KR950000040B1 - 유리산 형태의 모노아조 화합물의 제조방법 - Google Patents

유리산 형태의 모노아조 화합물의 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

유리산 형태의 모노아조 화합물의 제조방법
본 발명은 커플링 성분으로서 7-치환된 아미노-1-나프톨모노-또는 디-설폰 산을 함유하는 하기 일반식(Ⅰ)의 유리산 형태의 모노아조 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Figure kpo00001
상기식에서, R1및 R2는 서로 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급알킬이고, R3는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 아실 또는 구조식
Figure kpo00002
의 그룹이고, R4는 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬이고, R5는 수소 또는 설포이고, B4는 일반식
Figure kpo00003
(여기서, R6는 수소, 염소, 설포, 카복시, 메틸, 메톡시 또는 에톡시이다)의 그룹 또는 구조식
Figure kpo00004
의 그룹이고, X는 염소, 불소, 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시, 또는 일반식
Figure kpo00005
(여기서, R7및 R8은 서로 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 페닐, 나프틸 또는 벤질 그룹이다.) :이고, A는 비치환되거나 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 그룹이며, Z는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2Y(여기서 Y는 알칼리의 작용에 의해 분리가능한 그룹이다)의 그룹이다.
여러 종류의 섬유-반응성 염료가 지금까지 섬유물질을 염색 또는 날염시키는데 사용되어 왔다. 이들중, 하나의 분자중에 모노할로게노트리아지닐 그룹 및 설페이토에틸설포닐 그룹과 같은 비닐설폰형 그룹을 모두 갖는 반송성 염료는 그것들의 개선된 염료 성능으로 인해 두드러진다. 적색으로 섬유물질을 염색 또는 날염시키는데 유용한 이러한 종류의 반응성 염료로서, 하기 구조식의 모노아조 화합물이 심사되지 않은 일본국 특허원 제199877/1982호에 기술되어 있다.
Figure kpo00006
하지만, 상기 구조식의 화합물을 포함하는 이러한 종류의 공지된 적색염료는 빌드-업(build up)특성, 염색온도의 변화에 대한 비민감성 등과 같은 염색 특성 뿐만아니라 포르말린 견뢰성, 포르말린-일광 견뢰성 등과 같은 견뢰성에 관한 고도의 요구 조건에 부합하기에는 아직 만족스럽지 못하므로, 이러한 염료성능을 더 개선시킬 여지가 있다.
본 발명자는 상기 요구 조거에 부합하는 모노아조 화합물을 발견하기 위하여 상당한 연구를 수행하였으며 이로써 본 발명이 이루어졌다.
본 발명은, (a) 하기 일반식(Ⅳ)의 아민 화합물의 디아조늄염을 하기 일반식(Ⅴ)의 나프톨 화합물과 반응시키거나, 하기 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 또는 하기 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물중의 어느 하나를 시안우르산염화물 또는시안우르산 불화물과 반응시키고 이어서 일반식(Ⅲ) 및 (Ⅶ) 화합물중의 나머지 하나와 반응시켜, X가 염소 또는 불소원자인, 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물에 상응하는 하기 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 수득하거나 ; (b) 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물과 반응시키거나, 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물 또는 일반식(Ⅷ)의 화합물중의 어느 하나를 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물과 반응시키고, 이어서 일반식(Ⅶ) 및 (Ⅷ) 화합물중의 나머지 하나와 반응시킨후, 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물과 반응시켜 X가 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시 또는 일반식
Figure kpo00007
(여기서, R7및 R8은 상기 정의한 바와 같다)의 그룹인, 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물에 상응하는 하기 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 수득함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합을 제조하는 방법 및 일반식(I)의 모노아조 화합물 또는 이의 염을 제공한다.
Figure kpo00008
Figure kpo00009
상기식에서, R1,R2,R3,R4,R5A,B 및 Z는 상기 정의한 바와 같고, X1은 염소 또는 불소이고, X2는 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시 또는 일반식
Figure kpo00010
(여기서 R7및 R8은 상기 정의한 바와 같다)의 그룹이다.
또한, 본 발명을 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물 또는 이의 염을 사용함을 특징으로 하여 섬유물질을 염색 또는 날염시키는 방법을 제공한다.
이들 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물중 바람직한 것은 하기 일반식의 화합물이다.
Figure kpo00011
Figure kpo00012
상기식에서, R5는 상기 정의한 바와 같고, R10은 수소 메틸 또는 에틸이고, R11은 수소, 염소 또는 설포이고, R12는 메틸, 에틸, 아세틸 또는 프로피오닐이고, R13은 수소, 메틸 또는 에틸이고, R14는 수소 또는 설포이며 Z1은 -SO2CH=CH2=CH2또는 -SO2CH2CH2OSO3H이다.
본 발명에 있어서, R1,R2,R3및 R4로 표시된 저급 알킬그룹은 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬그룹을 의미하여 알킬그룹의 바람직한 치환체는 하이드록실, 시아노, C1-C4알콕시, 할로게노, 카복시, 카바모일, C1-C4알콕시 카보닐, C1-C4알킬카보닐옥시, 설포, 설파모일등을 포함한다. R1,R2, R3, 및 R4로 표시된 비치환되거나 치환된 알킬그룹의 바람직한 예로는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, 2급-부틸, 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 2-하이드록시부틸, 3-하이드록시부틸, 4-하이드록시부틸, 2,3-디하이드록시프로필, 3,4-디하이드록시부틸, 시아노메틸, 2-시아노에틸, 3-시아노프로필, 메톡시메틸, 에톡시메틸, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 3-메톡시프로필, 3-에톡시프로필, 2-하이드록시-3-메톡시프로필, 클로로메틸, 브로모메틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸, 3-클로로프로필, 3-브로모프로필, 4-클로로부틸, 4-브로모부틸, 카복시메틸, 2-카복시에틸, 3-카복시프로필, 4-카복시부틸, 1,2-디카복시에틸, 카바모일메틸, 2-카바모일에틸, 3-카바모일프로필, 4-카바모일부틸, 메톡시카보닐메틸, 에톡시카보닐메틸, 2-메톡시카보닐에틸, 2-에톡시카보닐에틸, 3-메톡시카보닐프로필, 3-에톡시카보닐프로필, 4-메톡시카보닐부틸, 4-에톡시카보닐부틸, 메틸카보닐옥시메틸, 에틸카보닐옥시메틸, 2-메틸카보닐옥시에틸, 2-에틸카보닐옥시에틸, 3-메틸카보닐옥시프로필, 3-에틸카보닐옥시프로필, 4-메톡시카보닐옥시부틸, 4-에틸카보닐옥시부틸, 설포메틸, 2-설포에틸, 3-설포프로필, 4-설포부틸, 설파모일메틸, 2-설파모일에틸, 3-설파모일프로필, 4-설파모일부틸 등이 있다. 이들중, 특히 바람직한 R1, R2및 R4는 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸이다.
R3로 표시된 아실의 예로는 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 이소부티릴, 발레릴 및 벤조일이 있으며, R3로표시된 구조식
Figure kpo00013
그룹의 예로는
Figure kpo00014
Figure kpo00015
가 있다. 이들 R3중, 바람직한 것은 아세틸 또는 프로피오닐이다.
