KR20210105377A - 아실 포스핀 옥사이드 화합물 및 그 제조 방법 - Google Patents

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진 우
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Abstract

본 발명은 아실 포스핀 옥사이드 화합물 및 그 제조 방법을 공개하고, 개시제 분야에 속한다. 상기 방법은 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는 단계를 포함하고, 화합물 B의 화학 구조식은 아래와 같으며, 화합물 C의 화학 구조식은 아래와 같고, 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 화학 구조식은 아래와 같으며, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고; R2는 R1과 동일하며; n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며; m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이다. 상기 제조 방법은 안전하고 친환경적이며 생산량이 높다.
Figure pct00030
(B)
Figure pct00031
(C)

Description

아실 포스핀 옥사이드 화합물 및 그 제조 방법
본 발명은 개시제 분야에 관한 것이고, 특히 아실 포스핀 옥사이드 화합물 및 그 제조 방법에 관한 것이다
감광제 또는 광 경화제라고도 불리우는 광 개시제는 복사 에너지를 흡수하고 화학적 변화를 거쳐 중합 능력을 개시하는 반응 중간체를 생성할 수 있는 시약이다. 여기서, 아실 포스핀 옥사이드 화합물은 광 개시 활성이 높은 광 개시제로서 널리 사용되고 있다.
관련 기술은 상업적으로 사용되는 (2,4,6-트리메틸벤조일)디페닐포스핀옥사이드((2,4,6-trimethylbenzoyl)diphenylphosphine oxide, TPO)를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00001
여기서, TPO의 공업 제조 방법은 주로 두 가지가 있다. 첫 번째는 알칼리 환경에서 디페닐 포스핀 클로라이드과 메탄올을 에스테르화 반응시켜 메틸디페닐포스파이트 중간체를 얻고, 메틸디페닐포스파이트 중간체와 2,4,6-트리메틸벤조일클로라이드를 축합 반응시켜 TPO를 얻는다. 두 번째는 디페닐 포스핀 클로라이드을 가수분해시켜 디페닐포스핀옥사이드를 얻고, 디페닐포스핀옥사이드와 2,4,6-트리메틸벤즈알데히드를 축합 및 산화시켜 TPO를 얻는다. 디페닐 포스핀 클로라이드의 제조 방법은 벤젠과 삼염화인을 삼염화알루미늄에 의해 촉매 반응시킨 후, 먼저 상압 증류에 의해 미반응 벤젠과 삼염화인, 페닐 포스핀 클로라이드를 수집하고, 다음 케틀 잔류물을 염화나트륨에 의해 분해한 후 증류에 의해 디페닐 포스핀 클로라이드를 수집한다.
디페닐 포스핀 클로라이드의 제조 과정에서, 유리 인이 생성되기 쉬워 안전성에 위험이 있고, 디페닐 포스핀 클로라이드의 생산량이 낮으며, 염화수소, 삼염화알루미늄 등 공업 폐기물이 생성되기 쉬워 환경을 오염시킨다. 디페닐 포스핀 클로라이드의 생산 과정에 많은 문제가 있기에 TPO의 생산이 제한되고 TPO를 제조하는 두 번째 방법에서 산화 과정도 안전성 위험이 있다.
본 발명의 실시예는 상기 기술적 과제를 해결할 수 있는 아실 포스핀 옥사이드 화합물 및 그 제조 방법을 제공한다. 구체적인 과제 해결 수단은 아래와 같다.
일 양태에 따르면, 본 발명의 실시예는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법을 제공하고, 여기서, 상기 방법은
유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 상기 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는 단계를 포함하고,
여기서, 상기 화합물 B의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00002
(B)
상기 화합물 C의 화학 구조식은 아래와 같고,
Figure pct00003
(C)
상기 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00004
(A)
여기서, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
R2는 R1과 동일하며;
n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 방법은,
상기 화합물 B와 상기 화합물 C에 의해 형성된 반응계에 루이스 산을 첨가하는 단계를 더 포함한다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 화합물 B, 상기 화합물 C, 상기 유기 염기, 상기 루이스 산의 몰비는 1:1-2:1-5:0.01-2이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 루이스 산은 트리메틸클로로실란, 트리메틸브로모실란, 트리메틸요오드실란, 트리에틸클로로실란, 트리프로필클로로실란, 트리부틸클로로실란, 터트-부틸디메틸클로로실란, 터트-부틸디페닐클로로실란, 트리메틸클로로실란-브롬화나트륨, 트리메틸클로로실란-요오드화나트륨, 트리메틸실릴 메탄술포네이트, 터트-부틸디메틸실릴 메탄술포네이트, 트리메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트, 터트-부틸디메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트 중 적어도 하나로부터 선택된다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 유기 염기는 트리에틸아민, 트리프로필아민, N,N-디이소프로필에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 피리딘, 2,6-디메틸피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘 중 적어도 하나로부터 선택된다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 유기 용매는 톨루엔, 자일렌, 테트라히드로푸란, 2-메틸테트라히드로푸란, 디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 메틸 터트-부틸 에테르, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시, 술포란 중 적어도 하나로부터 선택된다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 화합물 B와 상기 화합물 C의 반응 온도는 -20℃-150℃이고, 반응 시간은 1-8 시간이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시키는 단계는,
상기 화합물 C와 상기 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻고, 제1 반응기에서 상기 유기 염기와 혼합하는 단계;
상기 제1 반응기에 상기 화합물 B를 넣어, 상기 화합물 B와 상기 화합물 C를 반응시키는 단계를 포함한다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 제1 반응기에 상기 화합물 B를 넣는 단계는,
상기 화합물 B와 상기 유기 용매를 포함하는 제2 혼합액을 얻는 단계;
상기 제1 반응기에 상기 제2 혼합액을 적가하는 단계를 포함한다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 화합물 C와 상기 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻는 단계는,
그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 상기 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리하여, 상기 화합물 C와 상기 제1 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻는 단계를 포함하고;
상기 그리냐르 시약의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00005
(D)
여기서, R2는 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이며;
X는 클로로, 브로모 또는 요오드이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 디에틸포스파이트와 상기 그리냐르 시약의 몰비는 1:3-5이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 산 용액은 염산 용액, 브롬화수소산 용액, 요오드화수소산 용액, 황산 용액, 아세트산 용액, 옥살산 용액, 구연산 용액 중 적어도 하나로부터 선택된다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 그리냐르 시약과 상기 디에틸포스파이트의 반응 온도는 -20℃-150℃이고, 반응 시간은 1-4 시간이다.
