KR20210098476A - 펩티드 화합물 또는 아마이드 화합물의 탈보호법 및 고상 반응에 있어서의 탈수지 방법, 및 펩티드 화합물의 제조 방법 - Google Patents

펩티드 화합물 또는 아마이드 화합물의 탈보호법 및 고상 반응에 있어서의 탈수지 방법, 및 펩티드 화합물의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

출발 펩티드 화합물/출발 아마이드 화합물을 실릴화제와 접촉시킴으로써, 주쇄의 손상을 일으키지 않고, 소망의 보호기가 탈보호된, 및/또는 고상 합성용 수지로부터 탈수지된 펩티드 화합물/아마이드 화합물을 제조할 수 있음을 발견했다.

Description

펩티드 화합물 또는 아마이드 화합물의 탈보호법 및 고상 반응에 있어서의 탈수지 방법, 및 펩티드 화합물의 제조 방법
본 발명은, 펩티드 화합물 또는 아마이드 화합물의 탈보호법 및 고상 반응에 있어서의 수지로부터의 탈수지 방법, 및 펩티드 화합물의 제조 방법에 관한 것이다.
펩티드는 아미노산이 다수 연결된 분자이며, 생명체가 산생하는 펩티드 합성 연구는 물론, 펩티드의 구조를 인공적으로 디자인하여 소망의 기능을 갖는 펩티드의 연구가 활발히 행해지고 있다(비특허문헌 1).
펩티드의 제조는, (i) N말단에 보호기를 가지고 C말단 무보호인 아미노산의 카복실기를 축합제 등으로 활성화시킨 활성 에스터를, (ii) N말단 무보호의 펩티드에 대해서 작용시켜 새롭게 아미노산이 신장된 펩티드를 얻고, (iii) 신장된 펩티드의 N말단의 보호기를 제거하는 공정의 (i)∼(iii)을 반복함으로써, 복수의 아미노산을 연결시킴으로써 행할 수 있다(비특허문헌 2).
펩티드의 제조는, 고상법과 액상법으로 대별된다. 고상법의 경우, 클로로트라이틸기나 벤질기 등을 포함하는, CTC 수지, Wang 수지, SASRIN 수지 등의 고상 합성용 수지에, 아미노산 혹은 그의 유도체(보호된 아미노산), 또는 펩티드 혹은 그의 유도체의 C말단을 담지시킨 아미노산 혹은 펩티드의 아미노기를 구핵점으로 하고, N말단이 보호된 펩티드 혹은 아미노산의 카보닐기를 구전자점으로 하는, 커플링 반응에 의해 행해진다. 또한, 액상법의 경우, N말단이 보호된 아미노산 혹은 펩티드의 카보닐기를 구전자점으로 하고, 아미노산 혹은 펩티드의 아미노기를 구핵점으로 한 커플링 반응에 의해 행해진다. 이들 커플링 반응에 의해, 아미노산 또는 펩티드의 측쇄가, 바라지 않는 작용기의 변환을 받아 버리는 경우에는, 이들 측쇄에 보호기를 도입해 둘 필요가 있다. 아미노산 또는 펩티드의 C말단을 보호하는 보호기, 아미노산 또는 펩티드의 N말단을 보호하는 보호기, 및 아미노산 또는 펩티드의 측쇄를 보호하는 보호기로서는, Boc기, t-Bu기, 또는 트라이틸기와 같은 산성 조건에서 제거 가능한 보호기가 범용되고 있다. 또한, 고상 합성용 수지와 결합한 펩티드를 고상 합성용 수지로부터 절출하는 탈수지 반응에 있어서, CTC 수지, Wang 수지, SASRIN 수지와 같은 산성 조건에서 제거 가능한 고상 합성용 수지가 범용되고 있다(비특허문헌 4).
더욱이, 산성 조건하에서 탈보호되는 보호기로는, 3,5-다이메톡시페닐아이소프로폭시카보닐(Ddz)기나, 벤질옥시카보닐(Cbz)기, 벤질(Bn)기, 혹은 사이클로헥실(cHx)기 등도 들 수 있다(비특허문헌 4, 5). 이들 탈보호 반응, 또는 탈수지 반응의 반응 조건에서는, 펩티드의 아마이드 결합의 절단이나, 아미노산 측쇄의 목적으로 하지 않는 작용기 변환 등의 부반응을 일으키는 경우가 있어, 목적으로 하지 않는 서열의 펩티드가 부생하는 경우가 있다. 따라서, 아마이드 결합의 절단 반응이나, 펩티드의 주쇄의 전이 반응으로 예시되는, 주쇄의 손상 반응이 일어나지 않고서, 목적하는 펩티드가 얻어질 것이 요구된다.
전술한 산성 조건에서 제거 가능한 보호기는, 염산, 황산, 메테인설폰산, TFA로 처리하여 제거되는 경우가 많다(비특허문헌 2, 3, 4). 또한, 고상 합성에 있어서의 탈수지 반응은, 통상 TFA를 이용한다(비특허문헌 6). 그러나, 이들 중에서 온화한 산인 TFA 산성 조건하에서도, 아마이드 결합이 절단되는 경우가 있음이 기재되어 있다(비특허문헌 7).
또한, 아마이드 결합의 절단이라고 하는 문제에 대해서, 희석한 TFA 조건하에서, 및 탈Boc화 반응을 온화한 조건하에서 행하는 것에 의한 해결이 시도되었지만, 어느 조건에서도 개선되지 않았다고 기술되어 있다(비특허문헌 8, 특허문헌 1). 또한, 보다 산성이 약한 TFE를 이용함으로써, 보호된 아미노산의 보호기를 제거하는 방법이 보고되어 있다(비특허문헌 5, 특허문헌 1). 이들 문헌에서는 반응 변환율이 낮기 때문에, 반응을 진행시키기 위해서 추가로 산을 첨가하거나, 또는 반응 온도를 상승시키는 등의, 보다 엄격한 반응 조건에서 반응을 행할 필요가 있다. 그러나, 산의 첨가나 반응 온도를 상승시킨 반응 조건을 펩티드에 적용했을 경우, 펩티드의 주쇄가 손상을 받을 것이 염려된다. 실제로 Boc-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl에 대해, TFE 중, 염화 수소를 작용시켜, 탈Boc화 반응을 시도했지만, 탈Boc화 반응 종결 전에 주쇄의 절단이 확인되었다.
또한, 저온 조건하에서 반응을 행하고 또한, 부반응이 일어나기 전에 반응을 정지함으로써 아마이드 결합의 절단을 억제할 수 있었다고 하는 보고가 있다(비특허문헌 9). 그러나, 이 수법은, 엄밀한 반응 시간의 제어가 필요하여, 단시간에 반응을 정지하는 것이 곤란한 대량 생산에 있어서는, 그 제어가 곤란해질 것이 용이하게 추정된다.
산성 조건하에서의 탈보호법으로서, Boc기 또는 t-Bu기의 탈보호 시에, 공생하는 t-Bu 양이온이 측쇄와 부반응을 일으키는 것을 억제하기 위해서, 양이온 포착제를 가하는 것이 시도되고 있다(비특허문헌 10).
이 경우, t-Bu기에서 유래하는 t-Bu 양이온을 포착하기 위해서, 다이메틸설파이드나 싸이오아니솔 등의 함황 첨가제를 첨가하여, 산성 조건하에 탈보호하는 방법이 시도되고 있지만, 그 때에, 아마이드 결합이 절단되는 부반응이 일어나, 수율과 순도 저하를 초래했다고 하는 보고가 이루어져 있다(비특허문헌 7).
또한, TFA 용액 중에서 싸이오아니솔과 TfOH, 또는 TFA 용액 중에서 싸이오아니솔과 트라이메틸실릴 브로마이드 또는 트라이메틸실릴 트라이플레이트를 작용시키는 방법도 보고되어 있다(비특허문헌 12).
그러나, 다이메틸 설파이드나 싸이오아니솔로 대표되는 함황 첨가제의 상당수는, 악취를 수반하기 때문에 제조 작업자에 대한 영향이 염려된다. 또한, 첨가제의 제거에 대량 제조에는 적합하지 않은 컬럼 크로마토그래피에 의한 제거 공정이 필요한 것도 문제이다.
또한, 물을 양이온 포착제로서 사용했을 경우에도, 펩티드쇄의 절단이 증대했다는 보고가 있다(비특허문헌 11).
함황 첨가제 대신에, 함규소 첨가제를 양이온 스캐빈저로서 이용하는 탈보호법으로서, 트라이아이소프로필실레인(iPr3SiH) 등을 양이온 스캐빈저로 하여, 예를 들어, TFA:iPr3SiH:H2O=95:2.5:2.5의 비율(비특허문헌 13), 또는, TFA:iPr3SiH:H2O:PhOH=1000:50:67:50의 비율(비특허문헌 14)로, 아마이드 결합을 포함하는 N-Boc화된 화합물을 처리하여 Boc기를 탈보호하는 방법이 보고되어 있다. 그러나, 이들 방법에서는, 아마이드 결합의 절단을 억제하기 위해서는 수 분이라고 하는 단시간 처리가 실시되고 있는 등, 대량 제조에 있어서, 실시가 곤란한 조건이 기재되어 있는 것에 지나지 않는다. 실제, Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MePhe-MeAla-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl에 대해서, 비특허문헌 13, 14의 조건을 적용하여 탈Boc화 반응을 시도한 바, Boc기의 제거가 완료되기 전에 MePhe와 MeAla 사이에도 아마이드 결합의 절단이 관찰되었다. 또한, 절단율은 시간 경과에 수반하여 증가했다.
이상과 같이, 산성 조건하에서의 탈보호 및 고상 합성에서의 탈수지 반응에서는, 바라는 탈보호 반응이나 탈수지 반응뿐만 아니라, 펩티드쇄의 주쇄인 아마이드 결합의 절단이나, 아미노산의 측쇄 작용기의 주쇄로의 전이 등의 주쇄의 손상을 수반하는 경우가 있다. 이와 같은 주쇄의 손상에 의한 부생성물의 생성에 의해, 목적물의 수율이나 순도가 저하됨이 알려져 있어, 효율 좋게 펩티드를 합성하는 데 있어서의 문제가 되고 있다.
한편으로, 펩티드의 구조적 특징이 아마이드 결합의 안정성이나 손상 받기 쉬움과 관련된다고 하는 보고도 있다.
예를 들어, 아마이드 결합은, 아마이드 결합이 변형되는 것에 기인하여, 아마이드 결합의 산 불안정성이 증대함이 알려져 있다(비특허문헌 15, 16).
더욱이, 결합의 변형에 더하여, 펩티드의 아마이드 결합의 경우, 아미노산 측쇄의 종류, 질소 원자의 치환 양식, 및 펩티드의 아미노산 잔기수, 아미노산 서열에 의해, 분자 내 수소결합 양식이나 펩티드의 안정 배좌에 영향을 준다. 그리고, 이들 배좌의 변화에 의존하여, 카보닐 산소의 염기성이 높아져, 프로토네이션을 받기 쉬워지는 경우가 있다(비특허문헌 18, 19). 경우에 따라서는, 옥사졸론을 형성하여 아마이드 결합이 손상을 받음이 알려져 있다(비특허문헌 17).
또한, 아미노산의 질소 원자가 메틸화된 N-Me 아미노산을 함유하는 펩티드는, 산성 조건에 있어서 아마이드 결합의 절단이 진행되는 경우가 있음이 보고되어 있다(비특허문헌 11, 17, 20). 더욱이, C말단이 N-Me 아미노산인 펩티드의 경우, TFA 산성 조건에 부쳐짐으로써 펩티드의 1잔기째와 2잔기째 사이의 아마이드 결합이 절단되어, C말단 잔기가 결손된 펩티드가 부생하는 경우가 있음이 알려져 있다(비특허문헌 21). 즉, N-Me 아미노산의 N-Me기가 포함되는 아마이드 결합이 절단되기 쉬움이 알려져 있다.
더하여, N-Me 아미노산이 2잔기 이상 연속된 서열을 가지는 펩티드는 산에 종종 불안정하여, 고상 합성에서의 탈수지 반응 시에 아마이드 결합의 절단이 일어남이 알려져 있다(비특허문헌 11). 즉, N-Me 아미노산의 N-Me기가 포함되는 아마이드 결합, 및/또는 N-Me 아미노산의 카보닐기가 포함되는 아마이드 결합이 절단되기 쉬움이 알려져 있다.
또한, Asp나 Gln을 포함하는 펩티드도, 서열에 의존하여 산에 불안정하다(비특허문헌 22, 23). 예를 들어 Asp를 갖는 펩티드 서열을 불화 수소나 메테인설폰산 등의 산으로 처리하면, 측쇄의 카보닐기에 대한 주쇄 아마이드의 질소 원자의 구핵 공격이 진행되어, 아스파트이미드(Aspartimide)가 부생함이 알려져 있다(비특허문헌 23). 즉, N-무치환 아미노산이어도, 특정의 측쇄를 가지는 아미노산을 포함하는 부위의 아마이드 결합이 절단되기 쉬움이 알려져 있다.
이 아스파트이미드 중간체가 가수분해되면, 아마이드 구조가 변화된 전이 생성물이나, 주쇄 절단체가 부생하기 때문에, 목적물의 수율, 순도가 저하된다. 아스파트이미드의 형성은 Asp(OBn)-Gly, Asp(OBn)-Ser, Asp(OBn)-Thr, Asp(OBn)-Asn, Asp(OBn)-Gln 등의 서열을 포함하는 펩티드를 산성 조건에서 탈보호 반응을 행했을 경우에 현저하다. 예를 들어, Boc-Phe-Asp(OBn)-Asn-Ala-OBn에 대해, 메테인설폰산을 이용하여 탈보호를 행하면, 대부분이 아스파트이미드체로 변환되어 버려, 소망의 아미노산 서열을 갖지 않는 것, 즉 주쇄의 손상 반응이 일어나는 것이 알려져 있다. (비특허문헌 24).
또한, Asp-Pro를 서열에 포함하는 펩티드 유도체를, 트라이플루오로아세트산, 불화 수소산, 폼산, 아세트산 등의 산성 조건에 부치면, 전술한 부반응과 마찬가지로 Asp 측쇄와 Pro의 질소 원자가 반응하여, 아마이드 결합이 절단됨도 알려져 있다(비특허문헌 25, 26).
아미노산 서열 의존적으로 아마이드 결합이 산에 대해서 불안정하게 되기 때문에 생기는, 탈보호 반응에서의 부반응을 회피하는 방법은 몇 가지 보고되어 있다.
예를 들어, 아스파라긴산 아마이드 유도체의 탈보호나 탈수지 반응에 있어서의 아스파트이미드의 형성을 억제하는 방법으로서, 바라는 보호기의 탈보호 조건에서는 주쇄 아마이드의 질소 원자의 구핵 공격이 진행하지 않도록, 아스파라긴산 측쇄의 카복실기의 보호기를 사이클로헥실기로 보호하는 예가 알려져 있고, 벤질 보호기를 측쇄 보호기로서 이용했을 경우에 비해, 유의하게 아스파트이미드의 형성이 억제되었다고 하는 보고가 있다(비특허문헌 27). 그러나, 그 후의, 사이클로헥실기의 제거에는 불화 수소산 등의 부식성이 높은 강산성 조건이 필요하다고 되어 있어, 반응의 실시, 후처리 모두 간편하지 않을 것은 용이하게 추측된다.
또한, 싸이오아니솔 존재하, 1M의 트라이메틸실릴 브로마이드/TFA로 처리하는 방법도 알려져 있다(비특허문헌 28). 그러나, 본 조건은 용매량의 TFA를 사용할 필요가 있는 것, 전술과 같이, 대량 제조에 부적합한 싸이오아니솔을 사용하는 것이 문제이다. 더욱이 트라이메틸실릴 브로마이드 대신에 트라이메틸실릴 트라이플레이트를 이용하면, 부생물 아스파트이미드가 유의하게 증가함이 기재되어 있어, 트라이메틸실릴 트라이플레이트보다도 트라이메틸실릴 브로마이드 쪽이 우수함이 시사되어 있다.
펩티드의 탈Boc화 반응 및 에스터의 탈t-Bu화 반응을, 3급 아민 존재하 및 트라이메틸실릴 트라이플레이트, 또는 TBDMSOTf 존재하에서 행하는 방법이 알려져 있다. 예를 들어, 3급 아민으로서 2,6-루티딘을 이용한, TMSOTf/2,6-루티딘의 조건에서, 다른 작용기 공존하에 탈N-Boc화를 행하여, Boc를 선택적으로 탈보호하고 있는 예가 알려져 있다(비특허문헌 29, 30, 31). 또한, TFA를 이용한 산성 조건하에서 동시에 일어날 수 있는 고상 합성용 수지로부터의 탈수지 반응과 탈Boc화 반응을, 트라이메틸실릴 트라이플레이트/2,6-루티딘의 조건에서 행함으로써, 선택적으로 탈Boc화 반응을 행하고 있는 예가 알려져 있다(비특허문헌 32, 33). 이들의 경우, 아마이드 결합을 갖는 화합물에도 적용되고 있지만, 아마이드 결합의 손상 회피를 목적으로 한 것은 아니다.
또한, 트라이메틸실릴 트라이플레이트/2,6-루티딘의 조건에서, TBS기, TIPS기, 싸이오아세탈 공존하에 t-Bu 에스터의 탈보호가 선택적으로 행해지고 있다(비특허문헌 34). 이 수법을 이용하여, 펩티드의 t-Bu 에스터의 탈t-Bu화도 보고되어 있다. 예를 들어, TMSOTf/2,6-루티딘의 조건에서, t-Bu 에스터의 탈보호 반응을 행하고 있는 예가 알려져 있다(비특허문헌 35, 36). 그러나, 이 경우에도, 아마이드 결합의 절단 회피를 목적으로 하고 있는 것은 아니다.
또한, 양성자산으로 처리하면 복잡한 혼합물을 제공하는 천연 펩티드 화합물의 전(全) 합성에서의 탈N-Boc화 반응에, 트라이메틸실릴 트라이플레이트/2,6-루티딘을 이용하면, 당해 반응에서 부생성물을 억제하여 목적물을 우선적으로 제공함이 알려져 있다(비특허문헌 37). 그러나, 여기에 기재되어 있는 부반응에 대해서는 상세가 기재되지 않은 것에 더하여, 이 반응 조건의 범용성이나 아마이드 결합 손상 회피의 가능성에 대해 전혀 검토되어 있지 않다. 더욱이, 대과잉의 시약(20당량 이상)이 필요하다고 되어 있어, 적용 가능한 기질의 일반성, 제조 비용의 관점에서 문제가 남아 있다. 이 경우, 아마이드 결합을 갖는 화합물에 트라이메틸실릴 트라이플레이트/2,6-루티딘이 적용되고 있는 것에 지나지 않고, 부반응이 아마이드 결합의 절단에 의한 것인지 여부에 대해서도 언급되어 있지 않다.
이와 같이, 고상법에서는 신장된 펩티드를 얻기 위해서 펩티드가 담지된 수지로부터 펩티드를 절단하는 반응(탈수지 반응)에 있어서, 또한 고상법과 액상법 쌍방에서는, N말단, C말단 및 아미노산의 측쇄의 보호기 중, 산성 조건에서 탈보호 가능한 보호기를 제거하는 반응에 있어서, 트라이플루오로아세트산으로 대표되는 브뢴스테드산을 이용한 산성 조건에서의 처리가 범용되고 있다. 또한, 탈보호 반응을 루이스산의 존재하에서 행하고 있는 예도 알려져 있다. 그러나, N-Me 아미노산으로 대표되는 비천연 아미노산을 포함하는 펩티드를, 종래의 방법으로 처리하여, 탈수지 반응 또는 탈보호 반응을 행하면, 목적하는 반응에 부수하여, 펩티드의 주쇄 절단 또는 전이(주쇄의 손상)가 진행되는 것, 및 대량의 시약을 필요로 하는 것이 알려져 있음에도 불구하고, 이들의 해결법은 알려져 있지 않다(비특허문헌 20, 22, 37).
특히, 비천연형 인공 펩티드의 연구는 종래의 합성법에서는 생각하지 않은 부반응에 조우하는 경우도 많기 때문에, 비천연형 인공 펩티드나 이들의 유도체를 공업적으로 효율 좋게 합성하는 수법의 개발이 극히 중요해지고 있다. 그러나, 이들 비천연 아미노산을 포함하는 펩티드의 제조에는, 천연 아미노산으로 이루어지는 종래의 펩티드의 제조법이 전용되고 있는 것에 지나지 않고, 비천연 아미노산을 포함하는 펩티드의 제조에 있어서의 문제점, 특히 탈보호 반응 또는 탈수지 반응에 있어서 주쇄의 손상이 일어난다고 하는, 특유의 문제점을 초점으로 하여, 그 과제를 해결한 효율적인 합성법은 알려져 있지 않았다.
국제 공개 제2014/033466호 공보
Future Med. Chem., 2009, 1, 1289-1310. Amino Acids, Peptides and Proteins in Organic Chemistry: Building Blocks, Catalysis and Coupling Chemistry, Volume 3, 2011 Amino Acids, 2018, 50, 39-68. Chem. Rev., 2009, 109, 2455-2504. Russ. J. Bioorg. Chem. 2016, 42, 143-152. J. Comb. Chem. 2002, 4, 1-16. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 6786-6791. Org. Lett. 2012, 14, 612-615. Eur. J. Med. Chem. 2000, 35, 599-618. J. Chem. Soc. D, 1970, 0, 406b-407. J. Peptide Res. 2005, 65, 153-166. J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1987, 274-275. J. Am. Chem. Soc. 2015, 137, 13488-134918. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 13244-13247. J. Am. Chem. Soc., 2016, 138, 969-974. Tetrahedron Lett., 1998, 39, 865-868. J. Mass. Spectrom., 1998, 33, 505-524. J. Am. Chem. Soc., 1994, 116, 11512-11521. J. Am. Soc. Mass Spectrom, 1995, 6, 91-101. Int. J. Peptide Protein Res. 1996, 47, 182-189. Int. J. Peptide Protein Res. 1988, 31, 186-191. Molecular Biomethods Handbook, p. 515-547. J. Mol. Model, 2013, 19, 3627-3636. Chem. Pharm. Bull., 1981, 29, 2825-2831. Side reactions in Peptide Synthesis, 2015, 1-31, Academic Press. Biochem. Biophys. Res. Commun. 1970, 40, 1173-1178. Tetrahedron Lett., 1979, 20, 4033-4036. Tetrahedron, 1988, 44, 805-819. Tetrahedron Lett., 1988, 29, 1181-1184. J. Org. Chem. 1997, 62, 3880-3889. Org. Lett. 2018, 20, 4637-4640. Eur. J. Org. Chem., 2012, 6204-6211 Tetrahedron Lett., 1998, 39, 7439-7442. J. Org. Chem. 1990, 55, 2786-2797. Bioorg. Med. Chem. Lett. 2008, 18, 3902-3905. Tetrahedron 2004, 60, 8509-8527. J. Org. Chem., 2016, 81, 532-544.
본 발명자들은, 종래의 펩티드의 합성에서 범용되고 있는 아미노산 또는 펩티드의 보호기를 제거하는 탈보호 공정, 또는 고상 반응에 있어서의 수지로부터 펩티드의 절출을 행하는 탈수지 공정에서 범용되고 있는 TFA로 대표되는 산으로의 처리와 마찬가지의 조건을, 비천연 아미노산을 포함하는 펩티드 화합물에 적응한 바, 펩티드 화합물의 아마이드 결합의 절단 또는 전이 등의 주쇄의 손상이 현저히 일어나, 목적하는 서열의 펩티드 화합물이 효율 좋게 얻어지지 않고, 당해 펩티드 화합물의 제조가 곤란해짐을 발견했다. 구체적으로는, 질소 원자가 N치환(예를 들어, N-알킬화)된 아미노산을 포함하는 펩티드 화합물의 해당 아미노산을 포함하는 부분의 아마이드 결합, 또는, 아스파라긴산을 포함하는 부분의 아마이드 결합에 대해, 산성 조건에서는 주쇄가 손상을 받기 쉬운 결합임을 발견했다. 이들 문제점에 더하여, 본 발명자는, 종래의 산성 조건에서 주쇄의 손상을 일으키는 더 많은 아미노산 서열도 발견했다. 본 발명은, 펩티드 화합물에 포함되는 아마이드 결합의 절단 또는 전이 등의 부반응을 억제하고, 산성 조건하에서 제거 가능한 보호기를 제거하는 반응, 및 고상 반응에 있어서 수지를 제거하는 반응의 수법을 제공하여, 탈보호, 및/또는 탈수지된 펩티드 화합물을 간편한 조작으로 고수율 또한 고순도로 얻는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 주로 N치환(예를 들어, N-알킬화)된 아미노산을 포함하는 펩티드 화합물 중의 아마이드 결합의 절단 또는 전이 등의 부반응을 억제하고, 산성 조건하에서 제거 가능한 보호기를 제거하는 반응, 또는 고상 반응에 있어서의 탈수지 반응에 대해, 정력적으로 연구를 행했다. 구전자종 포착제 존재하에 있어서 실릴 화합물을 작용시키는 수법을 정밀히 조사한 바, 산에 불안정한 아마이드 결합을 갖는 펩티드 화합물에 대해서 실릴 화합물 또는 산을, 구전자종 포착제와 조합하여 처리함으로써, 보호기 및/또는 수지의 제거를 행할 수 있고, 현안이었던 주쇄의 손상을 병발(倂發)하지 않고 목적하는 탈보호체 및/또는 탈수지체가, 고수율 또한 고순도로 얻어짐을 발견했다. 또한, 본 발명자들은 이와 같은 탈보호 및/또는 탈수지를 위한 시약으로서, 적절한 실릴 화합물 또는 산에 대해, 이미데이트(식 2), 아마이드(식 3), 케텐 아세탈(식 4), 케텐 알콕시 헤미아민알(식 4), 엔올 에터(식 4), 엔올 에스터(식 4), 이민(식 5), 아민(식 6), 다이아민(식 7), 다이알킬카보다이이미드(식 8), 유레아(식 9), 또는 유레테인(식 10) 등으로 예시되는 화합물을 구전자종 포착제로서 조합하여 이용할 수 있음을 발견했다. 본 발명을 이용함으로써, 아마이드 결합의 절단을 병발하지 않고 목적하는 펩티드 화합물을, 종래의 수법보다도 효율적으로, 고수율 또한 고순도로 얻을 수 있다.
본 발명은, 비한정의 구체적인 일 태양에 있어서 이하를 포함한다.
〔1〕 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 펩티드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 해당 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함하고, 또한,
해당 출발 펩티드 화합물은, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함하는, 방법.
〔2〕 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈수지 가능한 고상 합성용 수지를 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 펩티드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 해당 탈수지 가능한 고상 합성용 수지에 연결되어 있고, 또한,
해당 출발 펩티드 화합물은, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함하는, 방법.
〔3〕 출발 펩티드 화합물이, 하기 화학식(I):
Figure pct00001
［식 중,
R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R4 혹은 R2와 R4＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고, 여기에서, R2와 R4가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4＇는 수소이고, R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4는 수소이며,
R4 및 R4＇는, R2와 R4 또는 R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R4＇가 수소이고, 또한 R4가, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG2, N-PG3-인돌-3-일메틸, 4-(PG2O)벤질, PG2-O-메틸, 1-(PG2O)에틸, 2-(PG2O)에틸, PG2-OCO(CH2)-, PG2-OCO(CH2)2-, PG3N-n-뷰틸, -CON(R14A)(R14B), -CH2-CON(R14A)(R14B), 및 -(CH2)2CON(R14A)(R14B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R4 및 R4＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R4 및 R4＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R5는, 단일 결합, 또는 -C(R5A)(R5B)-이고,
R5A 및 R5B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고, 여기에서, R6과 R7이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7＇는 수소이고, R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7은 수소이며,
R7 및 R7＇는, R6과 R7 또는 R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R7＇가 수소이고, 또한 R7이 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG4, N-PG5-인돌-3-일메틸, 4-(PG4O)벤질, PG4-O-메틸, 1-(PG4O)에틸, 2-(PG4O)에틸, PG4-OCO(CH2)-, PG4-OCO(CH2)2-, PG5N-n-뷰틸, -CON(R15A)(R15B), -CH2-CON(R15A)(R15B), 및 -(CH2)2CON(R15A)(R15B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R7 및 R7＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R7 및 R7＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R8은, 단일 결합, 또는 -C(R8A)(R8B)-이고,
R8A 및 R8B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R9는, 하이드록시, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, -O-RES, 또는 -NH-RES이고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
R14A 및 R14B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R14A 및 R14B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
R15A 및 R15B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R15A 및 R15B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG1은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG2 및 PG4는, 독립하여, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG3 및 PG5는, 독립하여, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG6은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 적어도 1개 포함하는, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 방법.
〔4〕 출발 펩티드 화합물이, 그 C말단에 하기 화학식(II):
Figure pct00002
［식 중,
R1＇는, 식(III)으로 표시되는 기이고,
Figure pct00003
*는 결합점을 의미하고,
R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R10 혹은 R2와 R10＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고, 여기에서, R2와 R10이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10＇는 수소이고, R2와 R10＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10은 수소이며,
R10 및 R10＇는, R2와 R10 또는 R2와 R10＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG8, N-PG9-인돌-3-일메틸, 4-(PG8O)벤질, PG8-O-메틸, 1-(PG8O)에틸, 2-(PG8O)에틸, PG8-OCO(CH2)-, PG8-OCO(CH2)2-, PG9N-n-뷰틸, -CON(R16A)(R16B), -CH2-CON(R16A)(R16B), 및 -(CH2)2CON(R16A)(R16B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R10 및 R10＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, 또는 C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬이거나, 혹은
(c) R10 및 R10＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R11은, 단일 결합, 또는 -C(R11A)(R11B)-이고,
R11A 및 R11B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
n은, 0, 1, 또는 2이고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
m은, 0, 1, 또는 2이고,
R16A 및 R16B는, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은 R16A 및 R16B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG1은, 독립하여, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG8은, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG9는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 (2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함하는, 〔1〕∼〔3〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔5〕 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 아마이드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 아마이드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 아마이드 화합물은, 하기 화학식(II):
Figure pct00004
［식 중,
R1＇는, 수소 원자, 또는 PG7이고,
R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
n은, 0, 1, 또는 2이고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
m은, 0, 1, 또는 2이고,
R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG7은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 (2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되고, 또한
해당 출발 아마이드 화합물은, 해당 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함하는, 방법.
〔6〕 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 출발 아마이드 화합물을 고상 합성용 수지로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 아마이드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 아마이드 화합물은, 하기 화학식(II):
Figure pct00005
［식 중,
R1＇는, 수소 원자, 또는 PG7이고,
R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
RES는 고상 합성용 수지이고, 여기에서, R12 및 R12＇ 중 적어도 한쪽은, -(CH2)nCOO-RES, 또는 -(CH2)nCONH-RES이고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
n은, 0, 1, 또는 2이고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
m은, 0, 1, 또는 2이고,
R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG7은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는, 방법.
〔7〕 탈보호 가능한 보호기가, t-Bu, 트라이페닐메틸, 2-(트라이메틸실릴)-에틸, Boc, Teoc, Cbz, 메톡시카보닐, 테트라하이드로피란일, 1-에톡시에틸, 메톡시트라이틸, 및 큐밀로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 〔1〕, 및 〔3〕∼〔5〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔8〕 실릴 화합물이 하기 식 1:
Figure pct00006
［식 중, RAX, RAY, 및 RAZ는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고, X는, -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는, 〔1〕∼〔7〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔9〕 실릴 화합물이, TMSOTf, TESOTf, TBSOTf, TIPSOTf, TBDPSOTf, TTMSOTf, TMSCl, TMSBr, TMSOClO3, 및 TMSI로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 〔8〕에 기재된 방법.
〔10〕 산이, HX(식 중, X는 -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다)로 표시되는, 〔1〕∼〔7〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔11〕 구전자종 포착제가, 하기 식(2)∼(10):
Figure pct00007
［식 2 중,
RB는 치환 실릴기이고, 또한 RC는 치환 실릴기이거나, 혹은
RB와 RC는 그들이 결합하고 있는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어 5∼7원환을 형성하고,
RD는 1개 또는 복수의 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 C1-C4 알킬이거나, 치환되어 있어도 되는 메틸렌이고, 여기에서 RD가 치환되어 있어도 되는 메틸렌인 경우, 식 2는 2량화되어 이하의 식:
Figure pct00008
으로 표시되는 화합물을 형성하고,
식 3 중,
RG는 1개 또는 복수의 C1-C4 알킬로 치환된 실릴기이고,
RH는 수소, 또는 C1-C4 알킬이고,
RI는 수소, 또는 1개 또는 복수의 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 C1-C4 알킬이고,
식 4 중,
(a-1) RJ는 치환 실릴기이고, RK는 C1-C4 알콕시이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(a-2) RJ는 치환 실릴기이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼8원환을 형성하거나,
(b-1) RJ는 치환 실릴기이고, RK는 C1-C4 알킬이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(b-2) RJ는 치환 실릴기이고, RM은 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
(c-1) RJ와 RM이 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼7원환을 형성하고, RK는 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RL은 C1-C4 알킬이거나,
(c-2) RJ와 RM이 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼7원환을 형성하고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
(d-1) RJ는 C1-C4 알킬이고, 또한 RM, RK, 및 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(d-2) RJ는 C1-C4 알킬이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8환을 형성하거나,
(e-1) RJ는 C1-C3 알킬카보닐이고, 또한 RM, RK, 및 RL은, 독립하여 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(e-2) RJ는 C1-C3 알킬카보닐이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
(f-1) RJ는 치환 실릴기 또는 C1-C4 알킬이고, RK는 치환되어 있어도 되는 다이-C1-C4 알킬아미노이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(f-2) 또는 RJ는 치환 실릴기 또는 C1-C4 알킬이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어, 질소 원자를 포함하는 5∼8원환을 형성하고, 해당 5∼8원환은, C1-C4 알킬에 의해 치환되어 있어도 되고,
식 5 중,
RN, RN＇, 및 RO는, 독립하여, 수소 또는 C1-C4 알킬이고,
식 6 중,
RP는 치환 실릴기이고,
RQ는 치환 실릴기, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RR은 수소, 치환 실릴기, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은
RQ와 RR은 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 5∼8원환 헤테로환을 형성하고,
식 7 중,
X는 단일 결합 또는 탄소 원자이고,
여기에서 X가 단일 결합인 경우, RS는 존재하지 않고, RUA와 RR은, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자 및 질소 원자와 하나로 되어 치환되어 있어도 되는 6원의 방향족 헤테로환을 형성하고, 또한 RUB와 RT는, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자 및 질소 원자와 하나로 되어 치환되어 있어도 되는 6원의 방향족 헤테로환을 형성하고,
X가 탄소 원자인 경우, RUA 및 RUB는, 독립하여, C1-C4 알킬이고, 또한 RR와 RS와 RT는 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 이하의 구조:
Figure pct00009
를 형성하고,
식 8 중,
RV는, C1-C4 알킬 또는 C3-C6 사이클로알킬이고,
식 9 중,
RW 및 RX는, 독립하여, C1-C4 알킬, 또는 치환 실릴기이고,
식 10중,
RY 및 RZ는, 독립하여, C1-C4 알킬, 또는 치환 실릴기이다.］
으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 〔1〕∼〔10〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔12〕 구전자종 포착제가, N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드, N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드, 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈, 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인, 2,2,4,4-테트라메틸펜탄온 이민, 1,1,1,3,3,3-헥사메틸다이실라제인(HMDS), N-트라이메틸실릴모폴린, N-트라이메틸실릴다이에틸아민, 및 N-tert-뷰틸트라이메틸실릴아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 〔11〕에 기재된 방법.
〔13〕 제거 대상의 보호기 1당량에 대해서, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 1∼5당량의 실릴 화합물, 및 1∼10당량의 구전자종 포착제를 혼합하는, 〔1〕∼〔9〕 및 〔11〕∼〔12〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔14〕 제거 대상의 보호기 1당량에 대해서, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 0.1∼0.5당량의 실릴 화합물 또는 산을 혼합하는, 〔1〕∼〔12〕 중 어느 하나에 기재된 방법으로서,
구전자종 포착제가, N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드, N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드, 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈, 및 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인으로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
실릴 화합물이, TMSOTf, TESOTf, TBSOTf, TIPSOTf, TBDPSOTf, TTMSOTf, TMSCl, TMSBr, 및 TMSOClO3으로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
산이, HX(식 중, X는 -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다)로 표시되는, 방법.
〔15〕 출발 펩티드 화합물이, 1∼30개의 아미노산 잔기를 포함하고, 직쇄 또는 환상인, 〔1〕∼〔14〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔16〕 고상 합성용 수지가, CTC 수지, Wang 수지, 또는 SASRIN 수지인, 〔1〕∼〔4〕 및 〔6〕∼〔15〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔17〕 출발 펩티드 화합물을 용매와 혼합한 후에, 구전자종 포착제를 혼합하고, 그 다음에 실릴 화합물 또는 산을 혼합하는 것을 포함하는, 〔1〕∼〔16〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔18〕 용매가 아세트산 에틸, 아세트산 아이소프로필, 2-메틸테트라하이드로퓨란, 테트라하이드로퓨란, 다이에틸 에터, 메틸 tert-뷰틸 에터, 다이클로로메테인, 1,2-다이클로로에테인, 톨루엔, 및 아세토나이트릴로부터 선택되는, 〔1〕∼〔17〕 중 어느 하나에 기재된 방법.
〔19〕 하기 화학식(A)로 표시되는 아마이드 화합물 또는 그의 염:
Figure pct00010
식 중,
R1＇는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R17A 및 R17B는, 모두 메틸이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 피페리딘 또는 모폴린을 형성하고,
R18은 수소 또는 PG10이고, 여기에서 PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
〔20〕 이하로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 〔19〕에 기재된 아마이드 화합물 또는 그의 염:
(3-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-11) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-12) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-13) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-14) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-15) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-17) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-18) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-19) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-20) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-11) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-12) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-13) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-14) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-15) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-17) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-18) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-19) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-20) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(4-1) 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(4-2) 알릴 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
(4-3) tert-뷰틸 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
(4-4) 벤질 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
(4-5) 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(4-6) 알릴 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
(4-7) tert-뷰틸 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
(4-8) 벤질 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
(4-9) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(4-10) 알릴 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트,
(4-11) tert-뷰틸 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트,
(4-12) 벤질 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트,
(1-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-11) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-12) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-13) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-14) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-15) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-17) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-18) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-19) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸, 및
(1-20) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질.
〔21〕 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 펩티드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 하기 화학식(I):
Figure pct00011
［식 중,
R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R4 혹은 R2와 R4＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고,
R4 및 R4＇는, R2로 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R4＇가 수소이고, 또한 R4가, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG2, N-PG3-인돌-3-일메틸, 4-(PG2O)벤질, PG2-O-메틸, 1-(PG2O)에틸, 2-(PG2O)에틸, PG2-OCO(CH2)-, PG2-OCO(CH2)2-, PG3N-n-뷰틸, -CON(R14A)(R14B), -CH2-CON(R14A)(R14B), 및 -(CH2)2CON(R14A)(R14B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R4 및 R4＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R4 및 R4＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R5는, 단일 결합, 또는 -C(R5A)(R5B)-이고,
R5A 및 R5B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고,
R7 및 R7＇는, R6과 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R7＇가 수소이고, 또한 R7이 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG4, N-PG5-인돌-3-일메틸, 4-(PG4O)벤질, PG4-O-메틸, 1-(PG4O)에틸, 2-(PG4O)에틸, PG4-OCO(CH2)-, PG4-OCO(CH2)2-, PG5N-n-뷰틸, -CON(R15A)(R15B), -CH2-CON(R15A)(R15B), 및 -(CH2)2CON(R15A)(R15B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R7 및 R7＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R7 및 R7＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R8은, 단일 결합, 또는 -C(R8A)(R8B)-이고,
R8A 및 R8B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R9는, 하이드록시, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, -O-RES, 또는 -NH-RES이고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
R14A 및 R14B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R14A 및 R14B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
R15A 및 R15B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R15A 및 R15B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG1은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG2 및 PG4는, 독립하여, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG3 및 PG5는, 독립하여, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG6은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함하고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 임의로 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하고, 또한
해당 출발 펩티드 화합물은, 해당 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함하는, 방법.
〔22〕 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 출발 펩티드 화합물을 고상 합성용 수지로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 펩티드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 하기 화학식(I):
Figure pct00012
［식 중,
R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R4 혹은 R2와 R4＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고,
R4 및 R4＇는, R2로 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R4＇가 수소이고, 또한 R4가, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG2, N-PG3-인돌-3-일메틸, 4-(PG2O)벤질, PG2-O-메틸, 1-(PG2O)에틸, 2-(PG2O)에틸, PG2-OCO(CH2)-, PG2-OCO(CH2)2-, PG3N-n-뷰틸, -CON(R14A)(R14B), -CH2-CON(R14A)(R14B), 및 -(CH2)2CON(R14A)(R14B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R4 및 R4＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R4 및 R4＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R5는, 단일 결합, 또는 -C(R5A)(R5B)-이고,
R5A 및 R5B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고,
R7 및 R7＇는, R6과 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R7＇가 수소이고, 또한 R7이 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG4, N-PG5-인돌-3-일메틸, 4-(PG4O)벤질, PG4-O-메틸, 1-(PG4O)에틸, 2-(PG4O)에틸, PG4-OCO(CH2)-, PG4-OCO(CH2)2-, PG5N-n-뷰틸, -CON(R15A)(R15B), -CH2-CON(R15A)(R15B), 및 -(CH2)2CON(R15A)(R15B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R7 및 R7＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R7 및 R7＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R8은, 단일 결합, 또는 -C(R8A)(R8B)-이고,
R8A 및 R8B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R9는, 하이드록시, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, -O-RES, 또는 -NH-RES이고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
R14A 및 R14B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R14A 및 R14B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
R15A 및 R15B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R15A 및 R15B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG1은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG2 및 PG4는, 독립하여, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG3 및 PG5는, 독립하여, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG6은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함하고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 임의로 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하고, 또한
해당 출발 펩티드 화합물은, 고상 합성용 수지와 결합한 아미노산 잔기를 적어도 1개 포함하는, 방법.
〔23〕 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 펩티드 화합물 또는 아마이드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물은, 해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물의 C말단에 하기 화학식(II):
Figure pct00013
［식 중,
R1＇는, 수소 원자, PG7, 또는 식(III)으로 표시되는 기이고,
Figure pct00014
*는 결합점을 의미하고,
R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R10 혹은 R2와 R10＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고,
R10 및 R10＇는, R2로 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG8, N-PG9-인돌-3-일메틸, 4-(PG8O)벤질, PG8-O-메틸, 1-(PG8O)에틸, 2-(PG8O)에틸, PG8-OCO(CH2)-, PG8-OCO(CH2)2-, PG9N-n-뷰틸, -CON(R16A)(R16B), -CH2-CON(R16A)(R16B), 및 -(CH2)2CON(R16A)(R16B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R10 및 R10＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, 또는 C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬이거나, 혹은
(c) R10 및 R10＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R11은, 단일 결합, 또는 -C(R11A)(R11B)-이고,
R11A 및 R11B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
n은, 0, 1, 또는 2이고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
m은, 0, 1, 또는 2이고,
R16A 및 R16B는, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은 R16A 및 R16B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG1 및 PG7은, 독립하여, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG8은, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG9는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 (2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는 아미노산 잔기 또는 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함하고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 임의로 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하고, 또한
해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물은, 해당 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함하는, 방법.
〔24〕 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물을 고상 합성용 수지로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 펩티드 화합물 또는 아마이드 화합물을 제조하는 방법으로서,
해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물은, 해당 출발 펩티드 화합물 또는 출발 아마이드 화합물의 C말단에 하기 화학식(II):
Figure pct00015
［식 중,
R1＇는, 수소 원자, PG7, 또는 식(III)으로 표시되는 기이고,
Figure pct00016
*는 결합점을 의미하고,
R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R10 혹은 R2와 R10＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고,
R10 및 R10＇는, R2로 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG8, N-PG9-인돌-3-일메틸, 4-(PG8O)벤질, PG8-O-메틸, 1-(PG8O)에틸, 2-(PG8O)에틸, PG8-OCO(CH2)-, PG8-OCO(CH2)2-, PG9N-n-뷰틸, -CON(R16A)(R16B), -CH2-CON(R16A)(R16B), 및 -(CH2)2CON(R16A)(R16B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R10 및 R10＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, 또는 C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬이거나, 혹은
(c) R10 및 R10＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
R11은, 단일 결합, 또는 -C(R11A)(R11B)-이고,
R11A 및 R11B는, 독립하여, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
RES는 고상 합성용 수지이고, 여기에서, R12 및 R12＇ 중 적어도 한쪽은, -(CH2)nCOO-RES, 또는 -(CH2)nCONH-RES이고,
RES는 고상 합성용 수지이고,
n은, 0, 1, 또는 2이고,
R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
m은, 0, 1, 또는 2이고,
R16A 및 R16B는, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은 R16A 및 R16B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
PG1 및 PG7은, 독립하여, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG8은, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG9는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
로 표시되는 아미노산 잔기 또는 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함하고,
해당 출발 펩티드 화합물은, 임의로 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는, 방법.
〔25〕 실릴 화합물 또는 산, 및 구전자종 포착제를 포함하는, 보호기를 탈보호하기 위해서 이용하기 위한 탈보호제.
〔26〕 실릴 화합물 또는 산, 및 구전자종 포착제를 포함하는, 고상 반응에 있어서 펩티드 화합물을 수지로부터 절출하기 위해서 이용하기 위한 탈수지제.
본 발명의 이점으로서, 공지된 방법과 비교하여, 아마이드 결합에 손상을 주기 쉬운 대량의 브뢴스테드산을 사용하지 않는 것, 및 시약의 당량을 줄일 수 있는 것에 더하여, 이용한 시약을 제거하기 쉬운 것, 및 다음의 공정의 반응에 영향을 주지 않는 것을 들 수 있다. 예를 들어, 2,6-루티딘은 비점이 높기(144℃) 때문에 증류제거하기 어렵다. 또한, 2,6-루티딘은 염기성 화합물이기 때문에, 산으로 제거하는 것도 가능하지만, 목적 화합물이 펩티드 화합물인 경우, 생성물이 염기성의 아미노기를 갖는 화합물이기 때문에, 산성 조건에서 과잉의 2,6-루티딘을 제거하는 방법은 비효율적이다. 또한, 탈보호 반응의 다음의 축합 반응(아마이드 결합을 신장하는 반응) 시에, 전(前)공정에서 이용한 2,6-루티딘이 잔존하고 있으면, 축합제와 잔존 2,6-루티딘이 반응하거나, 혹은 축합 반응 시에 염기가 존재함으로써 소망의 조건에서 축합 반응을 행할 수 없게 된다고 하는 문제점이 남는다. 한편, 예를 들어 본 발명의 실릴아민류를 사용하는 경우에는, 반응 후에 물로 처리하는 것에 의해, 실릴아민류가 가수분해되어, 제거가 용이한 수용성이 높은 화합물로 변환되므로, 수용액 세정함으로써 실릴아민류 유래의 시약을 용이하게 제거할 수 있고, 다음 공정에서의 펩티드 신장에는 영향을 주지 않기 때문에, 종래의 2,6-루티딘을 이용한 경우와 비교하여 우수하다.
또한, 이미데이트(식 2), 아마이드(식 3), 케텐 아세탈(식 4), 케텐 알콕시 헤미아민알(식 4), 엔올 에터(식 4), 엔올 에스터(식 4), 이민(식 5), 아민(식 6), 다이아민(식 7), 다이알킬카보다이이미드(식 8), 유레아(식 9), 또는 유레테인(식 10) 등으로 예시되는 구전자종 포착제로서 이용되는 화합물 중, 이미데이트(식 2), 아마이드(식 3), 케텐 아세탈(식 4), 케텐 알콕시 헤미아민알(식 4), 엔올 에터(식 4), 엔올 에스터(식 4), 이민(식 5)은, 반응 후의 온화한 가수분해 처리에 의해, 제거가 용이한 저비점의 화합물로 변환할 수 있기 때문에, 반응에 이용한 과잉인 시약의 제거는, 2,6-루티딘과 비교하여 현격히 용이하다. 또한, 아마이드 화합물(식 3)은 물론이고, 이미데이트류도, 반응 후의 온화한 가수분해 처리에 의해, 제거가 용이한 화합물로 변환되므로, 다음 공정에의 영향이 없다. 또한, 구전자종 포착제로서의 아민류는, 종래 잘 알려져 있는 3급 아민은 아니고, 2급 아민도 사용할 수 있는 것이 특징이며, 탈보호에 있어서 아마이드 결합의 손상을 억제하여 행할 수 있다.
본 발명은, 일 측면에 있어서, 펩티드 화합물의 탈N-Boc를 펩티드 화합물의 주쇄의 손상을 억제하여 행할 수 있다. 다른 측면에 있어서, 본 발명은, 펩티드 화합물의 주쇄 C말단 및 측쇄의 t-Bu 에스터의 탈t-Bu화, 벤질 에스터의 탈벤질화, 트라이틸 에스터의 탈트라이틸화를 펩티드 화합물의 주쇄의 손상을 억제하여 행할 수 있다. 더욱이, 다른 측면에 있어서는, 펩티드 화합물의 주쇄 C말단, 또는 측쇄에 결합한 수지로부터의 펩티드 화합물의 탈수지 반응을, 펩티드 화합물의 주쇄의 손상을 억제하여 행할 수 있다.
본 발명에 있어서 사용되는 약어를 이하에 기재한다.
AcOEt: 아세트산 에틸
Alloc: 알릴옥시카보닐
Allyl: 알릴
BEP: 테트라플루오로붕산 2-브로모-1-에틸피리디늄
Bn: 벤질
Boc: tert-뷰톡시카보닐
BSA: N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드
BSTFA: N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드
Bu: 뷰틸
Cbz: 벤질옥시카보닐
cHx: 사이클로헥실
Cl-CTC 수지: 2-클로로트라이틸 클로라이드 폴리머 수지
CPME: 사이클로펜틸 메틸 에터
CTC: 염화 2-클로로트라이틸
DBU: 2,3,4,6,7,8,9,10-옥타하이드로피리미도[1,2-a]아제핀
DdZ: 3,5-다이메톡시페닐아이소프로폭시카보닐
DIC: N,N＇-다이아이소프로필카보다이이미드
DIPEA: N,N-다이아이소프로필에틸아민
DMA: N,N-다이메틸아세트아마이드
DME: 1,2-다이메톡시에테인
DMF: N,N-다이메틸폼아마이드
DMSO: 다이메틸설폭사이드
DMT-MM: 4-(4,6-다이메톡시-1,3,5-트라이아진-2-일)-4-메틸모폴리늄 클로라이드
EDCI: 1-(3-다이메틸아미노프로필)-3-에틸카보다이이미드
eq.: 당량
EtOH: 에탄올
Et: 에틸
Fmoc: 9-플루오렌일메틸옥시카보닐
HATU: 1-[비스(다이메틸아미노)메틸렌]-1H-1,2,3-트라이아졸로[4,5-b]피리디늄 3-옥사이드 헥사플루오로포스페이트
HMDS: 헥사메틸다이실라제인
HOAt: 3H-1,2,3-트라이아졸로[4,5-b]피리딘-3-올
HOBt: 1,2,3-벤조트라이아졸-1-올
HPLC: 고속 액체 크로마토그래피
i-PrOAc: 아세트산 아이소프로필
i-Pr: 아이소프로필
LCMS: 액체 크로마토그래피 질량 분석
MeCN: 아세토나이트릴
Me: 메틸
MS: 질량 분석
MsOH: 메테인설폰산
MSTFA: N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드
MTBE: 메틸 tert-뷰틸 에터
ND: not determined
NMI: 1-메틸이미다졸
NMP: N-메틸피롤리돈
oxyma: 사이아노(하이드록시이미노)아세트산 에틸
Pd/C: 팔라듐 탄소
Ph: 페닐
pip: 피페리딘일
prep.: preparation
T3P: 프로필포스폰산 무수물
TBDPS: tert-뷰틸다이페닐실릴
TBS: tert-뷰틸다이메틸실릴
t-Bu: tert-뷰틸
TEA: 트라이에틸아민
Teoc: 2-(트라이메틸실릴)에톡시카보닐
TES: 트라이에틸실릴
TFA: 트라이플루오로아세트산
TFE: 2,2,2-트라이플루오로에탄올
TfOH: 트라이플루오로메테인설폰산
Tf: 트라이플루오로메테인설폰일
THF: 테트라하이드로퓨란
2-MeTHF: 2-메틸테트라하이드로퓨란
TIPS: 트라이아이소프로필실릴
TMSOTf: 트라이플루오로메테인설폰산 트라이메틸실릴
TMS: 트라이메틸실릴
Tr: 트라이틸
TTMS: 트리스(트라이메틸실릴)실릴
vol.: volume
Gly: 글리신
Ala: 알라닌
Ser: 세린
Thr: 트레오닌
Val: 발린
Leu: 류신
Ile: 아이소류신
Phe: 페닐알라닌
Tyr: 티로신
Trp: 트립토판
His: 히스티딘
Glu: 글루타민산
Asp: 아스파라긴산
Gln: 글루타민
Asn: 아스파라긴
Cys: 시스테인
Met: 메티오닌
Lys: 리신
Arg: 아르기닌
Pro: 프롤린
MeGly: N-Me 글리신
MeAla: N-Me 알라닌
MeSer: N-Me 세린
MeThr: N-Me 트레오닌
MeVal: N-Me 발린
MeLeu: N-Me 류신
MeIle: N-Me 아이소류신
MePhe: N-Me 페닐알라닌
MeTyr: N-Me 티로신
MeTrp: N-Me 트립토판
MeHis: N-Me 히스티딘
MeGlu: N-Me 글루타민산
MeAsp: N-Me 아스파라긴산
MeGln: N-Me 글루타민
MeAsn: N-Me 아스파라긴
MeCys: N-Me 시스테인
MeMet: N-Me 메티오닌
MeLys: N-Me 리신
MeArg: N-Me 아르기닌
(작용기의 정의)
본 명세서에 있어서 「알킬」이란, 지방족 탄화수소로부터 임의의 수소 원자를 1개 제거하여 유도되는 1가의 기이며, 골격 중에 헤테로원자(탄소 및 수소 원자 이외의 원자를 말한다.) 또는 불포화의 탄소-탄소 결합을 함유하지 않고, 수소 및 탄소 원자를 함유하는 하이드로카빌 또는 탄화수소기 구조의 부분 집합을 갖는다. 해당 알킬은 직쇄상, 또는 분지쇄상의 것을 포함한다. 알킬로서는, 탄소 원자수 1∼20(C1-C20, 이하 「Cp-Cq」란 탄소 원자수가 p∼q개인 것을 의미한다.)의 알킬이며, C1-C6 알킬, C1-C4 알킬 등이 예시된다. 알킬로서, 구체적으로는, 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸, 헥실, 아이소프로필, tert-뷰틸, sec-뷰틸 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 「사이클로알킬」이란, 포화 또는 부분적으로 포화된 환상의 1가의 지방족 탄화수소기를 의미하고, 단환, 바이사이클로환, 스파이로환을 포함한다. 사이클로알킬은, 부분적으로 불포화여도 된다. 사이클로알킬로서, 바람직하게는 C3-C6 사이클로알킬을 들 수 있고, 이것에는, 예를 들어, 사이클로프로필, 사이클로뷰틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 등이 포함된다.
본 명세서에 있어서의 「사이클로알킬알킬」은, 상기 정의 「알킬」 중의 임의의 수소 원자를, 상기 정의 「사이클로알킬」로 치환한 기를 의미한다. 사이클로알킬알킬로서는, 바람직하게는 C3-6 사이클로알킬 C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬 C1-4 알킬 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 사이클로프로필메틸, 사이클로프로필에틸, 사이클로뷰틸메틸, 사이클로펜틸메틸, 사이클로헥실메틸 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「알콕시」는, 상기 정의의 「알킬」이 결합한 옥시기인 것을 의미하고, 바람직하게는 C1-4 알콕시, C1-3 알콕시 등을 들 수 있다. 알콕시로서, 구체적으로는, 예를 들어, 메톡시, 에톡시, 1-프로폭시, 2-프로폭시, n-뷰톡시, i-뷰톡시, sec-뷰톡시, tert-뷰톡시 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「지환식환」은, 1가의 비방향족 탄화수소환을 의미한다. 지환식환은, 환 중에 불포화 결합을 가져도 되고, 2개 이상의 환을 갖는 다환성의 기여도 된다. 또한 환을 구성하는 탄소 원자는 산화되어 카보닐을 형성해도 된다. 지환식환을 구성하는 원자의 수는, 바람직하게는 3∼7이다(3∼7원 지환식환). 지환식환으로서 구체적으로는, 사이클로알킬환, 사이클로알켄일환, 사이클로알킨일환 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「헤테로환」은, 환을 구성하는 원자 중에 바람직하게는 1∼5개의 헤테로원자를 함유하는, 비방향족의 1가 또는 2가의 헤테로환을 의미한다. 헤테로환은, 환 중에 이중 및 또는 삼중 결합을 갖고 있어도 되고, 환 중의 탄소 원자는 산화되어 카보닐을 형성해도 되고, 단환, 축합환, 스파이로환이어도 된다. 환을 구성하는 원자의 수는 바람직하게는 3∼12이고(3∼12원 헤테로환), 보다 바람직하게는 4∼7이며(4∼7원 헤테로환), 더 바람직하게는 5∼6이다(5∼6원 헤테로환).
헤테로환으로서 구체적으로는, 예를 들어, 아제티딘, 피페라진, 피롤리딘, 피페리딘, 모폴린, 호모모폴린, (R)-헥사하이드로피롤로[1,2-a]피라진, (S)-헥사하이드로피롤로[1,2-a]피라진, 3-옥소피페라진, 2-옥소피롤리딘, 아제티딘, 2-옥소이미다졸리딘, 옥세테인, 다이하이드로퓨란, 테트라하이드로퓨란, 다이하이드로피란, 테트라하이드로피란, 테트라하이드로피리딘, 싸이오모폴린, 피라졸리딘, 이미다졸린, 옥사졸리딘, 아이소옥사졸리딘, 싸이아졸리딘, 이미다졸리딘, 아이소싸이아졸리딘, 싸이아다이아졸리딘, 옥사졸리돈, 벤조다이옥세인, 벤즈옥사졸린, 다이옥솔레인, 다이옥세인, 테트라하이드로싸이오피란 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「방향족 헤테로환」은, 환을 구성하는 원자 중에 바람직하게는 1∼5개의 헤테로원자를 함유하는 방향족성의 1가 또는 2가의 헤테로환을 의미한다. 방향족 헤테로환은, 부분적으로 포화되어 있어도 되고, 단환, 축합환(예를 들어, 단환 방향족 헤테로환이 벤젠환 또는 단환 방향족 헤테로환과 축합된 2환식 방향족 헤테로환), 스파이로환이어도 된다. 환을 구성하는 원자의 수는 바람직하게는 4∼10이다(4∼10원 방향족 헤테로환).
방향족 헤테로환으로서 구체적으로는, 예를 들어, 퓨란, 싸이오펜, 피롤, 이미다졸, 피라졸, 싸이아졸, 아이소싸이아졸, 옥사졸, 아이소옥사졸, 옥사다이아졸, 싸이아다이아졸, 트라이아졸, 테트라졸, 피리딘, 피리미딘, 피리다진, 피라진, 트라이아진, 벤조퓨란, 벤조싸이오펜, 벤조싸이아다이아졸, 벤조싸이아졸, 벤즈옥사졸, 벤즈옥사다이아졸, 벤즈이미다졸, 인돌, 아이소인돌, 인다졸, 퀴놀린, 아이소퀴놀린, 신놀린, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 인돌리진, 이미다조피리딘 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「아릴」은, 1가의 방향족 탄화수소환을 의미하고, 바람직하게는 C6-10 아릴 등을 들 수 있다. 아릴로서는 구체적으로는, 예를 들어, 페닐, 나프틸(예를 들어, 1-나프틸, 2-나프틸) 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「헤테로아릴」은, 환을 구성하는 원자 중에 바람직하게는 1∼5개의 헤테로원자를 함유하는 방향족성의 1가의 헤테로환기를 의미한다. 헤테로아릴은, 부분적으로 포화되어 있어도 되고, 단환이어도 축합환(예를 들어, 벤젠환 또는 단환 헤테로아릴환과 축합된 2환식 헤테로아릴)이어도 된다. 환을 구성하는 원자의 수는 바람직하게는 5∼10이다(5∼10원 헤테로아릴).
헤테로아릴로서는 구체적으로는, 예를 들어, 퓨릴, 싸이엔일, 피롤릴, 이미다졸릴, 피라졸릴, 싸이아졸릴, 아이소싸이아졸릴, 옥사졸릴, 아이속사졸릴, 옥사다이아졸릴, 싸이아다이아졸릴, 트라이아졸릴, 테트라졸릴, 피리딜, 피리미딜, 피리다진일, 피라진일, 트라이아진일, 벤조퓨란일, 벤조싸이엔일, 벤조싸이아다이아졸릴, 벤조싸이아졸릴, 벤즈옥사졸릴, 벤즈옥사다이아졸릴, 벤즈이미다졸릴, 인돌릴, 아이소인돌릴, 아자인돌릴, 인다졸릴, 퀴놀릴, 아이소퀴놀릴, 신놀린일, 퀴나졸린일, 퀴녹살린일, 벤조다이옥솔릴, 인돌리진일, 이미다조피리딜 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「헤테로사이클릴」은, 환을 구성하는 원자 중에 바람직하게는 1∼5개의 헤테로원자를 함유하는, 비방향족의 1가의 헤테로환기를 의미한다. 헤테로사이클릴은, 환 중에 이중, 삼중 결합을 갖고 있어도 되고, 탄소 원자는 산화되어 카보닐을 형성해도 되고, 단환이어도 축합환이어도 된다. 환을 구성하는 원자의 수는 바람직하게는 3∼10이다(3∼10원 헤테로사이클릴).
헤테로사이클릴로서는 구체적으로는, 예를 들어, 옥세탄일, 다이하이드로퓨릴, 테트라하이드로퓨릴, 다이하이드로피란일, 테트라하이드로피란일, 테트라하이드로피리딜, 모폴린일, 싸이오모폴린일, 피롤리딘일, 피페리딘일, 피페라진일, 피라졸리딘일, 이미다졸린일, 이미다졸리딘일, 옥사졸리딘일, 아이소옥사졸리딘일, 싸이아졸리딘일, 아이소싸이아졸리딘일, 싸이아다이아졸리딘일, 아제티딘일, 옥사졸리돈, 벤조다이옥산일, 벤즈옥사졸릴, 다이옥솔란일, 다이옥산일 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「아릴알킬」은, 상기 정의 「알킬」 중의 임의의 수소 원자를, 상기 정의 「아릴」로 치환한 기를 의미한다. 아릴알킬로서는, 바람직하게는 C6-10 아릴 C1-4 알킬, C6-10 아릴 C1-3 알킬 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 벤질, 페닐메틸, 페네틸(페닐에틸), 나프틸메틸 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「헤테로아릴알킬」은, 상기 정의 「알킬」 중의 임의의 수소 원자를, 상기 정의 「헤테로아릴」로 치환한 기를 의미한다. 헤테로아릴알킬로서 바람직하게는, 5∼10원 헤테로아릴 C1-3 알킬 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들어, 피롤릴메틸, 이미다졸릴메틸, 싸이엔일메틸, 피리딜메틸, 피리미딜메틸, 퀴놀릴메틸, 피리딜에틸 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 「치환 실릴」은, 1개∼3개의 치환기에 의해 치환된 실릴기를 의미한다. 치환기는 동일해도 상이해도 된다. 치환기로서 C1-C6 알킬, 아릴, 트라이C1-C6 알킬실릴이 바람직하다. 구체적으로는, 트라이메틸실릴, 트라이 에틸실릴, 트라이아이소프로필실릴, t-뷰틸다이메틸실릴, t-뷰틸다이페닐실릴, 트리스(트라이메틸실릴)실릴 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서, 「치환되어 있어도 되는」이라고 하는 수식 어구가 부여되어 있는 경우, 그 치환기로서는, 예를 들어, 알킬, 알콕시, 알켄일, 알켄일옥시, 알킨일, 알킨일옥시, 사이클로알킬, 아릴, 헤테로아릴, 헤테로사이클릴, 아릴알킬, 헤테로아릴알킬, 치환 실릴, 할로젠 원자, 나이트로, 아미노, 모노알킬아미노, 다이알킬아미노, 사이아노, 카복실, 알콕시카보닐, 폼일 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서, 「탈보호」란, 보호기를 제거하는 것에 의해, 보호하기 전의 원래의 작용기로 되돌리는 것을 말한다.
본 명세서에 있어서, 「탈수지」란, 고상 합성용 수지에 결합된 펩티드 화합물로부터 펩티드 화합물을 절출하는 것을 말한다. 고상 합성용 수지는, 출발 펩티드 화합물의 C말단의 아미노산 잔기에 결합하고 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 태양은, 펩티드 의약품에 유용한 아미노산 유연체를 포함하는 펩티드 의약품의 제조법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 태양은, 의약품의 원약 공급을 위한 고품질인 아미노산 유연체를 포함하는 펩티드의 제조법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 추가의 다른 태양은, 펩티드 화합물의 제조에 유용한, 신규 아마이드 화합물을 제공하는 것이다.
(탈보호/탈수지 방법)
어느 국면에 있어서, 본 발명은, 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 펩티드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
어느 국면에 있어서, 본 발명은, 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 출발 펩티드 화합물을 고상 합성용 수지로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 펩티드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 명세서에 있어서 「출발 펩티드 화합물」이란, 본 발명의 탈보호 반응 및/또는 탈수지 반응의 대상이 되는 출발 물질의 「펩티드 화합물」을 의미한다. 출발 펩티드 화합물은, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서의 「펩티드 화합물」에는, 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는, 직쇄 또는 환상의 펩티드 화합물이 포함된다. 한편, 환상의 펩티드 화합물은, 「환상부를 갖는 펩티드 화합물」과 동 의의이다.
본 발명에 있어서의 「직쇄상의 펩티드 화합물」은, 천연 아미노산 혹은 아미노산 유연체가 아마이드 결합 혹은 에스터 결합을 형성하는 것에 의해 형성되는 펩티드 화합물로서, 환상부를 갖지 않는 화합물인 한, 특별히 한정되지 않는다. 직쇄상의 펩티드 화합물을 구성하는 천연 아미노산 혹은 아미노산 유연체의 총수는, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 20, 25, 30개일 수 있고, 직쇄상의 펩티드 화합물을 구성하는 아미노산의 수의 바람직한 범위는 1∼30개, 6∼20개, 7∼19개, 7∼18개, 7∼17개, 7∼16개, 7∼15개, 8∼14개, 9∼13개이다.
본 발명의 용어 「환상부를 갖는 펩티드 화합물」은, 천연 아미노산 혹은 아미노산 유연체가 아마이드 결합 혹은 에스터 결합을 형성하는 것에 의해 형성되는 펩티드 화합물로서, 환상부를 갖는 화합물인 한, 특별히 한정되지 않는다. 환상부는, 아마이드 결합, 탄소-탄소 결합 형성 반응, S-S 결합, 싸이오에터 결합, 트라이아졸 결합 등의 공유 결합을 개재시켜 형성되는 것이 바람직하다(WO2013/100132, WO2012/026566, WO2012/033154, WO2012/074130, WO2015/030014, Comb Chem High Throughput Screen. 2010;13:75-87, Nature Chem. Bio. 2009, 5, 502, Nat Chem Biol. 2009, 5, 888-90, Bioconjugate Chem., 2007, 18, 469-476, ChemBioChem, 2009, 10, 787-798, Chemical Communications (Cambridge, United Kingdom) (2011), 47(36), 9946-9958). 당해 화합물을 추가로 화학 수식하여 얻어지는 화합물도, 본 발명의 펩티드 화합물에 포함된다. 본 발명의 환상부를 갖는 펩티드 화합물은, 추가로 직쇄부를 갖고 있어도 된다. 아마이드 결합 혹은 에스터 결합의 수(천연 아미노산 또는 아미노산 유연체의 수·길이)는 특별히 한정되지 않지만, 직쇄부를 갖는 경우, 환상부와 직쇄부를 아울러 30잔기 이내가 바람직하다. 높은 대사 안정성을 획득하기 위해서는, 총아미노산수가 9 이상인 것이 보다 바람직하다. 더욱이, 위의 기재에 더하여 환상부를 구성하는 천연 아미노산 및 아미노산 유연체의 수는 5∼12개, 6∼12개, 7∼12개가 보다 바람직하고, 7∼11개, 8∼11개가 더 좋고, 9∼11개(10 또는 11개)가 특히 바람직하다. 직쇄부의 아미노산 및 아미노산 유연체의 수는 0∼8개, 0∼7개, 0∼6개, 0∼5개, 0∼4개인 것이 바람직하고, 0∼3개인 것이 보다 바람직하다. 천연 아미노산 및 아미노산 유연체의 총수는, 바람직하게는, 1∼30개, 6∼20개, 7∼19개, 7∼18개, 7∼17개, 7∼16개, 7∼15개, 8∼14개, 9∼13개이다.
본 발명의 환상부를 갖는 펩티드 화합물의 환상 부위를 형성하는 천연 아미노산 잔기나 아미노산 유연체 잔기의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 환화부는 대사 안정성이 우수한 작용기를 갖는 천연 아미노산 잔기나 아미노산 유연체 잔기에 의해 구성되는 것이 바람직하다. 본 발명의 환상부를 갖는 펩티드 화합물의 환화법은, 그와 같은 환상부를 형성하는 것이 가능한 것이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어 카복실산과 아민으로부터 형성되는 아마이드 결합이나, 스즈키 반응, Heck 반응(헥 반응), Sonogashira 반응 등의 전이 금속을 촉매로 한 탄소-탄소 결합 반응 등을 들 수 있다. 따라서 본 발명의 펩티드 화합물은, 환화 전에 이들 결합 반응이 가능한 적어도 1조(組)의 작용기를 포함한다. 특히 대사 안정성의 관점에서는, 결합 반응에 의해 아마이드 결합이 형성되는 작용기가 포함되는 것이 바람직하다.
환상부의 형성은, 예를 들어, 용이하게 산화될 가능성을 갖는 헤테로원자를 포함하는 결합으로서, 대사 안정성의 방해가 되는 결합이 포함되지 않는 것이 바람직하다. 환화에 의해 생성되는 결합으로서는, 예를 들어, 활성 에스터와 아민의 결합에 의한 아마이드 결합, 탄소-탄소 이중 결합과 아릴 할라이드에 의한 Heck 반응 생성물 등에 의해 생성되는 결합이 포함된다.
본 발명에 있어서의 「펩티드 화합물」로서는, 전술한 천연 아미노산 및 아미노산 유연체의 총수의 조건에 더하여, 또는 단독으로, N치환 아미노산을 적어도 1개(바람직하게는 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 20, 25, 30개, 특히 바람직하게는 5, 6 또는 7개) 포함하고, N치환되어 있지 않은 아미노산을 적어도 1개 포함하는, 직쇄 또는 환상 펩티드일 수 있다. N치환 아미노산의 수의 바람직한 범위는, 1∼30개, 6∼20개, 7∼19개, 7∼18개, 7∼17개, 7∼16개, 7∼15개, 8∼14개, 9∼13개이다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 1∼30개의 아미노산 잔기를 포함하고, 직쇄 또는 환상이다. 출발 펩티드 화합물에 포함되는 아미노산은, 「천연 아미노산」이어도 「아미노산 유연체」여도 된다. 본 명세서에 있어서 「아미노산」, 「천연 아미노산」, 「아미노산 유연체」를, 각각 「아미노산 잔기」, 「천연 아미노산 잔기」, 「아미노산 유연체 잔기」라고 하는 경우가 있다. 출발 펩티드 화합물은, 2급 아마이드로 형성되어 있어도 되고, 3급 아마이드로 형성되어 있어도 되고, 또한 2급 아마이드와 3급 아마이드의 혼재로 형성되어 있어도 된다.
「천연 아미노산」이란, Gly, Ala, Ser, Thr, Val, Leu, Ile, Phe, Tyr, Trp, His, Glu, Asp, Gln, Asn, Cys, Met, Lys, Arg, Pro를 가리킨다.
