationäre Kontaktwinkel mindestens 60º betragen sollte. Der stationäre Kontaktwinkel, auf den hier Bezug genommen wird, ist ein Winkel, der nach dem Flüssigkeitstropfenverfahren bestimmt wurde, bei dem ein Wassertropfen mit einem Durchmesser kleiner als 2 mm auf den optischen Gegenstand aufgebracht wird und der Kontaktwinkel gemessen wird. Wenn der stationäre Kontaktwinkel gegenüber Wasser kleiner als 60º ist, ist der Effekt der Verbesserung der Schmutzabweisung ungenügend und die Gleitfähigkeit der Oberfläche ist verschlechtert. Wenn es wünschenswert ist, den wasserabstoßenden Effekt zu verbessern, ist es vorzuziehen, daß der stationäre Kontaktwinkel mindestens 75º beträgt.
- Die eine organische Substanz enthaltende, aushärtende Substanz ist nicht besonders kritisch. Solange die oben erwähnten Erfordernisse für den Obarflächenreflexionsgrad und den stationären Kontaktwinkel gegenüber Wasser erfüllt sind. Jedoch werden die bei Raumtemperatur oder niedriger Temperatur aushärtenden, organischen Polysiloxan-Polymere vorgezogen, und ein Polydimethylsiloxan-Polymer wird besonders vorgezogen, weil der stationäre Kontaktwinkel bei der Verwendung dieses Polymers vergrößert werden kann. Als aushärtende Polysiloxane können Zusammensetzungen genannt werden, die durch Mischen von Polyalkyl-, Polyalkenyl und Polyarylsiloxanen gebildet werden, wie beispielsweise Polydimethylsiloxan, Polymethylphenylsiloxan und Polymethylvinylsiloxan mit verschiedenen quervernetzenden Mitteln, beispielsweise tetrafunktionalen Silanen wie Tetraacetoxysilan, Tetraalkoxysilan, Tetraathylmethylketooximesilan und Tetraisopropenylsilan oder trifunktionalen Silanen, wie beispielsweise Alkenyltriacetoxysilan, Triketooximesilan und Triisopropenylsilan und Produkt., die durch Reaktion solcher Zusammensetzung vorher gebildet wurden. Als ein anderes Polysiloxan mit aushärtender Eigenschaft kann ein ausgehärtetes Produkt genannt werden, das durch Reagieren eines Polysiloxans mit einer Si-H-Bindung mit einer Verbindung erhalten wird, die eine ungesättigte Gruppe in Gegenwart einer Platinverbindung aufweist. Als weiteres wirksames Beispiel kann ein fluorhaltiges Gemisch genannt werden, insbesondere ein Polymer, welches eine Perfluor-Gruppe enthaltendes Methacrylat oder ein dieses Methacrylat und ein anderes Monomer enthaltenes Copolymer enthält. In dieses Polymer wird eine funktionale Gruppe eingeführt, um das Quervernetzen und Aushärten zu bewirken. Es kann beispielsweise ein Copolymer verwendet werden, das durch Einführung eines eine Hydroxylgruppe enthaltenden Hydroxyl-Methacrylats oder eines eine Carboxylgruppe enthaltenden Monomers, wie beispielsweise Methacrylsäure, in das oben erwähnte Polymer gebildet wird. Weiterhin kann als quervernetzbares Polymer ein Copolymer genannt werden mit einem Monomer, welches eine Doppelbindung besitzt, die sich in ihrer Reaktionsfähigkeit unterscheidet, wie beispielsweise Allylmethacrylat. Der Polymerationszustand des Copolymeren ist nicht auf den oben erwähnten Polymerationszustand begrenzt, sondern es können Zufalls-Copolymerisation und Blockcopolymerisation angewandt werden. Um das Wasserabstoßungsvermögen sowie das Anheften am zu beschichtenden Material zu verbessern, ist es vorzuziehen, ein Blockcopolymer zu verwenden.
- Bei da. Anti-Reflexionsfilm gemäß der vorliegenden Erfindung ist es, um eine ausreichende Oberflächenhärte zu erhalten, vorzuziehen, daß als äußerste Schicht ein Einschichten- oder Mehrschichten-Film aufgebracht wird, der hauptsächlich aus Siliciumdioxid besteht.
- Bei dem Einschichten- oder Mehrschichten-Anti- Reflexionsfilm, der als Oberflächenschicht einen Film aufweist, der im wesentlichen aus Siliciumdioxid besteht, ist es vorzuziehen, daß die Oberfläche mit einer Substanz beschichtet wird, die aus einem mit Silanol abgeschlossenen, organischen Polysiloxan besteht. Als mit Silanol abgeschlossenes, organisches Polysiloxan können genannt werden, eine endständige Silanolgruppe enthaltende Polyalkyl-, Polyalkenyl- und Polyarylsiloxane, wie beispielsweise Polydimethylsiloxan, Polymethylphanylsiloxan und Polymethylvinylsiloxan. Das Molekulargewicht des mit Silanol abgeschlossenen, organischen Polysiloxans ist nicht besonders kritisch, aber im Hinblick auf die Stabilität und die Handhabungseigenschaften ist es vorzuziehen, daß ein mit Silanol abgeschlossenes, organisches Polysiloxan verwendet wird, das ein zahlenmäßiges durchschnittliches Molekulargewicht von 1.000 bis 1.000.000, insbesondere 2.000 bis 500.000, hat. Ein Produkt, das eine endständige Silanolgruppe besitzt, kann durch Hdrolyse eines Monomeren, wie Dimethyldichlorosilen, Dimethyldialkoxysilan oder Dimethyldiacetoxysilan, erhalten werden. Natürlich kann ein mit Silanol abgeschlossenes, organisches Polysiloxan durch weitere Beschleunigung der Kondensationsreaktion erhalten werden.
- Um das Aushärten zu begünstigen oder die oben erwähnte Aushärtbarkeit zu erzeugen, kann der oben erwähnten Zusammensetzung ein aushärtendes Mittel oder ein quervernetzendes Mittel hinzugefügt werden. So kann beispielsweise ein Silikonharz-Aushärtemittel, ein Silan-Verbindungsmittel, ein Metallalkoxid, eine Metallchelatverbindung, eine Isocyanatverbindung, ein Melaminharz, ein polyfunktionales Acrylharz und ein Harnstoffharz verwendet werden.
