KR20200032099A - 스틸벤계 화합물 또는 그 염 및 편광막, 편광판 및 표시장치 - Google Patents

스틸벤계 화합물 또는 그 염 및 편광막, 편광판 및 표시장치 Download PDF

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니폰 가야꾸 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은, 하기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물 또는 그 염에 관한 것으로, 식 (1) 중, X기는, 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내고, Y기는, 치환기를 가질 수 있는 아미드기 또는 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기를 나타내고, p 및 q는, 각각 독립적으로 0~2의 정수를 나타낸다:
[식 (1)]

Description

스틸벤계 화합물 또는 그 염 및 편광막, 편광판 및 표시장치
본 발명은, 신규 스틸벤계 화합물 또는 그 염 및 이를 이용한 편광막, 편광판 및 표시 장치에 관한 것이다.
빛의 투과·차폐 기능을 갖는 편광판은, 빛의 스위칭 기능을 갖는 액정과 함께 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display: LCD)등의 표시장치의 기본적인 구성 요소이다. 이 LCD의 적용분야도, 초기의 계산기와 시계 등의 소형 기기, 심지어 노트북, 워드 프로세서, LCD 프로젝터, 액정 TV, 차 네비게이션 및 실내외 정보 표시 장치, 계측 기기 등을 예로 들 수 있다. 또한 이러한 편광판은 편광 기능을 갖는 렌즈에 적용이 가능하며, 시인성을 향상시킨 선글라스, 최근에는 3D TV 등을 지원하는 편광 안경 등에도 응용되고 있으며, 더욱이 웨어러블 단말기를 비롯한 신변의 정보, 단말에도 응용·실용화되고 있다. 따라서, 편광판의 용도는 광범위하기 때문에, 사용 조건도 저온~고온, 저습도~고습도, 저광량~고광량 등 폭넓게 적용된다. 따라서 각 용도에의 적용에 대응하기 위해 편광 성능이 높고 내구성이 우수한 편광판이 요구되고 있다.
일반적으로 편광판을 구성하는 편광막에는 연신 배향한 폴리 비닐 알코올 또는 그 유도체의 필름, 혹은 폴리 염화 비닐 필름의 탈염산 또는 폴리 비닐 알코올 계 필름의 탈수에 의해 폴리엔을 생성하여 배향한 폴리엔계 필름 등의 기재에 편광 소자로서 요오드나 이색성 염료로 염색 또는 이를 함유하여 제조된다. 이러한 종래의 편향막으로 구성된 편광판은 가시광 영역에서 빛의 흡수 작용을 갖는 이색성 염료를 이용하고 있기 때문에 가시광 영역에서의 투과율이 저하된다. 예를 들어, 시판되고 있는 일반적인 편광판의 투과율은 35 % ~ 45 %이다
가시광 영역에서의 투과율이 낮은 편광판을 디스플레이 등에 이용하면 디스플레이 전체의 투과율이 감소하기 때문에 종래의 편광판을 이용하지 않고 편광을 얻는 방법이 연구되고 있다. 이러한 방법으로, 특허 문헌 1 내지 3에는 편광이 발광되는 기술이 개시되어있다. 그러나 편광을 발광시키는 작용 (이하 "편광 발광 작용"이라고도 함)을 갖는 재료로 특수 금속, 예를 들어, 유로퓸 (Eu) 및 테르븀 (Tb) 등의 란타노이드 금속을 사용하기 때문에 그 희소 가치가 높고 또한 매우 제조가 어렵고, 대량 생산에는 부적합하다. 또한, 편광된 빛의 발광이 약하기 때문에 디스플레이에 적용이 어렵다. 따라서 종래의 편광판을 이용하지 않고 편광 발광 작용을 나타내고, 또한 가시광 영역에서의 투명성이 높고, 열악한 환경에서 내구성이 요구되는 액정 디스플레이 등에 응용 가능한 새로운 재료를 개발하는 것이 요망되고 있다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
[특허문헌 1] 일본 특개 제2008-224854호 공보
[특허문헌 2] 일본 특허 제5849255호 공보
[특허문헌 3] 일본 특허 제5713360호 공보
본 발명의 목적은, 편광 발광 작용을 나타내고, 가시광 영역에서 높은 투명성 및 열악한 환경에서 높은 내구성이 요구되는 액정 디스플레이 등에도 응용 가능한 신규 화합물 및 이를 이용한 편광막, 편광판 및 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명자들은 특정 구조를 갖는 스틸벤계 화합물 또는 그 염이 자외광을 조사하는 것에 의해, 가시광 영역에 편광 발광 작용을 나타낸다는 연구 결과를 얻었다. 그리고 해당 지식을 토대로 이러한 스틸벤계 화합물 또는 그의 염을 함유하는 편광막 및 편광판이 자외광 영역에 높은 편광도를 가지면서, 가시광 영역에 높은 투과율을 나타내고, 또한 열악한 환경에서도 뛰어난 내구성을 나타내는 것을 발견하였다.
즉, 본 발명의 요지 구성은 이하와 같다.
[1] 하기 식 (1)로 표시되는 것을 특징으로 하는 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
[식 (1)]
Figure pct00001
(식 (1) 중, X기는 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내며, Y기는 치환기를 가질 수 있는 아미드기 또는 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기를 나타내고, p 및 q는 각각 독립적으로 0 ~ 2의 정수를 나타낸다.).
[2] 상기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (2)로 표시되는 것인, 상기 [1]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
[식 (2)]
Figure pct00002
(식 (2) 중, X기 및 Y기는, 각각 상기 식 (1)에 정의한 대로이다.).
[3] 상기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (3)으로 표시되는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그의 염:
[식 (3)]
Figure pct00003
(식 (3) 중 A기는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 ~ 20의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 비닐기 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴기를 나타낸다.).
[4] 상기 식 (3)에서 A기가 치환기를 가질 수 있는 아릴기인, 상기 [3]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그의 염.
[5] 상기 식 (3)으로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (4)로 표시되는 것인, 상기 [3] 또는 [4]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
[식 (4)]
Figure pct00004
(식 (4) 중 Ｒ1기는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 ~ 10의 포화 탄화수소기를 나타낸다.).
[6] 상기 식 (4)의 Ｒ1기는 메틸기인 상기 [5]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
[7] 상기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (5)로 표시되는 것인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
[식 (5)]
Figure pct00005
(식 (5) 중, B기는, 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내며, Ｒ２기는 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실기, 카르복시기, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 알콕시기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내고, n은 0 ~ 3의 정수를 나타낸다.).
[8] 상기 식 (5)에서 B기가 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 ~ 20의 알킬 카보닐 아미노기, 치환기를 가질 수 있는 아릴 카보닐 아미노기, 탄소수 1 ~ 20의 아릴 설포닐 아미노기 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴 설포닐 아미노기인, 상기 [7]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
[9] 상기 식 (5)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (6)으로 표시되는 것인, 상기 [7] 또는 [8]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
[식 (6)]
Figure pct00006
(식 (6) 중, Ｒ２기는 상기 식 (5)에 정의한 대로이며, n은, 0~3의 정수이다.)
[10] 상기 식 (6)의, Ｒ2기가 수소 원자이며, n이 1 또는 2인, 상기 [9]에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
[11] 상기 [1] 내지 [10] 중 하나에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염을 함유하는 기재를 포함하는, 편광막.
[12] 가시광 영역으로 편광된 빛을 발광하는 편광 발광 기능을 갖는, 상기 [11]에 기재된 편광막.
[13] 상기 [1] 내지 [10] 중 하나에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염과는 상이한 유기염료 또는 형광 염료를 1종 이상 추가로 함유하는, 상기 [11] 또는 [12]에 기재된 편광막.
[14] 상기 기재가, 폴리비닐알콜 수지 또는 그 유도체로부터 제작된 필름인, 상기 [11] 내지 [13] 중 어느 하나에 기재된 편광막.
[15] 상기 [11] 내지 [14] 중 하나에 기재된 편광막과, 상기 편광막의 적어도 일면에 설치된 투명 보호층을 포함하는 평광판.
[16] 상기 [11] 내지 [14] 중 하나에 기재된 편광막, 또는 상기 [15]에 기재된 평광판을 갖춘 표시장치.
본 발명에 관계된 특정 구조를 갖는 스틸벤계 화합물 또는 그 염은,
자외광을 흡수하여 그 에너지를 이용하여 가시광 영역에 편광 발광 작용을 나타낸다. 또한 해당 스틸벤계 화합물 또는 그의 염을 이용하여 제작된 편광막과 편광판은 자외광 영역에서 높은 편광도를 나타낸다. 따라서 이러한 스틸벤계 화합물 또는 그의 염을 이용함으로써 희소 가치가 높은 란타노이드 금속 등을 사용하지 않고도 높은 편광도를 갖는 동시에 편광 발광 작용을 나타내는 새로운 편광막과 편광판을 제공하는 것이 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 편광막과 편광판은 가시광 영역에서 높은 투과율을 나타내고, 또한 열, 습도 등에 대해 뛰어난 내구성을 나타낸다. 따라서 해당 편광막과 편광판은 가시광 영역에서의 높은 투명성과 열악한 환경에서 높은 내구성이 요구되는 액정 디스플레이 등의 표시 장치에 응용하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명의 실시 양태을 상세하게 설명한다. 아래의 [~]를 이용하여 나타낸 수치 범위는, [~]의 전후에 기재된 수치를 하한 값 및 상한 값으로 하여 포함하는 범위를 의미한다.
또한, 특히 언급되지 않는 한, 각 식으로 표시된 화합물 또는 각 화합물의 예로 나타난 화합물은, 유리산의 형태 (염을 형성하지 않는 상태)를 나타낸다. 또한, 특별히 언급되지 않는 한, 번잡을 피하기 위해 편의상 [스틸벤계 화합물 또는 그 염]의 기재는, 단지 [스틸벤계 화합물]이라고 하는 경우가 있다.
[ 스틸벤계 화합물]
본 실시 형태에 관한 스틸벤계 화합물은, 하기 식 (1)로 표시되며, 분자 중에 적어도 하나의 스틸벤 골격을 가지고 있다. 식 (1) 중, X기는, 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내고, Y기는, 치환기를 가질 수 있는 아미노기 또는 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기를 나타낸다. 또한, p 또는 q는, 각각 독립적으로 0~2의 정수이며, 바람직하게는 1이다. p 또는 q가 각각 독립적으로 1 또는 2인 경우,－(ＳＯ３Ｈ)는, 각 벤젠 환 중의 임의의 탄소에 결합해도 좋다.
[식 (1)]
Figure pct00007
따라서, 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물은 기본 골격으로 스틸벤 골격을 가진다. 이 기본 골격 구조에 기인하여 식 (1)로 표시되는 스틸벤계 화합물은 자외광 조사에 의해 발광 작용을 나타낸다. 또한 스틸벤 골격의 강한 탄소 - 탄소 이중 결합의 존재에 의해 분자가 안정된다. 게다가, 식 (1)로 표시되는 스틸벤계 화합물은 분자 중에 특히 X기 및 Y기에 아조 결합을 가지고 있지 않기 때문에 아조 결합에 의한 빛의 흡수가 억제된다. 따라서 이러한 특정 구조를 갖는 본 실시 양태에 따른 스틸벤계 화합물은 자외광을 흡수하여 그 에너지를 이용하여 가시광 영역에 대해 편광 발광 작용을 나타내는 것이 가능하고, 덕분에, 편광막 중에도 안정적으로 존재할 수 있다.
식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물은, 하기 식 (2)로 표시된 것이 바람직하다. 식 (2) 중, X기 및 Y기는, 각각 식 (1)에서 정의한 대로이다. 식 (2)로 표시된 스틸벤계 화합물은, 소정의 위치에 2개의 설포기를 가지고 있다. 스틸벤계 화합물이 이러한 구조를 갖는 것에 의해, 용액 중에 존재하는 양이온과 반응하여, 설폰기를 통해 안정된 염의 형태로 존재하는 것이 가능하다. 또한, 2개의 설폰기가 대칭관계에 있기 때문에, 분자의 안정성도 향상된다.
[식 (2)]
Figure pct00008
식 (1) 중, Y기가, 치환기를 가질 수 있는 아미드기인 경우, 본 실시 양태에 대한 스틸벤계 화합물은, 하기 식 (3)으로 표시된 것이 바람직하다.
[식 (3)]
Figure pct00009
식 (3)에 있어서, A기는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 비닐기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴기를 나타내고, 치환기를 가질 수 있는 아릴기인 것이 바람직하다.
A기에서 탄소수 1 내지 20의 알킬기는, 예를 들면, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬기, 바람직하게는 C1-C10 알킬기를 들 수 있다. C1-C10 알킬기의 구체적인 예로는, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실 등 직쇄상의 알킬기;
이소 프로필, 이소 부틸, sec- 부틸, t-부틸, 이소아밀, t-아밀 이소헥실, t-헥실, 이소헵틸, t-헵틸, 이소 옥틸, t-옥틸, 2- 에틸 헥실, 이소 노닐, 이소데실 등의 분지쇄 상의 C3-C10 알킬기;
시클로 프로필, 시클로 부틸, 시클로 펜틸, 시클로 헥실, 시클로 헵틸 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７ 알킬기 등을 들 수 있다. 이 중에서도 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.
A기에 있어서 비닐기는, 예를 들면, 에테닐기, 프로펜-1-일기, 프로펜-2-일기, 스틸기 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 에테닐기가 바람직하다.
A기에 있어서 아릴기는, Ｃ６－Ｃ１２ 아릴기, 또는 질소원자, 산소원자 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1~3개의 헤테로 원자를 포함하는 5 또는 6원의 복소환기가 바람직하다. Ｃ６－Ｃ１２ 아릴기의 구체적인 예로서는, 예를 들면, 페닐, 나프틸, 비페닐 등을 들 수 있다. 복소환기의 구체예로서는, 예를 들면, 피롤리디닐, 테트라히드로프릴, 테트라히드로티오펜-2-일, 테트라히드로티오펜-3-일 등의 5원 복소지환식 화합물;
피페리딘, 피페라디닐, 디옥산-2-일, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐 등의 6원 복소지환식 화합물;
피롤, 피라졸, 이미다졸, 트리아졸, 푸릴, 티오펜-2-일, 티오펜-3-일, 옥사졸, 티아졸 등의 5원 복소환식 방향족 화합물;
피리딘, 피라진, 피리다진, 트리아진 등의 6원 복소환식 방향족 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 상기 복소환기는, 복소환 부분이 방향족 환인 것이 바람직하고, 또한, 복소환을 구성하는 헤테로 원자로서는, 질소원자 및 황 원자로부터 선택되는 것이 바람직하다.