A로 표시된 페닐렌 그룹은, 예를들면, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 브롬 및 설포중에서 선택된 하나 또는 두 개의 치환체 및 비치환된 페닐렌 그룹을 포함하며, A로 표시된 나프탈렌 그룹은 나프탈렌 및 설포-치환된 나프탈렌을 포함한다. 페닐렌 및 나프틸렌 그룹의 바람직한 예는 하기와 같다 :
Figure kpo00016
Figure kpo00017
(상기 일반식에서, 별표로 표시된 결합부위는 그룹
Figure kpo00018
에 결합되어 있다.)
Z로 표시한 그룹, -SC2CH2CH2Y에서 Y는 알킬리의 작용으로 분리할 수 있는 그룹을 나타내며, 예를들어 황산에스테르, 티오황산에스테르, 인산에스테르 및 아세트산 에스테르 그룹, 및 할로겐원자를 포함한다. 이들중, 특히 바람직한 Z는 -SO2CH=CH2및 -SO2CH2CH2OSO3H이다.
B로 표시된 그룹의 예는 다음과 같다.
Figure kpo00019
Figure kpo00020
(상기 일반식에서, 별표로 표시된 결합은 그룹
Figure kpo00021
에 결합되어 있다.
X로 표시한 저급 알콕시그룹에서, 탄소원자 1 내지 4개를 함유하는 화합물이 바람직하며, 예를들어 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소-프로폭시, n-부톡시, 이소-부톡시 등을 포함한다. 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소-프로폭시, 및 β-에톡시에톡시가 특히 바람직하다.
또한 X로 표시된 펜옥시 그룹의 바람직한 예는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 니트로, 설포, 카복실 및 염소중에서 선택된 하나 또는 두 개의 그룹으로 치환 또는 비치환된 그룹이다. 펜옥시, 3-또는 4-설포펜옥시, 2,4-또는 3,5-디설포펜옥시 등이 특히 바람직하다.
X로 표시된 그룹
Figure kpo00022
에 있어서, R7및 R8으로 표시한 바람직한 저급 알킬그룹은 탄소원자 1 내지 4개를 함유하는 화합물이며, C1-C4알콕시, 설포, 카복실, 하이드록시, 염소, 페닐 및 설페이트중에서 선택된 하나 또는 두개의 그룹으로 치환되거나 비치환된다. 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, 2급-부틸, 2-하이드록시에틸, 2-설파토에틸, 2-설포에틸, 2-메톡시에틸 및 2-카복시에틸이 특히 바람직한 그룹이다.
R7및 R8으로 표시된 바람직한 페닐 그룹은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 설포, 카복실 및 염소중에서 선택된 하나 또는 두개의 그룹으로 치환되거나 비치환된 그룹이다. 이들중, 페닐, 2-, 3- 또는 4-설포페닐, 2-, 3- 또는 4-카복시페닐, 3,4- 3,5- 또는 3,6-디설포페닐 등이 특히 바람직하다.
X로 표시된 바람직한 나프틸 그룹은 하이드록실, 카복실, 설포 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 염소중에서 선텍된 하나 내지 세개의 그룹으로 치환되거나 비치환된 그룹이다. 이들중, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-설포-1-,나프틸, 1-, 5-, 6-, 7- 또는 8-설포-2-나프틸, 2,4-, 5,7-, 6,8-, 4,8-, 4,7-, 3,8-, 4,6-,3,7-, 또는 3,6-디설포-2-나프틸, 4,6,8-, 2,4,7- 또는 3,6,8-트리설포-1-나프틸, 1,5,7-, 4,6,8- 또는 3,6,8-트리설포-2-나프틸등이 특히 바람직하다.
R7및 R8으로 표시된 바람직한 벤질 그룹은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 설포 및 염소중에서 선택된 하나 또는 두개의 그룹으로 치환되거나 비치환된 그룹이다. 이들중, 벤질 및 2-, 3- 또는 4-설포벤질이 특히 바람직한다.
상기 일반식(Ⅰ)의 본 발명의 모노아조 화합물은 유리산 또는 알칼리의 염 또는 알칼리토금속의 염의 형태로 될 수 있다. 이들중, 나트륨염 및 칼륨염이 바람직하다.
일반식(Ⅰ)에서 X로서 염소 또는 브롬원자를 갖는 상기 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을, 예를들어 다음 방법으로 제조할 수 있다.
다음 일반식(Ⅱ)의 디아민 화합물 또는 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민중 어느 하나를 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물과 제1 축합시킨 다음(Ⅲ) 또는 (Ⅱ)의 잔유 화합물과 함께 제2 축합시킨다.
Figure kpo00023
(Ⅱ)
상기식에서, R2및 B는 상기 정의한 바와 같다. 제1 및 제2의 축합반응은 각각 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도 및 1 내지 10, 바람직하게는 2 내지 7의 pH, 및 0내지 70℃의 온도 및 3 내지 7의 바람직한 pH에서 수성 매질중에서 수행할 수 있다.
일반식(Ⅳ)의 생성된 아민 화합물을 통상적 방법으로 -10 내지 20℃의 온도에서 디아조화한 다음, pH를 1 내지 7, 바람직하게는 1 내지 5의 범위내로 조절하면서 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도에서 일반식(Ⅴ)의 나프톨 화합물과 커플링시켜 목적한 모노아조 화합물(Ⅰ')을 제조할 수 있다.
다른 방법으로, 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 또한 다음 방법으로 제조할 수 있다.
디아민 화합물(Ⅱ) 또는 다음 일반식(Ⅸ)의 니트로화합물을 pH를 1 내지 7, 바람직하게는 1 내지 5로 조절하면서, 통상적 방법으로 -10 내지 20℃의 온도에서 디아조화시킨 다음 -10 내지 50℃의 온도에서 나프톨 화합물(Ⅴ)와 커플링시킨다 :
H2N-B-NO2(Ⅳ)
상기식에서, B는 전술한 바와 같다. 이어서 니트로 화합물(Ⅸ)를 사용하여 수득한 생성된 화합물을 나트륨설파이드의 존재하에 40 내지 100℃의 온도에서 환원시킨다. 상기 방법중의 어느 하나에 따라, 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물을 제조할 수 있다.
이어서, 모노아조 나프톨 화합물(Ⅶ) 또는 방향족 아민 화합물(Ⅲ)중 어느 하나를 pH를 1 내지 10, 바람직하게는 2 내지 7의 범위로 조절하면서 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0내지 30℃의 온도에서 시안우르산염화물 또는 시안우르산 불화물과 제1축합을 시킨다음, pH를 2내지 9, 바람직하게는 3 내지 6의 범위로 조절하면서 0 내지 70℃, 바람직하게는 10 내지 50℃의 온도에서(Ⅲ) 또는 (Ⅶ)의 잔유 화합물과 제2축합을 시켜 목적하는 모노아조 화합물(Ⅰ')을 수득한다.
