KR950000040B1 - Fiber reactive monoazo compound having 7-substituted amino-1-naphthal-sulfonic acid as coupling compound - Google Patents
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Abstract
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Description
본 발명은 커플링 성분으로서 7-치환된 아미노-1-나프톨모노-또는 디-설폰 산을 함유하는 하기 일반식(Ⅰ)의 유리산 형태의 모노아조 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a process for the preparation of the monoazo compound in free acid form of the general formula (I) containing 7-substituted amino-1-naphtholmono- or di-sulfonic acid as coupling component.
상기식에서, R1및 R2는 서로 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급알킬이고, R3는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 아실 또는 구조식의 그룹이고, R4는 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬이고, R5는 수소 또는 설포이고, B4는 일반식(여기서, R6는 수소, 염소, 설포, 카복시, 메틸, 메톡시 또는 에톡시이다)의 그룹 또는 구조식의 그룹이고, X는 염소, 불소, 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시, 또는 일반식(여기서, R7및 R8은 서로 독립적으로 수소 또는 비치환되거나 치환된 저급 알킬, 페닐, 나프틸 또는 벤질 그룹이다.) :이고, A는 비치환되거나 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 그룹이며, Z는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2Y(여기서 Y는 알칼리의 작용에 의해 분리가능한 그룹이다)의 그룹이다.Wherein R 1 and R 2 are independently of each other hydrogen or unsubstituted or substituted lower alkyl, and R 3 is unsubstituted or substituted lower alkyl, acyl or structural formula R 4 is hydrogen or unsubstituted or substituted lower alkyl, R 5 is hydrogen or sulfo, and B 4 is a general formula Wherein R 6 is hydrogen, chlorine, sulfo, carboxy, methyl, methoxy or ethoxy X is chlorine, fluorine, lower alkoxy, unsubstituted or substituted phenoxy, or a general formula (Wherein R 7 and R 8 are independently of each other hydrogen or an unsubstituted or substituted lower alkyl, phenyl, naphthyl or benzyl group): and A is an unsubstituted or substituted phenylene or naphthylene group, Z is a -SO 2 CH = CH 2 or -SO 2 CH 2 CH 2 Y (wherein Y is a group detachable by the action of an alkali) group.
여러 종류의 섬유-반응성 염료가 지금까지 섬유물질을 염색 또는 날염시키는데 사용되어 왔다. 이들중, 하나의 분자중에 모노할로게노트리아지닐 그룹 및 설페이토에틸설포닐 그룹과 같은 비닐설폰형 그룹을 모두 갖는 반송성 염료는 그것들의 개선된 염료 성능으로 인해 두드러진다. 적색으로 섬유물질을 염색 또는 날염시키는데 유용한 이러한 종류의 반응성 염료로서, 하기 구조식의 모노아조 화합물이 심사되지 않은 일본국 특허원 제199877/1982호에 기술되어 있다.Several types of fiber-reactive dyes have been used to dye or print textile materials. Of these, transportable dyes having both vinylhalone type groups such as monohalogenotriazinyl groups and sulfatoethylsulfonyl groups in one molecule are prominent due to their improved dye performance. As reactive dyes of this kind useful for dyeing or printing textile materials in red, the monoazo compounds of the following structural formulas are described in Japanese Patent Application No. 199877/1982.
하지만, 상기 구조식의 화합물을 포함하는 이러한 종류의 공지된 적색염료는 빌드-업(build up)특성, 염색온도의 변화에 대한 비민감성 등과 같은 염색 특성 뿐만아니라 포르말린 견뢰성, 포르말린-일광 견뢰성 등과 같은 견뢰성에 관한 고도의 요구 조건에 부합하기에는 아직 만족스럽지 못하므로, 이러한 염료성능을 더 개선시킬 여지가 있다.However, known red dyes of this kind, including the compounds of the above structural formulas, have not only dyeing properties such as build-up properties, insensitivity to changes in dyeing temperature, but also formalin fastness, formalin-daylight fastness and the like. There is still room for further improvement in dye performance as it is not yet satisfactory to meet the high requirements for the same fastness.
본 발명자는 상기 요구 조거에 부합하는 모노아조 화합물을 발견하기 위하여 상당한 연구를 수행하였으며 이로써 본 발명이 이루어졌다.The inventors have made considerable research in order to find monoazo compounds that meet the above requirements.
본 발명은, (a) 하기 일반식(Ⅳ)의 아민 화합물의 디아조늄염을 하기 일반식(Ⅴ)의 나프톨 화합물과 반응시키거나, 하기 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 또는 하기 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물중의 어느 하나를 시안우르산염화물 또는시안우르산 불화물과 반응시키고 이어서 일반식(Ⅲ) 및 (Ⅶ) 화합물중의 나머지 하나와 반응시켜, X가 염소 또는 불소원자인, 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물에 상응하는 하기 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 수득하거나 ; (b) 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물과 반응시키거나, 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물 또는 일반식(Ⅷ)의 화합물중의 어느 하나를 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물과 반응시키고, 이어서 일반식(Ⅶ) 및 (Ⅷ) 화합물중의 나머지 하나와 반응시킨후, 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물과 반응시켜 X가 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시 또는 일반식(여기서, R7및 R8은 상기 정의한 바와 같다)의 그룹인, 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물에 상응하는 하기 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 수득함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합을 제조하는 방법 및 일반식(I)의 모노아조 화합물 또는 이의 염을 제공한다.The present invention relates to (a) reacting a diazonium salt of an amine compound of the following general formula (IV) with a naphthol compound of the following general formula (V), or an aromatic amine compound of the following general formula (III) or Any one of the monoazo naphthol compounds of iii) is reacted with cyanurate or cyanuric acid fluoride and then with the other of the general formulas (III) and (iii), wherein X is a chlorine or fluorine atom, Obtaining the monoazo compound of the following general formula (I ') corresponding to the monoazo compound of the general formula (I); (b) reacting a monoazo compound of the general formula (I ') with a compound of the following general formula (VIII), or any one of the monoazo naphthol compound of the general formula (VIII) Reacted with cyanuric acid chloride or cyanuric acid fluoride, followed by reacting with the other of the compounds of formulas (iii) and (iii), followed by reaction with the aromatic amine compound of formula (III), where X is lower alkoxy, Unsubstituted or substituted phenoxy or a general formula Characterized by obtaining a monoazo compound of the general formula (I ") corresponding to the monoazo compound of the general formula (I), wherein R 7 and R 8 are as defined above Provided are a process for preparing a monoazo compound of formula (I) and a monoazo compound of formula (I) or a salt thereof.
상기식에서, R1,R2,R3,R4,R5A,B 및 Z는 상기 정의한 바와 같고, X1은 염소 또는 불소이고, X2는 저급 알콕시, 비치환되거나 치환된 펜옥시 또는 일반식(여기서 R7및 R8은 상기 정의한 바와 같다)의 그룹이다.Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 A, B and Z are as defined above, X 1 is chlorine or fluorine, X 2 is lower alkoxy, unsubstituted or substituted phenoxy or General formula Wherein R 7 and R 8 are as defined above.
또한, 본 발명을 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물 또는 이의 염을 사용함을 특징으로 하여 섬유물질을 염색 또는 날염시키는 방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method of dyeing or printing a fiber material, using the monoazo compound of formula (I) or a salt thereof.
이들 일반식(Ⅰ)의 모노아조 화합물중 바람직한 것은 하기 일반식의 화합물이다.Preferred among these monoazo compounds of the general formula (I) are compounds of the following general formula.
상기식에서, R5는 상기 정의한 바와 같고, R10은 수소 메틸 또는 에틸이고, R11은 수소, 염소 또는 설포이고, R12는 메틸, 에틸, 아세틸 또는 프로피오닐이고, R13은 수소, 메틸 또는 에틸이고, R14는 수소 또는 설포이며 Z1은 -SO2CH=CH2=CH2또는 -SO2CH2CH2OSO3H이다.Wherein R 5 is as defined above, R 10 is hydrogen methyl or ethyl, R 11 is hydrogen, chlorine or sulfo, R 12 is methyl, ethyl, acetyl or propionyl, and R 13 is hydrogen, methyl or is ethyl, R 14 is hydrogen or sulfo, and Z 1 is -SO 2 CH = CH 2 = CH 2 or -SO 2 CH 2 CH 2 OSO 3 H.
본 발명에 있어서, R1,R2,R3및 R4로 표시된 저급 알킬그룹은 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬그룹을 의미하여 알킬그룹의 바람직한 치환체는 하이드록실, 시아노, C1-C4알콕시, 할로게노, 카복시, 카바모일, C1-C4알콕시 카보닐, C1-C4알킬카보닐옥시, 설포, 설파모일등을 포함한다. R1,R2, R3, 및 R4로 표시된 비치환되거나 치환된 알킬그룹의 바람직한 예로는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, 2급-부틸, 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 2-하이드록시부틸, 3-하이드록시부틸, 4-하이드록시부틸, 2,3-디하이드록시프로필, 3,4-디하이드록시부틸, 시아노메틸, 2-시아노에틸, 3-시아노프로필, 메톡시메틸, 에톡시메틸, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 3-메톡시프로필, 3-에톡시프로필, 2-하이드록시-3-메톡시프로필, 클로로메틸, 브로모메틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸, 3-클로로프로필, 3-브로모프로필, 4-클로로부틸, 4-브로모부틸, 카복시메틸, 2-카복시에틸, 3-카복시프로필, 4-카복시부틸, 1,2-디카복시에틸, 카바모일메틸, 2-카바모일에틸, 3-카바모일프로필, 4-카바모일부틸, 메톡시카보닐메틸, 에톡시카보닐메틸, 2-메톡시카보닐에틸, 2-에톡시카보닐에틸, 3-메톡시카보닐프로필, 3-에톡시카보닐프로필, 4-메톡시카보닐부틸, 4-에톡시카보닐부틸, 메틸카보닐옥시메틸, 에틸카보닐옥시메틸, 2-메틸카보닐옥시에틸, 2-에틸카보닐옥시에틸, 3-메틸카보닐옥시프로필, 3-에틸카보닐옥시프로필, 4-메톡시카보닐옥시부틸, 4-에틸카보닐옥시부틸, 설포메틸, 2-설포에틸, 3-설포프로필, 4-설포부틸, 설파모일메틸, 2-설파모일에틸, 3-설파모일프로필, 4-설파모일부틸 등이 있다. 이들중, 특히 바람직한 R1, R2및 R4는 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸이다.In the present invention, the lower alkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 preferably means an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and preferred substituents of the alkyl group are hydroxyl, cyano, C 1 − C 4 alkoxy, halogeno, carboxy, carbamoyl, C 1 -C 4 alkoxy carbonyl, C 1 -C 4 alkylcarbonyloxy, sulfo, sulfamoyl and the like. Preferred examples of the unsubstituted or substituted alkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 include methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, secondary-butyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 2-hydroxybutyl, 3-hydroxybutyl, 4-hydroxybutyl, 2,3-dihydroxypropyl, 3,4-dihydroxybutyl, cyano Methyl, 2-cyanoethyl, 3-cyanopropyl, methoxymethyl, ethoxymethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 3-methoxypropyl, 3-ethoxypropyl, 2-hydroxy -3-methoxypropyl, chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 3-chloropropyl, 3-bromopropyl, 4-chlorobutyl, 4-bromobutyl, carboxymethyl, 2-carboxyethyl, 3-carboxypropyl, 4-carboxybutyl, 1,2-dicarboxyethyl, carbamoylmethyl, 2-carbamoylethyl, 3-carbamoylpropyl, 4-carbamoylbutyl, methoxycarbonylmethyl , Ethoxycarbonylmethyl, 2-meth Cycarbonylethyl, 2-ethoxycarbonylethyl, 3-methoxycarbonylpropyl, 3-ethoxycarbonylpropyl, 4-methoxycarbonylbutyl, 4-ethoxycarbonylbutyl, methylcarbonyloxymethyl, Ethylcarbonyloxymethyl, 2-methylcarbonyloxyethyl, 2-ethylcarbonyloxyethyl, 3-methylcarbonyloxypropyl, 3-ethylcarbonyloxypropyl, 4-methoxycarbonyloxybutyl, 4-ethyl Carbonyloxybutyl, sulfomethyl, 2-sulfoethyl, 3-sulfopropyl, 4-sulfobutyl, sulfamoylmethyl, 2-sulfamoylethyl, 3-sulfaylpropyl, 4-sulfaylbutyl, and the like. Among these, particularly preferred R 1 , R 2 and R 4 are independently hydrogen, methyl or ethyl.