「아미노산 유연체」는, 특별히 한정되지 않지만, β-아미노산, γ-아미노산, D형 아미노산, N치환 아미노산, α,α-2치환 아미노산, 하이드록시카복실산, 비천연형 아미노산(측쇄가 천연과 상이한 아미노산; 예를 들어, 비천연형의 α-아미노산, β-아미노산, γ-아미노산)을 포함한다. α-아미노산의 경우, D형 아미노산이어도 되고, α,α-다이알킬아미노산이어도 된다. β-아미노산이나 γ-아미노산의 경우도, α-아미노산과 마찬가지로, 임의의 입체 배치가 허용된다. N치환 아미노산은, 아미노산의 아미노기가 임의의 치환기로 치환된 것이 예시되고, 해당 치환기는, 특별히 한정되지 않지만, 알킬기, 아릴기, 아르알킬기가 예시된다. N치환 아미노산에는, N-알킬아미노산, N-아릴아미노산, N-메틸아미노산이 포함된다. 아미노산 측쇄의 선택은 특별히 제한을 설정하지 않지만, 수소 원자 외에도 예를 들어 알킬기, 알켄일기, 알킨일기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아르알킬기, 사이클로알킬기로부터 자유롭게 선택되고, 이들 기 중의 인접하지 않는 1 또는 2개의 메틸렌기는 산소 원자, 카보닐기(-CO-), 또는 설폰일기(-SO2-)로 치환되어 있어도 된다. 각각은 1개 또는 2 이상의 치환기가 부여되어 있어도 되고, 해당 치환기는, 예를 들어, 할로젠 원자, N 원자, O 원자, S 원자, B 원자, Si 원자, P 원자를 포함하는 임의의 작용기 중에서 자유롭게 선택된다(즉, 치환되어 있어도 되는 알킬기, 알켄일기, 알킨일기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아르알킬기, 사이클로알킬기 등).
펩티드 화합물을 구성하는 「천연 아미노산」, 「아미노산 유연체」에는 각각 대응하는 모든 동위체를 포함한다. 「천연 아미노산」, 「아미노산 유연체」의 동위체는, 적어도 1개의 원자가, 원자 번호(양성자수)가 동일하고, 질량수(양성자와 중성자의 수의 합)가 상이한 원자로 치환된 것이다. 본 발명 펩티드 화합물을 구성하는 「천연 아미노산」, 「아미노산 유연체」에 포함되는 동위체의 예로서는, 수소 원자, 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자, 인 원자, 황 원자, 불소 원자, 염소 원자 등이 있고, 각각, 2H, 3H, 13C, 14C, 15N, 17O, 18O, 32P, 35S, 18F, 36Cl 등이 포함된다.
본 명세서에 있어서의 할로젠 원자를 포함하는 치환기로서는, 할로젠을 치환기에 갖는 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 등이 예시되고, 보다 구체적으로는, 플루오로알킬, 다이플루오로알킬, 트라이플루오로알킬 등이 예시된다.
O 원자를 포함하는 치환기로서는, 하이드록시(-OH), 옥시(-OR), 카보닐(-C=O-R), 카복시(-CO2H), 옥시카보닐(-C=O-OR), 카보닐옥시(-O-C=O-R), 싸이오카보닐(-C=O-SR), 카보닐싸이오(-S-C=O-R), 아미노카보닐(-C=O-NHR), 카보닐아미노(-NH-C=O-R), 옥시카보닐아미노(-NH-C=O-OR), 설폰일아미노(-NH-SO2-R), 아미노설폰일(-SO2-NHR), 설파모일아미노(-NH-SO2-NHR), 싸이오카복실(-C(=O)-SH), 카복실카보닐(-C(=O)-CO2H) 등의 기를 들 수 있다.
옥시(-OR)의 예로서는, 알콕시, 사이클로알콕시, 알켄일옥시, 알킨일옥시, 아릴옥시, 헤테로아릴옥시, 아르알킬옥시 등을 들 수 있다. 알콕시로서는, C1-C4 알콕시, C1-C2 알콕시가 바람직하고, 그 중에서도 메톡시, 또는 에톡시가 바람직하다.
카보닐(-C=O-R)의 예로서는, 폼일(-C=O-H), 알킬카보닐, 사이클로알킬카보닐, 알켄일카보닐, 알킨일카보닐, 아릴카보닐, 헤테로아릴카보닐, 아르알킬카보닐 등을 들 수 있다.
옥시카보닐(-C=O-OR)의 예로서는, 알킬옥시카보닐, 사이클로알킬옥시카보닐, 알켄일옥시카보닐, 알킨일옥시카보닐, 아릴옥시카보닐, 헤테로아릴옥시카보닐, 아르알킬옥시카보닐 등을 들 수 있다.
카보닐옥시(-O-C=O-R)의 예로서는, 알킬카보닐옥시, 사이클로알킬카보닐옥시, 알켄일카보닐옥시, 알킨일카보닐옥시, 아릴카보닐옥시, 헤테로아릴카보닐옥시, 아르알킬카보닐옥시 등을 들 수 있다.
싸이오카보닐(-C=O-SR)의 예로서는, 알킬싸이오카보닐, 사이클로알킬싸이오카보닐, 알켄일싸이오카보닐, 알킨일싸이오카보닐, 아릴싸이오카보닐, 헤테로아릴싸이오카보닐, 아르알킬싸이오카보닐 등을 들 수 있다.
카보닐싸이오(-S-C=O-R)의 예로서는, 알킬카보닐싸이오, 사이클로알킬카보닐싸이오, 알켄일카보닐싸이오, 알킨일카보닐싸이오, 아릴카보닐싸이오, 헤테로아릴카보닐싸이오, 아르알킬카보닐싸이오 등을 들 수 있다.
아미노카보닐(-C=O-NHR)의 예로서는, 알킬아미노카보닐(예를 들어, C1-C6 또는 C1-C4 알킬아미노카보닐, 그 중에서도 에틸아미노카보닐, 메틸아미노카보닐 등이 예시된다.), 사이클로알킬아미노카보닐, 알켄일아미노카보닐, 알킨일아미노카보닐, 아릴아미노카보닐, 헤테로아릴아미노카보닐, 아르알킬아미노카보닐 등을 들 수 있다. 이들에 더하여, -C=O-NHR 중의 N 원자와 결합한 H 원자가, 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬로 추가로 치환된 화합물을 들 수 있다.
카보닐아미노(-NH-C=O-R)의 예로서는, 알킬카보닐아미노, 사이클로알킬카보닐아미노, 알켄일 카보닐아미노, 알킨일카보닐아미노, 아릴카보닐아미노, 헤테로아릴카보닐아미노, 아르알킬카보닐아미노 등을 들 수 있다. 이들에 더하여 -NH-C=O-R 중의 N 원자와 결합한 H 원자가, 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬로 추가로 치환된 화합물을 들 수 있다.
옥시카보닐아미노(-NH-C=O-OR)의 예로서는, 알콕시카보닐아미노, 사이클로알콕시카보닐아미노, 알켄일옥시카보닐아미노, 알킨일옥시카보닐아미노, 아릴옥시카보닐아미노, 헤테로아릴옥시카보닐아미노, 아르알킬옥시카보닐아미노 등을 들 수 있다. 이들에 더하여, -NH-C=O-OR 중의 N 원자와 결합한 H 원자가 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬로 추가로 치환된 화합물을 들 수 있다.
설폰일아미노(-NH-SO2-R)의 예로서는, 알킬설폰일아미노, 사이클로알킬설폰일아미노, 알켄일설폰일아미노, 알킨일설폰일아미노, 아릴설폰일아미노, 헤테로아릴설폰일아미노, 아르알킬설폰일아미노 등을 들 수 있다. 이들에 더하여, -NH-SO2-R 중의 N 원자와 결합한 H 원자가 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬로 추가로 치환된 화합물을 들 수 있다.
아미노설폰일(-SO2-NHR)의 예로서는, 알킬아미노설폰일, 사이클로알킬아미노설폰일, 알켄일아미노설폰일, 알킨일아미노설폰일, 아릴아미노설폰일, 헤테로아릴아미노설폰일, 아르알킬아미노설폰일 등을 들 수 있다. 이들에 더하여, -SO2-NHR 중의 N 원자와 결합한 H 원자가 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬로 추가로 치환된 화합물을 들 수 있다.
설파모일아미노(-NH-SO2-NHR)의 예로서는, 알킬설파모일아미노, 사이클로알킬설파모일아미노, 알켄일설파모일아미노, 알킨일설파모일아미노, 아릴설파모일아미노, 헤테로아릴설파모일아미노, 아르알킬설파모일아미노 등을 들 수 있다. 더욱이, -NH-SO2-NHR 중의 N 원자와 결합한 2개의 H 원자는 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 및 아르알킬로 이루어지는 군으로부터 독립하여 선택되는 치환기로 치환되어 있어도 되고, 또한 이들 2개의 치환기는 환을 형성해도 된다.
S 원자를 포함하는 치환기로서는, 싸이올(-SH), 싸이오(-S-R), 설핀일(-S=O-R), 설폰일(-SO2-R), 설포(-SO3H) 등의 기를 들 수 있다.
싸이오(-S-R)의 예로서는, 알킬싸이오, 사이클로알킬싸이오, 알켄일싸이오, 알킨일싸이오, 아릴싸이오, 헤테로아릴싸이오, 아르알킬싸이오 등 중으로부터 선택된다.
설폰일(-SO2-R)의 예로서는, 알킬설폰일, 사이클로알킬설폰일, 알켄일설폰일, 알킨일설폰일, 아릴설폰일, 헤테로아릴설폰일, 아르알킬설폰일 등을 들 수 있다.
N 원자를 포함하는 치환기로서, 아자이도(-N3, 「아자이도기」라고도 한다), 사이아노(-CN), 1급 아미노(-NH2), 2급 아미노(-NH-R; 모노치환 아미노라고도 한다.), 3급 아미노(-NR(R'); 다이치환 아미노라고도 한다.), 아미디노(-C(=NH)-NH 2), 치환 아미디노(-C(=NR)-NR'R"), 구아니디노(-NH-C(=NH)-NH2), 치환 구아니디노(-NR-C(=NR''')-NR'R"), 아미노카보닐아미노(-NR-CO-NR'R"), 피리딜, 피페리디노, 모폴리노, 아제티딘일 등의 기를 들 수 있다.
2급 아미노(-NH-R; 모노치환 아미노)의 예로서는, 알킬아미노, 사이클로알킬아미노, 알켄일아미노, 알킨일아미노, 아릴아미노, 헤테로아릴아미노, 아르알킬아미노 등을 들 수 있다.
3급 아미노(-NR(R'); 다이치환 아미노)의 예로서는, 예를 들어 알킬(아르알킬)아미노 등, 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 등 중으로부터 각각 독립하여 선택되는, 임의의 2개의 치환기를 갖는 아미노기를 들 수 있고, 이들의 임의의 2개의 치환기는 환을 형성해도 된다. 구체적으로는, 다이알킬아미노, 그 중에서도 C1-C6 다이알킬아미노, C1-C4 다이알킬아미노, 다이메틸아미노, 다이에틸아미노 등이 예시된다. 본 명세서에 있어서 「Cp-Cq 다이알킬아미노기」란, 아미노기에 Cp-Cq 알킬기가 2개 치환된 기를 말하고, 양 Cp-Cq 알킬기는 동일해도 상이해도 된다.
치환 아미디노(-C(=NR)-NR'R")의 예로서는, N 원자 상의 3개의 치환기 R, R', 및 R"가, 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 중으로부터 각각 독립하여 선택된 기, 예를 들어 알킬(아르알킬)(아릴)아미디노 등을 들 수 있다.
치환 구아니디노(-NR-C(=NR''')-NR'R")의 예로서는, R, R', R", 및 R'''가, 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 중으로부터 각각 독립하여 선택된 기, 혹은 이들이 환을 형성한 기 등을 들 수 있다.
아미노카보닐아미노(-NR-CO-NR'R")의 예로서는, R, R', 및 R"가, 수소 원자, 알킬, 사이클로알킬, 알켄일, 알킨일, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 중으로부터 각각 독립하여 선택된 기, 혹은 이들이 환을 형성한 기 등을 들 수 있다.
어느 국면에 있어서, 탈보호 및/또는 탈수지의 대상이 되는 출발 펩티드 화합물은, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함한다. 출발 펩티드 화합물에 포함되는 N치환 아미노산 잔기수는, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 20, 25, 30개가 예시되고, N치환 아미노산 잔기수의 바람직한 범위는 6∼20개, 7∼19개, 7∼18개, 7∼17개, 7∼16개, 7∼15개, 8∼14개, 9∼13개이다. 출발 펩티드 화합물에 있어서는, 2개 이상의 N치환 아미노산 잔기가 연결되어 있어도 된다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 펩티드 화합물을 구성하는 아미노산의 반수 이상(예를 들어, 펩티드 화합물을 구성하는 아미노산의 수가 2n개(n은 정수)인 경우는 n개 이상, 2n+1개인 경우는 n+1개 이상)이 N치환 아미노산인 것이 바람직하다.
본 명세서에 있어서 N치환 아미노산에 있어서의 「N치환」으로서는, N 원자에 결합한 수소 원자의 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기, 헥실기로의 치환 등을 들 수 있지만 이것으로 한정되지 않는다. N치환 아미노산으로서, 바람직하게는 천연 아미노산에 포함되는 아미노기가 N-메틸화, N-에틸화, N-프로필화, N-뷰틸화, N-펜틸화된 아미노산을 들 수 있고, 이들을, N-메틸아미노산, N-에틸아미노산, N-프로필아미노산, N-뷰틸아미노산, N-펜틸아미노산이라고 부른다.
출발 펩티드 화합물이, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함하는 경우(예를 들어, 출발 펩티드 화합물이, N치환 아미노산 잔기가 인접하는 아미노산 잔기에 연결된 부분 구조, 보다 구체적으로는, 화학식(I) 및/또는 화학식(II)로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기를 포함하는 부분 구조를 1개 이상 포함하는 경우), 종래의 탈보호/탈수지 방법에서는, 아마이드 결합의 절단이나 펩티드의 주쇄의 전이와 같은 주쇄의 손상을 받기 쉽다. 이와 같은 출발 펩티드 화합물에 있어서도, 본 발명의 방법을 이용하는 것에 의해, 주쇄의 손상을 받지 않고, 효율적으로 고수율 또한 고순도로 소망의 보호기를 탈보호할 수 있고, 또한 고상 반응에 있어서 펩티드 화합물을 효율적으로 고수율 또한 고순도로 수지로부터 절출할 수 있다.
어느 태양에 있어서, 본 발명의 출발 펩티드 화합물은, N치환 아미노산 잔기나, N치환 아미노산 잔기가 인접하는 아미노산 잔기에 연결된 부분 구조를 포함하지 않아도 된다.
어느 국면에 있어서, 탈보호 및/또는 탈수지의 대상이 되는 출발 펩티드 화합물은, 하기 화학식(I)로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 부분 구조를 적어도 1개 포함한다.
Figure pct00017
식(I) 중, R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이다.
식(I)로 표시되는 구조가, 출발 펩티드 화합물의 N말단에 존재하는 경우에는, R1은 수소, 또는 PG1인 것이 바람직하다. 한편, 식(I)로 표시되는 구조가, 출발 펩티드 화합물의 N말단 이외에 존재하는 경우에는, R1은, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기인 것이 바람직하다.
식(I) 중, R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R4 혹은 R2와 R4＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성한다.
어느 국면에 있어서, R2가, C1-C6 알킬인 경우, 해당 C1-C6 알킬은, 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸인 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, R2와 R4 혹은 R2와 R4＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하는 경우, 형성되는 3∼7원의 헤테로환은, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환이 바람직하다. R2와 R4가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4＇는 수소이고, 또한 R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4는 수소이다.
식(I) 중, R4 및 R4＇는, R2와 R4 또는 R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R4＇가 수소이고, 또한 R4가, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG2, N-PG3-인돌-3-일메틸, 4-(PG2O)벤질, PG2-O-메틸(즉, -CH2-O-PG2), 1-(PG2O)에틸, 2-(PG2O)에틸, PG2-OCO(CH2)-, PG2-OCO(CH2)2-, PG3N-n-뷰틸, -CON(R14A)(R14B), -CH2-CON(R14A)(R14B), 및 -(CH2)2CON(R14A)(R14B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R4 및 R4＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R4 및 R4＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성한다.
R4 및 R4＇의 조합으로서는, 수소 원자와 수소 원자, 메틸과 수소 원자, 에틸과 수소 원자, 아이소프로필과 수소 원자, 아이소뷰틸과 수소 원자, 사이클로프로필과 수소 원자, 사이클로프로필메틸과 수소 원자, 사이클로펜틸과 수소 원자, 사이클로헥실과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸과 수소 원자, 2-(메틸싸이오)에틸과 수소 원자, -CH2SPG2와 수소 원자, N-PG3-인돌-3-일메틸과 수소 원자, 4-(PG2O)벤질과 수소 원자, PG2-O-메틸과 수소 원자, 1-(PG2O)에틸과 수소 원자, 2-(PG2O)에틸과 수소 원자, PG2-OCO(CH2)-와 수소 원자, PG2-OCO(CH2)2-와 수소 원자, PG3N-n-뷰틸과 수소 원자, -CON(R14A)(R14B)와 수소 원자, -CH2-CON(R14A)(R14B)와 수소 원자, -(CH2)2CON(R14A)(R14B)와 수소 원자, 메틸과 메틸, 메틸과 에틸이 바람직하다. 또한, R4 및 R4＇가, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하는 경우, 지환식환으로서, 사이클로프로필환, 사이클로뷰틸환, 사이클로펜틸환, 사이클로헥실환이 바람직하다.
식(I) 중, R5는, 단일 결합, 또는 -C(R5A)(R5B)-이고,
R5A 및 R5B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
R5로서는, 단일 결합이거나, 또는 R5A 및 R5B의 조합이, 수소 원자와 수소 원자, 메틸과 수소 원자, 에틸과 수소 원자, 아이소프로필과 수소 원자, 아이소뷰틸과 수소 원자, 사이클로프로필과 수소 원자, 사이클로프로필메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸과 수소 원자, 메틸과 메틸, 메틸과 에틸인 -C(R5A)(R5B)-가 바람직하다.
식(I) 중, R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성한다.
어느 국면에 있어서, R6이, C1-C6 알킬인 경우, 해당 C1-C6 알킬은, 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸인 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하는 경우, 형성되는 3∼7원의 헤테로환은, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환이 바람직하다. R6과 R7이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7＇는 수소이고, 또한 R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7은 수소이다.
식(I) 중, R2와 R6의 양쪽, 또는 어느 한쪽이, 수소 이외인 것이 바람직하고, R2와 R6의 양쪽, 또는 어느 한쪽이 C1-C6 알킬인 것이 보다 바람직하다.
식(I) 중, R7 및 R7＇는, R6과 R7 또는 R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R7＇가 수소이고, 또한 R7이 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG4, N-PG5-인돌-3-일메틸, 4-(PG4O)벤질, PG4-O-메틸(즉, -CH2-O-PG4), 1-(PG4O)에틸, 2-(PG4O)에틸, PG4-OCO(CH2)-, PG4-OCO(CH2)2-, PG5N-n-뷰틸, -CON(R15A)(R15B), -CH2-CON(R15A)(R15B), 및 -(CH2)2CON(R15A)(R15B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R7 및 R7＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
(c) R7 및 R7＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성한다.
R7 및 R7＇의 조합으로서는, 수소 원자와 수소 원자, 메틸과 수소 원자, 에틸과 수소 원자, 아이소프로필과 수소 원자, 아이소뷰틸과 수소 원자, 사이클로프로필과 수소 원자, 사이클로프로필메틸과 수소 원자, 사이클로펜틸과 수소 원자, 사이클로헥실과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸과 수소 원자, 2-(메틸싸이오)에틸과 수소 원자, -CH2SPG4와 수소 원자, N-PG5-인돌-3-일메틸과 수소 원자, 4-(PG4O)벤질과 수소 원자, PG4-O-메틸과 수소 원자, 1-(PG4O)에틸과 수소 원자, 2-(PG4O)에틸과 수소 원자, PG4-OCO(CH2)-와 수소 원자, PG4-OCO(CH2)2-와 수소 원자, PG5N-n-뷰틸과 수소 원자, -CON(R15A)(R15B)와 수소 원자, -CH2-CON(R15A)(R15B)와 수소 원자, -(CH2)2CON(R15A)(R15B)와 수소 원자, 메틸과 메틸, 메틸과 에틸이 바람직하다. 또한, R7 및 R7＇가, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하는 경우, 지환식환으로서, 사이클로프로필환, 사이클로뷰틸환, 사이클로펜틸환, 사이클로헥실환이 바람직하다.
식(I) 중, R8은, 단일 결합, 또는 -C(R8A)(R8B)-이고,
R8A 및 R8B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
R8로서는, 단일 결합이거나, 또는 R8A 및 R8B의 조합이, 수소 원자와 수소 원자, 메틸과 수소 원자, 에틸과 수소 원자, 아이소프로필과 수소 원자, 아이소뷰틸과 수소 원자, 사이클로프로필과 수소 원자, 사이클로프로필메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸과 수소 원자, 메틸과 메틸, 메틸과 에틸인 -C(R8A)(R8B)-가 바람직하다.
식(I) 중, R9는, 하이드록시, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, -O-RES, 또는 -NH-RES이고, 여기에서 RES는 고상 합성용 수지이다.
식(I)로 표시되는 구조가, 출발 펩티드 화합물의 C말단에 존재하는 경우에는, R9는, 하이드록시, -O-PG6, -O-RES, 또는 -NH-RES인 것이 바람직하다. 한편, 식(I)로 표시되는 구조가, 출발 펩티드 화합물의 C말단 이외에 존재하는 경우에는, R9는, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기인 것이 바람직하다.
식(I) 중, R14A 및 R14B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R14A 및 R14B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성한다. R14A 및/또는 R14B가 C1-C4 알킬인 경우, 해당 C1-C4 알킬로서 메틸, 에틸, 프로필이 바람직하다. R14A 및 R14B가 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하는 경우, 해당 4∼8원환으로서, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 모폴린환이 바람직하다.
식(I) 중, R15A 및 R15B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R15A 및 R15B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성한다. R15A 및/또는 R15B가 C1-C4 알킬인 경우, 해당 C1-C4 알킬로서, 메틸, 에틸, 프로필이 바람직하다. R15A 및 R15B가 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하는 경우, 해당 4∼8원환으로서, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 모폴린환이 바람직하다.
식(I) 중, PG1은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
PG1로서, Fmoc, Boc, Cbz가 바람직하다.
식(I) 중, PG2 및 PG4는, 독립하여, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
PG2, PG4로서, 메틸, 알릴, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, THP, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬이 바람직하다.
식(I) 중, PG3 및 PG5는, 독립하여, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
PG3, PG5로서, Fmoc, Boc, Cbz, t-Bu, 트라이틸이 바람직하다.
식(I) 중, PG6은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
PG6으로서, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 알릴이 바람직하다.
화학식(I)로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조에는, 공지된 탈보호나 탈수지 조건을 이용한 경우에, 절단이나 손상을 받기 쉬운 것이 수많이 포함되어 있다. 본 발명의 반응 조건을 이용하는 것에 의해, 그와 같은 절단이나 손상 없이, 소망의 보호기나 고상 합성용 수지만을 선택적 또한 효율적으로 탈보호, 및/또는 탈수지할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 화학식(I)로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조로는, 1개의 N치환 아미노산과 1개의 N비치환 아미노산이 연결된 것이나, 2개의 N치환 아미노산이 연결된 것을 들 수 있다. 이와 같은 아미노산 잔기로서 구체적으로는, 예를 들어, 화학식(I)의 R5와 R8이 단일 결합인, 하기의 화학식(I＇)로 표시되는 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 들 수 있다.
Figure pct00018
식(I＇) 중의 각 기는, 상기 식(I)의 각 기와 각각 동일할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기인 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R2와 R6의 양쪽, 또는 어느 한쪽이, 수소 이외인 것이 바람직하고, R2와 R6의 양쪽, 또는 어느 한쪽이 C1-C6 알킬인 것이 보다 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R2, 및 R6은, 독립하여, C1-C6 알킬일 수 있고, 이들 중에서는 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R2와 R4 혹은 R2와 R4＇, R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 각각 독립적으로, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성해도 된다. R2와 R4가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4＇는 수소이고, 또한 R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4는 수소이다. R6과 R7이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7＇는 수소이고, 또한 R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7은 수소이다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R9는, 하이드록시, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, -O-RES, 또는 -NH-RES이고, 여기에서 RES는 고상 합성용 수지이다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R4 및 R4＇, 또는 R7 및 R7＇는 모두 C1-C6 알킬이거나, 혹은 R4 및 R4＇, 또는 R7 및 R7＇는 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성해도 된다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R4＇가 수소이고, 또한 R4가, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG2, N-PG3-인돌-3-일메틸, 4-(PG2O)벤질, PG2-O-메틸, 1-(PG2O)에틸, 2-(PG2O)에틸, PG2-OCO(CH2)-, PG2-OCO(CH2)2-, PG3N-n-뷰틸, -CON(R14A)(R14B), -CH2-CON(R14A)(R14B), 및 -(CH2)2CON(R14A)(R14B)로 이루어지는 군으로부터 선택되어도 된다.
어느 국면에 있어서, 식(I＇) 중, R7＇가 수소이고, 또한 R7이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG4, N-PG5-인돌-3-일메틸, 4-(PG4O)벤질, PG4-O-메틸, 1-(PG4O)에틸, 2-(PG4O)에틸, PG4-OCO(CH2)-, PG4-OCO(CH2)2-, PG5N-n-뷰틸, -CON(R15A)(R15B), -CH2-CON(R15A)(R15B), 및 -(CH2)2CON(R15A)(R15B)로 이루어지는 군으로부터 선택되어도 된다.
화학식(I＇)로 표시되는 구조로서, 보다 바람직하게는, 식 중의 R1이, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2, 및 R6이, 메틸 또는 에틸이고, 및/또는
R2와 R4 혹은 R2와 R4＇, R6과 R7 혹은 R6과 R7＇가, 각각 독립적으로, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 4∼6원의 헤테로환을 형성한다. R2와 R4가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4＇는 수소이고, R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4는 수소이다. 또한, R6과 R7이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7＇는 수소이고, R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7은 수소이다.
또한, R9는, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, 또는 -O-RES일 수 있고, 여기에서 RES는 고상 합성용 CTC 수지, Wang 수지, 혹은 SASRIN 수지일 수 있다.
R4 및 R4＇, 또는 R7 및 R7＇는, 각각 독립하여, 메틸, 또는 에틸일 수 있고, 또한 R4 및 R4＇, 또는 R7 및 R7＇가 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 5원 또는 6원의 지환식환을 형성해도 된다.
R4＇및 R7＇가 수소인 경우는, R4 및 R7은, 각각 독립하여, 수소, 혹은 메틸, 에틸, 아이소프로필, 아이소뷰틸, 및 sec-뷰틸로 이루어지는 군으로부터 선택되는 알킬이거나, 또는 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 벤질옥시메틸, 1-벤질옥시에틸, 2-벤질옥시에틸, tert-뷰톡시카보닐메틸, 메톡시카보닐메틸, tert-뷰톡시카보닐에틸, 메톡시카보닐에틸, tert-뷰톡시카바모일뷰틸, N,N-다이메틸아미노카보닐, 피페리딜카보닐, 피롤리딜카보닐, N,N-다이메틸아미노카보닐메틸, 피페리딜카보닐메틸, 피롤리딜카보닐메틸, N,N-다이메틸아미노카보닐에틸, 피페리딜카보닐에틸, 혹은 피롤리딜카보닐에틸일 수 있다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 1개 또는 복수의 화학식(I)로 표시되는 구조에 더하여, 1개 또는 복수의 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하고 있어도 된다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 본 발명의 방법에 의해 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함한다. 이와 같은 보호기는, 화학식(I)로 표시되는 구조에 포함되어 있어도 되고, 화학식(I)로 표시되는 구조 이외의 아미노산 잔기에 포함되어 있어도 된다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 본 발명의 방법에 의해 탈수지 가능한 고상 합성용 수지를 적어도 1개 포함한다. 이와 같은 수지는, 화학식(I)로 표시되는 구조에 포함되어 있어도 되고, 화학식(I)로 표시되는 구조 이외의 아미노산 잔기에 포함되어 있어도 된다.
어느 국면에 있어서, 고상 합성용 수지는, 출발 펩티드 화합물의 C말단의 아미노산 잔기에 포함되는 카복실기에 결합하고 있다.
어느 국면에 있어서, 탈보호 및/또는 탈수지의 대상이 되는 출발 펩티드 화합물은, 그 C말단에 하기 화학식(II)로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함한다.
Figure pct00019
R1＇는, 식(III)으로 표시되는 기이다.
Figure pct00020
식 중의 *는 결합점을 의미한다.
식(III) 중, R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이다.
식(III) 중, R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R10 혹은 R2와 R10＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성한다. R2와 R10이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10＇는 수소이고, 또한 R2와 R10＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10은 수소이다.
어느 국면에 있어서, R2가, C1-C6 알킬인 경우, 해당 C1-C6 알킬은, 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸인 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, R2와 R10 혹은 R2와 R10＇가, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하는 경우, 형성되는 3∼7원의 헤테로환은, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환이 바람직하다.
식(III) 중, R10 및 R10＇는, R2와 R10 또는 R2와 R10＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
(a) R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG8, N-PG9-인돌-3-일메틸, 4-(PG8O)벤질, PG8-O-메틸(즉, -CH2-O-PG8), 1-(PG8O)에틸, 2-(PG8O)에틸, PG8-OCO(CH2)-, PG8-OCO(CH2)2-, PG9N-n-뷰틸, -CON(R16A)(R16B), -CH2-CON(R16A)(R16B), 및 -(CH2)2CON(R16A)(R16B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
(b) R10 및 R10＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, 또는 C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬이거나, 혹은
(c) R10 및 R10＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성한다.
R10 및 R10＇의 조합으로서는, 수소 원자와 수소 원자, 메틸과 수소 원자, 에틸과 수소 원자, 아이소프로필과 수소 원자, 아이소뷰틸과 수소 원자, 사이클로프로필과 수소 원자, 사이클로프로필메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸과 수소 원자, 2-(메틸싸이오)에틸과 수소 원자, -CH2SPG8과 수소 원자, N-PG9-인돌-3-일메틸과 수소 원자, 4-(PG8O)벤질과 수소 원자, PG8-O-메틸과 수소 원자, 1-(PG8O)에틸과 수소 원자, 2-(PG8O)에틸과 수소 원자, PG8-OCO(CH2)-와 수소 원자, PG8-OCO(CH2)2-와 수소 원자, PG9N-n-뷰틸과 수소 원자, -CON(R16A)(R16B)와 수소 원자, -CH2-CON(R16A)(R16B)와 수소 원자, -(CH2)2CON(R16A)(R16B)와 수소 원자, 메틸과 메틸, 메틸과 에틸이 바람직하다. 또한, R10 및 R10＇가, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하는 경우, 지환식환으로서, 사이클로프로필환, 사이클로뷰틸환, 사이클로펜틸환, 사이클로헥실환이 바람직하다.
식(III) 중, R11은, 단일 결합, 또는 -C(R11A)(R11B)-이고,
R11A 및 R11B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
R11로서는, 단일 결합이거나, 또는 R11A 및 R11B의 조합이, 수소 원자와 수소 원자, 메틸과 수소 원자, 에틸과 수소 원자, 아이소프로필과 수소 원자, 아이소뷰틸과 수소 원자, 사이클로프로필과 수소 원자, 사이클로프로필메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸과 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸과 수소 원자, 메틸과 메틸, 메틸과 에틸인 -C(R11A)(R11B)-가 바람직하다.
식(II) 중, R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸(즉, -CH2-O-PG10), -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택된다. RES는 고상 합성용 수지이며, n은, 0, 1, 또는 2이다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 탈수지 방법에 이용하는 경우, R12 및 R12＇의 어느 한쪽은, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로부터 선택되는 것이 바람직하다.
식(II) 중, R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택된다. 어느 국면에 있어서, R6이, C1-C6 알킬인 경우, 해당 C1-C6 알킬은, 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸인 것이 바람직하다.
식(II) 및 식(III) 중, R2와 R6의 양쪽, 또는 어느 한쪽이, 수소 이외인 것이 바람직하고, R2와 R6의 양쪽, 또는 어느 한쪽이 C1-C6 알킬인 것이 보다 바람직하다.
식(II) 중, R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고, 여기에서 m은, 0, 1, 또는 2이고, R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성한다.
어느 국면에 있어서, R13이, C1-C4 알킬인 경우, 해당 C1-C4 알킬은, 메틸, 에틸인 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, R17A 및 R17B가 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하는 경우, 형성되는 환은, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 모폴린환인 것이 바람직하다.
식(II) 중, R16A 및 R16B는, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은 R16A 및 R16B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성한다.
R16A 및 R16B가 C1-C4 알킬인 경우, 해당 C1-C4 알킬로서, 메틸, 에틸, 프로필이 바람직하다.
R16A 및 R16B가 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하는 경우, 해당 4∼8원환으로서, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 모폴린환이 바람직하다.
PG1은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
PG1로서, Fmoc, Boc, Cbz가 바람직하다.
식(II) 중, PG8은, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
PG8로서, 메틸, 알릴, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, THP, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬이 바람직하다.
식(II) 중, PG9는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택된다. PG9로서, Fmoc, Boc, Cbz, t-Bu, 트라이틸이 바람직하다.
식(II) 중, PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 (2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다. PG10으로서, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 알릴이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 화학식(I)∼(III)에 포함될 수 있는, PG1∼PG10은, 각각 독립하여, 본 발명의 탈보호 방법에 의해 제거될 수 있는 보호기일 수 있고, 그와 같은 보호기에는, t-Bu, 트라이페닐메틸, 2-(트라이메틸실릴)-에틸, Boc, Teoc, Cbz, 메톡시카보닐, 테트라하이드로피란일, 및 1-에톡시에틸 등이 포함된다.
어느 국면에 있어서, PG1∼PG10은, 각각 독립하여, 본 발명의 탈보호 방법에 의해 제거되지 않는 보호기일 수 있다. 그와 같은 보호기는, Fmoc, Alloc 등을 들 수 있다.
어느 국면에 있어서, PG1∼PG10은, 각각 독립하여, 보호기로서의 작용을 갖지 않는 기, 예를 들어 제거되지 않는 기, 또는 구조 변환될 수 있는 기일 수도 있다. 이들 보호기는, 예를 들어, 「Greene＇s, “Protective Groups in Organic Synthesis˝(제5판, John Wiley & Sons 2014)」에 기재되는 것이 예시된다.
화학식(II)로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조에는, 공지된 탈보호나 탈수지 조건을 이용한 경우에, 절단이나 전이를 받기 쉬운 것이 수많이 포함되어 있다. 이들 절단이나 전이를 손상이라고 부르는 경우가 있다. 본 발명의 반응 조건을 이용하는 것에 의해, 그와 같은 손상을 받지 않고, 소망의 보호기나 고상 합성용 수지만을 선택적 또한 효율적으로 탈보호할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 화학식(II)로 표시되는 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조에는, 1개의 N치환 아미노산과 1개의 N비치환 아미노산이 연결된 것이나, 2개의 N치환 아미노산이 연결된 것을 들 수 있다. 이와 같은 구조로서, 구체적으로는, 예를 들어, 화학식(II)의 R1＇가 화학식(III)으로 표시되고, 해당 식(III) 중의 R11이 -C(R11A)(R11B)-인 구조(식 IV)나, 해당 식(III) 중의 R11이 단일 결합인 구조(식 V)를 들 수 있다.
Figure pct00021