일반식(Ⅰ)에서 X로서 저급 알콕시 또는 비치환되거나 치환된 펜옥시그룹 R7및 R8이 전술한 바와같은 일반식
Figure kpo00024
의 그룹을 갖는 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 다음 방법으로 제조할 수 있다. 전술한 방법으로 제조할 수 있는 모노아조 화합물(Ⅰ')을 pH 2 내지 9, 바람직하게는 3 내지 7로 조절하면서 50 내지 100℃, 바람직하게는 70 내지 100℃의 온도에서 수성매질중에서 X2가 전술한 바와같은 일반식 H-X2(Ⅷ)의 화합물과 축합시킨다.
다른 방법으로, 모노아조 나프톨 화합물(Ⅶ) 또는 화합물(Ⅷ)중의 어느 한 화합물을 시안우르산염화물 또는 시안우르산 불화물과 제1축합한 다음, 화합물(Ⅶ) 또는 (Ⅶ)의 잔유 화합물과 제2축합시킨다. 제1축합반응은 pH를 1 내지 10, 바람직하게는 4 내지 7로 조절하면서 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도에서 수행할 수 있으며, 제2축반응은 pH를 2 내지 10, 바람직하게는 4 내지 9로 조절하면서 10 내지 70℃, 바람직하게는 20 내지 50℃의 온도에서 수행할 수 있다. 이어서 생성화합물을, pH를 2 내지 9, 바람직하게는 3 내지 7로 조절하면서 50 내지 100℃, 바람직하게는 80내지 100℃의 온도에서 방향족 아민 화합물(Ⅱ)과 축합시킨다.
따라서, 일반식(Ⅰ")의 목적한 모노아조 화합물을 제조할 수 있다.
모노아조 화합물(Ⅰ)의 제조에 유용한 나프톨 화합물(Ⅴ)의 특히 바람직한 예는 다음과 같다 :
Figure kpo00025
Figure kpo00026
Figure kpo00027
모노아조 화합물(Ⅰ)을 제조하는데 사용할 수 있는 화합물(Ⅷ)로는 암모니아, 방향족 및 지방족 아민,저급알콜 및 치환된 페놀이 있다.
방향족 아민의 예로는 1-아미노벤젠, 1-아미노-2-, 3- 또는 4-메틸벤젠, 1-아미노-2,4-, 2,5-,3,4- 또는 3,5-디메틸벤젠, 1-아미노-2-, 3-또는 4-에틸벤젠, 1-아미노-2-, 3- 또는 4-메톡시벤젠, 1-아미노-4-에톡시벤젠, 1-아미노-2-, 3- 또는 4-클로로-벤젠, 3-또는 4-아미노-페닐메탄 설폰산, 2-, 3- 또는 4-아미노벤젠 설폰산, 3-메틸아미노-벤젠설폰산, 4-메틸아미노 벤젠설폰산, 4-에틸아미노벤젠설폰산, 5-아미노벤젠-1,3-디설폰산, 2-아미노벤젠-1,4-디설폰산, 4-아미노벤젠-1,3-디설폰산, 2-, 3- 또는 4-아미노벤조산, 5-아미노벤젠-1,3-디카복실산, 5-아미노-2-하이드록시벤젠설폰산, 4-아미노-2-하이드록시 벤젠설폰산, 5-아미노-2-에톡시벤젠설폰산, N-메틸아미노벤젠, N-에틸아미노벤젠, 1-에틸아미노-3- 또는 4-메틸벤젠, 1-에틸아미노-4-클로로벤젠, 1-에틸아미노-3- 또는 4-메틸벤젠, 1-(2-하이드록시에틸)아미노-3-메틸벤젠, 3- 또는 4-메틸아미노벤조산, 3- 또는 4-메틸아미노벤젠설폰산, 2-아미노나프탈렌-1-설폰산, 4-아미노나프탈렌-1-설폰산, 5-아미노나프탈렌-1-설폰산, 6-아미노나프탈렌-1-설폰산, 7-아미노나프탈렌-1-설폰산, 8-아미노나프탈렌-1-설폰산, 1-아미노나프탈렌-2-설폰산, 4-아미노나프탈렌-2-설폰산, 5-아미노나프탈렌-2-설폰산, 6-아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-메틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-에틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-부틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-이소부틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 8-아미노나프탈렌-2-설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 5-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 6-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 7-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 8-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 2-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산, 3-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,6-디설폰산, 8-아미노나프탈렌-1,6-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,7-디설폰산, 3-아미노나프탈렌-2,6-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-2,6-디설폰산, 3-아미노나프탈렌-2,7-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-2,7-디설폰산, 6-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 7-아미노나프탈렌-1,3,5-트리설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 7-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 8-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,3,7-트리설폰산 등이 있다.
지방족 아민의 에로는 메틸아민, 에틸아민, n-프로필아민, 이소-프로필아민, n-부틸아민, 이소-부틸아민, 2급-부틸아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 메틸에틸아민, 알릴아민, 2-클로로에틸아민, 2-메톡시에틸아민, 2-아미노에탄올, 2-메틸아미노에탄올, 비스-(2-하이드록시에틸)-아민, 2-아세틸아미노에틸아민, 1-아미노-2-프로판올, 3-메톡시-프로필아민, 1-아미노-3-디메틸아미노프로판, 2-아미노에탄설폰산, 아미노메탄설폰산,2-메틸아미노메탄설폰산, 3-아미노-1-프로판설폰산, 2-설페이토에틸아민, 아미노아세트산, 메틸아미노아세트산,3-아미노카프로산, 벤질아민, 2-, 3- 또는 4-클로로벤질아민, 4-메틸벤질아민, N-메틸벤질아민, 2-, 3- 또는 4-설포벤질아민, 2-페닐에틸아민, 1-페닐에틸아민, 1-페닐-2-프로필아민 등이 있다.
지급 알콜의 예로는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소-프로판올, n-부탄올, 이소-부탄올 등이 있다.
치환된 페놀의 예로는 3-또는 4-설포페놀, 2,4-또는 3,5-디설포페놀, 2-니트로-4-설포페놀, 2-클로로-4-설포페놀 등이 있다.
일반식(Ⅷ)의 화합물로 예시된 이들 화합물중 특히 바람직한 화합물의 예를들면 아닐린, N-메틸아미노벤젠, N-에틸아미노벤젠, 3-아미노벤젠설폰산, 3-메틸아미노벤젠설폰산, 3-에틸아미노벤젠설폰산, 4-아미노벤젠설폰산, 4-메틸아미노벤젠설폰산, 4-에틸아미노벤젠설폰산, 모조-또는 디-에탄올아민 등이 있다.
니트로 화합물(Ⅸ)의 예를들면 다음과 같다 :
Figure kpo00028
본 발명에 따르는 모노아조 화합물(Ⅰ)은 섬유-반응성이며 하이드록실 그룹을 함유하며 아미드그룹을 함유하는 물질을 염색하거나 날염하는데 유용하다. 이 물질은 비혼방 또는 혼방섬유 방적물을 포함한 섬유형태에 유리하게 존재한다.
