KR20220027243A - 기록 매체, 분리 부재를 갖는 기록 매체, 가식 시트, 분리 부재를 갖는 가식 시트, 가식품, 가식품의 제조 방법, 및 기록 매체와 전사 시트의 조합 - Google Patents

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decorative
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요시마사 고바야시
히로토 마츠이
신야 요다
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다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

참신한 의장성을 갖는 인화물이나 가식 시트 등을 제조할 수 있는 기록 매체나, 분리 부재를 갖는 기록 매체를 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있는 가식 시트나, 가식품의 제조 방법을 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제공하는 것. 화상 형성에 이용되는 기록 매체(100)로서, 지지체(1)와, 상기 지지체(1) 상에 마련된 화상 형성용층(10)을 갖고, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 기록 매체의 광택도가 60 이하이다.

Description

기록 매체, 분리 부재를 갖는 기록 매체, 가식 시트, 분리 부재를 갖는 가식 시트, 가식품, 가식품의 제조 방법, 및 기록 매체와 전사 시트의 조합
본 개시는 기록 매체, 분리 부재를 갖는 기록 매체, 가식 시트, 분리 부재를 갖는 가식 시트, 가식품, 가식품의 제조 방법 및 기록 매체와 전사 시트의 조합에 관한 것이다.
인화물의 제조 방법으로서, 기록 매체의 화상 형성용층에 화상을 형성하는 방법이 알려져 있다. 이 화상 형성용층에는, 각종 화상 형성 방식으로 화상을 형성할 수 있다. 화상 형성 방식으로서는, 승화형 열전사 방식, 용융형 열전사 방식, 잉크젯 인쇄 방식 및 토너 인쇄 방식 등이 알려져 있다.
근사, 기록 매체를 이용하여 제조된 인화물을 가식 시트로 하고, 이 가식 시트를 가식 대상물인 물품의 장식에 이용하는 시도가 되어 있다. 가식 시트를 이용한 물품의 장식 방법으로서는, 인몰드 성형 및 인서트 성형 등이 알려져 있다. 특허문헌 1에는, 수지 시트 상에, 잉크젯 잉크 조성물의 경화 화상층을 마련한 가식 시트 및 이 가식 시트를 사용한 가식품의 제조 방법이 제안되어 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2013-43935호 공보
본 개시는 참신한 의장성을 갖는 물품을 제조할 수 있는 기록 매체를 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 물품을 제조할 수 있는 분리 부재를 갖는 기록 매체를 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있는 가식 시트를 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있는 분리 부재를 갖는 가식 시트를 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있는 가식품의 제조 방법을 제공하는 것, 참신한 의장성을 갖는 물품을 제조할 수 있는 기록 매체와 전사 시트의 조합을 제공하는 것 및 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제공하는 것을 주된 과제로 한다.
본 개시의 일실시형태의 기록 매체는, 화상 형성에 이용되는 기록 매체로서, 지지체 및 상기 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖고, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 기록 매체의 광택도가 60 이하이다.
본 개시의 일실시형태의 분리 부재를 갖는 기록 매체는, 본 개시의 기록 매체의 지지체측에, 상기 기록 매체로부터 분리할 수 있는 분리 부재가 마련되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식 시트는, 지지체 및 상기 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖고, 상기 가식 시트 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 가식 시트의 광택도가 60 이하이다.
본 개시의 일실시형태의 분리 부재를 갖는 가식 시트는, 본 개시의 가식 시트의 지지체측에, 상기 가식 시트로부터 분리할 수 있는 분리 부재가 마련되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식품은, 본 개시의 가식 시트와 가식 대상물이 일체화되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 상기 화상 형성 공정 후에, 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 상기 화상 형성 공정 후에, 상기 분리 부재를 분리하는 분리 공정과, 상기 분리 공정 후에, 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 상기 화상 형성 공정 후에, 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과, 상기 일체화 공정 후에, 상기 분리 부재를 분리하는 분리 공정을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 가식 시트와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과, 상기 일체화 공정 후, 상기 가식 시트의 상기 가식 대상물과는 반대측의 면에, 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정을 포함하고, 상기 가식 시트가 지지체 및 화상층을 갖고, 상기 기능층 형성 공정이, 상기 가식 시트와 상기 기능층의 적층체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 적층체의 광택도가 60 이하가 되도록, 기능층을 형성하는 공정이다.
본 개시의 일실시형태의 기록 매체와 전사 시트의 조합은, 상기 기록 매체가 지지체 및 화상층을 갖고, 상기 전사 시트가 기재 및 상기 기재로부터 박리할 수 있는 전사층을 갖고, 상기 기록 매체 상에, 상기 전사 시트의 상기 전사층을 전사함으로써, 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 광택도가 60 이하인 전사물이 얻어진다.
본 개시의 기록 매체 및 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체는, 참신한 의장성을 갖는 인화물, 또는 참신한 의장성을 갖는 가식 시트 등을 제조할 수 있다. 본 개시의 가식 시트, 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트, 본 개시의 가식품의 제조 방법 및 본 개시의 기록 매체와 전사 시트의 조합은, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있다. 본 개시의 가식품은, 의장성이 참신하다.
도 1은 본 개시의 기록 매체의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 개시의 기록 매체의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 본 개시의 기록 매체의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 6은 본 개시의 가식 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 7은 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 8의 도 8A는 본 개시의 가식 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이고, 도 8B는 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 9의 도 9A는 본 개시의 가식 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이고, 도 9B는 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 10은 본 개시의 실시형태에 따른 가식품의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 11은 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 12는 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 13은 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 14는 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 15는 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 16은 전사 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
이하, 본 개시의 실시형태는 도면 등을 참조하면서 설명한다. 또한, 본 개시는 많은 다른 양태로 실시할 수 있고, 이하에 예시하는 실시형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것이 아니다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위해, 실제의 양태에 비해서, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대해 모식적으로 표시되는 경우가 있지만, 어디까지나 일례로서, 본 개시의 해석을 한정하는 것이 아니다. 또한, 본원 명세서와 각 도면에 있어서, 기출 도면에 관해서 전술한 것과 동일한 요소에는, 동일한 부호를 붙이고, 상세한 설명을 적절하게 생략하는 경우가 있다. 또한, 설명의 편의상, 상 또는 하 등이라고 하는 어구를 이용하여 설명하는데, 상하 방향이 역전하여도 좋다. 좌우 방향에 대해서도 동일하다.
<<기록 매체>>
본 개시의 실시형태에 따른 기록 매체(이하, 본 개시의 기록 매체라고 함)에 대해서, 도면을 참조하여 설명한다.
본 개시의 기록 매체(100)는, 지지체(1)와, 지지체(1) 상에 마련된 화상 형성용층(10)을 갖는다(도 1∼도 3 참조). 본 개시에 있어서의 지지체(1)는, 기록 매체(100)를 구성하는 구성 부재 중, 화상 형성용층(10) 이외의 모든 구성을 의미한다.
본 개시의 기록 매체(100)는, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하이다. 본 개시의 기록 매체(100)는, 투명감 및 매트감을 갖는다. 본 개시의 기록 매체(100)는, 투명성을 갖고, 또한 광택감이 억제된 기록 매체(100)로 할 수 있다. 본 개시의 기록 매체(100)는, 화상 형성용층(10)에 화상을 형성함으로써, 인화물 및 가식 시트를 제조할 수 있다. 제조된 인화물은 참신한 의장성을 갖는다. 제조된 가식 시트는, 가식 대상물을 장식할 수 있고, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있다. 이하, 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 기록 매체(100)의 광택도를 기록 매체의 광택도라고 약기한다.
본 개시에 있어서의 투명성은, 무색 투명뿐만 아니라, 반투명, 유색 투명을 포함한다.
본 개시에 있어서의 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율은, 상기 기록 매체(100)를 구성하는 전체 구성 부재의 적층체의 가시광 영역의 광선 투과율을 의미한다. 가시광 영역의 광선 투과율은, 분광 광도계(UV-3100PC (주)시마즈 제작소)에, 적분구 부속 장치 ISR-3100(시마즈 제작소 제조)를 부착한 장치에 의해 측정한 것이다. 구체적으로는, 이 장치의 시료 광다발측에 측정 대상인 기록 매체를 설치하고, 대조 광다발측에 블랭크로서 두께 16 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 설치하고, 가시광 영역인 380 ㎚ 내지 780 ㎚의 광선 투과율을 측정한 것이다. 본 개시에 있어서의 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이란, 가시광 영역의 광선 투과율이 모두 10% 이상이다는 것을 의미한다.
본 개시에 있어서의 기록 매체(100)의 광택도는, Haze Meter(VG7000 니폰덴쇼쿠 공업(주))를 이용하여, JIS-K-7105에 준거한 방법에 따라 입사 각도 45°에서 측정되는 기록 매체(100)의 광택도를 의미한다.
기록 매체(100)의 광택도의 측정은, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에서 행하여도 좋고, 지지체(1)측에서 행하여도 좋다. 본 개시에 있어서의 기록 매체(100)의 광택도가 60 이하란, 화상 형성용층(10)측 및 지지체(1)측 중 어느 한쪽 측에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하이다는 것을 의미한다.
본 개시의 기록 매체(100)는, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하가 되는 부분을 가지면 좋다.
본 개시의 기록 매체(100)는, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 미만이 되는 부분을 포함하여도 좋다.
본 개시의 기록 매체(100)는, 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 기록 매체(100)의 광택도가 60 보다 큰 부분을 포함하여도 좋다.
본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 기록 매체(100)의 광택도가 60 이하가 되는 부분이, 유효 영역의 50% 이상이다. 유효 영역이란, 본 개시의 기록 매체(100)로 제조되는 인화물이나 가식 시트를 평면에서 보았을 때의 크기이다.
이하, 본 개시의 기록 매체(100)의 각 구성에 대해서 일례를 들어 설명한다. 본 개시의 기록 매체(100)는, 이하에 설명하는 형태에 한정되지 않는다.
본 개시의 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율은, 10% 이상 80% 이하가 바람직하다. 이 형태의 기록 매체(100)는, 기록 매체(100) 전체가보다 참신한 투명감을 갖는다.
(화상 형성용층)
본 개시의 기록 매체(100)는, 지지체(1) 및 지지체(1) 상에 마련된 화상 형성용층(10)을 갖는다.
화상 형성용층(10)에는 각종 화상 형성 방식으로 화상을 형성할 수 있다. 화상 형성용층(10)은, 미리 소정의 화상을 가져도 좋다. 화상 형성용층(10)의 종류나, 화상 형성용층(10)의 성분에 한정은 없고, 화상 형성용층(10)에 형성되는 화상에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 화상 형성용층(10)이 함유하는 성분은, 1종이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다.
화상 형성용층(10) 자체의 가시광 영역의 광선 투과율에 한정은 없고, 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있으면 좋다. 일례로서의 화상 형성용층(10)은, 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 투명성을 갖는다.
프린터 등을 이용하여 행해지는 대표적인 화상 형성 방법으로서는, 승화형 열전사 방식, 용융형 열전사 방식, 잉크젯 인쇄 방식, 토너 인쇄 방식(레이저 인쇄 방식) 등을 예시할 수 있다.
승화형 열전사 방식은, 승화성 염료를 함유하는 색재층이 마련된 열전사 시트를 이용하며, 상기 열전사 시트에 화상 정보에 따른 열에너지를 인가하여, 색재층이 함유하고 있는 승화성 염료를 화상 형성용층(10)에 이행시켜 화상을 형성하는 화상 형성 방식이다.
용융형 열전사 방식은, 용융 잉크를 포함하는 색재층이 마련된 열전사 시트를 이용하며, 상기 열전사 시트에 화상 정보에 따른 열에너지를 인가하여, 열에너지의 인가에 의해 용융 또는 연화된 색재층을, 화상 형성용층(10)에 층마다 전사하여 화상을 형성하는 화상 형성 방식이다.
잉크젯 인쇄 방식은, 피에조 구동으로 발생시킨 압력파로, 잉크젯용의 잉크를 노즐로부터 분출하거나, 또는 가열에 의해 관 내의 잉크에 기포를 발생시켜 잉크를 분사하는 등에 의해, 이 잉크를 화상 형성용층(10)에 부착시켜 화상을 형성하는 화상 형성 방식이다. 토너 인쇄 방식은, 레이저 등의 열에 의해 토너를 정전 전사 방식으로 화상 형성용층(10)에 정착(융착)시키는 화상 형성 방식이다.
