KR920005095B1 - 초전도 재료의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

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Description

초전도 재료의 제조방법
제1도는 종래 초전도 선재의 제조공정도.
제2도는 종래 초전도 선재 제조에 있어 인발 공정장치의 단면도.
제3도는 종래 초정도 박막 제조방법인 Sputtering 장치의 개략도.
제4도는 제3도에서 Target 제조공정도.
제5도는 본 발명에 의한 초전도 재료(선재, 박막 등)의 제조를 위한 장치의 개략도.
제6도는 제5도에서 선재 제조시의 안내로울러의 단면도.
제7도는 제5도에서 박막 제조시의 안내로울러의 단면도.
제8도는 EDX 분석결과도로서, (a) YBa3Cu2Oy 분말의 형성 후, (b) YBa2Cu3Oy, (c) YBa3Cu2Oy 분말.
본 발명은 초전도 재료(특히 선재, 박막)의 제조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 부자재 사용이 거의 없이 연속적인 생산이 가능한 초전도 재료를 제조하는 방법에 관한 것이다.
종래 초전도 재료를 제조하는 선재의 경우를 보면 제1도에 도시한 바와같이 초전도 물질인 산화아듐(Y2O3), 탄삼바륨(BaCO3), 산화동(CuO)을 볼밀(Ball Mill)에서 혼합하거나, 건식혼합을 12-48시간 행하고 이를 800-1000℃ 온도가 유지되는 분위기에서 하소(Calcination)와 소결(Sintering)을 1-3회 반복하여 행한다. 소결이 끝난 분말들을 다시 볼밀에서 미세하게 분쇄하여 일반용 분말을 만든다음 이를 제2도와 같이 인발용 분말(1)을 동(Cu)이나 은(Ag) 등의 파이프(2)내에 봉입하고 인발용 초경다이(3)를 통과시켜 직경(단면적)을 줄여나감으로서 초전도 선재(4)를 얻게 된다. 또한 초전도 박막을 제조하는 방법으로는 스퍼터링(Sputtering), MBE, 증착법(CVD), E-Beam 등의 장치를 이용하여 제조하는 방법이 있다.
그 일예로서 제3도에 도시한 바와같이 스퍼터링(Sputtering) 장치를 이용하는 방법으로서 Y-계 초전도 박막을 제조함에 있어서는 먼저 공침이나 고상반응법에 의해 타아겟트(Target)를 제작하는데 이런 타아겟트 제작은 상기에서 언급한바 있는 초전도 선재의 경우와 같은 초전도물질과 그 공정순서를 동일하게 적용하면서 타아겟트를 제작한다.
스퍼터링은 제3도와 같이 가스도입부(5)와 가스배기구(6)가 있는 아르곤(Ar) 가스 분위기의 챔버(7)내에 양극(Anode)(10)에 설치된 기판(8)과 위에서 제작한 타아겟트(9)를 설치하고 기판(8)에 (+) 전원을, 타아겟트(9)에 (-) 전원을 가하면 아르곤 이온(Ar+)이 타아겟트(9)에 충돌하게 되고 이에따라 타아겟트(9) 물질이온이 나와서 기판(8)에 부착되어 박막을 제조하게 된다.
도면부호중 설명되지 않은 11은 프라즈마이고, 24는 Power(D. C 고전압 또는 라디오파 전압)이다. 상기와 같은 종래의 초전도 재료의 제조방법에는 다음과 같은 문제점이 있다.
즉, 초전도 선재의 제조방법에서는 최종 공정인 인발공정을 수차에 걸쳐 반복하면서 그 직경을 얻게 되는바 이렇게 얻은 파이프에서는 응력발생에 의해 초전도성이 변할 염려가 있어 이를 800-900℃ 온도에서 장시간 열처리를 행하여야 하는 문제점이 있고, 또한 그와같은 방법으로 제조된 선재는 원래 소결하여 만든 초전도체보다 전기저항이 영(Zero)으로 되는 온도 Tc가 떨어진다. 즉, YBa2Cu3Oy의 경우 소결했을 때 Tc가 94K 정도이나 인발과 열처리를 거친 선재의 경우 Tc가 80K 정도로 저하된다.
또한, 전류밀도가 Jc가 수 102A/㎠ 정도로 낮다. 뿐만아니라 그 공정이 매우 복잡하고 장치와 부자재등이 많아서 원가상승을 초래하는 문제점이 있다. 또한 종래의 초전도 박막을 제조하는 경우에 있어서는 별도의 타아겟트를 제작하여야 됨은 물론 그 성형이 어려우며, 열처리 과정에서 분위기 가스의 분압조절과 분위기의 지속 시간 및 온도 선택의 어려움이 있고, 타아겟트 물질에 대한 조성비를 선택하는데 어려움이 있고, 그 전체 공정의 흐름이 복잡하고 필요한 장치와 부자재등이 많아서 원가상승을 초래케 되며, 특히 연속적인 대면적의 제조에 어려움이 있다. 따라서 본 발명은 이러한 제반 문제점을 해소하는데 그 목적이 있다.