- Das Verfahren zum Aushärten der die organische Substanz enthaltenden Substanz sollte im Hinblick auf den Anti-Reflexionsgegenstand und die Art der verwendeten Substanz bestimmt werden. Gewöhnlich wird das Aushärten durch eine Wärmebehandlung bei einer Temperatur oberhalb der Raumtemperatur und unterhalb von 250ºC oder durch Bestrahlung mit Strahlen einer Strahlung, wie ultraviolette Strahlen, Elektronenbündelstrahlen oder γ-Strahlen bewirkt, wobei eine aushärtbare funktionale Gruppe, wie eine Doppelbindung in dem Polymer oder Oligomer, verwendet wird.
- In dem Fall, wo die die organische Substanz enthaltende, aushärtende Substanz nicht ausgehärtet ist, fällt die Beschichtung leicht in der Waschstufe oder beim Kontakt mit Chemikalien von dem optischen Gegenstand ab, und ein Produkt mit einer guten Dauerhaftigkeit kann nicht erhalten werden.
- Die Dicke der aus der die organische Substanz enthaltenden, aushärtenden Substanz gebildeten Beschichtungen ist nicht besonders kritisch, aber im Hinblick auf die Beziehung zwischen dem Anti- Reflexionseffekt und dem stationären Kontaktwinkel gegenüber Wasser ist es vorzuziehen, wenn die durchschnittliche Dicke der Beschichtung 0,0005 bis 0,5 um, insbesondere 0,001 bis 0,3 um, beträgt.
- Ein für gewöhnliche Beschichtungsvorgänge eingesetztes Beschichtungsverfahren kann angewendet werden, aber im Hinblick auf die Gleichförmigkeit des Anti-Reflexionseffekts und die Steuerung der Reflexionsinterferenzfarbe werden vorzugsweise Schleuderbeschichtung, Tauchbeschichtung und Streichbeschichtung eingesetzt. Im Hinblick auf die Leistungsfähigkeit des Verfahrens ist es besonders vorzuziehen, ein Verfahren einzusetzen, bei dem ein Material, wie Papier oder Stoff mit der Beschichtungsflüssigkeit imprägniert und eine Fließbeschichtung bewirkt wird.
- Die eine organische Substanz enthaltende, aushärtende Substanz wird gewöhnlich mit einem flüchtigen Lösungsmittel verdünnt und dann aufgetragen. Die Art des Lösungsmittels ist nicht besonders kritisch, aber es wird im Hinblick auf die Stabilität der Zusammensetzung, die Benetzbarkeit mit der anorganischen Substanz und die Flüchtigkeit ein geeignetes Lösungsmittel ausgewählt. Eine Mischung von zwei oder mehreren Lösungsmitteln kann angewendet werden.
- Im Hinblick auf die gleichförmige Beschichtungseigenschaft ist es vorzuziehen, daß eine weiter unten beschriebene Zusammensetzung als organisches Polysiloxan-Polymer verwendet wird, das heißt, eine Beschichtungszusammensetzung, die aus einer homogenen Lösung besteht, welche folgende Komponenten enthält: (A) eine aushärtbare, organische Siliciumverbindung, (B) ein Lösungsmittel, das dazu geeignet ist, die organische Siliciumverbindung darin aufzulösen, und (C) ein Lösungsmittel, welches nicht dazu geeignet ist, die organische Siliciumverbindung darin aufzulösen. Es kann irgendeine der aushärtbaren, organischen Siliciumverbindungen als Komponente (A) verwendet werden und viele organische Siliciumverbindungen, die weiter oben erläutert wurden, können verwendet werden. Die Komponenten (B) und (C) sind Verbindungen, die gewöhnlich als Lösungsmittel verwendet werden und die kombinierte Anwendung der Komponente (B), die dazu geeignet ist, die organische Siliciumverbindung in ihr aufzulösen und der Komponente (C), die nicht dazu geeignet ist, die organische Siliciumverbindung in ihr aufzulösen,ist im Hinblick auf die Eigenschaft einer gleichförmigen Beschichtung vorzuziehen.
- Der Anteil der Komponente (A) in der bei der vorliegenden Erfindung verwendeten Beschichtungszusammensetzung kann entsprechend dem geplanten Gebrauch, des Beschichtungsverfahrens und der Beschichtungsbedingungen geändert werden. Im Hinblick auf die Tatsache, daß nur die Oberflächeneigenschaften verbessert werden, wird für die Komponente (A) ein Anteil von 0,0001 bis 5,0 Gewichts-% besonders vorgezogen.
- Die Arten der Komponenten (6) und (C) sollten entsprechend der verwendeten organischen Siliciumverbindung bestimmt werden. Als Lösungsmittel (B), in dem die organische Siliciumverbindung löslich ist, können erwähnt werden: Ester, wie beispielsweise Butyl-Acetat, Ether, wie beispielsweise Diethylen-Glycol-Dimethyl-Ether, aliphatische Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Hexan und Isoper E, aromatische Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Benzol, Toluol und Xylol, halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Trichloroethylen, und Ketone, wie beispielsweise Methylisobutylketon.
- Als Lösungsmittel (C), in welchem die organische Siliciumverbindung unlöslich ist, können erwähnt werden: Ester, wie beispielsweise Ethylacetoacetat, Alkohole, wie beispielsweise Methylethylglykol (Cellosolve), Diacetonalkohol und Benzylalkohol, zyklische Ether, wie beispielsweise Dioxan und zyklische Ketone, wie beispielsweise Cyclohexanon. Als Komponenten (B) und (C) können gemische Lösungsmittel verwendet werden, die wenigstens zwei Lösungsmittel enthalten.
- Das Mischungsverhältnis zwischen den Komponenten (B) und (C) sollte in Abhängigkeit von der Art der Komponente (A), der zu beschichtenden Substanz und der Beschichtungsbedingungen bestimmt werden, aber, um den Einfluß der Beschichtungsatmosphäre herabzusetzen und die Produktivität zu steigern, ist es vorzuziehen, daß das Gewichtsverhältnis von Komponente (B)/Komponente (C) von 95/5 bis 40/60, insbesondere von 92,5/7,5 bis 45/55, reicht.