R3로 표시된 아실의 예로는 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 이소부티릴, 발레릴 및 벤조일이 있으며, R3로표시된 구조식그룹의 예로는및가 있다. 이들 R3중, 바람직한 것은 아세틸 또는 프로피오닐이다.Examples of acyl represented by R 3 include acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl and benzoyl, and the structural formula represented by R 3 Examples of groups And There is. Of these R 3 , preferred are acetyl or propionyl.
A로 표시된 페닐렌 그룹은, 예를들면, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 브롬 및 설포중에서 선택된 하나 또는 두 개의 치환체 및 비치환된 페닐렌 그룹을 포함하며, A로 표시된 나프탈렌 그룹은 나프탈렌 및 설포-치환된 나프탈렌을 포함한다. 페닐렌 및 나프틸렌 그룹의 바람직한 예는 하기와 같다 :The phenylene group represented by A includes, for example, one or two substituents selected from methyl, ethyl, methoxy, ethoxy, chlorine, bromine and sulfo and unsubstituted phenylene groups, and the naphthalene group represented by A Includes naphthalene and sulfo-substituted naphthalene. Preferred examples of phenylene and naphthylene groups are as follows:
(상기 일반식에서, 별표로 표시된 결합부위는 그룹에 결합되어 있다.)(In the above general formula, the coupling sites marked with an asterisk are groups Is bound to.)
Z로 표시한 그룹, -SC2CH2CH2Y에서 Y는 알킬리의 작용으로 분리할 수 있는 그룹을 나타내며, 예를들어 황산에스테르, 티오황산에스테르, 인산에스테르 및 아세트산 에스테르 그룹, 및 할로겐원자를 포함한다. 이들중, 특히 바람직한 Z는 -SO2CH=CH2및 -SO2CH2CH2OSO3H이다.In the group represented by Z, Y in -SC 2 CH 2 CH 2 Y represents a group that can be separated by the action of alkylli, e.g. sulfate ester, thiosulfate ester, phosphate ester and acetic ester group, and halogen atom Include. Of these, particularly preferred Z are -SO 2 CH = CH 2 and -SO 2 CH 2 CH 2 OSO 3 H.
B로 표시된 그룹의 예는 다음과 같다.An example of a group marked B is as follows.
(상기 일반식에서, 별표로 표시된 결합은 그룹에 결합되어 있다.(In the above formula, the bond marked with an asterisk is a group Is coupled to
X로 표시한 저급 알콕시그룹에서, 탄소원자 1 내지 4개를 함유하는 화합물이 바람직하며, 예를들어 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소-프로폭시, n-부톡시, 이소-부톡시 등을 포함한다. 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소-프로폭시, 및 β-에톡시에톡시가 특히 바람직하다.In the lower alkoxy group represented by X, compounds containing 1 to 4 carbon atoms are preferable, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy, iso-part Oxy and the like. Especially preferred are methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, and β-ethoxyethoxy.
또한 X로 표시된 펜옥시 그룹의 바람직한 예는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 니트로, 설포, 카복실 및 염소중에서 선택된 하나 또는 두 개의 그룹으로 치환 또는 비치환된 그룹이다. 펜옥시, 3-또는 4-설포펜옥시, 2,4-또는 3,5-디설포펜옥시 등이 특히 바람직하다.Preferred examples of the phenoxy group also denoted by X are groups unsubstituted or substituted with one or two groups selected from C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkoxy, nitro, sulfo, carboxyl and chlorine. Phenoxy, 3- or 4-sulfophenoxy, 2,4- or 3,5-disulfofeneoxy and the like are particularly preferred.
X로 표시된 그룹에 있어서, R7및 R8으로 표시한 바람직한 저급 알킬그룹은 탄소원자 1 내지 4개를 함유하는 화합물이며, C1-C4알콕시, 설포, 카복실, 하이드록시, 염소, 페닐 및 설페이트중에서 선택된 하나 또는 두개의 그룹으로 치환되거나 비치환된다. 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, 2급-부틸, 2-하이드록시에틸, 2-설파토에틸, 2-설포에틸, 2-메톡시에틸 및 2-카복시에틸이 특히 바람직한 그룹이다.Group marked with an X In the above, preferred lower alkyl groups represented by R 7 and R 8 are compounds containing 1 to 4 carbon atoms and are selected from C 1 -C 4 alkoxy, sulfo, carboxyl, hydroxy, chlorine, phenyl and sulfate Or substituted or unsubstituted with two groups. Methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso-butyl, secondary-butyl, 2-hydroxyethyl, 2-sulphatoethyl, 2-sulfoethyl, 2-methoxyethyl and 2- Carboxyethyl is a particularly preferred group.
R7및 R8으로 표시된 바람직한 페닐 그룹은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 설포, 카복실 및 염소중에서 선택된 하나 또는 두개의 그룹으로 치환되거나 비치환된 그룹이다. 이들중, 페닐, 2-, 3- 또는 4-설포페닐, 2-, 3- 또는 4-카복시페닐, 3,4- 3,5- 또는 3,6-디설포페닐 등이 특히 바람직하다.Preferred phenyl groups represented by R 7 and R 8 are groups unsubstituted or substituted with one or two groups selected from C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkoxy, sulfo, carboxyl and chlorine. Of these, phenyl, 2-, 3- or 4-sulfophenyl, 2-, 3- or 4-carboxyphenyl, 3,4- 3,5- or 3,6-disulfophenyl and the like are particularly preferable.
X로 표시된 바람직한 나프틸 그룹은 하이드록실, 카복실, 설포 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 염소중에서 선텍된 하나 내지 세개의 그룹으로 치환되거나 비치환된 그룹이다. 이들중, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-설포-1-,나프틸, 1-, 5-, 6-, 7- 또는 8-설포-2-나프틸, 2,4-, 5,7-, 6,8-, 4,8-, 4,7-, 3,8-, 4,6-,3,7-, 또는 3,6-디설포-2-나프틸, 4,6,8-, 2,4,7- 또는 3,6,8-트리설포-1-나프틸, 1,5,7-, 4,6,8- 또는 3,6,8-트리설포-2-나프틸등이 특히 바람직하다.Preferred naphthyl groups represented by X are groups unsubstituted or substituted with one to three groups selected from among hydroxyl, carboxyl, sulfo C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkoxy and chlorine. Among these, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-sulfo-1-, naphthyl, 1-, 5-, 6-, 7- or 8-sulfo-2-naph Teal, 2,4-, 5,7-, 6,8-, 4,8-, 4,7-, 3,8-, 4,6-, 3,7-, or 3,6-disulfo- 2-naphthyl, 4,6,8-, 2,4,7- or 3,6,8-trisulfo-1-naphthyl, 1,5,7-, 4,6,8- or 3,6 , 8-trisulfo-2-naphthyl and the like are particularly preferred.
R7및 R8으로 표시된 바람직한 벤질 그룹은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 설포 및 염소중에서 선택된 하나 또는 두개의 그룹으로 치환되거나 비치환된 그룹이다. 이들중, 벤질 및 2-, 3- 또는 4-설포벤질이 특히 바람직한다.Preferred benzyl groups represented by R 7 and R 8 are groups unsubstituted or substituted with one or two groups selected from C 1 -C 4 alkyl, C 1 -C 4 alkoxy, sulfo and chlorine. Of these, benzyl and 2-, 3- or 4-sulfobenzyl are particularly preferred.
상기 일반식(Ⅰ)의 본 발명의 모노아조 화합물은 유리산 또는 알칼리의 염 또는 알칼리토금속의 염의 형태로 될 수 있다. 이들중, 나트륨염 및 칼륨염이 바람직하다.The monoazo compound of the present invention of general formula (I) may be in the form of a salt of a free acid or an alkali or a salt of an alkaline earth metal. Of these, sodium salts and potassium salts are preferred.
일반식(Ⅰ)에서 X로서 염소 또는 브롬원자를 갖는 상기 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을, 예를들어 다음 방법으로 제조할 수 있다.In general formula (I), the monoazo compound of the said general formula (I ') which has a chlorine or a bromine atom as X can be manufactured, for example by the following method.
다음 일반식(Ⅱ)의 디아민 화합물 또는 일반식(Ⅲ)의 방향족 아민중 어느 하나를 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물과 제1 축합시킨 다음(Ⅲ) 또는 (Ⅱ)의 잔유 화합물과 함께 제2 축합시킨다.The first condensation of either the diamine compound of formula (II) or the aromatic amine of formula (III) with cyanuric acid chloride or cyanuric acid fluoride is carried out together with the residual compound of (III) or (II). 2 Condensate.
(Ⅱ) (Ⅱ)
상기식에서, R2및 B는 상기 정의한 바와 같다. 제1 및 제2의 축합반응은 각각 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도 및 1 내지 10, 바람직하게는 2 내지 7의 pH, 및 0내지 70℃의 온도 및 3 내지 7의 바람직한 pH에서 수성 매질중에서 수행할 수 있다.Wherein R 2 and B are as defined above. The first and second condensation reactions are each -10 to 50 ° C, preferably 0 to 30 ° C and a pH of 1 to 10, preferably 2 to 7, and a temperature of 0 to 70 ° C and 3 to 7 May be carried out in an aqueous medium at the desired pH of.