상기 식 (3)으로 표시된 스틸벤계 화합물은, 바람직하게는 하기 식 (4)로 표시된다:
[식 (4)]
Figure pct00010
식 (4) 중, Ｒ１ 기는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~10의 포화 탄화 수소기를 나타내고, 메틸기인 것이 바람직하다.
또한, 식 (1) 중, Y기가, 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기인 경우, 본 실시 양태에 관한 스틸벤계 화합물은, 하기 식 (5)로 표시된 것이 바람직하다:
[식 (5)]
Figure pct00011
식 (5) 중, B기는 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타낸다. 이 중에서도, B기는, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬아미노기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬카보닐아미노기, 치환기를 가질 수 있는 아릴카보닐아미노기, 탄소수 1~20의 알킬설포닐아미노기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴설포닐아미노기인 것이 바람직하고, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬카보닐아미노기, 치환기를 가질 수 있는 아릴카보닐아미노기, 탄소수 1~20의 알킬설포닐아미노기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴설포닐아미노기인 것이 더욱 바람직하고, 니트로기인 것이 더더욱 바람직하다.
B기가, 치환기를 가질 수 있는 아미노기인 경우, 아미노기는 탄소수 1~20의 알킬카보닐아미노기, 아릴카보닐아미노기가 바람직하다. 식 (5)로 표시된 스틸벤계 화합물에서, B기가 카보닐아미노기를 포함하는 것에 의해, 분자 배향성이 보다 향상되고, 이색성이 더욱 높아진다. 이것에 의해, 식 (5)로 표시된 스틸벤계 화합물을, 높은 편광도를 갖는 형광 발광 화합물로서 얻는 것이 가능하다.
탄소수 1~20의 알킬아미노기, 탄소수 1~20의 알킬카보닐아미노기, 및 탄소수 1~20의 알킬설포닐아미노기에 있어서, 탄소수 1~20의 알킬기는, 예를 들면, 직쇄상, 분지쇄 상, 또는 환상의 알킬기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０ 알킬기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알킬기의 구체적 예로는, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실 등 직쇄상의 알킬기;
이소 프로필, 이소 부틸, sec- 부틸, t-부틸, 이소아밀, t-아밀, 이소헥실, t-헥실, 이소헵틸, t-헵틸, 이소 옥틸, t-옥틸, 2- 에틸 헥실, 이소 노닐, 이소데실 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０ 알킬기; 또는,
시클로 프로필, 시클로 부틸, 시클로 펜틸, 시클로 헥실, 시클로 헵틸 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７ 알킬기 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.
아릴아미노기, 아릴카보닐아미노기, 또는 아릴설포닐아미노기에 있어서 아릴기는, Ｃ６－Ｃ１２ 아릴기, 또는 질소원자, 산소원자 및 황 원자로부터 선택되는 1~3개의 헤테로 원자를 포함하는 5원 또는 6원의 복소환기가 바람직하다. Ｃ６－Ｃ１ ２아릴기의 구체적 예로서는, 예를 들면, 페닐, 나프틸, 비페닐 등을 들 수 있다. 복소환기의 구체적 예로서는, 예를 들면, 피롤리디닐, 테트라히드로프릴, 테트라히드로티오펜-2-일, 테트라히드로티오펜-3-일 등의 5원 복소지환식 화합물;
피페리딘, 피페라디닐, 디옥산-2-일, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐, 등의 6원 복소지환식 화합물;
피롤, 피라졸, 이미다졸, 트리아졸, 푸릴, 티오펜-2-일, 티오펜-3-일, 옥사졸, 티아졸, 등의 5원 복소환식 방향족 화합물;
피리딘, 피라진, 피리다진, 트리아진 등의 6원 복소환식 방향족 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 상기 복소환기는, 복소환 부분이 방향족 환인 것이 바람직하고, 또한, 복소환을 구성하는 헤테로 원자로서는, 질소원자 및 황 원자로부터 선택하는 것이 바람직하다.
식 (5) 중, Ｒ２ 기는 수소원자, 할로겐 원자, 히드록실기, 카르복시기, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 알콕시기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타낸다. Ｒ２기의 할로겐 원자는, 염소 원자, 브롬 원자 또는 불소 원자 등인 것이 바람직하다. 알콕시기는, 메톡시기, 또는 에톡시기 등인 것이 바람직하다. 아미노기는, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, 또는 페닐아미노기 등인 것이 바람직하다. Ｒ２ 기는 나프토트리아졸 환 중의 나프탈렌 환의 임의의 탄소 원자에 결합해도 좋지만, 트리아졸 환과 결합하고 있는 탄소 원자를 1위, 2위로 한 경우, 3위, 5위 또는 8위에 결합하고 있는 것이 바람직하다.
n은 0~3의 정수이며, 바람직하게는 1이다. －（ＳＯ3Ｈ）는 나프토트리아졸환 중의 나프탈렌 환의 임의의 탄소 원자에 결합해도 좋다. －（ＳＯ3Ｈ）가 나프탈렌 환에 결합하는 위치는, 트리아졸 환과 결합하고 있는 탄소 원자를 1위, 2위로 하는 경우, n=1이라면, 4위, 6위, 또는 7위인 것이 바람직하고, n=2라면, 5위와 7위, 6위 및 8위인 것이 바람직하며, n=3이라면, 3위와 6위와 8위의 조합인 것이 바람직하다.
상기 식 (5)로 표시된 스틸벤계 화합물은, 바람직하게는 하기 식 (6)으로 나타나 있다:
[식 (6)]
Figure pct00012
식 (6) 중, Ｒ２기는, 하기 식 (5)에 정의한 대로이며, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하고, 수소 원자인 것이 더욱 바람직하다. 또한, n은 0~3의 정수이며, 1 또는 2인 것이 바람직하다.
치환기를 가질 수 있는 아미노기의 치환기는, 상술했던, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 비닐기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기가 바람직하다. 또한, 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기의 치환기는, 상술의 Ｒ２, －（ＳＯ3Ｈ）가 바람직하다. 또한, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 비닐기, 치환기를 가질 수 있는 아릴기 및 치환기를 가질 수 있는 아미노기의 각 치환기는, 예를 들면, 복소환 아미노기, 축환형 복소환 아미노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 알킬카보닐아미노기, 아릴카보닐아미노기, 알킬카보닐옥시기, 아릴카보닐옥시기, 알킬카보닐기, 아릴카보닐기, 비치환 카르바모일기 （－ＣＯＮＨ２), 알킬카르바모일기, 아릴카르바모일기, 알콕시카르바모일기, 아릴옥시카르바모일기, 알킬설포닐아미노기, 아릴설포닐아미노기, 비치환 설파모일기(-ＳＯ２ＮＨ２）, 알킬설파모일기, 알킬설포닐기, 아릴설포닐기, 알킬티오기, 아릴티오기, 비치환 우레이드기 （－ＮＨＣＯＮＨ２）,알킬우레이드기, 아릴우레이드기, 알콕시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, 비치환 아미노기 (-ＮＨ２）,알킬아미노기, 아릴아미노기, 히드록실기（－ＯＨ）, 시아노기 （－ＣＮ）, 니트로기（－ＮＯ２）, 메르캅토기（－ＳＨ）, 할로겐 원자 등을 예로 들 수 있다.
복소환 아미노기로서는, 질소원자, 산소원자 및 황원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1~3가지의 헤테로 원자를 포함하는 5 또는 6원의 복소환 아미노기를 예로 들 수 있다. 이러한 복소환 아미노기의 구체적 예로서는, 예를 들면, 피롤리디닐아미노, 테트라히드로아릴아미노, 테트라히드로 티오펜-2-일 아미노, 테트라히드로티오펜-3-일아미노 등의 5원 복소 지환식 아미노기;
피페리디닐아미노, 피페라지닐아미노, 디옥산-2-일아미노, 모르폴린아미노, 티오모르폴리닐아미노 등의 6원 복소지환식 아미노기;
피롤아미노, 피라졸아미노, 이미다졸아미노, 트리아졸아미노, 아릴아미노, 티오펜-2-일아미노, 티오펜-3-일아미노, 옥사졸 아미노, 티아졸아미노 등의 5원 방향족 복소환식 아미노기; 또는, 피리딜아미노, 피라딜아미노, 피리다지닐아미노, 트리아지닐아미노 등의 6원 방향족 복소환식 아미노기를 예로 들 수 있다. 또한, 상기 복소환 기는, 복소환 부분이 방향족 환인 것이 바람직하고, 또한, 복소환을 구성하는 헤테로 원자로서는 질소원자 및 황원자로부터 선택하는 것이 바람직하다.
축환형 복소환 아미노기로서는, 질소원자, 산소원자 및 황 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1~3가지의 헤테로 원자를 포함하는 5 또는 6원의 복소환기에, 1개의 벤젠환을 축환시킨, 축환형 5 또는 6원환의 복소환 아미노기를 예로 들 수 있다. 이러한 축환형 복소환 아미노기의 구체적 예로서는, 예를 들면, 프타라닐아미노 등의 복소환 부분이 5원 지환식의 축환형 복소 지환식 아미노기;
벤조피라닐아미노 등의 복소환 부분이 6원 지환식의 축환형 복소 지환식 아미노기;
벤조피롤아미노, 벤조피라졸아미노, 벤조이미다졸아미노, 벤조트리아졸아미노, 벤조프라닐아미노, 벤조 티오펜-2-일아미노, 벤조 티오펜-3-일 아미노, 벤조옥사졸아미노, 벤조티아졸아미노 등의 복소환 부분이 방향족 5원환의 축환형 방향족 복소환식 아미노기; 또는,
퀴놀리닐아미노, 신노리닐아미노, 프탈라지닐아미노, 퀴나졸리닐아미노, 퀴노퀴살리닐아미노 등의 복소환 부분이 방향족 6원환의 축환형 방향족 복소환식 아미노기를 예로 들 수 있다. 또한, 상기 복소환기는, 복소환 부분이 방향족 환인 것이 바람직하고, 또한, 복소환을 구성하는 헤테로원자로서는 질소원자 및 황원자로부터 선택되는 것이 바람직하다.
알콕시기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０알콕시기를 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０ 알콕시기의 구체적인 예로는, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, n-부톡시, n-펜톡시, n-헥실옥시, n-헵톡시, n-옥톡시, n-노닐옥시, n-데실옥시 등 직쇄상의 알콕시기;
이소 프로폭시, 이소 부톡시, sec- 부톡시, t-부톡시, 이소아밀옥시, t-아밀옥시, 이소헥실옥시, t-헥실옥시, 이소헵톡시, t-헵톡시, 이소옥틸옥시, t-옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 이소노닐옥시, 이소데실옥시 등의 분지쇄 상의 C3 -C10 알콕시기; 또는,
시클로 프로폭시, 시클로 부톡시, 시클로 펜톡시, 시클로 헥실옥시, 시클로 헵톡시 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７ 알콕시기 등을 들 수 있다. 이 중에서도 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알콕시기가 바람직하다.
아릴옥시기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２ 아릴옥시기이며, 구체적 예로서는, 예를 들면, 페녹시, 나프틸옥시, 비페닐옥시 등을 들 수 있다.
알킬카보닐아미노기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬카보닐아미노기, 바람직하게는, Ｃ１－Ｃ１０알킬카보닐아미노기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알킬 카보닐 아미노기의 구체적 예로서는, 예를 들면, 메틸 카보닐 아미노, 에틸 카보닐아미노, n-프로필카보닐아미노, n-부틸 카보닐 아미노, n-펜틸 카보닐 아미노, n-헥실 카보닐 아미노, n-헵틸 카보닐 아미노, n-옥틸 카보닐 아미노, n-노닐 카보닐 아미노, n-데실 카보닐 아미노를 포함하는 직쇄상의 알킬 카보닐 아미노기;
이소 프로필 카르보닐 아미노, 이소 부틸 카보닐아미노, sec-부틸 카보닐 아미노, t-부틸 카보닐 아미노, 이소 아밀 카보닐 아미노, t-아밀 카보닐 아미노, 이소 헥실 카보닐 아미노, t-헥실 카보닐 아미노, 이소 헵틸 카보닐 아미노, t-헵틸 카보닐 아미노, 이소 옥틸 카보닐 아미노, t-옥틸 카보닐 아미노, 2-에틸 헥실 카보닐 아미노, 이소노닐 카보닐 아미노, 이소데실 카보닐 아미노 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０알킬 카보닐 아미노기; 또는
시클로프로필카보닐아미노, 시클로 부틸 카보닐 아미노, 시클로 펜틸 카보닐 아미노, 시클로 헥실 카보닐 아미노, 시클로 헵틸 카보닐 아미노 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７ 알킬 카보닐 아미노기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬 카보닐아미노기가 바람직하며, 직쇄상의 알킬 카보닐 아미노기가 보다 바람직하다.
아릴 카보닐 아미노기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２ 아릴 카보닐 아미노기이며, 구체 예로서는, 예를 들면, 페닐 카보닐 아미노, 나프틸 카보닐 아미노, 비페닐 카보닐 아미노 등을 예로 들 수 있다.
알킬 카보닐 옥시기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬 카보닐 옥시기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０알킬카보닐 옥시기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알킬 카보닐 옥시기의 구체 예로서는, 예를 들면, 메틸 카보닐 옥시, 에틸 카보닐 옥시, n-프로필 카보닐 옥시, n-부틸 카보닐 옥시, n-펜틸 카보닐 옥시, n-헥실 카보닐 옥시, n-헵틸 카보닐 옥시, n-옥틸 카보닐 옥시, n-노닐 카보닐 옥시, n-데실 카보닐 옥시를 포함하는 직쇄상의 알킬 카보닐 옥시기;
이소 프로필 카보닐 옥시, 이소 부틸 카보닐 옥시, sec-부틸 카보닐 옥시, t-부틸 카보닐 옥시, 이소 아밀 카보닐 옥시, t-아밀 카보닐 옥시, 이소 헥실 카보닐 옥시, t-헥실 카보닐 옥시, 이소 헵틸 카보닐 옥시,t-헵틸 카보닐 옥시, 이소 옥틸 카보닐 옥시, t-옥틸 카보닐 옥시, 2-에틸 헥실 카보닐 옥시, 이소 노닐 카보닐 옥시, 이소 데실 카보닐 옥시 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０알킬 카보닐 옥시기; 또는,
시클로프로필카보닐옥시, 시클로 부틸 카보닐 옥시, 시클로 펜틸 카보닐 옥시, 시클로 헥실 카보닐 옥시, 시클로 헵틸 카보닐 옥시 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７알킬 카보닐 옥시기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬 카보닐 옥시기가 바람직하며, 직쇄상의 알킬 카보닐 옥시기가 보다 바람직하다.