식(IV) 및 식(V) 중의 각 기는, 상기 식(II) 및 식(III)의 각 기와 각각 동일할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고, R2, 및 R10은 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸인 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고, R2와 R10 혹은 R2와 R10＇는 각각 독립적으로, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하는 것이 바람직하다. R2와 R10이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10＇는 수소이고, 또한 R2와 R10＇가 하나로 되어 3∼7원의 헤테로환을 형성하는 경우, R10은 수소이다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG8, N-PG9-인돌-3-일메틸, 4-(PG8O)벤질, PG8-O-메틸, 1-(PG8O)에틸, 2-(PG8O)에틸, PG8-OCO(CH2)-, PG8-OCO(CH2)2-, PG9N-n-뷰틸, -CON(R16A)(R16B), -CH2-CON(R16A)(R16B), 및 -(CH2)2CON(R16A)(R16B)로 이루어지는 군으로부터 선택되어도 된다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, 바람직하게는, R6은, C1-C6 알킬일 수 있고, 이들 중에서는 메틸, 에틸, 프로필, 뷰틸, 펜틸이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R13은, C1-C4 알킬일 수 있고, 이들 중에서는 메틸, 에틸, 프로필, 또는 뷰틸이 바람직하고, 메틸, 또는 에틸이 보다 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R13은, -(CH2)mCON(R17A)(R17B)일 수 있고, m은, 0, 1, 또는 2이다. 이 경우, R17A 및/또는 R17B는, 독립하여, C1-C4 알킬일 수 있고, 해당 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는 메틸, 에틸이다. 또한 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성할 수 있고, 해당 4∼8원환으로서, 바람직하게는, 아제티딘환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 모폴린환이다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, R12, 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택된다. R12, 및 R12＇가, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 또는 -(CH2)nCONH-RES인 경우, n은, 0, 1, 또는 2이고, PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 알릴이 바람직하다. RES는 고상 합성용 수지이고, 바람직하게는 CTC 수지 혹은 Wang 수지이다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 탈수지 방법에서 이용하는 경우, R12 및 R12＇의 어느 한쪽은, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로부터 선택되는 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 식(IV) 및 식(V) 중, 보다 바람직하게는, 식 중의 R1이, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
R2가, 메틸, 에틸이고, 및/또는
R2와 R10이, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 4∼6원의 헤테로환을 형성한다.
또한, R10 및 R10＇는 각각 독립하여 메틸, 또는 에틸로부터 선택되거나, 혹은 R10 및 R10＇가 하나로 되어 5원 또는 6원의 지환식환을 형성해도 된다. 혹은, R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 혹은 메틸, 에틸, 아이소프로필, 아이소뷰틸, sec-뷰틸로부터 선택되는 알킬이거나, 또는 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 벤질옥시메틸, 1-벤질옥시에틸, 2-벤질옥시에틸, tert-뷰톡시카보닐메틸, 메톡시카보닐메틸, tert-뷰톡시카보닐에틸, 메톡시카보닐에틸, tert-뷰톡시카바모일뷰틸, N,N-다이메틸아미노카보닐, 피페리딜카보닐, 피롤리딜카보닐, N,N-다이메틸아미노카보닐메틸, 피페리딜카보닐메틸, 피롤리딜카보닐메틸, N,N-다이메틸아미노카보닐에틸, 피페리딜카보닐에틸, 혹은 피롤리딜카보닐에틸일 수 있다.
R6은, 메틸 또는 에틸일 수 있고,
R13은, 메틸이거나, -(CH2)mCON(R17A)(R17B)일 수 있다. R13이-(CH2)mCON(R17A)(R17B)인 경우, R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 피페리딘환을 형성한다.
R12, 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 화학식(II)로 표시되는 구조에 더하여, 1개 또는 복수의 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하고 있어도 된다. 출발 펩티드 화합물은, 1개 또는 복수의 화학식(I)로 표시되는 구조를 포함하고, C말단에 화학식(II)로 표시되는 구조를 포함하고, 임의로 1개 또는 복수의 추가의 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 더 포함할 수도 있다. 펩티드 화합물은, 2급 아마이드로 형성되어 있어도 되고, 3급 아마이드로 형성되어 있어도 되고, 또한 2급 아마이드와 3급 아마이드의 혼재로 형성되어 있어도 된다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 본 발명의 방법에 의해 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함한다. 이와 같은 보호기는, 화학식(II)로 표시되는 구조에 포함되어 있어도 되고, 화학식(II)로 표시되는 구조 이외의 아미노산 잔기에 포함되어 있어도 된다.
어느 국면에 있어서, 출발 펩티드 화합물은, 본 발명의 방법에 의해 탈수지 가능한 고상 합성용 수지를 적어도 1개 포함한다. 이와 같은 수지는, 출발 펩티드 화합물이 화학식(II)로 표시되는 구조를 포함하는 경우에는, 화학식(II)로 표시되는 구조에 포함된다.
어느 국면에 있어서, 본 발명은, 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 아마이드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 아마이드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
어느 국면에 있어서, 본 발명은, 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 출발 아마이드 화합물을 고상 합성용 수지로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 아마이드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
어느 국면에 있어서, 탈보호/탈수지의 대상이 되는 출발 아마이드 화합물은, 화학식(II)로 표시된다.
Figure pct00022
식(II) 중, R1＇는, 수소 원자, 또는 PG7이고, 그 외의 기는, 상기와 동의이다. R6은, C1-C6 알킬인 것이 바람직하다. PG7은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고, Fmoc, Boc, Cbz가 바람직하다.
화학식(II)로 표시되는 출발 아마이드 화합물, 특히 N치환 화합물은, 공지된 탈보호나 탈수지 조건을 이용한 경우에, 전이 등의 손상을 받기 쉽다. 본 발명의 반응 조건을 이용하는 것에 의해, 그와 같은 손상을 받지 않고, 소망의 보호기나 고상 합성용 수지만을 선택적 또한 효율적으로 탈보호 및/또는 탈수지할 수 있다.
본 명세서에 있어서 「실릴화제」는, 본 발명의 탈보호, 내지 탈수지 반응에 제공할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 탈보호제 혹은 탈보호 시약, 및/또는 탈수지제 혹은 탈수지 시약으로서의 작용을 가질 수 있는 것을 말하고, 본 명세서에 있어서 「실릴화제」를 탈보호제 혹은 탈보호 시약, 및/또는 탈수지제 혹은 탈수지 시약이라고 하는 경우가 있다. 실릴화제는, 예를 들어, 용매 중, 상기 실릴 화합물과 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해, 혹은 산과 실릴기를 갖는 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성시킬 수 있다. 이들 실릴 화합물과 구전자종 포착제의 혼합, 혹은 산과 실릴기를 갖는 구전자종 포착제의 혼합은, 미리 혼합시켜 둬도, 용매 중에서 혼합시켜도, 출발 펩티드 화합물의 존재하, 비존재하에서 혼합시켜도 된다.
본 명세서에 있어서 「실릴 화합물」은, 예를 들어 이하의 식 1로 표시되는, 탈리기(X)를 갖는 실릴 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00023
［식 중, RAX, RAY, 및 RAZ는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고, X는, -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다.］
RAX, RAY, 및 RAZ는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 페닐로부터 바람직하게 선택할 수 있다.
이와 같은 실릴 화합물로서, 보다 구체적으로는, TMSOTf, TESOTf, TBSOTf, TIPSOTf, TBDPSOTf, TTMSOTf, TMSCl, TMSBr, TMSOClO3, 및 TMSI 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 실릴화제의 생성에 이용할 수 있는 「산」은, 상기 실릴 화합물을 생성시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, HX(식 중, X는 식(1)의 X와 동의이다)로 표시되는 산을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 「구전자종 포착제」는, 양성자와 부가물 또는 염을 형성할 수 있는 화합물, 혹은 양이온종과 반응하는 화합물로서, 실릴화를 받기 어려운 화합물이다. 이와 같은 구전자종 포착제로서, 이미데이트(식 2), 아마이드(식 3), 케텐 아세탈(식 4), 케텐 알콕시 헤미아민알(식 4), 엔올 에터(식 4), 엔올 에스터(식 4), 이민(식 5), 아민(식 6), 다이아민(식 7), 다이알킬카보다이이미드(식 8), 유레아(식 9), 또는 유레테인(식 10) 등을 들 수 있다. 이들 중에는, 치환 실릴기를 갖는 것이 있고, 이 경우, 치환 실릴기로서, 구체적으로는, TMS(트라이메틸실릴), TES(트라이에틸실릴), TBS(트라이뷰틸실릴), TIPS(트라이아이소프로필실릴), TBDPS(t-뷰틸-다이메틸실릴)를 들 수 있다.
상기 이미데이트는, 식 2로 표시된다.
Figure pct00024
［식 중,
RB는 치환 실릴기이고, 또한, RC는 치환 실릴기이거나, 혹은
RB와 RC는 그들이 결합하고 있는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어 5∼7원환을 형성하고,
RD는 1개 또는 복수의 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 C1-C4 알킬이거나, 치환되어 있어도 되는 메틸렌이고, 여기에서 RD가 치환되어 있어도 되는 메틸렌인 경우, 식 2는 2량화되어 이하의 식:
Figure pct00025
으로 표시되는 화합물을 형성한다］
이미데이트로서 바람직하게는, 식 2-1로 표시되는 N-실릴이미데이트, 및 하기 식 2-2로 표시되는 비스옥사졸린류를 들 수 있다.
Figure pct00026
［식 중,
RBX, RBY, 및 RBZ는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고, RC 및 RD는 상기와 동의이고,
RE 및 RF는, 독립하여, C1-C4 알킬이다］
또한, RBX, RBY, 및 RBZ는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 페닐로부터 바람직하게 선택할 수 있다.
N-실릴이미데이트로서 바람직하게는, 식 2-1-1로 표시되는 N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드류를 들 수 있고, 비스옥사졸린류로서 바람직하게는 식 2-2-1로 표시되는 4-치환 비스옥사졸린류를 들 수 있다.
Figure pct00027
N-실릴이미데이트로서 보다 바람직하게는, 식 2-1-1-1로 표시되는 N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드, 식 2-1-1-2로 표시되는 N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드를 들 수 있고, 비스옥사졸린류로서 보다 바람직하게는, 식 2-2-1-1로 표시되는 N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드 2,2＇-아이소프로필리덴 비스[(4S)-4-tert-뷰틸-2-옥사졸린]을 들 수 있다.
Figure pct00028
상기 아마이드는, 식 3으로 표시된다.
Figure pct00029
［식 중,
RG는 1개 또는 복수의 C1-C4 알킬로 치환된 실릴기이고,
RH는 수소, C1-C4 알킬이고,
RI는 수소, 1개 또는 복수의 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 C1-C4 알킬이다.］
아마이드로서 바람직하게는, 식 3-1로 표시되는 N-실릴아마이드를 들 수 있다.
Figure pct00030
［식 중,
RGX, RGY 및 RGZ는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고,
RH 및 RI는 상기와 동의이다］
또한, RGX, RGY 및 RGZ는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 페닐로부터 바람직하게 선택할 수 있다.
N-실릴아마이드로서 바람직하게는, 식 3-1-1로 표시되는 N-트라이메틸실릴아세트아마이드류를 들 수 있다.
Figure pct00031
［식 중, RH 및 RI는 상기와 동의이다］
N-트라이메틸실릴아세트아마이드류로서 보다 바람직하게는, 식 3-1-1-1로 표시되는 N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드, 및 식 3-1-1-2로 표시되는 N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드를 들 수 있다.
Figure pct00032
상기 케텐 아세탈, 케텐 알콕시 헤미아민알, 엔올 에터, 엔올 에스터는, 모두 식 4로 표시된다.
Figure pct00033
［식 중,
(a-1) RJ는 치환 실릴기이고, RK는 C1-C4 알콕시이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(a-2) RJ는 치환 실릴기이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼8원환을 형성하거나,
(b-1) RJ는 치환 실릴기이고, RK는 C1-C4 알킬이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(b-2) RJ는 치환 실릴기이고, RM은 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
(c-1) RJ와 RM이 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼7원환을 형성하고, RK는 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RL은 C1-C4 알킬이거나,
(c-2) RJ와 RM이 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼7원환을 형성하고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
(d-1) RJ는 C1-C4 알킬이고, 또한 RM, RK, 및 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(d-2) RJ는 C1-C4 알킬이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8환을 형성하거나,
(e-1) RJ는 C1-C3 알킬카보닐이고, 또한 RM, RK, 및 RL은, 독립하여 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(e-2) RJ는 C1-C3 알킬카보닐이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
(f-1) RJ는 치환 실릴기 또는 C1-C4 알킬이고, RK는 치환되어 있어도 되는 다이-C1-C4 알킬아미노이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
(f-2) 또는 RJ는 치환 실릴기 또는 C1-C4 알킬이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어, 질소 원자를 포함하는 5∼8원환을 형성하고, 해당 5∼8원환은, C1-C4 알킬에 의해 치환되어 있어도 된다］
여기에서, 바람직한 C1-C4 알킬로서, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다. 또한, 바람직한 C1-C3 알킬카보닐로서, 아세틸, 프로피온일을 들 수 있다.
케텐 아세탈로서 바람직하게는, 식 4-1로 표시되는 실릴케텐 아세탈을 들 수 있다.
Figure pct00034
［식 중,
RJX1, RJY1 및 RJZ1은, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고,
RKX1은 C1-C4 알킬이고,
RL, 및 RM은 상기와 동의이다］
여기에서, 바람직한 C1-C4 알킬로서, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
또한, RJX1, RJY1 및 RJZ1는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 페닐로부터 바람직하게 선택할 수 있다.
케텐 실릴 아세탈로서 바람직하게는 식 4-1-1로 표시되는 케텐 트라이메틸실릴 아세탈을 들 수 있다.
Figure pct00035
［식 중, RKX1, RL, 및 RM은 상기와 동의이다］
또한, 바람직한 RKX1, RL, 및 RM으로서, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
케텐 트라이메틸실릴 아세탈로서 바람직하게는 식 4-1-1-1로 표시되는 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈을 들 수 있다.
Figure pct00036
엔올 에터로서 바람직하게는 식 4-2로 표시되는 실릴엔올 에터를 들 수 있다.
Figure pct00037
［식 중,
RJX2, RJY2 및 RJZ2는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고,
RKX2는 수소, 또는 C1-C4 알킬이고,
RL, 및 RM은 상기와 동의이다］
또한, RKX1, RL, 및 RM의 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
또한, RJX2, RJY2 및 RJZ2는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 및 페닐로 이루어지는 군으로부터 선택하는 것이 바람직하다.
실릴 엔올 에터로서 바람직하게는 식 4-2-1로 표시되는 트라이메틸실릴 엔올 에터를 들 수 있다.
Figure pct00038
［식 중,
RKX2, RL, 및 RM은 상기와 동의이다］
트라이메틸실릴 엔올 에터로서 바람직하게는 식 4-2-1-1로 표시되는 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인을 들 수 있다.
Figure pct00039
다른 태양에 있어서, 엔올 에터로서 바람직하게는 식 4-3으로 표시되는 환상 엔올 에터를 들 수 있다.
Figure pct00040
［식 중,
RKX3, 및 RL1은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이다］
환상 엔올 에터로서 바람직하게는 식 4-3-1로 표시되는 다이하이드로피란을 들 수 있다.
Figure pct00041
다른 태양에 있어서, 엔올 에터로서 바람직하게는 쇄상 엔올 에터를 들 수 있고, 쇄상 엔올 에터로서 바람직하게는, 식 4-4로 표시되는 에틸 바이닐 에터를 들 수 있다.
Figure pct00042
상기 이민은, 식 5로 표시된다.
Figure pct00043
［식 중,
RN, RN＇, 및 RO는, 독립하여, 수소 또는 C1-C4 알킬이다.］
RN, RN＇, 및 RO의 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
이민으로서 바람직하게는, 식 5-1로 표시되는 케티민을 들 수 있다.
Figure pct00044
［식 중, RN는 상기와 동의이다］
바람직한 RN, RN＇로서, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
케티민으로서 바람직하게는, 식 5-1-1로 표시되는 2,2,4,4-테트라메틸펜탄온 이민을 들 수 있다.
Figure pct00045
상기 아민은, 식 6으로 표시된다.
Figure pct00046
［식 중,
RP는 치환 실릴기이고,
RQ는 치환 실릴기, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RR은 수소, 치환 실릴기, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은
RQ와 RR은 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼8원환 헤테로환을 형성한다.］
아민으로서 바람직하게는, 식 6-1로 표시되는 다이실릴아민류를 들 수 있다.
Figure pct00047
［식 중,
RPX1, RPY1, RPZ1, RQX1, RQY1 및 RQZ1는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이다］
또한, RPX1, RPY1, RPZ1, RQX1, RQY1 및 RQZ1는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 및 페닐로 이루어지는 군으로부터 선택하는 것이 바람직하다.
다이실릴아민으로서 바람직하게는 식 6-1-1로 표시되는 1,1,1,3,3,3-헥사메틸다이실라제인(HMDS)을 들 수 있다.
Figure pct00048
다른 태양에 있어서, 아민으로서 바람직하게는, 식 6-2로 표시되는 N-다이알킬-N-실릴아민을 들 수 있다.
Figure pct00049
［식 중,
RPX2, RPY2 및 RPZ2는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고,
RQ 및 RR은, 상기와 동의이다］
또한, RPX2, RPY2 및 RPZ2의 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
또한, RPX2, RPY2 및 RPZ2는, 독립하여, 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 페닐로 이루어지는 군으로부터 선택하는 것이 바람직하다.
N-다이알킬-N-실릴아민으로서 바람직하게는, 식 6-2-1로 표시되는 N-다이알킬-N-트라이메틸실릴아민을 들 수 있다.
Figure pct00050
［식 중,
RQ 및 RR은, 상기와 동의이다］
N-다이알킬-N-트라이메틸실릴아민으로서 바람직하게는, 식 6-2-1-1로 표시되는 N-트라이메틸실릴모폴린, 식 6-2-1-2로 표시되는 N-트라이메틸실릴다이에틸아민을 들 수 있다.
Figure pct00051
다른 태양에 있어서, 아민으로서 바람직하게는, 식 6-3으로 표시되는 N-알킬-N-다이실릴아민류를 들 수 있다.
Figure pct00052
［식 중,
RQX3, RQY3, RQZ3, RRX1, RRY1 및 RRZ1는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고,
RR은 C1-C4 알킬이다］
구체적으로는, 예를 들어, RQX3, RQY3, RQZ3, RRX1, RRY1 및 RRZ1는, 독립하여 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 페닐로부터 선택될 수 있다.
또한, RR의 바람직한 C1-C4 알킬로서, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
N-알킬-N-다이실릴아민류로서 바람직하게는, 식 6-3-1로 표시되는 N-알킬-N-비스트라이메틸실릴아민을 들 수 있다.
Figure pct00053
［식 중,
RR은 C1-C4 알킬이다］
RR의 바람직한 C1-C4 알킬로서, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
다른 태양에 있어서, 아민으로서 바람직하게는, 식 6-4로 표시되는 N-알킬-N-실릴아민을 들 수 있다.
Figure pct00054
［식 중,
RPX2, RPY2, 및 RPZ2는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고,
RQ는 C1-C4 알킬이다］
RPX2, RPY2, 및 RPZ2는, 독립하여 메틸, 에틸, i-프로필, t-뷰틸, 및 페닐로 이루어지는 군으로부터 선택하는 것이 바람직하다.
또한, RQ의 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
N-알킬-N-실릴아민으로서 바람직하게는, 식 6-4-1로 표시되는, N-알킬-N-트라이메틸실릴아민을 들 수 있다.
Figure pct00055
［식 중, RQ는 C1-C4 알킬이다］
RQ의 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸을 들 수 있다.
N-알킬-N-트라이메틸실릴아민으로서 바람직하게는, 식 6-4-1-1로 표시되는 N-tert-뷰틸트라이메틸실릴아민을 들 수 있다.
Figure pct00056
상기 다이아민은, 식 7로 표시된다.
Figure pct00057
［식 중,
X는 단일 결합 또는 탄소 원자이고,
여기에서 X가 단일 결합인 경우, RS는 존재하지 않고, RUA와 RR은, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자 및 질소 원자와 하나로 되어 치환되어 있어도 되는 6원의 방향족 헤테로환을 형성하고, 또한 RUB와 RT는, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자 및 질소 원자와 하나로 되어 치환되어 있어도 되는 6원의 방향족 헤테로환을 형성하고,
X가 탄소 원자인 경우, RUA 및 RUB는, 독립하여, C1-C4 알킬이고, 또한 RR와 RS와 RT는 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 이하의 구조:
Figure pct00058
를 형성한다.］
식 7 중의 X가 탄소 원자인 경우, 다이아민으로서 바람직하게는, 식 7-1로 표시되는 테트라알킬나프탈렌다이아민을 들 수 있다.
Figure pct00059
［식 중, RUA 및 RUB는, 독립하여, C1-C4 알킬이다.］
테트라알킬나프탈렌다이아민으로서 바람직하게는, 식 7-1-1로 표시되는, N,N,N',N'-테트라메틸-1,8-나프탈렌다이아민을 들 수 있다.
Figure pct00060
다른 태양에 있어서, 식 7 중의 X가 단일 결합인 경우, 다이아민으로서 바람직하게는, 식 7-2-1로 표시되는 2,2＇-바이피리딘을 들 수 있다.
Figure pct00061
상기 다이알킬카보다이이미드는, 식 8로 표시된다.
Figure pct00062
［식 중, RV는, C1-C4 알킬 또는 C3-C6 사이클로알킬이다.］
RV의 C1-C4 알킬로서, 바람직하게는, 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, i-뷰틸, t-뷰틸, 사이클로헥실을 들 수 있다.
다이알킬카보다이이미드로서 바람직하게는, 식 8-1로 표시되는 다이아이소프로필카보다이이미드를 들 수 있다.
Figure pct00063
상기 유레아는, 식 9로 표시된다.
Figure pct00064
［식 중, RW 및 RX는, 독립하여, C1-C4 알킬, 또는 치환 실릴기이다］
유레아로서 바람직하게는, 식 9-1로 표시되는 N,N＇-비스(트라이메틸실릴)요소를 들 수 있다.
Figure pct00065
상기 유레테인은, 식 10으로 표시된다.
Figure pct00066
［식 중, RY 및 RZ는, 독립하여, C1-C4 알킬, 또는 치환 실릴기이다.］
유레테인으로서 바람직하게는, 식 10-1로 표시되는 N,O-비스(트라이메틸실릴)요소를 들 수 있다.
Figure pct00067
어느 국면에 있어서, 펩티드 화합물, 용매, 구전자종 포착제, 및 실릴 화합물 또는 산은, 임의의 차례로 혼합하는 것에 의해 실릴화제를 생성할 수 있다. 펩티드 화합물을 용매와 혼합한 후에, 구전자종 포착제를 혼합하고, 그 다음에 실릴 화합물 또는 산을 혼합하는 것이 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 용매는, 비양성자성 용매를 이용할 수 있고, 에스터류, 에터류, 알킬나이트릴류, 할로젠화 탄화수소, 탄화수소 등을 들 수 있다. 이들 중에서는, 아세트산 에틸, 아세트산 아이소프로필, 2-메틸테트라하이드로퓨란, 테트라하이드로퓨란, 다이에틸 에터, 메틸 tert-뷰틸 에터, 다이클로로메테인, 1,2-다이클로로에테인, 톨루엔, 또는 아세토나이트릴이 바람직하고, 아세트산 에틸, 아세트산 아이소프로필, 2-메틸테트라하이드로퓨란, 테트라하이드로퓨란, 또는 1,2-다이클로로에테인이 보다 바람직하고, 아세트산 에틸, 또는 2-메틸테트라하이드로퓨란이 특히 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 본 발명에 있어서 실릴화제를 생성시켜 펩티드 화합물로부터 보호기 및/또는 수지를 탈보호 및/또는 탈수지하기 위해서, 화학량론량 이상의 실릴 화합물, 및 구전자종 포착제를 이용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 펩티드에 포함되는 제거 대상의 보호기 1당량에 대해서, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 1∼5당량, 바람직하게는 2∼4당량의 실릴 화합물, 및 1∼10당량, 바람직하게는 1∼8당량의 구전자종 포착제를 이용할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 촉매량, 예를 들어, 제거 대상의 보호기 1당량 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 0.1∼0.5당량, 바람직하게는 0.3∼0.4당량의 실릴 화합물과, 구전자종 포착제를 조합하여 실릴화제를 생성할 수 있다. 이 경우, 실릴화제는, TMSOTf, TESOTf, TBSOTf, TIPSOTf, TBDPSOTf, TTMSOTf, TMSCl, TMSBr, 또는 TMSOClO3이 바람직하게 이용되고, 구전자종 포착제는, N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드, N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드, 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈, 또는 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인이 바람직하게 이용된다. 이 경우, 제거 대상의 보호기 1당량, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서 1∼10당량, 바람직하게는 1∼8당량의 구전자종 포착제를 이용할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 촉매량, 예를 들어, 제거 대상의 보호기 1당량 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 0.1∼0.5당량, 바람직하게는 0.3∼0.4당량의 산과, 구전자종 포착제를 조합하여 실릴화제를 생성할 수 있다. 이 경우, 산은, TfOH, HOClO3, HCl, HBr, HI가 바람직하게 이용되고, TfOH가 보다 바람직하게 이용된다. 구전자종 포착제는, N-실릴이미데이트(식 2-1), N-실릴아마이드(식 3-1), 케텐실릴아세탈(식 4-1), 실릴엔올 에터(식 4-2)가 바람직하게 이용되고, N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드(식 2-1-1-1), N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드(식 2-1-1-2), N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드(식 3-1-1-1), N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드(식 3-1-1-2), 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈(식 4-1-1-1), 또는 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인(식 4-2-1-1)이 보다 바람직하게 이용된다. 이들 중에서는, N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드가 특히 바람직하다. 이 경우, 제거 대상의 보호기 1당량, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서 1∼10당량, 바람직하게는 1∼8당량의 구전자종 포착제를 이용할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 「실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기」는, 상기 실릴화제에 의해 탈보호할 수 있는 보호기이면, 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 보호기로서, 구체적으로는, t-Bu, 벤질, 트라이페닐메틸, 큐밀, 2-(트라이메틸실릴)-에틸 등의 카복실기의 보호기, Boc, Teoc, Cbz, 메톡시카보닐, 큐밀 등의 아미노기의 보호기, 테트라하이드로피란일, 1-에톡시에틸 등의 하이드록시기의 보호기, 트라이페닐메틸, 메톡시트라이틸 등의 SH기의 보호기 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서의 출발 펩티드 화합물의 화학 합성 방법으로서는, 액상 합성법, Fmoc 합성이나 Boc 합성 등을 이용한 고상 합성법, 및 이들의 조합 등이 예시된다. Fmoc 합성에서는, 주쇄 아미노기가 Fmoc기에 의해 보호되고, 측쇄 작용기가 필요에 따라서 피페리딘 등의 염기성으로 절단되지 않는 보호기로 보호되고, 주쇄 카복실산을 보호하지 않는 아미노산을 기본 단위로 한다. 기본 단위로서는, 그 외, Fmoc 보호된 아미노기와 카복실산기를 갖는 조합이면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어 다이펩티드를 기본 단위로 해도 된다. N말단에 배치시키는 기본 단위는, Fmoc 아미노산 이외여도 된다. 예를 들어, Boc 아미노산이어도 되고, 아미노기를 갖지 않는 카복실산 유연체여도 된다. 주쇄 카복실산기를 고상 담체의 작용기와의 화학 반응에 의해 고상에 담지시킨다. 계속해서 피페리딘이나 DBU 등의 염기에 의해 Fmoc기를 탈보호하고, 새롭게 생성된 아미노기와 계속해서 첨가되는 기본 단위의 카복실산을 갖는 보호 아미노산을 축합 반응시킴으로써, 아마이드 결합을 생성시킨다. 축합 반응에서는, DIC와 HOBt의 조합, DIC와 HOAt의 조합, HATU와 DIPEA의 조합 등 다양한 조합이 가능하다. 탈Fmoc기와 그에 계속되는 아마이드 결합 생성 반응의 반복에 의해, 소망의 펩티드 서열을 생성시킬 수 있다. 소망의 서열이 얻어진 후, 고상으로부터 탈수지와 필요에 따라서 도입한 측쇄 작용기의 보호기의 탈보호가 행해진다. 고상으로부터의 탈수지나, 측쇄 작용기의 보호기의 탈보호에는, 본 발명의 탈보호 방법, 탈수지 방법이 제공될 수 있다. 고상으로부터 탈수지 공정이나 탈보호 공정 동안 혹은 최후에, 환화 등의 공정을 실시할 수도 있다. 예를 들어, 측쇄 카복실산과 N말단 주쇄의 아미노기를 축합시키는 것이나, 측쇄 아미노기와 C말단 주쇄의 카복실산을 축합시키는 것이 가능하다. 이 때, C말단측의 카복실산과 환화시키는 측쇄 카복실산의 사이, 혹은 N말단측의 주쇄 아미노기 또는 하이드록시기와 환화시키는 측쇄 아미노기의 사이에 반응 직교성이 필요하고, 보호기의 직교성을 고려하여 보호기의 선택이 행해진다. 이와 같이 하여 얻어진 반응물을 역상 컬럼이나, 분자체 컬럼 등으로 정제할 수 있다. 이들의 상세는, 예를 들어 머크 주식회사가 2002년 5월 1일에 발행한 고상 합성 핸드북 등에 기재되어 있다.
본 명세서에 있어서 「고상 합성용 수지」는, 고상법에 의한 펩티드 화합물의 합성에 이용할 수 있고, 또한 본 발명의 실릴화제에 의해 제거할 수 있는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 고상 합성용 수지로서, 구체적으로는, 예를 들어, CTC 수지, Wang 수지, SASRIN 수지, 트라이틸 클로라이드 수지(Trt 수지), 4-메틸트라이틸 클로라이드 수지(Mtt 수지), 4-메톡시트라이틸 클로라이드 수지(Mmt) 등의 산성 조건에서 제거 가능한 것을 들 수 있다. 수지는, 이용되는 아미노산측의 작용기에 맞추어 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 아미노산측의 작용기로서, 카복실산(주쇄 카복실산, 혹은, Asp나 Glu로 대표되는 측쇄 카복실산), 또는, 방향환상의 하이드록시기(Tyr로 대표되는 페놀기)를 이용하는 경우에는, 수지로서 트라이틸 클로라이드 수지(Trt 수지) 혹은 2-클로로트라이틸 클로라이드 수지(CTC 수지)를 이용하는 것이 바람직하다. 아미노산측의 작용기로서 지방족 하이드록시기(Ser나 Thr로 대표되는 지방족 알코올기)를 이용하는 경우에는, 수지로서 트라이틸 클로라이드 수지(Trt 수지), 2-클로로트라이틸 클로라이드 수지(CTC 수지) 혹은 4-메틸트라이틸 클로라이드 수지(Mtt 수지)를 이용하는 것이 바람직하다.
수지를 구성하는 폴리머의 종류도 특별히 한정되지 않는다. 폴리스타이렌으로 구성되는 수지의 경우에는, 100-200mesh 혹은 200-400mesh의 어느 것을 이용해도 된다. 또한, 가교율에 대해서도 특별히 한정되지 않지만, 1% DVB(다이바이닐벤젠) 가교의 것이 바람직하다. 또한, 수지를 구성하는 폴리머의 종류로서 Tentagel, 또는 Chemmatrix를 들 수 있다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 탈보호 반응 및/또는 탈수지 반응은, -50∼100℃, 바람직하게는 -20∼50℃, 보다 바람직하게는 0∼30℃의 반응 온도에서 행할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 탈보호 반응 및/또는 탈수지 반응은, 10분 내지 일주일간, 바람직하게는 10분 내지 6시간, 보다 바람직하게는 1∼3시간의 반응 시간에 행할 수 있다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 탈보호 반응 및/또는 탈수지 반응은, 반응액에 알코올 또는 물을 가하여 반응을 정지하고, 목적물을 침전시켜 취득하거나, 또는 유기층을 물 또는 식염수로 세정한 후에, 해당 유기층을 감압 농축함으로써 목적물을 취득할 수 있다. 알코올은 특별히 한정되지 않지만, 수용성이고 비점이 낮은 것이 바람직하고, 메탄올이 특히 바람직하다. 반응의 정지에 이용되는 물은, 특별히 한정되지 않지만, 알칼리수가 바람직하고, 중조수 또는 인산수소 이칼륨이 특히 바람직하다. 유기층을 세정하는 경우, 식염수의 농도는, 특별히 한정되지 않지만, 포화 식염수, 5% 식염수가 바람직하다.
어느 국면에 있어서, 본 발명의 방법에 의해 탈보호할 수 있는 보호기와 탈수지할 수 있는 고상 합성용 수지가 출발 펩티드 화합물에 둘 다 포함되어 있는 경우에는, 탈보호 반응과 탈수지 반응을 동시에 행할 수 있다. 즉, 본 발명은, 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 단계를 포함하는, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기가 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈보호되고, 또한 해당 실릴화제에 의해 탈수지 가능한 고상 합성용 수지가 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈수지된, 펩티드 화합물을 제조하는 방법에도 관한 것이다.
어느 국면에 있어서, 본 발명은 이하의 식(A):
Figure pct00068
로 표시되는 아마이드 화합물 또는 그의 염에 관한 것이다.
식(A) 중, R1＇는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다. R1＇로서 바람직하게는, 수소, Fmoc, Boc, 또는 Cbz이다.
식(A) 중, R17A 및 R17B는, 모두 메틸이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 피페리딘 또는 모폴린을 형성한다.
식(A) 중, R18은 수소 또는 PG10이다. PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다. R18로서 바람직하게는, 수소 원자, t-Bu, 벤질, 또는 알릴이다.
식(A)에 있어서의 R1＇과 R18의 바람직한 조합으로서는, Fmoc와 수소 원자, Fmoc와 알릴, Fmoc와 t-Bu, Fmoc와 벤질, Boc와 수소 원자, Boc와 알릴, Boc와 t-Bu, Boc와 벤질, Cbz와 수소 원자, Cbz와 알릴, Cbz와 t-Bu, Cbz와 벤질, Alloc와 수소 원자, Alloc와 알릴, Alloc와 t-Bu, Alloc와 벤질, Teoc와 수소 원자, Teoc와 알릴, Teoc와 t-Bu, Teoc와 벤질, 수소 원자와 수소 원자, 수소 원자와 알릴, 수소 원자와 t-Bu, 수소 원자와 벤질 등을 들 수 있다.
식(A)로 표시되는 아마이드 화합물로서 구체적으로는, 예를 들어, 이하의 화합물을 들 수 있다:
(1-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-11) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-12) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-13) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-14) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-15) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(1-17) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(1-18) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
(1-19) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
(1-20) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
(2-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-11) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-12) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-13) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-14) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-15) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(2-17) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(2-18) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
(2-19) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(2-20) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-11) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-12) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-13) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-14) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-15) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(3-17) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산,
(3-18) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
(3-19) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
(3-20) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
(4-1) 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
(4-2) 알릴 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
(4-3) tert-뷰틸 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
(4-4) 벤질 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
(4-5) 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
(4-6) 알릴 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