일반식(Ⅳ)의 생성된 아민 화합물을 통상적 방법으로 -10 내지 20℃의 온도에서 디아조화한 다음, pH를 1 내지 7, 바람직하게는 1 내지 5의 범위내로 조절하면서 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도에서 일반식(Ⅴ)의 나프톨 화합물과 커플링시켜 목적한 모노아조 화합물(Ⅰ')을 제조할 수 있다.The resulting amine compound of formula (IV) is diazotized at a temperature of -10 to 20 ° C. in a conventional manner, and then -10 to 50 ° C., adjusting the pH within the range of 1 to 7, preferably 1 to 5, Preferably, the desired monoazo compound (I ') may be prepared by coupling with a naphthol compound of formula (V) at a temperature of 0 to 30 ° C.
다른 방법으로, 일반식(Ⅰ')의 모노아조 화합물을 또한 다음 방법으로 제조할 수 있다.Alternatively, the monoazo compound of general formula (I ') can also be prepared by the following method.
디아민 화합물(Ⅱ) 또는 다음 일반식(Ⅸ)의 니트로화합물을 pH를 1 내지 7, 바람직하게는 1 내지 5로 조절하면서, 통상적 방법으로 -10 내지 20℃의 온도에서 디아조화시킨 다음 -10 내지 50℃의 온도에서 나프톨 화합물(Ⅴ)와 커플링시킨다 :The diamine compound (II) or the nitro compound of the following general formula (VII) is diazotized at a temperature of -10 to 20 DEG C by a conventional method, while adjusting the pH to 1 to 7, preferably 1 to 5, and then -10 to Coupling with naphthol compound (V) at a temperature of 50 ° C:
H2N-B-NO2(Ⅳ)H 2 NB-NO 2 (Ⅳ)
상기식에서, B는 전술한 바와 같다. 이어서 니트로 화합물(Ⅸ)를 사용하여 수득한 생성된 화합물을 나트륨설파이드의 존재하에 40 내지 100℃의 온도에서 환원시킨다. 상기 방법중의 어느 하나에 따라, 일반식(Ⅶ)의 모노아조 나프톨 화합물을 제조할 수 있다.Wherein B is as described above. The resulting compound obtained using nitro compound (VII) is then reduced at a temperature of 40-100 ° C. in the presence of sodium sulfide. According to any of the above methods, a monoazo naphthol compound of the general formula can be produced.
이어서, 모노아조 나프톨 화합물(Ⅶ) 또는 방향족 아민 화합물(Ⅲ)중 어느 하나를 pH를 1 내지 10, 바람직하게는 2 내지 7의 범위로 조절하면서 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0내지 30℃의 온도에서 시안우르산염화물 또는 시안우르산 불화물과 제1축합을 시킨다음, pH를 2내지 9, 바람직하게는 3 내지 6의 범위로 조절하면서 0 내지 70℃, 바람직하게는 10 내지 50℃의 온도에서(Ⅲ) 또는 (Ⅶ)의 잔유 화합물과 제2축합을 시켜 목적하는 모노아조 화합물(Ⅰ')을 수득한다.Subsequently, either the monoazo naphthol compound (i) or the aromatic amine compound (III) is adjusted to -10 to 50 ° C, preferably 0 to 30 ° C, with the pH being adjusted in the range of 1 to 10, preferably 2 to 7. First condensation with cyanurate or cyanuric acid fluoride at a temperature of 0 to 70 ° C., preferably 10 to 50 ° C., while adjusting the pH to a range of 2 to 9, preferably 3 to 6 The second condensation is carried out with the residual compound of (III) or (iii) to obtain the desired monoazo compound (I ').
일반식(Ⅰ)에서 X로서 저급 알콕시 또는 비치환되거나 치환된 펜옥시그룹 R7및 R8이 전술한 바와같은 일반식의 그룹을 갖는 일반식(Ⅰ")의 모노아조 화합물을 다음 방법으로 제조할 수 있다. 전술한 방법으로 제조할 수 있는 모노아조 화합물(Ⅰ')을 pH 2 내지 9, 바람직하게는 3 내지 7로 조절하면서 50 내지 100℃, 바람직하게는 70 내지 100℃의 온도에서 수성매질중에서 X2가 전술한 바와같은 일반식 H-X2(Ⅷ)의 화합물과 축합시킨다.Lower alkoxy or unsubstituted or substituted phenoxy groups R 7 and R 8 as X in formula (I) are as defined above The monoazo compound of general formula (I ") having the group of can be prepared by the following method. The monoazo compound (I ') which can be prepared by the above-mentioned method is pH 2 to 9, preferably 3 to 7 X 2 is condensed with a compound of the general formula HX 2 (VII) as described above in an aqueous medium at a temperature of from 50 to 100 ° C., preferably from 70 to 100 ° C., with control.
다른 방법으로, 모노아조 나프톨 화합물(Ⅶ) 또는 화합물(Ⅷ)중의 어느 한 화합물을 시안우르산염화물 또는 시안우르산 불화물과 제1축합한 다음, 화합물(Ⅶ) 또는 (Ⅶ)의 잔유 화합물과 제2축합시킨다. 제1축합반응은 pH를 1 내지 10, 바람직하게는 4 내지 7로 조절하면서 -10 내지 50℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도에서 수행할 수 있으며, 제2축반응은 pH를 2 내지 10, 바람직하게는 4 내지 9로 조절하면서 10 내지 70℃, 바람직하게는 20 내지 50℃의 온도에서 수행할 수 있다. 이어서 생성화합물을, pH를 2 내지 9, 바람직하게는 3 내지 7로 조절하면서 50 내지 100℃, 바람직하게는 80내지 100℃의 온도에서 방향족 아민 화합물(Ⅱ)과 축합시킨다.Alternatively, the monoazo naphthol compound (v) or any one of the compounds (v) is first condensed with cyanurate or cyanuric acid fluoride, and then the compound (v) or the residual compound of (v) and the second Condensation. The first condensation reaction may be performed at a temperature of −10 to 50 ° C., preferably 0 to 30 ° C. while adjusting the pH to 1 to 10, preferably 4 to 7, and the second condensation reaction may be performed at a pH of 2 to 10, preferably 4 to 9, it may be carried out at a temperature of 10 to 70 ℃, preferably 20 to 50 ℃. The resulting compound is then condensed with the aromatic amine compound (II) at a temperature of 50 to 100 ° C., preferably 80 to 100 ° C., while adjusting the pH to 2 to 9, preferably 3 to 7.
따라서, 일반식(Ⅰ")의 목적한 모노아조 화합물을 제조할 수 있다.Therefore, the desired monoazo compound of general formula (I ") can be manufactured.
모노아조 화합물(Ⅰ)의 제조에 유용한 나프톨 화합물(Ⅴ)의 특히 바람직한 예는 다음과 같다 :Particularly preferred examples of naphthol compound (V) useful for the preparation of monoazo compound (I) are as follows:
모노아조 화합물(Ⅰ)을 제조하는데 사용할 수 있는 화합물(Ⅷ)로는 암모니아, 방향족 및 지방족 아민,저급알콜 및 치환된 페놀이 있다.Compounds that can be used to prepare monoazo compound (I) include ammonia, aromatic and aliphatic amines, lower alcohols and substituted phenols.
방향족 아민의 예로는 1-아미노벤젠, 1-아미노-2-, 3- 또는 4-메틸벤젠, 1-아미노-2,4-, 2,5-,3,4- 또는 3,5-디메틸벤젠, 1-아미노-2-, 3-또는 4-에틸벤젠, 1-아미노-2-, 3- 또는 4-메톡시벤젠, 1-아미노-4-에톡시벤젠, 1-아미노-2-, 3- 또는 4-클로로-벤젠, 3-또는 4-아미노-페닐메탄 설폰산, 2-, 3- 또는 4-아미노벤젠 설폰산, 3-메틸아미노-벤젠설폰산, 4-메틸아미노 벤젠설폰산, 4-에틸아미노벤젠설폰산, 5-아미노벤젠-1,3-디설폰산, 2-아미노벤젠-1,4-디설폰산, 4-아미노벤젠-1,3-디설폰산, 2-, 3- 또는 4-아미노벤조산, 5-아미노벤젠-1,3-디카복실산, 5-아미노-2-하이드록시벤젠설폰산, 4-아미노-2-하이드록시 벤젠설폰산, 5-아미노-2-에톡시벤젠설폰산, N-메틸아미노벤젠, N-에틸아미노벤젠, 1-에틸아미노-3- 또는 4-메틸벤젠, 1-에틸아미노-4-클로로벤젠, 1-에틸아미노-3- 또는 4-메틸벤젠, 1-(2-하이드록시에틸)아미노-3-메틸벤젠, 3- 또는 4-메틸아미노벤조산, 3- 또는 4-메틸아미노벤젠설폰산, 2-아미노나프탈렌-1-설폰산, 4-아미노나프탈렌-1-설폰산, 5-아미노나프탈렌-1-설폰산, 6-아미노나프탈렌-1-설폰산, 7-아미노나프탈렌-1-설폰산, 8-아미노나프탈렌-1-설폰산, 1-아미노나프탈렌-2-설폰산, 4-아미노나프탈렌-2-설폰산, 5-아미노나프탈렌-2-설폰산, 6-아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-메틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-에틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-부틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 7-이소부틸아미노나프탈렌-2-설폰산, 8-아미노나프탈렌-2-설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 5-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 6-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 7-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 8-아미노나프탈렌-1,3-디설폰산, 2-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산, 3-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,5-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,6-디설폰산, 8-아미노나프탈렌-1,6-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,7-디설폰산, 3-아미노나프탈렌-2,6-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-2,6-디설폰산, 3-아미노나프탈렌-2,7-디설폰산, 4-아미노나프탈렌-2,7-디설폰산, 6-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 7-아미노나프탈렌-1,3,5-트리설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 7-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 8-아미노나프탈렌-1,3,6-트리설폰산, 4-아미노나프탈렌-1,3,7-트리설폰산 등이 있다.Examples of aromatic amines include 1-aminobenzene, 1-amino-2-, 3- or 4-methylbenzene, 1-amino-2,4-, 2,5-, 3,4- or 3,5-dimethylbenzene , 1-amino-2-, 3- or 4-ethylbenzene, 1-amino-2-, 3- or 4-methoxybenzene, 1-amino-4-ethoxybenzene, 1-amino-2-, 3 Or 4-chloro-benzene, 3- or 4-amino-phenylmethane sulfonic acid, 2-, 3- or 4-aminobenzene sulfonic acid, 3-methylamino-benzenesulfonic acid, 4-methylamino benzenesulfonic acid, 4-ethylaminobenzenesulfonic acid, 5-aminobenzene-1,3-disulfonic acid, 2-aminobenzene-1,4-disulfonic acid, 4-aminobenzene-1,3-disulfonic acid, 2-, 3- or 4-aminobenzoic acid, 5-aminobenzene-1,3-dicarboxylic acid, 5-amino-2-hydroxybenzenesulfonic acid, 4-amino-2-hydroxy benzenesulfonic acid, 5-amino-2-ethoxybenzene Sulfonic acid, N-methylaminobenzene, N-ethylaminobenzene, 1-ethylamino-3- or 4-methylbenzene, 1-ethylamino-4-chlorobenzene, 1-ethylamino-3- or 4-methylbenzene , 1- (2- Idroxyethyl) amino-3-methylbenzene, 3- or 4-methylaminobenzoic acid, 3- or 4-methylaminobenzenesulfonic acid, 2-aminonaphthalene-1-sulfonic acid, 4-aminonaphthalene-1-sulfonic acid , 5-aminonaphthalene-1-sulfonic acid, 6-aminonaphthalene-1-sulfonic acid, 7-aminonaphthalene-1-sulfonic acid, 8-aminonaphthalene-1-sulfonic acid, 1-aminonaphthalene-2-sulfonic acid , 4-aminonaphthalene-2-sulfonic acid, 5-aminonaphthalene-2-sulfonic acid, 6-aminonaphthalene-2-sulfonic acid, 7-aminonaphthalene-2-sulfonic acid, 7-methylaminonaphthalene-2-sulfur Phonic acid, 7-ethylaminonaphthalene-2-sulfonic acid, 7-butylaminonaphthalene-2-sulfonic acid, 7-isobutylaminonaphthalene-2-sulfonic acid, 8-aminonaphthalene-2-sulfonic acid, 4-aminonaphthalene -1,3-disulfonic acid, 5-aminonaphthalene-1,3-disulfonic acid, 6-aminonaphthalene-1,3-disulfonic acid, 7-aminonaphthalene-1,3-disulfonic acid, 8-aminonaphthalene-1 , 3-disulfonic acid, 2-aminonaphthalene-1,5-disulfonic acid , 3-aminonaphthalene-1,5-disulfonic acid, 4-aminonaphthalene-1,5-disulfonic acid, 4-aminonaphthalene-1,6-disulfonic acid, 8-aminonaphthalene-1,6-disulfonic acid, 4 -Aminonaphthalene-1,7-disulfonic acid, 3-aminonaphthalene-2,6-disulfonic acid, 4-aminonaphthalene-2,6-disulfonic acid, 3-aminonaphthalene-2,7-disulfonic acid, 4-amino Naphthalene-2,7-disulfonic acid, 6-aminonaphthalene-1,3,6-trisulfonic acid, 7-aminonaphthalene-1,3,5-trisulfonic acid, 4-aminonaphthalene-1,3,6- Trisulfonic acid, 7-aminonaphthalene-1,3,6-trisulfonic acid, 8-aminonaphthalene-1,3,6-trisulfonic acid, 4-aminonaphthalene-1,3,7-trisulfonic acid and the like have.