아릴 카보닐 옥시기로서는 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２아릴 카보닐 옥시기이며, 구체 예로서는, 예를 들면, 페닐 카보닐 옥시, 나프틸 카보닐 옥시, 비페닐 카보닐 옥시 등을 예로 들 수 있다.
알킬 카보닐 기로서는, 직쇄, 분지쇄 또는 환상의 알킬 카보닐기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０ 알킬카보닐기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알킬 카보닐기의 구체 예로서는, 예를 들면, 메틸 카보닐, 에틸 카보닐, n-프로필 카보닐, n-부틸 카보닐, n-펜틸 카보닐, n-헥실 카보닐, n-헵틸 카보닐, n-옥틸 카보닐, n-노닐 카보닐, n-데실 카보닐을 포함하는 직쇄상의 알킬 카보닐기;
이소 프로필 카보닐, 이소 부틸 카보닐, sec-부틸 카보닐, t-부틸 카보닐, 이소 아미노 카보닐, t-아미노 카보닐, 이소 헥실 카보닐, t-헥실 카보닐, 이소 헵틸 카보닐,t-헵틸 카보닐, 이소 옥틸 카보닐, t-옥틸 카보닐, 2-에틸 헥실 카보닐, 이소 노닐 카보닐, 이소 데실 카보닐 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０알킬 카보닐기; 또는,
시클로프로필카보닐, 시클로 부틸 카보닐, 시클로 펜틸 카보닐, 시클로 헥실 카보닐, 시클로 헵틸 카보닐 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７알킬 카보닐기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬 카보닐기가 바람직하며, 직쇄상의 알킬 카보닐기가 보다 바람직하다.
아릴 카보닐기로서는 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２아릴 카보닐기이며, 구체 예로서는, 예를 들면, 페닐 카보닐(벤조일), 나프틸 카보닐, 비페닐 카보닐 등을 예로 들 수 있다.
알킬 카르바모일기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 모노 알킬 카르바모일기, 또는 디알킬 카르바모일기를 예로 들 수 있다. 모노 알킬 카르바모일기로서는, 바람직하게는 모노Ｃ１－Ｃ１０알킬 카르바모일기이며, 구체 예로서는, 예를 들면, 메틸 카르바모일, 에틸 카르바모일, n-프로필 카르바모일, n-부틸 카르바모일, n-펜틸 카르바모일, n-헥실 카르바모일, n-헵틸 카르바모일, n-옥틸 카르바모일, n-노닐 카르바모일, n-데실 카르바모일을 포함하는 직쇄상의 알킬 카르바모일기;
이소 프로필 카르바모일, 이소 부틸 카르바모일, sec-부틸 카르바모일, t-부틸 카르바모일, 이소 아밀 카르바모일, t-아밀 카보닐, 이소 헥실 카르바모일, t-헥실 카르바모일, 이소 헵틸 카르바모일, t-헵틸 카르바모일, 이소 옥틸 카르바모일, t-옥틸 카르바모일, 2-에틸 헥실 카르바모일, 이소 노닐 카르바모일, 이소 데실 카르바모일 등의 분지쇄 상의 모노Ｃ３－Ｃ１０ 알킬 카르바모일기; 또는,
시클로 프로필 카르바모일, 시클로 부틸 카르바모일, 시클로 펜틸 카르바모일, 시클로 헥실 카르바모일, 시클로 헵틸 카르바모일 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７알킬 카르바모일기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 모노 알킬 카르바모일기가 바람직하며, 직쇄상의 모노 알킬 카르바모일기가 보다 바람직하다.
디알킬 카르바모일기로서는, 바람직하게는 디Ｃ１－Ｃ１０알킬 카르바모일기이며, 구체 예로서 예를 들면, 메틸 카르바모일, 디에틸 카르바모일, 디-n-프로필 카르바모일, 디-n-부틸 카르바모일, 디-n-펜틸 카르바모일, 디-n-헥실 카르바모일, 디-n-헵틸 카르바모일, 디-n-옥틸 카르바모일, 디-n-노닐 카르바모일, 디-n-데실 카르바모일이라 하는 직쇄상의 디알킬 카르바모일기;
디이소 프로필 카르바모일, 디이소 부틸 카르바모일, 디-sec-부틸 카르바모일, 디-t-부틸 카르바모일, 디이소아밀 카르바모일, 디-t-아밀 카르바모일, 디이소 헥실 카르바모일, 디-t-헥실 카르바모일, 디이소헵틸 카르바모일, 디-t-헵틸 카르바모일, 디이소옥틸 카르바모일, 디-t-옥틸 카르바모일, 디-(2-에틸 헥실)카르바모일, 디이소 노닐 카르바모일, 디이소 데실 카르바모일 등의 분지쇄 알킬기를 2개 갖는 분지쇄 상의 디Ｃ３－Ｃ１０ 알킬 카르바모일기; 또는,
디시클로 프로필 카르바모일, 디시클로 부틸 카르바모일, 디시클로 펜틸 카르바모일, 디시클로 헥실 카르바모일, 디시클로 헵틸 카르바모일 등의 환을 2개 갖는 환상의 디Ｃ３－Ｃ７ 알킬 카르바모일기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 디알킬 카르바모일 기가 바람직하고, 직쇄상의 디알킬 카르바모일기가 보다 바람직하다.
아릴 카르바모일기로서는, 모노아릴 카르바모일기 또는 디아릴 카르바모일기를 예로 들 수 있다. 모노 아릴 카르바모일기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ６－Ｃ１２ 아릴 카르바모일기이며, 구체 예로서는, 예를 들면, 페닐 카르바모일, 나프틸 카르바모일, 비페닐 카르바모일을 예로 들 수 있다.
디아릴 카르바모일기로서는, 바람직하게는 디Ｃ６－Ｃ１２아릴 카르바모일기이며, 구체 예로서 예를 들면, 디페닐 카르바모일, 디나프틸 카르바모일, 디(비페닐) 카르바모일 등을 들 수 있다.
알콕시 카르보닐기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알콕시 카르보닐기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０알콕시 카르보닐기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알콕시 카르바닐기의 구체 예로서 예를 들면, 메톡시 카르보닐, 에톡시 카르보닐, n-프로폭시 카르보닐, n-부톡시 카르보닐, n-펜톡시 카르보닐, n-헥실옥시 카르보닐, n-헵톡시 카르보닐, n-옥틸옥시 카르보닐, n-노닐옥시 카르보닐, n-데실옥시 카르보닐이라 하는 직쇄의 알콕시 카르보닐기;
이소 프로폭시 카르보닐, 이소 부톡시 카르보닐, sec-부톡시 카르보닐, t-부톡시 카르보닐, 이소 아밀옥시 카르보닐, t-아밀옥시 카르보닐, 이소 헥실옥시 카르보닐, t-헥실옥시 카르보닐, 이소 헵톡시 카르보닐, t-헵톡시 카르보닐, 이소 옥틸옥시 카르보닐, t-옥틸옥시 카르보닐, 2-에틸 헥실옥시 카르보닐, 이소 노닐옥시 카르보닐, 이소 데실옥시 카르보닐 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０알콕시 카르보닐기; 또는,
시클로 프로폭시 카르보닐, 시클로 부톡시 카르보닐, 시클로 펜톡시 카르보닐, 시클로 헥실옥시 카르보닐, 시크로 헵틸옥시 카르보닐 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７알콕시 카르보닐기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알콕시 카르보닐기가 바람직하고, 직쇄상의 알콕시 카르보닐기가 보다 바람직하다.
아릴 옥시 카르보닐기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２ 아릴 옥시 카르보닐기이며, 구체 예로서 예를 들면, 페녹시 카르보닐, 나프틸옥시 카르보닐, 비페닐옥시 카르보닐 등을 예로 들 수 있다.
알킬 설포닐 아미노기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬 설포닐 아미노기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０ 알킬 설포닐 아미노기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０ 알킬 설포닐 아미노기의 구체 예로서는, 예를 들면, 메틸 설포닐 아미노, 에틸 설포닐 아미노, n-프로필 설포닐 아미노, n-부틸 설포닐 아미노, n-펜틸 설포닐 아미노, n-헥실 설포닐 아미노, n-헵틸 설포닐 아미노, n-옥틸 설포닐 아미노, n-노닐 설포닐 아미노, n-데실 설포닐 아미노를 포함하는 직쇄상의 알킬 설포닐 아미노기;
이소 프로필 설포닐 아미노, 이소 부틸 설포닐 아미노, sec-부틸 설포닐 아미노, t-부틸 설포닐 아미노, 이소 아밀 설포닐 아미노, t-아밀 설포닐 아미노, 이소 헥실 설포닐 아미노, t-헥실 설포닐 아미노, 이소 헵틸 설포닐 아미노, t-헵틸 설포닐 아미노, 이소 옥틸 설포닐 아미노, t-옥틸 설포닐 아미노, 2-에틸 헥실 설포닐 아미노, 이소 노닐 설포닐 아미노, 이소 데실 설포닐 아미노 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０알킬 설포닐 아미노기; 또는,
시클로 프로필 설포닐 아미노, 시클로 부틸 설포닐 아미노, 시클로 펜틸 설포닐 아미노, 시클로 헥실 설포닐 아미노, 시클로 헵틸 설포닐 아미노 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ１０ 알킬 설포닐 아미노기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬 설포닐 아미노기가 바람직하며, 직쇄상의 알킬 설포닐 아미노기가 보다 바람직하다.
아릴 설포닐 아미노기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２아릴 설포닐 아미노기이며, 구체 예로서 예를 들면, 페닐 설포닐 아미노, 톨루엔 설포닐 아미노, 나프틸 설포닐 아미노, 비페닐 설포닐 아미노 등을 들 수 있다.
알킬 설파모일기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 모노 알킬 설파모일 기 또는 디알킬 설파모일기를 예로 들 수 있다. 모노 알킬 설파모일기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ１－Ｃ１０알킬 설파모일기이면서, 구체 예로서는, 예를 들면, 메틸 설파모일, 에틸 설파모일, n-프로필 설파모일, n-부틸 설파모일, n-펜틸 설파모일,n-헥실 설파모일, n-헵틸 설파모일, n-옥틸 설파모일, n-노닐 설파모일, n-데실 설파모일이라 하는 직쇄의 모노 알킬 설파모일기; 이소 프로필 설파모일, 이소 부틸 설파모일, sec-부틸 설파모일, t-부틸 설파모일, 이소 아밀 설파모일, t-아밀 설파모일, 이소 헥실 설파모일, t-헥실 설파모일, 이소 헵틸 설파모일, t-헵틸 설파모일, 이소 옥틸 설파모일, t-옥틸 설파모일, 2-에틸 헥실 설파모일, 이소 노닐 설파모일, 이소 데실 설파모일 등의 분지쇄 상의 모노 Ｃ３－Ｃ１０알킬 설파모일기; 또는,
시클로 프로필 설파모일, 시클로 부틸 설파모일, 시클로 펜틸 설파모일, 시클로 헥실 설파모일, 시클로 헵틸 설파모일 등의 환상의 모노 Ｃ３－Ｃ7 알킬 설파모일기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 모노 알킬 설파모일기가 바람직하고, 직쇄상의 모노 알킬 설파모일기가 보다 바람직하다.
디알킬 설파모일기로서는, 바람직하게는 디Ｃ１－Ｃ１０알킬설파모일기이며, 구체 예로서 예를 들면, 디메틸 설파모일, 디에틸 설파모일, 디-n-프로필 설파모일, 디-n-부틸 설파모일, 디-n-펜틸 설파모일, 디-n-헥실 설파모일, 디-n-헵틸 설파모일, 디-n-옥틸 설파모일, 디-n-노닐 설파모일, 디-n-데실설파모일을 포함하는 직쇄상의 디알킬 설파모일기;
디이소 프로필 설파모일, 디이소 부틸 설파모일, 디-sec-부틸 설파모일, 디-t-부틸 설파모일, 디이소 아밀 설파모일, 디-t-아밀 설파모일, 디이소 헥실 설파모일, 디-t-헥실 설파모일, 디-t-헥실 설파모일, 디이소헵틸설파모일, 디-t-헵틸-설파모일, 디이소 옥틸 설파모일, 디-t-옥틸 설파모일, 디-(2-에틸 헥실) 설파모일, 디이소 노닐 설파모일, 디이소 데실 설파모일 등의 분지쇄 상 알킬기를 2개 갖는 분지쇄 상의 디Ｃ３－Ｃ１０알킬 설파모일기; 또는,
디시클로 프로필 설파모일, 디시클로 부틸 설파모일, 디시클로 펜틸 설파모일, 디시클로 헥실 설파모일, 디시클로 헵틸 설파모일 등의 환을 2개 갖는 환상의 디Ｃ３－Ｃ７알킬 설파모일기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 디알킬 설파모일기가 바람직하고, 직쇄상의 디알킬 설파모일기가 보다 바람직하다.
아릴 설파모일기로서는, 모노 아릴 설파모일기 또는 디아릴 설파모일기를 예로 들 수 있다. 모노 아릴 설파모일기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ６－Ｃ１２아릴 설파모일기이고, 구체 예로서는 예를 들면, 페닐 설파모일, 나프틸 설파모일, 비페닐 설파모일 등을 들 수 있다.
디아릴 설파모일기로서는, 바람직하게는 디Ｃ６－Ｃ１２아릴 설파모일기이고, 구체 예로서 예를 들면, 디페닐 설파모일, 디나프틸 설파모일, 디(비페닐) 설파모일기를 들 수 있다.
알킬 설포닐로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬 설포닐기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１２ 알킬 설포닐기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１２알킬 설포닐기의 구체 예로서 예를 들면, 메킬 설포닐, 에틸 설포닐, n-프로필 설포닐, n-부틸 설포닐, n-헵틸 설포닐, n-헥실 설포닐, n-펜틸 설포닐, n-옥틸 설포닐, n-노닐 설포닐, n-데실 설포닐, n-운데실 설포닐, 도데실 설포닐을 포함하는 직쇄상의 알킬 설포닐기;
이소 프로필 설포닐, 이소 부틸 설포닐, sec-부틸 설포닐, t-부틸 설포닐, 이소 아밀 설포닐, t-아밀 설포닐, 이소 헥실 설포닐, t-헥실 설포닐, 이소 헵틸 설포닐, t-헵틸 설포닐, 이소 옥틸 설포닐, t-옥틸 설포닐, 2-에틸 헥실 설포닐, 이소 노닐 설포닐, 이소 데실 설포닐, 이소 운데실 설포닐, t-운데실 설포닐, 이소 도데실 설포닐, t-도데실 설포닐 등의 분지쇄 상의 알킬 Ｃ３－Ｃ１２ 설포닐기; 또는,
시클로 프로필 설포닐, 시클로 부틸 설포닐, 시클로 펜틸 설포닐, 시클로 헥실 설포닐, 시클로 헵틸 설포닐 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７알킬 설포닐 기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬 설포닐기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬 설포닐 기가 보다 바람직하다.