오프셋 방식, 그라비어 인쇄 방식, 플렉소 인쇄 방식, 스크린 인쇄 방식 등으로 화상을 형성하여도 좋다. 이외의 인쇄 방식으로, 화상을 형성하여도 좋다.
일례로서의 화상 형성용층(10)은, 승화성 염료를 수용 가능한 성분을 함유하고 있다. 이 형태의 화상 형성용층(10)은, 승화형 열전사 방식으로, 선명, 또한 농도가 높은 화상을 형성할 수 있다.
승화성 염료를 수용 가능한 성분으로서는, 아크릴 수지, 아크릴-스티렌 공중합체, 폴리올레핀, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리초산비닐, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 에틸렌-초산비닐 공중합체, 폴리아크릴산에스테르, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 에틸렌, 올레핀과 다른 비닐폴리머의 공중합체, 아이오노머, 셀룰로오스 수지, 폴리카보네이트, 에폭시 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알코올 및 젤라틴 등을 예시할 수 있다. 폴리올레핀으로서는, 폴리프로필렌 등을 예시할 수 있다. 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 예시할 수 있다.
바람직한 형태의 화상 형성용층(10)은, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 아크릴-스티렌 공중합체, 폴리에스테르 및 에폭시 수지 중 적어도 하나를 함유하고 있다. 그 중에서도, 염화비닐-초산비닐 공중합체를 함유하는 화상 형성용층(10)은, 승화형 열전사 방식으로, 보다 농도가 높은 화상을 형성할 수 있다는 점에서 바람직하다.
화상 형성용층(10)의 두께에 한정은 없고, 화상 형성 방법 등에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 열 전사 방식으로 화상을 형성할 수 있는 화상 형성용층(10)의 두께는, 0.1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 바람직하다. 잉크젯 인쇄 방식으로 화상을 형성할 수 있는 화상 형성용층(10)의 두께는, 0.1 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 3 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 또한, 토너 인쇄 방식으로 화상을 형성할 수 있는 화상 형성용층(10)의 두께는, 0.01 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.05 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하가 보다 바람직하다.
화상 형성용층(10)의 형성 방법에 한정은 없고, 지지체(1) 상에 화상 형성용층(10)이 되는 필름 등을 접합하여 형성하여도 좋고, 화상 형성용층용 도공액을 도포, 건조하여 형성하여도 좋다.
(지지체)
본 개시의 기록 매체(100)는, 지지체(1)를 갖는다(도 1∼도 3 참조). 지지체(1)는, 단층 구조여도 좋고(도 1 참조), 적층 구조여도 좋다(도 2, 도 3 참조). 도 2에 나타내는 형태의 지지체(1)는, 층(1A), 프라이머층(3)이 적층된 적층 구조이다. 도 3A에 나타내는 형태의 지지체(1)는, 층(1A), 층(1B), 프라이머층(3)이 이 순서로 적층된 적층 구조이다. 도 3B에 나타내는 형태의 지지체(1)는, 층(1A), 프라이머층(3), 층(1B), 프라이머층(3)이 이 순서로 적층된 적층 구조이다. 지지체(1)는, 나타내는 형태 이외의 층을 포함하고 있어도 좋다.
일례로서의 프라이머층(3)은, 접착 성분을 함유하고 있다. 일례로서의 지지체(1)는, 프라이머층(3)을 포함하는 적층 구조이다(도 2, 도 3 참조). 일례로서의 지지체(1)는, 복수의 기재를 포함하는 적층 구조이며, 어느 하나의 기재 사이에 마련된 프라이머층(3)을 포함한다. 일례로서의 지지체(1)는, 화상 형성용층(10)측의 표면에 위치하는 프라이머층(3)을 포함한다. 접착 성분으로서는, 우레탄 수지, 폴리올레핀, 폴리에스테르, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 폴리이미드, 폴리초산비닐, 시아노아크릴레이트 및 합성 고무 등을 예시할 수 있다. 폴리올레핀으로서는, α-올레핀-무수말레산 공중합체 등을 예시할 수 있다. 접착 성분을 경화제로 경화한 것을 이용하여도 좋다. 접착 성분을 경화제로 경화한 것은 접착성 및 내열성이 양호하다. 경화제로서는, 이소시아네이트 화합물, 지방족 아민, 환상 지방족 아민, 방향족 아민, 산무수물 등을 예시할 수 있다. 프라이머층(3)을 마련하지 않고, 표면이 접착성을 갖는 기재, 또는 표면에 접착 처리가 실시된 기재를 이용하여도 좋다.
일례로서의 지지체(1)는, 필름 기재를 포함한다. 필름 기재는, 수지 기재, 수지 시트 등으로 칭해지는 경우도 있다. 예컨대, 도 1, 도 2에 나타내는 형태의 층(1A)을 필름 기재로 하여도 좋다. 도 3에 나타내는 형태의 층(1A), 층(1B) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 필름 기재로 하여도 좋다. 필름 기재로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리염화비닐, 폴리메타크릴레이트, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 초산셀룰로오스, 폴리에틸렌 유도체, 폴리아미드 및 폴리메틸펜텐 등을 예시할 수 있다. 이들 필름 기재는, 연신된 것이어도 좋고, 미연신이어도 좋다. 또한, 지지체(1)는, 3개 이상의 필름 기재를 포함하고 있어도 좋다.
지지체(1)는, 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 광선 투과율을 가지면 좋다. 지지체(1)가 적층 구조인 경우, 지지체(1)의 각 구성 부재가, 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 광선 투과율을 가지면 좋다. 지지체(1)가, 프라이머층(3), 필름 기재를 포함하는 경우, 이들 프라이머층이나, 필름 기재로서, 기록 매체(100) 전체의 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 투명 프라이머층이나 투명 필름 기재를 이용하면 좋다. 또한, 이들 투명 프라이머층이나 투명 필름 기재를 후술하는 광택도 조정층으로 하여도 좋다.
(광택도 조정층)
본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 지지체(1)가 광택도 조정층을 포함한다. 광택도 조정층은, 기록 매체(100)의 광택도를 60 이하로 조정하기 위한 층이다.
일례로서의 기록 매체(100)는, 지지체(1)가, 하나 또는 복수의 광택도 조정층을 포함한다. 일례로서의 기록 매체(100)는, 광택도 조정층으로, 기록 매체(100)의 광택도가 60 이하로 조정되어 있다. 광택도 조정층 자체의 광택도(광택도 조정층 단체의 광택도)에 한정은 없다. 광택도 조정층은, 이외의 구성 부재를 고려하여, 기록 매체의 광택도를 60 이하로 할 수 있는 것을 사용하면 좋다. 광택도 조정층 단체의 광택도는 60 미만이어도 좋고, 60 이상이어도 좋다. 광택도가 60 미만인 광택도 조정층의 하나 또는 복수를 조합하여, 기록 매체(100)의 광택도를 60 이하로 조정하여도 좋다. 광택도가 60 이상인 광택도 조정층의 하나 또는 복수를 조합하여, 기록 매체(100)의 광택도를 60 이하로 조정하여도 좋다. 광택도가 60 미만인 광택도 조정층의 하나 또는 복수와, 광택도가 60 이상인 광택도 조정층의 하나 또는 복수를 조합하여, 기록 매체(100)의 광택도를 60 이하로 조정하여도 좋다. 광택도 조정층으로서는, 보이드층 및 요철층을 예시할 수 있다.
(보이드층)
보이드층으로서는, 내부에 보이드를 갖는 필름 기재(수지 기재여도 좋음) 등을 예시할 수 있다. 보이드층은, 폴리머 중에 무기 입자를 혼련하고, 그 혼합물을 연신할 때에 무기 입자를 핵으로 하여 보이드를 발생시킨 것이나, 주체로 하는 수지에 대하여 비상용성 폴리머를 혼합하고, 그 혼합물을 연신할 때에 보이드를 발생시킨 것 등을 예시할 수 있다. 폴리머는, 1종이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다. 보이드층이 갖는 보이드는, 미크로 보이드나, 공공(空孔)으로 칭해지는 경우도 있다. 보이드층은, 다공질층, 다공질 필름 등으로 칭해지는 경우도 있다.
보이드층을 광택도 조정층으로 하는 경우에는, 보이드의 크기, 보이드가 차지하는 비율, 보이드층의 두께 등을 적절하게 설정하여, 상기 보이드층을 포함하는 지지체(1)를 갖은 기록 매체(100)의 광택도를 조정할 수 있다.
보이드층의 두께에 한정은 없다. 일례로서의 보이드층의 두께는 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이다. 이 두께의 보이드층을 갖는 기록 매체(100)는, 보다 농도가 높은 화상을 형성할 수 있다.
(요철층)
요철층은, 표면이 요철 구조를 갖고 있고, 상기 요철 부분에 의해 광택도의 조정이 도모된다. 요철층은, 화상 형성용층(10)측에 요철 구조를 가져도 좋고, 그 반대측에 요철 구조를 가져도 좋다. 화상 형성용층(10)측 및 그 반대측의 양쪽에 요철 구조를 가져도 좋다.
일례로서의 요철층은, 입자를 함유하고 있어, 입자의 일부가 돌출하고 있다. 이 요철층은, 입자의 돌출 부분과 비돌출 부분으로 요철 구조가 형성되어 있다.
일례로서의 요철층은, 입자를 함유하고 있어, 요철층의 표면이 융기하고 있다. 이 요철층은, 융기 부분과 비융기 부분으로 요철 구조가 형성되어 있다.
일례로서의 요철층은, 입자를 함유하는 필름이다.
일례로서의 요철층은, 입자가 이겨 넣어진 필름이다.
일례로서의 요철층은, 표면 처리가 실시된 필름이다. 이 요철층은, 표면 처리로 요철 구조가 부형되어 있다.
입자로서는, 무기 입자 및 유기 입자 등을 예시할 수 있다. 이러한 입자로서는, 실리카, 탄산칼슘, 황산바륨, 산화티탄, 다공질 입자, 중공 입자, 탈크, 디카르복시산에스테르아미드, 폴리에틸렌 등을 예시할 수 있다. 입자 및 바인더를 적당한 용매에 분산 또는 용해한 도공액을 도포, 건조하여 얻어지는 도공층 등을 요철층으로 하여도 좋다. 요철 구조를 부형하기 위한 표면 처리의 방법으로서는, 엠보스 가공 및 블라스트 가공 등을 예시할 수 있다.
요철층을 광택도 조정층으로 하는 경우에는, 요철에 있어서의 볼록부의 높이, 오목부와 볼록부의 간격, 요철층의 두께 등을 적절하게 설정하여, 기록 매체(100)의 광택도를 조정할 수 있다.
광택도 조정층은, 기록 매체(100) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 광선 투과율을 갖는다. 필름 기재를 보이드층이나 요철층 등의 광택도 조정층으로 하는 경우에는, 내부에 보이드를 갖는 투명 필름 기재나, 그 표면에 요철 구조를 갖는 투명 필름 기재를 사용하면 좋다.
지지체(1)는, 광택도 조정층만을 포함하는 단층 구조여도 좋고, 복수의 광택도 조정층을 포함하는 적층 구조여도 좋다. 예컨대, 도 3A, 도 3B에 나타내는 형태의 층(1A), 층(1B) 중 한쪽 또는 양쪽을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 지지체(1)는, 광택도 조정층 이외의 층을 포함하여도 좋다.
프라이머층(3)을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 일례로서의 프라이머층(3)은, 표면이 요철인 구조를 갖는다. 도 3에 나타내는 형태에 있어서, 2개 이상의 층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 예컨대, 도 3에 나타내는 형태의 층(1A) 및 층(1B) 중 어느 한쪽 또는 양쪽과 프라이머층(3)을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 프라이머층의 두께 등을 고려하면, 프라이머층(3) 이외의 층, 예컨대 필름 기재를 광택도 조정층으로 하는 것이 바람직하다.
