JP7200108B2 - スチルベン系化合物又はその塩、並びに、偏光膜、偏光板及び表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、新規なスチルベン系化合物又はその塩、並びにこれを用いた偏光膜、偏光板及び表示装置に関する。

光の透過・遮へい機能を有する偏光板は、光のスイッチング機能を有する液晶とともに液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）等の表示装置の基本的な構成要素である。このＬＣＤの適用分野も、初期の頃の電卓および時計等の小型機器、さらにはノートパソコン、ワープロ、液晶プロジェクター、液晶テレビ、カーナビゲーション、及び屋内外の情報表示装置、計測機器等が挙げられる。また、このような偏光板は、偏光機能を有するレンズへの適用も可能であり、視認性の向上したサングラス、近年では３Ｄテレビなどに対応する偏光メガネなどへも応用されており、さらに、ウェアラブル端末をはじめとする身近な情報端末への応用・実用化もされている。このように、偏光板の用途は広範囲にわたっているため、使用条件も低温～高温、低湿度～高湿度、低光量～高光量等幅広く適用される。そのため、各用途への適用に対応すべく、偏光性能が高くかつ耐久性に優れた偏光板が求められている。

一般に、偏光板を構成する偏光膜は、延伸配向したポリビニルアルコール又はその誘導体のフィルム、或いは、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸又はポリビニルアルコール系フィルムの脱水によりポリエンを生成して、配向せしめたポリエン系フィルムなどの基材に、偏光素子としてヨウ素や二色性染料を染色又は含有することにより製造される。このような従来の偏向膜から構成される偏光板は、可視光領域に光の吸収作用を有する二色性色素を用いているため、可視光領域での透過率が低下する。例えば、市販されている一般的な偏光板の透過率は３５～４５％である。

可視光領域での透過率が低い偏光板をディスプレイ等に用いると、ディスプレイ全体の透過率が減少するため、従来の偏光板を用いずに偏光を得る方法が研究されている。このような方法として、特許文献１乃至３には、偏光が発光される技術が開示されている。しかしながら、偏光を発光する作用（以下、「偏光発光作用」ともいう）を有する材料として、特殊な金属、例えば、ユーロピウム（Ｅｕ）やテルビウム（Ｔｂ）等のランタノイド金属を用いるために希少価値が高く、また非常に製造が難しく、大量生産には不向きである。さらには、偏光した光の発光が弱いため、ディスプレイへの適用は困難である。そのため、従来の偏光板を用いずに偏光発光作用を示し、また、可視光領域での透明性が高く、過酷な環境下における耐久性が求められる液晶ディスプレイ等にも応用可能な新たな材料を開発することが望まれている。

特開２００８－２２４８５４号公報 特許第５８４９２５５号公報 特許第５７１３３６０号公報

本発明の目的は、偏光発光作用を示し、可視光領域での高い透明性及び過酷な環境下での高い耐久性が求められる液晶ディスプレイ等にも応用可能な新規な化合物、並びにそれを用いた偏光膜、偏光板及び表示装置を提供することにある。

本発明者らは、特定の構造を有するスチルベン系化合物又はその塩が、紫外光を照射することによって、可視光領域に偏光発光作用を示すとの知見を得た。そして、当該知見に基づき、このようなスチルベン系化合物又はその塩を含有する偏光膜及び偏光板が、紫外光領域に高い偏光度を有しつつ、可視光領域に高い透過率を示し、かつ、過酷な環境下においても優れた耐久性を示すことを見出した。

すなわち、本発明の要旨構成は、以下の通りである。
［１］下記式（１）：

（式（１）中、基Ｘは、ニトロ基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、基Ｙは、置換基を有してもよいアミド基又は置換基を有してもよいナフトトリアゾール基を表し、ｐ及びｑは、それぞれ独立に０～２の整数を表す。）で表されることを特徴とする、スチルベン系化合物又はその塩。
［２］前記式（１）で表されるスチルベン系化合物が、下記式（２）：

（式（２）中、基Ｘ及びＹは、それぞれ前記式（１）に定義した通りである。）で表される、上記［１］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［３］前記式（１）で表されるスチルベン系化合物が、下記式（３）：

（式（３）中、基Ａは置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよいビニル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表す。）で表される、上記［１］または［２］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［４］前記式（３）において基Ａが置換基を有してもよいアリール基である、上記［３］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［５］前記式（３）で表されるスチルベン系化合物が、下記式（４）：

（式（４）中、基Ｒ^１は置換基を有してもよい炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。）で表される、上記［３］または［４］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［６］前記式（４）において、基Ｒ^１がメチル基である、上記［５］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［７］前記式（１）で表されるスチルベン系化合物が、下記式（５）：

（式（５）中、基Ｂはニトロ基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、基Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシ基、ニトロ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、ｎは０～３の整数を表す。）で表される、上記［１］または［２］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［８］前記式（５）において、基Ｂが、ニトロ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキルカルボニルアミノ基、置換基を有してもよいアリールカルボニルアミノ基、炭素数１～２０のアルキルスルホニルアミノ基、又は置換基を有してもよいアリールスルホニルアミノ基である、上記［７］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［９］前記式（５）で表されるスチルベン系化合物が、下記式（６）：

（式（６）中、基Ｒ^２は前記式（５）に定義した通りであり、ｎは、０～３の整数である。）で表される、上記［７］又は［８］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［１０］前記式（６）において、基Ｒ^２が水素原子であり、かつｎが１または２である、上記［９］に記載のスチルベン系化合物又はその塩。
［１１］上記［１］乃至［１０］のいずれかに記載のスチルベン系化合物又はその塩を含有する基材を有する、偏光膜。
［１２］可視光領域に偏光した光を発光する偏光発光機能を有する、上記［１１］に記載の偏光膜。
［１３］上記［１］乃至［１０］のいずれかに記載のスチルベン系化合物又はその塩とは異なる有機染料又は蛍光染料をさらに１種類以上含有する、上記［１１］又は［１２］に記載の偏光膜。
［１４］前記基材が、ポリビニルアルコール樹脂又はその誘導体から作製されたフィルムである、上記［１１］乃至［１３］のいずれかに記載の偏光膜。
［１５］上記［１１］乃至［１４］のいずれかに記載の偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の面に設けられた透明保護層と、を備える偏光板。
［１６］上記［１１］乃至［１４］のいずれかに記載の偏光膜、又は上記［１５］に記載の偏光板を備える表示装置。

本発明に係る特定の構造を有するスチルベン系化合物又はその塩は、紫外光を吸収し、そのエネルギーを利用して、可視光領域に偏光発光作用を示す。また、当該スチルベン系化合物又はその塩を用いて作製された偏光膜及び偏光板は、紫外光領域において高い偏光度を示す。そのため、このようなスチルベン系化合物又はその塩を用いることにより、希少価値の高いランタノイド金属等を使用しなくとも、高い偏光度を有すると共に偏光発光作用を示す新規な偏光膜及び偏光板を提供することができる。また、本発明に係る偏光膜及び偏光板は、可視光領域において高い透過率を示し、さらに、熱、湿度等に対して優れた耐久性を示す。そのため、当該偏光膜及び偏光板は、可視光領域での高い透明性及び過酷な環境下での高い耐久性が求められる液晶ディスプレイ等の表示装置に応用することができる。

以下、本発明の実施態様を詳細に説明する。以下において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

また、特に言及されない限り、各式で表される化合物及び各化合物例に示される化合物は、遊離酸の形態（塩を形成していない状態）で表す。また、特に言及されない限り、煩雑さを避けるため、便宜上「スチルベン系化合物又はその塩」の記載は、単に「スチルベン系化合物」とする場合がある。