- Die Beschichtungszusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung, welche die oben erwähnten Komponenten (A), (B) und (C) enthält, sollte eine homogene Lösung sein. Wenn die Beschichtungszusammensetzung heterogen ist, wird der ausgehärtete Beschichtungsfilm aus organischem Silicium uneben und das Aussehen und die Handhabungseigenschaften sind verschlechtert.
- Aushärtungsmittel und Quervernetzungsmittel können, wie oben erwähnt, der Beschichtungszusammensetzung hinzugefügt werden, um das Aushärten zu begünstigen oder die Zusammensetzung härtbar zu machen.
- Substanzen, die keine Reaktionsfähigkeit besitzen, können der aushärtenden Substanz nach der vorliegenden Erfindung hinzugefügt werden, soweit die Transparenz, die Dauerhaftigkeit und andere Eigenschaften nicht drastisch verschlechtert werden. So kann beispielsweise ein oberflächenaktives Mittel hinzugefügt werden, um die Fließeigenschaft zu verbessern und ein Dimethylsiloxan/Alkylen- Oxid-Block- oder Pfropfcopolymer oder ein oberflächenaktives Mittel vom Fluortyps sind besonders wirksam.
- Jeder optische Gegenstand kann bei der vorliegenden Erfindung als Basiskörper verwendet werden, aber im Hinblick auf die Anpassungsfähigkeit an das Flüssigkeitsbeschichtungsverfahren wird ein Basiskörper aus Glas oder Kunststoffmaterial besonders vorgezogen.
- Als Kunststoffmaterial werden vorzugsweise verwendet: Homopolymere und Copolymere von Methylmethacrylat, Polycarbonate, Diethylenglycolbisallyl-carbonatpolymer (CR-39), Polyester, insbesondere Polyethylenterephthalat, ungesättigte Polyester, Acrylonitril-Styrol-Copolymere, Vinylchloridharze, Polyurethanharze und Epoxidharze
- Glas kann auch vorzugsweise verwendet werden. Außerdem kann die vorliegende Erfindung auf einem Film mit Anti-Reflexionseigenschaften angewendet werden, wobei ein Grundkörper aus Glas oder Kunststoffmaterial, wie oben erwähnt, verwendet wird, der mit einem Beschichtungsmaterial, wie einer Hartbeschichtung, beschichtet ist. Bei dem optischen Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften gemäß der vorliegenden Erfindung können solche Eigenschaften, wie Anheften, Härte, chemische Widerstandsfähigkeit, Dauerhaftigkeit und Färbbarkeit durch die anorganische Substanz, die den Film mit Anti-Reflexionseigenschaften als untere Schicht bildet, verbessert werden.
- Eine bekannte, die Oberflächenhärte vergrößernde, Beschichtung für ein Kunststoffmaterial kann verwendet werden, um die Härte zu verbessern (siehe die Beschreibungen in U.S. Patent Nr. 3 986 997 und U.S Patent Nr. 4 211 823). Weiterhin kann das Oxid eines Metalles, wie beispielsweise Titan, Aluminum, Silicium oder Zinn, oder ein acrylisches, quervernetztes Produkt, das aus Methacrylsäure und Pentaerythritol erhalten wird, aufgebracht werden.
- Wenn die eine organische Substanz enthaltende aushärtende Substanz entsprechend der vorliegenden Erfindung aufgebracht ist, wird die Oberfläche des Anti-Reflexionseigenschaften aufweisenden Films, der im wesentlichen aus der anorganischen Substanz besteht, vorzugsweise gereinigt, indem Flecken mit einem oberflächenaktiven Mittel entfernt werden, welches mittels eines organischen Lösungsmittel oder durch Dampfwaschen mit Freon entfettet. Verschiedene Vorbehandlungen sind zur Verbesserung des Anhaftens und der Dauerhaftigkeit wirksam, und eine Behandlung mit aktivierendem Gas und eine chemische Behandlung mit einer Säure oder einem Alkali werden besonders bevorzugt.
- Der entsprechend der vorliegenden Erfindung erhaltene optische Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften ist im Vergleich zu einem üblichen Film mit Anti-Reflexionseigenschaften kaum verschmutzt und die Verschmutzung ist unauffällig. Außerdem können Schmutzflecken sehr leicht entfernt werden. Weiterhin ist, da die Gleitfähigkeit der Oberfläche gut ist, dis Oberfläche kaum verkratzt. Da diese ausgezeichneten Eigenschaften dauerhaft sind, kann der optische Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften gemäß der vorliegenden Erfindung vorzugsweise als optische Linse, wie beispielsweise Brillenglas, Kameralinse und binokulare Linse, sowie in verschiedenen Anzeigevorrichtungen, insbesondere Kathodenstrahlröhren-Anzeigevorrichtungen und deren Frontplatten verwendet werden.
- Der Vielschichtenfilm mit Anti-Reflexionseigenschaften nach der vorliegenden Erfindung kann der Oberflächenanalyse mittels eines röntgenstrahlen-photoelektrischen-spektrophotometrischen Verfahrens (ESCA) unterworfen werden. Entsprechend diesem Verfahren wird die Oberfläche eines im Hochvakuum angeordneten Probestücks mit Röntgenstrahlung bestrahlt und die von der Oberfläche ausgehenden Photoelektronen werden durch Energieaufteilung mittels eines Analysetors erfaßt. Typische Meßbedingungen sind folgende.
- Messvorrichtung: ESCA 750, geliefert von Shimazu Seisakusho
- Erregende Röntganstrahlung: Mg-Ka-Strahlen (1253.6 eV)
- Ausgangsleistung der Röntgenstrahlung: 8 KV, 20 mA
- Temperatur: 20ºC
- Vakuumgrad: unter 5·10&supmin;&sup5; Pa
- Vorbehandlung der Probe: nicht durchgeführt
- Energiekorrektur: der Wert der Bindungsenergie der C1s- Hauptlinie wird auf 284.6 eV korrigiert.