바람직한 형태의 기록 매체(100)는, 지지체(1)가 광택도 조정층을 포함하는 적층 구조이며, 광택도 조정층은 화상 형성용층(10)으로부터 가장 멀리에 위치하고 있다. 일례로서의 지지체(1)는, 프라이머층(3) 및 층(1A) 등을 포함하는 적층 구조이며(도 2, 도 3A, 도 3B 참조), 층(1A)이 광택도 조정층이다. 이 형태는, 기록 매체(100)의 광택도를 용이하게 60 이하로 조정할 수 있다. 이 형태는, 본 개시의 기록 매체(100)로 제조되는 인화물이나 가식 시트(150)를, 지지체(1)측에서 시인하였을 때의 의장성을 보다 양호하게 할 수 있다. 또한, 이 가식 시트와 가식 대상물을 일체화시켜 제조되는 가식품을 지지체(1)측에서 시인하였을 때의 의장성을 양호하게 할 수 있다. 이 경우, 화상 형성용층(10)측에서 가식 대상물과 일체화시키는 것이 바람직하다. 또한, 지지체(1)측에서 측정되는 광택도가 60 이하인 것이 바람직하다. 또한, 가식 대상물로서 투명성을 갖는 것을 이용한 경우에는, 제조된 가식품을 가식 대상물측에서 시인하였을 때의 의장성을 양호하게 할 수 있다. 각 도면에 나타내는 일례로서의 층(1A)은, 내부에 보이드를 갖는 투명 필름 기재(보이드층), 또는 표면이 요철 구조를 갖는 투명 필름 기재(요철층)이다.
지지체(1)와 화상 형성용층(10) 사이에, 광택도 조정층을 마련하여도 좋다.
본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 기능층을 포함하는 단층 구조 또는 적층 구조이다. 일례로서의 기록 매체(100)는, 지지체(1)가 기능층을 포함한다. 일례로서의 지지체(1)는, 복수의 기재를 포함하는 적층 구조이며, 어느 하나의 기재 사이에 기능층이 위치하고 있다. 일례로서의 지지체(1)는, 복수의 기재를 포함하는 적층 구조이며, 어느 하나의 기재 사이에 기능층이 위치하고 있다. 기능층은, 면 방향에 소정의 간격을 두고 복수 위치하여도 좋다. 기능층은, 두께 방향에 복수 위치하여도 좋다. 복수의 기능층은, 두께 방향으로 중첩되어도 좋고, 중첩되지 않아도 좋다. 복수의 기능층은, 동일하여도 좋고, 상이해도 좋다. 본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 지지체(1)와 화상 형성용층(10) 사이에, 기능층이 위치하고 있다. 본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 지지체(1)와 화상 형성용층(10) 사이의 일부분에, 기능층이 위치하고 있다. 본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 화상 형성용층(10) 상에 기능층이 위치하고 있다. 본 개시의 일례로서의 기록 매체(100)는, 최외측 표면에 위치하는 기능층을 포함한다.
일례로서의 기능층은, 지지체(1)의 화상 형성용층(10)과는 반대측의 표면에 위치하고 있다. 이 기능층으로서는, 촉감층, 내지문성층, 대전 방지층 등을 예시할 수 있다. 촉감층으로서는, 발포 재료 등을 포함하는 층 등을 예시할 수 있다. 상기 보이드층이나 요철층을 촉감층으로 하여도 좋다. 내지문성층은, 내지문성을 갖는다.
후술하는 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)로 하는 경우에는, 지지체(1)의 화상 형성용층(10)과는 반대측의 표면에 위치하는 기능층을 점착층으로 하여도 좋다. 일례로서의 점착층은, 사후적으로 점착성이 증대하거나, 또는 사후적으로 점착성이 발현한다. 일례로서의 점착층은, 가열 등으로 점착성이 증대하거나, 또는 가열 등으로 점착성이 발현한다. 기능층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다.
일례로서의 기능층은 장식층이다. 장식층으로서는, 입자 함유층, 착색층 및 증착층 등을 예시할 수 있다. 상기 보이드층이나 요철층을 장식층으로 하여도 좋다. 장식층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다.
입자 함유층이 함유하고 있는 입자로서는, 무기 입자 및 유기 입자를 예시할 수 있다. 이러한 입자로서는, 실리카, 탄산칼슘, 황산바륨, 산화티탄, 다공질 입자, 중공 입자, 탈크, 디카르복시산에스테르아미드 및 폴리에틸렌 등을 예시할 수 있다.
일례로서의 착색층은 착색제를 함유하고 있다. 착색제로서는, 염료, 유기 착색 안료, 형광 안료, 탄산칼슘, 산화티탄, 산화아연, 실리카, 카본 블랙, 산화철, 철황, 군청, 홀로그램 분말, 알루미늄 분말, 메탈릭 안료 및 펄 안료 등을 예시할 수 있다.
기능층을 부분적으로 위치시켜도 좋다. 이 경우, 기능층이 위치하는 부분의 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율은 10% 미만이어도 좋고, 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 기록 매체(100)의 광택도는 60보다 커도 좋다.
기능층이 위치하는 부분의 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도를 60 이하로 할 수 있는 기능층을 이용하여도 좋다.
일례로서의 지지체(1)는, 촉감층, 내지문성층, 대전 방지층, 점착층, 입자 함유층, 착색층 및 증착층 중 하나 또는 복수를 포함한다.
지지체(1)의 두께에 한정은 없지만, 1 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하가 바람직하다. 기록 매체(100)의 두께에 한정은 없고, 화상 형성용층(10)에 화상을 형성할 때의 화상 형성 방법 등을 고려하여 적절하게 결정하면 좋다. 예컨대, 프린터 내에서 화상 형성을 행하는 경우에는, 프린터의 반송 적성을 고려한 두께로 하면 좋다. 일례로서의 기록 매체(100)의 두께는 100 ㎛ 이하이다. 이 두께의 기록 매체(100)를 이용하여 가식품을 제조함으로써, 가식품의 미관 등을 양호하게 할 수 있다. 기록 매체(100)의 두께를 100 ㎛로 하였을 때의 프린터의 반송 적성 등이 불충분한 경우에는, 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)를 사용하여, 분리 부재의 두께 등을 적절하게 결정하면 좋다.
본 개시의 기록 매체(100)는, 화상 형성용층(10)에 화상을 형성하여 참신한 의장성을 갖는 인화물을 제조할 수 있다. 본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성한 것을 가식 시트(150)로 하여도 좋다. 본 개시의 기록 매체(100)로부터 얻어지는 가식 시트는, 참신한 의장성을 갖는 가식품을 제조할 수 있다.
<<분리 부재를 갖는 기록 매체>>
다음에, 본 개시의 실시형태에 따른 분리 부재를 갖는 기록 매체(이하, 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체)에 대해서 설명한다. 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)는, 기록 매체(100)의 지지체(1)측에 분리 부재(60)가 마련되어 있다(도 4, 도 5 참조). 분리 부재(60)는, 기록 매체(100)로부터 분리할 수 있다. 분리 부재(60)는, 열에너지의 인가로 기록 매체(100)로부터 분리할 수 있는 것이어도 좋고, 열에너지를 인가하지 않고, 기록 매체(100)로부터 분리할 수 있는 것이어도 좋다. 기재 및 수용층을 포함하는 전사층을 갖는 종래 공지의 중간 전사 매체의 구성을, 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)에 적용하여도 좋다. 이 경우, 중간 전사 매체의 기재 부분을 분리 부재(60)로 하고, 중간 전사 매체의 전사층 부분을 기록 매체(100)로 하면 좋다.
본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 기록 매체(100)는, 본 개시의 기록 매체(100)를 그대로 이용할 수 있다.
본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에는 화상을 형성할 수 있다. 화상 형성을 프린터로 행하는 경우에는, 기록 매체(100)의 두께를, 프린터 내의 반송 적성을 양호하게 할 수 있는 두께로 하는 것이 바람직하다. 한편으로, 본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성하여 제조되는 인화물이나 가식 시트 등의 두께를 얇게 하고자 하는 요구도 있다. 예컨대, 가식 시트를 이용하여 제조되는 가식품의 미관을 고려하여, 가식 시트를 얻기 위한 기록 매체(100)의 두께를 100 ㎛ 이하로 하는 것이 바람직한 경우도 있다.
본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)는, 분리 부재(60)의 두께로 기록 매체(100) 전체의 외관상의 두께를 두껍게 할 수 있다. 분리 부재(60)의 두께를 적절하게 조정하여, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X) 전체의 두께를 프린터의 반송성에 알맞은 두께로 할 수 있다. 이러한 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)는, 화상 형성 시의 반송성 등이 양호하다. 이러한 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)는 화상 형성용층(10)에 선명한 화상을 형성할 수 있다.
본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)는 핸들링성을 양호하게 할 수 있다.
화상 형성 후에 분리 부재(60)를 분리함으로써, 기록 매체(100)로 제조된 인화물이나, 기록 매체(100)로 제조된 가식 시트의 두께를 얇게 할 수 있다. 일례로서의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 기록 매체(100)의 두께는 100 ㎛ 이하이고, 일례로서의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 두께는 100 ㎛보다 두껍다.
분리 부재(60)를 분리할 수 있는 대책은, 분리 부재(60)측에서 행하여도 좋고, 지지체(1)측에서 행하여도 좋다. 또한, 양쪽의 측에서 행하여도 좋다.
일례로서의 분리 부재(60)는, 분리부 기재(1C) 및 분리 보조층(6)을 포함하며, 분리 보조층(6)이 기록 매체(100)의 지지체(1)와 접하고 있다(도 5 참조).
(분리부 기재)
분리부 기재(1C)에 한정은 없고, 상기에서 예시한 필름 기재나, 종이 기재 등을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 종이 기재로서는, 상질지, 코트지, 레진 코트지, 아트지, 캐스트 코트지, 판지, 합성지(폴리올레핀계, 폴리스티렌계), 합성 수지 또는 에멀젼 함침지, 합성 고무 라텍스 함침지, 합성 수지 내첨지 및 셀룰로오스 섬유지 등을 예시할 수 있다. 분리부 기재(1C)는, 단층 구조여도 좋고, 상기 필름 기재나 종이 기재 등이 적층된 적층 구조여도 좋다. 일례로서의 분리부 기재(1C)는, 분리 보조층(6)과 접하는 프라이머층을 포함한다. 또한, 분리 부재(60)는, 최종적으로 기록 매체(100)로부터 분리되기 때문에, 분리 부재(60)의 광선 투과율이나 분리 부재(60)의 광택도 등의 고려가 필요하지 않다. 예컨대, 분리부 기재(1C)로서, 저렴한 종이 기재 등을 이용함으로써, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 제조 비용을 낮게 하면서, 상기 여러 가지 효과를 실현할 수 있다.
일례로서의 분리부 기재(1C)는, 분리 보조층(6)측으로부터, 프라이머층, 보이드층, 필름 기재, 종이 기재가 이 순서로 적층된 적층 구조이다. 분리부 기재(1C)를, 필름 기재나 종이 기재 등을 포함하는 적층 구조로 하는 경우에는, 이들 기재끼리를, 프라이머층 등을 이용하여 접합하여도 좋고, 폴리에틸렌 등을 사용한 EC 샌드 라미네이션으로 접합하여도 좋다. 분리부 기재(1C)는 단층 구조여도 좋다.
(분리 보조층)
일례로서의 분리 보조층(6)은 점착층으로서 기능한다. 점착층이 함유하는 성분으로서는, 아크릴 수지, 비닐 수지, 폴리에스테르, 우레탄 수지, 폴리아미드, 에폭시 수지, 고무계 수지, 아이오노머 수지, 실리콘 수지 등을 예시할 수 있다. 또한, 이외의 접착성을 갖는 성분을 이용할 수도 있다.
일례로서의 점착층은 지지체(1)와 접하고 있다. 점착층과 지지체(1) 접착력은, 점착층과 분리부 기재(1C)의 구성 부재의 접착력보다 낮다. 이 형태의 점착층은, 지지체(1)와 점착층의 계면에서, 분리 부재(60)를 분리할 수 있다. 분리부 기재(1C)의 점착층과 접하는 부분에 접착 처리를 실시함으로써, 이 분리를 실현할 수 있다. 접착 처리에는 프라이머층이 포함된다.