(4-7) tert-뷰틸 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
(4-8) 벤질 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
(4-9) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
(4-10) 알릴 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트,
(4-11) tert-뷰틸 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트, 또는
(4-12) 벤질 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트.
본 발명의 식(A)로 표시되는 아마이드 화합물은, 예를 들어, 이하의 스킴을 따라 합성할 수 있다.
Figure pct00069
상기 스킴에 있어서의 아마이드화 공정은, 예를 들어 고상 합성 핸드북(발행자: 머크 주식회사, 발행일: 2002년 5월 1일), 또는 Albert 등의 방법(Synthesis, 1987, 7, 635-637)에 의해, 임의의 아민((R17A)(R17B)NH)과 카복실기를 카보다이이미드 화합물 등의 탈수 축합제로 축합시킴으로써 행할 수 있다.
상기 스킴에 있어서의 탈보호 공정은, 예를 들어, 「Greene＇s, “Protective Groups in Organic Synthesis˝(제5판, John Wiley & Sons 2014)」에 기재된 방법을 이용하여, 혹은 본 명세서에 기재된 탈보호 방법을 이용하여 행할 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 프리체여도, 그의 염이어도 되고, 모두 본 발명에 포함된다. 이와 같은 「염」으로서는, 예를 들어, 무기산염, 유기산염, 무기염기염, 유기염기염, 산성 또는 염기성 아미노산염 등을 들 수 있다.
무기산염으로서는, 예를 들어 염산염, 브로민화 수소산염, 황산염, 질산염, 인산염 등을 들 수 있고, 유기산염으로서는, 예를 들어 아세트산염, 석신산염, 푸마르산염, 말레산염, 타르타르산염, 시트르산염, 락트산염, 스테아르산염, 벤조산염, 메테인설폰산염, 벤젠설폰산염, p-톨루엔설폰산염 등을 들 수 있다.
무기염기염으로서는, 예를 들어 나트륨염, 칼륨염 등의 알칼리 금속염, 칼슘염, 마그네슘염 등의 알칼리 토류 금속염, 알루미늄염, 암모늄염 등을 들 수 있고, 유기염기염으로서는, 예를 들어 다이에틸아민염, 다이에탄올아민염, 메글루민염, N,N-다이벤질에틸렌다이아민염 등을 들 수 있다.
산성 아미노산염으로서는, 예를 들어 아스파라긴산염, 글루타민산염 등을 들 수 있고, 염기성 아미노산염으로서는, 예를 들어 아르기닌염, 리신염, 오르니틴염 등을 들 수 있다.
본 발명의 화합물은, 예를 들어 대기 중에 방치해 두는 것에 의해 물을 흡수하여, 수화물이 되는 경우가 있고, 그와 같은 수화물도 본 발명에 포함된다.
더욱이 본 발명의 화합물은, 다른 어느 종류의 용매를 흡수하여, 용매화물이 되는 경우가 있지만, 그와 같은 용매화물도 본 발명에 포함된다.
본 명세서에 있어서, 본 발명의 화합물의 구조식이 편의상 일정 이성체를 나타내는 경우가 있지만, 기하 이성체, 광학 이성체, 호변 이성체 등, 화합물의 구조상 발생하는 모든 이성체 및 이성체 혼합물이 본 발명에 포함되고, 편의상의 식의 기재로 한정되지 않는다. 예를 들어, 분자 내에 비대칭 탄소 원자를 가져, 광학 활성체 및 라세미체가 존재하는 경우, 모두 본 발명에 포함된다.
한편, 본 명세서에 있어서 인용된 모든 선행 기술 문헌은, 참조로서 본 명세서에 원용된다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더 자세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시에 이용한 염화 메틸렌, 아세트산 에틸, 2-MeTHF, 다이클로로에테인, 또는 DMF 등으로 예시되는 용매는 상업적 공급업자품을 정제하지 않고 이용했다. 또한, 물을 용매로서 가하지 않는 반응에서는, 탈수 용매, 초탈수 용매, 또는 무수 용매 등은, 상업적 공급업자품을 정제하지 않고 이용했다.
본 발명의 실시에 이용한 TMSOTf로 예시되는 실릴 화합물, 또는 BSA, 및 BSTFA로 예시되는 구전자종 포착제 등의 본 발명의 실시에 이용한 시약류는, 특별히 기재한 것 이외, 상업적 공급업자품을 정제하지 않고 이용했다.
본 발명의 실시에 이용한, 출발 펩티드 화합물, 및 출발 아마이드 화합물은, 특별히 기재한 것 이외, 상업적 공급업자품을 정제하지 않고 이용했다. 또한, 필요에 따라서 공지된 방법에 의해 제조하여 이용했다.
이하의 실시예는 HPLC method 1-4 혹은 method A, B, C, D, E, F, G, H의 어느 하나 이상으로 분석했다.
분석: HPLC(반응 변환율, 순도)
HPLC method 1
Instrument: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: Ascentis Express C18(2.7μm, 4.6mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (6min.) ⇒ 5% (7min.) ⇒ 5% (9min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm
Injection vol.: 5μL
Sample prep.: 5μL/1.00ml
HPLC method 2
Instrument: Waters LCT Premier
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 4.6mm x 50mm), Supelco
Column temp.: 35 deg.
Eluent: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (B): 50% (0min.) ⇒ 100% (6 to 11min.) ⇒ 50% (11min.) ⇒50% (13min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm
Injection vol.: 5μL
Sample prep.: 5μL/1.00ml
HPLC method 3
Instrument: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: Ascentis Express C18, (2.7μm, 2.1mm x 50mm), Supelco
Column temp.: 35deg.
Eluent: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (A): 95%(0min) → 0%(4.0min) → 0%(4.5min) → 95%(4.6min) → 95%(6min)
Flow rate: 0.25ml/min
Detection: PDA 210nm (200 - 400nm PDA total)
Injection vol.: 0.3μL
Sample prep.: 50μL/10ml
HPLC method 4
Instrument: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: CAPCELL CORE ADME, (2.7μm, 3.0mm x 150mm)
Column temp.: 30deg.
Solvents: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (A): 70%(0min) → 30%(20.0min) → 0%(20.1min) → 0%(22.0min) → 70%(22.1min) → 70%(24min)
Flow rate: 0.3ml/min
Detection: PDA 254nm (200 - 400nm PDA total)
Injection vol.: 0.3μL
Sample prep.: amorphous 10.0mg in CH3CN 10ml; this solution 0.3ml/0.7ml CH3CN
A. 탈Boc화 반응의 실험
(실시예 1)
Boc-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 3a)의 탈Boc화 반응(6mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00070
반응 용기에 원료를 77.7mg 달아 취하고, 5v/w의 아세트산 에틸에 용해시키고, 반응 용기를 빙랭했다. 질소 분위기하 10분 후에 BSTFA를 0.055ml(2.4eq), TfOH를 3.0μl(0.4eq) 순차적으로 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 3시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다.
반응을 포화 중조수로 정지했다. 유기층을 포화 중조수와 5% 식염수로 세정했다. 얻어진 유기층을 감압 농축하여, 77.3mg의 탈보호체를 정량적으로 얻었다.
아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00071
Figure pct00072
(실시예 2)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-HMDS법)
Figure pct00073
반응 용기에 원료를 0.0810g 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시키고, 반응 용기를 빙랭했다. 질소 분위기하 10분 후에 HMDS를 0.079ml(7.2eq), TMSOTf를 34μl(3.6eq) 순차적으로 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 4시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
원료 종결 확인 후, 추가로 1시간 반응 용액을 교반하고, LCMS로 반응을 분석했다. 이 때도 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
반응 용기를 1ml의 포화 식염수에 가하여 반응을 정지했다. 계속해서 아세트산 에틸을 5ml 가하여 2층을 분리했다. 유기층을 포화 중조수 1ml와 포화 식염수 1ml의 혼합액으로 세정했다. 얻어진 유기층을 농축하여, 68.0mg의 탈보호체를 수율 90%로 투명한 필름으로서 얻었다.
Figure pct00074
Figure pct00075
Figure pct00076
(실시예 3)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-HMDS법)
Figure pct00077
실시예 2에 준하여 반응을 실시했다. 반응 개시 19시간 후에 LCMS로 분석했다. 그러나, 생성물의 분해는 확인되지 않았다.
Figure pct00078
Figure pct00079
(실시예 4)
Boc-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 2a)의 탈Boc화 반응(11mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00080
실시예 1에 준하여 반응을 실시했다.
Figure pct00081
Figure pct00082
Figure pct00083
(실시예 5)
Boc-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 4a)의 탈Boc화 반응(5mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00084
실시예 1에 준하여 반응을 실시했다.
Figure pct00085
Figure pct00086
(실시예 6)
Boc-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 8a)의 탈Boc화와 Boc-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl로의 신장 반응(3mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00087
반응 용기에 출발 물질을 73.3mg 달아 취하고, 5v/w의 아세트산 아이소프로필에 용해시켰다. 반응 용기를 빙랭 후 BSTFA를 0.085ml, TfOH를 0.0047ml 가하고 2시간 교반했다. 주쇄의 절단을 일으키지 않고 탈보호가 완료된 것을 LC로 확인 후, 5v/w의 물과 인산수소 이칼륨 186.9mg을 가했다. 계속해서 Boc-Leu-OH·일수화물을 40.1mg과 DMT-MM을 63.1mg 가하고 빙랭하 교반했다. 시약 첨가 17시간 후에 LC로 반응의 종결을 확인했다. 1N 수산화 나트륨 수용액을 5v/w 가하여 반응을 정지했다. 분액 처리에 의해 유기층을 분리 후, 1N 수산화 나트륨 수용액으로 1회, 5% 황산수소 칼륨 수용액으로 2회,5% 염화 나트륨 수용액으로 1회 세정 후, 감압 농축했다. 조생성물을 유상 액체로서 82.0mg(93% 수율) 얻었다.
Figure pct00088
Figure pct00089
Figure pct00090
(실시예 6a)
Teoc-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 80b)의 탈Teoc화와 Boc-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(7a)로의 신장 반응(3mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00091
실시예 6과 마찬가지의 조작에 의해 Teoc기를 제거 후, Boc-Leu-OH를 작용시킴으로써 주쇄의 절단을 일으키지 않고 화합물 7a를 얻을 수 있다.
(실시예 7)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 5a)의 탈Boc화 반응(5mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00092
실시예 6에 기재된 실험 방법에 따라 탈보호 반응과 신장 반응을 원포트(one-pot)에서 실시했다.
Figure pct00093
Figure pct00094
Figure pct00095
Figure pct00096
(실시예 8)
Boc-Ala-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 6a)의 탈Boc화와 신장 반응(4mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00097
실시예 6에 기재된 실험 방법에 따라 탈보호 반응과 신장 반응을 원포트에서 실시했다.
Figure pct00098
Figure pct00099
Figure pct00100
(실시예 9)
Boc-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 7a)의 탈Boc화 반응(4mer: TfOH-BSTFA법)
Figure pct00101
실시예 6에 기재된 실험 방법에 따라 탈보호 반응과 신장 반응을 원포트에서 실시했다.
Figure pct00102
Figure pct00103
Figure pct00104
(실시예 10)
Boc-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 7a)의 기지 조건에 의한 탈Boc화 반응(4mer:HCl법) (Russ. J. Bioorg. Chem., 2016, 42, 143.)
Figure pct00105
반응 용기에 원료를 18.7mg 달아 취하고, 10v/w의 트라이플루오로에탄올에 용해시켰다. 계속해서 4N HCl(아세트산 에틸 용액)를 8.5μl(1.2eq) 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 2시간 후, LCMS(HPLC method 1)로 반응을 분석하여, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 81%인 것을 확인했다. 이 시점에서 아마이드 결합이 절단된 화합물로서 H-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 7c)을 0.861%, H-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-OH(화합물 7d)를 1.275% 각각 검출했다.
Figure pct00106
(실시예 11)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호와 Boc-Ala-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip로의 신장 반응(3mer: TMSOTf-BSTFA법)
Figure pct00107
실시예 6에 기재된 실험 방법에 따라 탈보호 반응과 신장 반응을 원포트에서 실시했다.
Figure pct00108
Figure pct00109
Figure pct00110
(실시예 12)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호(3mer: TMSOTf-MSTFA법)
Figure pct00111
실시예 6에 기재된 실험 방법에 따라 탈보호 반응과 신장 반응을 원포트에서 실시했다.
Figure pct00112
Figure pct00113
Figure pct00114
(실시예 13)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호(3mer: TMSOTf-BSA법TMSOTf 2.4eq, BSA 2.4eq)
Figure pct00115
실시예 6에 기재된 실험 방법에 따라 탈보호 반응과 신장 반응을 원포트에서 실시했다.
Figure pct00116
Figure pct00117
Figure pct00118
(실시예 14)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호 (3mer: TMSOTf-HMDS법)
Figure pct00119
반응 용기에 원료를 107.4mg 달아 취하고, 5v/w의 아세트산 에틸에 용해시키고, 반응 용기를 빙랭했다. 질소 분위기하 10분 후에 HMDS(1,1,1,3,3,3-헥사메틸다이실라제인)를 0.085ml(2.4eq), TMSOTf를 35μl(1.2eq) 순차적으로 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 2시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 변환율이 55.8%였기 때문에 TMOSTf를 20μl(0.69eq) 추가했다. 시약 추가 1시간 후, LCMS로 원료의 소실을 확인했다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
반응 용기에 인산수소 이칼륨을 373.4mg(13.3eq) 첨가한 후, 물을 0.89ml 가하고 20분 교반했다.
그 후, 반응 용기에 아세트산 에틸을 3ml 가하고 2층을 분리했다. 유기층을 포화 중조수 1ml와 포화 식염수 1ml의 혼합액으로 세정했다. 얻어진 유기층을 농축했다.
계속해서, 얻어진 유상 액체를 아세트산 에틸 1ml에 용해하고, 인산수소 이칼륨을 251.0mg 가했다. 물을 0.89ml 가한 후, 반응 용기를 빙랭했다. Boc-Ala-OH를 36.8mg, DMT-MM를 79.5mg 가하고 빙욕에 둔 채로 철야 교반했다. 15.5시간 후에 LCMS로 원료의 소실을 확인한 후, 분액 처리를 행했다. 얻어진 유기층을 5% 탄산 칼륨으로 2회, 물로 1회, 5% 황산수소 칼륨으로 2회, 포화 식염수로 1회 세정하고, 농축했다. 조생성물을 백색 고체로서 0.1075g(수율 90%) 얻었다.
Figure pct00120
Figure pct00121
Figure pct00122
B. 구전자종 포착제의 스크리닝
(실시예 15)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: N-(트라이메틸실릴)다이에틸아민)
Figure pct00123
반응 용기에 원료를 99.5mg 달아 취하고, 5v/w의 아세트산 에틸에 용해시키고, 반응 용기를 빙랭했다. 질소 분위기하에 N-((트라이메틸실릴)다이에틸아민을 0.070ml(2.4eq), TMSOTf를 0.032ml(1.2eq) 순차적으로 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 1.5시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 변환율은 30%였기 때문에 TMOSTf를 0.029ml(1.1eq) 추가했다. 반응 개시부터 4시간 후 LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 그 때 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다. 반응액을 철야 교반하고, 반응 개시부터 20시간 후에 LCMS로 반응을 재차 분석했다. 이 때도 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
반응 개시 21시간 후에 반응 용액에 인산수소 이칼륨 0.2032g 및 물 0.50ml를 첨가하고, 30분간 교반했다. 반응액을 아세트산 에틸 4ml로 희석 후, 2층을 분리하여 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 포화 식염수 0.5ml와 포화 중조수 0.5ml의 혼합 용매로 두 번 세정했다. 계속해서 포화 식염수 0.5ml로 세정하고, 유기층을 농축했다. 이 잔사를 아세트산 아이소프로필 4ml에 용해하고, 0.5M 수산화 나트륨 수용액 1ml와 포화 식염수 0.5ml의 혼합 용매로 두 번 세정했다. 계속해서 10% 식염수 0.5ml로 세정하고, 유기층을 감압 농축하여, 81.7mg의 탈보호체를 수율 97%로 얻었다.
Figure pct00124
Figure pct00125
(실시예 16)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: N-(트라이메틸실릴)모폴린)
Figure pct00126
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00127
Figure pct00128
(실시예 17)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: N-tert-뷰틸트라이메틸실릴아민)
Figure pct00129
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00130
Figure pct00131
(실시예 18)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: 2,2,4,4-테트라메틸펜탄온 이민)
Figure pct00132
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00133
Figure pct00134
(실시예 19)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인)
Figure pct00135
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00136
Figure pct00137
(실시예 20)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈)
Figure pct00138
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00139
Figure pct00140
(실시예 21)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: 3,4-다이하이드로-2H-피란)
Figure pct00141
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00142
Figure pct00143
(실시예 22)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: N,N,N ',N '-테트라메틸-1,8-나프탈렌다이아민)
Figure pct00144
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00145
Figure pct00146
(생성물의 LCA%는 후처리 후의 잔존 염기를 제외한 값을 기재.)
(실시예 23)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: 2,2'-아이소프로필리덴 비스[(4S)-4-tert-뷰틸-2-옥사졸린])
Figure pct00147
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00148
Figure pct00149
(생성물의 LCA%는 후처리 후의 잔존 염기를 제외한 값을 기재.)
(실시예 24)
Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip(화합물 9a)의 탈보호
(염기: 다이아이소프로필카보다이이미드)
Figure pct00150
실시예 15에 기재된 방법에 따라 실험을 행했다.
Figure pct00151
Figure pct00152
(생성물의 LCA%는 후처리 후의 잔존 염기를 제외한 값을 기재.)
C. 구전자종 포착제의 스크리닝(11mer의 펩티드에서의 실험)
(실시예 25)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-BSTFA법)
Figure pct00153
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00154
Figure pct00155
(실시예 26)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-BSA법)
Figure pct00156
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00157
Figure pct00158
(실시예 27)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-실릴아민법)
Figure pct00159
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00160
Figure pct00161
(실시예 28)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-실릴아민법)
Figure pct00162
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00163
Figure pct00164
(실시예 29)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-이민법)
Figure pct00165
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00166
Figure pct00167
(실시예 30)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-MSTFA법)
Figure pct00168
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00169
Figure pct00170
(실시예 31)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-실릴아민법)
Figure pct00171
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00172
Figure pct00173
(실시예 32)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-케텐실릴아세탈법)
Figure pct00174
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00175
Figure pct00176
(실시예 33)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-양성자 스펀지법)
Figure pct00177
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00178
(후처리 후에도 염기가 잔존한다.)
Figure pct00179
(생성물의 LCA%는 후처리 후의 잔존 염기를 제외한 값을 기재.)
(실시예 34)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-루티딘법)
Figure pct00180
반응 용기에 원료를 18.8mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 계속해서 2,6-루티딘을 0.005ml(3.6eq), TMSOTf 0.0078ml(3.6eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 4시간 후, LCMS(HPLC method 1)로 반응을 분석하여, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 14%인 것을 확인했다. 계속해서 시약 첨가 19시간 후에 LCMS로 반응을 분석했지만, 변환율은 14%인 채로 머물렀다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00181
Figure pct00182
Figure pct00183
(실시예 35)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-루티딘법)
Figure pct00184
반응 용기에 원료를 89.3mg 달아 취하고, 1ml의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 계속해서 2,6-루티딘을 0.016ml(2.4eq), TMSOTf 0.012ml(1.2eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 1.25시간 후, LCMS(HPLC method 1)로 반응을 분석하여, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 0%였기 때문에, 2,6-루티딘을 0.032ml(4.8eq), TMSOTf 0.024ml(2.4eq)를 추가했다. 시약 추가 1.25시간 후 및 14시간 후에 각각 LCMS로 반응을 분석했지만, 변환율은 0%인 채로 머물렀다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00185
Figure pct00186
Figure pct00187
(실시예 36)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-2,6-다이-tert-뷰틸피리딘법)
Figure pct00188
반응 용기에 원료를 14.9mg 달아 취하고, 0.2ml의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 계속해서 2,6-다이-t-뷰틸피리딘을 0.011ml(5.4eq), TMSOTf 0.0062ml(3.6eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 4시간 후, LCMS(HPLC method 1)로 반응을 분석하여, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 59%였다. 반응 개시부터 22시간 후에 재차 LCMS로 반응을 분석했지만, 변환율은 59%인 채로 머물렀다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00189
Figure pct00190
Figure pct00191
(실시예 37)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-tert-아민법)
Figure pct00192
반응 용기에 원료를 17.7mg 달아 취하고, 0.20ml의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 계속해서 트라이 에틸아민을 0.0057ml(3.6eq), TMSOTf 0.0074ml(3.6eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 1시간 후 및 4시간 후에 LCMS(HPLC method 1)로 반응을 분석했지만, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))은 모두 0.7%에 머물렀다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00193
Figure pct00194
Figure pct00195
(실시예 38)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-tert-아민법)
Figure pct00196
반응 용기에 원료를 19.1mg 달아 취하고, 0.20ml의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 계속해서 다이아이소프로필에틸아민을 0.0074ml(3.6eq), TMSOTf 0.0077ml(3.6eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 2시간 후 및 4시간 후에 LCMS(HPLC method 1)로 반응을 분석했지만, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))은 어느 것도 0.8% 이내에 머물렀다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00197
Figure pct00198
Figure pct00199
(실시예 39)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TMSOTf-tert-아민법)
Figure pct00200
반응 용기에 원료를 92.9mg 달아 취하고, 1ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 후 반응 용기를 빙랭했다. 계속해서 질소 분위기하 다이아이소프로필에틸아민을 0.015ml(2.4eq), TMSOTf 0.013ml(1.2eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 2시간 후에 반응을 분석했지만, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))은 0%였기 때문에, 시약 첨가 3시간 후에 다이아이소프로필에틸아민을 0.030ml(4.8eq), TMSOTf 0.026ml(2.4eq)를 추가했다. 시약 추가 후 3시간이 경과했을 때에 재차 반응을 분석했지만, 변환율은 0%였다. 아마이드 결합의 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00201
Figure pct00202
Figure pct00203
(실시예 40)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: 유기 염기 비존재하, TMSOTf만으로 실시.)
Figure pct00204
반응 용기에 원료를 18.3mg 달아 취하고, 0.2ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 후 반응 용기를 빙랭했다. 계속해서 질소 분위기하 TMSOTf 0.0077ml(3.6eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 1.5시간 후에 반응을 분석했지만, 변환율(=목적물/(목적물+출발물)) 68%의 시점에서 복수개의 아마이드 결합 절단체의 생성을 확인했다.
Figure pct00205
Figure pct00206
Figure pct00207
화합물 1g는 구조 불명
(실시예 41)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: 유기 염기 비존재하, TMSOTf와 트라이아이소프로필실레인으로 실시.)
Figure pct00208
반응 용기에 원료를 20.5mg 달아 취하고, 0.2ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 후 반응 용기를 빙랭했다. 계속해서 질소 분위기하 트라이아이소프로필실레인 0.0097ml(3.6eq)와 TMSOTf 0.0085ml(3.6eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 1시간 후에 반응을 분석했지만, 변환율(=목적물/(목적물+출발물)) 43%의 시점에서 복수개의 아마이드 결합 절단체의 생성을 확인했다.
Figure pct00209
Figure pct00210
Figure pct00211
화합물 1g는 구조 불명
(실시예 42)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TFA법)
Figure pct00212
반응 용기에 원료를 35.3mg 달아 취하고, 10v/w의 염화 메틸렌에 용해시킨 후 반응 용기를 빙랭했다. 계속해서 질소 분위기하 트라이플루오로아세트산 0.004ml(2.3eq)를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 10분 후에 반응을 분석했지만, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))은 0%였으므로 트라이플루오로아세트산 0.004ml(2.3eq)를 추가했다. 시약 첨가 10분 후에 반응을 재차 분석했지만, 변환율은 0%였으므로 트라이플루오로아세트산 0.0094ml(5.4eq)를 추가했다. 시약 추가 10분 후에 실온으로 승온하고, 반응 용액의 교반을 계속했다. 실온 승온 후, 4시간 경과 시점에서 반응을 분석한 바, 변환율 2% 시점에서 아마이드 결합 절단체 1e의 생성을 확인했다.
Figure pct00213
Figure pct00214
Figure pct00215
화합물 1g는 구조 불명
(실시예 43)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TFA-TIPS-H2O-PhOH법)
참조 문헌: J. Am. Chem. Soc., 2015, 137, 13488
Figure pct00216
반응 용기에 원료를 15.9mg 달아 취하고, 0.0125ml의 물과 0.0125ml의 트라이아이소프로필실레인을 첨가하고, -10℃로 냉각했다. 계속해서 트라이플루오로아세트산 0.48ml를 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 2시간 후에 반응을 분석한 바, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 89% 시점에서 아마이드 결합 절단체 1d 및 1e의 생성을 확인했다. 또한, 시약 첨가 14.5시간 후에 반응을 재분석한 바 원료의 소비와 아마이드 결합 절단체 1d 및 1e의 생성의 증대를 확인했다.
Figure pct00217
Figure pct00218
Figure pct00219
Figure pct00220
(실시예 44)
Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(pip)-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl(화합물 1a)의 탈Boc화 반응(11mer: TFA-TIPS-H2O-PhOH법)
참조 문헌: J. Am. Chem. Soc., 2012, 134, 13244
Figure pct00221
반응 용기에 페놀을 10.3mg 달아 취하고, 0.034ml의 물과 0.025ml의 트라이아이소프로필실레인을 첨가하고, -10℃로 냉각했다. 계속해서 트라이플루오로아세트산 0.50ml를 첨가하고, 그 6분 후에 원료 13.4mg을 가하고 반응액을 교반했다. 원료 첨가 2시간 후에 반응을 분석한 바, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 82% 시점에서 아마이드 결합 절단체 1d 및 1e의 생성을 확인했다. 또한, 원료 첨가 7시간 후에 반응을 재분석한 바 원료의 소비와 아마이드 결합 절단체 1d 및 1e의 생성의 증대를 확인했다.
Figure pct00222
Figure pct00223
Figure pct00224
Figure pct00225
실시예 2, 3, 실시예 26∼실시예 44에 나타낸 바와 같이, 이미데이트, 아마이드, 케텐 아세탈, 엔올 에터, 이민, 아민, 다이아민, 다이알킬카보다이이미드가 구전자종 포착제로서 우수하여, 주쇄의 손상이 억제되어, 11mer와 같은, 주쇄가 긴 펩티드의 탈Boc화 반응이 효율 좋게 진행됨을 알 수 있었다.
D. 탈tBu화 반응의, TFA법과 TMSOTf-HMDS법의 비교 실험(표 113)
Figure pct00226
(실시예 45)
화합물 13a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 13a를 29.8mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 TFA(10eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 4시간 후, TFA(10eq.)를 추가했다. 시약 추가로부터 추가로 1.5시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 52%이고, 22%의 순도 저하와 함께 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 10% 관측되었다.
(실시예 46)
화합물 13a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 13a를 30.0mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 HMDS(3.0eq.)와 TMSOTf(2.0eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 2시간 후, 실온까지 승온시켰다. 승온으로부터 2.5시간 후, HMDS(3eq.)와 TMSOTf(2eq.)를 추가했다. 시약 추가 30분 후, LCMS로 반응을 분석하여, 99% 이상의 변환율인 것을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00227
(실시예 47)
화합물 14a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 14a를 29.7mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 TFA(20eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 7시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 92%이고, 46%의 순도 저하와 함께 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 24% 관측되었다.
(실시예 48)
화합물 14a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 14a를 30.0mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 HMDS(3.0eq.)와 TMSOTf(2.0eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 6시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다. 반응 종료 확인 후, 반응액에 인산 수소 칼륨 44.5mg(8.0eq), 물 0.30ml 가하고, 빙랭하 30분간 교반했다. 이 반응액에, 아세트산 에틸 1ml를 첨가하고 0.30ml의 Brine으로 세정했다. 유기층을 셀라이트에 의해 여과한 후, 농축하고 추가로 감압 건조하여, 26.8mg의 2b를 99%의 순도로 얻었다.
Figure pct00228
(실시예 49)
화합물 15a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 15a를 29.9mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 TFA(20eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 5.5시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 50%이고, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 28% 관측되었다.
(실시예 50)
화합물 15a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 15a를 30.0mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 HMDS(3.6eq)와 TMSOTf(2.4eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 5시간 후, HMDS(1.8eq.)와 TMSOTf(1.2eq.)를 추가했다. 시약 추가 1시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00229
(실시예 51)
화합물 16a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 16a를 30.2mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 TFA(20eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 4.5시간 후, TFA(10eq.)를 추가했다. 시약 추가로부터 추가로 1시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 65%이고, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 7.0% 관측되었다.
(실시예 52)
화합물 16a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 16a를 29.9mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 HMDS(3.6eq)와 TMSOTf(2.4eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 4시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00230
(실시예 53)