아릴 설포닐기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２아릴 설포닐기이고, 구체 예로서 예를 들면, 페닐 설포닐, 나프틸 설포닐, 비페닐 설포닐 등을 들 수 있다.
알킬티오기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알킬티오기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０알킬티오기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알킬티오기의 구체 예로서는, 예를 들면, 메틸티오, 에틸티오, n-프로필티오, n-부틸티오, n-펜틸티오, n-헥실티오, n-헵틸티오, n-옥틸티오, n-노닐티오, n-데실티오를 포함하는 직쇄상의 알킬티오기;
이소 프로필티오, 이소 부틸 티오, sec-부틸 티오, t-부틸티오, 이소 아밀티오, t-아밀티오, 이소헥실티오, t-헥실티오, 이소헵틸티오, t-헵틸티오, 이소 옥틸티오, t-옥틸티오, 2-에틸 헥실 티오, 이소노닐티오, 이소 데실 티오 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ10 알킬티오기; 또는,
시클로 프로필티오, 시클로부틸티오, 시클로 펜틸 티오, 시클로 헥실티오, 시클로 헵틸티오 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ7 알킬티오기를 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬티오기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬티오기가 보다 바람직하다.
아릴티오기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２아릴티오기이며, 구체 예로서 예를 들면, 페닐티오, 나프틸티오, 비페닐티오 등을 들 수 있다.
알킬우레이드기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 모노 알킬 우레이드기 또는 디알킬 우레이드기를 예로 들 수 있다. 모노 알킬 우레이드기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ１－Ｃ１０알킬 우레이드기이고, 구체 예로서 예를 들면, 메틸 우레이드, 에틸 우레이드, n-프로필 우레이드, n-부틸 우레이드, n-펜틸 우레이드, n-헥실 우레이드, n-헵틸 우레이드, n-옥틸 우레이드, n-노닐 우레이드, n-데실 우레이드 등의 직쇄상의 모노 알킬 우레이드기;
이소 프로필 우레이드, 이소 부틸 우레이드, sec-부틸 우레이드, t-부틸 우레이드, 이소 아밀 우레이드, t-아밀 우레이드, 이소 헥실 우레이드, t-헥실 우레이드, 이소 헵틸 우레이드, t-헵틸 우레이드, 이소 옥틸 우레이드, t-옥틸 우레이드, 2-에틸 헥실 우레이드, 이소 노닐 우레이드, 이소 데실 우레이드 등의 분지쇄 상의 모노 Ｃ３－Ｃ１０ 알킬 우레이드기; 또는,
시클로 프로필 우레이드, 시클로 부틸 우레이드, 시클로 펜틸 우레이드, 시클로 헥실 우레이드, 시클로 헵틸 우레이드 등의 환상의 모노 Ｃ３－Ｃ７알킬 우레이드 기를 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 알킬 우레이드 기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬 우레이드 기를 예로 들 수 있다.
디알킬 우레이드기로서는, 바람직하게는 디Ｃ１－Ｃ１０알킬 우레이드기이며, 구체 예로서 예를 들면, 디메틸 우레이드, 디에틸 우레이드, 디-n-프로필 우레이드, 디-n-부틸 우레이드, 디-n-펜틸 우레이드, 디-n-헥실 우레이드, 디-n-헵틸 우레이드, 디-n-옥틸 우레이드 , 디-n-노닐 우레이드, 디-n-데실 우레이드를 포함하는 직쇄상의 알킬 우레이드기;
디이소 프로필 우레이드, 디이소 부틸 우레이드, 디-sec-부틸 우레이드, 디-t-부틸 우레이드, 디이소 아밀 우레이드, 디-t-아밀우레이드, 디이소 헥실 우레이드, 디-t-헥실 우레이드, 디이소 헵틸 우레이드, 디-t-헵틸 우레이드, 디이소 옥틸 우레이드, 디-t-옥틸 우레이드, 디-(2-에틸 헥실)우레이드, 디이소 노닐 우레이드, 디이소 데실 우레이드 등의 분지쇄 상 알킬기를 2개 갖는 분지쇄 상의 디Ｃ３－Ｃ１０알킬 우레이드기; 또는, 디시클로 프로필 우레이드, 디시클로 부틸 우레이드, 디시클로 펜틸 우레이드, 디시클로 헥실 우레이드, 디시클로 헵틸 우레이드 등의 환을 2개 갖는 환상의 디Ｃ３－Ｃ7 디알킬 우레이드 기를 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 디알킬 우레이드기가 바람직하고, 직쇄상의 디알킬 우레이드기가 보다 바람직하다.
아릴 우레이드기로서는, 모노 아릴 우레이드기 또는 디아릴 우레이드기를 예로 들 수 있다. 모노 아릴 우레이드기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ６－Ｃ１２ 아릴 우레이드기이고, 구체 예로 예를 들면, 페닐 우레이드, 나프틸 우레이드, 비페닐 우레이드 등을 들 수 있다.
디아릴 우레이드 기로서는, 바람직하게는 디Ｃ６－Ｃ１２ 아릴 우레이드기이고, 구체 예로서 예를 들면, 디페닐 우레이드, 디나프틸 우레이드, 디(비페닐)우레이드 등을 예로 들 수 있다.
알콕시 카르보닐 아미노기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 알콕시 카보닐 아미노기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ１０알콕시 카보닐 아미노기를 예로 들 수 있다. Ｃ１－Ｃ１０알콕시 카보닐 아미노기의 구체 예로서는, 예를 들면, 메톡시 카보닐 아미노, 에톡시 카보닐 아미노, n-프로폭시 카보닐 아미노, n-부톡시 카보닐 아미노, n-펜톡시 카보닐 아미노, n-헥실옥시 카보닐 아미노, n-헵톡시 카보닐 아미노, n-옥틸옥시 카보닐 아미노, n-노닐옥시 카보닐 아미노, n-데실옥시 카보닐 아미노를 포함하는 직쇄상의 알콕시 카보닐 아미노기;
이소 프로폭시 카보닐 아미노, 이소 부톡시 카보닐 아미노, sec-부톡시 카보닐 아미노, t-부톡시 카보닐 아미노, 이소아밀 옥시 카보닐 아미노, t-이소아밀 옥시 카보닐 아미노, 이소헥실옥시 카보닐 아미노, t-헥실옥시 카보닐 아미노, 이소헵틸옥시 카보닐 아미노, t-헵틸옥시 카보닐 아미노, 이소옥틸 옥시 카보닐 아미노, t-옥틸옥시 카보닐 아미노, 2-에틸헥실 옥시 카보닐 아미노, 이소 노닐옥시 카보닐 아미노, 이소 데실옥시 카보닐 아미노 등의 분지쇄 상의 Ｃ３－Ｃ１０ 알콕시 카보닐 아미노기; 또는,
시클로 프로폭시 카보닐 아미노, 시클로 부톡시 카보닐 아미노, 시클로 펜톡시 카보닐 아미노, 시클로 헥실옥시 카보닐 아미노, 시클로 헵톡시 카보닐 아미노 등의 환상의 Ｃ３－Ｃ７ 알콕시 카보닐 아미노기를 예로 들 수 있다. 그 중에서도, 직쇄 또는 분지쇄 상의 알콕시 카보닐 아미노기가 보다 바람직하다.
아릴 옥시 카보닐 아미노기로서는, 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２아릴옥시 카보닐 아미노기이며, 구체 예로서 예를 들면, 페닐 카보닐 아미노, 나프틸 카보닐 아미노, 비페닐 카보닐 아미노 등을 들 수 있다.
알킬 아미노기로서는, 직쇄상, 분지쇄 상 또는 환상의 모노 알킬 아미노기 또는 디알킬 아미노기를 예로 들 수 있다. 모노 알킬 아미노기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ１－Ｃ１０알킬 아미노기이며, 구체 예로서 예를 들면, 메틸 아미노, 에틸아미노, n-프로필 아미노, n-부틸 아미노, n-펜틸 아미노, n-헥실 아미노, n-헵틸 아미노, n-옥틸 아미노, n-노닐 아미노, n-데실 아미노를 포함하는 직쇄상의 모노 알킬 아미노기;
이소 프로필 아미노, 이소 부틸 아미노, sec-부틸 아미노, t-부틸 아미노, 이소 아밀 아미노, t-아밀 아미노, 이소 헥실 아미노, t-헥실 아미노, 이소 헵틸 아미노, t-헵틸 아미노, 이소 옥틸 아미노, t-옥틸 아미노, 2-에틸헥실 아미노, 이소 노닐 아미노, 이소 데실 아미노 등의 분지쇄 상의 모노 Ｃ３－Ｃ１０알킬아미노기; 또는, 시클로 프로필 아미노, 시클로 부틸 아미노, 시클로 펜틸 아미노, 시클로 헥실 아미노, 시클로 헵틸 아미노 등의 환상 모노 Ｃ３－Ｃ７알킬 아미노기를 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 모노 알킬아미노기가 바람직하고, 직쇄상의 모노 알킬 아미노기가 보다 바람직하다.
디알킬 아미노기로서는, 바람직하게는 디Ｃ１－Ｃ１０알킬 아미노기이며, 구체 예로서 예를 들면, 디메틸 아미노, 디에틸 아미노, 디-n-프로필 아미노, 디-n-부틸 아미노, 디-n-펜틸 아미노, 디-n-헥실 아미노, 디-n-헵틸 아미노, 디-n-옥틸 아미노, 디-n-노닐 아미노, 디-n-데실 아미노를 포함하는 직쇄의 디알킬 아미노기;
디이소 프로필 아미노, 디이소 부틸 아미노, 디-sec-부틸 아미노, 디-t-부틸 아미노, 디이소 아밀 아미노, 디-t-아밀 아미노, 디이소 헥실 아미노, 디-t-헥실 아미노, 디이소 헵틸 아미노, 디-t-헵틸 아미노, 디이소 옥틸 아미노, 디-t-옥틸 아미노, 디-(2-에틸 헥실) 아미노, 디이소 노닐 아미노, 디이소 데실 아미노 등의 분지쇄 알킬 기를 2개 갖는 분지쇄 상의 디Ｃ３－Ｃ１０알킬 아미노기; 또는,
디시클로 프로필 아미노, 디시클로 부틸 아미노, 디시클로 펜틸 아미노, 디시클로 헥실 아미노, 디시클로 헵틸 아미노 등의 환을 2개 갖는 환상 디Ｃ３－Ｃ７알킬아미노기를 예로 들 수 있다. 이 중에서도, 직쇄상 또는 분지쇄 상의 디알킬 아미노기가 바람직하고, 직쇄상의 디알킬 아미노기가 보다 바람직하다.
아릴 아미노기로서는, 모노 아릴 아미노기 또는 디아릴 아미노기를 예로 들 수 있다. 모노 아릴 아미노기로서는, 바람직하게는 모노 Ｃ６－Ｃ１２아릴 아미노기이며, 구체 예로 예를 들면, 페닐 아미노(아닐리노), 나프틸 아미노, 비페닐 아미노 등을 들 수 있다.
디아릴 아미노기로서 바람직하게는 Ｃ６－Ｃ１２ 아릴 아미노기이며, 구체 예로 예를 들면, 디페닐 아미노, 디나프틸 아미노, 디(비페닐) 아미노 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 예로 들 수 있으며, 불소 원자, 염소 원자 또는 브롬 원자가 바람직하다.
본 실시 양태에 있어서, 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물의 염으로는, 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물의 유리산을 무기 양이온 또는 유기 양이온과 함께 염을 형성하고 있는 상태를 의미한다. 무기 양이온은 알칼리 금속, 예를 들어 리튬, 나트륨, 칼륨의 각 양이온 또는 암모늄 (NH4+) 등을 들 수 있다. 또한 유기 양이온으로는, 예를 들면 다음 식 (D)로 표시되는 유기 암모늄 등을 들 수 있다
[식 (D)]
Figure pct00013
식 (D) 중 Ｚ1 내지 Ｚ4는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 히드록시 알킬기 또는 히드록시 알콕시 알킬기를 나타내고, 또한, Ｚ1 내지 Ｚ4 중 적어도 어느 하나는 수소 원자 이외의 기이다.
식 (D) 중, Ｚ1 내지 Ｚ4의 구체 예로 예를 들면, 메틸, 에틸, 부틸, 펜틸, 헥실 등의 Ｃ１－Ｃ６알킬기, 바람직하게는 Ｃ１－Ｃ４알킬기;
히드록시 메틸, 2-히드록시 에틸, 3-히드록시 프로필, 2-히드록시 프로필, 4-히드록시 부틸, 3-히드록시 부틸, 2-히드록시 부틸 등의 히드록시 Ｃ１－Ｃ６ 알킬기, 바람직하게는 히드록시 Ｃ１－Ｃ４ 알킬기; 또는,
히드록시 에톡시 메틸, 2-히드록시 에톡시 에틸, 3-히드록시 에톡시 프로필, 3-히드록시 에톡시 부틸, 2-히드록시 에톡시 부틸 등의 히드록시 C１－Ｃ６ 알콕시, Ｃ１－Ｃ６ 알킬기, 바람직하게는 히드록시 Ｃ１－Ｃ４알콕시 Ｃ１－Ｃ４알킬기 등을 예로 들 수 있다.
이러한 무기 양이온 또는 유기 양이온 중에서도, 나트륨, 칼륨, 리튬, 모노 에탄올 아민, 디에탄올 아민, 트리에탄올 아민, 모노 이소프로판올 아민, 디이소프로판올 아민, 트리 이소프로판올 아민, 암모늄 등의 각 양이온이 보다 바람직하고, 리튬, 암모늄 또는 나트륨의 각 무기 양이온이 특히 바람직하다.
다음으로, 본 실시 양태에 따른 스틸벤계 화합물의 합성 방법에 대해 설명한다. 합성 방법으로는 예를 들어 다음과 같은 합성 반응을 수행하여 본 실시예 에서 상기 각 식으로 표시되는 스틸벤계 화합물을 합성할 수 있다.