분리 보조층(6)을 용융 압출 수지층으로 하여, 기록 매체(100)로부터 분리 부재(60)를 분리할 수 있도록 하여도 좋다. 용융 압출 수지층은, 용융한 수지를, 압출기에 의해 필름형으로 압출함으로써 얻어진 수지층이다. 압출기로서는, T 다이 등을 예시할 수 있다. 압출법으로서는, 압출 코트 라미네이트법이나, 샌드 라미네이트법 및 탠덤 라미네이트법 등의 종래 공지의 압출 방법을 예시할 수 있다.
분리 보조층(6)을, 이형 필름, 세퍼레이트지, 세퍼레이트 필름, 박리 필름 및 박리지 등으로 하여, 분리 부재(60)를 기록 매체(100)로부터 분리할 수 있도록 하여도 좋다.
분리 보조층(6)을 포함하는 분리 부재(60) 대신에, 또는 이것과 함께, 지지체(1)를 구성하는 층중 분리 부재(60)와 접하는 층을 박리층으로 하여도 좋다. 이 형태에서는, 박리층과 분리 부재(60)의 계면을 분리 계면으로 할 수 있어, 기록 매체(100)로부터 분리 부재(60)를 분리할 수 있다. 예컨대, 도 1∼도 3에 나타내는 형태의 기록 매체(100)의 지지체(1)의 층(1A)을 박리층으로 하고, 이 박리층 상에, 분리 부재(60)를 마련하여도 좋다.
(박리층)
박리층의 성분으로서는, 왁스류, 실리콘 왁스, 실리콘 수지, 실리콘 변성 수지, 불소 수지, 불소 변성 수지, 폴리비닐알코올, 아크릴 수지, 열가교성 에폭시-아미노 수지 및 열가교성 알키드-아미노 수지 등을 예시할 수 있다. 박리층의 두께는, 0.5 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 바람직하다.
박리층은, 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도를 60 이하로 할 수 있는 것을 이용하면 좋다. 박리층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 이러한 박리층으로서는, 분리 부재측의 면이 요철 구조를 갖는 박리층 및 내부에 보이드를 갖는 박리층 등을 예시할 수 있다.
분리 부재(60)를 적층 구조로 하여, 상기 분리 부재(60)를 구성하는 어느 하나의 구성 부재 사이에서 분리 부재(60)의 일부분을 분리할 수 있도록 하여도 좋다. 즉, 단계적으로 분리 부재를 분리를 할 수 있도록 하여도 좋다. 예컨대, 도 5에 나타내는 형태에 있어서, 분리부 기재(1C)를 복수의 기재를 포함하는 적층 구조로 하여, 분리부 기재(1C)의 일부분을 분리할 수 있도록 하여도 좋다. 예컨대, 분리부 기재(1C)를 적층 구조로 하여, 분리 부재(60)와 기록 매체(100)의 지지체(1)의 계면에서 분리가 되기보다 전에, 분리부 기재(1C)의 어느 하나의 구성 부재 사이를 분리 계면으로 하여 분리부 기재(1C)의 일부분을 분리할 수 있도록 하여도 좋다. 이러한 형태는, 복수의 분리 보조층(6)을 사용하는, 지지체(1)가 박리층을 포함하고, 분리부 기재(1C)의 구성 부재 사이에서 분리 보조층(6)을 마련하는 등으로 실현할 수 있다.
<<가식 시트>>
다음에, 본 개시의 실시형태에 따른 가식 시트(이하, 본 개시의 가식 시트라고 함)에 대해서 설명한다. 본 개시의 가식 시트(150)는, 지지체(1) 및 지지체(1) 상에 마련된 화상 형성용층(10)을 갖는다.
본 개시의 가식 시트(150)는, 가식 대상물(300)에 장식성을 부여할 수 있다. 본 개시의 가식 시트(150)는, 가식 대상물(300)과 일체화된 가식품의 제조에 이용할 수 있다.
본 개시의 가식 시트(150)는, 상기 가식 시트(150) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이며, 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하이다. 본 개시의 가식 시트(150)는, 투명감 및 매트감을 갖는다. 본 개시의 가식 시트(150)는 투명성을 갖고, 또한 광택감이 억제된 가식 시트(150)로 할 수 있다. 본 개시의 가식 시트(150)에 의하면, 화상 형성용층(10)에 화상을 형성하고, 그 후, 가식 대상물(300)과 일체화시킴으로써, 참신한 의장성을 갖는 가식품(400)을 제조할 수 있다.
본 개시의 가식 시트(150)의 광선 투과율이나 광택도의 측정 방법은, 상기 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 측정 방법과 동일하다.
본 개시의 가식 시트(150)는, 도 6A, 도 6B에 나타내는 바와 같이, 화상 형성용층(10)에 화상(50)이 형성된 것이어도 좋다. 본 개시의 기록 매체(100)를, 본 개시의 가식 시트(150)로 하여도 좋다. 본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성한 것을 본 개시의 가식 시트(150)로 하여도 좋다. 화상 형성용층에 화상이 형성된 가식 시트(150)의 가시광 영역의 광선 투과율이나 광택도의 측정은, 상기 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 측정 방법과 동일하다. 이 경우, 화상이 형성되어 있지 않은 영역을 측정 영역으로 한다.
형성되는 화상에 한정은 없고, 상기 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 각종 화상 형성 방법으로 형성된 화상을 예시할 수 있다. 바람직한 형태의 가식 시트(150)는, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)이 승화형 열전사 기록 방식 및 용융형 열전사 기록 방식으로 형성된 열전사 화상이다. 보다 바람직하게는, 승화형 열전사 기록 방식으로 형성된 열전사 화상이다. 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)을 열전사 화상으로 함으로써, 보다 의장성이 높은 가식품을 제조 가능한 가식 시트(150)로 할 수 있다.
본 개시의 가식 시트(150)를 이용하여 제조되는 가식품은, 본 개시의 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)이 일체화된 것이다. 바꾸어 말하면, 본 개시의 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)이 접합된 것이다. 일례로서의 가식 시트(150)는, 가식 대상물측의 표면이 접착성을 갖는다. 일례로서의 가식 시트(150)는, 가식 대상물측의 표면에 접착층이 위치한다. 일례로서의 가식 시트(150)는, 가식 대상물측의 표면에 접착 처리가 되어 있다. 일례로서의 가식 대상물은, 가식 시트(150)측의 표면이 접착성을 갖는다. 일례로서의 가식 대상물은, 가식 시트(150)측의 표면에 접착층이 위치한다. 일례로서의 가식 대상물은, 가식 시트(150)측의 표면에 접착 처리가 되어 있다.
가식 대상물(300)이 접착성을 갖는 경우, 본 개시의 가식 시트(150)의 가식 대상물측의 표면은 접착성을 갖지 않아도 좋다. 이러한 가식 시트(150)로서는, 본 개시의 기록 매체(100)나, 본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상이 형성된 것 등을 예시할 수 있다(도 6A 참조).
(접착층)
일례로서의 가식 시트(150)는, 화상이 형성된 화상 형성용층(10) 상에 접착층(200)이 마련되어 있다(도 6B 참조). 일례로서의 가식 시트(150)는, 지지체(1)를 구성하는 층 중, 화상 형성용층(10)으로부터 가장 멀리에 접착층이 위치하고 있다(도시하지 않음). 접착층(200)은, 상기 가식 시트(150) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 투명성을 가지면 좋다.
접착층(200)이 마련된 가식 시트(150)는, 가식 대상물(300) 자체가 접착성을 갖지 않는 경우라도, 상기 가식 시트(150)의 접착층(200)측을, 가식 대상물(300)과 중첩하는 것만으로, 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)이 일체화된 가식품을 제조할 수 있다.
화상 형성용층(10) 상에 접착층(200)을 마련한 경우에는, 화상 형성용층(10)측에서, 본 개시의 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)을 일체화할 수 있다. 이 형태에서, 일체화하여 얻어지는 가식품(400)은, 가식 대상물(300), 접착층(200), 화상 형성용층(10), 지지체(1)가 이 순서로 마련된 적층 구조가 된다. 이 형태의 가식품(400)은, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)을, 지지체(1)로 보호할 수 있다.
지지체(1)측의 표면을 접착층(200)으로 하여도 좋다. 일례로서의 지지체(1)는, 최외측 표면에 위치하는 접착층(200)을 포함한다. 이 형태에서는, 가식 시트(150)의 지지체(1)측에서, 본 개시의 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)을 일체화할 수 있다. 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 바와 같이, 지지체(1)측의 표면을 점착층으로 하여도 좋다.
접착층(200)은 접착 성분을 함유하고 있다. 접착성 성분으로서는, 아크릴 수지, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 초산비닐 수지, 폴리에스테르, 에폭시 수지, 폴리이미드 및 합성 고무 등을 예시할 수 있다. 또한, 접착층(200)이 함유하는 접착 성분은, 1종이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다. 접착층(200)은, 접착 필름이어도 좋고, 접착 시트여도 좋다. 접착층(200)의 두께는, 1 ㎛ 이상 1000 ㎛ 이하가 바람직하다.
접착층(200)은, 단층 구조여도 좋고, 접착성을 갖는 층을 적층한 적층 구조여도 좋다. 일례로서의 접착층은, 접착성을 갖지 않는 부재의 양면에 접착성을 갖는 층이 마련된 적층 구조이다. 일례로서의 접착층은, 필름 등의 양면에 접착성을 갖는 층을 마련한 적층 구조이다. 일례로서의 접착층은, 접착 성분을 함유하는 도공액을 도포·건조하여 형성한 것이다.
(마스킹 부재)
도 8A에 나타내는 형태의 가식 시트(150)는, 도 6B에 나타내는 형태의 가식 시트(150)의 접착층(200) 상에 마스킹 부재(210)가 마련되어 있다. 바꾸어 말하면, 가식 시트(150)의 화상 형성용층(10) 상에, 마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)가 마련되어 있다. 도 8에 나타내는 형태의 가식 시트(150)는, 상기 가식 시트(150)를 권취 보관 등을 하였을 때에, 접착층(200)이, 지지체(1)나 분리 부재(60)와 접착하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 마스킹 부재(210)를 박리한 후의 가식 시트(150)를 가식 대상물(300)과 중첩하는 것만으로 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)이 일체화된 가식품을 제조할 수 있다. 본 개시의 가식 시트(150)에서 규정하고 있는 가시광 영역의 광선 투과율이나 광택도는, 마스킹 부재를 박리한 후에 측정되는 값이다.
마스킹 부재(210)로서는, 이형 필름, 세퍼레이트지, 세퍼레이트 필름, 박리 필름 및 박리지 등을 예시할 수 있다. 마스킹 부재(210)는 수지층이어도 좋다. 일례로서의 마스킹 부재(210)는 이형성을 갖는 성분을 함유하고 있다. 이형성을 갖는 성분으로서는, 실리콘 수지, 불소 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 및 왁스 등을 예시할 수 있다.
접착층(200)은, 본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성한 후에, 화상 형성용층(10)측에, 접착층(200)이 되는 필름이나, 접착층(200)이 되는 시트 등을 접착하여 형성하여도 좋다. 도 16A에 나타내는 바와 같이, 전사 시트의 기재(260) 상에, 상기 기재(260)로부터 박리할 수 있는 접착층(200)이 마련된 전사 시트(250)를 이용하여, 화상 형성용층(10) 상에 접착층(200)을 전사로 형성하여도 좋다. 전사 시트(250)의 접착층(200)은, 열에너지의 인가로 전사할 수 있는 것이어도 좋고, 열에너지를 인가하지 않고 전사할 수 있는 것이어도 좋다. 또한, 화상 형성용층(10)측에, 접착 성분을 적당한 용매에 분산, 또는 용해한 도공액을 도포, 건조하여 접착층을 형성하여도 좋다. 접착 필름이나 접착 시트를 이용한 접착층(200)의 형성이나, 전사에 의한 접착층(200)의 형성은, 도공액을 도포, 건조하는 방법과 비교하여, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)의 번짐을 억제할 수 있다는 점에서 바람직하다.
마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)을 접합 또는 전사로 형성하여도 좋다. 도 16B는 마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)을 전사할 수 있는 전사 시트(250)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도 16B에 나타내는 형태의 전사 시트(250)는, 기재(260) 상에, 상기 기재(260)로부터 박리할 수 있는 전사층(240)이 마련되어 있다. 전사층(240)은, 기재(260)측으로부터 마스킹 부재(210), 접착층(200)이 이 순서로 적층된 적층 구조이다. 도 16B에 나타내는 형태의 전사 시트(250)는, 전사층(240)을 전사하여, 마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)을 형성할 수 있다. 일례로서의 전사 시트(250)는, 기재(260)와 접착층(200) 사이, 기재(260)와 마스킹 부재(210) 사이에 이형층 등이 마련되어 있다. 이형층은, 전사층을 전사하였을 때에, 기재(260)측에 남는 층이다.