지방족 아민의 에로는 메틸아민, 에틸아민, n-프로필아민, 이소-프로필아민, n-부틸아민, 이소-부틸아민, 2급-부틸아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 메틸에틸아민, 알릴아민, 2-클로로에틸아민, 2-메톡시에틸아민, 2-아미노에탄올, 2-메틸아미노에탄올, 비스-(2-하이드록시에틸)-아민, 2-아세틸아미노에틸아민, 1-아미노-2-프로판올, 3-메톡시-프로필아민, 1-아미노-3-디메틸아미노프로판, 2-아미노에탄설폰산, 아미노메탄설폰산,2-메틸아미노메탄설폰산, 3-아미노-1-프로판설폰산, 2-설페이토에틸아민, 아미노아세트산, 메틸아미노아세트산,3-아미노카프로산, 벤질아민, 2-, 3- 또는 4-클로로벤질아민, 4-메틸벤질아민, N-메틸벤질아민, 2-, 3- 또는 4-설포벤질아민, 2-페닐에틸아민, 1-페닐에틸아민, 1-페닐-2-프로필아민 등이 있다.Examples of aliphatic amines include methylamine, ethylamine, n-propylamine, iso-propylamine, n-butylamine, iso-butylamine, secondary-butylamine, dimethylamine, diethylamine, methylethylamine, allylamine , 2-chloroethylamine, 2-methoxyethylamine, 2-aminoethanol, 2-methylaminoethanol, bis- (2-hydroxyethyl) -amine, 2-acetylaminoethylamine, 1-amino-2- Propanol, 3-methoxy-propylamine, 1-amino-3-dimethylaminopropane, 2-aminoethanesulfonic acid, aminomethanesulfonic acid, 2-methylaminomethanesulfonic acid, 3-amino-1-propanesulfonic acid, 2-sulfatoethylamine, aminoacetic acid, methylaminoacetic acid, 3-aminocaproic acid, benzylamine, 2-, 3- or 4-chlorobenzylamine, 4-methylbenzylamine, N-methylbenzylamine, 2- , 3- or 4-sulfobenzylamine, 2-phenylethylamine, 1-phenylethylamine, 1-phenyl-2-propylamine and the like.
지급 알콜의 예로는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소-프로판올, n-부탄올, 이소-부탄올 등이 있다.Examples of feed alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, iso-butanol and the like.
치환된 페놀의 예로는 3-또는 4-설포페놀, 2,4-또는 3,5-디설포페놀, 2-니트로-4-설포페놀, 2-클로로-4-설포페놀 등이 있다.Examples of substituted phenols include 3- or 4-sulfophenol, 2,4- or 3,5-disulfophenol, 2-nitro-4-sulfophenol, 2-chloro-4-sulfophenol and the like.
일반식(Ⅷ)의 화합물로 예시된 이들 화합물중 특히 바람직한 화합물의 예를들면 아닐린, N-메틸아미노벤젠, N-에틸아미노벤젠, 3-아미노벤젠설폰산, 3-메틸아미노벤젠설폰산, 3-에틸아미노벤젠설폰산, 4-아미노벤젠설폰산, 4-메틸아미노벤젠설폰산, 4-에틸아미노벤젠설폰산, 모조-또는 디-에탄올아민 등이 있다.Particularly preferred of these compounds exemplified by the compounds of formula (VII) include aniline, N-methylaminobenzene, N-ethylaminobenzene, 3-aminobenzenesulfonic acid, 3-methylaminobenzenesulfonic acid, 3 -Ethylaminobenzenesulfonic acid, 4-aminobenzenesulfonic acid, 4-methylaminobenzenesulfonic acid, 4-ethylaminobenzenesulfonic acid, pseudo- or di-ethanolamine, and the like.
니트로 화합물(Ⅸ)의 예를들면 다음과 같다 :Examples of nitro compounds are as follows:
본 발명에 따르는 모노아조 화합물(Ⅰ)은 섬유-반응성이며 하이드록실 그룹을 함유하며 아미드그룹을 함유하는 물질을 염색하거나 날염하는데 유용하다. 이 물질은 비혼방 또는 혼방섬유 방적물을 포함한 섬유형태에 유리하게 존재한다.Monoazo compounds (I) according to the invention are useful for dyeing or printing materials which are fiber-reactive, contain hydroxyl groups and contain amide groups. This material is advantageously present in the form of fibers, including unblended or blended fiber spuns.
하이드록실 그룹-함유 물질은 셀룰로오즈 섬유물질, 셀룰로오즈-함유 섬유물질, 그의 재생 생성물 및 폴리비닐 알코올과 같은 천연 또는 합성 하이드록실 그룹-함유 물질이다. 셀룰로오즈 섬유 물질의 예는 목화 및 아마포, 대마, 황마 및 모시 섬유와 같은 식물성 섬유이다. 재생 셀룰로오스 섬유의 예는 비스코스스테풀 및 필라멘트 비스코스이다. 셀룰로오즈-함유 섬유 물질의 예는 셀룰로오즈/폴리에스테르, 셀룰로오즈/울, 셀룰로오즈/아크릴 등과 같은 혼방 섬유 물질이다.The hydroxyl group-containing material is a natural or synthetic hydroxyl group-containing material such as cellulose fiber material, cellulose-containing fiber material, regeneration products thereof and polyvinyl alcohol. Examples of cellulose fiber materials are vegetable fibers such as cotton and flax, hemp, jute and ramie fibers. Examples of regenerated cellulose fibers are viscose staples and filament viscose. Examples of cellulose-containing fiber materials are blended fiber materials such as cellulose / polyester, cellulose / wool, cellulose / acrylic, and the like.
아미드 그룹-함유 물질은 합성 또는 천연 폴리아미드 및 폴리우레탄이다. 특히 섬유 형태 물질의 예는 울 및 기타 동물모피, 실크, 가죽, 폴리아미드-6,6-폴리아미드-6, 폴리아미드-11 및 폴리아미드-4이다.Amide group-containing materials are synthetic or natural polyamides and polyurethanes. Examples of especially fibrous form materials are wool and other animal fur, silk, leather, polyamide-6,6-polyamide-6, polyamide-11 and polyamide-4.
염색은 상기 섬유 물질의 물리적 및 화학적 특성에 따라 종래 방법중 적당한 방법을 선택하여 수행한다.The dyeing is carried out by selecting an appropriate method from the conventional methods according to the physical and chemical properties of the fiber material.
예를들면 셀룰로오즈 섬유 물질은 본 화합물을 사용하여 흡착 염법, 냉 배취 염법을 포함한 패딩 염법 또는 날염법으로 염색할 수 있다.For example, the cellulose fiber material can be dyed using the present compound by the adsorption salt method, the padding salt method including the cold batch salt method or the printing method.
흡착 염법은 탄산나트륨, 인산나트륨, 수산화나트륨 등과 같은 산 결합제의 존재하에, 경우에 따라 황산나트륨, 염화나트륨 등과 같은 중성염을 임의로 용해 보조제, 침투제 또는 균염제와 함께 사용하여 비교적 낮은 온도에서 수행할 수 있다. 염료의 흡착을 촉진시키는데 중성염을 배취 온도가 염색을 위해 바람직한 정도에 이르렀을 때, 또는 그 전에 염료욕에 가한다. 또한 중성염을 분할하여 가할 수도 있다.The adsorption salt method can be carried out at relatively low temperatures in the presence of acid binders such as sodium carbonate, sodium phosphate, sodium hydroxide and the like, optionally using neutral salts such as sodium sulfate, sodium chloride, etc., optionally with dissolution aids, penetrants or leveling agents. Neutral salt is added to the dye bath when or before the batch temperature has reached the desired degree for dyeing to promote the adsorption of the dye. Neutral salts can also be added in portions.
패딩 염법은 주위 온도 또는 상승 온도에서 섬유 물질을 패딩시키고, 건조후에 물질을 증기 처리 또는 건조-가열하여 염료-고정시킴으로써 수행할 수 있다.The padding salt method can be carried out by padding the fibrous material at ambient or elevated temperature and dye-fixing the material after drying by steam treatment or dry-heating.