화합물 17a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 17a를 50.0mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 TFA(5eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 2시간 후, TFA(5eq.)를 첨가했다. 추가로 15.5시간 후, 실온까지 승온시켰다. 승온으로부터 3시간 후, TFA(10eq.)를 첨가했다. 추가로 1.5시간 후, TFA(20eq.)를 첨가했다. 시약 추가로부터 추가로 1.5시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 54%이고, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 26% 관측되었다.
(실시예 54)
화합물 17a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 17a를 30.0mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 HMDS(5.4eq.)와 TMSOTf(3.6eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 4시간 후, 실온까지 승온시켰다. 승온으로부터 3시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00231
(실시예 55)
화합물 18a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 18a를 29.9mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 TFA(20eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 4.5시간 후, TFA(10eq.)를 추가하고, 실온까지 승온시켰다. 시약 추가로부터 추가로 2시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 82%이고, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 34% 관측되었다.
(실시예 56)
화합물 18a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 18a를 29.8mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 HMDS(7.2eq.)와 TMSOTf(4.8eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 3시간 후, 실온까지 승온시켰다. 승온으로부터 3.5시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
Figure pct00232
(실시예 57)
화합물 19a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 19a를 50.0mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 TFA(5eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 2시간 후, TFA(5eq.)를 첨가했다. 추가로 15.5시간 후, 실온까지 승온시켰다. 승온으로부터 3시간 후, TFA(10eq.)를 첨가했다. 추가로 1.5시간 후, TFA(20eq.)를 첨가했다. 시약 추가로부터 추가로 1.5시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 82%이고, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 14% 관측되었다.
(실시예 58)
화합물 19a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 19a를 30.0mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 0℃에서 HMDS(3.6eq.)와 TMSOTf(2.4eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 3.5시간 후, 실온까지 승온시키고, HMDS(3.6eq.)와 TMSOTf(2.4eq.)를 추가했다. 시약 추가 1시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
실시예 45∼실시예 58에 나타낸 바와 같이, 종래의 TFA법과 비교하여, 실릴화제와 구전자종 포착제를 조합한 TMSOTf-HMDS법은, 탈tBu화 반응에 있어서, 주쇄의 손상을 일으키지 않고, 효율적으로 탈보호 반응이 진행됨을 알 수 있었다.
Figure pct00233
Figure pct00234
(생성물의 동정)
Figure pct00235
Figure pct00236
Figure pct00237
화합물 13c∼19h의 구조를 이하에 나타낸다.
Figure pct00238
Figure pct00239
Figure pct00240
Figure pct00241
(실시예 59)
Fmoc-MeAsp(OtBu)-pip(화합물 12a)의 탈t-Bu화 반응(1mer: TFA법)
Figure pct00242
반응 용기에 원료를 48.0mg 달아 취하고, 9v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 계속해서 1v/w의 트라이플루오로아세트산을 첨가하고, 반응액을 교반했다. 시약 첨가 19시간 후, LCMS(HPLC method 4)로 반응을 분석하여, 변환율(=목적물/(목적물+출발물))이 77%인 것을 확인했다. 이 시점에서 아마이드 결합이 손상을 받은 화합물로서 전이체 12c와 가수분해체 12d가 관측되었다. 또한, 구조 불명의 불순물도 생성되었다.
Figure pct00243
원료 순도 분석(HPLC method 1)
Figure pct00244
Figure pct00245
(실시예 60)
Fmoc-MeAsp(OtBu)-pip(화합물 12a)의 탈t-Bu화 반응(1mer: TMSOTf-HMDS법)
Figure pct00246
실시예 2에 준하여 실험을 행했다.
Figure pct00247
Figure pct00248
Figure pct00249
E. 탈t-Bu화 반응의, TFA법과 TMSOTf-HMDS법의 비교 실험(표 122)
Figure pct00250
(실시예 61)
화합물 20a의 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 기질 20a를 27.1mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 TFA(10eq.)를 첨가했다. 시약 첨가 8시간 후 LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 76%이고, 11%의 순도 저하와 함께 아마이드 결합 절단에 의한 부생물 8.1%의 생성이 확인되었다. 기질 21a에 관해서도 마찬가지로 반응을 실시했다. (표 122)
(실시예 62)
화합물 20a의 탈t-Bu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 20a를 27.6mg 달아 취하고, 10v/w의 아세트산 에틸에 용해시켰다. 이 용액에 실온에서 HMDS(2.4eq)와 TMSOTf(2.4eq)를 순차적으로 첨가했다. 시약 첨가 2시간 후, LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 이 때, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다.
기질 21a에 관해서도 마찬가지의 반응을 실시했다. (표 122)
Figure pct00251
(생성물의 동정)
Figure pct00252
Figure pct00253
F. 탈수지 반응의, TFA법과 TMSOTf-HMDS법의 비교 실험(표 124)
Figure pct00254
(실시예 65)
수지 22a의 탈수지 반응(TFA법)
반응 용기에 수지 22a를 30.2mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인을 가하고 수지를 팽윤시켰다. 다이클로로메테인을 반응 용액으로부터 제거한 후, 실온에서 10v/w%의 TFA(5% 다이클로로메테인 용액)를 첨가하고, 25℃에서 진탕시켰다. 진탕 개시 1시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 7.8% 생겼다. 수지 23a∼24a에 관해서도 마찬가지로 반응을 실시했다. (표 124)
(실시예 66)
수지 22a의 탈수지 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 22a를 23.0mg 달아 취하고, 10v/w의 1,2-다이클로로에테인을 가하고 수지를 팽윤시켰다. 1,2-다이클로로에테인을 반응 용액으로부터 제거한 후, 10v/w의 1,2-다이클로로에테인에 HMDS(3.6eq.)와 TMSOTf(2.4eq.)를 용해시킨 용액을 반응 용기에 첨가했다. 25℃에서 4시간 진탕 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 아마이드 결합 절단은 확인되지 않았다. 수지 23a∼24a에 관해서도 마찬가지로 반응을 실시했다. (표 124)
Figure pct00255
(생성물의 동정)
HPLC method A
Instrument: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 4.6mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (4min.) ⇒ 100% (4.5min.) ⇒ 5% (4.6min.) ⇒ 5% (6min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm
Injection vol.: 5μL
Sample prep.: 25μL/0.975ml MeCN
HPLC method B
Instrument: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 4.6mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (4min.) ⇒ 100% (4.5min.) ⇒ 5% (4.6min.) ⇒ 5% (6min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm
Injection vol.: 5μL
Sample prep.: 5μL/1.00ml (MeCN 0.950ml + 0.1M phosphate buffer (pH 8.0) 0.050ml)
HPLC method C
Instrument: Waters ACQUITY UPLC H-Class
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 4.6mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.05% TFA/water, B) 0.05% TFA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (4min.) ⇒ 100% (4.5min.) ⇒ 5% (4.6min.) ⇒ 5% (6min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm
Injection vol.: 5μL
Sample prep.: 5μL/1.00ml MeCN
HPLC method D
Instrument: Shimadzu LCMS-2020
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 2.1mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.1% FA/water, B) 0.1% FA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (4.5min.) ⇒ 100% (5min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm - 400nm
Injection vol.: 1μL
HPLC method E
Instrument: SHIMADZU LCMS-2020
Column: Ascentis Express C18 2.1mm x 50mm, Supelco
Eluent: A) 0.1% FA/water, B) 0.1% FA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (1.5min.) ⇒ 100% (2min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: PDA 210nm - 400nm
Injection vol.: 1μL
HPLC method F
Instrument: Waters Acquity UPLC/SQD2
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 2.1mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.1% FA/water, B) 0.1% FA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (1min.) ⇒ 100% (1.4min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm - 400nm
Injection vol.: 1μL
HPLC method G
Instrument: Waters Acquity UPLC/SQD2
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 2.1mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.1% FA/water, B) 0.1% FA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (1min.) ⇒ 100% (1.4min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm - 400nm
Injection vol.: 1μL
HPLC method H
Instrument: Waters Acquity UPLC/SQD
Column: Ascentis Express C18 (2.7μm, 2.1mm x 50mm), Supelco
Eluent: A) 0.1% FA/water, B) 0.1% FA/CH3CN
Gradient (B): 5% (0min.) ⇒ 100% (4.5min.) ⇒ 100% (5.0min.)
Flow rate: 1.0ml/min.
Detection: 210nm - 400nm
Injection vol.: 2μL
Figure pct00256
Figure pct00257
G. 탈수지 반응의, TFA법과 TMSOTf-HMDS법의 비교 실험(표 126)
Figure pct00258
(실시예 71)
수지 25a의 탈CTC 수지와 탈t-Bu화 반응(TFA법)
반응 용기에 수지 25a를 20.0mg 달아 취하고, 10v/w의 다이클로로메테인을 가하고 수지를 팽윤시켰다. 다이클로로메테인을 반응 용액으로부터 제거한 후, 실온에서 10v/w%의 TFA(10% 다이클로로메테인 용액)를 첨가하고, 25℃에서 진탕시켰다. 진탕 개시 1시간 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 17%이고, 아마이드 결합 절단에 의한 부생물이 3.8% 생겼다. 수지 26a에 관해서도 마찬가지로 반응을 실시했다. (표 126)
(실시예 72)
수지 25a의 탈CTC 수지와 탈tBu화 반응(TMSOTf-HMDS법)
반응 용기에 기질 25a를 23.0mg 달아 취하고, 10v/w의1,2-다이클로로에테인을 가하고 수지를 팽윤시켰다. 1,2-다이클로로에테인을 반응 용액으로부터 제거한 후, 10v/w의 1,2-다이클로로에테인에 HMDS(10.7eq.)와 TMSOTf(7.1eq.)를 용해시킨 용액을 반응 용기에 첨가했다. 25℃에서 4시간 진탕 후, LCMS로 반응을 분석하여, t-Bu 에스터의 소실을 확인했다. 수지 26a에 관해서도 마찬가지로 반응을 실시했다. (표 126)
Figure pct00259
(생성물의 동정)
Figure pct00260
Figure pct00261
H. 탈Boc화 반응, 탈t-Bu화 반응, 탈수지 반응을 위한 원료 합성
(실시예 75)
탈Boc화 반응의 3mer의 원료 합성(Boc-Asp(OBn)-pip)
Figure pct00262
실시예 88에 준하여 실시했다.
Figure pct00263
Figure pct00264
(실시예 76)
2mer의 합성(Boc-MeVal-Asp(OBn)-pip)
Figure pct00265
반응 용기에 원료를 5.714g 달아 취하고, MeCN 29ml를 가했다. 메테인설폰산 2.3ml를 첨가 후, 유욕을 45℃로 설정하여 반응 용기를 가열했다. 70분 후 반응 용기를 실온으로 되돌린 후, 반응 용기를 빙욕에 담갔다. 반응 용액에 다이아이소프로필에틸아민을 14ml 가한 후, 계속해서 Boc-MeVal-OH 4.046g과 DMT-MM을 5.284g 가했다. 시약 첨가 1시간 후, 반응 용액을 농축했다. 농축액에 아세트산 에틸과 5% 탄산 칼륨 수용액을 가하여 반응을 정지했다. 분액 처리에 의해 유기층을 분리 후, 유기층을 5% 탄산 칼륨 수용액으로 2회, 물로 1회, 5% 황산수소 칼륨 수용액으로 3회, 10% 염화 나트륨 수용액으로 1회, 포화 식염수로 1회 세정했다. 유기층을 감압 농축하여, 담황색의 고체를 7.055g(수율 96%) 얻었다.
Figure pct00266
Figure pct00267
(실시예 77)
3mer의 합성(Boc-MePhe-MeVal-Asp(OBn)-pip)
Figure pct00268
반응 용기에 원료를 7.055g 달아 취하고, MeCN 35ml를 가했다. 메테인설폰산 2.2ml를 첨가 후, 유욕을 45℃로 설정하여 반응 용기를 가열했다. 70분 후 반응 용기를 실온으로 되돌린 후, 반응 용액을 농축했다. 농축 후에 아세트산 에틸 35ml를 가하고 반응 용기를 빙욕에 담근 후, 탄산수소 나트륨을 9.466g 가했다. 계속해서 물을 35ml 가한 후, Boc-MePhe-OH를 4.61g, DMT-MM를 7.73g 가했다. 6시간 후 LCMS로 반응을 추적하여, 원료 소비율이 99%인 것을 확인했다. 분석으로부터 1시간 후, 아세트산 에틸과 물을 가하고 분액 처리를 행하여 유기층을 얻었다. 유기층을 5% 탄산 칼륨 수용액으로 3회, 물로 1회, 5% 황산수소 칼륨 수용액으로 3회, 포화 식염수로 1회 세정했다. 유기층을 감압 농축하고, 얻어진 조생성물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여, 목적물을 백색 고체로서 6.9757g(수율75%) 얻었다.
Figure pct00269
Figure pct00270
(실시예 78)
Boc-MeGly-OAllyl의 합성
Figure pct00271
반응 용기에 원료를 9.286g 달아 취하고, DMF 46ml를 가했다. 반응 용기를 빙랭 후, 탄산 칼륨 10.20g 및 알릴 브로마이드 4.15ml를 가했다. 15분 후 반응 용기를 실온으로 되돌린 후, 철야 교반했다. 반응 용기에 MTBE를 가하고 반응을 물로 정지했다. 분액 후, 유기층을 포화 식염수로 1회 세정했다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조하고, 여과, 감압 농축했다. 얻어진 조생성물을 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여, 목적물 31을 투명 유상 액체로서 10.083g(수율 90%) 얻었다.
Figure pct00272
(실시예 79)
Boc-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl의 합성
Figure pct00273
실시예 76에 준하여 탈보호와 축합 반응을 실시했다.
Figure pct00274
Figure pct00275
(실시예 80)
Boc-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl의 합성
Figure pct00276
전술한 방법과 마찬가지로 탈보호와 축합 반응을 실시했다.
(실시예 80a)
Teoc-MeLeu-OH의 펜타플루오로페놀(Pfp-OH)에 의한 에스터화 반응에 의한 Teoc-MeLeu-OPfp의 합성
Figure pct00277
반응 용기에 926mg의 원료, 736mg의 펜타플루오로페놀(Pfp-OH)을 각각 달아 취하고, 7.8ml의 아세트산 아이소프로필을 가했다. 767mg의 EDCI 염산염을 가하고 실온에서 2시간 교반했다. 8ml의 0.5N 염산으로 2회, 8ml의 5% 탄산 칼륨 수용액으로 2회 유기층을 세정하고, 2g의 황산 나트륨을 유기층에 가했다. 고체를 여과에 의해 제거하고, 유기층을 감압 농축함으로써, 목적물을 투명 유상 액체로서 얻었다. 얻어진 화합물은 정제하지 않고 다음의 반응에 이용한다.
Figure pct00278
(실시예 80b)
Teoc-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl의 합성
Figure pct00279
화합물 33의 말단의 보호기를 탈보호 후, 펜타플루오로페닐 에스터체(화합물 80a)를 작용시켜 아마이드 결합을 형성하는, Meneses 등의 방법(J. Org. Chem., 2010, 75, 564-569)을 이용한 축합 반응에 의해, 화합물 80b를 합성할 수 있다.
Figure pct00280
Figure pct00281
(실시예 81)
Boc-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OAllyl의 합성
Figure pct00282
실시예 88에 준하여 반응을 실시했다.
Figure pct00283
Figure pct00284
(실시예 82)
Boc-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Thr(OBn)-MeGly-OH의 합성
Figure pct00285
반응 용기에 원료 1.1180g을 칭량하고, THF, 메탄올, 물을 각각 2.2ml 가했다. 다음에 수산화 리튬 일수화물 102.8mg을 가하고, 실온에서 5시간 교반했다. 반응 종결을 LC로 확인한 후, 반응 용액을 감압 농축했다. 농축물에 아세트산 에틸을 가한 후, 0.5N의 염산을 가하여, 반응을 정지했다. 분액 처리에 의해 유기층을 분리 후, 0.5N의 염산으로 2회, 5% 염화 나트륨 수용액으로 2회 세정했다. 감압 농축에 의해 용매를 증류제거하여, 백색 고체를 918.8mg(수율 86%) 얻었다.
Figure pct00286
Figure pct00287
(실시예 83)
Fmoc-Asp(OtBu)-pip의 합성
Figure pct00288
실시예 88에 준하여 반응을 실시했다.
Figure pct00289
Figure pct00290
(실시예 84)
FmocAsp(OH)pip의 합성
Figure pct00291
반응 용기에 원료 45.4g을 칭량하고, 트라이플루오로에탄올 454ml를 가했다. 계속해서 염화 트라이메틸실레인 24ml를 가하고 실온에서 교반했다. 반응 개시 2 시간 반 후에 물 910ml를 2분할로 가하여 결정을 석출시켰다. 결정을 여과 후, 건조하여, 목적물 36을 25.8g(수율 61%)으로 얻었다.
Figure pct00292
Figure pct00293
(실시예 85)
Fmoc-Asp(OH)-pip의 CTC 수지로의 담지
Figure pct00294
실시예 112에 기재된 방법과 마찬가지로 담지 공정을 실시했다. 생성물의 분석은, 5mer 신장 후, 탈수지 공정을 거쳐 행했다.
Figure pct00295
(실시예 86)
고상 합성(2mer 신장)
Figure pct00296
고상 합성용의 컬럼에서 반응을 실시했다.
1) 탈보호 공정: 수지 Fmoc-MeAla-OCTC(37, 이론상의 아미노산 담지량 9.49mmol)에 DMF(104ml)를 가하고, 30℃에서 피페리딘의 20% DMF 용액(104ml)을 가하고, 30℃에서 15분간 진탕시켰다. 용액을 배출 후, 재차 피페리딘의 20% DMF 용액(104ml)을 가하고, 30℃에서 15분간 진탕시켰다. 용액을 배출 후, DMF(130ml)에 의한 수지의 세정을 2분×7회 행했다.
2) 신장 공정: 고상용 컬럼과는 별도의 반응 용기에 Fmoc-MeVal-OH 6.62g과 Oxyma 2.93g을 DMF 52ml 중에 용해시킨 후, DIC 5.87ml를 가하고 30분간 30℃에서 진탕했다. 이 용액을 고상 합성용 컬럼에 가하고, 30℃에서 2시간 진탕했다. 용액을 배출 후, DMF(130ml)에 의한 수지의 세정을 2분×6회 행했다.
(실시예 87)
고상 합성(2mer로부터 5mer로의 축차 신장과 탈수지 반응)
Figure pct00297
실시예 86에 기재된 방법에 따라, 탈보호와 신장 공정을 반복하여, Boc-MeIle-Ala-MePhe-MeVal-Asp(OCTC)-pip를 얻었다. 얻어진 수지에 대해, 다이아이소프로필에틸아민, 트라이플루오로에탄올, 염화 메틸렌의 혼합 용매 147ml(다이아이소프로필에틸아민 2%, 용매 체적비 1:1)를 가하고 30℃에서 2시간 반 진탕했다. 배출된 탈수지된 펩티드 용액을 모았다. 탈수지 용액 배출 후, 레진을 트라이플루오로에탄올과 염화 메틸렌의 혼합 용매(체적비 1:1) 25ml로 2회 세정하고, 이들의 용액을 농축했다. 농축물을 아세트산 에틸 130ml에 용해하고, 탄산 칼륨 수용액으로 2회, 황산수소 칼륨으로 2회, 염화 나트륨 수용액으로 1회 세정한 후, 유기층을 감압 농축했다. 건조 후, 백색 고체를 4.9821g(69% 수율) 얻었다.
Figure pct00298
Figure pct00299
(실시예 88)
Fmoc-MeAsp(OtBu)-pip의 합성
Figure pct00300
반응 용기에 49.6g의 EDCI 염산염을 달아 취하고, DMF 400ml를 가했다. 반응 용기를 0℃로 냉각 후, Fmoc-MeAsp(OtBu)-OH를 100.050g 가했다. 다음에 적하 깔때기를 이용하여 Oxyma 40.1g의 DMF 100ml 용액을 가한 후, 피페리딘 34.9ml를 가했다. 피페리딘의 적하 종료로부터 4시간 30분 경과 후에 LCMS로 반응을 분석하여, 원료의 소실을 확인했다. 아세트산 에틸로 반응 용액을 희석 후, 0.5N 염산을 500ml 가하여 반응을 정지했다. 유기층을 분리 후, 유기층의 물 세정을 2회, 5% 탄산 나트륨 수용액으로의 세정을 2회, 5% 염화 나트륨 수용액으로의 세정을 2회 행했다. 얻어진 유기층을 감압 농축했다. 얻어진 조생성물을 아세트산 에틸과 헵테인으로부터 재결정하여, 목적물을 86.230g(수율 75%) 얻었다.
Figure pct00301
(실시예 89)
11잔기 펩티드(tBu체, Cbz-MeAla-MePhe-Leu-MeLeu-Val-MeGly-MeIle-Ser(OtBu)-MePhe-MeVal-Asp(OtBu)-pip (22))의 합성 중간체(Cbz-Asp(OtBu)-pip(41))의 합성
Figure pct00302
반응 용기에 Cbz-Asp(OtBu)-OH를 17.5g 달아 취하고, 175ml의 아세트산 에틸을 가했다. 반응액을 0℃까지 냉각 후, 피페리딘(3eq.), 다이아이소프로필에틸아민(6eq.) 및 T3P의 1.7M 아세트산 에틸 용액(3eq.)을 각각 첨가했다. 반응액을 실온까지 승온하고, 10분간 실온에서 교반한 후, 175ml의 5% 탄산 칼륨 수용액을 가했다. 수층을 제거한 후, 유기층을 175ml의 5% 황산수소 칼륨 수용액으로 2회 세정했다. 얻어진 유기층을 농축하고, 추가로 감압 건조함으로써 20g의 Cbz-Asp(OtBu)-pip(41)를 수율 100%로 얻었다.
(실시예 90)
H-Asp(OtBu)-pip(42)의 합성
Figure pct00303
2개의 반응 용기에 Cbz-Asp(OtBu)-pip(41)를 각각 9.5g씩 달아 취하고, 각각의 용기에 50ml의 CPME를 가했다. 10% Pd/C(20w/w%)를 양 용기에 가한 후, 30℃, 3bar의 수소 분위기하에서 반응시켰다. 반응 개시 3시간 후, 2개의 반응 용액을 혼합하고, 여과 및 100ml의 CPME에 의해 세정했다. 얻어진 혼합액을 농축하고, 추가로 감압 건조함으로써 12.3g의 H-Asp(OtBu)-pip(42)를 수율 99%로 얻었다.
H-Asp(OtBu)-pip(42)로부터 이하에 기재한 19공정에 의해 11mer(22)를 합성했다. 합성한 중간체는 아래에 나타냈다.
Figure pct00304
(실시예 91)
펩티드쇄의 신장(신장 method A)
반응 용기에 42를 8.6g 달아 취하고, 108ml의 CPME를 가했다. Cbz-MeVal-OH(1.1eq.), 다이아이소프로필에틸아민(3eq.)을 가한 후, BEP(1.5eq.)를 21.5ml의 MeCN에 용해시킨 용액을 첨가했다. 실온에서 3분간 교반 후, 15ml의 10% 황산수소 나트륨 수용액을 가했다. 수층을 제거한 후, 유기층에 15ml의 5% 탄산 칼륨 수용액과 트라이메틸아민 염산염(3eq.)을 실온에서 가했다. 혼합액을 40℃로 승온한 후, 90분간 40℃에서 교반했다. 실온까지 냉각 후 수층을 제거한 후, 얻어진 유기층을 15ml의 5% 탄산 칼륨 수용액에 의해 세정했다. 얻어진 유기층을 농축하고, 추가로 감압 건조함으로써 17g의 43을 정량적으로 얻었다.
(실시예 92)
N말단 Cbz의 제거(탈보호 method A)
2개의 반응 용기에 43을 각각 9.5g씩 달아 취하고, 각각의 용기에 50ml의 CPME를 가했다. 10% Pd/C(20 w/w%)를 양 용기에 가한 후, 35℃, 3bar의 수소 분위기하에서 반응시켰다. 반응 개시 2시간 후, 2개의 반응 용액을 혼합하고, 여과 및 100ml의 CPME에 의해 세정했다. 얻어진 혼합액을 농축하고, 추가로 감압 건조함으로써 14g의 44를 수율 100%로 얻었다.
(실시예 93)
펩티드쇄의 신장(신장 method B)
반응 용기에 44를 14g 달아 취하고, 126ml의 CPME와 14ml의 아세토나이트릴을 각각 가했다. Cbz-MePhe-OH(1.1eq.), 다이아이소프로필에틸아민(8eq.) 및 T3P의 1.7M 아세트산 에틸 용액(3eq.)을 실온에서 순차적으로 가했다. 실온에서 1시간 교반한 후, 140ml의 5% 황산수소 칼륨 수용액을 가했다. 수층을 제거한 후, 140ml의 5% 탄산 칼륨 수용액과 트라이메틸아민 염산염(3eq.)을 실온에서 가했다. 실온에서 30분간 교반한 후, 수층을 제거했다. 얻어진 유기층을 140ml의 5% 탄산 칼륨 수용액에 의해 세정했다. 얻어진 유기층을 농축하고, 추가로 감압 건조함으로써 24.1g의 45를 수율 96%로 얻었다.
(실시예 94)
N말단 Cbz의 제거(탈보호 method B)
2개의 반응 용기에 15a를 각각 9.2g씩 달아 취하고, 각각의 용기에 46ml의 CPME를 가했다. 10% Pd/C(20 w/w%)를 양 용기에 가한 후, 35℃, 5bar의 수소 분위기하에서 반응시켰다. 반응 개시 6시간 후, 실온까지 냉각하고, 실온, 공기 분위기하에서 철야 보관했다. 추가로 45℃, 5bar의 수소 분위기하에서 4시간 반응시켰다. 2개의 반응 용액을 혼합하고, 여과 및 92ml의 CPME에 의해 세정했다. 얻어진 혼합액을 농축하고, 추가로 감압 건조함으로써 15.9g의 51을 수율 98%로 얻었다.
마찬가지의 수법에 의해 2mer로부터 11mer의 펩티드를 합성했다. 반응 시간과 이용한 원료의 질량을 제외하고, 상기 기재의 반응 조건과 상이한 점은 「반응 method」의 열에 병기했다.
Figure pct00305
합성한 중간체 중, 13a, 14a, 15a, 16a, 17a, 18a, 및 19a를 탈tBu화 실험에 이용했다. 또한, 탈tBu화 반응에 이용한 화합물은 표 153과 같이 LCMS 분석을 행했다.
Figure pct00306
I. C말단 tBu 보호 다이펩티드의 합성
Figure pct00307
(실시예 110)
Fmoc-MeAla-MeAla-OtBu(20a)의 합성
반응 용기에 H-MeAla-OtBu 염산염을 99.7mg과 인산수소 이칼륨을 710mg 각각 달아 취하고, 2-MeTHF와 물을 H-MeAla-OtBu 염산염에 대해 10v/w씩 가했다. Fmoc-MeAla-OH(167mg)와 DMT-MM(211mg)을 0℃에서 순차적으로 가한 후, 실온까지 승온시켰다. 실온에서 16시간 교반 후, LCMS로 반응을 분석한 바, Fmoc-MeAla-OH의 소실이 확인되었다. 4ml의 물과 6ml의 2-MeTHF를 이용하여 반응액을 분액 깔때기로 옮긴 후, 수층을 제거했다. 얻어진 유기층을 각각 포화 식염수(3ml), 15% 황산수소 나트륨 수용액(3ml), 5% 탄산 나트륨 수용액(3ml)에 의해 세정 후, 감압 농축에 의해 용매를 제거했다. 얻어진 조생성물을 하기 조건을 이용한 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제한 후, 목적물을 포함하는 분획을 농축하고 추가로 감압 건조하여, 227.6mg의 20a를 수율 96%, 순도 99.5%로 얻었다.
(실시예 111)
Fmoc-MePhe-MeAla-OtBu(21a)의 합성
반응 용기에 H-MeAla-OtBu 염산염(99.8mg), Fmoc-MePhe-OH(205mg)를 각각 달아 취하고, H-MeAla-OtBu 염산염에 대해 8v/w의 아세트산 아이소프로필과 동일하게 2v/w의 아세토나이트릴 및 다이아이소프로필에틸아민(4eq.)을 순차적으로 가했다. T3P의 1.7M 아세트산 에틸 용액(2.5eq.)을 실온에서 가했다. 실온에서 4시간 교반 후, T3P의 1.7M 아세트산 에틸 용액(0.5eq.)과 다이아이소프로필에틸아민(0.8eq.)을 첨가했다. 시약 첨가 30분 후, LCMS로 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 98.5%였다. NMI(2eq.)를 실온에서 가한 후, 50℃에서 5분간 교반시켰다. 6ml의 아세트산 에틸을 이용하여 반응액을 분액 깔때기로 옮긴 후, 수층을 제거했다. 얻어진 유기층을 각각 5% 탄산 나트륨 수용액(3ml), 5% 황산수소 칼륨 수용액(3ml), 5% 탄산 나트륨 수용액(3ml)에 의해 세정했다. 유기층을 황산 나트륨을 이용하여 30분간 탈수한 후, 여과, 감압 농축에 의해 용매를 제거했다. 얻어진 조생성물을 하기 조건을 이용한 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제한 후, 목적물을 포함하는 분획을 농축하고 추가로 감압 건조하여, 227.6mg의 21a를 수율 96%, 순도 99.5%로 얻었다.
Figure pct00308
J. CTC 수지 담지 다이펩티드의 합성
Figure pct00309
(실시예 112)
Fmoc-MeAla-OH의 CTC 수지로의 담지
반응용 컬럼에 4.47g의 Cl-CTC 수지를 달아 취하고, 다이클로로메테인(36ml)을 가하고 60분간 30℃에서 진탕시켰다. 다이클로로메테인을 배출 후, Fmoc-MeAla-OH(1.24g)와 다이아이소프로필에틸아민(1.4ml)을 다이클로로메테인(36ml)에 용해시킨 용액을 실온에서 가했다. 30℃에서 3시간 진탕시킨 후, LCMS에 의해 반응을 분석한 바, 반응 전환율은 96.0%였다. 반응 용액을 배출 후, 메탄올(3.6ml)과 다이아이소프로필에틸아민(1.8ml)을 DMF(30ml)에 용해시킨 용액을 실온에서 가했다. 30℃에서 1.5시간 진탕시킨 후, 반응 용액을 배출했다. 수지를 36ml의 DMF로 4회 세정한 후, 추가로 감압 건조함으로써 4.80g의 55를 얻었다. 56도 마찬가지의 수법에 의해 합성했다. 생성물의 분석은 다음 공정에서 행했다.
Figure pct00310
Figure pct00311
(실시예 114)
Fmoc-MeAla-MeAla-OCTC(22a), Fmoc-MeVal-MeAla-OCTC(23a), Fmoc-Pro-MeAla-OCTC(24a)의 합성
펩티드 고상 합성기 prelude X를 이용하여 다이펩티드 22a∼24a를 동시 합성했다. 반응 용기 3개에 수지 Fmoc-MeAla-OCTC(55)를 각각 676mg, 687mg, 705mg을 달아 취했다. 이것에 DMF(8ml)를 가하고, 실온에서 1시간 정치하여 수지를 팽윤시켰다. DMF를 배출 후, 피페리딘의 20% DMF 용액(8ml)을 가하고, 실온에서 15분간 진탕시켰다. 용액을 배출 후, 재차 피페리딘의 20% DMF 용액(8ml)을 가하고, 실온에서 15분간 진탕시켰다. 하기 칵테일 1∼3을 RV1∼3에 각각 가한 후, DIC의 12.5% DMF 용액(4eq.)을 가했다. 실온에서 3시간 질소를 취입하면서 진탕시켰다. 용액을 배출 후, DMF(8v/w)에 의한 수지의 세정을 2분×5회, MTBE(8v/w)에 의한 수지의 세정을 2분×4회, 모두 실온에서 진탕시킴으로써 행했다. 얻어진 수지를 감압 건조함으로써 30a, 31a 및 32a를 각각 얻었다. 얻어진 화합물의 동정은, 실시예 65, 67, 69의 탈수지 반응에 의해 행했다.
얻어진 3종의 수지를 3개의 반응 용기에 약 20mg씩 달아 취하고, 피페리딘의 20% DMF 용액(100ml)을 각각 가하고, 2시간 실온에서 교반했다. 용액의 흡광도로부터 다이벤조풀벤을 정량함으로써, 각 다이펩티드의 담지율을 산출했다. (표 156)
(실시예 115)
Fmoc-MeAla-MeAsp(OtBu)-OCTC(25a)와 Fmoc-MeLeu-MeAsp(OtBu)-OCTC(26a)의 합성
펩티드 고상 합성기 prelude X를 이용하여 다이펩티드 25a∼26a를 동시 합성했다. 반응 용기 2개에 수지 Fmoc-MeAsp(OtBu)-OCTC(10)를 340mg씩 달아 취했다. 이것에 DMF(8ml)를 가하고, 실온에서 30분 정치하여 수지를 팽윤시켰다. DMF를 배출 후, 피페리딘의 20% DMF 용액(8v/w)을 가하고, 실온에서 5분간 진탕시켰다. 용액을 배출 후, 재차 피페리딘의 20% DMF 용액(8v/w)을 가하고, 실온에서 20분간 진탕시켰다. 용액을 배출 후, 하기 칵테일 1, 2를 각각 대응하는 반응 용기에 첨가 후, DIC의 12.5% DMF 용액(4eq.)을 가하고, 실온에서 3시간 질소를 취입하면서 진탕시켰다. 용액을 배출 후, DMF (8v/w)에 의한 수지의 세정을 2분×4회, MTBE(8v/w)에 의한 수지의 세정을 2분×4회, 모두 실온에서 진탕시킴으로써 행했다. 얻어진 수지를 감압 건조함으로써, 994mg의 25a 및 1.00g의 26a를 각각 얻었다. 얻어진 화합물의 동정은, 실시예 71, 73의 탈수지 반응에 의해 행했다.
얻어진 2종의 수지를 2개의 반응 용기에 약 20mg씩 달아 취하고, 피페리딘의 20% DMF 용액(100ml)을 각각 가하고, 2시간 실온에서 교반했다. 용액의 흡광도로부터 다이벤조풀벤을 정량함으로써, 각 다이펩티드의 담지율을 산출했다. (표 156)
Figure pct00312
(실시예 116)
Fmoc-MeAsp(OAllyl)-mor의 합성
Figure pct00313
반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OAllyl)-OH(56, 87.9g)를 가하고, DMF(430ml)로 용해시켰다. 그 다음에, 주변 온도에서 HOBt(31.9g)와 EDCI 염산염(49.4g)을 가하고, 반응액을 0℃로 냉각했다. 반응액에 모폴린(20.4ml)을 서서히 가하고, 0℃에서 45분 교반했다. 반응액에 0℃에서 물(180ml)을 가한 후에 주변 온도에서 1시간 교반하고, 추가로 물(180ml)을 가하고 주변 온도에서 1.75시간 교반했다. 생성된 고체를 기리야마 깔때기로 여과하여 취하고, 얻어진 고체를 물(450ml)로 2회 세정했다. 수세 후의 고체를 감압하에서 건조하여, 목적물을 무색 고체로서 86.8g(수율 85%) 얻었다.
(실시예 117)
Fmoc-MeAsp(OAllyl)-NMe2의 합성
Figure pct00314
질소 기류하에서, 반응 용기에 EDCI 염산염(27.4g)과 DMF(217ml)를 가하고, 그 다음에 HOBt(17.7g)와 Fmoc-MeAsp(OAllyl)-OH(56, 48.8g)의 다이클로로메테인-DMF 용액(90ml-90ml)을 0℃에서 가했다. 반응액을 0℃에서 30분 교반 후, 반응액에 다이메틸아민-THF 용액(2N, 65.6ml)을 2분간에 걸쳐 적하 후, 0℃에서 30분 교반했다. 반응액을 아세트산 에틸(488ml)로 희석하고, 유기층을, 1N 염산(391ml로 2회), 물(488ml), 5% 탄산수소 나트륨 수용액(488ml로 2회), 18% 염화 나트륨 수용액(488ml) 세정 후, 유기층을 황산 나트륨으로 건조했다. 건조제를 여과제거 후, 여과액을 감압 농축하여, 목적물을 무색 유상 물질로서 51.2g(수율 98%) 얻었다.
(실시예 118)
Fmoc-MeAsp(OH)-mor의 합성
Figure pct00315
질소 기류하에서, 반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OAllyl)-mor(57, 22.8g)와 다이클로로메테인(50ml)을 가하고, 그 다음에 테트라키스트라이페닐포스핀 팔라듐(0.55g)을 주변 온도에서 가했다. 페닐실레인(3.61g)을 적하 후, 주변 온도에서 30분 교반했다. 반응액을 MTBE(228ml)로 희석 후, 5% 탄산수소 나트륨 수용액(228ml)으로 추출했다. 수층을 85% 인산 수용액(12ml)으로 pH 3 부근까지 산성으로 하고, 수층을 MTBE(228ml)로 추출했다. 이 유기층을 18% 염화 나트륨 수용액(228ml로 2회) 세정 후, 유기층을 황산 나트륨으로 건조했다. 건조제를 여과제거 후, 여과액을 감압 농축하여, 목적물을 무색 무정형정으로서 20.3g(수율 97%) 얻었다.
(실시예 119)
Fmoc-MeAsp(OH)-NMe2의 합성
Figure pct00316
질소 기류하에서, 반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OAllyl)-NMe2(58, 32.0g)와 테트라키스트라이페닐포스핀 팔라듐(0.847g)을 가하고, 그 다음에 다이클로로메테인(73.3ml)을 가했다. 반응액에, 페닐실레인(5.55g)을 적하 후, 주변 온도에서 30분 교반했다. 반응액을 MTBE(320ml)로 희석 후, 5% 탄산수소 나트륨 수용액(308ml)으로 추출했다. 수층을 85% 인산 수용액(30.1ml)으로 pH 2 부근까지 산성으로 하고, 수층을 MTBE(320ml)로 추출했다. 이 유기층을 18% 염화 나트륨 수용액(320ml로 2회) 세정 후, 유기층을 황산 나트륨으로 건조했다. 건조제를 여과제거 후, 여과액을 감압 농축하여, 목적물을 담갈색 무정형정으로서 25.1g(수율 86%) 얻었다.
Figure pct00317
(실시예 120)
Fmoc-MeAsp(OtBu)-mor(61)의 합성
Figure pct00318
질소 기류하에서, 반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OtBu)-OH(39, 3.0g)와 Oxyma(1.1g)를 가하고, 그 다음에 다이메틸폼아마이드(15ml)를 가했다. 반응액에 1-(3-다이메틸아미노프로필)-3-에틸카보다이이미드 염산염(1.5g), 및 모폴린(0.74ml)을 반응액의 온도를 10℃ 이하로 유지하면서 가하고, 3시간 교반했다. 반응액에 AcOEt(15ml), 및 0.5N 염산(15ml)을 가했다. 유기층을 물(15ml)로 세정하고, 추가로 5% 탄산 나트륨 수용액(15ml)으로 세정했다. 유기층을 5% 염화 나트륨 수용액(15ml)으로 세정 후, 유기층을 감압 농축하여, 목적물을 황색 무정형정으로서 3.50g(100%) 얻었다. 얻어진 화합물은 정제하지 않고 다음의 반응에 이용했다.
(실시예 121)
Fmoc-MeAsp(OtBu)-NMe2(62)의 합성
Figure pct00319
질소 기류하에서, 반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OtBu)-OH(39, 3.0g), 및 Oxyma(1.1g)를 가하고, 그 다음에 다이메틸폼아마이드(15ml)를 가했다. 반응액에 1-(3-다이메틸아미노프로필)-3-에틸카보다이이미드 염산염(1.5g), 다이메틸아민 염산염(0.69g), N,N-다이아이소프로필에틸아민(1.5ml)을 반응액의 온도를 10℃ 이하로 유지하면서 가하고, 3시간 교반했다. 반응액에 아세트산 에틸(15ml), 그 다음에 0.5N 염산(15ml)을 가했다. 유기층을 물(15ml)로 세정하고, 추가로 5% 탄산 나트륨 수용액(15ml)으로 세정했다. 유기층을 5% 염화 나트륨 수용액(15ml)으로 세정 후, 유기층을 감압 농축하여, 목적물을 무색 유상 물질로서 3.17g(95%) 얻었다. 얻어진 화합물은 정제하지 않고 다음의 반응에 이용했다.
(실시예 122)
Fmoc-MeAsp(OH)-mor(59)의 합성
Figure pct00320
질소 기류하에서, 반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OtBu)-mor(61, 1.8g)와 2-메틸테트라하이드로퓨란(9.2ml)을 가하고, 그 다음에 HMDS(0.86ml)를 가했다. 반응 용기를 0℃로 냉각하고, TMSOTf(0.81ml)를 가하고, 25℃에서 1시간 교반했다. 반응 용기를 0℃로 냉각하고, 반응액에 5% 인산이수소 칼륨 수용액(9.2ml)을 가하고, 유기층을 분리했다. 5% 탄산 나트륨 수용액(9.2ml)을 가하고, 수층을 분리했다. 수층에 MTBE(9.2mL), 2N 염산(5.0mL)을 가하고 유기층을 분리했다. 5% 인산이수소 칼륨 수용액(9.2mL)으로 유기층을 세정한 후, 10% 염화 나트륨 수용액(9.2mL)으로 세정했다. 유기층을 감압 농축하여, 목적물을 황색 무정형정으로서 1.31g(97%) 얻었다.
(실시예 123)
Fmoc-MeAsp(OH)-NMe2(60)의 합성
Figure pct00321
질소 기류하에서, 반응 용기에 Fmoc-MeAsp(OtBu)-NMe2(62, 1.6g)와 2-메틸테트라하이드로퓨란(7.9mL)을 가하고, 그 다음에 HMDS(0.80mL)를 가했다. 반응 용기를 0℃로 냉각하고, TMSOTf(0.75mL)를 가하고, 25℃에서 1시간 교반했다. 반응액에 5% 인산이수소 칼륨 수용액(7.9mL)을 가하고 유기층을 분리했다. 5% 탄산 나트륨 수용액(7.9mL)을 가하고, 수층을 분리했다. 수층에 MTBE(7.9mL), 2N 염산(5.0mL)을 가하고 유기층을 분리했다. 5% 인산이수소 칼륨 수용액(7.9mL)으로 유기층을 세정한 후, 10% 염화 나트륨 수용액(7.9mL)으로 세정했다. 유기층을 감압 농축하여, 목적물을 무색 유상 물질로서 1.31g(95%) 얻었다.
Figure pct00322
본 발명은, 실릴화제를 이용한 신규 탈보호 방법 및/또는 탈수지 방법에 의한 펩티드 화합물의 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명에 의해, 공업적으로 이용 가능한 효율적인 펩티드 합성의 수법을 제공할 수 있다.