식 (1) 중 Y기는 치환기를 가질 수 있는 아미드기이다. 본 실시 양태에 따른 스틸벤계 화합물, 예를 들면, 식 (3)으로 표시되는 스틸벤계 화합물은 산 클로라이드 또는 산 무수물을 이용하는 일반 아미드화에 따라 제조할 수 있다. 구체적으로는 스틸벤 골격을 갖는 화합물의 아미드화가 이루어진다. 예를 들어, 먼저 시판품으로 입수 가능한 4-아미노-4'- 니트로 스틸벤-2,2'- 디설폰산을 탄산나트륨 등의 염기 존재 하에서 N-메틸-2-피롤리돈 등의 용매 중에서, A-C (= O) -Cl (식에서, A는 식 (3)에 대해 정의한 바와 같다.)로 표시되는 산 클로라이드 또는 A-C (= O) -O-C (= O) - A (식에서, A는 식 (3)에 대해 정의한 바와 같다.)로 표시되는 산 무수물과 60 ℃ ~ 140 ℃에서 반응시킨다. 이어서, 얻어진 반응액에 물 또는 식염수를 첨가하고 석출된 고체를 여과 등에 의해 분리한다. 그 후, 분리된 고체를 필요에 따라 세척, 건조시킴으로써, 본 실시 양태의 식 (3)으로 표시되는 스틸벤계 화합물을 합성할 수 있다.
또한 식 (1) 중 Y기가 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기인 본 실시 양태에 따른 스틸벤계 화합물, 예를 들면, 식 (5)로 표시되는 스틸벤계 화합물도 또한 시판품으로 입수 가능한 4-아미노-4'- 니트로 스틸벤-2,2'- 디설폰산으로부터 합성할 수 있다. 구체적으로는 4-아미노-4'- 니트로 스틸벤-2,2'- 디설폰산을 염산 등의 산성 하에서 수중 아질산 나트륨 수용액 등과 10 ℃ 이하에서 디아조화시킨다. 이어서, 얻어진 디아조화 반응액에 하기 식 (A) 아미노 나프탈렌을 넣고 용액을 pH 1.0 ~ 8.0에서 반응시켜 중간체인 하기 식 (B)의 화합물을 얻는다. 또한, 하기 식 (A) 및 식 (B) 중 기본 Ｒ２ 및 n은 식 (5)에 정의된 바와 같다.
[식 (A) 및 식 (B)]
Figure pct00014
얻어진 식 (B)의 중간체를 수중에서 25 % 수산화 나트륨 수용액을 사용하여 pH9.0 ~ 11.0의 수용액을 얻은 후, 이 수용액에 28 % 암모니아수 및 황산구리5수화물을 첨가하고 이를 80 ~ 100 ℃에서 반응시킨다. 이로써 식 (5)로 표시된 B기가 니트로기인 스틸벤계 화합물을 얻을 수 있다.
또한 B기가 니트로기인 수득된 스틸벤 화합물을 철분 환원, 히드라진 환원 팔라듐 - 카본 등의 대표적인 환원제를 이용한 환원 반응 등에 의해 식 (C)로 나타내지는 B기가 아미노기인 스틸벤계 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 다음 식 (C) 중 기본 Ｒ２ 및 n은 식 (5)에 대해 정의한 바와 같다.
[식 (C)]
Figure pct00015
얻어진 식 (C)의 화합물의 아미노기는, 상법에 의해, 알킬 아미노기, 알킬 카보닐 아미노기, 아릴 카보닐 아미노기, 알킬 설포닐 아미노기, 또는 아릴 설포닐 아미노기 등으로 임의로 변환하는 것도 가능하다.
이렇게 하여 얻어진 본 실시 양태에 따른 스틸벤계 화합물 또는 그의 염은 편광막용 이색성 염료로 유용하다. 또한, 편광막에 투명 보호막을 형성하여 편광판을 제조할 수 있다. 제작한 편광판은 필요에 따라 공지된 각종 기능성 층을 더 형성할 수 있으며, 이러한 편광판은 액정 프로젝터, 계산기, 시계, 노트북, 워드 프로세서, 액정 TV, 차 네비게이션, 보안용 디스플레이, 실내외 측정기, 표시품, 렌즈 안경 등에 적용할 수 있다.
[ 편광막 ]
본 실시 형태에 관한 편광막은, 하기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물 또는 그 염을 함유하는 기재를 함유하고 있으며, 바람직하게는 염료계 편광막이다. 편광막이 가시광 영역에 대해 편광 발광 작용을 나타내는 상술의 스틸벤계 화합물 또는 그 염을 함유하므로, 편광막은, 가시광 영역으로 편광된 광을 발광하는 편광발광 기능을 가진다. 이러한 기재는, 염료를 흡수하여 얻은 친수성 고분자를 제막하여 얻은 필름 등인 것이 바람직하다. 해당 친수성 고분자는, 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 폴리 비닐 알코올 계 수지, 아밀로오스계 수지, 녹말계 수지, 셀룰로오스계 수지 및 폴리아크릴산염계 수지 등을 들 수 있다. 이러한 수지들 중에서도, 염료의 흡수성, 가공성, 배향성 등의 관점으로부터, 폴리비닐 알코올계 수지 또는 그 유도체인 것이 바람직하고, 기재는, 폴리 비닐 알코올계 수지 또는 그 유도체로부터 제작된 필름인 것이 바람직하다. 폴리 비닐 알코올계 수지 또는 그 유도체는, 에틸렌, 프로필렌 등의 올레핀, 또는, 크로톤산, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산 등의 불포화 카본산 등으로 변성되어도 좋다. 기재의 형상은, 특히 한정되지 않고, 예를 들면, 필름상, 시트상, 평판상, 곡판상 등의 반구상 등, 임의의 형상으로 제작하는 것이 가능하다. 또한, 기재의 두께는, 통상, 10 μｍ~100 μｍ이고, 바람직하게는 20 μｍ~80 μｍ이다. 편광막은, 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물 또는 그 염을 단독 또는 복수로 포함해도 좋다.
편광막에 함유된 스틸벤계 화합물의 배합 비율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 투과율이 후술하는 바람직한 범위가 되도록 조정되는 것이 바람직하다. 편광막의 편광 성능은 편광막에 포함된 스틸벤계 화합물의 배합 비율뿐만 아니라 해당 화합물을 흡착시키는 기재의 팽윤도, 연신 배율, 염색 시간, 염색 온도, 염색 시의pH, 염의 영향 등의 다양한 요인에 의해 변화한다. 따라서 편광막에 함유된 스틸벤계 화합물의 배합 비율은 기재의 팽윤도, 염색시의 온도, 시간, pH, 염의 종류, 염의 농도, 심지어 연신 배율에 따라 결정하는 것이 가능하다. 이러한 배합 비율의 조정은 적절하게 조정할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 편광막은, 편광막의 편광성능을 저해하지 않는 범위에서, 색 조정을 목적으로 하여, 필요에 따라, 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물 또는 그 염과는 다른 유기 염료 또는 형광 염료를 1종 이상 추가로 함유해도 좋다. 병용되는 유기 염료 또는 형광 염료는, 특히 한정되지 않지만, 이색성이 높은 색소가 바람직하고, 또한 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물 또는 그 염의 자외광 영역의 편광 성능에 영향이 적은 염료가 바람직하다. 이러한 염료는, 예를 들면, 시. 아이. 다이렉트. 옐로우 12, 시. 아이. 직접. 옐로우 28, 시. 아이. 다이렉트. 옐로우 44, 시. 아이. 다이렉트. 오렌지 26, 시. 아이. 다이렉트. 오렌지 39, 시. 아이. 다이렉트. 오렌지 71, 시. 아이. 다이렉트. 오렌지 107, 시. 아이. 다이렉트. 레드 2, 시. 아이. 다이렉트. 레드 31, 시. 아이. 다이렉트. 레드 79, 시. 아이. 다이렉트. 레드 81, 시. 아이. 다이렉트. 레드 247, 시. 아이. 다이렉트. 블루 69, 시. 아이. 다이렉트. 블루 78, 시. 아이. 다이렉트. 그린 80, 시. 아이. 다이렉트. 그린 59 등을 들 수 있다. 이러한 염료는 유리산이어도, 또는 알카리 금속염(예를 들면, Na염, K염, Li염), 암모늄산염 또는 아민류의 염이어도 좋다.
상기의 유기 염료 또는 형광 염료를 병용하는 경우, 소망하는 편광막이 뉴트럴 그레이 편광막, 액정 프로젝터용 컬러 편광막, 그 외 컬러 편광막 등 용도에 따라 각각 배합하는 염료의 종류가 다르다. 따라서 유기 염료 또는 형광 염료의 배합 비율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반적으로는 상기 각 식의 스틸벤계 화합물 또는 그 염의 중량부를 기준으로, 이러한 염료의 적어도 1종 이상의 합계가 0.01 내지 10 중량부의 범위가 되도록 이용하는 것이 바람직하다.
< 편광막의 제조방법>
다음으로, 본 실시 형태에 관한 편광막의 제조 방법에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 관한 편광막의 제조 방법은, 이하의 제조에 한정되지 않지만, 주로, 기재를 준비하는 공정과, 기재를 팽윤액에 침지시켜 당해 기재를 팽윤에 의해 연신시키는 팽창 공정과, 팽윤시킨 기재를 적어도 1종의 상기 각 식으로 표시되는 스틸벤계 화합물 또는 그의 염을 포함하는 염색 용액에 함침시켜 기재에 염료로서의 스틸벤계 화합물을 흡착시키는 염색 공정과, 염료를 함유시킨 기판을 붕산을 함유하는 용액에 침지하여 염료를 기재 중에서 가교시키는 가교 공정과, 염료를 가교시킨 기재를 일정한 방향으로 일축 연신하여 염료를 일정한 방향으로 배열시키는 연신 공정과, 필요에 따라 연신시킨 기재를 세정액으로 세정하는 세정 공정, 및 세정시킨 기재를 건조하는 건조 공정을 포함한다.
(기재의 준비)
우선, 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물(이하, 간단히 [염료]라고 한다.)를 함유시키기 위한 기재를 준비한다. 당해 기재는, 예를 들면, 시판의 폴리비닐 알코올계 수지 또는 그 유도체의 필름을 이용해도 좋고, 폴리비닐 알코올 계 수지를 제막하는 것에 의해 제작해도 좋다. 폴리 비닐 알코올계 수지의 제막 방법은 특히 한정되지 않고, 예를 들면, 함수 폴리비닐 알코올을 용융 압출하는 방법 유연 제막법, 습식 제막법, 겔 제막법 (폴리 비닐 알코올 수용액을 일단 냉각 겔화한 후, 용매를 추출 제거), 캐스트 제막법 (폴리 비닐 알코올 수용액을 기반 위로 흘려 건조) 및 이들의 조합에 의한 방법 등 공지된 제막 방법을 채용할 수 있다.
(팽윤 공정)
다음으로, 상술의 기재에, 팽윤 처리를 시행한다. 팽윤 처리는, ２０～５０℃의 팽윤액에 기재를 30초~10분간 침지시키는 것에 의해 행하는 것이 바람직하고, 팽윤액은 물인 것이 바람직하다. 팽윤액에 의한 기재의 연신 배율은, 1.00~1.50 배로 조정하는 것이 바람직하고, 1.10~1.35 배로 조정하는 것이 보다 바람직하다.
(염색 공정)
이어, 상기와 같은 팽윤 처리를 실시하여 얻어진 기재에 적어도 1 종의 염료를 흡착 및 함침시킨다. 염색 공정은, 염료를 기재에 흡착 및 함침시키는 방법이라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 기재를 포함하는 염색 용액 (염색 수용액)에 침지시키는 것이 바람직하고, 또한 기재에 염색 용액을 도포하여 흡착시킬 수도 있다. 염색 용액의 염료 농도는 기재 중에 염료가 충분히 흡착되어 있으면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 염색 용액 중에 0.0001 ~ 1 질량%인 것이 바람직하고, 0.001 ~ 0.5 중량 %인 것이 더욱 바람직하다.
염색 공정의 염색 용액의 온도는, 5~80 ℃인 것이 바람직하고, 20~50 ℃가 보다 바람직하고, 40~50 ℃가 특히 바람직하다. 또한, 염색 용액에 기재를 침지시키는 시간은, 적당히 조정 가능하고, 30 초~20 분간으로 조절하는 것이 바람직하고, 1분~10분의 시간이 보다 바람직하다.
염색 용액에 포함된 염료로서, 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물은, 1종 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 이러한 상기 각 식으로 표시된 스틸벤계 화합물은, 화합물에 따라 그 발광색이 다르기 때문에, 기재에, 상기의 염료를 1종 이상 함유시키는 것에 의해, 발생하는 발광색을 소망의 색으로 조정하는 것이 가능하다. 또한, 필요에 따라, 염색 용액은, 1종 이상의 상기 유기 염료 또는 형광 염료를 더 포함해도 좋다.
염색 용액은 상기 염료 외에도 필요에 따라 더욱 염색 보조제를 함유해도 좋다. 염색 보조제로는 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산 수소 나트륨, 염화나트륨, 황산나트륨 (망초), 무수 황산나트륨 및 트리폴리인산나트륨 등을 들 수 있고 바람직하게는 황산나트륨이다. 염색 보조제의 함량은 사용되는 염료의 염색성에 따른 상기 침지 시간 및 염색 용액의 온도에 따라 임의로 조정 가능하지만, 염색 용액에 0.1 내지 10 질량 %인 것이 바람직하고, 0.1 ~ 2 질량 %인 것이 더욱 바람직하다.
염색 공정 후 해당 염료 함유 공정에서 기재의 표면에 부착한 염색 용액을 제거하기 위해 임의의 예비 세정 공정을 실시할 수 있다. 예비 세정 공정을 실시하여 다음 처리액 중에 기재 표면으로 잔존하는 염료가 이동하는 것을 억제할 수 있다. 예비 세정 공정에서 세정액으로 일반적으로 물이 사용된다. 세정 방법은 세정액으로 염색한 기재를 침지시키는 것이 바람직하고, 한편 세정액을 해당 기재에 도포하여 세정할 수 있다. 세정 시간은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 1 ~ 300 초이며, 보다 바람직하게는 1 ~ 60 초이다. 예비 세정 공정의 세정액의 온도는 기재를 구성하는 재료가 용해되지 않는 온도인 것이 필요하며, 일반적으로 5 ~ 40 ℃에서 세정 처리가 실시된다. 또한, 예비 세정 공정의 공정 없이도 편광 소자의 성능에 특별한 큰 영향을 미치지 않기 때문에, 예비 세정 공정을 생략할 수 있다.