날염법은 1-상 또는 2-상 방법으로 수행할 수 있다. 1-상 날염법은 섬유 물질을 탄산수소나트륨과 같은 산 결합제를 함유하는 날염 페이스트로 날염시켜 수행하고, 100°내지 160℃의 온도에서 증기 처리한다.The printing method can be carried out by a one-phase or two-phase method. The one-phase printing method is carried out by printing the fiber material with a printing paste containing an acid binder such as sodium hydrogen carbonate and steaming at a temperature of 100 ° to 160 ° C.
2-상 날염법은 섬유 물질을 중성 또는 약산성 날염 페이스트로 날염시키고, 이물질을 전해질을 함유하는 뜨거운 알카리성욕을 통해 통과시키거나 전해질을 함유하는 알칼리성 패딩 액체로 이 물질을 과도하게 패딩시킴으로써 수행하고, 이어서 증기 처리 또는 건조-열처리한다.Two-phase printing is performed by printing the fiber material with a neutral or weakly acid printing paste, passing the foreign material through a hot alkaline bath containing the electrolyte or by excessively padding the material with an alkaline padding liquid containing the electrolyte, This is followed by steam treatment or dry-heat treatment.
날염 페이스트의 제조를 위해 페이스트 또는 나트륨 알기네이트와 같은 유화제, 전분 에테르 등을 경우에 따라 우레아 및/또는 분산제와 같은 종래의 보조제와 함께 사용할 수 있다.For the production of printing pastes, pastes or emulsifiers such as sodium alginate, starch ethers and the like may optionally be used in combination with conventional auxiliaries such as urea and / or dispersants.
본 발명의 화합물을 셀룰로즈섬유상에 고정시키는데 유용한 산결합제는 알칼리 또는 알칼리토금속, 및 무기 또는 유기산으로 이루어지는 수용성 염기성염 또는 가열 상태하에서 알칼리를 유리시킬 수 있는 화합물을 포함한다. 바람직한 것은 알칼리금속 수산화물 및 약한 또는 중간세기의 무기 또는 유기산의 알칼리금속염이다. 특히 바람직한 것은 나트륨염 및 칼륨이다. 이들의 예로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 나트륨 포르메이트, 탄산칼륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이나트륨, 인산삼나트륨, 규산나트륨, 나트륨 트리클로로 아세테이트 등이 있다.Acid binders useful for immobilizing the compounds of the present invention on cellulose fibers include water-soluble basic salts consisting of alkali or alkaline earth metals, and inorganic or organic acids, or compounds capable of liberating alkali under heated conditions. Preferred are alkali metal hydroxides and alkali metal salts of weak or medium strength inorganic or organic acids. Especially preferred are sodium salts and potassium. Examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium bicarbonate, sodium carbonate, sodium formate, potassium carbonate, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, trisodium phosphate, sodium silicate, sodium trichloro acetate and the like.
천연 또는 합성 폴리아미드 및 폴리우레탄 섬유 물질의 염색은 pH값을 조절하면서, 산 또는 약산욕중에서 흡착을 수행한 다음, 욕을 중성 또는 몇몇 경우에는 알칼리성으로 만들어 고정을 수행함으로써 수행될수 있다. 염색온도범위는 통상적으로 60 내지 120℃이다. 균염을 성취하기 위해서, 시안우르산 염화물과 3배몰의 아미노벤젠-설폰산 또는 아미노 나프탈렌 설폰산과의 축합생성물, 또는 스테아릴아민과 에틸엔옥사이드와의 부가생성물 등과 같은 통상적인 균염제를 사용할 수 있다.Staining of natural or synthetic polyamides and polyurethane fiber materials can be carried out by adjusting the pH value, carrying out the adsorption in an acid or weak acid bath and then making the bath neutral or in some cases alkaline to perform the fixation. The dyeing temperature range is usually 60 to 120 ℃. To achieve the leveling salt, conventional leveling agents such as condensation products of cyanuric acid chloride with 3-fold molar aminobenzene-sulfonic acid or amino naphthalene sulfonic acid, or addition products of stearylamine with ethylenoxide, and the like can be used.
본 발명의 모노아조 화합물(Ⅰ)은 섬유물질, 특히 셀룰로오즈 섬유물질의 염색 및 날염시 탁월한 염색능에 의해 특징화될 수 있다. 예를들어, 화합물은 일광 견뢰성, 발한-일광 견뢰성, 발한-견뢰성, 세척 견뢰성, 과산화물-세척 견뢰성, 염소 견뢰성, 염소 표백 견뢰성, 산-가수분해 견뢰성, 알칼리 견뢰성, 마모 견뢰성 및 철 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성 및 포프말린 견뢰성-일광 견뢰성이 탁월한 염색물을 제공할수 있다. 모노아조 화합물(Ⅰ)은 또한 높은 흡착율 및 고정율 뿐만아니라 우수한 빌드-업, 균염 및 세척력 및 높은 용해도를 나타낸다. 또한, 모노아조 화합물(Ⅰ)은 염색온도, 알칼리제의 종류, 사용할 무기염의 양과 염료욕과의 비율의 변화에 영향을 거의 받지 않으므로, 일정한 품질의 염색 제품은 우수한 재생력을 얻을 수 있다. 또한, 냉배치염법에서, 모노아조 화합물(Ⅰ)은 빌드-업 특성 및 알칼리제에 의한 가수분해에 대한 비민감성을 포함한 알칼리 안정도가 우수하며, 고정공정을 각각 비교적 낮은 온도 및 25℃에서수행한 두 경우 모두에서 염색제품의 염색 짙기 및 색조에서의 차이점을 발견할 수 없는 것과 같은 특성을 나타낼수 있다.The monoazo compound (I) of the present invention can be characterized by its excellent dyeing ability in dyeing and printing fibrous materials, in particular cellulose fibrous materials. For example, the compound may be of daylight fastness, sweat-fastness, sweat-fastness, wash fastness, peroxide-wash fastness, chlorine fastness, chlorine bleaching fastness, acid-hydrolysis fastness, alkali fastness It is possible to provide dyeings having excellent wear fastness and iron fastness, especially formalin fastness and popmalin fastness to daylight fastness. The monoazo compound (I) also shows high adsorption and fixation rates, as well as good build-up, leveling and washing power and high solubility. In addition, since the monoazo compound (I) is hardly affected by the change in the dyeing temperature, the type of alkali agent, the amount of the inorganic salt to be used and the ratio of the dye bath, the dyeing product of a certain quality can obtain excellent regeneration. In addition, in the cold batch salt method, the monoazo compound (I) has excellent alkali stability, including build-up characteristics and insensitivity to hydrolysis by an alkaline agent, and two fixing processes are performed at relatively low temperatures and 25 ° C, respectively. In all cases, the same characteristics can be found in which the difference in dyeing density and color tone of the dyed product cannot be found.
본 발명은 다음 실시예를 참조로 하여 더 상세하게 설명되며, 이는 단지 예시하는 것이지 제한하는 것은 아니다. 실시예에서 부 및 %는 중량기준이다.The invention is explained in more detail with reference to the following examples, which are illustrative only and not limiting. In the examples parts and percentages are by weight.
[실시예 1]Example 1
빙수(250부)중에 시안우르산 염화물(18.5부)를 분산시켜 제조한 현탁액에 2,4-디아미노 벤젠설폰산(18.8부)을 가하고, 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액으로 pH2 내지 4로 조정하면서 0 내지 5℃ 6시간동안 교반시켜 제1축합반응을 수행한다.2,4-diamino benzenesulfonic acid (18.8 parts) was added to a suspension prepared by dispersing cyanuric acid chloride (18.5 parts) in ice water (250 parts), and the mixture was adjusted to pH 2-4 with 20% aqueous solution of sodium carbonate. While stirring for 0 to 5 ℃ 6 hours to carry out the first condensation reaction.
생성된 반응 혼합물에 1-아미노벤젠-3-β-설파토에틸설폰(28.1부)을 가하고, 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액으로 pH4 내지 6의 범위내로 조정하면서 10 내지 20℃에서 7시간 동안 교반시켜 제2축합반응이 이루어지도록 한다.1-aminobenzene-3-β-sulfatoethylsulfone (28.1 parts) was added to the resulting reaction mixture, and the mixture was stirred at 10 to 20 ° C. for 7 hours while adjusting the mixture to a pH of 4 to 6 with 20% aqueous solution of sodium carbonate. To allow the second condensation reaction to occur.
계속해서, 반응 혼합물에 농염산(25.3부)을 가한다음 여기에 아질산나트륨(21.7부)의 35%수용액을 가하여 디아조화 반응이 이루어지도록 한다. 과량의 아질산이 분해되었으며면, 7-메틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(25.3부)을 가하고, 생성된 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액을 사용하여 pH1 내지 3의 범위로 조정하면서 0°내지 5℃에서밤새 교반시켜 결합반응을 수행한다. 다음에는, 반응 혼합물을 40℃로 가열하고 pH4 내지 6으로 조정한 후에 염화나트륨(20부)을 사용하여 염석시킨다. 생성된 결정을 여과지상에서 분리시켜 세척한 다음 60℃에서 건조시켜 다음 구조식(Ⅰ)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다 :Subsequently, concentrated hydrochloric acid (25.3 parts) is added to the reaction mixture, followed by 35% aqueous solution of sodium nitrite (21.7 parts) to allow diazotization reaction. If excess nitrous acid has been decomposed, 7-methylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid (25.3 parts) is added and the resulting mixture is adjusted to pH in the range of pH 1-3 with 20% aqueous solution of sodium carbonate. The coupling reaction is carried out by stirring overnight at 5 ° C. Next, the reaction mixture is heated to 40 ° C. and adjusted to pH 4-6, followed by salting with sodium chloride (20 parts). The resulting crystals were separated on a filter paper, washed and dried at 60 ° C. to obtain the monoazo compound of formula (I) in free acid form:
[실시예 2 내지 62][Examples 2 to 62]
실시예 1의 방법을 반복하여 수행하되, 단 7-메틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 다음 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물을 각각 사용하고 ; 2,4-디아미노벤젠 설폰산 대신에 제 3열에 도시된 구조식(Ⅱ)의 디아민 화합물을 각각 사용하며; 제4열에 기재된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산불화물(제4열에서 C 및 F는 각기 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다)을 사용하고 ; 1-아미노벤젠-3-β-설파토에틸설폰 대신에는 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물을 각각 사용하여 각각에 해당하는 모노아조 화합물을 수득한다. 실시예23 및 34에 사용된 구조식The method of Example 1 was repeated, except that instead of 7-methylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid, each of the naphthol compounds of formula (V) shown in column 2 of the following table was used, respectively; Instead of 2,4-diaminobenzene sulfonic acid, diamine compounds of formula (II) shown in column 3 are used, respectively; Using cyanuric acid chloride or cyanuric acid fluoride described in column 4 (C and F in column 4 respectively represent cyanuric acid chloride and cyanuric acid fluoride); Instead of 1-aminobenzene-3-β-sulfatoethylsulfone, each of the aromatic amine compounds of formula (III) shown in column 5 is used to obtain corresponding monoazo compounds. Structural formulas used in Examples 23 and 34
의 화합물은 2,4-디아미노벤젠설폰산의 아미노 그룹을 아세틸화한 다음, 계속해서 염소화하고 가수분해시켜 제조할 수 있다.Compounds of can be prepared by acetylating the amino group of 2,4-diaminobenzenesulfonic acid, followed by subsequent chlorination and hydrolysis.