도 16A, 도 16B에 나타내는 형태의 전사 시트(250)를, 접착층(200)이나, 마스킹 부재를 갖는 접착층과 면 순차로, 하나 또는 복수의 색재층이 마련된 전사 시트(250)로 하여도 좋다(도시하지 않음). 이러한 전사 시트(250)에 의하면, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에의 화상의 형성 및 기록 매체(100) 상 또는 가식 시트(150) 상에의 접착층(200)의 전사를, 하나의 전사 시트로 행할 수 있다. 색재층은, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상(50)을 형성할 때의 화상 형성 방식에 따라 적절하게 결정하면 좋다. 화상 형성용층(10)에의 화상의 형성을 승화형 열전사 방식으로 행하는 경우, 색재층을, 옐로우 염료, 마젠타 염료, 시안 염료, 형광 염료 등의 염료를 함유하는 염료층으로 하면 좋다. 용융형 열전사 방식으로 행하는 경우, 색재층을, 블랙 안료, 메탈릭 안료, 펄 안료 등의 착색제를 함유하는 용융 잉크층으로 하면 좋다. 또한, 염료층과, 용융 잉크층을 면 순차로 마련한 전사 시트(250)로 하여도 좋다. 도 16C, 도 16D, 도 16E에 나타내는, 내구층(230)이나, 내구층(230)을 포함하는 전사층(240)을 갖는 전사 시트(250)에 대해서도 동일하다. 또한, 각 도면에 나타내는 형태를 조합하여도 좋다.
접착층(200)이나, 마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)을, 기록 매체(100)의 지지체(1)측에 형성하여도 좋다. 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)를 이용하는 경우에는, 분리 부재(60)를 분리한 후에, 접착층이나, 마스킹 부재를 갖는 접착층을 형성하면 좋다.
(내구층)
접착층(200)을, 화상 형성용층(10)측에 마련하는 경우에는, 도 9A에 나타내는 바와 같이, 화상(50)이 형성된 화상 형성용층(10)과 접착층(200) 사이에 내구층(230)을 마련하는 것이 바람직하다. 이 형태의 가식 시트(150)는, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)의 성분의 접착층(200)측으로의 이행을 억제할 수 있다. 이에 의해, 열전사 화상(50)에 번짐이 생기는 것 등을 억제할 수 있다.
일례로서의 가식 시트(150)는, 화상 형성용층(10) 상에 내구층(230)이 마련되어, 내구층(230)이 표면에 위치한다(도시하지 않음). 이 구성의 가식 시트(150)는, 접착층(200)이 마련된 가식 대상물(300)을 이용하여, 가식 시트(150)의 화상 형성용층(10)측에서, 이 가식 대상물(300)과 일체화시킬 때에, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)의 성분이, 가식 대상물(300)이 갖는 접착층(200)측으로 이행하는 것을 억제할 수 있다. 내구층(230)을 표면에 위치시킴으로써, 상기 가식 시트(150)의 지지체(1)측에서 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)을 일체화시켜 제조되는 가식품을, 가식 대상물(300), 지지체(1), 화상 형성용층(10), 내구층(230)이 이 순서로 적층된 적층 구조로 할 수 있다. 이 형태의 가식품은, 화상 형성용층(10)의 화상을 내구층(230)으로 보호할 수 있다.
내구층(230)의 성분으로서는, 아크릴 수지, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 셀룰로오스 수지, 폴리비닐피롤리돈 및 폴리비닐알코올 등을 함유하고 있다. 내구층(230)이 함유하는 성분은, 1종이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다.
바람직한 형태의 내구층(230)은, 단층 구조 또는 적층 구조이며, 이하의 관계식(1)을 만족하는 제1층(X)을 포함한다. 이 형태의 내구층(230)은, 화상(50)의 번짐을 억제할 수 있고, 또한 내구층(230)의 열내구성을 높게 할 수 있다. 열내구성이 높은 내구층(230)은, 가식품(400)을 제조하는 단계에서의, 내구층(230)의 의도하지 않은 용융이나, 내구층(230)의 의도하지 않은 연화 등을 억제할 수 있다. 이 형태의 내구층(230)은, 가식품(400)을 제조하는 단계에서의, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)이 받는 데미지를 낮게 할 수 있다. 이 형태의 내구층(230)은, 가식품(400)을 제조하는 단계에서의, 화상 형성용층(10)과 내구층(230) 사이에서의 의도하지 않은 분리나, 접착층(200)과 내구층(230) 사이에서의 의도하지 않은 분리 등을 억제할 수 있다.
일례로서의 내구층(230)은, 적층 구조이며, 적어도 하나의 층이, 이하의 관계식(1)을 만족하는 제1층(X)이다. 내구층(230)이 적층 구조인 경우, 접착층(200)으로부터 가장 가까이에 위치하는 층을, 제1층(X)으로 하는 것이 바람직하다. 일례로서의 내구층(230)은, 적층 구조이며, 내구층(230)을 구성하는 모든 층이, 제1층(X)이다. 일례로서의 내구층(230)은 접착층(200)과 접하고 있다. 일례로서의 내구층(230)은, 제1층(X)이 접착층(200)과 접하고 있다.
접착층의 주성분의 유리 전이 온도(Tg)<제1층(X)의 주성분의 유리 전이 온도(Tg)···(관계식 (1)).
여기서 말하는 주성분이란, 접착층(200)이 함유하고 있는 성분 중, 그 함유량이 가장 많은 성분을 의미한다. 내구층(230)의 주성분도 동일하다. 일례로서의 제1층(X)은, 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상, 바람직하게는 60℃ 이상의 성분을 주성분으로서 함유하고 있다.
바람직한 형태의 내구층(230)은 자외선 흡수제를 함유하는 층을 포함한다. 이 형태의 내구층(230)은, 제조된 가식품(400)의 화상(50)의 내광성이 양호하다. 이 형태의 내구층(230)은, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)이 승화형 열전사 방식으로 형성된 화상인 경우에 적합하다. 보다 바람직한 형태의 내구층(230)은, 자외선 흡수제를 함유하는 층 및 제1층(X)을 포함하는 적층 구조이다. 보다 바람직한 형태의 내구층(230)은, 자외선 흡수제를 함유하는 제1층(X)을 포함하는 단층 구조 또는 적층 구조이다.
자외선 흡수제로서는, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 벤조에이트계, 트리아진계 및 살리실레이트계 등을 예시할 수 있다.
내구층(230)의 두께는, 0.01 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하가 바람직하다.
내구층(230)의 형성은, (i) 화상 형성용층(10)에 내구층(230)이 되는 시트 등을 접합하는 방법, (ii) 화상 형성용층(10) 상에 내구층(230)을 전사로 형성하는 방법, (iii) 상기 성분 등을 포함하는 도공액을, 화상 형성용층(10) 상에 도포, 건조하여 형성하는 방법 등을 예시할 수 있다. 예컨대, 도 16C, 도 16E에 나타내는 바와 같이, 전사 시트의 기재(260) 상에, 상기 기재(260)로부터 박리할 수 있는 내구층(230)이 마련된 전사 시트를 이용함으로써, 내구층(230)을 전사로 형성할 수 있다. 또한, 도 16D에 나타내는 바와 같이, 전사 시트의 기재(260) 상에, 접착층(200), 내구층(230)을 포함하는 전사층(240)이 마련된 전사 시트(250)를 이용하여, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에, 전사층(240)을 전사함으로써, 화상 형성용층(10)측으로부터, 내구층(230), 접착층(200)이 이 순서로 마련된 가식 시트(150)로 할 수 있다.
본 개시의 가식 시트(150)로서는, 본 개시의 기록 매체(100)나, 본 개시의 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상이 형성된 것을 예시할 수 있다.
본 개시의 일례로서의 가식 시트(150)는, 지지체(1), 화상 형성용층(10), 화상 상부층을 갖고, 지지체(1) 및 화상 상부층 중 어느 한쪽 또는 양쪽이 하나 또는 복수의 광택도 조정층을 포함한다. 화상 상부층으로서는, 내구층(230), 접착층(200) 등을 예시할 수 있다. 화상 상부층은 그 이외여도 좋다. 본 개시의 일례로서의 가식 시트(150)는, 내구층(230) 및 접착층(200)을 포함하고, 내구층(230) 및 접착층(200) 중 어느 한쪽 또는 양쪽이 광택도 조정층이다. 일례로서의 내구층(230)이나 접착층(200)은 보이드층 또는 요철층이다.
본 개시의 일례로서의 가식 시트(150)는 기능층을 포함한다. 본 개시의 일례로서의 가식 시트(150)는, 최외측 표면에 위치하는 기능층을 포함한다. 기능층은, 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 것을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 일례로서의 기능층은 접착층 상에 위치하고 있다. 일례로서의 기능층은, 내구층 상에 위치하고 있다. 일례로서의 기능층은, 지지체(1)와 화상 형성용층(10) 사이에 위치하고 있다. 일례로서의 기능층은, 지지체(1)의 화상 형성용층(10)과는 반대측에 위치하고 있다. 일례로서의 지지체(1)는 기능층을 포함한다. 본 개시의 일례로서의 가식 시트(150)는 복수의 기능층을 포함한다.
<<분리 부재를 갖는 가식 시트>>
다음에, 본 개시의 실시형태에 따른 분리 부재를 갖는 가식 시트(이하, 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트)에 대해서 설명한다. 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)는, 가식 시트(150)의 지지체(1)측에 분리 부재(60)가 마련되어 있다(도 7, 도 8B, 도 9B 참조). 분리 부재(60)는, 가식 시트(150)로부터 분리할 수 있다. 분리 부재(60)는, 열에너지를 인가하여 가식 시트(150)로부터 분리할 수 있는 것이어도 좋고, 열에너지를 인가하지 않고, 가식 시트(150)로부터 분리할 수 있는 것이어도 좋다.
본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)를 이루는 가식 시트(150)로서는, 상기에서 설명한 본 개시의 가식 시트(150)를 그대로 이용할 수 있다. 분리 부재로서는, 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)에서 설명한 분리 부재(60)를 그대로 이용할 수 있다. 따라서, 가식 시트(150) 및 분리 부재(60)에 대한 여기서의 상세한 설명은 생략한다.
도 7, 도 8B, 도 9B는 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 각 도면에 나타내는 형태의 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)는, 상기 본 개시의 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 화상 형성용층(10)에 화상(50)이 형성된 것이다. 또한, 각 도면에 나타내는 형태에서는, 화상 형성용층(10)에 화상(50)이 형성되어 있지만, 화상(50)이 형성되기 전의 화상 형성용층(10)이어도 좋다.
본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)는 핸들링성이 양호하다. 또한, 각종 전사 방식을 이용하여, 분리 부재(60)를 분리하면서, 또는 분리한 후에, 가식 대상물(300)과 가식 시트(150)를 일체화할 수 있다.
<<가식품>>
다음에, 본 개시의 실시형태에 따른 가식품(이하, 본 개시의 가식품이라고 함)에 대해서 설명한다. 본 개시의 가식품(400)은, 도 10A, 도 10B에 나타내는 바와 같이, 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)이 일체화되어 있다.
본 개시의 가식품(400)을 구성하는 가식 시트(150)로서는, 본 개시의 가식 시트(150)를 적절하게 선택하여 이용할 수 있고, 여기서의 상세한 설명은 생략한다.
도 10A에 나타내는 형태의 가식품(400)은, 가식 시트가 접착층(200)을 포함하며, 가식 시트(150)의 화상 형성용층(10)측에서, 가식 대상물(300)과 일체화되어 있다. 도 10B에 나타내는 형태의 가식품(400)은, 가식 시트(150)의 지지체(1)측에서, 가식 대상물(300)과 일체화되어 있다. 본 개시의 가식품(400)은, 본 개시의 가식 시트(150)를 포함하기 때문에, 가식품(400)에 참신한 의장성을 부여할 수 있다. 도 10A에 나타내는 형태의 가식품(400)의 가식 시트(150)는, 지지체(1)측에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하인 가식 시트(150)인 것이 바람직하다. 도 10B에 나타내는 형태의 가식품(400)의 가식 시트(150)는, 화상 형성용층(10)측에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하인 가식 시트(150)인 것이 바람직하다.