일 가능한 해결수단에서, 그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리 단계는,
상기 그리냐르 시약과 상기 유기 용매의 제3 혼합액을 구비하는 제2 반응기에 상기 디에틸포스파이트를 넣어, 상기 그리냐르 시약과 상기 디에틸포스파이트를 반응시킨 후, 상기 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리 단계를 포함한다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 그리냐르 시약과 상기 유기 용매의 제3 혼합액은,
개시제 및 상기 유기 용매의 조건에서, 마그네슘 분말과 방향족 할로겐화물을 반응시켜 상기 그리냐르 시약과 상기 유기 용매를 포함하는 제3 혼합액을 얻는 방법으로 제조되고,
여기서, 상기 방향족 할로겐화물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00006
(E);
여기서, R2는 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이며;
X는 클로로, 브로모 또는 요오드이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 방향족 할로겐화물과 상기 마그네슘 분말의 몰비는 1:1-2이다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 개시제는 요오드 및 디브로모에탄 중 적어도 하나로부터 선택된다.
일 가능한 해결수단에서, 상기 마그네슘 분말과 상기 방향족 할로겐화물의 반응 시간은 2-4 시간이다.
다른 양태에 따르면, 본 발명의 실시예는 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 제공하고, 상기 화합물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00007
(A)
여기서, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
R2는 R1과 동일하며;
n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이다.
본 발명의 실시예에서 제공하는 과제 해결 수단은 적어도 아래와 같은 유익한 효과를 포함한다.
본 발명의 실시예에서 제공하는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법은, 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는다. 상기 제조 방법은 디페닐 포스핀 클로라이드를 생산 원료로 사용하지 않기에, 산화 조작이 필요 없고 안전하고 친환경적이며 조작이 쉽고 생산량이 높은 등 특성을 가지고 있어 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 생산에 유리하다. 상기 방법으로 제조된 아실 포스핀 옥사이드 화합물은 안정적인 품질, 고 순도, 높은 수율, 저 비용 등 특성을 가지고 있어 산업 생산에 유리하다
본 발명의 목적, 과제의 해결 수단 및 장점이 보다 명확해지도록, 아래 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명한다.
일 양태에 따르면, 본 발명의 실시예는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법을 제공하고, 상기 방법은
유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는 단계를 포함하고,
여기서, 화합물 B의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00008
(B)
화합물 C의 화학 구조식은 아래와 같고,
Figure pct00009
(C)
아실 포스핀 옥사이드 화합물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00010
(A)
여기서, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
R2는 R1과 동일하며;
n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이다.
설명해야 할 것은, 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 위치는 아실의 오르토, 메타 또는 파라 위치일 수 있다. 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 위치는 포스피노옥실의 오르토, 메타 또는 파라 위치일 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 아실 포스핀 옥사이드 화합물은 광 개시제로 사용될 수 있고, 이는 높은 축합개시 활성, 빠른 광 경화 속도, 우수한 열 안정성, 낮은 후축합 효과, 잔류물이 없는 등 장점이 있기에 UV 경화 코팅제, 인쇄 잉크, UV 경화 접착제, 광섬유 코팅제, 포토 레지스트, 광중합 인쇄 플레이트, 3차원 리소그래피 수지, 치아 필러 등에 적용될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 유기 용매의 사용량은 각 성분의 용해 및 반응을 만족시킬 수 있는 한 특별히 제한되지 않는다.
화합물 B와 화합물 C 사이의 화학 반응은 아래 화학 방정식을 참고할 수 있다.
Figure pct00011
본 발명의 실시예에서 제공하는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법은, 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는다. 상기 제조 방법은 디페닐 포스핀 클로라이드를 생산 원료로 사용하지 않기에, 산화 조작이 필요 없고 안전하고 친환경적이며 조작이 쉽고 생산량이 높은 등 특성을 가지고 있어 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 생산에 유리하다. 상기 방법으로 제조된 아실 포스핀 옥사이드 화합물은 안정적인 품질, 고 순도, 높은 수율, 저 비용 등 특성을 가지고 있어 산업 생산에 유리하다.