［スチルベン系化合物］
本実施態様に係るスチルベン系化合物は、下記式（１）で表され、分子中に少なくとも１つのスチルベン骨格を有している。式（１）中、基Ｘは、ニトロ基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、基Ｙは、置換基を有してもよいアミド基又は置換基を有してもよいナフトトリアゾール基を表す。また、ｐ及びｑは、それぞれ独立に０～２の整数であり、好ましくは１である。ｐ及びｑが、それぞれ独立に１又は２である場合、－（ＳＯ_３Ｈ）は、各ベンゼン環中の任意の炭素に結合していてよい。

このように、式（１）で表されるスチルベン系化合物は、基本骨格としてスチルベン骨格を有する。この基本骨格の構造に起因して、式（１）で表されるスチルベン系化合物は、紫外光の照射により発光作用を示す。また、スチルベン骨格の強い炭素－炭素二重結合の存在により分子が安定する。さらに、式（１）で表されるスチルベン系化合物は、分子中、特に基Ｘ及び基Ｙにアゾ結合を有してないため、アゾ結合に起因する光の吸収が抑制される。そのため、このような特定構造を有する本実施態様に係るスチルベン系化合物は、紫外光を吸収し、そのエネルギーを利用して、可視光領域に偏光発光作用を示すことができ、その上、偏光膜中にも安定して存在することができる。

式（１）で表されるスチルベン系化合物は、下記式（２）で表されることが好ましい。式（２）中、基Ｘ及びＹは、それぞれ式（１）に定義した通りである。式（２）で表されるスチルベン系化合物は、所定の位置に２つのスルホ基を有している。スチルベン系化合物がこのような構造を有することより、溶液中に存在するカチオンと反応し、スルホ基を介して安定した塩の形態で存在することができる。また、２つのスルホ基が対称関係にあるため、分子の安定性も向上する。

式（１）中、基Ｙが、置換基を有してもよいアミド基である場合、本実施態様に係るスチルベン系化合物は、下記式（３）で表されることが好ましい。

式（３）において、基Ａは、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよいビニル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、置換基を有していてもよいアリール基であることが好ましい。

基Ａにおいて、炭素数１～２０のアルキル基は、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキル基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキル基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシルといった直鎖状のアルキル基；
イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔ－ブチル、イソアミル、ｔ－アミル、イソヘキシル、ｔ－ヘキシル、イソヘプチル、ｔ－ヘプチル、イソオクチル、ｔ－オクチル、２－エチルヘキシル、イソノニル、イソデシル等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキル基；
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキル基等が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、直鎖状のアルキル基がより好ましい。

基Ａにおいて、ビニル基は、例えば、エテニル基、プロペン－１－イル基、プロペン－２－イル基、スチリル基等が挙げられる。これらの中でも、エテニル基が好ましい。

基Ａにおいて、アリール基は、Ｃ_６－Ｃ_１２アリール基、又は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１～３つのヘテロ原子を含む５又は６員の複素環基が好ましい。Ｃ_６－Ｃ_１２アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。複素環基の具体例としては、例えば、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロチオフェン－２－イル、テトラヒドロチオフェン－３－イル等の５員複素脂環式化合物；
ピペリジニル、ピペラジニル、ジオキサン－２－イル、モルホリニル、チオモルホリニル等の６員複素脂環式化合物；
ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、フリル、チオフェン－２－イル、チオフェン－３－イル、オキサゾール、チアゾール等の５員複素環式芳香族化合物；
ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアジン等の６員複素環式芳香族化合物等が挙げられる。なお、前記複素環基は、複素環部分が芳香族環であることが好ましく、また、複素環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子及び硫黄原子から選択されることが好ましい。

上記式（３）で表されるスチルベン系化合物は、好ましくは下記式（４）で表される。

式（４）中、基Ｒ^１は置換基を有してもよい炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表し、メチル基であることが好ましい。

また、式（１）中、基Ｙが、置換基を有してもよいナフトトリアゾール基である場合、本実施態様に係るスチルベン系化合物は、下記式（５）で表されることが好ましい。

式（５）中、基Ｂはニトロ基又は置換基を有してもよいアミノ基を表す。これらの中でも、基Ｂは、ニトロ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキルアミノ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキルカルボニルアミノ基、置換基を有してもよいアリールカルボニルアミノ基、炭素数１～２０のアルキルスルホニルアミノ基、または置換基を有してもよいアリールスルホニルアミノ基であることが好ましく、ニトロ基、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキルカルボニルアミノ基、置換基を有してもよいアリールカルボニルアミノ基、炭素数１～２０のアルキルスルホニルアミノ基、または置換基を有してもよいアリールスルホニルアミノ基であることがより好ましく、ニトロ基であることがさらに好ましい。

基Ｂが、置換基を有してもよいアミノ基である場合、アミノ基は、炭素数１～２０のアルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基が好ましい。式（５）で表されるスチルベン系化合物において、基Ｂが、カルボニルアミノ基を有することにより、分子配向性がより向上し、二色性がより高くなる。これにより、式（５）で表されるスチルベン系化合物を、高い偏光度を有する蛍光発光化合物として得ることができる。

炭素数１～２０のアルキルアミノ基、炭素数１～２０のアルキルカルボニルアミノ基、及び炭素数１～２０のアルキルスルホニルアミノ基において、炭素数１～２０のアルキル基は、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキル基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキル基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシルといった直鎖状のアルキル基；
イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔ－ブチル、イソアミル、ｔ－アミル、イソヘキシル、ｔ－ヘキシル、イソヘプチル、ｔ－ヘプチル、イソオクチル、ｔ－オクチル、２－エチルヘキシル、イソノニル、イソデシル等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキル基；又は、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、直鎖状のアルキル基がより好ましい。

アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、及びアリールスルホニルアミノ基において、アリール基は、Ｃ_６－Ｃ_１２アリール基、又は、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１～３つのヘテロ原子を含む５又は６員の複素環基が好ましい。Ｃ_６－Ｃ_１２アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。複素環基の具体例としては、例えば、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロチオフェン－２－イル、テトラヒドロチオフェン－３－イル等の５員複素脂環式化合物；
ピペリジニル、ピペラジニル、ジオキサン－２－イル、モルホリニル、チオモルホリニル等の６員複素脂環式化合物；
ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、フリル、チオフェン－２－イル、チオフェン－３－イル、オキサゾール、チアゾール等の５員複素環式芳香族化合物；
ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアジン等の６員複素環式芳香族化合物等が挙げられる。なお、前記複素環基は、複素環部分が芳香族環であることが好ましく、また、複素環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子及び硫黄原子から選択されることが好ましい。

式（５）中、基Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシ基、ニトロ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、又は置換基を有してもよいアミノ基を表す。基Ｒ^２において、ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子、又はフッ素原子等であることが好ましくい。アルコキシ基は、メトキシ基、又はエトキシ基等であることが好ましい。アミノ基は、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、又はフェニルアミノ基等であることが好ましい。基Ｒ^２は、ナフトトリアゾール環中のナフタレン環の任意の炭素原子に結合していてよいが、トリアゾール環と縮合している炭素原子を１位、２位とした場合、３位、５位又は８位に結合していることが好ましい。

ｎは０～３の整数であり、好ましくは１である。－（ＳＯ_３Ｈ）は、ナフトトリアゾール環中のナフタレン環の任意の炭素原子に結合していてよい。－（ＳＯ_３Ｈ）がナフタレン環に結合する位置は、トリアゾール環と縮合している炭素原子を１位、２位とした場合、ｎ＝１であれば、４位、６位、又は７位であることが好ましく、ｎ＝２であれば、５位と７位、および６位と８位であることが好ましく、ｎ＝３であれば、３位と６位と８位の組み合わせであることが好ましい。