(가식 대상물)
가식 대상물(300)의 형상, 크기, 재질 등에 한정은 없다. 가식 대상물(300)로서는, 보통지, 상질지, 트레이싱 페이퍼, 목재, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴·부타디엔·스티렌(ABS) 수지, 폴리염화비닐 등의 수지판(필름이어도 좋음), 알루미늄 등의 금속판, 유리판 및 도기 등의 세라믹판을 예시할 수 있다. 가식 대상물(300)은 복수의 부재가 적층된 것이어도 좋다. 가식 대상물(300)은 소정의 화상을 가져도 좋다. 가식 대상물(300)은, 그의 전체 또는 일부가 곡률이나 요철 구조 등을 가져도 좋다.
일례로서의 가식 대상물(300)은 투명성을 갖는다. 이 형태의 가식 대상물(300)은, 본 개시의 가식품(400)을 가식 대상물(300)측에서 보았을 때에, 가식 시트(150)의 화상 형성용층(10)에 형성된 화상을 시인할 수 있다. 가식 대상물(300)은, 일부분이 투명성을 갖는 것이어도 좋다. 투명성은 무색 투명, 반투명 및 유색 투명을 포함한다. 본 개시의 가식품(400)은, 본 개시의 가식 시트(150)를 포함하기 때문에, 가식 시트(150)측에서 화상 형성용층(10)에 형성된 화상을 시인할 수 있다. 본 개시의 일례로서의 가식 시트(150)는 광택도 조정층 등을 포함한다. 이 형태의 가식 시트(150)를 포함하는 가식품(400)은, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상(50)의 의장성이 보다 참신하다.
<<가식품의 제조 방법>>
다음에, 본 개시의 실시형태에 따른 가식품의 제조 방법(이하, 본 개시의 가식품의 제조 방법이라고 함)에 대해서 설명한다.
<제1 실시형태의 가식품의 제조 방법>
본 개시의 제1 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 화상 형성 공정 및 일체화 공정을 포함한다. 화상 형성 공정은, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성하는 공정이다(도 11A 참조). 일체화 공정은, 화상 형성 공정 후에, 기록 매체(100)와 가식 대상물(300)을 일체화시키는 공정이다(도 11B 참조). 도 11은 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
본 개시의 제1 실시형태의 가식품의 제조 방법에 이용되는 기록 매체(100)는, 상기에서 설명한 본 개시의 기록 매체(100)를 적절하게 선택하여 이용하면 좋다. 또한, 가식 대상물(300)로서는, 본 개시의 가식품(400)에서 설명한 가식 대상물(300)을 적절하게 선택하여 이용하면 좋다.
(화상 형성 공정)
화상 형성 공정에 한정은 없고, 상기 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 각종 화상 형성 방법을 적절하게 선택하여 행하면 좋다. 바람직한 형태의 가식품의 제조 방법은, 승화형 열전사 방식이나 용융형 열전사 방식으로 화상의 형성을 행한다. 이것은, 후술하는 제2 실시형태 및 제3 실시형태의 가식품의 제조 방법도 동일하다. 또한, 도 12∼도 15에 나타내는 형태에 있어서의 화상 형성용층(10)에 화상이 형성된 기록 매체(100)나, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)는, 화상이 형성된 본 개시의 가식 시트(150)나, 화상이 형성된 본 개시의 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)에 대응하고 있다.
(일체화 공정)
일체화 공정은, 화상 형성 공정 후의 기록 매체(100)와, 가식 대상물(300)을 일체화시키는 공정이다. 도 11B에 나타내는 형태에서는, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에서, 가식 대상물(300)과 일체화시키고 있다. 기록 매체(100)의 지지체(1)측에서, 가식 대상물(300)와 일체화시켜도 좋다. 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에서, 가식 대상물(300)와 일체화시킨 경우에는, 제조된 가식품(400)은, 가식 대상물(300), 화상 형성용층, 지지체(1)가 이 순서로 적층된 적층 구조이며, 화상 형성용층(10)에 형성된 화상을 지지체(1)로 보호할 수 있다. 이 경우, 제조된 가식품(400)의 표면에 광택도 조정층을 위치시킬 수 있는 기록 매체(100)(가식 시트(150))를 이용하는 것이 바람직하다.
본 개시의 가식품의 제조 방법에 이용되는 기록 매체(100)가, 지지체(1)측에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하인 기록 매체인 경우에는, 화상 형성용층(10)측에서 가식 대상물(300)과 일체화시키는 것이 바람직하다. 본 개시의 가식품의 제조 방법에 이용되는 기록 매체(100)가, 화상 형성용층(10)측에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하인 기록 매체인 경우에는, 지지체(1)측에서 가식 대상물(300)과 일체화시키는 것이 바람직하다. 이것은, 각종 형태의 가식품의 제조 방법에 대해서도 동일하다.
(접합 공정)
본 개시의 제1 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 기록 매체(100)의 가식 대상물(300)측에, 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하여도 좋다. 접합 공정은, 일체화 공정보다 전에 행하면 좋다. 접착층(200)의 접합을, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에 행하는 경우에는, 화상 형성용층 형성 공정과 일체화 공정 사이에 접합 공정을 행하면 좋다. 접착층(200)의 접합을, 기록 매체(100)의 지지체측에 행하는 경우에는, 화상 형성 공정보다 전에 접합 공정을 행하여도 좋다. 화상 형성 공정을 고려하면, 화상 형성 공정보다 후에 접합 공정을 행하는 것이 바람직하다.
가식 대상물(300)측에 접착층(200)을 접합하여도 좋다. 미리, 접착층이 마련된 가식 대상물(300)을 이용하여도 좋다. 각 도면에 나타내는 가식품의 제조 방법에서는, 접착층(200)의 기재를 생략하고 있다.
접착층(200)으로서는, 상기 본 개시의 가식 시트에서 설명한 접착층(200)을 적절하게 선택하여 이용하면 좋다. 접착층(200)의 접합은, 접착 필름이나 접착 시트 등을 압박하여 접합하여도 좋고, 접착층을 전사할 수 있는 전사 시트 등을 이용하여 전사로 접합하여도 좋다. 접착 성분을 함유하는 도공액을 도포, 건조하여, 접착층을 접합하여도 좋다.
접착층(200)으로서, 마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)을 이용하여도 좋다. 마스킹 부재를 갖는 접착층(200A)을 이용하는 경우에는, 마스킹 부재를 박리한 후에, 일체화 공정을 행한다. 접착층으로서 양면에 마스킹 부재가 마련된 마스킹 부재를 갖는 접착층을 이용하여도 좋다. 이 경우, 한쪽 면의 마스킹 부재를 박리하여 접합 공정을 행하고, 그 후, 다른쪽 면의 마스킹 부재를 박리하여, 일체화 공정을 행하면 좋다.
<제2 실시형태의 가식품의 제조 방법>
본 개시의 제2 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 화상 형성 공정, 분리 공정 및 일체화 공정을 포함한다. 화상 형성 공정은, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성하는 공정이다(도 12A 참조). 분리 공정은, 화상 형성 공정 후에, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)로부터 분리 부재(60)를 분리하는 공정이다(도 12B 참조). 일체화 공정은, 분리 공정 후에, 분리 부재(60)가 분리된 기록 매체(100)와 가식 대상물(300)을 일체화시키는 공정이다(도 12C 참조). 도 12는 본 개시의 가식품의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
(분리 공정)
분리 공정은, 분리부를 갖는 기록 매체(100X)로부터 분리 부재(60)를 분리하는 공정이다. 본 공정을 거침으로써, 제1 실시형태의 가식품의 제조 방법에서 설명한 기록 매체(100)와 동일한 구성이 된다. 이 분리는, 상기에서 설명한 바와 같이, 열에너지를 인가하여 행하여도 좋고, 열에너지를 인가하지 않고 행하여도 좋다.
일체화 공정에 대해서도, 상기 제1 실시형태의 가식품의 제조 방법에서 설명한 방법 등을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 분리 부재(60)가 분리된 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에서 가식 대상물(300)과 일체화시켜도 좋고(도 12C 참조), 지지체(1)측에서 가식 대상물(300)과 일체화시켜도 좋다. 분리 부재(60)를 분리한 후의, 기록 매체(100)의 지지체(1)의 표면에 점착층 등이 위치하는 경우에는, 상기 점착층을 이용하여, 분리 부재(60)가 분리된 기록 매체(100)와 가식 대상물(300)을 일체화할 수 있다. 이 경우, 접착층을 접합하는 접합 공정을 특별히 요하지 않는다. 이 경우, 기록 매체(100)의 지지체(1)측에서 가식 대상물(300)과 일체화할 수 있다.
도 13A에 나타내는 바와 같이, 분리 부재(60)를 단계적으로 분리를 할 수 있는 구성(60A, 60B)으로 하고, 도 13B에 나타내는 바와 같이, 분리 공정에 있어서, 분리 부재(60)의 일부분(60B)을 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)로부터 분리한다. 계속해서, 도 13C에 나타내는 바와 같이, 일체화 공정을 행한다. 계속해서, 도 13D에 나타내는 바와 같이, 기록 매체(100)측에 남아 있는 분리 부재(60)의 다른 일부분(60A)을, 가식 대상물(300)과 일체화되어 있는 기록 매체(100)로부터 분리하여도 좋다. 도 14A에 나타내는 바와 같이, 분리 부재(60)를 단계적으로 분리를 할 수 있는 구성(60A, 60B)으로 하고, 도 14B에 나타내는 바와 같이, 분리 공정에서, 분리 부재(60)의 일부분(60B)을 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)로부터 분리한다. 계속해서, 도 14C에 나타내는 바와 같이, 기록 매체(100)측에 남아 있는 분리 부재(60)의 다른 일부분(60A)으로부터 기록 매체(100)를 분리(박리)하면서, 분리 부재의 전체가 분리된 기록 매체(100)를 가식 대상물(300)측에 전사로 일체화(밀착)시키는 일체화 공정으로 하여도 좋다. 또한, 분리 부재(60)의 다른 일부분(60A)을 분리한 후에, 분리 부재의 전체가 분리된 기록 매체(100)를, 가식 대상물(300)과 일체화시켜도 좋다.
<제3 실시형태의 가식품의 제조 방법>
본 개시의 제3 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 도 15A에 나타내는 바와 같이, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 화상 형성용층(10)에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 도 15B에 나타내는 바와 같이, 화상 형성 공정 후에, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)의 화상 형성용층(10)측에서, 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)와 가식 대상물(300)을 일체화시키는 공정과, 도 15C에 나타내는 바와 같이, 일체화 공정 후, 가식 대상물(300)와 일체화된 분리 부재를 갖는 기록 매체(100X)로부터 분리 부재(60)를 분리하는 공정을 포함한다.
본 개시의 제3 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 분리 공정과, 일체화 공정의 순서가 바뀌는 점 및 일체화 공정을 분리 부재를 갖는 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에서 행하는 것을 한정하고 있는 점에서, 상기 본 개시의 제2 실시형태의 가식품의 제조 방법과 상위하다.
(내구층 형성 공정)
또한, 상기 제1 실시형태∼제3 실시형태의 제조 방법에 있어서, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에 접착층을 접합 또는 전사하는 경우에는, 접착층을 접합 또는 전사하기 전에, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10) 상에 내구층을 형성하는 내구층 형성 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 가식 대상물(300)측에 접착층(200)을 접합 또는 전사하여, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)측에서, 가식 대상물(300)과 일체화를 시키는 경우에도, 일체화 공정 전에, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10) 상에 내구층을 형성하는 내구층 형성 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 내구층 형성 공정을 포함하는 본 개시의 제조 방법은, 기록 매체(100)의 화상 형성용층(10)에 형성된 화상의 성분이, 접착층(200)측으로 이행하여, 화상에 번짐이 생기는 것을 억제할 수 있다.
