KR900003286A - 에폭시수지, 2작용성 페놀 및 다작용성 페놀을 함유하는 경화성 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

에폭시수지, 2작용성 페놀 및 다작용성 페놀을 함유하는 경화성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. (A) 분자당 에폭사이드 그룹의 수가 평균 2이상인 하나 이상의 방향족계 에폭시 수지 ; (B) (1)분자당 페놀성 하이드록실 그룹의 수가 평균 2이하인 하나 이상의 페놀성 하이드록실-함유 화합물과 (2)분자당 페놀성 하이드록실 그룹의 수가 평균 2이상인 하나 이상의 페놀성 하이드록실-함유 화합물의 혼합물로 필수적으로 이루어진 페놀성 하이드록실-함유 성분 ; (C) 성분 (A) 및 (B)에 대한 유일한 용매로서 하나 이상의 케톤 용매 ; 및 (D) 하나 이상의 안정화제를 포함하고, 성분 (A) 및 (B)는 각각의 에폭시 그룹에 대한 페놀성 하이드록실 그룹의 비를 0.75:1 내지 1.5:1로 제공하는 양으로 존재하고 ; 성분(B-1)은 성분(A)에 함유된 에폭사이드 그룹당 페놀성 하이드록실 그룹의 비를 0.1:1 내지 0.65:1로 제공하는 양으로 존재하며 ; 성분(C)는 성분 (A),(B),(C)의 혼합중량을 기준으로 하여 0 내지 75중량%의 양으로 존재하고 ; 성분(D)는 성분(A)의 중량을 기준으로 하여 0 내지 1중량%의 양으로 존재하는 조성물.
  2. 제1항에 있어서, (a) 성분(A)가 하기 일반식(I) 또는 (Ⅱ)의 에폭시 수지 이거나 또는 이러한 에폭시 수지들의 배합물이고 ; (b) 성분(B-1)이 하기 일반식(Ⅲ) 또는 (Ⅳ)의 페놀성 하이드록실-함유 화합물이거나 또는 이러한 페놀성 하이ㄷ록실-함유 화합물들의 배합물이며 ; (C) 성분(B-2)가 하기 일반식(V) 또는 (Ⅵ)의 페놀성 하이드록실-함유 화합물 이거나 또는 이러한 페놀성 하이드록실-함유 화합물들의 배합물이고 ; (d) 성분(D)가 유기산, 무기산 및 유기산과 무기산의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
    상기 식에서, A'는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 2가 하이드로카빌 그룹이고 ; R은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬 그룹이며 ; R'는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 하이드로카빌 그룹이고 ; X는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬 또는 알콕시 그룹 또는 할로겐이며 ; m은 0.1 내지 7이고 ; m'는 0 내지 3이며 ; A는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 할로겐 치환된 2가 하이드로카빌 그룹 또는 2가 하이드로카빌그룹, -O-, -S-, -S-S-, -SO-, -SO2-, 또는 -CO-이고 ; n은 0 또는 1이다.
  3. 제1항에 있어서, (a) 성분(A) 가 페놀-포름알데히드 노볼락 에폭시 수지의 폴리글리시딜 에테르이고 ; (b) 성분(B-1)이 비스페놀 A 또는 테트라브로모비스페놀 A이며 ; (c) 성분(B-2)가 페놀-포름알데히드 노볼락 수지이고 ; (d) 성분(C)가 아세톤이며 ; (e) 성분(D)가 p-톨루엔 술폰산, 벤젠 술폰산 또는 메틸 p-톨루엔 술폰산염인 조성물.
  4. 제1항의 조성물과 (E) 성분(A)와 (B)의 반응을 수행하기 위한 하나 이상의 촉매(여기서, 성분(E)는 제1항의 조성물중의 성분(A) 및 (B)의 혼합 중량의 100중량부당 0.00005 내지 0.01몰의 촉매량으로 존재한다)를 포함함을 특징으로 하는 경화성 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 성분(E)가 포스포늄 화합물, 암모늄 화합물, 이미다졸 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹중에서 선택되는 경화성 조성물.
  6. 제5항에 있어서, (a) 성분(A)가 페놀-포름알데히드 노볼락 에폭시 수지의 폴리글리시딜 에테르이고 ; (b) 성분(B-1)이 비스페놀 A 또는 테트라브로모 비스페놀 A이며 ; (c) 성분(B-2)가 페놀-포름알데히드 노볼락 수지이고 ; (d) 성분(C)가 아세톤이며 ; (e) 성분(D)가 p-톨루엔 술폰산, 벤젠 술폰산, 메틸 p-톨루엔 술폰산염 또는 이들의 배합물이고 ; (f) 성분(E)가 4급 포스포늄 할라이드, 4급 포스포늄 아세테이트, 아세트산 착화합물, 2-메틸이미다졸, 몰비가 각각 1:0.9 내지 1 : 1.25인 4급 포스포늄 아세테이트 아세트산 착화합물과 플루오보론산과의 반응생성물 또는 이들의 배합물인 경화성 조성물.
  7. 제1항의 조성물을 포함함을 특징으로 하는 적층바니쉬.
  8. 제7항의 적층 바니쉬로 함침된 기질.
  9. 하나 이상의 제8하의 기질의 플라이를 경화시킴으로써 생성된 적층물.
  10. (A) (1)분자당 페놀성 하이드록실 그룹이 평균 1이상 2이하인 하나 이상의 페놀성 하이드록실-함유 화합물 7 내지 81당량%와 (2)분자당 페놀성 하이드록실 그룹이 평균 2이상인 하나 이상의 페놀성 하이드록실-함유 화합물 93 내지 19당량%의 혼합물로 필수적으로 이루어진 페놀성 하이드록실-함유 성분 ; (B) 촉매용 소량의 용매를 제외한 조성물중의 유일한 용매로서 성분(A)에 대한 하나 이상의 케톤 용매(여기에서, 성분(B)는 경화제 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 5 내지 75중량%의 양으로 존재한다)의 혼합물을 포함하는 에폭시 수지용 경화제 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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