하이드록실 그룹-함유 물질은 셀룰로오즈 섬유물질, 셀룰로오즈-함유 섬유물질, 그의 재생 생성물 및 폴리비닐 알코올과 같은 천연 또는 합성 하이드록실 그룹-함유 물질이다. 셀룰로오즈 섬유 물질의 예는 목화 및 아마포, 대마, 황마 및 모시 섬유와 같은 식물성 섬유이다. 재생 셀룰로오스 섬유의 예는 비스코스스테풀 및 필라멘트 비스코스이다. 셀룰로오즈-함유 섬유 물질의 예는 셀룰로오즈/폴리에스테르, 셀룰로오즈/울, 셀룰로오즈/아크릴 등과 같은 혼방 섬유 물질이다.
아미드 그룹-함유 물질은 합성 또는 천연 폴리아미드 및 폴리우레탄이다. 특히 섬유 형태 물질의 예는 울 및 기타 동물모피, 실크, 가죽, 폴리아미드-6,6-폴리아미드-6, 폴리아미드-11 및 폴리아미드-4이다.
염색은 상기 섬유 물질의 물리적 및 화학적 특성에 따라 종래 방법중 적당한 방법을 선택하여 수행한다.
예를들면 셀룰로오즈 섬유 물질은 본 화합물을 사용하여 흡착 염법, 냉 배취 염법을 포함한 패딩 염법 또는 날염법으로 염색할 수 있다.
흡착 염법은 탄산나트륨, 인산나트륨, 수산화나트륨 등과 같은 산 결합제의 존재하에, 경우에 따라 황산나트륨, 염화나트륨 등과 같은 중성염을 임의로 용해 보조제, 침투제 또는 균염제와 함께 사용하여 비교적 낮은 온도에서 수행할 수 있다. 염료의 흡착을 촉진시키는데 중성염을 배취 온도가 염색을 위해 바람직한 정도에 이르렀을 때, 또는 그 전에 염료욕에 가한다. 또한 중성염을 분할하여 가할 수도 있다.
패딩 염법은 주위 온도 또는 상승 온도에서 섬유 물질을 패딩시키고, 건조후에 물질을 증기 처리 또는 건조-가열하여 염료-고정시킴으로써 수행할 수 있다.
날염법은 1-상 또는 2-상 방법으로 수행할 수 있다. 1-상 날염법은 섬유 물질을 탄산수소나트륨과 같은 산 결합제를 함유하는 날염 페이스트로 날염시켜 수행하고, 100°내지 160℃의 온도에서 증기 처리한다.
2-상 날염법은 섬유 물질을 중성 또는 약산성 날염 페이스트로 날염시키고, 이물질을 전해질을 함유하는 뜨거운 알카리성욕을 통해 통과시키거나 전해질을 함유하는 알칼리성 패딩 액체로 이 물질을 과도하게 패딩시킴으로써 수행하고, 이어서 증기 처리 또는 건조-열처리한다.
날염 페이스트의 제조를 위해 페이스트 또는 나트륨 알기네이트와 같은 유화제, 전분 에테르 등을 경우에 따라 우레아 및/또는 분산제와 같은 종래의 보조제와 함께 사용할 수 있다.
본 발명의 화합물을 셀룰로즈섬유상에 고정시키는데 유용한 산결합제는 알칼리 또는 알칼리토금속, 및 무기 또는 유기산으로 이루어지는 수용성 염기성염 또는 가열 상태하에서 알칼리를 유리시킬 수 있는 화합물을 포함한다. 바람직한 것은 알칼리금속 수산화물 및 약한 또는 중간세기의 무기 또는 유기산의 알칼리금속염이다. 특히 바람직한 것은 나트륨염 및 칼륨이다. 이들의 예로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 나트륨 포르메이트, 탄산칼륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이나트륨, 인산삼나트륨, 규산나트륨, 나트륨 트리클로로 아세테이트 등이 있다.
천연 또는 합성 폴리아미드 및 폴리우레탄 섬유 물질의 염색은 pH값을 조절하면서, 산 또는 약산욕중에서 흡착을 수행한 다음, 욕을 중성 또는 몇몇 경우에는 알칼리성으로 만들어 고정을 수행함으로써 수행될수 있다. 염색온도범위는 통상적으로 60 내지 120℃이다. 균염을 성취하기 위해서, 시안우르산 염화물과 3배몰의 아미노벤젠-설폰산 또는 아미노 나프탈렌 설폰산과의 축합생성물, 또는 스테아릴아민과 에틸엔옥사이드와의 부가생성물 등과 같은 통상적인 균염제를 사용할 수 있다.
본 발명의 모노아조 화합물(Ⅰ)은 섬유물질, 특히 셀룰로오즈 섬유물질의 염색 및 날염시 탁월한 염색능에 의해 특징화될 수 있다. 예를들어, 화합물은 일광 견뢰성, 발한-일광 견뢰성, 발한-견뢰성, 세척 견뢰성, 과산화물-세척 견뢰성, 염소 견뢰성, 염소 표백 견뢰성, 산-가수분해 견뢰성, 알칼리 견뢰성, 마모 견뢰성 및 철 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성 및 포프말린 견뢰성-일광 견뢰성이 탁월한 염색물을 제공할수 있다. 모노아조 화합물(Ⅰ)은 또한 높은 흡착율 및 고정율 뿐만아니라 우수한 빌드-업, 균염 및 세척력 및 높은 용해도를 나타낸다. 또한, 모노아조 화합물(Ⅰ)은 염색온도, 알칼리제의 종류, 사용할 무기염의 양과 염료욕과의 비율의 변화에 영향을 거의 받지 않으므로, 일정한 품질의 염색 제품은 우수한 재생력을 얻을 수 있다. 또한, 냉배치염법에서, 모노아조 화합물(Ⅰ)은 빌드-업 특성 및 알칼리제에 의한 가수분해에 대한 비민감성을 포함한 알칼리 안정도가 우수하며, 고정공정을 각각 비교적 낮은 온도 및 25℃에서수행한 두 경우 모두에서 염색제품의 염색 짙기 및 색조에서의 차이점을 발견할 수 없는 것과 같은 특성을 나타낼수 있다.
본 발명은 다음 실시예를 참조로 하여 더 상세하게 설명되며, 이는 단지 예시하는 것이지 제한하는 것은 아니다. 실시예에서 부 및 %는 중량기준이다.
[실시예 1]
빙수(250부)중에 시안우르산 염화물(18.5부)를 분산시켜 제조한 현탁액에 2,4-디아미노 벤젠설폰산(18.8부)을 가하고, 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액으로 pH2 내지 4로 조정하면서 0 내지 5℃ 6시간동안 교반시켜 제1축합반응을 수행한다.
생성된 반응 혼합물에 1-아미노벤젠-3-β-설파토에틸설폰(28.1부)을 가하고, 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액으로 pH4 내지 6의 범위내로 조정하면서 10 내지 20℃에서 7시간 동안 교반시켜 제2축합반응이 이루어지도록 한다.