上記式（５）で表されるスチルベン系化合物は、好ましくは下記式（６）で表される。

式（６）中、基Ｒ^２は、上記式（５）に定義した通りであり、水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。また、ｎは、０～３の整数であり、１または２であることが好ましい。

置換基を有してもよいアミド基における置換基は、上述した、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよいビニル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。また、置換基を有してもよいナフトトリアゾール基における置換基は、上述の基Ｒ^２、－（ＳＯ_３Ｈ）が好ましい。また、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキル基、置換基を有してもよいビニル基、置換基を有してもよいアリール基及び置換基を有してもよいアミノ基における各置換基は、例えば、複素環アミノ基、縮環型複素環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、非置換カルバモイル基（－ＣＯＮＨ_２）、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、非置換スルファモイル基（－ＳＯ_２ＮＨ_２）、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、非置換ウレイド基（－ＮＨＣＯＮＨ_２）、アルキルウレイド基、アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、非置換アミノ基（－ＮＨ_２）、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシル基（－ＯＨ）、シアノ基（－ＣＮ）、ニトロ基（－ＮＯ_２）、メルカプト基（－ＳＨ）、ハロゲン原子等が挙げられる。

複素環アミノ基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１～３つのヘテロ原子を含む、５又は６員環の複素環アミノ基が挙げられる。このような複素環アミノ基の具体例としては、例えば、ピロリジニルアミノ、テトラヒドロフリルアミノ、テトラヒドロチオフェン－２－イルアミノ、テトラヒドロチオフェン－３－イルアミノ等の５員複素脂環式アミノ基；
ピペリジニルアミノ、ピペラジニルアミノ、ジオキサン－２－イルアミノ、モルホリニルアミノ、チオモルホリニルアミノ等の６員複素脂環式アミノ基；
ピロールアミノ、ピラゾールアミノ、イミダゾールアミノ、トリアゾールアミノ、フリルアミノ、チオフェン－２－イルアミノ、チオフェン－３－イルアミノ、オキサゾールアミノ、チアゾールアミノ等の５員芳香族複素環式アミノ基；又は、
ピリジルアミノ、ピラジルアミノ、ピリダジニルアミノ、トリアジニルアミノ等の６員芳香族複素環式アミノ基等が挙げられる。なお、前記複素環基は、複素環部分が芳香族環であることが好ましく、また、複素環を構成するヘテロ原子としては窒素原子、及び硫黄原子から選択されることが好ましい。

縮環型複素環アミノ基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される１～３つのヘテロ原子を含む、５又は６員の複素環基に、１つのベンゼン環が縮環した縮環型５又は６員環の複素環アミノ基が挙げられる。このような縮環型複素環アミノ基の具体例としては、例えば、フタラニルアミノ等の複素環部分が５員脂環式の縮環型複素脂環式アミノ基；
ベンゾピラニルアミノ等の複素環部分が６員脂環式の縮環型複素脂環式アミノ基；
ベンズピロールアミノ、ベンズピラゾールアミノ、ベンズイミダゾールアミノ、ベンゾトリアゾールアミノ、ベンゾフラニルアミノ、ベンゾチオフェン－２－イルアミノ、ベンゾチオフェン－３－イルアミノ、ベンゾキサゾールアミノ、ベンゾチアゾールアミノ等の複素環部分が芳香族５員環の縮環型芳香族複素環式アミノ基；又は、
キノリニルアミノ、シンノリニルアミノ、フタラジニルアミノ、キナゾリニルアミノ、キノキサリニルアミノ等の複素環部分が芳香族６員環の縮環型芳香族複素環式アミノ基等が挙げられる。なお、前記複素環基は、複素環部分が芳香族環であることが好ましく、また、複素環を構成するヘテロ原子としては窒素原子、及び硫黄原子から選択されることが好ましい。

アルコキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシ基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルコキシ基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルコキシ基の具体例としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、ｎ－ヘキシロキシ、ｎ－ヘプトキシ、ｎ－オクチロキシ、ｎ－ノニロキシ、ｎ－デシロキシといった直鎖状のアルコキシ基；
イソプロポキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、イソアミロキシ、ｔ－アミロキシ、イソヘキシロキシ、ｔ－ヘキシロキシ、イソヘプトキシ、ｔ－ヘプトキシ、イソオクチロキシ、ｔ－オクチロキシ、２－エチルヘキシロキシ、イソノニロキシ、イソデシロキシ等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルコキシ基；又は、
シクロプロポキシ、シクロブトキシ、シクロペントキシ、シクロヘキシロキシ、シクロヘプトキシ等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルコキシ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基が好ましい。

アリールオキシ基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールオキシ基であり、具体例としては、例えば、フェノキシ、ナフチロキシ、ビフェニロキシ等が挙げられる。

アルキルカルボニルアミノ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルカルボニルアミノ基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキルカルボニルアミノ基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキルカルボニルアミノ基の具体例としては、例えば、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ｎ－プロピルカルボニルアミノ、ｎ－ブチルカルボニルアミノ、ｎ－ペンチルカルボニルアミノ、ｎ－ヘキシルカルボニルアミノ、ｎ－ヘプチルカルボニルアミノ、ｎ－オクチルカルボニルアミノ、ｎ－ノニルカルボニルアミノ、ｎ－デシルカルボニルアミノといった直鎖状のアルキルカルボニルアミノ基；
イソプロピルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルアミノ、ｔ－ブチルカルボニルアミノ、イソアミルカルボニルアミノ、ｔ－アミルカルボニルアミノ、イソヘキシルカルボニルアミノ、ｔ－ヘキシルカルボニルアミノ、イソヘプチルカルボニルアミノ、ｔ－ヘプチルカルボニルアミノ、イソオクチルカルボニルアミノ、ｔ－オクチルカルボニルアミノ、２－エチルヘキシルカルボニルアミノ、イソノニルカルボニルアミノ、イソデシルカルボニルアミノ等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキルカルボニルアミノ基；又は
シクロプロピルカルボニルアミノ、シクロブチルカルボニルアミノ、シクロペンチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、シクロヘプチルカルボニルアミノ等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキルカルボニルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキルカルボニルアミノ基が好ましく、直鎖状のアルキルカルボニルアミノ基がより好ましい。

アリールカルボニルアミノ基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールカルボニルアミノ基であり、具体例としては、例えば、フェニルカルボニルアミノ、ナフチルカルボニルアミノ、ビフェニルカルボニルアミノ等が挙げられる。

アルキルカルボニルオキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキルカルボニルオキシ基の具体例としては、例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、ｎ－プロピルカルボニルオキシ、ｎ－ブチルカルボニルオキシ、ｎ－ペンチルカルボニルオキシ、ｎ－ヘキシルカルボニルオキシ、ｎ－ヘプチルカルボニルオキシ、ｎ－オクチルカルボニルオキシ、ｎ－ノニルカルボニルオキシ、ｎ－デシルカルボニルオキシといった直鎖状のアルキルカルボニルオキシ基；
イソプロピルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ、ｔ－ブチルカルボニルオキシ、イソアミルカルボニルオキシ、ｔ－アミルカルボニルオキシ、イソヘキシルカルボニルオキシ、ｔ－ヘキシルカルボニルオキシ、イソヘプチルカルボニルオキシ、ｔ－ヘプチルカルボニルオキシ、イソオクチルカルボニルオキシ、ｔ－オクチルカルボニルオキシ、２－エチルヘキシルカルボニルオキシ、イソノニルカルボニルオキシ、イソデシルカルボニルオキシ等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキルカルボニルオキシ基；又は、
シクロプロピルカルボニルオキシ、シクロブチルカルボニルオキシ、シクロペンチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘプチルカルボニルオキシ等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキルカルボニルオキシ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖のアルキルカルボニルオキシ基が好ましく、直鎖状のアルキルカルボニルオキシ基がより好ましい。