- Der Einschichten- oder Vielschichten-Film aus anorganischer Substanz mit Anti-Reflexionseigenschaften, der unterhalb der Beschichtung aus der eine organische Substanz enthaltenden aushärtenden Substanz angeordnet ist, kann mittels Auger-Elektronen-Spektroskopie analysiert werden. Entsprechend diesem Verfahren wird die Oberfläche eines im Hochvakuum angeordneten Probestücks mit Elektronenstrahlen bestrahlt, und die von der Oberfläche ausgehenden Auger-Elektronen werden durch Energieaufteilung mittels eines Analysators analysiert. Typische Messbedingungen sind folgende.
- Messvorrichtung: JAMP-105, geliefert von Nippon Denshi K.K. Vakuumgrad bei der Analyse der obersten
- Oberfläche: 1·10&supmin;&sup7; Pa
- Vakuumgrad bei der Analyse in Tiefenrichtung: 6·10&supmin;&sup6; Pa (Ar-Atmosphäre)
- Probenanordnung: Des Probestück wird auf einem Probentisch durch Aufpressen des Probenstückendes mittels einer Stahlplatte befestigt.
- Beschleunigungsspannung: 3,0 KV
- Probenstrom: 1·10&supmin;&sup8; A
- Strahldurchmesser: 1 um
- Schlitz: Nr. 5
- Neigungswinkel der Probe: 40 bis 70º.
- Beschleunigungsspannung für die Ar- Ionen-Ätzung: 0,0 KV
- Probenstrom für die Ar-Ionen-Ätzung: 3·10&supmin;&sup7; A
- Ar-Ätzungsgeschwindigkeit: 200A/min (im Falle von SiO&sub2;).
- Die vorliegende Erfindung wird nun im einzelnen unter Bezugnahme auf die folgenden Ausführungsbeispiele beschrieben, die in keinem Fall den Erfindungsbereich begrenzen. Im übrigen werden in den Beispielen alle "Anteile" als Gewichtsanteile angegeben.
- In einen Becher wurden 128,7 Teile γ-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan gegeben und 18.7 Teile einer 0,05N wäßrigen Lösung von Salzsäure wurden Tropfen für Tropfen zugegeben, während die Flüssigkeit auf einer Temperatur von 10ºC gehalten wurde, um eine Hydrolyse zu bewirken. Nach der Beendigung der tropfenweisen Zugabe wurden der Reaktionsflüssigkeit 69,3 Teile γ-Chloropropyltrimethoxysilan hinzugefügt, und es wurden 18,9 Teile einer 0,01N wäßrigen Lösung von Salzsäure tropfenweise zugegeben, während die Flüssigkeit auf 10ºC gekühlt wurde, um ein hydrosyliertes Silen zu erhalten. Nach der Beendigung der tropfenweisen Hinzufügung wurden der Reaktionsflüssigkeit 451,6 Teile in Methanol verteiltes Kieselsol (Feststoffanteil 30%), 34,4 Teile Diethylenglycoldimethylether, 263,8 Teile Methylalkohol, 1,5 Teile eines oberflächenaktiven Mittels vom Siliciumtyp und 13,5 Teile Aluminumacetylacetonat hinzugefügt und die Mischung wurde ausreichend umgerührt, um eine Beschichtungszusammensetzung zu erhalten.
- Eine Linse wurde in eine wäßrige Lösung aus Natriumhydroxid eingetaucht, dann ausreichend mit Wasser gewaschen und getrocknet und die beiden Oberflächen der Linse wurden mit mit der oben gemäß (1) zubereiteten Beschichtungszusammensetzung tauchbeschichtet mit einer Aufziehgeschwindigkeit von 10 cm/min, und die Linse wurde erwärmt und 4 Stunden lang bei 90ºC getrocknet, um eine beschichtete Linse zu erhalten.
- Auf beide Oberflächen der Linse wurde auf der gemäß (2) hergestellten Harzbeschichtung ZrO&sub2;/ TiO&sub2;/ V&sub2;O&sub3;,
- Ta&sub2;O&sub5; und SiO&sub2; in dieser Reihenfolge entsprechend dem Vakuumdepositionsverfahren aufgebracht, derart, daß die optische Dicke des Films λ/4 (λ = 540 nm) betrug.
- Der aus Kunststoff geformte Gegenstand mit Anti- Reflexionseigenschaften besaß eine grüne Reflexionsinterferenzfarbe und die Gesamtstrahlungsdurchlässigkeit betrug 98,12%.
- In 10 Teilen Isoper E, welches ein Kohlenwasserstofflösungsmittel ist, wurden 10 Teile Dimethylpolysilan (mit einem zahlenmäßigen durchschnittlichen Molekulargewicht von 26.000) aufgelöst, das an beiden Enden Silanolgruppen besaß, und der Lösung wurde 1 Teil Ethyltriacetoxysilan sowie 0,05 Teile Dibutyltin-diacetat hinzugefügt. Das Gemisch wurde einen ganzen Tag und eine Nacht bei Raumtemperatur stehengelassen. Dann wurden dem Gemisch 1080 Teile Toluol hinzugefügt zur Bildung einer homogenen Lösung. Die Lösung wurde gefiltert und gereinigt, um eine Beschichtungszusammensetzung zu erhalten.
- Die Oberfläche des gemäß (3) erhaltenen Films mit Anti-Reflexionseigenschaften wurde mit der Beschichtungszusammensetzung die gemäß (4) erhalten worden war, mit einer Aufziehgeschwindigkeit von 2 cm/min tauchbeschichtet. Der aufgebrachte Film durfte einen ganzen Tag und eine ganze Nacht bei Raumtemperatur ruhen, wodurch das Aushärten bewirkt und ein optischer Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften erhalten wurde.
- Die Eigenschaften des erhaltenen optischen Gegenstandes wurden gemäß dem folgenden Verfahren ausgewertet. Zum Vergleich wurde der optische Gegenstand ohne Beschichtung mit der eine organische Substanz enthaltenden aushärtenden Substanz in ähnlicher Weise getestet. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Unter Verwendung eines Kontaktwinkelmeters (Modell CA-D, geliefert von Kyowa Kagaku K.K.) wurde ein Wassertropfen mit einem Durchmesser von 1,5 mm an der Spitze der Nadel hergestellt, und die Spitze der Nadel wurde mit dem obersten Teil der konvexen Oberfläche einer Linse in Kontakt gebrecht zur Bildung eines Flüssigkeitstropfens. Der Winkel zwischen dem Flüssigkeitstropfen und der Oberfläche wurde gemessen und als stationärer Kontaktwinkel bezeichnet.