본 발명의 실시예에서 제공하는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법은, 화합물 B와 화합물 C에 의해 형성된 반응계에 루이스 산을 첨가하는 단계를 더 포함한다.
이해할 수 있는 것은, 화합물 B와 화합물 C에 의해 형성된 반응계는 화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 유기 용매를 포함한다.
화합물 B와 화합물 C에 의해 형성된 반응계에 루이스 산을 첨가함으로써, 화합물 B와 화합물 C가 부반응 없이 화합물 A를 생성하도록 촉진할 수 있다.
화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 루이스 산의 몰비는 아실 포스핀 옥사이드 화합물를 효율적으로 제조할 수 있는지 여부에 중요한 영향을 미친다. 이를 바탕으로, 화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 루이스 산의 몰비는 1:1-2:1-5:0.01-2일 수 있고, 화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 루이스 산의 몰비는 1:1:1-3:1일 수도 있다.
예를 들면, 화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 루이스 산의 몰비는 1:1:1:0.01, 1:1.1:1.1:0.3, 1:1.4:2:0.5, 1:1.7:2.4:0.7, 1:1.8:3:0.9, 1:1:1:1, 1:1:2:1, 1:1:3:1, 1:1.9:4:1.5, 1:2:5:2 등일 수 있다.
이로써, 화합물 B와 화합물 C가 충분히 반응하도록 하고, 반응 속도가 빠르며 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 효율적이고 고 생산량 제조에 도움이 된다.
본 발명의 실시예는 루이스 산의 종류에 대해 예시를 제공한다. 루이스 산은 트리메틸클로로실란, 트리메틸브로모실란, 트리메틸요오드실란, 트리에틸클로로실란, 트리프로필클로로실란, 트리부틸클로로실란, 터트-부틸디메틸클로로실란, 터트-부틸디페닐클로로실란, 트리메틸클로로실란-브롬화나트륨, 트리메틸클로로실란-요오드화나트륨, 트리메틸실릴 메탄술포네이트, 터트-부틸디메틸실릴 메탄술포네이트, 트리메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트, 터트-부틸디메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트 중 적어도 하나로부터 선택된다.
여기서, 루이스 산은 상기로부터 선택되는 어느 하나, 둘, 셋, 넷, 다섯, 여섯, 일곱 ...... 일 수 있다. 루이스 산이 혼합물일 경우, 각 성분의 비율은 특별히 제한되지 않는다.
상기 몇 가지 루이스 산은 화합물 B와 화합물 C의 반응을 효과적으로 촉진할 수 있고, 다른 성분과의 혼화성이 좋으며, 가격이 저렴하고 입수가 용이하다.
루이스 산을 첨가한 후, 0.8-1.5 시간 동안 교반할 수 있고, 예를 들면 교반 시간은 0.8 시간, 0.9 시간, 1 시간, 1.1 시간, 1.2 시간, 1.3 시간, 1.4 시간, 1.5 시간 등일 수 있다.
이로써, 화합물 B와 화합물 C의 반응을 촉진하도록 루이스 산의 촉매 효과를 효과적으로 보장할 수 있다.
유기 염기는 화합물 B와 화합물 C가 반응하여 생성한 염화수소를 흡수할 수 있고, 유기 염기는 부반응을 일으키지 않는다. 본 발명의 실시예는 유기 염기의 종류에 대해 예시를 제공한다. 유기 염기는 트리에틸아민, 트리프로필아민, N,N-디이소프로필에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 피리딘, 2,6-디메틸피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘 중 적어도 하나로부터 선택된다.
즉 유기 염기는 상기로부터 선택되는 어느 하나, 둘, 셋, 넷, 다섯, 여섯, 일곱, 여덟, 아홉일 수 있다. 유기 염기가 혼합물일 경우, 각 성분의 비율은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 유기 염기가 트리에틸아민 및 N,N-디이소프로필에틸아민의 혼합물일 경우, 양자의 질량비는 1:1, 1:2, 1:3, 2:1, 2:3 등일 수 있다. 유기 염기가 트리에틸아민, N,N-디이소프로필에틸아민, N,N-디메틸아닐린 삼자의 혼합물일 경우, 삼자의 질량비는 1:1:1, 1:2:1, 1:3:1, 2:1:1, 2:3:1, 2:2:1, 2:3:1, 2:1:3, 2:3:3 등일 수 있다.
상기 몇 가지 유기 염기는 화합물 B와 화합물 C가 반응하여 화합물 A를 생성하도록 효과적으로 촉진할 수 있을 뿐만 아니라, 가격이 저렴하고 입수가 용이하다.
유기 용매는 화합물 B와 화합물 C를 충분하고 균일하게 분산시킬 수 있으며, 양자가 균일하게 반응하는데 도움이 된다. 본 발명의 실시예는 유기 용매의 종류에 대해 예시를 제공한다. 유기 용매는 톨루엔, 자일렌, 테트라히드로푸란, 2-메틸테트라히드로푸란, 디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 메틸 터트-부틸 에테르, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시, 술포란 중 적어도 하나로부터 선택된다.
즉 유기 용매는 상기로부터 선택되는 어느 하나, 둘, 셋, 넷, ...... 또는 전부일 수 있다. 유기 용매가 혼합물일 경우, 각 성분의 비율은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 유기 용매가 톨루엔 및 테트라히드로푸란의 혼합물일 경우, 톨루엔 및 테트라히드로푸란의 질량비는 1:1, 1:1.2, 1:1.4, 1:1.5, 1:1.7, 1:1.9, 1:2 등일 수 있다.