Claims (19)

  1. 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 펩티드 화합물을 제조하는 방법으로서,
    해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
    해당 출발 펩티드 화합물은, 해당 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함하고, 또한,
    해당 출발 펩티드 화합물은, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함하는, 방법.
  2. 천연 아미노산 잔기 및/또는 아미노산 유연체 잔기를 포함하는 출발 펩티드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈수지 가능한 고상 합성용 수지를 해당 출발 펩티드 화합물로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 펩티드 화합물을 제조하는 방법으로서,
    해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
    해당 출발 펩티드 화합물은, 해당 탈수지 가능한 고상 합성용 수지에 연결되어 있고, 또한,
    해당 출발 펩티드 화합물은, 적어도 1개의 N치환 아미노산 잔기를 포함하는, 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    출발 펩티드 화합물이, 하기 화학식(I):
    Figure pct00323

    ［식 중,
    R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
    R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R4 혹은 R2와 R4＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고, 여기에서, R2와 R4가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4＇는 수소이고, R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R4는 수소이며,
    R4 및 R4＇는, R2와 R4 또는 R2와 R4＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
    (a) R4＇가 수소이고, 또한 R4가, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG2, N-PG3-인돌-3-일메틸, 4-(PG2O)벤질, PG2-O-메틸, 1-(PG2O)에틸, 2-(PG2O)에틸, PG2-OCO(CH2)-, PG2-OCO(CH2)2-, PG3N-n-뷰틸, -CON(R14A)(R14B), -CH2-CON(R14A)(R14B), 및 -(CH2)2CON(R14A)(R14B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
    (b) R4 및 R4＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
    (c) R4 및 R4＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
    R5는, 단일 결합, 또는 -C(R5A)(R5B)-이고,
    R5A 및 R5B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R6과 R7 혹은 R6과 R7＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고, 여기에서, R6과 R7이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7＇는 수소이고, R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R7은 수소이며,
    R7 및 R7＇는, R6과 R7 또는 R6과 R7＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
    (a) R7＇가 수소이고, 또한 R7이 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG4, N-PG5-인돌-3-일메틸, 4-(PG4O)벤질, PG4-O-메틸, 1-(PG4O)에틸, 2-(PG4O)에틸, PG4-OCO(CH2)-, PG4-OCO(CH2)2-, PG5N-n-뷰틸, -CON(R15A)(R15B), -CH2-CON(R15A)(R15B), 및 -(CH2)2CON(R15A)(R15B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
    (b) R7 및 R7＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬이거나, 혹은
    (c) R7 및 R7＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
    R8은, 단일 결합, 또는 -C(R8A)(R8B)-이고,
    R8A 및 R8B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R9는, 하이드록시, -O-PG6, 천연 아미노산 잔기, 아미노산 유연체 잔기, -O-RES, 또는 -NH-RES이고,
    RES는 고상 합성용 수지이고,
    R14A 및 R14B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R14A 및 R14B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
    R15A 및 R15B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R15A 및 R15B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
    PG1은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG2 및 PG4는, 독립하여, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG3 및 PG5는, 독립하여, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG6은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
    로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 적어도 1개 포함하는, 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    출발 펩티드 화합물이, 그 C말단에 하기 화학식(II):
    Figure pct00324