이하 본 발명의 기술내용을 구체적으로 설명키로 한다.
제5도는 본 발명인 초전도 재료를 제조키 위한 장치이다. 도면에서 탱크(21) 내부에는 전착액(22)이 채워져 있고 소재(동선 또는 동판)(19)는 탱크(21)내에 있는 다수의 안내로울러(12) (13) (14) (15)에 의해 탱크(21)내를 연속 주행하면서 소재(19)에 전원(16)이 가해진다. 전극(17) (18) 중 전극(17)은 탱크(21)에 연결되어 있고, 전극(18)은 전착액(22)내에 잠겨 있다.
소재(19)는 현재 시판중인 동선 또는 동판으로서 구동되는 안내로울러(12) (13) (14) (15)의 회전에 따라 탱크내를 주행하면서 초전도 물질(23)이 전착된 후 탱크 밖으로 인출하게 된다. 전착액은 초전도 물질(Ln-R-Cu-O-X계)이나 소결체(초전도 물질을 열처리에 의해 소결화시킨 것)와 HNO3, H2O로 채워져 있다.
이때 초전도 물질이나 소결체와 HNO3사이에 초전도 물질이나 소결체 +HNO3→(초전도 물질이나 소결체)(NO2)X+B2O와 같은 반응이 일어난다.
상기에서 초전도 물질이라 함은, Ln : Sc, Y를 포함한 란탄계열의 전물질, R : Ca, Ba, Sr, K, X : F, Cl으로 조성된 원료분말로 된 것을 말한다.
소재(19)와 전찬액(22)내의 전극(17) (18)에 전원(16)을 가하면서 전착액은 용해되어 있던 초전도 물질과 질산기(NO3 -1)로 분해되어 초전도 물질은 소재(19)에 붙게 되어 초전도 물질층(23)이 형성된 재료(20)를 얻게 된다(전착은 전착물질 용액중에 양극 또는 음극으로 침적한 기재와 그 대극 사이에 직류 전류를 통하면 전기분해, 전기영동, 전기석출, 전기침투와 같은 현상이 동시에 일어나면서 기재 표면에 전기적으로 물질이 전착되게 하는 방법이다).
소재(19)는 안내로울러(12) (13) (14) (15)의 주행속도에 따라 전착시간이 조정되므로 물질층의 두께를 조절할 수 있다.
본 발명에 의하여 제조된 초전도 재료는 전기저항이 영이되는 온도 Tc가 80-90K이고, 전류밀도 103A/㎠까지로서 종래의 효과보다 높게 나타났으며, 초전도 박막은 Y-계의 경우 YBa2Cu3Oy의 특성과 거의 대응하였다.
이와같은 전착방법으로 제조한 재료의 EDX 분석 결과를 보면 제8도에서 (a)는 전착액에 용해되기전 열처리가 끝난 분말의 상승점(peak)이며, (b)는 전착방법으로 제조된 초전도 재료의 상승점(peak)로서, (c)의 YBa2Cu3Oy 상승점(peak)와 매우 잘 일치한다.
이상에서와 같이 본 발명은 제조공정이 매우 간단하고 부자재 사용량이 거의 없으며 설비의 간단화와 연속적인 생산으로서 원가절감에 따른 매우 양호한 초전도 재료를 얻을 수 있다.

Claims (7)

  1. 소재(19)를 초전도 물질, HNO3, H2O로 된 전착액을 통과하도록 주행시키면서 이에 전극을 가하여 소재(19)에 초전도 물질이 전착되도록 함을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 소재가 선재(線材)임을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 소재가 박막(薄膜)임을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 초전도 물질의 조성물이 In-R-Cu-O-X계, Ln : Sc, Y를 포함한 란탄계열의 전물질, R : Ca, Sr, Br, K, X : F, Cl로 됨을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
  5. 제1항, 제2항, 제3항중 어느 한항에 있어서, 소재가 동(Cu)임을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
  6. 제1항, 제2항, 제3항중 어느 한항에 있어서, 소재가 은(Ag)임을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
  7. 제1항, 제2항, 제3항중 어느 한항에 있어서, 소재가 백금(Pt)임을 특징으로 하는 초전도 재료의 제조방법.
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