アリールカルボニルオキシ基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールカルボニルオキシ基であり、具体例としては、例えば、フェニルカルボニルオキシ、ナフチルカルボニルオキシ、ビフェニルカルボニルオキシ等が挙げられる。

アルキルカルボニル基としては、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキルカルボニル基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキルカルボニル基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキルカルボニル基の具体例としては、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ－プロピルカルボニル、ｎ－ブチルカルボニル、ｎ－ペンチルカルボニル、ｎ－ヘキシルカルボニル、ｎ－ヘプチルカルボニル、ｎ－オクチルカルボニル、ｎ－ノニルカルボニル、ｎ－デシルカルボニルといった直鎖のアルキルカルボニル基；
イソプロピルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ－ブチルカルボニル、ｔ－ブチルカルボニル、イソアミルカルボニル、ｔ－アミルカルボニル、イソヘキシルカルボニル、ｔ－ヘキシルカルボニル、イソヘプチルカルボニル、ｔ－ヘプチルカルボニル、イソオクチルカルボニル、ｔ－オクチルカルボニル、２－エチルヘキシルカルボニル、イソノニルカルボニル、イソデシルカルボニル等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキルカルボニル基；又は、
シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキルカルボニル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキルカルボニル基が好ましく、直鎖状のアルキルカルボニル基がより好ましい。

アリールカルボニル基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールカルボニル基であり、具体例としては、例えば、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、ナフチルカルボニル、ビフェニルカルボニル等が挙げられる。

アルキルカルバモイル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のモノアルキルカルバモイル基或いはジアルキルカルバモイル基が挙げられる。モノアルキルカルバモイル基としては、好ましくはモノＣ_１－Ｃ_１０アルキルカルバモイル基であり、具体例としては、例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ－プロピルカルバモイル、ｎ－ブチルカルバモイル、ｎ－ペンチルカルバモイル、ｎ－ヘキシルカルバモイル、ｎ－ヘプチルカルバモイル、ｎ－オクチルカルバモイル、ｎ－ノニルカルバモイル、ｎ－デシルカルバモイルといった直鎖状のモノアルキルカルバモイル基；
イソプロピルカルバモイル、イソブチルカルバモイル、ｓｅｃ－ブチルカルバモイル、ｔ－ブチルカルバモイル、イソアミルカルバモイル、ｔ－アミルカルバモイル、イソヘキシルカルバモイル、ｔ－ヘキシルカルバモイル、イソヘプチルカルバモイル、ｔ－ヘプチルカルバモイル、イソオクチルカルバモイル、ｔ－オクチルカルバモイル、２－エチルヘキシルカルバモイル、イソノニルカルバモイル、イソデシルカルバモイル等の分岐鎖状のモノＣ_３－Ｃ_１０アルキルカルバモイル基；又は、
シクロプロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シクロペンチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、シクロヘプチルカルバモイル等の環状のモノＣ_３－Ｃ_７アルキルカルバモイル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のモノアルキルカルバモイル基が好ましく、直鎖状のモノアルキルカルバモイル基がより好ましい。

ジアルキルカルバモイル基としては、好ましくはジＣ_１－Ｃ_１０アルキルカルバモイル基であり、具体例としては、例えば、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジ－ｎ－プロピルカルバモイル、ジ－ｎ－ブチルカルバモイル、ジ－ｎ－ペンチルカルバモイル、ジ－ｎ－ヘキシルカルバモイル、ジ－ｎ－ヘプチルカルバモイル、ジ－ｎ－オクチルカルバモイル、ジ－ｎ－ノニルカルバモイル、ジ－ｎ－デシルカルバモイルといった直鎖状のジアルキルカルバモイル基；
ジイソプロピルカルバモイル、ジイソブチルカルバモイル、ジ－ｓｅｃ－ブチルカルバモイル、ジ－ｔ－ブチルカルバモイル、ジイソアミルカルバモイル、ジ－ｔ－アミルカルバモイル、ジイソヘキシルカルバモイル、ジ－ｔ－ヘキシルカルバモイル、ジイソヘプチルカルバモイル、ジ－ｔ－ヘプチルカルバモイル、ジイソオクチルカルバモイル、ジ－ｔ－オクチルカルバモイル、ジ－（２－エチルヘキシル）カルバモイル、ジイソノニルカルバモイル、ジイソデシルカルバモイル等の分岐鎖アルキル基を２つ有する分岐鎖状のジＣ_３－Ｃ_１０アルキルカルバモイル基；又は、
ジシクロプロピルカルバモイル、ジシクロブチルカルバモイル、ジシクロペンチルカルバモイル、ジシクロヘキシルカルバモイル、ジシクロヘプチルカルバモイル等の環を２つ有する環状のジＣ_３－Ｃ_７アルキルカルバモイル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のジアルキルカルバモイル基が好ましく、直鎖状のジアルキルカルバモイル基がより好ましい。

アリールカルバモイル基としては、モノアリールカルバモイル基又はジアリールカルバモイル基が挙げられる。モノアリールカルバモイル基としては、好ましくはモノＣ_６－Ｃ_１２アリールカルバモイル基であり、具体例としては、例えば、フェニルカルバモイル、ナフチルカルバモイル、ビフェニルカルバモイル等が挙げられる。

ジアリールカルバモイル基としては、好ましくはジＣ_６－Ｃ_１２アリールカルバモイル基であり、具体例としては、例えば、ジフェニルカルバモイル、ジナフチルカルバモイル、ジ（ビフェニル）カルバモイル等が挙げられる。

アルコキシカルボニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシカルボニル基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルコキシカルボニル基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルコキシカルボニル基の具体例としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ－プロポキシカルボニル、ｎ－ブトキシカルボニル、ｎ－ペントキシカルボニル、ｎ－ヘキシロキシカルボニル、ｎ－ヘプトキシカルボニル、ｎ－オクチロキシカルボニル、ｎ－ノニロキシカルボニル、ｎ－デシロキシカルボニルといった直鎖のアルコキシカルボニル基；
イソプロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ－ブトキシカルボニル、ｔ－ブトキシカルボニル、イソアミロキシカルボニル、ｔ－アミロキシカルボニル、イソヘキシロキシカルボニル、ｔ－ヘキシロキシカルボニル、イソヘプトキシカルボニル、ｔ－ヘプトキシカルボニル、イソオクチロキシカルボニル、ｔ－オクチロキシカルボニル、２－エチルヘキシロキシカルボニル、イソノニロキシカルボニル、イソデシロキシカルボニル等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルコキシカルボニル基；又は、
シクロプロポキシカルボニル、シクロブトキシカルボニル、シクロペントキシカルボニル、シクロヘキシロキシカルボニル、シクロヘプトキシカルボニル等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルコキシカルボニル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシカルボニル基が好ましく、直鎖状のアルコキシカルボニル基がより好ましい。

アリールオキシカルボニル基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールオキシカルボニル基であり、具体例としては、例えば、フェノキシカルボニル、ナフチロキシカルボニル、ビフェニロキシカルボニル等が挙げられる。