계속해서, 반응 혼합물에 농염산(25.3부)을 가한다음 여기에 아질산나트륨(21.7부)의 35%수용액을 가하여 디아조화 반응이 이루어지도록 한다. 과량의 아질산이 분해되었으며면, 7-메틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(25.3부)을 가하고, 생성된 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액을 사용하여 pH1 내지 3의 범위로 조정하면서 0°내지 5℃에서밤새 교반시켜 결합반응을 수행한다. 다음에는, 반응 혼합물을 40℃로 가열하고 pH4 내지 6으로 조정한 후에 염화나트륨(20부)을 사용하여 염석시킨다. 생성된 결정을 여과지상에서 분리시켜 세척한 다음 60℃에서 건조시켜 다음 구조식(Ⅰ)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다 :
Figure kpo00029
[실시예 2 내지 62]
실시예 1의 방법을 반복하여 수행하되, 단 7-메틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 다음 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물을 각각 사용하고 ; 2,4-디아미노벤젠 설폰산 대신에 제 3열에 도시된 구조식(Ⅱ)의 디아민 화합물을 각각 사용하며; 제4열에 기재된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산불화물(제4열에서 C 및 F는 각기 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다)을 사용하고 ; 1-아미노벤젠-3-β-설파토에틸설폰 대신에는 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물을 각각 사용하여 각각에 해당하는 모노아조 화합물을 수득한다. 실시예23 및 34에 사용된 구조식
Figure kpo00030
의 화합물은 2,4-디아미노벤젠설폰산의 아미노 그룹을 아세틸화한 다음, 계속해서 염소화하고 가수분해시켜 제조할 수 있다.
Figure kpo00031
Figure kpo00032
Figure kpo00033
Figure kpo00034
Figure kpo00035
Figure kpo00036
Figure kpo00037
Figure kpo00038
Figure kpo00039
Figure kpo00040
Figure kpo00041
Figure kpo00042
[실시예 63]
물(150부)중의 아질산 나트륨(21.7부)의 35%수용액 및 2-메톡시-4-니트로아닐린-5-설폰산(24.8부)을 함유하는 용액을 0°내지 5℃의 온도로 조절하면서 빙수(300부) 및 농염산(35.5부)를 함유하는 용액에 도입시키고, 혼합물을 동일온도에서 1시간동안 교반시켜 디아조화시킨다.
계속해서, 과량의 아질산이 분해되면, 반응 혼합물에 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부)를 가하고 혼합물은 탄산나트륨의 20%수용액을 사용하여 pH를 1 내지 3의 범위로 조절하면서 0℃ 내지 5℃에서 2시간 동안 교반시켜 결합반응이 이루어지도록 한다. 다음에는, 반응 혼합물은 pH 8 내지 10으로 조정하고 황화 나트륨(10.7부)과 혼합하여 60℃로 가열하고 동일온도에서 3시간동안 교반시켜 환원반응을 수행한다. 다음에는, 반응 혼합물을 염화 나트륨(40부)과 혼합하여 결정을 침전시킨 다음에 여과지상에서 수거하여 세척한다. 생성된 습윤 케익을 물(400부)에 용해시킨다. 용액을 시안우르산 염화물(16.7부)과 혼합하고 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액으로 pH 2내지 3으로 조정하면서 0°내지 10℃에서 5시간 동안 교반시켜 제1축합반응이 이루어지도록 한다. 이 반응 혼합물에 2-아미노나프탈렌-6-β-설파토에틸설폰-1-설폰산(37부)을 가하고, 혼합물은 탄산 나트륨의 20%수용액을 사용하여 pH를 4 내지 5로 조정하면서 20℃내지 30℃에서15시간 동안 교반시켜 제2의 축합반응을 수행한다. 다음에는, 반응 혼합물을 염화 나트륨(40부)과 혼합하여 결정을 침전시키고 여과지상에서 수거하여 세척한 다음60℃에서 건조시켜 다음 구조식(63)의 목적하는 모노아조 화합물을 유리산의 형태로 수득한다 :
Figure kpo00043
[실시예 64 내지 86]
실시예 63의 방법을 반복하여 수행하되 단, 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 다음 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물을 각각 사용하고, 2-메톡시 4-니트로아닐린-5-설폰산 대신에는 제3열에 도시된 구조식(Ⅸ)의 화합물을 각각 사용하며, 제4열에 기재된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물[여기에서, Cl 및 F가 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다]을 사용하고, 2-아미노나프탈렌-6-β-설파토에틸설폰-1-설폰산 대신에 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민화합물을 사용하여, 각각에 해당하는 모노아조 목적화합물을 수득한다.
Figure kpo00044
Figure kpo00045
Figure kpo00046
Figure kpo00047
[실시예 87]
실시예 2에서 수득된, 유리산 형태의 하기 구조식의 모노아조 화합물(98.7부)을 물(500부)에 용해시키고, 생성된 용액에 3-아미노벤젠설폰산(34.6부)을 가한다.
Figure kpo00048
혼합물을 20%탄산나트륨수용액을 사용하여 pH를 4 내지 6으로 조절하면서 80°내지 85℃로 가열하고, 이 온도 및 pH에서 7시간동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 염화나트륨(45부)과 혼합하여 결정을 침전시킨다. 생성된 결정을 여과지 상에서 수거하고 세척한후 60℃에서 건조시켜 하기 구조식(87)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.
Figure kpo00049
[실시예 88 내지 119]
실시예 87의 방법을 반복 수행하되, 단 실시예 2에서 수득된 모노아조 화합물 대신 하기 표에 기술된 모노아조 화합물 각각을 사용(사용된 모노아조 화합물은 하기 표의 제2열에 기술되어 있으며, 각 실시예 번호로 표시되어 있다)하고, 3-아미노-벤젠설폰산 대신 구조식(Ⅷ)의 화합물 각각을 사용하여, 상응하는 목적한 모노아조 화합물을 수득한다.
Figure kpo00050
Figure kpo00051
Figure kpo00052
Figure kpo00053
[실시예 120]
아질산 나트륨(21.7부)의 35%수용액을 온도를 0 내지 5℃로 조절하면서 빙수(300부)중의 2-아미노-5-아미노메틸나프탈렌-1-설폰산(27.4부) 및 농 염산(35.5부)의 용액에 가한다. 생성된 혼합물을 이 온도에서 1시간동안 교반하여 디아조화 반응을 수행한다. 계속해서 과량의 아질산을 분해시킨후, 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부)를 가하고, 20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 3내지 5로 조절하면서, 혼합물을 12시간 동안 0 내지 5℃에서 교반하여 결합반응을 수행함으로써 모노아조 화합물-함유 용액을 수득한다.
한편, 물(30부) 및 탄산나트륨(8.4부)을 메탄올(300부)에 가하고 여기에 시안우르산 염화물(18.5부)을 가한다. 혼합물을 0 내지 10℃에서 30분간 교반한다. 생성된 반응혼합물을 상기 모노아조 화합물-함유 용액에 가하고 혼합물을 30° 내지 40℃에서 6시간 동안 교반하는데, 이때 20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 7 내지 8로 조절한다.
상기 반응 혼합물에 1-에틸아미노벤젠-4-β-설파토에틸설폰(30.9부)을 가하고, 20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 3 내지 5로 조절하면서 반응 혼합물을 80 내지 90℃로 가열하고, 상기 온도 및 pH에서 15시간동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 40℃로 냉각시키고 염화나트륨(40부)과 혼합하여 결정을 침전시킨다. 생성된 결정을 여과지상에서 수거하고, 세척한후, 60℃에서 건조시켜 하기 구조식(120)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.