상기 몇 가지 유기 용매는 화합물 B와 화합물 C가 우수한 혼화성을 가지게 하고 가격이 저렴하며 입수가 용이하다.
화합물 B와 화합물 C의 반응 온도는 -20℃-150℃일 수 있고, 예를 들면 -20℃, -10℃, -5℃, 0℃, 10℃, 20℃, 30℃, 40℃, 50℃, 60℃, 70℃, 80℃, 90℃, 100℃, 110℃, 120℃, 130℃, 140℃, 150℃ 등일 수 있다. 반응 시간은 1-8 시간일 수 있고, 예를 들면 1 시간, 1.8 시간, 1.9 시간, 2 시간, 2.1 시간, 2.2 시간, 2.3 시간, 2.4 시간, 2.5 시간, 3 시간, 3.5 시간, 4 시간, 4.5 시간, 5 시간, 5.5 시간, 6 시간, 6.5 시간, 7 시간, 7.5 시간, 8 시간 등일 수 있다.
이로써, 화합물 B와 화합물 C가 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서 충분히 반응하도록 보장할 수 있다.
본 발명의 실시예는 어떻게 화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 유기 용매를 혼합시키고 반응시킬지에 대해 아래와 같은 두 가지 예시를 제공한다.
(1) 첫 번째 예시에서 화합물 B, 화합물 C, 유기 염기, 유기 용매를 모두 제1 반응기에 첨가하고 교반하여 혼합하여 반응시킨다.
(2) 두 번째 예시에서 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시키는 단계는 아래 단계를 포함한다.
단계 A: 화합물 C와 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻고, 제1 반응기에서 유기 염기와 혼합한다.
여기서, 화합물 C와 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻는 것은 화합물 C와 유기 용매를 혼합하여 얻을 수 있고,
그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리하여, 화합물 C와 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻는 통해 얻을 수도 있으며,
그리냐르 시약의 화학 구조식은 아래와 같고,
Figure pct00012
(D)
여기서, R2는 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이며;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이며;
X는 클로로, 브로모 또는 요오드이다.
이로써, 화합물 C의 분리 단계를 생략할 수 있어 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 효율적으로 제조할 수 있다.
여기서, 디에틸포스파이트와 그리냐르 시약의 몰비는 양자 사이가 충분한 반응을 일으킬 수 있는지 여부에 중요한 영향을 미친다. 이를 바탕으로, 본 발명의 실시예에서, 디에틸포스파이트와 그리냐르 시약의 몰비는 1:3-5일 수 있고, 디에틸포스파이트와 그리냐르 시약의 몰비는 1:3-3.5일 수도 있다. 예를 들면, 디에틸포스파이트와 그리냐르 시약의 몰비는 1:3, 1:3.1, 1:3.3, 1:3.5, 1:3.7, 1:3.9, 1:4, 1:4.1, 1:4.3, 1:4.5, 1:4.7, 1:4.9, 1:5 등일 수 있다.
그리냐르 시약과 디에틸포스파이트의 반응 온도는 -20℃-150℃일 수 있고, 예를 들면 -20℃, -10℃, -5℃, 0℃, 10℃, 20℃, 30℃, 40℃, 50℃, 60℃, 70℃, 80℃, 90℃, 100℃, 110℃, 120℃, 130℃, 140℃, 150℃ 등일 수 있다. 그리냐르 시약과 디에틸포스파이트의 반응 시간은 1-4 시간, 예를 들면 1 시간, 1.5 시간, 2 시간, 2.5 시간, 2.8 시간, 2.9 시간, 3 시간, 3.1 시간, 3.2 시간, 3.3 시간, 3.4 시간, 3.5 시간, 4 시간 등일 수 있다.
이로써, 상기 디에틸포스파이트와 그리냐르 시약의 몰비, 반응 온도 및 반응 시간의 배합 작용을 통해, 디에틸포스파이트 및 그리냐르 시약의 충분한 반응에 도움이 된다.
디에틸포스파이트와 그리냐르 시약을 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리하면, 높은 수율로 화합물 C와 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻을 수 있다.
일 예시로, 산 용액은 염산 용액, 브롬화수소산 용액, 요오드화수소산 용액, 황산 용액, 아세트산 용액, 옥살산 용액, 구연산 용액 중 적어도 하나로부터 선택된다.
즉 산 용액은 상기로부터 선택되는 어느 하나, 둘, 셋, 넷, 다섯, 여섯, 일곱일 수 있다. 산 용액이 혼합물일 경우, 각 성분의 비율은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 산 용액이 아세트산 용액 및 구연산 용액의 혼합물일 경우, 아세트산 용액과 구연산 용액의 몰비는 1:1, 1:2, 1:3, 2:1, 2:3 등일 수 있다.
상기 몇 가지 산 용액은 가격이 저렴하고 입수가 용이하며 ??칭 효과가 좋고 수화 효과가 좋다.
여기서, 산 용액의 질량 농도는 30%-60%일 수 있다.
디에틸포스파이트와 그리냐르 시약 사이의 화학 반응은 아래 화학 방정식을 참고할 수 있다.
Figure pct00013
단계 B: 제1 반응기에 화합물 B를 넣어, 화합물 B와 화합물 C를 반응시킨다.