アルキルスルホニルアミノ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルスルホニルアミノ基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキルスルホニルアミノ基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキルスルホニルアミノ基の具体例としては、例えば、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、ｎ－プロピルスルホニルアミノ、ｎ－ブチルスルホニルアミノ、ｎ－ペンチルスルホニルアミノ、ｎ－ヘキシルスルホニルアミノ、ｎ－ヘプチルスルホニルアミノ、ｎ－オクチルスルホニルアミノ、ｎ－ノニルスルホニルアミノ、ｎ－デシルスルホニルアミノといった直鎖状のアルキルスルホニルアミノ基；
イソプロピルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、ｓｅｃ－ブチルスルホニルアミノ、ｔ－ブチルスルホニルアミノ、イソアミルスルホニルアミノ、ｔ－アミルスルホニルアミノ、イソヘキシルスルホニルアミノ、ｔ－ヘキシルスルホニルアミノ、イソヘプチルスルホニルアミノ、ｔ－ヘプチルスルホニルアミノ、イソオクチルスルホニルアミノ、ｔ－オクチルスルホニルアミノ、２－エチルヘキシルスルホニルアミノ、イソノニルスルホニルアミノ、イソデシルスルホニルアミノ等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキルスルホニルアミノ基；又は、
シクロプロピルスルホニルアミノ、シクロブチルスルホニルアミノ、シクロペンチルスルホニルアミノ、シクロヘキシルスルホニルアミノ、シクロヘプチルスルホニルアミノ等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキルスルホニルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキルスルホニルアミノ基が好ましく、直鎖状のアルキルスルホニルアミノ基がより好ましい。

アリールスルホニルアミノ基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールスルホニルアミノ基であり、具体例としては、例えば、フェニルスルホニルアミノ、トルエンスルホニルアミノ、ナフチルスルホニルアミノ、ビフェニルスルホニルアミノ等が挙げられる。

アルキルスルファモイル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のモノアルキルスルファモイル基或いはジアルキルスルファモイル基が挙げられる。モノアルキルスルファモイル基としては、好ましくはモノＣ_１－Ｃ_１０アルキルスルファモイル基であり、具体例としては、例えば、メチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ｎ－プロピルスルファモイル、ｎ－ブチルスルファモイル、ｎ－ペンチルスルファモイル、ｎ－ヘキシルスルファモイル、ｎ－ヘプチルスルファモイル、ｎ－オクチルスルファモイル、ｎ－ノニルスルファモイル、ｎ－デシルスルファモイルといった直鎖のモノアルキルスルファモイル基；イソプロピルスルファモイル、イソブチルスルファモイル、ｓｅｃ－ブチルスルファモイル、ｔ－ブチルスルファモイル、イソアミルスルファモイル、ｔ－アミルスルファモイル、イソヘキシルスルファモイル、ｔ－ヘキシルスルファモイル、イソヘプチルスルファモイル、ｔ－ヘプチルスルファモイル、イソオクチルスルファモイル、ｔ－オクチルスルファモイル、２－エチルヘキシルスルファモイル、イソノニルスルファモイル、イソデシルスルファモイル等の分岐鎖状のモノＣ_３－Ｃ_１０アルキルスルファモイル基；又は、
シクロプロピルスルファモイル、シクロブチルスルファモイル、シクロペンチルスルファモイル、シクロヘキシルスルファモイル、シクロヘプチルスルファモイル等の環状のモノＣ_３－Ｃ_７アルキルスルファモイル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のモノアルキルスルファモイル基が好ましく、直鎖状のモノアルキルスルファモイル基がより好ましい。

ジアルキルスルファモイル基としては、好ましくはジＣ_１－Ｃ_１０アルキルスルファモイル基であり、具体例としては、例えば、ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、ジ－ｎ－プロピルスルファモイル、ジ－ｎ－ブチルスルファモイル、ジ－ｎ－ペンチルスルファモイル、ジ－ｎ－ヘキシルスルファモイル、ジ－ｎ－ヘプチルスルファモイル、ジ－ｎ－オクチルスルファモイル、ジ－ｎ－ノニルスルファモイル、ジ－ｎ－デシルスルファモイルといった直鎖のジアルキルスルファモイル基；
ジイソプロピルスルファモイル、ジイソブチルスルファモイル、ジ－ｓｅｃ－ブチルスルファモイル、ジ－ｔ－ブチルスルファモイル、ジイソアミルスルファモイル、ジ－ｔ－アミルスルファモイル、ジイソヘキシルスルファモイル、ジ－ｔ－ヘキシルスルファモイル、ジイソヘプチルスルファモイル、ジ－ｔ－ヘプチルスルファモイル、ジイソオクチルスルファモイル、ジ－ｔ－オクチルスルファモイル、ジ－（２－エチルヘキシル）スルファモイル、ジイソノニルスルファモイル、ジイソデシルスルファモイル等の分岐鎖アルキル基を２つ有する分岐鎖状のジＣ_３－Ｃ_１０アルキルスルファモイル基；又は、
ジシクロプロピルスルファモイル、ジシクロブチルスルファモイル、ジシクロペンチルスルファモイル、ジシクロヘキシルスルファモイル、ジシクロヘプチルスルファモイル等の環を２つ有する環状のジＣ_３－Ｃ_７アルキルスルファモイル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のジアルキルスルファモイル基が好ましく、直鎖状のジアルキルスルファモイル基がより好ましい。

アリールスルファモイル基としては、モノアリールスルファモイル基又はジアリールスルファモイル基が挙げられる。モノアリールスルファモイル基としては、好ましくはモノＣ_６－Ｃ_１２アリールスルファモイル基であり、具体例としては、例えば、フェニルスルファモイル、ナフチルスルファモイル、ビフェニルスルファモイル等が挙げられる。

ジアリールスルファモイル基としては、好ましくはジＣ_６－Ｃ_１２アリールスルファモイル基であり、具体例としては、例えば、ジフェニルスルファモイル、ジナフチルスルファモイル、ジ（ビフェニル）スルファモイル等が挙げられる。

アルキルスルホニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルスルホニル基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１２アルキルスルホニル基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１２アルキルスルホニル基の具体例としては、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ－プロピルスルホニル、ｎ－ブチルスルホニル、ｎ－ペンチルスルホニル、ｎ－ヘキシルスルホニル、ｎ－ヘプチルスルホニル、ｎ－オクチルスルホニル、ｎ－ノニルスルホニル、ｎ－デシルスルホニル、ｎ－ウンデシルスルホニル、ｎ－ドデシルスルホニルといった直鎖状のアルキルスルホニル基；
イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ－ブチルスルホニル、ｔ－ブチルスルホニル、イソアミルスルホニル、ｔ－アミルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、ｔ－ヘキシルスルホニル、イソヘプチルスルホニル、ｔ－ヘプチルスルホニル、イソオクチルスルホニル、ｔ－オクチルスルホニル、２－エチルヘキシルスルホニル、イソノニルスルホニル、イソデシルスルホニル、イソウンデシルスルホニル、ｔ－ウンデシルスルホニル、イソドデシルスルホニル、ｔ－ドデシルスルホニル等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１２アルキルスルホニル基；又は、
シクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘプチルスルホニル等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキルスルホニル基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキルスルホニル基が好ましく、直鎖状のアルキルスルホニル基がより好ましい。

アリールスルホニル基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールスルホニル基であり、具体例としては、例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、ビフェニルスルホニル等が挙げられる。

アルキルチオ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルチオ基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキルチオ基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルキルチオ基の具体例としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ－プロピルチオ、ｎ－ブチルチオ、ｎ－ペンチルチオ、ｎ－ヘキシルチオ、ｎ－ヘプチルチオ、ｎ－オクチルチオ、ｎ－ノニルチオ、ｎ－デシルチオといった直鎖状のアルキルチオ基；
イソプロピルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ－ブチルチオ、ｔ－ブチルチオ、イソアミルチオ、ｔ－アミルチオ、イソヘキシルチオ、ｔ－ヘキシルチオ、イソヘプチルチオ、ｔ－ヘプチルチオ、イソオクチルチオ、ｔ－オクチルチオ、２－エチルヘキシルチオ、イソノニルチオ、イソデシルチオ等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルキルチオ基；又は、
シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、シクロヘプチルチオ等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルキルチオ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキルチオ基が好ましく、直鎖状のアルキルチオ基がより好ましい。