(가교 공정)
염료 함유 공정 또는 예비 세정 공정의 후, 기재에 가교제를 함유시키는 것이 가능하다. 기재에 가교제를 함유시키는 방법은, 가교제를 포함하는 처리 용액에 기재를 침적시키는 것이 바람직하고, 한편으로는, 해당 처리 용액을 기재에 도포 또는 도공하는 것도 좋다. 처리 용액 중에 가교제로서는, 붕산을 함유하는 용액을 사용하는 것이 바람직하다. 처리 용액 중의 용매는, 특히 한정되지 않지만 물이 바람직하다. 처리 용액 중의 붕산의 농도는 0.1~15 질량%인 것이 바람직하고, 0.1~10 질량%인 것이 보다 바람직하다. 처리 용액의 온도는 30~80℃가 바람직하고, 40~75℃가 보다 바람직하다. 또한, 이 가교 공정의 처리 시간은 30초~10분이 바람직하고, 1~6분이 보다 바람직하다. 본 실시형태에 따른 편광막의 제조 방법은, 상기 가교 공정을 갖는 것에 의해, 얻어진 편광 소자는, 높은 콘트라스트를 보여준다. 이 것은, 종래 기술에서 내수분성 또는 광 투과성을 개선시킬 목적으로 사용된 붕산의 기능을 고려시, 전혀 예상할 수 없는 뛰어난 작용이다. 또한 가교 공정에서 필요에 따라 양이온계 고분자 화합물을 포함하는 수용액에서 고정 작업을 더 시행해도 좋다. 고정 처리에 의해 염료의 고정화가 가능해진다. 이 때, 양이온계 고분자 화합물로서, 예를 들어 디시안계로 디시안아미드와 포르말린의 중합 축합물, 폴리아민계로서 디시안 디아미드 · 디에틸렌트리아민의 중축합물, 폴리 양이온계로서 에피 클로로히드린 · 디메틸 아민 부가 중합체, 디메틸 디아릴 암모늄 클로라이드 · 이산화 이온 공중합물, 디아릴아민염 중합물, 디메틸 디아릴 암모늄 클로라이드 중합물, 아릴 아민염의 중합물, 디알킬 아미노 에틸 아크릴레이트의 4급염 중합물 등이 사용된다.
(연신 공정)
가교 공정을 실시한 후, 연신 공정을 실시한다. 연신 공정은 기판을 일정한 방향으로 일축 연신함으로써 이루어진다. 연신 방법은 습식 연신법 또는 건식 연신법의 어느 것이라도 좋다. 연신 배율은 3 배 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 ~ 8 배이다.
건식 연신법에서 연신 가열 매체가 공기 매체인 경우에는 공기 매체의 온도가 상온 ~ 180 ℃에서 기재를 연신하는 것이 바람직하다. 또한, 습도는 20 ~ 95 % RH의 분위기인 것이 바람직하다. 기재의 가열 방법으로는 예를 들면, 롤 가열 연신법, 롤 간 존(zone) 연신법, 열간 연신법 및 적외선 가열 연신법 등을 들 수 있는데, 상기 연신 방법에 한정되는 것은 아니다. 건식 연신 공정은 한 단계 연신으로 실시해도 두 단계 이상의 다단 연신으로 실시할 수 있다.
습식 연신법에서는, 물, 수용성 유기 용제 또는 그 혼합 용액 중에 기재를 연신하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 가교제를 적어도 1종 함유하는 용액 중에 기재를 침지하면서 연신 처리를 한다. 가교제는 예를 들어, 상기 가교제 공정에서 붕산을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 가교 공정에서 사용한 처리 용액 중에서 연신 처리를 할 수 있다. 연신 온도는 40 ~ 60 ℃인 것이 바람직하고, 45 ~ 58 ℃가 보다 바람직하다. 연신 시간은 보통 30 초 ~ 20 분이며, 바람직하게는 2 ~ 7 분이다. 습식 연신 공정은 한 단계 연신으로 실시해도 되고, 두 단계 이상의 다단 연신으로 실시할 수 있다. 또한, 연신 처리는 임의로 염료 함유 공정 전에 실시해도 좋고, 이 경우에는 염색 시점에서 염료의 배향도 함께 실시할 수 있다.
(세정 공정)
연신 공정을 실시한 후, 기재의 표면에 가교제의 석출 또는 이물질이 부착 될 수 있기 때문에 기재의 표면을 세정하는 세정 공정을 할 수 있다. 세정 시간은 1 초 ~ 5 분 바람직하다. 세정 방법은 기재를 세정액에 침지하는 것이 바람직하고, 한편 세정액을 기재에 도포 또는 도공하는 것에 의해 세정할 수 있다. 세정액으로는 물이 바람직하다. 세정 처리는 한 단계로 실시해도 좋고 2 단계 이상의 다단 처리로 실시해도 좋다. 세정 공정의 세정액의 온도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반적으로 5 ~ 50 ℃, 바람직하게는 10 ~ 40 ℃이며 상온이어도 좋다.
상술한 각 공정에서 사용되는 용액 또는 처리액의 용매로는 상기 물 외에도, 예를 들면, 디메틸 술폭시드, n-메틸 피롤리돈, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소 프로필 알코올, 글리세린, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리 에틸렌 글리콜, 테트라 에틸렌 글리콜 또는 트리메틸올 프로판 등의 알코올류, 에틸렌 디아민 및 디에틸렌 트리아민 등의 아민류 등을 들 수 있다. 당해 용액 또는 처리액의 용매는 이에 한정되는 것은 아니지만, 가장 바람직하게는 물이다. 또한, 상기 용액 또는 처리액의 용매는 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
(건조 공정)
세정 공정 후, 기재의 건조 공정을 시행한다. 건조 처리는, 자연 건조에 의해 행하는 것도 가능하고, 보다 건조율을 높이기 위해 롤에 의한 압착이나 에어 나이프 또는 흡수롤 등에 의해 표면의 수분 제거 등에 의해 행하는 것도 가능하며, 송풍 건조를 행하는 것도 가능하다. 건조 처리의 온도는, 20~100 ℃인 것이 바람직하고, 60~100 ℃인 것이 보다 바람직하고, 건조 시간은, 30초~20분인 것이 바람직하고, 5~10분인 것이 보다 바람직하다.
이와 같이, 본 실시예에 관한 편광막을 제조할 수 있다. 또한, 본 실시 양태에서 상기 각 식으로 표시되는 스틸벤계 화합물은 액정과 함께 혼합시켜 배향시키는 방법 또는 공유하는 도공 방법으로 배향시킴으로써 각종 색깔 또는 중립 회색을 갖는 편광막을 제조할 수 있다.
[편광판]
본 실시 양태에 따른 편광판은 상기 편광막과 당해 편광막의 적어도 한쪽 면에 설치된 투명 보호층을 갖추고 있으며, 바람직하게는 염료계 편광판이다. 투명 보호층은 편광막의 내수성 및 취급성 등을 향상시키기 위해 사용된다. 따라서 이러한 투명 보호층은 본 실시 양태에 따른 편광막이 나타내는 편광 작용에 아무런 영향을 미치지 않는다.
투명 보호층은 광학적 투명성 및 기계적 강도가 우수한 투명 보호막인 것이 바람직하다. 또한 투명 보호층은 편광막의 형상을 유지할 수 있는 층 형상을 갖는 필름인 것이 바람직하고, 투명성 및 기계적 강도 외에, 열 안정성, 수분 차폐성 등도 뛰어난 플라스틱 필름인 것이 바람직하다.
또한, 편광막은 자외광 영역의 빛을 흡수하여 편광 발광 작용을 나타내기 때문에 투명 보호층은 자외광 흡수 기능을 갖지 않는 것이 바람직하며, 특히 자외광 흡수 기능을 갖지 않는 플라스틱 필름 인 것이 바람직하다. 이러한 투명 보호막을 형성하는 재료로서는, 예를 들면, 셀룰로오스 아세테이트계 필름, 아크릴계 필름, 사불화 에틸렌/육불화 프로필렌계 공중합체와 같은 불소계 필름 혹은 폴리 에스테르 수지, 폴리올레핀 수지 또는 폴리 아미드계 수지의 필름 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 트리 아세틸 셀룰로스 (TAC) 필름과 시클로 올레핀계 필름이 사용될 수 있다. 투명 보호층의 두께는 1μm ~ 200μm의 범위가 바람직하며, 10μm ~ 150μm의 범위가 보다 바람직하고, 40μm ~ 100μm가 특히 바람직하다. 본 실시 양태에 따른 편광판을 제조하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 편광막에 투명 보호층을 거듭하여 공지의 처방으로 적층하여 편광판을 제조할 수 있다.
이러한 편광판은 투명 보호층과 편광막 사이에 투명 보호층을 편광막에 접착시키기 위한 접착제 층을 더 포함할 수도 있다. 접착제 층을 구성하는 접착제는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리 비닐 알코올계 접착제, 우레탄 에멀젼계 접착제, 아크릴계 접착제, 폴리 에스테르 이소시아네이트계 접착제 등을 들 수 있고, 바람직하게는 폴리 비닐 알코올계 접착제가 사용된다. 투명 보호층과 편광막과 접착제로 접합한 후 적절한 온도에서 건조 또는 열처리를 실시하여 편광판을 제조할 수 있다.
또한, 본 실시 양태에 따른 편광판은 투명 보호층의 노출면에 반사 방지층, 방현 층, 추가의 투명 보호층 등의 공지의 각종 기능성 층을 적절히 제공할 수 있다. 이러한 다양한 기능을 갖는 층을 제작하는 경우, 각종 기능을 갖는 재료를 투명 보호층의 노출면에 도공하는 방법이 바람직하고, 한편 그러한 기능을 갖는 층 또는 필름을 접착제 또는 점착제를 통해 투명 보호층의 노출면에 붙여 맞추는 것도 가능하다.
더욱 투명 보호층으로서, 예를 들면, 아크릴계 폴리실록산계 등의 하드 코팅 층, 우레탄계 보호층 등을 들 수 있다. 또한 단체 투과율을 보다 향상시키기 위해 투명 보호층의 노출 상에 반사 방지층을 설치하는 것도 있다. 반사 방지층은, 예를 들면, 이산화규소, 산화티탄 등의 물질을 투명 보호층 상에 증착 또는 스퍼터링 처리하거나 혹은 불소계 물질을 투명 보호층에 얇게 도포하여 형성할 수 있다.
본 실시 양태에 따른 편광판은 필요에 따라 유리, 수정, 사파이어 등의 투명 지지체 등을 추가로 설치할 수 있다. 이러한 지지체는 편광판에 붙이기 위한 평면 부를 가지고 있는 것이 바람직하고, 또한 광학 용도의 관점에서 투명 기판인 것이 바람직하다. 투명 기판으로는 무기 기판과 유기 기판으로 나뉠 수 있으며, 예를 들어, 무기 기판으로는 소다 유리, 붕산 유리, 석영 기판, 사파이어 기판, 스피넬 기판 등을 들 수 있으며, 유기 기판으로는 아크릴, 폴리 카보네이트, 폴리에틸렌 테레 프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 시클로올레핀 폴리머 등으로 구성된 기판을 들 수 있다. 투명 기판의 두께, 크기 등은 특별히 한정되는 것이 아니고, 적절하게 결정할 수 있다. 또한 이러한 투명 기판을 갖는 편광판은 단체 투과율을 보다 향상시키기 위해, 그 지지체면 또는 편광판 표면의 한쪽 또는 양쪽 면에 반사 방지층을 설치하는 것이 바람직하다. 편광판과 지지체의 평면 부를 접착시키기 위해 투명 접착 (접착제) 물질을 지지체 평면 부에 도포 한 다음, 이 도포면에 본 실시 양태에 따른 편광판을 부착하면 된다. 사용하는 접착제 또는 점착제는 특별히 한정되는 것이 아니고, 시판되고있는 것을 사용할 수 아크릴산 에스테르 계 접착제 또는 점착제가 바람직하다.
또한, 본 실시 양태에 따른 편광판은 위상차 판을 부착하여 원형 편광판 또는 타원 편광판으로 사용할 수도 있다. 이 때, 편광판에 지지체 등을 추가로 설치하는 경우, 지지체는 위상차 판의 측이어도, 편광판 측이어도 좋다. 따라서, 편광판에는 다양한 기능성 층, 지지체 등을 추가로 설치할 수 있으며, 이러한 편광판은, 예를 들면, 액정 프로젝터, 계산기, 시계, 노트북, 워드 프로세서, 액정 TV, 차 네비게이션 및 실내외 계측기 및 표시품 등 렌즈 혹은 안경 등 다양한 제품에 사용할 수 있다.
이렇게하여 제작된 본 실시 양태에 따른 편광막과 편광판은 자외광 영역에서 높은 편광도를 나타냄과 동시에 또한 가시광 영역에서 편광 발광 작용, 높은 투과율을 나타낸다. 또한, 본 실시 양태에 따른 편광막과 편광판은 열, 습도, 빛 등에 대해 뛰어난 내구성을 보여주기 위해 열악한 환경에서도 그 성능을 유지하는 것이 가능하며, 기존의 요오드 소계 편광판보다 높은 내구성을 가진다. 따라서 본 실시 양태에 따른 편광막과 편광판은 가시광 영역에서의 높은 투명성과 열악한 환경에서 높은 내구성이 요구되는 액정 디스플레이, 예를 들어, TV, 웨어러블 단말, 태블릿, 스마트 폰, 자동차 모니터, 야외 또는 실내에서 사용되는 디지털 기호, 스마트 윈도우 등의 각종 표시 장치에 응용할 수 있다.