[실시예 63]Example 63
물(150부)중의 아질산 나트륨(21.7부)의 35%수용액 및 2-메톡시-4-니트로아닐린-5-설폰산(24.8부)을 함유하는 용액을 0°내지 5℃의 온도로 조절하면서 빙수(300부) 및 농염산(35.5부)를 함유하는 용액에 도입시키고, 혼합물을 동일온도에서 1시간동안 교반시켜 디아조화시킨다.A solution containing 35% aqueous solution of sodium nitrite (21.7 parts) and 2-methoxy-4-nitroaniline-5-sulfonic acid (24.8 parts) in water (150 parts) was adjusted to a temperature of 0 ° to 5 ° C. It is introduced into a solution containing ice water (300 parts) and concentrated hydrochloric acid (35.5 parts), and the mixture is diazotized by stirring at the same temperature for 1 hour.
계속해서, 과량의 아질산이 분해되면, 반응 혼합물에 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부)를 가하고 혼합물은 탄산나트륨의 20%수용액을 사용하여 pH를 1 내지 3의 범위로 조절하면서 0℃ 내지 5℃에서 2시간 동안 교반시켜 결합반응이 이루어지도록 한다. 다음에는, 반응 혼합물은 pH 8 내지 10으로 조정하고 황화 나트륨(10.7부)과 혼합하여 60℃로 가열하고 동일온도에서 3시간동안 교반시켜 환원반응을 수행한다. 다음에는, 반응 혼합물을 염화 나트륨(40부)과 혼합하여 결정을 침전시킨 다음에 여과지상에서 수거하여 세척한다. 생성된 습윤 케익을 물(400부)에 용해시킨다. 용액을 시안우르산 염화물(16.7부)과 혼합하고 혼합물을 탄산나트륨의 20%수용액으로 pH 2내지 3으로 조정하면서 0°내지 10℃에서 5시간 동안 교반시켜 제1축합반응이 이루어지도록 한다. 이 반응 혼합물에 2-아미노나프탈렌-6-β-설파토에틸설폰-1-설폰산(37부)을 가하고, 혼합물은 탄산 나트륨의 20%수용액을 사용하여 pH를 4 내지 5로 조정하면서 20℃내지 30℃에서15시간 동안 교반시켜 제2의 축합반응을 수행한다. 다음에는, 반응 혼합물을 염화 나트륨(40부)과 혼합하여 결정을 침전시키고 여과지상에서 수거하여 세척한 다음60℃에서 건조시켜 다음 구조식(63)의 목적하는 모노아조 화합물을 유리산의 형태로 수득한다 :Subsequently, when excess nitrous acid is decomposed, 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid (26.7 parts) is added to the reaction mixture, and the mixture is adjusted to pH in the range of 1 to 3 using 20% aqueous solution of sodium carbonate. While controlling, the mixture is stirred for 2 hours at 0 ° C to 5 ° C. The reaction mixture is then adjusted to pH 8-10, mixed with sodium sulfide (10.7 parts), heated to 60 ° C. and stirred at the same temperature for 3 hours to effect the reduction reaction. The reaction mixture is then mixed with sodium chloride (40 parts) to precipitate crystals which are then collected on a filter paper and washed. The resulting wet cake is dissolved in water (400 parts). The solution is mixed with cyanuric acid chloride (16.7 parts) and the mixture is stirred at 0 ° to 10 ° C. for 5 hours while adjusting the pH to 2-3 with 20% aqueous solution of sodium carbonate to allow the first condensation reaction. 2-Aminonaphthalene-6-β-sulfatoethylsulfone-1-sulfonic acid (37 parts) was added to the reaction mixture, and the mixture was heated to 20 DEG C while adjusting the pH to 4-5 using a 20% aqueous solution of sodium carbonate. The second condensation reaction is carried out by stirring at 30 ° C. for 15 hours. Next, the reaction mixture was mixed with sodium chloride (40 parts) to precipitate the crystals, collected on a filter paper, washed and dried at 60 ° C. to give the desired monoazo compound of the formula (63) in the form of a free acid. :
[실시예 64 내지 86][Examples 64 to 86]
실시예 63의 방법을 반복하여 수행하되 단, 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 다음 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물을 각각 사용하고, 2-메톡시 4-니트로아닐린-5-설폰산 대신에는 제3열에 도시된 구조식(Ⅸ)의 화합물을 각각 사용하며, 제4열에 기재된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물[여기에서, Cl 및 F가 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다]을 사용하고, 2-아미노나프탈렌-6-β-설파토에틸설폰-1-설폰산 대신에 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민화합물을 사용하여, 각각에 해당하는 모노아조 목적화합물을 수득한다.The method of Example 63 was repeated, with the exception of 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid, using the naphthol compounds of formula (V) shown in the second column of the following table, respectively, and 2-methoxy Instead of 4-nitroaniline-5-sulfonic acid, the compounds of formula (VII) shown in column 3 are used, respectively, and cyanuric chloride or cyanuric fluoride described in column 4, wherein Cl and F are cyanur Acid chloride and cyanuric acid fluoride], and instead of 2-aminonaphthalene-6-β-sulfatoethylsulfone-1-sulfonic acid, using an aromatic amine compound of formula (III) shown in column 5 , To obtain the corresponding monoazo compound.
[실시예 87]Example 87
실시예 2에서 수득된, 유리산 형태의 하기 구조식의 모노아조 화합물(98.7부)을 물(500부)에 용해시키고, 생성된 용액에 3-아미노벤젠설폰산(34.6부)을 가한다.The monoazo compound of the following structural formula (98.7 parts) obtained in Example 2 in the free acid form is dissolved in water (500 parts), and 3-aminobenzenesulfonic acid (34.6 parts) is added to the resulting solution.
혼합물을 20%탄산나트륨수용액을 사용하여 pH를 4 내지 6으로 조절하면서 80°내지 85℃로 가열하고, 이 온도 및 pH에서 7시간동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 염화나트륨(45부)과 혼합하여 결정을 침전시킨다. 생성된 결정을 여과지 상에서 수거하고 세척한후 60℃에서 건조시켜 하기 구조식(87)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.The mixture is heated to 80 ° to 85 ° C. with 20% aqueous sodium carbonate solution adjusting the pH to 4-6 and stirred at this temperature and pH for 7 hours. The reaction mixture is then mixed with sodium chloride (45 parts) to precipitate crystals. The resulting crystals are collected on filter paper, washed and dried at 60 ° C. to give the monoazo compound of formula (87) in free acid form.
[실시예 88 내지 119][Examples 88 to 119]
실시예 87의 방법을 반복 수행하되, 단 실시예 2에서 수득된 모노아조 화합물 대신 하기 표에 기술된 모노아조 화합물 각각을 사용(사용된 모노아조 화합물은 하기 표의 제2열에 기술되어 있으며, 각 실시예 번호로 표시되어 있다)하고, 3-아미노-벤젠설폰산 대신 구조식(Ⅷ)의 화합물 각각을 사용하여, 상응하는 목적한 모노아조 화합물을 수득한다.The method of Example 87 was repeated but using each of the monoazo compounds described in the table below instead of the monoazo compounds obtained in Example 2 (the monoazo compounds used are described in column 2 of the table below, each run And each of the compounds of formula IV in place of 3-amino-benzenesulfonic acid to give the corresponding desired monoazo compound.
[실시예 120]Example 120
아질산 나트륨(21.7부)의 35%수용액을 온도를 0 내지 5℃로 조절하면서 빙수(300부)중의 2-아미노-5-아미노메틸나프탈렌-1-설폰산(27.4부) 및 농 염산(35.5부)의 용액에 가한다. 생성된 혼합물을 이 온도에서 1시간동안 교반하여 디아조화 반응을 수행한다. 계속해서 과량의 아질산을 분해시킨후, 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부)를 가하고, 20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 3내지 5로 조절하면서, 혼합물을 12시간 동안 0 내지 5℃에서 교반하여 결합반응을 수행함으로써 모노아조 화합물-함유 용액을 수득한다.35% aqueous solution of sodium nitrite (21.7 parts) 2-amino-5-aminomethylnaphthalene-1-sulfonic acid (27.4 parts) and concentrated hydrochloric acid (35.5 parts) in ice water (300 parts) while adjusting the temperature to 0-5 ° C Is added to the solution. The resulting mixture is stirred at this temperature for 1 hour to carry out the diazotization reaction. Subsequently, after decomposing the excess nitrous acid, 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid (26.7 parts) was added and the mixture was adjusted to pH 3 to 5 using 20% aqueous sodium carbonate solution, and the mixture was allowed to react for 12 hours. A monoazo compound-containing solution is obtained by carrying out the coupling reaction by stirring at 0-5 [deg.] C.
한편, 물(30부) 및 탄산나트륨(8.4부)을 메탄올(300부)에 가하고 여기에 시안우르산 염화물(18.5부)을 가한다. 혼합물을 0 내지 10℃에서 30분간 교반한다. 생성된 반응혼합물을 상기 모노아조 화합물-함유 용액에 가하고 혼합물을 30° 내지 40℃에서 6시간 동안 교반하는데, 이때 20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 7 내지 8로 조절한다.Meanwhile, water (30 parts) and sodium carbonate (8.4 parts) are added to methanol (300 parts), and cyanuric acid chloride (18.5 parts) is added thereto. The mixture is stirred at 0-10 ° C. for 30 minutes. The resulting reaction mixture is added to the monoazo compound-containing solution and the mixture is stirred at 30 ° to 40 ° C. for 6 hours, with the pH adjusted to 7-8 using 20% aqueous sodium carbonate solution.
상기 반응 혼합물에 1-에틸아미노벤젠-4-β-설파토에틸설폰(30.9부)을 가하고, 20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 3 내지 5로 조절하면서 반응 혼합물을 80 내지 90℃로 가열하고, 상기 온도 및 pH에서 15시간동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 40℃로 냉각시키고 염화나트륨(40부)과 혼합하여 결정을 침전시킨다. 생성된 결정을 여과지상에서 수거하고, 세척한후, 60℃에서 건조시켜 하기 구조식(120)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.1-ethylaminobenzene-4-β-sulfatoethylsulfone (30.9 parts) was added to the reaction mixture, and the reaction mixture was heated to 80 to 90 DEG C while adjusting the pH to 3-5 using 20% aqueous sodium carbonate solution. Stir at this temperature and pH for 15 hours. The reaction mixture is then cooled to 40 ° C. and mixed with sodium chloride (40 parts) to precipitate crystals. The resulting crystals are collected on filter paper, washed and dried at 60 ° C. to give the monoazo compound of formula 120 in free acid form.