- Die Reflexionsinterferenzfarbe und ihre Gleichmäßigkeit und Opazität wurden mit dem bloßen Auge beobachtet.
- Die Gesamtstrahlungsdurchlässigkeit (Ti) wurde gemessen, und der Oberflächenreflexionsgrad einer Oberfläche wurde nach der folgenden Formel berechnet, und der Anti-Reflexionseffekt wurde bestimmt:
- Anti-Reflexionseffekt (Oberflächenreflexionsvermögen) = (100 - Ti)/2.
- Wenn das Oberflächenreflexionsvermögen einer Oberfläche kleiner als 3% war, wurden im wesentlichen keine Geisterbilder oder Reflexionsflecken beobachtet, und es wurde keine praktische Störung bewirkt.
- Auf die konkave Oberfläche der Linse wurden 5 ml Stadtwasser aufgetropft und die Linse durfte 48 Stunden lang in einer Atmosphäre mit Raumtemperatur ruhig stehen. Die Linsenoberfläche wurde mit einem Tuch abgewischt, und der Zustand des restlichen Kesselsteins wurde geprüft. Wenn der Kesselstein entfernt werden konnte, wurde beurteilt, daß die Schmutzabweisung gut war, und, wenn der Kesselstein nicht entfernt werden konnte, wurde beurteilt, daß die Schmutzabweisung schlecht war.
- Die Oberfläche der Linse wurde mit dem Finger angekratzt, und es wurde der Festhaltevorgang des Fingers auf der Linsenoberfläche geprüft, und die Oberflächengleitfähigkeit wurde entsprechend der nachfolgenden Skala bestimmt.
- o: überhaupt kein Festhalten
- Δ: Festhalten bei starkem Kratzen
- x: Festhalten sogar bei schwachem Kratzen
- Die Oberfläche wurde 20· mit einem Papier abgerieben, das mit Aceton imprägniert war, und es wurde dann der oben erwähnte Schmutzabweisungstest durchgeführt. Wenn der Kesselstein entfernt werden konnte, wurde beurteilt, daß die Dauerhaftigkeit gut war, und wenn der Kesselstein nicht entfernt werden konnte, wurde beurteilt, daß die Dauerhaftigkeit schlecht war.
- Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde in der gleichen Weise wiederholt mit der Ausnahme, daß ein am Ende abgeblocktes, nichthärtendes Dimethylpolysiloxan (mit einem zahlenmäßigen durchschnittlichen Molekulargewicht von 26.000) zur Bildung der Beschichtungszusammensetzung gemäß (4) in Beispiel 1 verwendet wurde. Die Dauerhaftigkeit war schlecht. Entsprechend wurde herausgefunden, daß die Dauerhaftigkeit schlecht wird, wenn eine nichthärtende Substanz verwendet wird.
- Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde in dergleichen Weise ausgeführt mit der Ausnahme, daß der mit einem Film mit Anti-Reflexionseigenschaften versehene optische Gegenstand gegen den nachfolgenden Gegenstand ausgetauscht wurde, und der nicht mit einer Beschichtungszusammensetzung beschichtete Gegenstand getestet wurde. Die erhaltenen Resultate sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Eine Planlinse aus Kronglas wurde mittels des Vakuumdepositionsverfahrens mit Magnesiumfluoried beschichtet, um eine Linse zu erhalten, die einen Film mit Anti-Reflexionseigenschaften besitzt.
- Die Verfahren nach Beispiel 1 wurden in der gleichen Weise wiederholt mit der Ausnahme, daß die eine organische Substanz enthaltende aushärtende Beschichtungszusammensetzung und die Aushärtebedingungen in der unten beschriebenen Weise geändert wurden. Die erhaltenen Resultate sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Zu 20 Teilen eines Acryl-Blockcopolymeren vom A-8-Typs, das als eine Komponente eine Fluoralkylgruppe aufwies (Modiper F110, geliefert von Nippon Vushi K.K., Hydroxylwert = 36, Feststoffanteil = 30%) wurden 5,06 Teile einer Lösung mit 15 Gewichts-% an Coronate EH (geliefert von Nippon Polyurethane Kogyo K.K.) in Methylisobutylketon/cyclohexanon (Gewichtsverhältnis 40/60) und 0,34 Teile einer Lösung von 0,0001 Gewichts-% an Dibutyltin-dilaurat in Methylisobutylketon/ cyclohexanon (Gewichtsverhältnis 40/60) hinzugefügt, und das Gemisch wurde gerührt zur Bildung einer Lösung. Dann wurden 1,2 Teile der Lösung mit 135,2 Teilen Methylisobutylketon und 202,8 Teile Cyclohexanon verdünnt zur Bildung einer Beschichtungszusammensetzung.
- Es wurde eine Stunde lang in einem Trockner, in welchem auf 100ºC gehaltene Heißluft zirkulierte, eine Wärmeaushärtung durchgeführt. Tabelle 1 Testergebnisse Kontakt-Winkel Aussehen Anti-Reflexions-Wirkung Schmutzabweisung Oberflächengleitfähigkeit Dauerhaftigkeit Beispiel gut Vergleichsbeispiel schlecht
- In einen Becher wurden 128,7 Teile γ-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan gegeben und 18,7 Teile einer O,05N wäßrigen Lösung von Salzsäure wurden Tropfen für Tropfen hinzugegeben, wobei die Flüssigkeit auf einer Temperatur von 10ºC gehalten wurde, um die Hydrolyse zu bewirken. Nach Beendigung der tropfenweisen Zugabe wurde 69,3 Teile γ-Chloropropyltrimethoxysilan zur Reaktionsflüssigkeit hinzugefügt, und zur Bildung eines hydrolysierten Silans wurden 18,9 Teile einer 0,O1N wäßrigen Lösung von Salzsäure tropfenweise der Reaktionsflüssigkeit hinzugefügt, während die Flüssigkeit auf 10ºC gekühlt wurde. Nach Beendigung der tropfenweisen Zugabe wurden zur Bildung einer Beschichtungszusammensetzung zur Reaktionsflüssigkeit 451,6 Teile in Methanol verteilten Kieselsols (Feststoffenteil = 30%), 34.4 Teile Diethylenglycoldimethylether, 263,8 Teile Methylalkohol, 1,5 Teile eines oberflächenaktiven Mittels vom Siliciumtyp und 13,5 Teile Aluminumacetylacetonat hinzugefügt, und das Gemisch wurde ausreichend umgerührt.