또한, 기록 매체(100)의 지지체(1)측에서, 가식 대상물(300)과 일체화시키는 경우에도, 화상 형성용층(10) 상에 내구층(230)을 형성하는 내구층 형성 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 이 공정을 포함하는 제조 방법에 따르면, 기록 매체(100)의 지지체(1)측에서, 가식 대상물(300)과 일체화시켜 제조되는 가식품(400)의 구성을, 가식 대상물(300)측에서, 지지체(1), 화상 형성용층(10), 내구층(230)이 이 순서로 마련된 구성으로 할 수 있어, 화상 형성용층(10)의 화상을 내구층으로 보호할 수 있다.
내구층으로서는, 상기 본 개시의 가식 시트(150)에서 설명한 내구층(230)을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
<제4 실시형태의 가식품의 제조 방법>
제4 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)을 일체화시키는 공정을 포함한다. 제4 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 가식 시트(150), 또는 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)를 이용한다.
본 개시의 각 가식품의 제조 방법은, 일체화 공정 후에, 가식 대상물(300)과는 반대측에, 각종 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정을 포함하여도 좋다. 분리 부재를 갖는 기록 매체(100)나, 분리 부재를 갖는 가식 시트(150X)를 이용하는 경우에는, 분리 부재(60)를 분리하는 분리 공정이나, 일체화 공정보다 후에 기능층 형성 공정을 행하면 좋다.
기능층 형성 공정을 포함하는 본 개시의 가식품의 제조 방법은, 기능층으로 가식품에 추가적인 기능을 부여할 수 있다. 기능층으로서는, 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 기능층을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 일례로서의 기능층 형성 공정은, 가식 시트(150)의 가식 대상물(300)과는 반대측에, 촉감층, 내지문성층, 대전 방지층, 보이드층 및 요철층 중 적어도 하나를 형성한다. 바람직하게는, 가식 시트(150)의 가식 대상물(300)과는 반대측에, 요철 필름을 형성한다.
기능층의 형성은, 예컨대, 상기에서 설명한 접착층(200) 등을 이용한 접합 등으로 형성할 수 있다. 기능층을 전사로 형성하여도 좋다. 기능층을 도공액의 도포, 건조로 형성하여도 좋다.
<다른 실시형태에 따른 가식품의 제조 방법>
본 개시의 다른 실시형태에 따른 가식품의 제조 방법은, 가식 시트와, 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과, 일체화 공정 후, 가식 시트의 가식 대상물과는 반대측의 면에, 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정을 포함한다. 기능층 형성 공정은, 가식 시트와 기능층의 적층체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 적층체의 광택도를 측정하였을 때의 값이 60 이하가 되도록, 기능층을 형성하는 공정이다. 가식 시트는, 지지체와, 및 화상층을 갖는다. 화상층은, 화상 형성용층(10)에 화상을 형성한 것, 또는 화상이 미리 형성되어 있는 층이다.
본 개시의 다른 실시형태에 따른 가식품의 제조 방법은, 가식 시트(150) 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이나 가식품의 광택도에 한정은 없고, 일체화 공정 후에, 가식 시트와 기능층의 적층체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 적층체의 광택도가 60 이하가 되도록 기능층을 형성하고 있다는 점에서, 상기 본 개시의 가식품의 제조 방법과 상위하다.
본 개시의 다른 실시형태에 따른 가식품의 제조 방법에 이용되는 가식 시트로서는, 가식 시트와 기능층의 적층체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있는 광선 투과율을 갖는 것을 이용하면 좋다. 기능층은, 상기 본 개시의 기록 매체(100) 등에서 설명한, 기능층이나 광택도 조정층을 적절히 선택하여 이용하면 좋다. 본 개시의 기록 매체(100)를 이용하는 경우에는, 적층체의 가시광 영역의 광선 투과율이나 광택도가 상기 규정을 만족할 수 있는 기능층을 이용하면 좋다. 예컨대, 투명성을 갖는 기능층 등을 이용하면 좋다.
(절단 공정)
본 개시의 각종 실시형태의 가식품의 제조 방법은, 일체화 공정보다 후에, 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)의 적층체를, 두께 방향으로 절단하는 절단 공정을 포함하여도 좋다.
일체화 공정보다 후에 절단 공정을 행함으로써, 가식 시트(150)와 가식 대상물(300)의 단부면이 맞추어진 가식품을 제조할 수 있다.
각종 실시형태의 가식품의 제조 공정이, 기능층 형성 공정을 포함하는 경우, 절단 공정은, 기능층 형성 공정보다 전이어도 좋고, 기능층 형성 공정보다 후여도 좋다. 기능층 형성 공정보다 후에 절단 공정을 행하는 경우, 가식 시트(150), 가식 대상물(300) 및 기능층의 단부면이 맞추어진 가식 시트를 제조할 수 있어, 바람직하다.
일체화 공정보다 전에, 가식 시트(150) 및 가식 대상물(300) 중 어느 한쪽, 또는 양쪽을 절단하여도 좋다.
각종 실시형태의 가식품의 제조 공정이, 분리 공정을 포함하고, 이 분리 공정을, 일체화 공정보다 후에 행하는 경우, 절단 공정은, 분리 공정보다 전이어도 좋고, 분리 공정보다 후여도 좋다.
절단 방법에 한정은 없고, 절단날, 레이저 커터 등을 예시할 수 있다. 이외의 절단 방법이어도 좋다. 레이저 커터에 의한 절단은, 가식 시트(150), 가식 대상물(300)을 절단할 때에, 버어(burr)나, 찌꺼기의 발생을 억제할 수 있어, 바람직하다.
<<기록 매체와 전사 시트의 조합>>
다음에, 본 개시의 실시형태에 따른 기록 매체와 전사 시트의 조합(이하, 본 개시의 조합이라고 함)에 대해서 설명한다.
본 개시의 조합은, 지지체와, 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖는 기록 매체와, 기재와 기재로부터 박리 가능하게 마련된 전사층을 갖는 전사 시트의 조합이다. 본 개시의 조합은, 기록 매체 상에, 전사 시트의 전사층을 전사함으로써, 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도가 60 이하인 전사물을 제조할 수 있다.
본 개시의 조합은, 참신한 의장성을 갖는 인화물이나 가식 시트 등을 제조할 수 있다.
본 개시의 조합에서 이용되는 기록 매체에 한정은 없다. 예컨대, 상기 본 개시의 기록 매체(100)를 그대로 이용하여도 좋다. 화상 형성용층에 화상이 형성된 기록 매체여도 좋다. 또한, 본 개시의 조합에서 이용되는 기록 매체 전체의 가시광 영역에 있어서의 광선 투과율이나, 기록 매체의 광택도에 한정은 없고, 본 개시의 조합으로 제조되는 전사물 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상으로 할 수 있고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 광택도를 60 이하로 할 수 있으면 좋다. 전사층을 갖는 전사 시트에 대해서도 동일하다. 예컨대, 본 개시의 조합을 구성하는 기록 매체는, 상기 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 광택도 조정층을 포함하지 않아도 좋다. 이 경우, 전사 시트의 전사층을, 광택도 조정층을 포함하는 전사층으로 하면 좋다.
일례로서의 본 개시의 조합은, 기록 매체가 광택도 조정층을 포함하고 있거나, 또는 전사 시트의 전사층이 광택도 조정층을 포함한다. 또는, 기록 매체의 지지체 및 전사 시트의 전사층의 양쪽이 광택도 조정층을 포함한다. 본 개시의 일례로서의 조합은, 전사 시트의 전사층이 상기 본 개시의 기록 매체(100)에서 설명한 내구층(230)을 포함하고, 이 내구층(230)이 광택도 조정층이다. 일례로서의 전사층은, 보이드를 갖는 내구층(230), 또는 표면이 요철 형상을 갖는 내구층(230)을 포함한다. 전사 시트의 전사층이 광택도 조정층을 포함하는 적층 구조의 경우, 전사후의 최외측 표면에 광택도 조정층을 위치시킬 수 있는 전사 시트가 바람직하다. 구체적으로는, 전사 시트의 전사층은, 전사 시트의 기재로부터 가장 가까이에 위치하는 광택도 조정층을 포함하는 것이 바람직하다. 전사층은 단층 구조여도 좋고, 적층 구조여도 좋다.
일례로서의 전사 시트는, 기재 상에, 상기 기재로부터 박리할 수 있는 내구층이 마련되어 있다. 이 형태의 전사 시트는, 기록 매체의 화상 형성용층측에 전사층을 전사하였을 때에, 내구층으로 기록 매체의 화상 형성용층을 보호할 수 있다. 일례로서의 전사 시트는, 기재 상에 전사층이 마련되어 있다. 이 전사층은, 기재로부터 가장 가까이에 위치하는 접착층 및 내구층을 포함한다. 이 형태의 전사 시트는, 화상 형성용층을 보호할 수 있고, 또한 전사물의 표면에 위치하는 접착층으로 가식 대상물 등과 일체화할 수 있다. 이들 형태에 있어서, 내구층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 또한, 이 이외의 층을 포함하는 전사층으로 하고, 내구층 이외의 층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 전사 시트로서는, 예컨대, 도 16C, 도 16D, 도 16E에 나타내는 형태의 것을 이용할 수 있다. 또한, 도 16C, 도 16D, 도 16E에 나타내는 형태의 전사 시트(250)에 있어서, 기재(260)와 내구층(230) 사이, 기재(260)와 접착층(200) 사이 및 기재(260)와 전사층(240) 사이에 이형층 등을 마련하여도 좋다. 이형층은, 이들 층을 전사하였을 때에 기재(260)측에 남는 층이다. 도 16C, 도 16E에 나타내는 형태에 있어서, 기재(260)와 내구층(230) 사이에 박리층을 마련하여, 박리층 및 내구층을 포함하는 전사층으로 하여도 좋다. 이 경우, 박리층을 광택도 조정층으로 하여도 좋다. 이형층이나 박리층은, 전사 시트의 분야에서 종래 공지의 것을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
바람직한 본 개시의 조합은, 기록 매체의 화상 형성용층측에, 전사 시트의 전사층을 전사함으로써 얻어지는 전사물 전체의 가시광 영역의 광선 투과율을 10% 이상 80% 이하로 할 수 있고, 또한 전사층측에서 측정 각도 45°의 조건에서 측정하였을 때의 전사물의 광택도를 60 이하로 할 수 있다.
본 개시의 일실시형태의 기록 매체는, 화상 형성에 이용되는 기록 매체로서, 지지체 및 상기 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖고, 상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 기록 매체의 광택도가 60 이하이다.
본 개시의 일실시형태의 기록 매체는, 상기 지지체가, 표면이 요철 구조를 갖는 요철층, 또는 내부에 보이드를 갖는 보이드층을 포함하거나, 또는 상기 지지체와 상기 화상 형성용층 사이에, 상기 요철층 또는 상기 보이드층이 위치한다.
본 개시의 일실시형태의 이형 부재를 갖는 기록 매체는, 본 개시의 각종 실시형태의 기록 매체의 지지체측에, 상기 기록 매체로부터 분리할 수 있는 분리 부재가 마련되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 이형 부재를 갖는 기록 매체는, 열에너지의 인가로, 상기 기록 매체로부터 상기 분리 부재를 분리할 수 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식 시트는, 지지체 및 상기 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖고, 상기 가식 시트 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 가식 시트의 광택도가 60 이하이다.
본 개시의 일실시형태의 가식 시트는, 하기 (1)∼(14) 중 하나 또는 복수를 만족하여도 좋다. 복수를 만족하는 경우, 어느 것을 조합하여도 좋다.
(1) 상기 지지체가, 표면이 요철 구조를 갖는 요철층, 또는 내부에 보이드를 갖는 보이드층을 포함한다.
(2) 상기 지지체와 상기 화상 형성용층 사이에, 상기 요철층 또는 상기 보이드층이 위치한다.
(3) 상기 화상 형성용층에 화상이 형성되어 있다.
(4) 상기 화상이 열전사 화상이다.
(5) 상기 화상이, 잉크젯 인쇄 방식 또는 토너 인쇄 방식으로 형성된 화상이다.
(6) 상기 화상 형성용층 상에 접착층이 마련되어 있다.
(7) 상기 접착층 상에, 상기 접착층으로부터 박리할 수 있는 마스킹 부재가 마련되고, 상기 광선 투과율 및 상기 광택도가, 상기 마스킹 부재를 박리한 후의 광선 투과율 및 광택도이다.