제1 반응기에 화합물 B를 넣는 방법은 아래 방법을 포함하나 이에 제한되는 것은 아니다.
화합물 B와 유기 용매를 포함하는 제2 혼합액을 얻고;
제1 반응기에 제2 혼합액을 적가한다.
이로써, 화합물 B와 화합물 C의 고효율 및 충분한 반응에 유리하다.
본 발명의 실시예는 단계 A에서 어떻게 그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 첨가할지에 대해 아래와 같은 예시를 제공한다.
그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리 단계는, 그리냐르 시약과 유기 용매의 제3 혼합액을 구비하는 제2 반응기에 디에틸포스파이트를 넣어, 그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리 단계를 포함한다.
여기서, 그리냐르 시약과 유기 용매의 제3 혼합액은 직접 그리냐르 시약과 유기 용매를 혼합하여 얻을 수 있고, 아래 방법을 통해 제조될 수도 있다.
개시제 및 유기 용매의 조건에서, 마그네슘 분말과 방향족 할로겐화물을 반응시켜, 그리냐르 시약과 유기 용매를 포함하는 제3 혼합액을 얻는다.
여기서, 방향족 할로겐화물의 화학 구조식은 아래와 같고,
Figure pct00014
(E);
여기서, R2는 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이며;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이며;
X는 클로로, 브로모 또는 요오드이다.
이로써, 그리냐르 시약의 분리 단계를 생략할 수 있어 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 효율적으로 제조할 수 있다.
방향족 할로겐화물과 마그네슘 분말의 몰비는 양자 사이가 충분한 반응을 일으킬 수 있는지 여부에 중요한 영향을 미친다. 이를 바탕으로, 방향족 할로겐화물과 마그네슘 분말의 몰비는 1:1-2일 수 있고, 방향족 할로겐화물과 마그네슘 분말의 몰비는 1:1-1.2일 수도 있다. 예를 들면, 방향족 할로겐화물과 마그네슘 분말의 몰비는 1:1, 1:1.2, 1:1.4, 1:1.5, 1:1.7, 1:1.9, 1:2 등일 수 있다.
개시제는 요오드 및 디브로모에탄 중 적어도 하나로부터 선택될 수 있다. 즉 개시제는 요오드, 디브로모에탄, 요오드 및 디브로모에탄의 혼합물로부터 선택된다.
상기 몇 가지 개시제는 개시 효과가 좋고 방향족 할로겐화물과 마그네슘 분말이 충분히 반응하도록 보장할 수 있다. 또한 상기 몇 가지 개시제는 가격이 저렴하고 입수가 용이하다.
마그네슘 분말과 방향족 할로겐화물의 반응 시간은 2-4 시간일 수 있고, 예를 들면 2 시간, 2.2 시간, 2.5 시간, 2.7 시간, 2.8 시간, 2.9 시간, 3 시간, 3.1 시간, 3.2 시간, 3.3 시간, 3.4 시간, 3.5 시간, 3.7 시간, 4 시간 등일 수 있다. 이로써, 방향족 할로겐화물 및 마그네슘 분말이 개시제의 개시 작용하에 충분히 반응하도록 보장할 수 있다.
마그네슘 분말과 방향족 할로겐화물을 혼합 시, 먼저 제2 반응기에 개시제, 방향족 할로겐화물, 유기 용매의 혼합액을 적가한 다음, 제2 반응기에 방향족 할로겐화물 및 유기 용매의 혼합액을 적가할 수 있다. 두 단계로 나누어 적가하면, 개시제가 마그네슘 분말과 방향족 할로겐화물이 반응을 일으키도록 개시할 수 있고 추후 첨가된 방향족 할로겐화물이 계속하여 반응하도록 하여 개시제의 사용량을 감소하는데 도움이 된다.
방향족 할로겐화물과 마그네슘 분말 사이의 화학 반응은 아래 화학 방정식을 참고할 수 있다.
Figure pct00015
적가하는 방식을 통해 제2 반응기에 디에틸포스파이트를 넣어, 그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 반응시켜 반응액을 얻고, 1-4 시간 동안 교반한 다음, 온도를 실온으로 낮출 수 있다. 이어서 반응액을 산 용액에 적가하여 반응을 ??칭하고 최종적으로 화합물 C를 얻는다.
본 발명의 실시예에서 언급한 실온은 20℃-30℃일 수 있고, 예를 들면 20℃, 21℃, 22℃, 23℃, 24℃, 25℃, 26℃, 27℃, 28℃, 29℃, 30℃ 등일 수 있다. 구체적인 실온 온도는 실제 조작 환경에 따라 결정할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 제1 반응기 및 제2 반응기는 동일한 반응기일 수 있다. 화합물 C와 유기 용매의 혼합액을 제조 시, 그리냐르 시약과 화합물 C를 단독으로 분리하지 않고, 직접 대응되는 혼합액을 사용하여 제조함으로써 중간체의 배출이 방지되고 산업화 생산이 용이하다.
화합물 B와 화합물 C의 반응이 완료된 후, 세척 처리 및 분리 처리를 수행하여 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻을 수 있다.
여기서, 세척 처리는 혼합액 중 불순물을 씻어낼 수 있고, 세척 처리는 유기 용매 또는 물로 세척할 수 있다. 분리 처리는 감압 증류, 추출 등 처리일 수 있다.