Figure kpo00054
[실시예 121 내지 141]
실시예 120의 방법을 반복 수행하되, 단 2-아미노-5-아미노메틸나프틸렌-1-설폰산 대신 하기표의 제3열에 기술된 구조식(Ⅱ)의 디아민 화합물 각각을 사용하고, 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 하기 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물 각각을 사용하며, 메탄올 대신에 하기 표의 제4열에 도시된 구조식(Ⅷ)의 화합물 각각을 사용하고, 1-에틸아미노벤젠-4-β-설파토에틸설폰 대신에 하기표의 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 각각을 사용하여, 상응하는 목적한 모노아조 화합물을 수득한다.
Figure kpo00055
Figure kpo00056
Figure kpo00057
Figure kpo00058
Figure kpo00059
[실시예 142]
실시예 1의 방법을 반복 수행하되, 단 7-메틸 아미노-1-나프톨-3-설폰산(25.3부) 대신 2-메틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산(33.3부)을 사용하여 목적한 하기 구조식(142)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.
Figure kpo00060
[실시예 143 내지 196]
실시예 1의 방법을 반복 수행하되, 단 7-메틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신 하기 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물 각각을 사용하고, 1,3-디아미노벤젠-4-설폰산 대신 하기 표의 제3열에 도시된 구조식(Ⅱ)의 디아민 화합물 각각을 사용하며, 제4열(여기에서 Cl 및 F는 각각 염화 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다)에 도시된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물을 사용하고, 1-아미노벤젠-3-β-설포토에틸설폰 대신에 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 각각을 사용하여 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.
Figure kpo00061
Figure kpo00062
Figure kpo00063
Figure kpo00064
Figure kpo00065
Figure kpo00066
Figure kpo00067
Figure kpo00068
Figure kpo00069
Figure kpo00070
[실시예 197]
실시예 63의 방법을 반복 수행하되, 단 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부) 대신 2-메틸아미노-8-하이드록시 나프탈렌-3,6-디설폰산(33.3부)을 사용하여 하기 구조식(197)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.
Figure kpo00071
[실시예 198 내지 233]
실시예 63의 방법을 반복 수행하되, 단 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신 하기 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물 각각을 사용하고, 2-메톡시-4-니트로아닐린-5-설폰산 대신 제3열에 도시된 구조식(Ⅸ)의 니트로 화합물 각각을 사용하며, 제4열(여기에서 Cl 및 F는 각각 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다)에 기술된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물을 사용하고, 2-아미노나프탈렌-6-β-설파토에틸설폰-1-설폰산 대신 제5열에 도시된 방향족 아민 화합물 각각을 사용하여, 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.
Figure kpo00072
Figure kpo00073
Figure kpo00074
Figure kpo00075
Figure kpo00076
Figure kpo00077
[실시예 234]
실시예 186에서 수득된 유리산 형태의 하기 구조식(186)의 모노아조 화합물(92.7부)을 물(500부)에 용해시키고, 이 용액에 3-아미노벤젠설폰산(34.6부)을 가한다.
Figure kpo00078
20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 4 내지 6의 범위로 조절하면서 혼합물물 80내지 85℃로 가열시킨후, 상기한 온도 및 pH에서 7시간 동안 교반시킨다. 이어서 반응 혼합물을 염화나트륨(45부)과 혼합시켜 결정을 침전시키고, 이를 여과지상에서 수거하고, 세척하고 60℃에서 건조시켜 하기구조식(234)의 모노아조화합물을 유리산 형태로 수득한다.
Figure kpo00079
[실시예 235 내지 274]
실시예 234의 방법을 반복 수행하되, 단 하기 표의 제2열에 도시된 각 모노아조 화합물(사용된 모노아조 화합물을 각 실시예 번호로 표시된다)을 실시예 186에서 수득된 모노아조 화합물 대신에 사용하고, 제3열에 도시된 각 화합물을 3-아미노-벤젠설폰산 대신에 사용하여 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.
Figure kpo00080
Figure kpo00081
Figure kpo00082
[실시예 275]
실시예 120의 방법을 반복수행하되, 단 2-메틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산(33.3부)을 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부) 대신에 사용하여 하기 구조식(275)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.
Figure kpo00083
[실시예 276 내지 293]
실시예 120의 방법을 반복수행하되, 단 하기 표의 제3열 도시된 구조식(Ⅱ)의 각 디아민 화합물을 2-아미노-5-아미노메틸 니프탈렌-1-설폰산 대신에 사용되고, 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 각 나프톨 화합물을 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 사용하며, 제4열에 도시된 구조식(Ⅷ)의 각 화합물을 메탄올 대신에 사용하고, 제15열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물을 1-에틸아미노벤젠-4-β-설파토에틸설폰 대신에 사용하여 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.
Figure kpo00084
Figure kpo00085
Figure kpo00086
[염색 실시예 1]
실시예 1 및 142에서 수득된 모노아조 화합물(1) 및 (142)(각기 0.3부)를 물(200부)에 용해시키고, 황산나트륨(20부) 및 면(10부)을 가한다. 욕을 50℃로 가열시킨 후에 탄산나트륨(4부)을 가한다. 이 온도에서 염색을 1시간동안 지속시킨다. 이어서 면을 물로 세척하고 비누질하여 진한 적색의 염색 생성물을 수득한다. 두가지 염색 제품은 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수하고, 두가지 모노아조 화합물은 우수한 빌드-업 특성을 갖는 것으로 밝혀졌다.
[염색 실시예 2]
실시예 63 및 197에서 수득된 모노아조 화합물(63) 및 (197)(각기 0.3부)를 물(150부)에 용해시키고, 황산나트륨(30부) 및 면(10부)을 가한다. 욕을 60℃로 가열시킨다. 20분 후에 탄산나트륨(4부)을 가한다. 이온도에서 염색을 1시간 동안 지속시킨다. 면을 물로 세척하고 비누질하여, 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 염색 제품을 수득한다.
[염색 실시예 3]
실시예 1 내지 86 및 142내지 233에서 수득한 모노아조 화합물 각각(0.3부)을 물(300부)에 용해시키고, 여기에 황산나트륨(30부) 및 면(10)을 가한다. 욕을 60℃로 가열한다. 20분후, 여기에 탄산나트륨(5부)을 가하고, 이 온도에서 염색을 1시간 동안 계속한다. 면을 물로 세척하고 비누질을 하여 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 염색 제품을 수득한다.
[염색 실시예 4]
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서 수득한 모노아조 화합물 각각(0.3부)을 물(200부)에 용해시키고, 여기에 황산나트륨(30부) 및 면(10부)을 가한다. 욕을 50℃로 가열한다. 30분후, 여기에 인산삼나트륨(4부)을 가하고, 이 온도에서 염색을 1시간동안 계속한다. 그런후, 면을 물론 세척하고 비누질을 하여 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 염색 제품을 수득한다.