[표시 장치]
본 실시 양태에 따른 표시 장치는 상기 편광막 또는 편광판을 포함한다. 즉, 본 실시예 에서 특정 스틸벤계 화합물을 함유하는 편광막 또는 편광판을 갖는 디스플레이는 400nm 이하의 광, 예를 들면 자외광을 조사함으로써 편광 발광 작용을 나타내며, 이 작용을 이용하여 표시가 가능해진다. 본 실시 양태에 따른 표시 장치는 가시광 영역에서 높은 투과율을 가지고 있기 때문에 기존의 편광판과 같은 가시광 영역의 투과율의 저하가 없거나 투과율의 저하가 있어도 기존의 편광판의 투과율보다 투과율의 저하는 현저하게 작다. 예를 들어, 기존 편광판인 요오드 소재 편광판, 다른 염료 화합물을 사용한 염료계 편광판은 편광도 거의 100 %로 하기 위해 가시광 영역에서의 시감도 보정이 35 ~ 43 % 정도이다. 그 이유는 기존의 편광판은 빛의 흡수 축으로 종축과 횡축을 모두 가지고 있으며, 거의 100 %의 편광도를 얻기 위해서는 종축 또는 횡축 중 어느 한쪽의 입사한 빛을 흡수, 즉 하나의 축으로 빛을 흡수하고 다른 축에서는 빛을 투과하여 편광이 생긴다. 이런 경우 한 축에서의 빛은 흡수되어 투과하지 않기 때문에 필연적으로 투과율은 50 % 이하가 되어 버린다. 또한, 종래의 편광판은 이색성 색소를 연신시킨 필름 중에서 배향시켜 편광판을 제작하고 있지만 반드시 이색성 색소가 100 % 배향하고 있는 것은 아니고, 또한 빛의 투과 축에 대해 약간 흡수 성분을 가지고 있기 때문에, 물질의 표면 반사에 의해 투과율이 약 43 % 이하이지 않으면 거의 100 %의 편광도가 실현될 수 없는, 즉, 투과율을 저하시키지 않으면 높은 편광도를 실현할 수 없었다. 대조적으로, 본 실시 양태에 따른 편광막 또는 편광판은 약 400nm 부근이 빛의 흡수 축이다. 이러한 편광막 또는 편광판은 자외광 영역에서 빛의 흡수 작용이 있어 가시광 영역으로 편광된 빛을 발광하는 편광 발광 작용을 나타내는 한편, 가시광 영역에서는 거의 빛을 흡수하지 않기 때문에, 가시광 영역에서의 투과율은 매우 높아진다. 또한 가시광 영역에서는 편광 발광 작용을 나타내기 때문에 기존의 편광판을 이용하는 것보다도 빛의 손실이 없어 종래의 편광판과 같은 투과율의 저하는 매우 적다. 이 때문에 본 실시 양태에 따른 편광막 또는 편광판을 사용한 표시 장치, 예를 들면, 액정 디스플레이는 기존의 편광판을 이용한 액정 디스플레이보다 높은 휘도를 얻을 수 있다. 또한, 본 실시 양태에 따른 편광막 또는 편광판을 구비 표시 장치는 투명성이 높기 때문에, 액정 디스플레이이면서 거의 투명한 디스플레이를 얻을 수 있으며, 또한 문자, 이미지 등의 표시 시에는 편광 발광이 투과하도록 설계할 수 있기 때문에 투명 액정 디스플레이이면서도 표시 가능한 디스플레이, 즉 투명한 디스플레이에 문자 등이 표시 가능한 디스플레이를 얻을 수 있다. 따라서 본 실시 양태에 따른 표시 장치는 광 손실이 없는 투명한 LCD, 특히 시스루 디스플레이로의 적용에 효과적이다.
한편, 본 실시 양태에 따른 표시 장치는 예를 들어, 사람의 눈에 보이지 않는 자외광에 의해 편광이 가능한 것으로부터 자외광에 의해 표시 가능한 액정 디스플레이에 응용이 가능하다. 그 자외광 영역에 표시된 이미지 등을 컴퓨터 등에 의해 인식하여 자외광 조사했을 때만 시인 가능하게 하는 간단하고 보안성이 높은 액정 디스플레이를 제작할 수 있다.
또한, 본 실시 양태에 따른 표시 장치는 예를 들면, 자외광을 조사함으로써 편광 발광 작용을 나타내며, 이러한 편광 발광을 이용한 액정 디스플레이를 제작할 수 있다. 따라서 가시광을 사용하여 일반적인 액정 표시 디스플레이가 아닌 자외광을 사용한 액정 표시 디스플레이를 실현하는 것도 가능하다. 즉, 빛이 없는 어두운 공간에서도 자외광이 조사될 수 있는 공간이면 표시되는 문자, 이미지 등이 표시되는 자체 발광 형 액정 디스플레이를 제작하는 것이 가능해진다.
또한, 가시광 영역 및 자외광 영역에서 빛의 흡수 대역이 다르기 때문에 가시광 영역의 빛에 의해 표시가능한 액정 표시 부위와 자외광에 의한 편광 발광 작용에 의해 표시되는 빛의 액정 표시 부위가 병존하는 상이한 두 가지 표시가 가능한 디스플레이를 제작할 수 있다. 2 가지 상이한 표시가 가능한 디스플레이는 현재 존재는 하고 있지만, 동일한 액정 패널이면서 자외광 영역과 가시 광선 영역에서 별도의 광원에 의해 다른 표시가 가능한 디스플레이는 존재하지 않는다. 이 때문에 본 실시 양태에 따른 표시 장치는 상기 편광막 또는 편광판을 가짐으로써 새로운 디스플레이의 제작이 가능해진다.
본 실시 양태에 따른 편광막 또는 편광판을 이용한 자동차 또는 야외 표시용 액정 디스플레이에서 사용하는 액정 셀은 예를 들어, TN 액정, STN 액정, VA 액정, IPS 액정 등에 한정되는 것이 아니라 당해 액정 디스플레이는 모든 액정 디스플레이 모드로 사용이 가능하다.
이와 같은 본 실시 양태에 따른 편광판을 사용한 자동차 또는 야외 표시용 중성 회색 편광판은 편광 성능이 뛰어나며, 또한 차량이나 야외 고온, 고습 상태에서도 변색이나 편광 성능의 저하가 억제된다. 따라서 자동차 또는 야외 표시용 액정 디스플레이의 장기 신뢰성 향상에 기여할 수 있다.
[ 실시예 ]
이하, 실시예 에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 이들은 예시적인 것으로서, 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한 아래에 기재되어있는 「%」및 「부」는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다. 또한 합성한 화합물 중 λmax (최대 흡수 파장)을 측정한 화합물은 pH 7 ~ 8의 수용액에서의 측정값을 보여준다. 또한, 각 실시예 및 비교예에서 사용된 화합물의 각 구조식에서 설포닐기 등의 산성 관능기는 유리산의 형태로 기재했다.
[ 실시예 1]
(합성예 1)
시판품의 4-아밀-4-니트로 스틸벤-2, 2'-디설폰산4.0부와 탄산 나트륨 2.8 부를 N-메틸 -2-피롤리돈 30부에 첨가하고, 이어서 4-메톡시 벤조일 클로라이드 3.4부를 5분에 거쳐 적하한다. 그 후, 얻어진 용액을 110℃에서 6시간 교반한다. 이어서, 얻어진 반응액을 물 100부에 첨가하여, 석출한 고체를 여과에 의해 분리하고 이어서 아세톤 100부로 세정하는 것에 의해, ? 케이크 10.0부를 얻었다. 이 ? 케이크를 80℃에 열풍 건조 후 건조한 것에 의해 하기 식 (7)로 표시된 본 발명에 따른 스틸벤계 화합물（λmax：３７０ｎｍ）3.0부를 합성하였다.
[식 (7)]
Figure pct00016
(편광막 및 편광판의 제작)
두께 75μm의 폴리 비닐 알코올 필름 (쿠라레 사제 VF-PS # 7500)을 40 ℃의 물에 3 분간 침지하여 필름을 팽창시켰다. 팽창하여 얻은 필름을 합성예 1에서 얻어진 상기 식 (7)의 스틸벤계 화합물 1.0 부, 망초 1.0 부 및 물 1000 부를 포함 45 ℃의 수용액에 4 분간 침지하여 식 (7)의 스틸벤계 화합물을 필름에 함유시켰다. 식 (7)의 스틸벤계 화합물을 함유한 필름을 3 % 붕산 수용액 중에 50 ℃에서 5 분간 침지하여 5 배로 연신했다. 연신된 필름을 긴장 상태를 유지한 채로 상온의 물로 20 초간 수세한 다음, 건조하여 편광막을 제조하였다. 얻어진 편광막의 양면에 자외선 흡수제를 함유하지 않는 트리 아세틸 셀룰로오스 필름 (후지 필름 사의 ZRD-60) (두께: 60μm)을 공지의 처방으로 적층하여 본 발명에 따른 편광판을 제작하였다. 이 편광판을 실시예 1의 측정 시료로 하였다.
[실시예 2]
(합성예 2)
상기 합성예 1의 4-메톡시 벤조일 클로라이드 3.4부 대신에 4-니트로 벤조일 클로라이드 4.0부를 사용하는 것 외에는 합성예 1과 동일하게 실시하여, 하기 식 (8)로 표시된 본 발명에 관한 스틸벤계 화합물 （λｍａｘ：３７３ｎｍ）３．２부를 합성하였다. 이어서, 식 (8)로 표시된 스틸벤계 화합물을 사용하여, 실시예 1과 동일하게 편광막 및 편광판을 제작하여, 본 발명에 관한 편광판을 제작하였다. 이 편관판을 실시예 2의 측정 시료로 한다.
[식 (8)]
Figure pct00017
[실시예 3]
(합성예 3)
시판품의 4-아미노-4'-니트로 스틸벤-2,2'-디설폰산 3.52 부를 물 300부에 추가하여 교반하고, 35% 염산을 이용하여 pH 0.5로 하였다. 얻어진 용액에 40% 아질산 나트륨 수용액 10.9부를 추가하여, 10 ℃에서 1시간 교반하였다. 이어서, 디아조화한 용액에 6-아미노 나프탈렌-2-설폰산 17.2부를 추가하여, 15% 탄산 나트륨 수용액으로 pH 4.0로 조정한 후 4시간 교반하였다. 얻어진 반응액에 염화 나트륨 60 부를 추가하여, 석출된 고체를 여과 및 분리하고, 아세톤 100 부로 세정하는 것에 의해, 중간체인 식 (9)의 화합물의 ? 케이크 124.0부를 얻었다.
[식 (9)]
Figure pct00018
얻어진 식 (9)의 중간체 62.3부를 물 300부에 추가하여 교반하고, 25% 수산화 나트륨 수용액을 이용하여 pH 10.0으로 하였다. 얻어진 용액에 28% 암모니아수 20부, 및 황산구리5수화물 9.0부를 더하여 90 ℃에서 2시간 교반하였다. 얻어진 반응액에 염화나트륨 25부를 첨가하여, 석출된 고체를 여과 및 분리하고 아세톤 100부로 세정하는 것에 의해, 식 (10)의 화합물의 ? 케이크 40.4부를 얻었다. 상기 ? 케이크를 80 ℃의 열풍 건조에서 건조하는 것에 의해 하기 식 (10)로 표시된 화합물 (λｍａｘ：３７６ｎｍ) 20.0부를 합성하였다.
[식 (10)]
Figure pct00019
(편광막 및 편광판의 제작)
두께 75μm의 폴리 비닐 알코올 필름 (쿠라레 사제 VF-PS # 7500)을 40 ℃의 물에 3 분간 침지하여 필름을 팽창시켰다. 팽창하여 얻은 필름을 합성예 3에서 얻어진 상기 식 (10)의 스틸벤계 화합물 1.0 부와 망초 1.0 부와 물 1000 부를 포함하는 45 ℃의 수용액에, 4 분간 침지하여 식 (10)의 스틸벤계 화합물을 필름에 함유시켰다. 식 (10)의 화합물을 함유한 필름을 3 % 붕산 수용액 중 50 ℃에서 5 분간 침지하고 5배 연신했다. 연신하여 얻은 필름을 긴장 상태를 유지한 채로 상온의 물로 20 초간 수세하고 건조하여 편광막을 제조하였다. 얻어진 편광막의 양면을, 자외선 흡수제를 함유하지 않는 트리 아세틸 셀룰로오스 필름 (후지 필름 사의 ZRD-60)을 공지의 처방으로 적층하여 편광판을 제조하였다. 이 편광판을 실시예 3의 측정 시료로 하였다.
[실시예 4]
(합성예 4)
국제 공개 제 2005/033211 호에 기재된 방법에 의해 합성한 하기 식 (11)의 화합물 6.0 부 및 탄산 칼륨 1.6 부를 n-메틸 -2- 피롤리돈 50 부에 추가하에 교반 하였다. 얻어진 용액에 4- 메톡시 벤조일 클로라이드 2.1 부를 첨가하여 90 ℃에서 4 시간 동안 교반 하였다. 얻어진 반응 액을 20 % 염화나트륨 수용액 300 부에 추가하여 석출 고체를 여과 분리, 또는 아세톤 100 부로 세척하는 것으로, 식 (12)의 화합물의 ? 케이크 20.0 부를 얻었다. 이 ? 케이크를 80 ℃의 열풍 건조기로 건조하여 다음 식 (12)로 표시되는 화합물 (λmax: 372nm) 5.0 부 얻었다.
[식 (11) 및 식 (12)]
Figure pct00020
(편광막 및 편광판의 제작)
실시예 3에서 제작한 편광막에 있어서, 식 (10)로 표시된 스틸벤계 화합물 대신, 식 (12)로 표시된 스틸벤 화합물을 이용한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 실시하여 편광막 및 편광판을 제작했다. 이 편광판을 실시예 4의 측정시료로 했다.
[실시예 5]
(합성예 5)
일본 특허 공개 소50-033814호 공보 및 일본 특허 공개 평03-294598호 공보를 참고로 하여 400 부의 얼음물 중에 라이온사제, 상품명: 레오콜 TD90 (계면활성제) 0.20 부를 첨가하고 격렬하게 교반하고, 상기 교반액 중에 염화시아누르 1 8. 4 부를 첨가하고 0~5℃에서 30분간 교반하여 현탁액을 수득했다. 이어서, 상기 현탁액에 아닐린-2,5-디설폰산 25.3 중량부를 첨가하고, pH 4~6, 0~30℃에서 4시간 교반하고, 이어서 4,4'-디아미노스틸벤-2,2'-디설폰산 18.5 부를 첨가한 후, pH 4~8, 20~ 50℃에서 6시간 교반하였다. 수득된 반응액에 디에탄올아민 11부를 첨가하고, pH 8~10, 40~ 70℃에서 6시간 교반한 후, 염화나트륨 80부를 첨가해 석출된 고체를 여과 분리하고, 아세톤 100부로 세정하는 것에 의해 ? 케이크 100.0 부를 얻었다. 상기 ? 케이크를 80℃의 열풍 건조기에서 건조하는 것에 의해 하기 식 (13)으로 표시된 화합물 (λmax: 370nm) 30.0부를 얻었다.
반응액을 수득했다.
[식 (13)]
Figure pct00021
(편광막 및 편광판의 제작)
실시예 1에서 제작한 편광막에 있어서, 식 (7)로 표시된 스틸벤계 화합물 대신, 식 (13)의 화합물을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하여 편광막 및 편광판을 제작하여 본 발명에 속한 편광판으로 제작했다. 상기 편광판을 실시예 5의 측정시료로 했다.