본 발명의 실시예에서 제공하는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법은, 유기 염기, 유기 용매 및 루이스 산의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는다. 상기 제조 방법은 디페닐 포스핀 클로라이드를 생산 원료로 사용하지 않기에, 산화 조작이 필요 없고 안전하고 친환경적이며 조작이 쉽고 생산량이 높은 등 특성을 가지고 있어 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 생산에 유리하다. 상기 방법으로 제조된 아실 포스핀 옥사이드 화합물은 안정적인 품질, 고 순도, 높은 수율, 저 비용 등 특성을 가지고 있어 산업 생산에 유리하다.
다른 양태에 따르면, 본 발명의 실시예는 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 제공하고, 여기서, 상기 화합물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
Figure pct00016
(A)
여기서, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
R2는 R1과 동일하며;
n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며;
m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이다.
본 발명의 실시예에서 제공하는 아실 포스핀 옥사이드 화합물은, 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 얻은 것으로서, 상기 아실 포스핀 옥사이드 화합물은 제품 품질이 안정적이고 순도가 높으며 광 개시 활성이 높아 산업 생산에 광범위하게 적용될 수 있다.
예시적으로, 상기 예시에서 (2,4,6-트리메틸벤조일)디페닐포스핀옥사이드(TPO)를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00017
상기 TPO는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 20g의 클로로벤젠 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여, 마그네슘 분말과 클로로벤젠의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 320g의 클로로벤젠 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(디페닐포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, 디페닐포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 디페닐포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 디페닐포스핀옥사이드와 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 105g의 트리메틸클로로실란 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 185g의 2,4,6-트리메틸벤조일클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 본 실시예에서 제공하는 TPO 324g을 얻었으며, 그 순도는 99.6%이고 디에틸포스파이트로 계산한 TPO의 수율은 93%이다.
예시적으로, 상기 예시에서 (2,4,6-트리메틸벤조일)비스(p-톨릴)포스핀옥사이드를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00018
상기 (2,4,6-트리메틸벤조일)비스(p-톨릴)포스핀옥사이드는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 30g의 p-클로로톨루엔 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여 마그네슘 분말과 p-클로로톨루엔의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 353g의 p-클로로톨루엔 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(비스(p-톨릴)포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, (p-톨릴)포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 비스(p-톨릴)포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 비스(p-톨릴)포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 197g의 트리메틸요오드실란 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 195g의 2,4,6-트리메틸벤조일클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 346g의 본 실시예에서 제공하는 (2,4,6-트리메틸벤조일)비스(p-톨릴)포스핀옥사이드를 얻었으며, 그 순도는 99.7%이고 디에틸포스파이트로 계산한 (2,4,6-트리메틸벤조일)비스(p-톨릴)포스핀옥사이드의 수율은 92%이다.
예시적으로, 상기 예시에서 (p-디메틸아미노벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00019
상기 (p-디메틸아미노벤조일)디페닐포스핀옥사이드는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 20g의 클로로벤젠 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여, 마그네슘 분말과 클로로벤젠의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 320g의 클로로벤젠 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(디페닐포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, 디페닐포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 디페닐포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 디페닐포스핀옥사이드와 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 148g의 트리메틸브로모실란 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 176g의 p-디메틸아미노벤조일클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 318g의 본 실시예에서 제공하는 (p-디메틸아미노벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 얻었으며, 그 순도는 99.6%이고 디에틸포스파이트로 계산한 (p-디메틸아미노벤조일)디페닐포스핀옥사이드의 수율은 91%이다.
예시적으로, 상기 예시에서 (p- 메톡시벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00020
상기 (p- 메톡시벤조일)디페닐포스핀옥사이드는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 20g의 클로로벤젠 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여, 마그네슘 분말과 클로로벤젠의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 320g의 클로로벤젠 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(디페닐포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, 디페닐포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 디페닐포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 디페닐포스핀옥사이드와 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 105g의 트리메틸클로로실란 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 164g의 p- 메톡시벤조일클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 309g의 본 실시예에서 제공하는 (p- 메톡시벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 얻었으며, 그 순도는 99.8%이고 디에틸포스파이트로 계산한 (p- 메톡시벤조일)디페닐포스핀옥사이드의 수율은 92%이다.
예시적으로, 상기 예시에서 (p-메틸티오벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00021
상기 (p-메틸티오벤조일)디페닐포스핀옥사이드는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 20g의 클로로벤젠 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여, 마그네슘 분말과 클로로벤젠의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 320g의 클로로벤젠 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(디페닐포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, 디페닐포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 디페닐포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 디페닐포스핀옥사이드와 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 105g의 트리메틸클로로실란 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 181g의 p-메틸티오벤조일클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 310g의 본 실시예에서 제공하는 (p-메틸티오벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 얻었으며, 그 순도는 99.6%이고 디에틸포스파이트로 계산한 (p-메틸티오벤조일)디페닐포스핀옥사이드의 수율은 88%이다.
예시적으로, 상기 예시에서 (p-톨릴벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00022
상기 (p-톨릴벤조일)디페닐포스핀옥사이드는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 20g의 클로로벤젠 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여, 마그네슘 분말과 클로로벤젠의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 320g의 클로로벤젠 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(디페닐포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, 디페닐포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 디페닐포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 디페닐포스핀옥사이드와 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 105g의 트리메틸클로로실란 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 208g의 p-페닐벤조일클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 344g의 본 실시예에서 제공하는 (p-톨릴벤조일)디페닐포스핀옥사이드를 얻었으며, 그 순도는 99.6%이고 디에틸포스파이트로 계산한 (p-톨릴벤조일)디페닐포스핀옥사이드의 수율은 90%이다.