[염색 실시예 5]
칼라 페이스트의 조성 부
실시예 1 내지 86 및 142 내지 233에서
수득한 모노아조 화합물 각각 5
우레아 5
나트륨 알기네이트(5%), 농조화제 50
온수 25
탄산수소나트륨 2
나머지량(물) 13
광택가공한 넓은 면천을 상기 기술한 조성을 갖는 칼라페이스트 날염한 다음, 예비 건조시키고, 100℃에서 5분동안 증기를 쐰후, 온수로 세정하고, 비누질하고, 다시 온수로 세정한다음 건조시킨다. 이렇게하여, 높은 고종율 및 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 날염 제품을 수득한다.
[염색 실시예 6]
칼라 페이스트의 조성 부
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서
수득한 모노아조 화합물 각각 4
우레아 5
나트륨 알기네이트(5%), 농조화제 50
온수 25
탄산수소나트륨 2
나머지량(물) 14
상기 조성의 칼라페이스트를 사용하여, 증기를 120℃에서 쐬는 것을 제외하고는 염색 실시예 6에 기술된 방식과 유사한 방식을 반복 수행하여, 염색 실시예 5에서와 같은 염색 제품을 수득한다.
[염색 실시예 7]
실시예1 내지 86 및 142 내지 233에서 수득한 모노아조 화합물 각각(25부)을 혼수에 용해시키고, 용액을 25℃로 냉각시킨다. 여기에, 32.5%수산화나트륨 수용액(5.5부) 및 50°Be'물 유리를 가하고, 물을 가하여 20℃에서 전체 1000부로 만들어 패딩액을 수득한다. 즉시, 면천을 패딩액으로 패딩한 다음 배치하고, 천을 풀리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 20℃의 방에 방치한다. 상기 방법을 반복하여 패딩된 면 천을 수득한 다음, 폴리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 5℃의 방에 방치한다.
둘다를 20시간 동안 방치한 다음, 냉수 및 이어서 온수로 세척하고, 비등 세게로 비누질하고, 냉수로 세척한 다음 건조시킨다.
5℃ 및 20℃에서 각각 20시간 동안 정치한후 수득한 염색 제품 사이에는 칼라의 색조 및 짙기에서차이가 거의 관찰되지 않았다. 이러한 냉 배치 염법에서 각 모노아조 화합물은 우수한 빌드-업 특성을 갖는다고 밝혀졌다.
[염색 실시예 8]
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서 수득된 모노아조 화합물을 사용하여, 염색 실시예 7을 반복한다. 그 결과, 염색 실시예 7의 결과와 유사한 결과를 수득한다.
[염색 실시예 9]
실시예 1 내지 86 및 142 내지 233에서 수득된 모노아조 화합물(각 25부)을 온수에 용해하고 그 용액을 25℃로 냉각시킨다. 이 용액에 32.5%수산화나트륨 수용액(10부) 및 무수 황산나트륨(30부)를 가한다음 거기에 물을 가하여 25℃에서 1000부로 만든다. 그후 즉시, 비스코스 레이온 직물을 패딩액으로 패딩한다. 직물을 배치하고 폴리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 20℃의 방에 방치한다.
상기 방법을 반복하여 패딩 직물을 수득하고, 배치한후 폴리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 5℃의 방에 방치한다.
둘다 20시간 동안 방치하고, 냉수로 세척한 다음 온수로, 세척하고, 비등 세제로 비누질한후, 냉수로 세척하고 건조시켜 각각의 염색된 제품을 수득한다. 각각 5℃ 및 20℃에서 20시간 동안 방치한후 수득된 염료제품 사이에는 칼라의 색조 및 짙기의 차이가 거의 관찰되지 않았다.
[염색 실시예 10]
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서 수득된 모노아조 화합물을 사용하여, 염색 실시예 9의 방법과 유사한 방법으로 수행하여 상기 실시예의 결과와 유사한 결과를 수득한다.
[염색 실시예 11]
염색 실시예 3을 반복하되, 단 탄산나트륨의 양을 5부 대신 3부로 사용하여, 염색 실시예 3의 결과와 유사한 결과를 수득한다.
[염색 실시예 12]
염색 실시예 3을 반복하여, 단 50℃ 대신에 60℃ 및 70℃에서 염색을 계속하여, 염색 실시예 3의 결과와 유사한 결과를 수득한다.
[염색 실시예 13]
염색 실시예 3을 반복하되, 단 황산 나트륨의 양을 30부 대신에 15부를 사용하여, 염색 실시예 3의 결과와 유사한 결과를 수득한다.
[염색 실시예 14]
염색 실시예 4를 반복하되, 단 물 및 황산 나트륨을 각각, 200부 및 30부 대신에 150부 및 23부를 사용하여 염색 실시예 4의 결과와 유사한 결과를 수득한다.

Claims (20)

  1. 일반식(Ⅳ)의 아민 화합물의 디아조늄 염을 일반식(Ⅴ)의 나프톨 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 유리산 형태의 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00087
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R3는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 아실 또는 구조식
    Figure kpo00088
    의 그룹을 나타내며 ; R4는 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R5는 수소 또는 설포를 나타내며 ; B는 일반식
    Figure kpo00089
    의 그룹 또는 구조식
    Figure kpo00090
    의 그룹을 나타내고, 여기서 R6는 수소, 염소, 설포, 카복시, 메틸, 메톡시 또는 에톡시이며, X1은 염소 또는 불소를 나타내며 ; A는 비치환되거나 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 그룹을 나타내고 ; Z는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2Y의 그룹을 나타내며, 여기서, Y는 알칼리의 작용에 의해 제거될 수 있는 그룹이다.
  2. 제 1 항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 또는 에틸을 나타내며, A가 비치환되거나, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 브롬 및 설포로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 또는 두개의 치환체에 의해 치환된 페닐렌, 또는 비치환되거나 하나의 설포에 의해 치환된 나프틸렌을 나타내는 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, Z가 -SO2CH=CH2, -SO2CH2CH2OSO3H, -SO2CH2CH2SSO3H, -SO2CH2CH2OPO3H2또는 -SO2CH2CH2OCOH3를 나타내는 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, B가
    Figure kpo00091
    Figure kpo00092
    (여기서 별표로 표시된 결합부위는 그룹
    Figure kpo00093
    에 결합된다)인 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 일반식(')의 모노아조 화합물이 유리산 형태의 하기 일반식의 화합물인 방법.
    Figure kpo00094
    상기식에서, R5는 수소 또는 설포를 나타내며 ; R10은 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내고 ; R11은 수소, 염소 또는 설포를 나타내며 ; R12는 메틸, 에틸, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내고 ; R13은 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내며 ; Z1은 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2OSO3H를 나타낸다.
  6. 제 1 항에 있어서, 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물이 유리산 형태의 하기 일반식의 화합물인 방법.
    Figure kpo00095
    상기식에서, R5는 수소 또는 설포를 나타내고 ; R10은 수소, 메틸, 또는 에틸을 나타내며 ; R11은 수소, 염소 또는 설포를 나타내고 ; R12는 메틸, 에틸 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내며 ; R13은 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내고 ; R14는 수소 또는 설포를 나타내며 ; Z1은 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2OSO3H를나타낸다.