アリールチオ基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールチオ基であり、具体例としては、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ、ビフェニルチオ等が挙げられる。

アルキルウレイド基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のモノアルキルウレイド基或いはジアルキルウレイド基が挙げられる。モノアルキルウレイド基としては、好ましくはモノＣ_１－Ｃ_１０アルキルウレイド基であり、具体例としては、例えば、メチルウレイド、エチルウレイド、ｎ－プロピルウレイド、ｎ－ブチルウレイド、ｎ－ペンチルウレイド、ｎ－ヘキシルウレイド、ｎ－ヘプチルウレイド、ｎ－オクチルウレイド、ｎ－ノニルウレイド、ｎ－デシルウレイドといった直鎖状のモノアルキルウレイド基；
イソプロピルウレイド、イソブチルウレイド、ｓｅｃ－ブチルウレイド、ｔ－ブチルウレイド、イソアミルウレイド、ｔ－アミルウレイド、イソヘキシルウレイド、ｔ－ヘキシルウレイド、イソヘプチルウレイド、ｔ－ヘプチルウレイド、イソオクチルウレイド、ｔ－オクチルウレイド、２－エチルヘキシルウレイド、イソノニルウレイド、イソデシルウレイド等の分岐鎖状のモノＣ_３－Ｃ_１０アルキルウレイド基；又は、
シクロプロピルウレイド、シクロブチルウレイド、シクロペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、シクロヘプチルウレイド等の環状のモノＣ_３－Ｃ_７アルキルウレイド基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルキルウレイド基が好ましく、直鎖状のアルキルウレイド基が挙げられる。

ジアルキルウレイド基としては、好ましくはジＣ_１－Ｃ_１０アルキルウレイド基であり、具体例としては、例えば、ジメチルウレイド、ジエチルウレイド、ジ－ｎ－プロピルウレイド、ジ－ｎ－ブチルウレイド、ジ－ｎ－ペンチルウレイド、ジ－ｎ－ヘキシルウレイド、ジ－ｎ－ヘプチルウレイド、ジ－ｎ－オクチルウレイド、ジ－ｎ－ノニルウレイド、ジ－ｎ－デシルウレイドといった直鎖状のジアルキルウレイド基；
ジイソプロピルウレイド、ジイソブチルウレイド、ジ－ｓｅｃ－ブチルウレイド、ジ－ｔ－ブチルウレイド、ジイソアミルウレイド、ジ－ｔ－アミルウレイド、ジイソヘキシルウレイド、ジ－ｔ－ヘキシルウレイド、ジイソヘプチルウレイド、ジ－ｔ－ヘプチルウレイド、ジイソオクチルウレイド、ジ－ｔ－オクチルウレイド、ジ－（２－エチルヘキシル）ウレイド、ジイソノニルウレイド、ジイソデシルウレイド等の分岐鎖アルキル基を２つ有する分岐鎖状のジＣ_３－Ｃ_１０アルキルウレイド基；又は、ジシクロプロピルウレイド、ジシクロブチルウレイド、ジシクロペンチルウレイド、ジシクロヘキシルウレイド、ジシクロヘプチルウレイド等の環を２つ有する環状のジＣ_３－Ｃ_７アルキルウレイド基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のジアルキルウレイド基が好ましく、直鎖状のジアルキルウレイド基がより好ましい。

アリールウレイド基としては、モノアリールウレイド基又はジアリールウレイド基が挙げられる。モノアリールウレイド基としては、好ましくはモノＣ_６－Ｃ_１２アリールウレイド基であり、具体例としては、例えば、フェニルウレイド、ナフチルウレイド、ビフェニルウレイド等が挙げられる。

ジアリールウレイド基としては、好ましくはジＣ_６－Ｃ_１２アリールウレイド基であり、具体例としては、例えば、ジフェニルウレイド、ジナフチルウレイド、ジ（ビフェニル）ウレイド等が挙げられる。

アルコキシカルボニルアミノ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシカルボニルアミノ基、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルコキシカルボニルアミノ基が挙げられる。Ｃ_１－Ｃ_１０アルコキシカルボニルアミノ基の具体例としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ、ｎ－ブトキシカルボニルアミノ、ｎ－ペントキシカルボニルアミノ、ｎ－ヘキシロキシカルボニルアミノ、ｎ－ヘプトキシカルボニルアミノ、ｎ－オクチロキシカルボニルアミノ、ｎ－ノニロキシカルボニルアミノ、ｎ－デシロキシカルボニルアミノといった直鎖状のアルコキシカルボニルアミノ基；
イソプロポキシカルボニルアミノ、イソブトキシカルボニルアミノ、ｓｅｃ－ブトキシカルボニルアミノ、ｔ－ブトキシカルボニルアミノ、イソアミロキシカルボニルアミノ、ｔ－アミロキシカルボニルアミノ、イソヘキシロキシカルボニルアミノ、ｔ－ヘキシロキシカルボニルアミノ、イソヘプトキシカルボニルアミノ、ｔ－ヘプトキシカルボニルアミノ、イソオクチロキシカルボニルアミノ、ｔ－オクチロキシカルボニルアミノ、２－エチルヘキシロキシカルボニルアミノ、イソノニロキシカルボニルアミノ、イソデシロキシカルボニルアミノ等の分岐鎖状のＣ_３－Ｃ_１０アルコキシカルボニルアミノ基；又は、
シクロプロポキシカルボニルアミノ、シクロブトキシカルボニルアミノ、シクロペントキシカルボニルアミノ、シクロヘキシロキシカルボニルアミノ、シクロヘプトキシカルボニルアミノ等の環状のＣ_３－Ｃ_７アルコキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシカルボニルアミノ基が好ましく、直鎖状のアルコキシカルボニルアミノ基がより好ましい。

アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくはＣ_６－Ｃ_１２アリールオキシカルボニルアミノ基であり、具体例としては、例えば、フェニルカルボニルアミノ、ナフチルカルボニルアミノ、ビフェニルカルボニルアミノ等が挙げられる。

アルキルアミノ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のモノアルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基が挙げられる。モノアルキルアミノ基としては、好ましくはモノＣ_１－Ｃ_１０アルキルアミノ基であり、具体例としては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ－プロピルアミノ、ｎ－ブチルアミノ、ｎ－ペンチルアミノ、ｎ－ヘキシルアミノ、ｎ－ヘプチルアミノ、ｎ－オクチルアミノ、ｎ－ノニルアミノ、ｎ－デシルアミノといった直鎖状のモノアルキルアミノ基；
イソプロピルアミノ、イソブチルアミノ、ｓｅｃ－ブチルアミノ、ｔ－ブチルアミノ、イソアミルアミノ、ｔ－アミルアミノ、イソヘキシルアミノ、ｔ－ヘキシルアミノ、イソヘプチルアミノ、ｔ－ヘプチルアミノ、イソオクチルアミノ、ｔ－オクチルアミノ、２－エチルヘキシルアミノ、イソノニルアミノ、イソデシルアミノ等の分岐鎖状のモノＣ_３－Ｃ_１０アルキルアミノ基；又は、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロヘプチルアミノ等の環状モノＣ_３－Ｃ_７アルキルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のモノアルキルアミノ基が好ましく、直鎖状のモノアルキルアミノ基がより好ましい。