[실시예 6]
(합성예 6)
합성예 5에서 사용한 아닐린-2.5-디설폰산 25.3부를 4-아미노 벤조일 설폰산 17.3부로 하는 것 이외에는 합성예 5와 동일한 방법에 의해 하기 식 (14)로 표시된 화합물 (λmax：３７０ｎｍ) 23.0부를 얻었다.
[식 (14)]
Figure pct00022
(편광막 및 편광판의 제작)
실시예 1에서 제작한 편광막에 대해, 상기 식 (7)의 화합물 대신에, 상기 식 (14)의 화합물을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하여 편광막 및 편광판을 제작하여, 본 발명에 속한 편광막을 제작하였다. 이 편광판을 실시예 6의 측정시료로 하였다.
[실시예 7]
(합성예 7)
합성예 5에서 사용한 디에탄올 아민 11부를 페놀 18.8부로 하는 것 이외에는 합성예 5와 동일한 방법에 의해, 하기 식 (15)로 표시된 화합물 （λmax：３７０ｎｍ）15부를 얻었다.
[식 (15)]
Figure pct00023
(편광막 및 편광판의 제작)
실시예 1에서 제작한 편광막에 대해, 하기 식 (7)의 화합물 대신에, 상기 식 (15)의 화합물을 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광막 및 편광판을 제작하여, 본 발명에 관한 편광판을 제작하였다. 이 편광판을 실시예 7의 측정 시료로 하였다.
[실시예 8]
(합성예 8)
합성예 5에서 사용한 아닐린-2.5-디설폰산 25.3부를 4-아미노벤조일설폰산 아미드 17.2부로 하는 것 이외에는 합성예 5와 동일한 방법에 의해, 하기 식 (16)로 표시된 화합물 （λmax：３７０ｎｍ）23.0부를 얻었다.
[식 (16)]
Figure pct00024
(편광막 및 편광판의 제작)
실시예 1 에서 제작한 편광막에 대해, 하기 식 (7)의 화합물 대신에, 상기 식 (16)의 화합물을 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하여 편광막 및 편광판을 제작하여, 본 발명에 관한 편광판을 제작하였다. 상기 편광판을 실시예 8의 측정시료로 하였다.
(비교예 1)
실시예 1에서 제작한 편광막에 있어서, 상기 식 (7)의 화합물 대신에, 하기 식 (17)로 표시된 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　4를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하여 편광막 및 편광판을 제작하였다. 이 편광판을 비교예 1의 측정 시료로 하였다.
[식 (17)]
Figure pct00025
(비교예 2)
실시예 1에서 제작한 편광막에 있어서, 하기 식 (7)의 화합물 대신에, 하기 식 (18)로 표시된 Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　４４를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광막 및 편광판을 제작하였다. 이 편광판을 비교예 2의 측정 시료로 하였다.
[식 (18)]
Figure pct00026
(비교예 3)
실시예 1에서 제작한 편광막에 있어서, 하기 식 (7)의 화합물 대신에, 하기 식 (19)로 표시된 화합물을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광막 및 편광판을 제작하였다. 이 편광판을 비교예 3의 측정 시료로 하였다.
[식 (19)]
Figure pct00027
[평가]
실시예 1~8 및 비교예 1~3에서 얻어진 각 측정 시료의 평가를 다음과 같이 실시하였다.
(a) 단체 투과율 Ts, 평행위 투과율 Tp 및 직교위 투과율 Tc
각 시료의 단체 투과율 Ts, 평행위 투과율 Tp 및 직교위 투과율 Tc를 분광 광도계 (히타치 사의 'U-4100 ")를 이용하여 측정하였다. 여기서, 단체 투과율 Ts는 각 측정 시료를 1매로 측정했을 때의 각 파장의 투과율이다. 평행위 투과율 Tp는 각 실시예 및 각 비교예에서 얻은 동일한 측정 시료를 2장 준비하고, 상기 2 개의 측정 시료를 그 흡수 축이 평행이 되도록 거듭해 측정한 각 파장의 분광 투과율이다. 직교위 투과율 Tc는 2 개의 측정 시료를 그 흡수 축이 직교하도록 겹쳐 맞춰 측정한 분광 투과율이다. 각 투과율의 측정은 220 ~ 780nm의 파장 대역에 걸쳐 실시했다.
(b) 편광도ρ
각 측정 시료의 편광도 ρ를, 하기의 식 (I)에, 평행위 투과율 Tp 및 직교위 투과율 Tc를 대입하여 산출하였다. ρ의 값이 높을수록 편광도가 우수해지는 것을 나타낸다.
ρ＝｛（Tp －Tc）／（Tp ＋Tc）｝１／２Х１００　식（Ｉ）
(c) 시감도 보정 단체 투과율 Ys
각 측정 시료의 시감도 보정 단체 투과율 Ys는 가시광 영역에서 400 ~ 700nm의 파장 영역에서 소정 파장 간격 dλ (여기에서는 5nm)마다 구한 상기 단체 투과율 Ts에 대해 JIS Z 8722: 2009에 따라 시감도로 보정한 투과율이다. 구체적으로는 상기 단체 투과율 Ts를 아래의 식에 대입하여 산출했다. 또한, 하기 식 (II) 중 Pλ는 표준광 (C 광원)의 분광 분포를 나타내고 yλ는 2도 시야 등 색관수를 나타낸다.
[식 II]
Figure pct00028
(d) 편광 발광의 측정
광원으로 자외선 LED 375nm 핸드 라이트 타입 블랙 라이트 (니치아 사의 "PW-UV943H-04")를 이용하여 광원으로 자외선 투과·가시 컷 필터 (이스즈 정공 유리 사의 "IUV-340")를 설치하여 가시 광선을 차단했다. 그리고 가시광 영역 및 자외광 영역에 편광을 갖는 편광판 (포라 테크노 사제 "SKN-18043P」, 두께 180μm, Ys 43 %)와 각 실시예 및 비교예에서 제조한 각 측정 시료를 설치하여 측정 시료로부터의 편광 발광 분광을 방사 조도 측정기 (우시오 전기 사의 "USR-40") (이하 "측정용 편광판"이라 한다)을 이용하여 측정하였다. 즉, 광원으로부터의 빛이, 자외광 투과 ·가시 컷 필터, 측정용 편광판 및 측정 시료를 이 순서대로 통과하고 분광 방사 조도 측정기에 입사하도록 배치하여 측정하였다. 이때 각 측정 시료의 자외선 흡수를 최대가 되게 하는 흡수 축과, 측정용 편광판의 흡수 축이 평행이 되도록 각 측정 시료 및 측정용 편광판을 거듭해 측정한, 각 파장 분광 발광량을 Lw (약 발광 축), 각 측정 시료의 자외광 흡수가 최대인 흡수 축과 측정용 편광판의 흡수 축이 직교가 되도록 각 측정 시료와 해당 편광판을 거듭해 측정한 각 파장의 분광 광량을 Ls (강 발광 축)으로 하여, Lw 및 Ls를 측정하였다. 각 측정 시료의 흡수 축과 일반 상기 편광판의 흡수 축이 평행한 경우와 이러한 흡수 축이 직교하는 경우의 가시 광선 영역에서 발광된 빛의 에너지 량을 확인하여 가시 광 영역인 400nm ~ 700nm의 파장 영역에서 편광 발광을 평가했다. Lw 값이 작고, Ls 값이 클수록 편광 발광 작용이 강한 것을 나타내고, 즉 높은 편광 발광 작용을 나타내는 것을 의미한다. Lw 및 Ls 값의 차이가 작은 경우, 편광 발광 작용이 약하다는 것을 보여 주며, 각각의 값에 "0"을 나타내는 경우에는 각각의 측정에서 발광이 확인하지 않았음을 보여준다.
표 1은 실시예 1 ~ 8 및 비교예 1 ~ 3에서 얻어진 시료의 최대 편광도를 나타내는 파장에서의 단체 투과율 (Ts), 평행위 투과율 (Tp), 직교위 투과율 (Tc) 및 편광도 (ρ)와 시감도 보정 단체 투과율 (Ys)를 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00029
표 2는 실시예 1~8 및 비교예 1~3의 각 파장의 Ls, Lw를 나타낸다.
[표2]
Figure pct00030
표 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1-8의 측정 시료는 자외광 영역에 흡수를 갖기 때문에 자외광의 파장 영역에서 편광 소자로서 기능하고 있는 것으로 나타났다. 또한, 실시예 1-8의 측정 시료는 가시 광선 영역에서 90 % 이상의 투과율 (시감도 보정 투과율 Ys)을 나타내기 때문에, 자외광 영역에 편광을 가지면서도 가시 광선 영역에서 투명성이 높은 것으로 나타났다. 또한, 표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1-8의 측정 시료는 가시광 영역에서 Lw와 Ls 값이 검출되어 있기 때문에 자외광을 조사함으로써 400 ~ 700nm의 넓은 파장 영역에 걸쳐 발광하고 있는 것을 알 수 있으며, 또한 Lw와 Ls 값에 차이가 있기 때문에 그 발광은 편광하고 있는 것으로 나타났다. 즉, 실시예 1-8의 측정 시료는 자외선 조사에 의해 가시 광선 영역에 편광 발광 작용을 가지고 있는 것으로 나타났다. 특히, 실시예 2-8의 측정 시료는 Lw 값과 Ls의 값과의 차이가 크기 때문에 높은 편광 발광 작용을 나타냈다. 한편, 비교예 1 ~ 3의 측정 시료는 각 파장에서 Lw와 Ls의 측정 값이 모두 '0'을 보여 주었다. 이 점에서 비교예 1 ~ 3의 편광판은 자외선을 조사하여도 편광 발광 작용을 나타내지 않은 것으로 나타났다.
(내구성 시험)
또한, 실시예 1-8의 측정 시료를 105 ℃의 환경에서 1000 시간, 60 ℃이고 상대 습도 90 %의 환경 하에서 1000 시간을 두고 실시예 1 ~ 8에 대한 내구성 시험도 실시했다. 실시예 1-8의 측정 시료는 모두 편광도 저하 및 편광 발광의 변화는 관찰되지 않았다. 실시예 1 ~ 8의 측정 시료는 가혹한 환경에서도 높은 내구성을 가지고 있음을 알 수 있다.
[산업상의 이용 가능성]
본 발명에 관한 스틸벤계 화합물을, 편광 소자로서 이용하는 것에 관한 것으로, 높은 편광도를 갖는 것뿐 아니라, 편광 발광 작용을 나타내는 편광막 및 편광판을 얻는 것이 가능하다. 따라서, 본 발명에 따른 스틸벤계 화합물을 이용한 편광막 및 편광판은, 자연광형의 편광필름, 즉 편광 발광 필름으로서 응용이 가능하다. 또한, 이러한 편광막 및 편광판은, 우수한 내구성을 구비하고, 가시광역에서 높은 투과율을 가지고 있다. 따라서, 본 발명에 관한 편광막 및 편광판을 이용한 표시장치는, 가시광 영역에서 투명성이 높고, 장기에 걸쳐 편광 발광에 의해 영상 표시가 가능하므로, TV, 핸드폰, 타블렛 단말, 게다가, 투명 디스플레이(시스루 디스플레이) 등, 폭 넓은 용도로 적용 가능하다. 게다가, 본 발명에 관한 스틸벤계 화합물을 이용하여 제작한 편광막 및 편광판은, 자외광에 의해 발광이 가능하기 때문에 높은 보안성이 요구되는 디스플레이나 매체에 응용하는 것도 가능하다.

Claims (16)

  1. 하기 식 (1)로 표시된 것을 특징으로 하는 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
    [식 (1)]
    Figure pct00031

    (식 (1) 중, X기는, 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내고, Y기는, 치환기를 가질 수 있는 아미노기 또는 치환기를 가질 수 있는 나프토트리아졸기를 나타내고, p 및 q는, 각각 독립적으로 0~2의 정수를 나타낸다.).
  2. 제1항에 있어서, 상기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (2)로 표시된 것인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
    [식 (2)]
    Figure pct00032

    (식 (2) 중, X기 및 Y기는, 각각 상기 식 (1)에서 정의한 대로이다.).
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (3)로 표시된 것인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
    [식 (3)]
    Figure pct00033

    (식 (3) 중, A기는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 비닐기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴기를 나타낸다.)
  4. 제3항에 있어서, 상기 식 (3)에서 A기가 치환기를 가질 수 있는 아릴기인 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 식 (3)으로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (4)로 표시된 것인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
    [식 (4)]
    Figure pct00034

    (식 (4) 중, Ｒ１기가 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~10의 포화 탄화 수소기를 나타낸다.).
  6. 제5항에 있어서, 상기 식 (4)의 Ｒ1기가 메틸기인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식 (1)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (5)로 표시된 것인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
    [식 (5)]
    Figure pct00035

    (식 (5) 중, B기가 니트로기 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내고, Ｒ２ 기가 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록시기, 카르복시기, 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 알콕시기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아미노기를 나타내고, n은 0~3의 정수를 나타낸다.).
  8. 제7항에 있어서, 상기 식 (5)의 B기가 니트로기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1~20의 알킬카보닐아미노기, 치환기를 가질 수 있는 아릴 카보닐 아미노기, 탄소수 2~20의 알킬 설포닐 아미노기, 또는 치환기를 가질 수 있는 아릴 설포닐 아미노기인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 식 (5)로 표시된 스틸벤계 화합물이, 하기 식 (6)로 표시된 것인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염:
    [식 (6)]
    Figure pct00036

    (식 (6) 중, Ｒ２ 기는 상기 식 (5)에서 정의한 대로이고, n은 0~3의 정수이다.).
  10. 제9항에 있어서, 상기 식 (6)의 Ｒ2기가 수소 원자이고, n은 1 또는 2인, 스틸벤계 화합물 또는 그 염.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 따른 스틸벤계 화합물 또는 그 염을 함유하는 기재를 포함하는, 편광막.
  12. 제11항에 있어서, 가시광 영역으로 편광된 빛을 발광하는 편광 발광 기능을 갖는, 편광막.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 제1항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 기재된 스틸벤계 화합물 또는 그 염과는 상이한, 유기 염료 또는 형광 염료를 1종 이상 추가로 함유하는, 편광막.
  14. 제11항 내지 제13항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 기재가 폴리 비닐 알코올 수지 또는 그 유도체로부터 제조된 필름인, 편광막.
  15. 제11항 내지 제14항 중 어느 하나의 항에 기재된 편광막과, 상기 편광막의 적어도 일면에 설치된 투명보호층을 포함하는 편광판.
  16. 제11항 내지 제14항 중 어느 하나의 항에 기재된 편광막 또는 제15항에 기재된 편광판을 포함하는 표시장치.
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