[실시예 121 내지 141][Examples 121 to 141]
실시예 120의 방법을 반복 수행하되, 단 2-아미노-5-아미노메틸나프틸렌-1-설폰산 대신 하기표의 제3열에 기술된 구조식(Ⅱ)의 디아민 화합물 각각을 사용하고, 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 하기 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물 각각을 사용하며, 메탄올 대신에 하기 표의 제4열에 도시된 구조식(Ⅷ)의 화합물 각각을 사용하고, 1-에틸아미노벤젠-4-β-설파토에틸설폰 대신에 하기표의 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 각각을 사용하여, 상응하는 목적한 모노아조 화합물을 수득한다.The method of Example 120 was repeated, with the exception that 2-amino-5-aminomethylnaphthylene-1-sulfonic acid was used instead of each of the diamine compounds of formula (II) described in column 3 of the following table, and 7-ethylamino Instead of -1-naphthol-3-sulfonic acid, each of the naphthol compounds of formula (V) shown in column 2 of the table below is used, and each of the compounds of formula (VII) shown in column 4 of the table below Instead of 1-ethylaminobenzene-4-β-sulfatoethylsulfone, each of the aromatic amine compounds of formula (III) shown in column 5 of the following table is used to obtain the corresponding desired monoazo compounds.
[실시예 142]Example 142
실시예 1의 방법을 반복 수행하되, 단 7-메틸 아미노-1-나프톨-3-설폰산(25.3부) 대신 2-메틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산(33.3부)을 사용하여 목적한 하기 구조식(142)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.The method of Example 1 was repeated, except 2-methylamino-8-hydroxynaphthalene-3,6-disulfonic acid (33.3 parts) instead of 7-methyl amino-1-naphthol-3-sulfonic acid (25.3 parts). To obtain the desired monoazo compound of formula (142) in free acid form.
[실시예 143 내지 196][Examples 143 to 196]
실시예 1의 방법을 반복 수행하되, 단 7-메틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신 하기 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물 각각을 사용하고, 1,3-디아미노벤젠-4-설폰산 대신 하기 표의 제3열에 도시된 구조식(Ⅱ)의 디아민 화합물 각각을 사용하며, 제4열(여기에서 Cl 및 F는 각각 염화 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다)에 도시된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물을 사용하고, 1-아미노벤젠-3-β-설포토에틸설폰 대신에 제5열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물 각각을 사용하여 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.The method of Example 1 was repeated, with the exception that 7-methylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid was used instead of each of the naphthol compounds of formula (V) shown in column 2 of the table below and 1,3-diamino Instead of benzene-4-sulfonic acid, each of the diamine compounds of the formula (II) shown in column 3 of the table below is used, and column 4 (where Cl and F represent chloride cyanuric chloride and cyanuric acid fluoride, respectively) Using the cyanuric acid chlorides or cyanuric acid fluorides shown in Fig. 3 and using each of the aromatic amine compounds of formula (III) shown in column 5 instead of 1-aminobenzene-3-β-sulphotoethylsulfone, The desired monoazo compound is obtained.
[실시예 197]Example 197
실시예 63의 방법을 반복 수행하되, 단 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부) 대신 2-메틸아미노-8-하이드록시 나프탈렌-3,6-디설폰산(33.3부)을 사용하여 하기 구조식(197)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.The method of Example 63 was repeated, except 2-methylamino-8-hydroxy naphthalene-3,6-disulfonic acid (33.3 parts) instead of 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid (26.7 parts). To obtain the monoazo compound of formula (197) in free acid form.
[실시예 198 내지 233][Examples 198 to 233]
실시예 63의 방법을 반복 수행하되, 단 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신 하기 표의 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 나프톨 화합물 각각을 사용하고, 2-메톡시-4-니트로아닐린-5-설폰산 대신 제3열에 도시된 구조식(Ⅸ)의 니트로 화합물 각각을 사용하며, 제4열(여기에서 Cl 및 F는 각각 시안우르산 염화물 및 시안우르산 불화물을 나타낸다)에 기술된 시안우르산 염화물 또는 시안우르산 불화물을 사용하고, 2-아미노나프탈렌-6-β-설파토에틸설폰-1-설폰산 대신 제5열에 도시된 방향족 아민 화합물 각각을 사용하여, 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.The method of Example 63 was repeated, with the exception of 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid, using each of the naphthol compounds of formula (V) shown in column 2 of the table below and using 2-methoxy-4 Instead of nitroaniline-5-sulfonic acid, each of the nitro compounds of the structural formula shown in column 3 is used, and in column 4, where Cl and F represent cyanuric chloride and cyanuric acid fluoride, respectively. Using the described cyanuric acid chlorides or cyanuric acid fluorides and using each of the aromatic amine compounds shown in column 5 instead of 2-aminonaphthalene-6-β-sulfatoethylsulfone-1-sulfonic acid, the corresponding purpose Obtain a monoazo compound.
[실시예 234]Example 234
실시예 186에서 수득된 유리산 형태의 하기 구조식(186)의 모노아조 화합물(92.7부)을 물(500부)에 용해시키고, 이 용액에 3-아미노벤젠설폰산(34.6부)을 가한다.The monoazo compound (92.7 parts) of formula (186) in the form of the free acid obtained in Example 186 is dissolved in water (500 parts) and 3-aminobenzenesulfonic acid (34.6 parts) is added to this solution.
20%탄산나트륨 수용액을 사용하여 pH를 4 내지 6의 범위로 조절하면서 혼합물물 80내지 85℃로 가열시킨후, 상기한 온도 및 pH에서 7시간 동안 교반시킨다. 이어서 반응 혼합물을 염화나트륨(45부)과 혼합시켜 결정을 침전시키고, 이를 여과지상에서 수거하고, 세척하고 60℃에서 건조시켜 하기구조식(234)의 모노아조화합물을 유리산 형태로 수득한다.The mixture is heated to 80-85 ° C. while adjusting the pH to a range of 4-6 using 20% aqueous sodium carbonate solution and then stirred for 7 hours at the temperature and pH described above. The reaction mixture was then mixed with sodium chloride (45 parts) to precipitate crystals which were collected on a filter paper, washed and washed at 60 ° C. Drying affords the monoazo compound of formula (234) in free acid form.
[실시예 235 내지 274][Examples 235 to 274]
실시예 234의 방법을 반복 수행하되, 단 하기 표의 제2열에 도시된 각 모노아조 화합물(사용된 모노아조 화합물을 각 실시예 번호로 표시된다)을 실시예 186에서 수득된 모노아조 화합물 대신에 사용하고, 제3열에 도시된 각 화합물을 3-아미노-벤젠설폰산 대신에 사용하여 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.The method of Example 234 was repeated, with the exception of the monoazo compounds obtained in Example 186, with each monoazo compound shown in column 2 of the following table (the monoazo compound used is represented by each example number) Each compound shown in column 3 is used in place of 3-amino-benzenesulfonic acid to yield the corresponding desired monoazo compound.
[실시예 275]Example 275
실시예 120의 방법을 반복수행하되, 단 2-메틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산(33.3부)을 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산(26.7부) 대신에 사용하여 하기 구조식(275)의 모노아조 화합물을 유리산 형태로 수득한다.The procedure of Example 120 was repeated except that 2-methylamino-8-hydroxynaphthalene-3,6-disulfonic acid (33.3 parts) was replaced with 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid (26.7 parts). Used instead to give the monoazo compound of formula (275) in free acid form.
[실시예 276 내지 293][Examples 276 to 293]
실시예 120의 방법을 반복수행하되, 단 하기 표의 제3열 도시된 구조식(Ⅱ)의 각 디아민 화합물을 2-아미노-5-아미노메틸 니프탈렌-1-설폰산 대신에 사용되고, 제2열에 도시된 구조식(Ⅴ)의 각 나프톨 화합물을 7-에틸아미노-1-나프톨-3-설폰산 대신에 사용하며, 제4열에 도시된 구조식(Ⅷ)의 각 화합물을 메탄올 대신에 사용하고, 제15열에 도시된 구조식(Ⅲ)의 방향족 아민 화합물을 1-에틸아미노벤젠-4-β-설파토에틸설폰 대신에 사용하여 상응하는 목적 모노아조 화합물을 수득한다.The method of Example 120 was repeated except that each diamine compound of formula (II) shown in column 3 of the table below was used in place of 2-amino-5-aminomethyl niphthalene-1-sulfonic acid and shown in column 2 Each naphthol compound of formula (V) is used in place of 7-ethylamino-1-naphthol-3-sulfonic acid, and each compound of formula (VII) shown in column 4 is used in place of methanol, and The aromatic amine compound of formula III shown is used in place of 1-ethylaminobenzene-4-β-sulfatoethylsulfone to obtain the corresponding desired monoazo compound.
[염색 실시예 1]Dyeing Example 1
실시예 1 및 142에서 수득된 모노아조 화합물(1) 및 (142)(각기 0.3부)를 물(200부)에 용해시키고, 황산나트륨(20부) 및 면(10부)을 가한다. 욕을 50℃로 가열시킨 후에 탄산나트륨(4부)을 가한다. 이 온도에서 염색을 1시간동안 지속시킨다. 이어서 면을 물로 세척하고 비누질하여 진한 적색의 염색 생성물을 수득한다. 두가지 염색 제품은 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수하고, 두가지 모노아조 화합물은 우수한 빌드-업 특성을 갖는 것으로 밝혀졌다.Monoazo compounds (1) and (142) (0.3 parts each) obtained in Examples 1 and 142 were dissolved in water (200 parts), and sodium sulfate (20 parts) and cotton (10 parts) were added. The bath is heated to 50 ° C. and then sodium carbonate (4 parts) is added. Staining is continued at this temperature for 1 hour. The cotton is then washed with water and soaped to give a dark red dyeing product. Both dyeing products have been found to have good fastness, in particular formalin fastness, daylight fastness and sweat fastness, and the two monoazo compounds have been found to have good build-up properties.
[염색 실시예 2]Dyeing Example 2
실시예 63 및 197에서 수득된 모노아조 화합물(63) 및 (197)(각기 0.3부)를 물(150부)에 용해시키고, 황산나트륨(30부) 및 면(10부)을 가한다. 욕을 60℃로 가열시킨다. 20분 후에 탄산나트륨(4부)을 가한다. 이온도에서 염색을 1시간 동안 지속시킨다. 면을 물로 세척하고 비누질하여, 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 염색 제품을 수득한다.The monoazo compounds 63 and 197 (0.3 parts each) obtained in Examples 63 and 197 were dissolved in water (150 parts), and sodium sulfate (30 parts) and cotton (10 parts) were added. The bath is heated to 60 ° C. After 20 minutes sodium carbonate (4 parts) is added. Staining is continued for 1 hour at ionic degrees. The cotton is washed with water and soaped to give a dark red dyed product with good build-up properties and good fastness, in particular formalin fastness, daylight fastness and sweat fastness.