ジアルキルアミノ基としては、好ましくはジＣ_１－Ｃ_１０アルキルアミノ基であり、具体例としては、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ－ｎ－プロピルアミノ、ジ－ｎ－ブチルアミノ、ジ－ｎ－ペンチルアミノ、ジ－ｎ－ヘキシルアミノ、ジ－ｎ－ヘプチルアミノ、ジ－ｎ－オクチルアミノ、ジ－ｎ－ノニルアミノ、ジ－ｎ－デシルアミノといった直鎖のジアルキルアミノ基；
ジイソプロピルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ－ｓｅｃ－ブチルアミノ、ジ－ｔ－ブチルアミノ、ジイソアミルアミノ、ジ－ｔ－アミルアミノ、ジイソヘキシルアミノ、ジ－ｔ－ヘキシルアミノ、ジイソヘプチルアミノ、ジ－ｔ－ヘプチルアミノ、ジイソオクチルアミノ、ジ－ｔ－オクチルアミノ、ジ－（２－エチルヘキシル）アミノ、ジイソノニルアミノ、ジイソデシルアミノ等の分岐鎖アルキル基を２つ有する分岐鎖状のジＣ_３－Ｃ_１０アルキルアミノ基；又は、
ジシクロプロピルアミノ、ジシクロブチルアミノ、ジシクロペンチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ、ジシクロヘプチルアミノ等の環を２つ有する環状ジＣ_３－Ｃ_７アルキルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、直鎖状又は分岐鎖状のジアルキルアミノ基が好ましく、直鎖状のジアルキルアミノ基がより好ましい。

アリールアミノ基としては、モノアリールアミノ基又はジアリールアミノ基が挙げられる。モノアリールアミノ基としては、好ましくはモノＣ_６－Ｃ_１２アリールアミノ基であり、具体例としては、例えば、フェニルアミノ（アニリノ）、ナフチルアミノ、ビフェニルアミノ等が挙げられる。

ジアリールアミノ基としては、好ましくはジＣ_６－Ｃ_１２アリールアミノ基であり、具体例としては、例えば、ジフェニルアミノ、ジナフチルアミノ、ジ（ビフェニル）アミノ等が挙げられる。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。

本実施態様において、上記各式で表されるスチルベン系化合物の塩とは、上記各式で表されるスチルベン系化合物の遊離酸が無機陽イオン又は有機陽イオンと共に塩を形成している状態を意味する。無機陽イオンとしては、アルカリ金属、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムの各陽イオン、又は、アンモニウム（ＮＨ_４ ^＋）等が挙げられる。また、有機陽イオンとしては、例えば、下記式（Ｄ）で表される有機アンモニウム等が挙げられる。

式（Ｄ）中、Ｚ₁乃至Ｚ₄は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシアルコキシアルキル基を表わし、かつ、Ｚ₁乃至Ｚ₄の少なくともいずれか１つは水素原子以外の基である。

式（Ｄ）中、Ｚ₁乃至Ｚ₄の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等のＣ_１－Ｃ_６アルキル基、好ましくはＣ_１－Ｃ_４アルキル基；
ヒドロキシメチル、２－ヒドロキシエチル、３－ヒドロキシプロピル、２－ヒドロキシプロピル、４－ヒドロキシブチル、３－ヒドロキシブチル、２－ヒドロキシブチル等のヒドロキシＣ_１－Ｃ_６アルキル基、好ましくはヒドロキシＣ_１－Ｃ_４アルキル基；又は、
ヒドロキシエトキシメチル、２－ヒドロキシエトキシエチル、３－ヒドロキシエトキシプロピル、３－ヒドロキシエトキシブチル、２－ヒドロキシエトキシブチル等のヒドロキシＣ_１－Ｃ_６アルコキシＣ_１－Ｃ_６アルキル基、好ましくはヒドロキシＣ_１－Ｃ_４アルコキシＣ_１－Ｃ_４アルキル基等が挙げられる。

これらの無機陽イオン又は有機陽イオンの中でも、ナトリウム、カリウム、リチウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、アンモニウム等の各陽イオンがより好ましく、リチウム、アンモニウム又はナトリウムの各無機陽イオンが特に好ましい。

次に、本実施態様に係るスチルベン系化合物の合成方法について説明する。合成方法としては、例えば、以下に示す合成反応を行うことによって、本実施態様における上記各式で表されるスチルベン系化合物を合成することができる。

式（１）中、基Ｙが、置換基を有してもよいアミド基である本実施態様に係るスチルベン系化合物、例えば、式（３）で表されるスチルベン系化合物は、酸クロリド、もしくは酸無水物を用いる通常のアミド化に従い製造できる。具体的には、スチルベン骨格を有する化合物のアミド化が行われる。例えば、先ず、市販品として入手可能な４－アミノ－４’－ニトロスチルベン－２，２’－ジスルホン酸を炭酸ナトリウム等の塩基存在下で、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどの溶媒中において、Ａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃｌ（式中、Ａは式（３）について定義した通りである。）で表される酸クロリドまたはＡ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａ（式中、Ａは式（３）について定義した通りである。）で表される酸無水物と６０℃～１４０℃で反応させる。次いで、得られた反応液に水、もしくは食塩水を加え、析出した固体をろ過等により分離する。その後、分離した固体を必要に応じて洗浄、乾燥させることにより、本実施態様の式（３）で表されるスチルベン系化合物を合成することができる。

また、式（１）中、基Ｙが、置換基を有してもよいナフトトリアゾール基である本実施態様に係るスチルベン系化合物、例えば、式（５）で表されるスチルベン系化合物もまた、市販品として入手可能な４－アミノ－４’－ニトロスチルベン－２，２’－ジスルホン酸から合成することができる。具体的には、４－アミノ－４’－ニトロスチルベン－２，２’－ジスルホン酸を塩酸等の酸性下で、水中において亜硝酸ナトリウム水溶液等と１０℃以下でジアゾ化させる。次いで、得られたジアゾ化反応液に下記式（Ａ）のアミノナフタレンを加え、この溶液をｐＨ１．０～８．０で反応させることにより、中間体である下記式（Ｂ）の化合物を得ることができる。尚、下記式（Ａ）及び式（Ｂ）中、基Ｒ^２及びｎは、式（５）に定義した通りである。

得られた式（Ｂ）の中間体を水中で２５％水酸化ナトリウム水溶液を用いてｐＨ９．０～１１．０の水溶液を得た後、この水溶液に２８％アンモニア水及び硫酸銅五水和物を加え、これらを８０～１００℃で反応させる。これにより、式（５）で表される基Ｂがニトロ基であるスチルベン系化合物を得ることができる。

さらに、基Ｂがニトロ基である得られたスチルベン化合物を、鉄粉還元、ヒドラジン還元、パラジウム－カーボン等の代表的な還元剤を用いた還元反応等により、式（Ｃ）で表される基Ｂがアミノ基であるスチルベン系化合物を得ることができる。尚、下記式（Ｃ）中、基Ｒ^２及びｎは、式（５）について定義した通りである。

得られた式（Ｃ）の化合物のアミノ基は、常法により、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、又はアリールスルホニルアミノ基等に任意に変換することも可能である。

このようにして得られた本実施態様に係るスチルベン系化合物又はその塩は、偏光膜用の二色性染料として有用である。さらに、偏光膜に、透明保護膜を設けて偏光板を作製することも可能である。作製した偏光板には、必要に応じて公知の各種機能性層をさらに設けことも可能であり、このような偏光板は、液晶プロジェクター、電卓、時計、ノートパソコン、ワープロ、液晶テレビ、カーナビゲーション、セキュリティ用ディスプレイ、屋内外の計測器、表示器、レンズメガネ等に適用できる。