- Eine aus einem Polymer von Diethylenglycolbisallylcarbonat gebildete Linse wurde in eine wäßrige Lösung aus Natriumhydroxid getaucht, ausreichend mit Wasser gewaschen und getrocknet. Dann wurden die beiden Oberflächen der Linse mit der Beschichtungszusammensetzung, die gemäß (1) hergestellt wurde, tauchbeschichtet mit einer Aufziehgeschwindigkeit von 10 cm/min und dann erwärmt und 4 Stunden lang bei 90&sup0;c getrocknet, um eine beschichtete Linse zu erhalten.
- Auf beide Oberflächen der gemäß (2) hergestellten, beschichteten Linse wurden ZrO&sub2;- TiO&sub2;-Y&sub2;O&sub3;, Te&sub2;O&sub5; und SiO&sub2; auf die Beschichtungsschicht der Linse in dieser Reihenfolge durch das Vakuumdepositionsverfahren aufgebracht, so daß die optische Dickem λ/4 (λ= 540 nm) betrug.
- Die Reflexionsinterefenzfarbe des erhaltenen, aus Kunststoff geformten Gegenstandes mit Anti- Reflexionseigenschaften war grün und die Gesamtstrahlungsdurchlässigkeit betrug 98,12%.
- Zu 10 Teilen Isoper E, welches ein Kohlenwasserstofflösungsmittel ist, wurden zur Bildung einer Lösung 10 Teile Dimethylpolysiloxan (mit einem zahlenmäßigen, durchschnittlichen Molekulargewicht von 26.000) hinzugefügt, das an beiden Enden eine Silanolgruppe aufwies, und der Lösung wurde 1 Teil Ethyltriacetoxysilan und 0,05 Teile Dibutyltindiacetat hinzugefügt, und die Mischung durfte einen ganzen Tag und eine Nacht bei Raumtemperatur ruhigstehen. Dann wurden zur Bildung einer Beschichtungszusammensetzung die in Tabelle 2 dargestellten Komponenten (B) und (C) der Mischung hinzugefügt.
- Die Oberfläche des gemäß (3) hergestellten Films mit Anti-Reflexionseigenschaften wurde mit der gemäß (4) hergestellten Beschichtungszusammensetzung mit einer Aufziehgeschwindigkeit von 10 cm/min tauchbeschichtet. Der beschichtete Film mit Anti-Reflexionseigenschaften durfte einen ganzen Tag und eine Nacht bei Raumtemperatur ruhen, wodurch die Aushärtung bewirkt wurde und ein Gegenstand mit Anti-Reflexionseigenschaften wurde erhalten.
- Die Eigenschaften des erhaltenen Gegenstandes wurden nach dem folgenden Verfahren ausgewertet. Die erhaltenen Resultate sind in Tabelle 2 dargestellt.
- Die Reflexionsinterefenzfarbe und ihre Gleichförmigkeit und Opazität wurden mit dem bloßen Auge geprüft.
- Die Beschichtungszusammensetzung durfte einen ganzen Tag und eine Nacht bei Raumtemperatur ruhen und der Lösungszustand wurde geprüft. Tabelle 2
- .
Claims (22)
1. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften, der einen Basiskörper,
der einen darauf abgelagerten Ein- oder
Mehrschichten-Film mit Anti-Reflexionseigenschaften
trägt, bei dem die äußerste Schicht
Siliciumdioxid ist, das mittels eines physikalischen
Dampfdepositionsverfahrens aufgetragen worden
ist, und auf der Oberfläche des Anti-
Reflexionsfilms eine Beschichtung aus einer eine
organische Substanz enthaltenden, aushärtenden
Substanz aufweist, wobei der Oberflächen-
Reflexionsgrad des optischen Gegenstands geringer
als 3% ist und der stationäre Kontaktwinkel
gegenüber Wasser mindestens 60º beträgt.
2. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften gemäß Anspruch 1, bei dem die
eine organische Substanz enthaltende, aushärtende
Substanz ein organisches Polysiloxenpolymer ist.
3. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach Anspruch 1, bei dem die
eine organische Substanz enthaltende, aushärtende
Substanz eins eine Perfluoroalkylgruppe
enthaltende Verbindung ist.
4. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften
nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, bei dem die Dicke der äußersten
Schicht aus der eine organische Substanz
enthaltenden, aushärtenden Substanz 0,0005 bis
0,5 um beträgt.
5. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, der ein optisches Element ist.
6. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach Anspruch 5, wobei das
optische Element ein Brillenglas ist.
7. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
wobei das optische Element ein CRT-Filter
(Kathodenstrahlröhre-Filter) ist.
8. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach einem der vorhergehenden
Ansprüchen bei dem zwischen den Basiskörper und
den Anti-Reflexionsfilm eine
Hartbeschichtungsschicht zwischengelagert ist.
9. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach Anspruch 8, bei dem die
Hartbeschichtungsschicht feine Partikel einer
Kieselverbindung mit einer durchschnittlichen
Partikelgröße von 1 bis 200 nm enthält.
10. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach Anspruch 8, bei dem die
Hartbeschichtungsschicht eine Siliciumverbindung
enthält, die repräsentiert ist durch die
folgende allgemeine Formel (II) und/oder ein
Hydrolyseprodukt derselben:
R¹aR²bSi(OR³)4-a-b (II),
wobei R¹ und R² jeweils für eine
Alkylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine
Arylgruppe oder eine Kohlenwasserstoffgruppe
mit einer Halogengruppe, eine Epoxygruppe,
eine Glycidoxygruppe, eine Aminogruppe, eine
Mercaptogruppe, eine Methecryloxygruppe oder
eine Cyanogruppe steht, während R³ eine
Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine
Alkoxyalkylgruppe, eine Acylgruppe oder eine
Phenylgruppe bedeutet und a und b für 0 oder
1 stehen und (a + b) 1 oder 2 bedeuten.
11. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach Anspruch 1, bei dem der
Basiskörper ein Kunststoffkörper ist und der
auf diesem Kunststoffkörper gebildete
Oberflächenfilm ein Ein- oder Mehrschichten-Film
mit Anti-Reflexionseigenschaften ist, der
hauptsächlich aus Siliciumdioxid zusammengesetzt
ist.
12. Ein optischer Gegenstand mit
Anti-Reflexionseigenschaften nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, bei dem der Basiskörper ein
Kunststoffkörper und der auf dem
Kunststoffkörper gebildete Oberflächenfilm ein
Einschichten- oder Mehrschichtenfilm mit Anti-
Reflexionseigenschaften ist, der eine
Kieselverbindung enthält.
13. Ein optischer Gegenstand nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, bei dem eine
stromleitende Schicht zwischen dem Basiskörper
und dem Anti-Reflexions-Film abgelagert ist.
14. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften,
welches darin besteht, daß man auf der
Oberfläche eines Basiskörpers einen
anorganischen Einschichten- oder Mehrschichten-
Film mit Anti-Reflexionseigenschaften ablagert,
bei dem die äußerste Schicht Siliciumdioxid ist,
das mittels eines physikalischen
Dampfdepositionsverfahrens aufgetragen worden ist, wobei
man auf der Oberfläche des
Anti-Reflexionsfilmes eine aushärtbare, eine organische
Substanz enthaltende Substanz ablagert, die aus
einer wasserabstoßenden, flüssigen
Zusammensetzung besteht und die Beschichtung aushärtet.
15. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
gemäß Anspruch 14, bei dem die aushärtbare,
eine organische Substanz enthaltende Substanz
eine homogene Lösung ist, enthaltend (A) eine
aushärtbare, organische Siliciumverbindung,
(B) ein Lösungsmittel, welches in der Lage ist,
die darin enthaltene, organische
Siliciumverbindung zu lösen, und (C) ein Lösungsmittel,
welches nicht in der Lage ist, die darin
enthaltene, organische Siliciumverbindung zu
lösen.
16. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
gemäß Anspruch 15, wobei der Gehalt der
Komponente (A) 0,0001 bis 5,0 Gew.-% beträgt.
17. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
nach Anspruch 15 oder 16, bei dem das
Gewichtsverhältnis der Komponente (B) zur
Komponente (C) im Bereich von 95/5 zu 40/60
liegt.
18. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
nach einem der Ansprüche 15 bis 17, bei dem
die aushärtbare, organische Siliciumverbindung
eine organische Siliciumverbindung mit einer
endständigen Silanolgruppe ist.
19. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
nach Anspruch 18, bei dem die organische
Siliciumverbindung, die eine endständige
Silanolgruppe enthält, ein Polymer vom
Dimethylsiloxentyp ist.
20. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
nach einem der Ansprüche 14 bis 19, bei dem
das Aushärten mittels einer
Quervernetzungsreaktion durchgeführt wird.
21. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
nach einem der Ansprüche 14 bis 20, bei dem
des Aushärten durch Erwärmen erfolgt.
22. Ein Verfahren zur Herstellung von optischen
Gegenständen mit Anti-Reflexionseigenschaften
nach einem der Ansprüche 14 bis 21, bei dem
die aushärtbare, eine organische Substanz
enthaltende Substanz aufgetragen wird durch
Schleuderbeschichtung, Tauchbeschichtung,
Streichbeschichtung oder Spritzbeschichtung.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9101085 | 1985-04-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3688604D1 DE3688604D1 (de) | 1993-07-29 |
DE3688604T2 true DE3688604T2 (de) | 1993-10-28 |
Family
ID=14014551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863688604 Revoked DE3688604T2 (de) | 1985-04-30 | 1986-04-29 | Optisches Gerät und Verfahren zu dessen Herstellung. |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0203730B1 (de) |
DE (1) | DE3688604T2 (de) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2598520B1 (fr) * | 1986-01-21 | 1994-01-28 | Seiko Epson Corp | Pellicule protectrice minerale |
DE3789547T2 (de) * | 1987-02-13 | 1994-07-14 | Toray Industries | Entspiegelter optischer Gegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung. |
JP3196780B2 (ja) * | 1989-06-20 | 2001-08-06 | 日本板硝子株式会社 | プラスチックレンズの製造法 |
US5693366A (en) * | 1989-06-20 | 1997-12-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Process for producing plastic lens comprising a primer layer, a hard coat layer and an antireflection coating |
US5873931A (en) * | 1992-10-06 | 1999-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
US5909314A (en) * | 1994-02-15 | 1999-06-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical functional materials and process for producing the same |
US5585186A (en) * | 1994-12-12 | 1996-12-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective, and anti-fogging properties |
US5719705A (en) * | 1995-06-07 | 1998-02-17 | Sola International, Inc. | Anti-static anti-reflection coating |
JPH09110476A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-28 | Sony Corp | 表示装置 |
US6040053A (en) * | 1996-07-19 | 2000-03-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
JP3760528B2 (ja) * | 1996-11-07 | 2006-03-29 | ソニー株式会社 | 表示素子用フィルター |
US6266193B1 (en) * | 1997-07-24 | 2001-07-24 | Cpfilms Inc. | Anti-reflective composite |
US6583935B1 (en) | 1998-05-28 | 2003-06-24 | Cpfilms Inc. | Low reflection, high transmission, touch-panel membrane |
JP3729687B2 (ja) * | 1999-08-04 | 2005-12-21 | 株式会社巴川製紙所 | 反射防止材料 |
FR2824821B1 (fr) | 2001-05-17 | 2003-08-29 | Essilor Int | Procede de preparation d'un verre apte au debordage, verre ainsi obtenu et procede de debordage d'un tel verre |
FR2834712B1 (fr) | 2002-01-14 | 2004-12-17 | Essilor Int | Procede de traitement d'un verre ophtalmique |
US7217440B2 (en) | 2003-06-13 | 2007-05-15 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for replacing an initial outermost coating layer of a coated optical lens with a different coating layer or by depositing thereon a different coating layer |