    ［식 중,
    R1＇는, 식(III)으로 표시되는 기이고,
    Figure pct00325

    *는 결합점을 의미하고,
    R1은, 수소, PG1, 천연 아미노산 잔기, 또는 아미노산 유연체 잔기이고,
    R2는, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되거나, 혹은 R2와 R10 혹은 R2와 R10＇는, 그들이 결합하는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어, 하이드록시 또는 C1-C4 알콕시에 의해 치환되어 있어도 되는 3∼7원의 헤테로환을 형성하고, 여기에서, R2와 R10이 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10＇는 수소이고, R2와 R10＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우, R10은 수소이며,
    R10 및 R10＇는, R2와 R10 또는 R2와 R10＇가 하나로 되어 헤테로환을 형성하는 경우를 제외하고,
    (a) R10＇가 수소이고, 또한 R10이, 수소, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 페닐, 치환되어 있어도 되는 페닐메틸, 치환되어 있어도 되는 페닐에틸, 2-(메틸싸이오)에틸, -CH2SPG8, N-PG9-인돌-3-일메틸, 4-(PG8O)벤질, PG8-O-메틸, 1-(PG8O)에틸, 2-(PG8O)에틸, PG8-OCO(CH2)-, PG8-OCO(CH2)2-, PG9N-n-뷰틸, -CON(R16A)(R16B), -CH2-CON(R16A)(R16B), 및 -(CH2)2CON(R16A)(R16B)로 이루어지는 군으로부터 선택되거나,
    (b) R10 및 R10＇는, 독립하여, 치환되어 있어도 되는 C1-C6 알킬, C3-C6 사이클로알킬, 또는 C3-C6 사이클로알킬 C1-C4 알킬이거나, 혹은
    (c) R10 및 R10＇는, 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 3∼7원의 지환식환을 형성하고,
    R11은, 단일 결합, 또는 -C(R11A)(R11B)-이고,
    R11A 및 R11B는, 독립하여, 수소, C1-C6 알킬, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 및 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    RES는 고상 합성용 수지이고,
    n은, 0, 1, 또는 2이고,
    R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
    m은, 0, 1, 또는 2이고,
    R16A 및 R16B는, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은 R16A 및 R16B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
    R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
    PG1은, 독립하여, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG8은, 수소, t-Bu, 트라이틸, 메톡시트라이틸, 큐밀, 벤질, THP, 1-에톡시에틸, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG9는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 메톡시카보닐, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 및 벤질로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 (2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
    로 표시되는 적어도 2개의 아미노산 잔기가 연결된 구조를 포함하는, 방법.
  5. 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 실릴화제에 의해 탈보호 가능한 보호기를 해당 출발 아마이드 화합물로부터 탈보호하는 단계를 포함하는, 해당 보호기가 탈보호된 아마이드 화합물을 제조하는 방법으로서,
    해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
    해당 출발 아마이드 화합물은, 하기 화학식(II):
    Figure pct00326

    ［식 중,
    R1＇는, 수소 원자, 또는 PG7이고,
    R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    RES는 고상 합성용 수지이고,
    n은, 0, 1, 또는 2이고,
    R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
    m은, 0, 1, 또는 2이고,
    R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
    PG7은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 (2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
    로 표시되고, 또한
    해당 출발 아마이드 화합물은, 해당 탈보호 가능한 보호기를 적어도 1개 포함하는, 방법.
  6. 출발 아마이드 화합물과, 실릴화제를 용매 중에서 접촉시키는 것에 의해, 해당 출발 아마이드 화합물을 고상 합성용 수지로부터 탈수지하는 단계를 포함하는, 해당 고상 합성용 수지가 탈수지된 아마이드 화합물을 제조하는 방법으로서,
    해당 실릴화제는, 실릴 화합물 또는 산과, 구전자종 포착제를 혼합하는 것에 의해 생성되고,
    해당 출발 아마이드 화합물은, 하기 화학식(II):
    Figure pct00327

    ［식 중,
    R1＇는, 수소 원자, 또는 PG7이고,
    R12 및 R12＇는, 독립하여, 수소, PG10-O-메틸, -(CH2)nCOO-PG10, -(CH2)nCOO-RES, 및 -(CH2)nCONH-RES로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    RES는 고상 합성용 수지이고, 여기에서, R12 및 R12＇ 중 적어도 한쪽은, -(CH2)nCOO-RES, 또는 -(CH2)nCONH-RES이고,
    RES는 고상 합성용 수지이고,
    n은, 0, 1, 또는 2이고,
    R6은, 수소, 및 C1-C6 알킬로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R13은, C1-C4 알킬, 또는 -(CH2)mCON(R17A)(R17B)이고,
    m은, 0, 1, 또는 2이고,
    R17A 및 R17B는, 독립하여, 수소, C1-C4 알킬이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 4∼8원환을 형성하고,
    PG7은, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
    로 표시되는, 방법.
  7. 제 1 항 및 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    탈보호 가능한 보호기가, t-Bu, 트라이페닐메틸, 2-(트라이메틸실릴)-에틸, Boc, Teoc, Cbz, 메톡시카보닐, 테트라하이드로피란일, 1-에톡시에틸, 메톡시트라이틸, 및 큐밀로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    실릴 화합물이 하기 식 1:
    Figure pct00328

    ［식 중, RAX, RAY, 및 RAZ는, 독립하여, C1-C4 알킬 또는 페닐이고, X는, -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다］
    로 표시되는, 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    실릴 화합물이, TMSOTf, TESOTf, TBSOTf, TIPSOTf, TBDPSOTf, TTMSOTf, TMSCl, TMSBr, TMSOClO3, 및 TMSI로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 방법.
  10. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    산이, HX(식 중, X는 -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다)로 표시되는, 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    구전자종 포착제가, 하기 식(2)∼(10):
    Figure pct00329

    ［식 2 중,
    RB는 치환 실릴기이고, 또한 RC는 치환 실릴기이거나, 혹은
    RB와 RC는 그들이 결합하고 있는 질소 원자 및 탄소 원자와 하나로 되어 5∼7원환을 형성하고,
    RD는 1개 또는 복수의 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 C1-C4 알킬이거나, 치환되어 있어도 되는 메틸렌이고, 여기에서 RD가 치환되어 있어도 되는 메틸렌인 경우, 식 2는 2량화되어 이하의 식:
    Figure pct00330

    으로 표시되는 화합물을 형성하고,
    식 3 중,
    RG는 1개 또는 복수의 C1-C4 알킬로 치환된 실릴기이고,
    RH는 수소, 또는 C1-C4 알킬이고,
    RI는 수소, 또는 1개 또는 복수의 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 C1-C4 알킬이고,
    식 4 중,
    (a-1) RJ는 치환 실릴기이고, RK는 C1-C4 알콕시이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
    (a-2) RJ는 치환 실릴기이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼8원환을 형성하거나,
    (b-1) RJ는 치환 실릴기이고, RK는 C1-C4 알킬이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
    (b-2) RJ는 치환 실릴기이고, RM은 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
    (c-1) RJ와 RM이 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼7원환을 형성하고, RK는 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RL은 C1-C4 알킬이거나,
    (c-2) RJ와 RM이 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 산소 원자를 포함하는 5∼7원환을 형성하고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
    (d-1) RJ는 C1-C4 알킬이고, 또한 RM, RK, 및 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
    (d-2) RJ는 C1-C4 알킬이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8환을 형성하거나,
    (e-1) RJ는 C1-C3 알킬카보닐이고, 또한 RM, RK, 및 RL은, 독립하여 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
    (e-2) RJ는 C1-C3 알킬카보닐이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어 5∼8원환을 형성하거나,
    (f-1) RJ는 치환 실릴기 또는 C1-C4 알킬이고, RK는 치환되어 있어도 되는 다이-C1-C4 알킬아미노이고, 또한 RM과 RL은, 독립하여, 수소, 또는 C1-C4 알킬이거나,
    (f-2) 또는 RJ는 치환 실릴기 또는 C1-C4 알킬이고, RM은, 수소, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RK와 RL은 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 하나로 되어, 질소 원자를 포함하는 5∼8원환을 형성하고, 해당 5∼8원환은, C1-C4 알킬에 의해 치환되어 있어도 되고,
    식 5 중,
    RN, RN＇, 및 RO는, 독립하여, 수소 또는 C1-C4 알킬이고,
    식 6 중,
    RP는 치환 실릴기이고,
    RQ는 치환 실릴기, 또는 C1-C4 알킬이고, 또한 RR은 수소, 치환 실릴기, 또는 C1-C4 알킬이거나, 혹은
    RQ와 RR은 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어 1개 또는 복수의 추가의 헤테로원자를 포함하고 있어도 되는 5∼8원환 헤테로환을 형성하고,
    식 7 중,
    X는 단일 결합 또는 탄소 원자이고,
    여기에서 X가 단일 결합인 경우, RS는 존재하지 않고, RUA와 RR은, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자 및 질소 원자와 하나로 되어 치환되어 있어도 되는 6원의 방향족 헤테로환을 형성하고, 또한 RUB와 RT는, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자 및 질소 원자와 하나로 되어 치환되어 있어도 되는 6원의 방향족 헤테로환을 형성하고,
    X가 탄소 원자인 경우, RUA 및 RUB는, 독립하여, C1-C4 알킬이고, 또한 RR와 RS와 RT는 그들이 결합하는 탄소 원자와 하나로 되어 이하의 구조:
    Figure pct00331

    를 형성하고,
    식 8 중,
    RV는, C1-C4 알킬 또는 C3-C6 사이클로알킬이고,
    식 9 중,
    RW 및 RX는, 독립하여, C1-C4 알킬, 또는 치환 실릴기이고,
    식 10 중,
    RY 및 RZ는, 독립하여, C1-C4 알킬, 또는 치환 실릴기이다.］
    으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    구전자종 포착제가, N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드, N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드, 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈, 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인, 2,2,4,4-테트라메틸펜탄온 이민, 1,1,1,3,3,3-헥사메틸다이실라제인(HMDS), N-트라이메틸실릴모폴린, N-트라이메틸실릴다이에틸아민, 및 N-tert-뷰틸트라이메틸실릴아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 방법.
  13. 제 1 항 내지 제 9 항, 제 11 항 및 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제거 대상의 보호기 1당량에 대해서, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 1∼5당량의 실릴 화합물, 및 1∼10당량의 구전자종 포착제를 혼합하는, 방법.
  14. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    제거 대상의 보호기 1당량에 대해서, 또는 제거 대상의 수지 1당량에 대해서, 0.1∼0.5당량의 실릴 화합물 또는 산을 혼합하는, 방법으로서,
    구전자종 포착제가, N,O-비스(트라이메틸실릴)아세트아마이드, N,O-비스(트라이메틸실릴)트라이플루오로아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴아세트아마이드, N-메틸-N-트라이메틸실릴트라이플루오로아세트아마이드, 다이메틸케텐 메틸 트라이메틸실릴 아세탈, 및 아이소프로펜일옥시트라이메틸실레인으로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    실릴 화합물이, TMSOTf, TESOTf, TBSOTf, TIPSOTf, TBDPSOTf, TTMSOTf, TMSCl, TMSBr, 및 TMSOClO3으로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    산이, HX(식 중, X는 -OTf, -OClO3, Cl, Br, 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택된다)로 표시되는, 방법.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    출발 펩티드 화합물이, 1∼30개의 아미노산 잔기를 포함하고, 직쇄 또는 환상인, 방법.
  16. 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    고상 합성용 수지가, CTC 수지, Wang 수지, 또는 SASRIN 수지인, 방법.
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    출발 펩티드 화합물을 용매와 혼합한 후에, 구전자종 포착제를 혼합하고, 그 다음에 실릴 화합물 또는 산을 혼합하는 것을 포함하는, 방법.
  18. 하기 화학식(A)로 표시되는 아마이드 화합물 또는 그의 염:
    Figure pct00332

    식 중,
    R1＇는, 수소, Fmoc, Boc, Alloc, Cbz, Teoc, 및 트라이플루오로아세틸로 이루어지는 군으로부터 선택되고,
    R17A 및 R17B는, 모두 메틸이거나, 혹은 R17A 및 R17B는 그들이 결합하고 있는 질소 원자와 하나로 되어, 피페리딘 또는 모폴린을 형성하고,
    R18은 수소 또는 PG10이고, 여기에서 PG10은, t-Bu, 트라이틸, 큐밀, 벤질, 메틸, 에틸, 알릴, 치환되어 있어도 되는 아릴, 치환되어 있어도 되는 아릴 C1-C4 알킬, 치환되어 있어도 되는 헤테로아릴 C1-C4 알킬, 및 2-(트라이메틸실릴)에틸로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
  19. 제 18 항에 있어서,
    이하로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 아마이드 화합물 또는 그의 염:
    (3-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
    (3-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
    (3-3) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
    (3-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
    (3-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
    (3-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
    (3-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
    (3-8) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 벤질,
    (3-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
    (3-10) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-(다이메틸아미노)-4-옥소뷰탄산 알릴,
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    (2-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
    (2-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 알릴,
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    (2-16) 3-(((알릴옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
    (2-17) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
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    (2-19) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 tert-뷰틸,
    (2-20) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산 벤질,
    (4-1) 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
    (4-2) 알릴 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
    (4-3) tert-뷰틸 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
    (4-4) 벤질 3-(메틸아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰타노에이트,
    (4-5) 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰탄산,
    (4-6) 알릴 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
    (4-7) tert-뷰틸 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
    (4-8) 벤질 3-(메틸아미노)-4-모폴리노-4-옥소뷰타노에이트,
    (4-9) 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰탄산,
    (4-10) 알릴 4-(다이메틸아미노)-3-(메틸아미노)-4-옥소뷰타노에이트,
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    (1-1) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
    (1-2) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
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    (1-4) 3-((((9H-플루오렌-9-일)메톡시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질,
    (1-5) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
    (1-6) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
    (1-7) 3-((tert-뷰톡시카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸,
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    (1-9) 3-(((벤질옥시)카보닐)(메틸)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
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    (1-17) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산,
    (1-18) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 알릴,
    (1-19) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 tert-뷰틸, 및
    (1-20) 3-(메틸((2-(트라이메틸실릴)에톡시)카보닐)아미노)-4-옥소-4-(피페리딘-1-일)뷰탄산 벤질.
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