예시적으로, 상기 예시에서 (1,4-프탈로일)비스(디페닐포스핀옥사이드)를 제공하고, 그 화학 구조식은 아래와 같다.
Figure pct00023
상기 (1,4-프탈로일)비스(디페닐포스핀옥사이드)는 아래 방법으로 제조된다.
무수, 무산소, 60℃의 마이크로 환류 및 교반 조건에서, 75g의 마그네슘 분말과 500 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 플라스크에 넣었다. 교반 조건에서, 플라스크에 5g의 디브로모에탄, 20g의 클로로벤젠 및 200 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 1시간 동안 적가하여, 마그네슘 분말과 클로로벤젠의 반응을 개시하였다. 이어서 플라스크에 320g의 클로로벤젠 및 300 ml의 테트라히드로푸란의 혼합액을 3시간 동안 적가하였다. 적가 완료 후 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시켜, 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액을 얻었다.
플라스크 내 그리냐르 시약과 테트라히드로푸란을 포함하는 혼합액의 온도는 40℃-50℃이고, 교반 조건에서 플라스크에 138g의 디에틸포스파이트를 30분 동안 적가하였다. 마이크로 환류 상태에서 계속하여 교반하면서 3시간 동안 반응시킨 후 온도를 실온으로 낮추었다. 이어서 교반 조건에서 플라스크에 500 ml의 질량 농도가 50%인 구연산 용액을 천천히 첨가하고, 계속하여 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 하였다. 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압 농축하여 유기 잔류물(디페닐포스핀옥사이드를 포함)을 얻고, 테트라히드로푸란을 회수하였다. 수상을 1L의 톨루엔과 혼합하고, 실온에서 30분 동안 교반한 후, 30분 동안 방치하여 분층이 이루어지도록 한 다음 톨루엔상을 분리하고 전술한 분리된 유기 잔류물과 합하여, 디페닐포스핀옥사이드(화합물 C), 톨루엔 및 염화수소 등 불순물을 포함하는 혼합액을 얻었다. 순차적으로 300 ml의 질량 농도가 10%인 탄산수소나트륨 수용액 및 300 ml의 물로 상기 혼합액을 세척하고, 50℃-60℃의 조건에서 감압하에 약 400 ml의 톨루엔을 증류해내고, 나머지는 디페닐포스핀옥사이드 및 톨루엔의 혼합액이었다.
실온 및 교반 조건에서, 디페닐포스핀옥사이드와 톨루엔의 혼합액 및 220g의 트리에틸아민을 플라스크에서 혼합하고, 40℃-50℃의 조건에서 플라스크에 203g의 트리메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트 및 100 ml의 톨루엔의 혼합액을 1시간 동안 적가하였고, 적가 완료 후 계속하여 1시간 동안 교반하였다. 이어서 플라스크에 97g의 1,4-프탈로일 클로라이드(화합물 B) 및 200 ml의 톨루엔의 혼합액을 2시간 동안 적가하였다. 이어서 50℃의 조건에서 교반하면서 2 시간 동안 반응시키고 온도를 실온으로 낮추었다.
실온 조건에서, 500 ml의 물로 플라스크 내 반응액을 2번 세척하였다. 세척 후 유기상을 분리하고 40℃-50℃의 조건에서 감압하에 휘발성 물질을 증발시켰다. 이어서 유기상에 600 ml의 이소프로필에테르를 가하고, 55℃-65℃의 조건에서 2 시간 동안 교반 및 비팅(beating)한 후, 5℃-10℃의 조건에서 계속하여 1 시간 동안 교반 및 비팅하고, 흡입 여과를 거쳐 필터케이크를 얻었다. 필터케이크를 차가운 이소프로필에테르로 세척한 후 40℃-50℃의 조건에서 감압 건조하여 243g의 본 실시예에서 제공하는 (1,4-프탈로일)비스(디페닐포스핀옥사이드)를 얻었으며, 그 순도는 99.8%이고 디에틸포스파이트로 계산한 (1,4-프탈로일)비스(디페닐포스핀옥사이드)의 수율은 91%이다.
종합하면, 본 발명의 실시예에서 제공하는 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법은 제품 품질이 안정적이고 순도가 높으며 수율이 높은 제품을 얻을 수 있어 산업화 생산에 도움이 된다.