FR2856056B1 (fr) | 2003-06-13 | 2009-07-03 | Essilor Int | Procede de traitement d'un verre apte au debordage. |
FR2860306B1 (fr) | 2003-09-26 | 2006-09-01 | Essilor Int | Lentille ophtalmique recouverte d'un film electrostatique et procede de debordage d'une telle lentille |
AU2004285468B2 (en) | 2003-10-22 | 2011-02-24 | Fred Hutchinson Cancer Research Center | Methods, compositions and devices for inducing stasis in cells, tissues, organs, and organisms |
CA2584901C (en) | 2004-10-22 | 2014-01-21 | Essilor International(Compagnie Generale D'optique) | Substrate with an anti-soiling coating |
MX2007013196A (es) | 2005-04-20 | 2008-01-18 | Hutchinson Fred Cancer Res | Metodos, composiciones y articulos de fabricacion para mejorar la supervivencia de celulas, tejidos, organos y organismos. |
US8945684B2 (en) | 2005-11-04 | 2015-02-03 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for coating an article with an anti-fouling surface coating by vacuum evaporation |
US20070141358A1 (en) | 2005-12-19 | 2007-06-21 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Method for improving the edging of an optical article by providing a temporary layer of an organic material |
EP1963891B1 (de) * | 2005-12-23 | 2016-04-27 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Optischer artikel mit einer antistatischen antireflexbeschichtung und herstellungsverfahern dafür |
US8163354B2 (en) | 2006-05-29 | 2012-04-24 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for obtaining a hard coated article having anti-fouling properties |
WO2012108866A1 (en) | 2011-02-10 | 2012-08-16 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process of drilling organic glasses using a thermoplastic film protecting against cracking and crazing |
WO2012173596A1 (en) | 2011-06-13 | 2012-12-20 | Essilor Internation (Compagnie General D'optique) | Method for obtaining optical articles having superior abrasion resistant properties, and coated articles prepared according to such method |
CN104903010A (zh) | 2012-12-04 | 2015-09-09 | 埃西勒国际通用光学公司 | 使用真空空气等离子体处理用顶涂层涂覆光学物品的方法 |
EP2851713B1 (de) | 2013-09-20 | 2016-11-09 | ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) | Optischer Artikel mit ansteigendem Photochromismus |
WO2015177586A1 (en) | 2014-05-20 | 2015-11-26 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Optical lens coated with a patterned removable film and method for edging such a lens |
JP6637030B2 (ja) | 2014-09-04 | 2020-01-29 | エシロール アンテルナショナルEssilor International | 除去可能な保護フィルムを含む光学レンズ |
EP3124646A1 (de) | 2015-07-30 | 2017-02-01 | ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) | Maschine zur beschichtung eines optischen artikels sowie anordnung und verfahren mit der oder zur ausführung dieser maschine |
EP3124222B1 (de) | 2015-07-30 | 2021-07-21 | Essilor International | System zur beschichtung eines optischen artikels mit einer vorbestimmten beschichtungszusammensetzung, beschichtungsvorrichtung für solch ein system und verfahren zur verwendung des systems |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2064987B (en) * | 1979-11-14 | 1983-11-30 | Toray Industries | Process for producing transparent shaped article having enhanced anti-reflective effect |
DE3369568D1 (en) * | 1983-03-11 | 1987-03-05 | Toray Industries | Transparent material having antireflective coating |
-
1986
- 1986-04-29 DE DE19863688604 patent/DE3688604T2/de not_active Revoked
- 1986-04-29 EP EP19860303246 patent/EP0203730B1/de not_active Revoked
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0203730A3 (en) | 1988-09-07 |
EP0203730A2 (de) | 1986-12-03 |
DE3688604D1 (de) | 1993-07-29 |
EP0203730B1 (de) | 1993-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3688604T2 (de) | Optisches Gerät und Verfahren zu dessen Herstellung. | |
US4765729A (en) | Anti-reflection optical article | |
DE3789547T2 (de) | Entspiegelter optischer Gegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung. | |
DE69324307T2 (de) | Mit einem gehärteten Film beschichtete optische Elemente | |
US4590117A (en) | Transparent material having antireflective coating | |
DE69305255T2 (de) | Beschichtungszusammensetzungen | |
DE60010992T2 (de) | Modifiziertes Metalloxid Sol, Beschichtungszusammensetzung und Optisches Element | |
DE69422336T2 (de) | Kunststofflinse | |
DE3688093T2 (de) | Durchsichtiger Gegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung. | |
KR100483680B1 (ko) | 반사방지막을 갖는 광학부재 | |
DE3789511T2 (de) | Lösungsaufbringungsverfahren zur reflexverhinderung auf optischen teilen und verfahren unter anwendung einer derartigen lösung. | |
EP2216297B1 (de) | Modifiziertes metalloxid-mischsol, beschichtungszusammensetzung und optisches element | |
US7241472B2 (en) | Method for producing antireflection film-coated plastic lens, and antireflection film-coated plastic lens | |
DE69225590T2 (de) | Grundschicht und beidseitig beschichteter artikel | |
DE69734965T2 (de) | Antireflexfilter für Anzeigevorrichtung | |
EP0119331B1 (de) | Transparentes Material mit einer antireflektierenden Schicht | |
DE60010364T2 (de) | Mit einem gehärteten Film beschichtetes optisches Element | |
DE69014751T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines beschlagshindernden Anstriches. | |
DE69617576T2 (de) | Grundierungszusammensetzung und optischer Gegenstand | |
JPH0698703B2 (ja) | 反射防止性物品およびその製造方法 | |
DE60202712T2 (de) | Beschichtungszusammensetzungen, Prozess zur Herstellung eines optischen Elementes und deren Verwendung und optisches Element | |
JP3353058B2 (ja) | 硬化被覆膜を有する光学部材 | |
DE69529034T2 (de) | Kunststofflinse mit haftschicht | |
JP2004224965A (ja) | コーティング組成物 | |
DE69021420T2 (de) | Optisches Anti-Reflektionselement. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8363 | Opposition against the patent | ||
8331 | Complete revocation |