  7. 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 또는 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물중의 어느 하나를 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물과 반응시키고 이어서 일반식(Ⅲ) 및 일반식(Ⅶ) 화합물중 상기에서 반응시키지 않은 나머지 하나와 반응시킴을 특징으로 하여, 유리산 형태의 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00096
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R3는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 아실 또는 구조식
    Figure kpo00097
    의 그룹을 나타내며 ; R4는 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R5는 수소 또는 설포를 나타내며 ; B는 일반식
    Figure kpo00098
    그룹을 나타내고, 여기서, R6는 수소, 염소, 설포, 카복시, 메틸, 메톡시 또는 에톡시이며 ; X1은 염소 또는 불소를 나타내며 ; A는 비치환되거나 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 그룹을 나타내고 ; Z는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2Y의 그룹을 나타내며, 여기서 Y는 알칼리의 작용에 의해 제거될 수 있는 그룹이다.
  8. 제 7 항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 또는 에틸을 나타내며, A가 비치환되거나 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 브롬 및 설포로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 또는 두개의 치환체에 의해 치환된 페닐렌, 또는 비치환되거나 하나의 설포에 의해 치환된 나프틸렌을 나타내는 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  9. 제 7 항에 있어서, Z가 -SO2CH=CH2, -SO2CH2CH2OSO3H, -SO2CH2CH2SSO3H, -SO2CH2CH2OPO3H2또는 -SO2CH2CH2OCOH3를 나타내는 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  10. 제 7 항에 있어서, B가
    Figure kpo00099
    (여기에서 별표로 표시된 결합부위는 그룹
    Figure kpo00100
    에 결합된다)인 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  11. 제 7 항에 있어서, 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물이 유리산 형태의 하기 일반식의 결합물인 방법.
    Figure kpo00101
    상기식에서, R5는 수소 또는 설포를 나타내며 ; R10는 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내고 ; R11은 수소, 염소 또는 설포를 나타내며 ; R12는 메틸, 에틸, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내고, R13은 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내며, Z1은 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2OSO3H를 나타낸다.
  12. 제 7 항에 있어서, 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물이 유리산 형태의 하기 일반식의 화합물인 방법.
    Figure kpo00102
    상기식에서, R5는 수소 또는 설포를 나타내고 ; R10는 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내며 ; R11은 수소, 염소 또는 설포를 나타내고 ; R12는 메틸, 에틸, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내며 ; R13은 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내고 ; R14는 수소 또는 설포를 나타내며 ; Z1은 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2OSO3H를 나타낸다.
  13. 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 일반식(Ⅷ)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 유리산 형태의 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00103
    Figure kpo00104
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R3는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 아실 또는 구조식
    Figure kpo00105
    의 그룹을 나타내며 ; R4는 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R5는 수소 또는 설포를 나타내며 ; B는 일반식
    Figure kpo00106
    의 그룹 또는 구조식
    Figure kpo00107
    의 그룹을 나타내고, 여기서 R6는 수소, 염소, 설포, 카복시, 메틸, 메톡시 또는 에톡시이며 ; X2는 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시, 또는 일반식
    Figure kpo00108
    의 그룹을 나타내고, 여기서 R7및 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 비치환 되거나 치환된 저급 알킬, 페닐, 나프틸 또는 벤질 그룹이며 ; A는 비치환되거나 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 그룹을 나타내고 ; Z는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2Y의 그룹을 나타내며, 여기서, Y는 알칼리의 작용에 의해 제거될 수 있는 그룹이고 ; X1은 염소 또는 불소를 나타낸다.
  14. 제 13 항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 또는 에틸을 나타내며, A가 비치환되거나 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 브롬 및 설포로 이루어진 그룹중에서 선택된 하나 또는 두개의 치환체에 의해 치환된 페닐렌, 또는 비치환되거나 하나의 설포에 의해 치환된 나프틸렌을 나타내는 일반식 (Ⅰ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  15. 제 13 항에 있어서, Z가 -SO2CH=CH2, -SO2CH2CH2SO3H, -SO2CH2CH2SSO3H, -SO2CH2CH2OPO3H2또는 -SO2CH2CH2OCOH3를 나타내며, X2가 일반식
    Figure kpo00109
    의 그룹을 나타내고, 여기서 R9가수소 또는 메틸 또는 에틸인 일반식(Ⅱ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  16. 제 13 항에 있어서, B가
    Figure kpo00110
    (여기에서 별표로 표시된 결합부위는 그룹
    Figure kpo00111
    에 결합된다) 인 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  17. 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물 또는 일반식(Ⅷ)의 화합물중의 어느 하나를 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물과 반응시키고 이어서 일반식(Ⅶ) 및 (Ⅷ) 화합물중 상기에서 반응시키지 않은 나머지 하나와 반응시킨후, 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 유리산 형태의 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00112
    상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R3는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 아실 또는 구조식
    Figure kpo00113
    의 그룹을 나타내며 ; R4는 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬을 나타내고 ; R5는 수소 또는 설포를 나타내며 ; B는 일반식
    Figure kpo00114
    의 그룹 또는 구조식
    Figure kpo00115
    의 그룹을 나타내고, 여기서 R6는 수소, 염소, 설포, 카복시, 메틸, 메톡시 또는 에톡시이며, X2는 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시, 또는 일반식
    Figure kpo00116
    의 그룹을 나타내고, 여기서 R7및 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 비치환 되거나 치환된 저급 알킬, 페닐, 나프틸 또는 벤질 그룹이며 ; A는 비치환되거나 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 그룹을 나타내고, Z는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2Y의 그룹을 나타내며, 여기서, Y는 알칼리의 작용에 의해 제거될수 있는 그룹이다.
  18. 제 17 항에 있어서, R1및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 또는 에틸을 나타내며, A가 비치환되거나 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 브롬 및 설포로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 또는 두개의 치환체에 의해 치환된 페닐렌, 또는 비치환되거나 하나의 설포에 의해 치환된 나프틸렌을 나타내는 일반식 (Ⅰ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  19. 제 17 항에 있어서, Z가 -SO2CH=CH2, -SO2CH2CH2OSO3H, -SO2CH2CH2SSO3H, -SO2CH2CH2OPO3H2또는 -SO2CH2CH2OCOH3를 나타내며, X2가 일반식
    Figure kpo00117
    의 그룹을 나타내고, 여기서, R9가 수소 또는 메틸 또는 에틸인 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
  20. 제 17 항에 있어서, B가
    Figure kpo00118
    (여기에서 별표로 표시된 결합부위는 그룹
    Figure kpo00119
    에 결합된다)인 일반식(I")의 모노아조 화합물을 제조하는 방법.
KR1019870000293A 1986-01-16 1987-01-16 유리산 형태의 모노아조 화합물의 제조방법 KR950000040B1 (ko)

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JP7696 1986-01-16
JP61007696A JPH06104779B2 (ja) 1986-01-16 1986-01-16 モノアゾ化合物およびそれを用いて繊維材料を染色または捺染する方法
JP8453 1986-01-17
JP61008453A JPH0774311B2 (ja) 1986-01-17 1986-01-17 モノアゾ化合物およびそれを用いる繊維材料の染色または捺染方法

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KR870007247A KR870007247A (ko) 1987-08-17
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