전술한 내용은 본발명의 예시적인 실시예일 뿐이고, 본 발명을 제한하려는 의도는 없으며, 본 발명의 사상과 원칙 내에서 이루어진 모든 수정, 등가 대체, 개선 등은 본 발명의 보호범위에 포함되어야 한다

Claims (19)

  1. 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법에 있어서,
    유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시켜 상기 아실 포스핀 옥사이드 화합물을 얻는 단계를 포함하고,
    상기 화합물 B의 화학 구조식은 아래와 같으며,
    Figure pct00024
    (B)
    상기 화합물 C의 화학 구조식은 아래와 같고,
    Figure pct00025
    (C)
    상기 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
    Figure pct00026
    (A)
    여기서, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
    R2는 R1과 동일하며;
    n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며;
    m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3인 아실 포스핀 옥사이드 화합물의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 방법은,
    상기 화합물 B와 상기 화합물 C에 의해 형성된 반응계에 루이스 산을 첨가하는 단계를 더 포함하는 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 화합물 B, 상기 화합물 C, 상기 유기 염기, 상기 루이스 산의 몰비는 1:1-2:1-5:0.01-2인 방법.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 루이스 산은 트리메틸클로로실란, 트리메틸브로모실란, 트리메틸요오드실란, 트리에틸클로로실란, 트리프로필클로로실란, 트리부틸클로로실란, 터트-부틸디메틸클로로실란, 터트-부틸디페닐클로로실란, 트리메틸클로로실란-브롬화나트륨, 트리메틸클로로실란-요오드화나트륨, 트리메틸실릴 메탄술포네이트, 터트-부틸디메틸실릴 메탄술포네이트, 트리메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트, 터트-부틸디메틸실릴 트리플루오로 메탄술포네이트 중 적어도 하나로부터 선택되는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유기 염기는 트리에틸아민, 트리프로필아민, N,N-디이소프로필에틸아민, N,N-디메틸아닐린, 피리딘, 2,6-디메틸피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘 중 적어도 하나로부터 선택되는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유기 용매는 톨루엔, 자일렌, 테트라히드로푸란, 2-메틸테트라히드로푸란, 디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 메틸 터트-부틸 에테르, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시, 술포란 중 적어도 하나로부터 선택되는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 화합물 B와 상기 화합물 C의 반응 온도는 -20℃-150℃이고, 반응 시간은 1-8 시간인 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유기 염기 및 유기 용매의 조건에서, 화합물 B와 화합물 C를 반응시키는 단계는,
    상기 화합물 C와 상기 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻고, 제1 반응기에서 상기 유기 염기와 혼합하는 단계;
    상기 제1 반응기에 상기 화합물 B를 넣어, 상기 화합물 B와 상기 화합물 C를 반응시키는 단계를 포함하는 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 반응기에 상기 화합물 B를 넣는 단계는,
    상기 화합물 B와 상기 유기 용매를 포함하는 제2 혼합액을 얻는 단계;
    상기 제1 반응기에 상기 제2 혼합액을 적가하는 단계를 포함하는 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    상기 화합물 C와 상기 유기 용매를 포함하는 제1 혼합액을 얻는 단계는,
    그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 상기 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리하여, 상기 화합물 C와 상기 유기 용매를 포함하는 상기 제1 혼합액을 얻는 단계를 포함하고,
    상기 그리냐르 시약의 화학 구조식은 아래와 같으며,
    Figure pct00027
    (D)
    여기서, R2는 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
    m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이며;
    X는 클로로, 브로모 또는 요오드인 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 디에틸포스파이트와 상기 그리냐르 시약의 몰비는 1:3-5인 방법.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 산 용액은 염산 용액, 브롬화수소산 용액, 요오드화수소산 용액, 황산 용액, 아세트산 용액, 옥살산 용액, 구연산 용액 중 적어도 하나로부터 선택되는 방법.
  13. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 그리냐르 시약과 상기 디에틸포스파이트의 반응 온도는 -20℃-150℃이고, 반응 시간은 1-4 시간인 방법.
  14. 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 그리냐르 시약과 디에틸포스파이트를 상기 유기 용매에서 반응시킨 후, 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리 단계는,
    상기 그리냐르 시약과 상기 유기 용매의 제3 혼합액을 구비하는 제2 반응기에 상기 디에틸포스파이트를 넣어, 상기 그리냐르 시약과 상기 디에틸포스파이트를 반응시킨 후, 상기 산 용액으로 반응을 ??칭하는 후처리 단계를 포함하는 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 그리냐르 시약과 상기 유기 용매의 제3 혼합액은,
    개시제 및 상기 유기 용매의 조건에서, 마그네슘 분말과 방향족 할로겐화물을 반응시켜, 상기 그리냐르 시약과 상기 유기 용매를 포함하는 제3 혼합액을 얻는 방법으로 제조되고,
    여기서, 상기 방향족 할로겐화물의 화학 구조식은 아래와 같으며,
    Figure pct00028
    (E);
    여기서, R2는 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
    m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3이며;
    X는 클로로, 브로모 또는 요오드인 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 방향족 할로겐화물과 상기 마그네슘 분말의 몰비는 1:1-2인 방법.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    상기 개시제는 요오드 및 디브로모에탄 중 적어도 하나로부터 선택되는 방법.
  18. 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마그네슘 분말과 상기 방향족 할로겐화물의 반응 시간은 2-4 시간인 방법.
  19. 화학 구조식이 아래와 같은 아실 포스핀 옥사이드 화합물에 있어서,
    Figure pct00029
    (A)
    여기서, R1은 수소, C1-C6 알킬, 메톡시, 메틸티오, 디메틸아미노, 클로로포밀, 페닐, 벤조일, (4-디메틸아미노)페닐, a-나프틸, b-나프틸 또는 (9-에틸-9H-카르바졸)-3-일이고;
    R2는 R1과 동일하며;
    n은 대응되는 벤젠 고리에서의 R1의 치환 개수이고, n은 1, 2 또는 3이며;
    m은 대응되는 벤젠 고리에서의 R2의 치환 개수이고, m은 1, 2 또는 3인 아실 포스핀 옥사이드 화합물.
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