(8) 상기 화상 형성용층과 상기 접착층 사이에 내구층이 마련되어 있다.
상기 내구층이, 제1층을 포함하는 단층 구조 또는 적층 구조이고, 상기 제1층이 함유하고 있는 주성분의 유리 전이 온도(Tg)가, 상기 접착층이 함유하고 있는 주성분의 유리 전이 온도(Tg)보다 높다.
(9) 상기 제1층이 상기 접착층과 접하고 있다.
(10) 상기 내구층이 상기 제1층을 포함하는 적층 구조이고, 상기 제1층이 상기 접착층으로부터 가장 가까이에 위치하고 있다.
(11) 상기 화상 형성용층 상에 내구층이 마련되어 있다.
(12) 상기 내구층이 자외선 흡수제를 함유하고 있다.
(13) 상기 제1층이 자외선 흡수제를 함유하고 있다.
(14) 최외측 표면에 위치하는 기능층을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 분리 부재를 갖는 가식 시트는, 본 개시의 각종 실시형태의 가식 시트의 지지체측에, 상기 가식 시트로부터 분리할 수 있는 분리 부재가 마련되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 분리 부재를 갖는 가식 시트는, 열에너지의 인가로, 상기 가식 시트로부터 상기 분리 부재를 분리할 수 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식품은, 본 개시의 각종 실시형태의 가식 시트와, 가식 대상물이 일체화되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식품은, 하기 (15), (16) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 만족한다.
(15) 상기 가식 시트의 상기 가식 대상물과는 반대측에 기능층이 마련되어 있다. 기능층은 본 개시의 기능층을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.
(16) 상기 가식 시트와 상기 기능층 사이에 접착층이 마련되어 있다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 각종 실시형태의 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 상기 화상 형성 공정 후에, 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 가식품은, 하기 (17), (18) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 만족한다.
(17) 상기 화상 형성 공정 후의 상기 기록 매체, 또는 상기 가식 대상물에 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하고, 이 접착층을 이용하여, 상기 일체화 공정을 행한다.
(18) 상기 화상 형성용층측에서 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시킨다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 각종 실시형태의 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 상기 화상 형성 공정 후에, 상기 분리 부재를 분리하는 분리 공정과, 상기 분리 공정 후에, 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 가식품은, 하기 (19), (20) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 만족한다.
(19) 상기 화상 형성 공정 후의 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층측, 상기 분리 공정 후의 상기 기록 매체의 상기 화상 형성용층측, 및 상기 가식 대상물 중 어느 하나에 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하고, 이 접착층을 이용하여, 상기 일체화 공정을 행한다.
(20) 상기 화상 형성용층측에서 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시킨다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 본 개시의 각종 실시형태의 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과, 상기 화상 형성 공정 후에, 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과, 상기 일체화 공정 후에, 상기 분리 부재를 분리하는 분리 공정을 포함한다.
본 개시의 일실시형태의 가식품은, 하기 (21), (22) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 만족한다.
(21) 상기 화상 형성 공정 후의 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층측, 또는 상기 가식 대상물에 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하고, 이 접착층을 이용하여, 상기 일체화 공정을 행한다.
(22) 상기 화상 형성용층측에서 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시킨다.
본 개시의 일실시형태의 가식품의 제조 방법은, 가식 시트와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과, 상기 일체화 공정 후, 상기 가식 시트의 상기 가식 대상물과는 반대측의 면에, 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정을 포함하고, 상기 가식 시트가 지지체 및 화상층을 갖고, 상기 기능층 형성 공정이, 상기 가식 시트와 상기 기능층의 적층체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 적층체의 광택도가 60 이하가 되도록, 기능층을 형성하는 공정이다.
기능층은, 본 개시의 기능층을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.
본 개시의 일실시형태의 기록 매체와 전사 시트의 조합은, 상기 기록 매체가 지지체 및 화상층을 갖고, 상기 전사 시트가, 기재 및 상기 기재로부터 박리할 수 있는 전사층을 갖고, 상기 기록 매체 상에, 상기 전사 시트의 상기 전사층을 전사함으로써, 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 광택도가 60 이하인 전사물이 얻어진다.
본 개시의 일실시형태의 기록 매체와 전사 시트의 조합은, 상기 전사 시트의 전사층이, 표면이 요철 구조를 갖는 요철층, 또는 내부에 보이드를 갖는 보이드층을 포함한다.
1: 지지체
1A, 1B: 지지체 구성 부재
1C: 분리부 기재
3: 프라이머층
6: 분리 보조층
10: 화상 형성용층
50: 화상
60: 분리 부재
100: 기록 매체
100X: 분리 부재를 갖는 기록 매체
150: 가식 시트
150X: 분리 부재를 갖는 가식 시트
200: 접착층
200A: 마스킹 부재를 갖는 접착층
210: 마스킹 부재
230: 내구층
240: 전사층
250: 전사 시트
260: 전사 시트의 기재
300: 가식 대상물
400 : 가식품

Claims (36)

  1. 화상 형성에 이용되는 기록 매체로서,
    지지체 및 상기 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖고,
    상기 기록 매체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고,
    측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 기록 매체의 광택도가 60 이하인 기록 매체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 지지체가, 표면이 요철 구조를 갖는 요철층, 또는 내부에 보이드를 갖는 보이드층을 포함하거나, 또는
    상기 지지체와 상기 화상 형성용층 사이에, 상기 요철층 또는 상기 보이드층이 위치하는 기록 매체.
  3. 제1항 또는 제2항에 기재된 기록 매체의 지지체측에, 상기 기록 매체로부터 분리할 수 있는 분리 부재가 마련된, 분리 부재를 갖는 기록 매체.
  4. 제3항에 있어서, 열에너지의 인가로, 상기 기록 매체로부터 상기 분리 부재를 분리할 수 있는, 분리 부재를 갖는 기록 매체.
  5. 가식 시트로서,
    지지체 및 상기 지지체 상에 마련된 화상 형성용층을 갖고,
    상기 가식 시트 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고,
    측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 가식 시트의 광택도가 60 이하인 가식 시트.
  6. 제5항에 있어서, 상기 지지체가, 표면이 요철 구조를 갖는 요철층, 또는 내부에 보이드를 갖는 보이드층을 포함하거나, 또는
    상기 지지체와 상기 화상 형성용층 사이에, 상기 요철층 또는 상기 보이드층이 위치하는 가식 시트.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 화상 형성용층에 화상이 형성된 가식 시트.
  8. 제7항에 있어서, 상기 화상이 열전사 화상인 가식 시트.
  9. 제7항에 있어서, 상기 화상이 잉크젯 인쇄 방식 또는 토너 인쇄 방식으로 형성된 화상인 가식 시트.
  10. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화상 형성용층 상에 접착층이 마련된 가식 시트.
  11. 제10항에 있어서, 상기 접착층 상에, 상기 접착층으로부터 박리할 수 있는 마스킹 부재가 마련되고, 상기 광선 투과율 및 상기 광택도가 상기 마스킹 부재를 박리한 후의 광선 투과율 및 광택도인 가식 시트.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 화상 형성용층과 상기 접착층 사이에 내구층이 마련된 가식 시트.
  13. 제12항에 있어서, 상기 내구층이 제1층을 포함하는 단층 구조 또는 적층 구조이고,
    상기 제1층이 함유하고 있는 주성분의 유리 전이 온도(Tg)가, 상기 접착층이 함유하고 있는 주성분의 유리 전이 온도(Tg)보다 높은 가식 시트.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제1층이 상기 접착층과 접하고 있는 가식 시트.
  15. 제13항에 있어서, 상기 내구층이 상기 제1층을 포함하는 적층 구조이고, 상기 제1층이 상기 접착층으로부터 가장 가까이에 위치하고 있는 가식 시트.
  16. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화상 형성용층 상에 내구층이 마련된 가식 시트.
  17. 제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 내구층이 자외선 흡수제를 함유하고 있는 가식 시트.
  18. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1층이 자외선 흡수제를 함유하고 있는 가식 시트.
  19. 제5항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 최외측 표면에 위치하는 기능층을 포함하는 가식 시트.
  20. 제5항 내지 제19항 중 어느 한 항에 기재된 가식 시트의 지지체측에, 상기 가식 시트로부터 분리할 수 있는 분리 부재가 마련된, 분리 부재를 갖는 가식 시트.
  21. 제20항에 있어서, 열에너지의 인가로, 상기 가식 시트로부터 상기 분리 부재를 분리할 수 있는, 기재의 분리 부재를 갖는 가식 시트.
  22. 제7항 내지 제19항 중 어느 한 항에 기재된 가식 시트와 가식 대상물이 일체화된 가식품.
  23. 제22항에 있어서, 상기 가식 시트의 상기 가식 대상물과는 반대측에 기능층이 마련된 가식품.
  24. 제23항에 있어서, 상기 가식 시트와 상기 기능층 사이에 접착층이 마련된 가식품.
  25. 가식품의 제조 방법으로서,
    제1항 또는 제2항에 기재된 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과,
    상기 화상 형성 공정 후에, 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정
    을 포함하는 가식품의 제조 방법.
  26. 제25항에 있어서, 상기 화상 형성 공정 후의 상기 기록 매체, 또는 상기 가식 대상물에 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하고, 이 접착층을 이용하여, 상기 일체화 공정을 행하는, 가식품의 제조 방법.
  27. 제25항 또는 제26항에 있어서, 상기 화상 형성용층측에서 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는, 가식품의 제조 방법.
  28. 가식품의 제조 방법으로서,
    제3항 또는 제4항에 기재된 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과,
    상기 화상 형성 공정 후에, 상기 분리 부재를 분리하는 분리 공정과,
    상기 분리 공정 후에, 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정
    을 포함하는 가식품의 제조 방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 화상 형성 공정 후의 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층측, 상기 분리 공정 후의 상기 기록 매체의 상기 화상 형성용층측 및 상기 가식 대상물 중 어느 하나에 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하고, 이 접착층을 이용하여, 상기 일체화 공정을 행하는, 가식품의 제조 방법.
  30. 제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 화상 형성용층측에서 상기 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는, 가식품의 제조 방법.
  31. 가식품의 제조 방법으로서,
    제3항 또는 제4항에 기재된 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층 상에 화상을 형성하는 화상 형성 공정과,
    상기 화상 형성 공정 후에, 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과,
    상기 일체화 공정 후에, 상기 분리 부재를 분리하는 분리 공정
    을 포함하는, 가식품의 제조 방법.
  32. 제31항에 있어서, 상기 화상 형성 공정 후의 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체의 상기 화상 형성용층측, 또는 상기 가식 대상물에 접착층을 접합하는 접합 공정을 포함하고, 이 접착층을 이용하여, 상기 일체화 공정을 행하는, 가식품의 제조 방법.
  33. 제31항 또는 제32항에 있어서, 상기 화상 형성용층측에서 상기 분리 부재를 갖는 기록 매체와 가식 대상물을 일체화시키는, 가식품의 제조 방법.
  34. 가식품의 제조 방법으로서,
    가식 시트와 가식 대상물을 일체화시키는 일체화 공정과,
    상기 일체화 공정 후, 상기 가식 시트의 상기 가식 대상물과는 반대측의 면에, 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정
    을 포함하고, 상기 가식 시트가 지지체 및 화상층을 갖고,
    상기 기능층 형성 공정이, 상기 가식 시트와 상기 기능층의 적층체 전체의 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 상기 적층체의 광택도가 60 이하가 되도록, 기능층을 형성하는 공정인, 가식품의 제조 방법.
  35. 기록 매체와 전사 시트의 조합으로서,
    상기 기록 매체가 지지체 및 화상층을 갖고,
    상기 전사 시트가, 기재 및 상기 기재로부터 박리할 수 있는 전사층을 갖고,
    상기 기록 매체 상에, 상기 전사 시트의 상기 전사층을 전사함으로써, 가시광 영역의 광선 투과율이 10% 이상이고, 또한 측정 각도 45°의 조건에서 측정되는 광택도가 60 이하인 전사물이 얻어지는, 기록 매체와 전사 시트의 조합.
  36. 제35항에 있어서, 상기 전사 시트의 전사층이, 표면이 요철 구조를 갖는 요철층, 또는 내부에 보이드를 갖는 보이드층을 포함하는, 기록 매체와 전사 시트의 조합.
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