[염색 실시예 3]Dyeing Example 3
실시예 1 내지 86 및 142내지 233에서 수득한 모노아조 화합물 각각(0.3부)을 물(300부)에 용해시키고, 여기에 황산나트륨(30부) 및 면(10)을 가한다. 욕을 60℃로 가열한다. 20분후, 여기에 탄산나트륨(5부)을 가하고, 이 온도에서 염색을 1시간 동안 계속한다. 면을 물로 세척하고 비누질을 하여 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 염색 제품을 수득한다.Each of the monoazo compounds (0.3 parts) obtained in Examples 1 to 86 and 142 to 233 (0.3 parts) is dissolved in water (300 parts), to which sodium sulfate (30 parts) and cotton (10) are added. The bath is heated to 60 ° C. After 20 minutes, sodium carbonate (5 parts) is added thereto and the dyeing is continued at this temperature for 1 hour. The cotton is washed with water and soaped to give a dark red dyed product with good build-up properties and good fastness, in particular formalin fastness, daylight fastness and sweat fastness.
[염색 실시예 4]Dyeing Example 4
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서 수득한 모노아조 화합물 각각(0.3부)을 물(200부)에 용해시키고, 여기에 황산나트륨(30부) 및 면(10부)을 가한다. 욕을 50℃로 가열한다. 30분후, 여기에 인산삼나트륨(4부)을 가하고, 이 온도에서 염색을 1시간동안 계속한다. 그런후, 면을 물론 세척하고 비누질을 하여 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 염색 제품을 수득한다.Each of the monoazo compounds obtained in Examples 87 to 141 and 234 to 293 (0.3 parts) was dissolved in water (200 parts), and sodium sulfate (30 parts) and cotton (10 parts) were added thereto. The bath is heated to 50 ° C. After 30 minutes, trisodium phosphate (4 parts) is added thereto, and the dyeing is continued for 1 hour at this temperature. The cotton is then washed and soaped as well to obtain a dark red dyed product with good build-up properties and good fastness, in particular formalin fastness, daylight fastness and sweat fastness.
[염색 실시예 5]Dyeing Example 5
칼라 페이스트의 조성 부Composition part of the color paste
실시예 1 내지 86 및 142 내지 233에서In Examples 1 to 86 and 142 to 233
수득한 모노아조 화합물 각각 5Each of the obtained monoazo compounds 5
우레아 5Urea 5
나트륨 알기네이트(5%), 농조화제 50Sodium Alginate (5%), Thickening Agent 50
온수 25Hot water 25
탄산수소나트륨 2Sodium bicarbonate 2
나머지량(물) 13Remaining water (water) 13
광택가공한 넓은 면천을 상기 기술한 조성을 갖는 칼라페이스트 날염한 다음, 예비 건조시키고, 100℃에서 5분동안 증기를 쐰후, 온수로 세정하고, 비누질하고, 다시 온수로 세정한다음 건조시킨다. 이렇게하여, 높은 고종율 및 우수한 빌드-업 특성과 함께 견뢰성, 특히 포르말린 견뢰성, 일광 견뢰성 및 발한 견뢰성이 우수한 진한 적색의 날염 제품을 수득한다.The wide cotton cloth polished is printed with color paste having the composition described above, then pre-dried, steamed at 100 ° C. for 5 minutes, washed with warm water, soaped, washed again with warm water and dried. In this way, a dark red printing product is obtained which has high fastness, in particular formalin fastness, daylight fastness and sweat fastness, with high high rate and good build-up properties.
[염색 실시예 6]Dyeing Example 6
칼라 페이스트의 조성 부Composition part of the color paste
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서In Examples 87-141 and 234-293
수득한 모노아조 화합물 각각 4Each of the obtained monoazo compounds 4
우레아 5Urea 5
나트륨 알기네이트(5%), 농조화제 50Sodium Alginate (5%), Thickening Agent 50
온수 25Hot water 25
탄산수소나트륨 2Sodium bicarbonate 2
나머지량(물) 14Remaining water (water) 14
상기 조성의 칼라페이스트를 사용하여, 증기를 120℃에서 쐬는 것을 제외하고는 염색 실시예 6에 기술된 방식과 유사한 방식을 반복 수행하여, 염색 실시예 5에서와 같은 염색 제품을 수득한다.Using the color paste of the above composition, a similar procedure to that described in dyeing example 6 was repeated except that steam was drawn at 120 ° C. to obtain a dyeing product as in dyeing example 5.
[염색 실시예 7]Dyeing Example 7
실시예1 내지 86 및 142 내지 233에서 수득한 모노아조 화합물 각각(25부)을 혼수에 용해시키고, 용액을 25℃로 냉각시킨다. 여기에, 32.5%수산화나트륨 수용액(5.5부) 및 50°Be'물 유리를 가하고, 물을 가하여 20℃에서 전체 1000부로 만들어 패딩액을 수득한다. 즉시, 면천을 패딩액으로 패딩한 다음 배치하고, 천을 풀리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 20℃의 방에 방치한다. 상기 방법을 반복하여 패딩된 면 천을 수득한 다음, 폴리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 5℃의 방에 방치한다.Each of the monoazo compounds obtained in Examples 1 to 86 and 142 to 233 (25 parts) is dissolved in coma and the solution is cooled to 25 ° C. To this was added 32.5% aqueous sodium hydroxide solution (5.5 parts) and 50 ° Be 'water glass, and water was added to make 1000 parts in total at 20 ° C. to obtain a padding liquid. Immediately, the cotton cloth is padded with padding liquid and then placed, and the fabric is tightly wrapped with a pulley polyethylene film and left in a room at 20 ° C. The method is repeated to obtain a padded cotton cloth, which is then tightly wrapped with polyethylene film and left in a room at 5 ° C.
둘다를 20시간 동안 방치한 다음, 냉수 및 이어서 온수로 세척하고, 비등 세게로 비누질하고, 냉수로 세척한 다음 건조시킨다.Both are left to stand for 20 hours and then washed with cold water and then hot water, soaped hard to boil, washed with cold water and dried.
5℃ 및 20℃에서 각각 20시간 동안 정치한후 수득한 염색 제품 사이에는 칼라의 색조 및 짙기에서차이가 거의 관찰되지 않았다. 이러한 냉 배치 염법에서 각 모노아조 화합물은 우수한 빌드-업 특성을 갖는다고 밝혀졌다.Little difference in color tone and darkness was observed between the dyed products obtained after standing at 5 ° C. and 20 ° C. for 20 hours, respectively. In this cold batch salt method, each monoazo compound was found to have excellent build-up properties.
[염색 실시예 8]Dyeing Example 8
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서 수득된 모노아조 화합물을 사용하여, 염색 실시예 7을 반복한다. 그 결과, 염색 실시예 7의 결과와 유사한 결과를 수득한다.Using the monoazo compounds obtained in Examples 87-141 and 234-293, dyeing Example 7 is repeated. As a result, a result similar to that of dyeing example 7 is obtained.
[염색 실시예 9]Dyeing Example 9
실시예 1 내지 86 및 142 내지 233에서 수득된 모노아조 화합물(각 25부)을 온수에 용해하고 그 용액을 25℃로 냉각시킨다. 이 용액에 32.5%수산화나트륨 수용액(10부) 및 무수 황산나트륨(30부)를 가한다음 거기에 물을 가하여 25℃에서 1000부로 만든다. 그후 즉시, 비스코스 레이온 직물을 패딩액으로 패딩한다. 직물을 배치하고 폴리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 20℃의 방에 방치한다.The monoazo compounds (25 parts each) obtained in Examples 1 to 86 and 142 to 233 are dissolved in warm water and the solution is cooled to 25 ° C. To this solution is added 32.5% aqueous sodium hydroxide solution (10 parts) and anhydrous sodium sulfate (30 parts), followed by adding water to make 1000 parts at 25 ° C. Immediately thereafter, the viscose rayon fabric is padded with padding liquid. The fabric is placed and tightly wrapped with polyethylene film and left in a room at 20 ° C.
상기 방법을 반복하여 패딩 직물을 수득하고, 배치한후 폴리에틸렌 필름으로 단단히 감싸 5℃의 방에 방치한다.The method is repeated to obtain a padded fabric, placed and placed in a room at 5 ° C. tightly wrapped with polyethylene film.
둘다 20시간 동안 방치하고, 냉수로 세척한 다음 온수로, 세척하고, 비등 세제로 비누질한후, 냉수로 세척하고 건조시켜 각각의 염색된 제품을 수득한다. 각각 5℃ 및 20℃에서 20시간 동안 방치한후 수득된 염료제품 사이에는 칼라의 색조 및 짙기의 차이가 거의 관찰되지 않았다.Both are left for 20 hours, washed with cold water and then with hot water, washed with soap, soaped, then washed with cold water and dried to obtain the respective dyed product. Little difference in color tone and color was observed between the dye products obtained after standing at 5 ° C. and 20 ° C. for 20 hours, respectively.
[염색 실시예 10]Dyeing Example 10
실시예 87 내지 141 및 234 내지 293에서 수득된 모노아조 화합물을 사용하여, 염색 실시예 9의 방법과 유사한 방법으로 수행하여 상기 실시예의 결과와 유사한 결과를 수득한다.Using the monoazo compounds obtained in Examples 87 to 141 and 234 to 293, the same procedure as in the dyeing example 9 was carried out to give results similar to those of the above examples.
[염색 실시예 11]Dyeing Example 11
염색 실시예 3을 반복하되, 단 탄산나트륨의 양을 5부 대신 3부로 사용하여, 염색 실시예 3의 결과와 유사한 결과를 수득한다.Dyeing Example 3 was repeated with the exception that the amount of sodium carbonate was used in 3 parts instead of 5 parts to obtain results similar to those of dyeing example 3.
[염색 실시예 12]Dyeing Example 12
염색 실시예 3을 반복하여, 단 50℃ 대신에 60℃ 및 70℃에서 염색을 계속하여, 염색 실시예 3의 결과와 유사한 결과를 수득한다.Dyeing Example 3 is repeated and dyeing is continued at 60 ° C. and 70 ° C. instead of only 50 ° C., to give results similar to those of Dyeing Example 3.
[염색 실시예 13]Dyeing Example 13
염색 실시예 3을 반복하되, 단 황산 나트륨의 양을 30부 대신에 15부를 사용하여, 염색 실시예 3의 결과와 유사한 결과를 수득한다.Repeating Dyeing Example 3, except that the amount of sodium sulfate is used in 15 parts instead of 30 parts, to obtain a result similar to that of Dyeing Example 3.
[염색 실시예 14]Dyeing Example 14
염색 실시예 4를 반복하되, 단 물 및 황산 나트륨을 각각, 200부 및 30부 대신에 150부 및 23부를 사용하여 염색 실시예 4의 결과와 유사한 결과를 수득한다.Repeating Dyeing Example 4, using water and sodium sulfate, 150 parts and 23 parts instead of 200 parts and 30 parts, respectively, to obtain a result similar to that of Dyeing Example 4.
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