［偏光膜］
本実施態様に係る偏光膜は、上記各式で表されるスチルベン系化合物又はその塩を含有する基材を含んでおり、好ましくは染料系偏光膜である。偏光膜が、可視光領域に偏光発光作用を示す上述のスチルベン系化合物又はその塩を含むため、偏光膜は、可視光領域に偏光した光を発光する偏光発光機能を有する。このような基材は、染料を吸着し得る親水性高分子を製膜して得られるフィルム等であることが好ましい。当該親水性高分子は、特に限定されるものではないが、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、アミロース系樹脂、デンプン系樹脂、セルロース系樹脂及びポリアクリル酸塩系樹脂等が挙げられる。このような樹脂の中でも、染料の吸着性、加工性、配向性等の観点から、ポリビニルアルコール系樹脂又はその誘導体であることが好ましく、基材は、ポリビニルアルコール樹脂又はその誘導体から作製されたフィルムであることが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂又はその誘導体は、エチレン、プロピレン等のオレフィン、又は、クロトン酸、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸などで変性されていてもよい。基材の形状は、特に限定されるものではなく、例えば、フィルム状、シート状、平板状、曲板状及び半球状等、任意の形状に作製することができる。また、基材の厚さは、通常、１０μｍ～１００μｍであり、好ましくは２０μｍ～８０μｍである。偏光膜は、上記各式で表されるスチルベン系化合物又はその塩を単独又は複数含んでいてもよい。

偏光膜に含有されるスチルベン系化合物の配合割合は、特に限定されるものではないが、透過率が後述する好ましい範囲になるように調整されることが好適である。偏光膜の偏光性能は、偏光膜に含まれるスチルベン系化合物の配合割合のみならず、当該化合物を吸着させる基材の膨潤度、延伸倍率、染色時間、染色温度、染色時のｐＨ、塩の影響等の様々な要因により変化する。このため、偏光膜に含有されるスチルベン系化合物の配合割合は、基材の膨潤度、染色時の温度、時間、ｐＨ、塩の種類、塩の濃度、さらには延伸倍率に応じて決定することができる。このような配合割合の調整は、適宜調整することができる。

本実施態様に係る偏光膜は、偏光膜の偏光性能を阻害しない範囲で、色調整を目的として、必要に応じて、上記各式で表されるスチルベン系化合物又はその塩とは異なる有機染料又は蛍光染料をさらに１種以上含有していてもよい。併用される有機染料又は蛍光染料は、特に限定されるものではないが、二色性の高い色素が好ましく、かつ、各式で表されるスチルベン系化合物又はその塩の紫外光領域の偏光性能に影響が少ない染料が好ましい。このような染料は、例えば、シー．アイ．ダイレクト．イエロー１２、シー．アイ．ダイレクト．イエロー２８、シー．アイ．ダイレクト．イエロー４４、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ２６、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ３９、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ７１、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ１０７、シー．アイ．ダイレクト．レッド２、シー．アイ．ダイレクト．レッド３１、シー．アイ．ダイレクト．レッド７９、シー．アイ．ダイレクト．レッド８１、シー．アイ．ダイレクト．レッド２４７、シー．アイ．ダイレクト．ブルー６９、シー．アイ．ダイレクト．ブルー７８、シー．アイ．ダイレクト．グリーン８０、シー．アイ．ダイレクト．グリーン５９等が挙げられる。これらの染料は遊離酸であっても、あるいはアルカリ金属塩（例えばＮａ塩、Ｋ塩、Ｌｉ塩）、アンモニウム塩又はアミン類の塩であってもよい。

上記の有機染料又は蛍光染料を併用する場合、所望とする偏光膜が、ニュートラルグレーの偏光膜、液晶プロジェクター用カラー偏光膜、その他のカラー偏光膜等、用途に応じて、それぞれ配合する染料の種類が異なる。そのため、有機染料又は蛍光染料の配合割合は特に限定されるものではないが、一般的には、上記各式のスチルベン系化合物又はその塩の質量部を基準として、これらの染料の少なくとも一種以上の合計が０．０１～１０質量部の範囲で用いることが好ましい。

＜偏光膜の製造方法＞
次に、本実施態様に係る偏光膜の製造方法について説明する。本実施態様に係る偏光膜の製造方法は、以下の製法に限定されるものではないが、主に、基材を準備する工程と、基材を膨潤液に浸漬させ、当該基材を膨潤により延伸させる膨潤工程と、膨潤させた基材を少なくとも１種の上記各式で表されるスチルベン系化合物又はその塩を含む染色溶液に含浸させ、基材に染料としてのスチルベン系化合物を吸着させる染色工程と、染料を含有させた基材を、ホウ酸を含有する溶液に浸漬し、染料を基材中で架橋させる架橋工程と、染料を架橋させた基材を一定の方向に一軸延伸して、染料を一定の方向に配列させる延伸工程と、必要に応じて、延伸させた基材を、洗浄液で洗浄する洗浄工程と、洗浄させた基材を乾燥させる乾燥工程とを含んでいる。

（基材の準備）
まず、上記各式で表されるスチルベン系化合物（以下、単に「染料」ともいう）を含有させるための基材を準備する。当該基材は、例えば、市販のポリビニルアルコール系樹脂又はその誘導体のフィルムを用いてもよく、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜することにより作製してもよい。ポリビニルアルコール系樹脂の製膜方法は特に限定されるものではなく、例えば、含水ポリビニルアルコールを溶融押出する方法、流延製膜法、湿式製膜法、ゲル製膜法（ポリビニルアルコール水溶液を一旦冷却ゲル化した後、溶媒を抽出除去）、キャスト製膜法（ポリビニルアルコール水溶液を基盤上に流し、乾燥）、及びこれらの組み合わせによる方法等、公知の製膜方法を採用することができる。

（膨潤工程）
次に、上述の基材に、膨潤処理を施す。膨潤処理は２０～５０℃の膨潤液に、基材を３０秒～１０分間浸漬させることにより行うことが好ましく、膨潤液は水であることが好ましい。膨潤液による基材の延伸倍率は、１．００～１．５０倍に調整することが好ましく、１．１０～１．３５倍に調整することがより好ましい。

（染色工程）
続いて、上記のような膨潤処理を施して得られた基材に、少なくとも１種の染料を吸着及び含浸させる。染色工程は、染料を基材に吸着及び含浸させる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、基材を、染料を含む染色溶液（染色水溶液）に浸漬させることが好ましく、また、基材に染色溶液を塗布することによって吸着させることもできる。染色溶液中の染料の濃度は、基材中に染料が十分に吸着されていれば特に限定されるものではないが、例えば、染色溶液中に０．０００１～１質量％であることが好ましく、０．００１～０．５質量％であることがより好ましい。

染色工程における染色溶液の温度は、５～８０℃が好ましく、２０～５０℃がより好ましく、４０～５０℃が特に好ましい。また、染色溶液に基材を浸漬する時間は、適度調節可能であり、３０秒～２０分の間で調節するのが好ましく、１～１０分の間がより好ましい。

染色溶液に含まれる染料として、上記各式で表されるスチルベン系化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。このような上記各式（で表されるスチルベン系化合物は、化合物によりその発光色が異なるため、基材に、上記の染料を１種以上含有させることにより、生じる発光色を所望の色に適宜調整することができる。また、必要に応じて、染色溶液は、１種以上の上記有機染料又は蛍光染料をさらに含んでいてもよい。

染色溶液は、上記の染料に加え、必要に応じて更に染色助剤を含有してもよい。染色助剤としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム（芒硝）、無水硫酸ナトリウム及びトリポリリン酸ナトリウム等が挙げられ、好ましくは硫酸ナトリウムである。染色助剤の含有量は、使用される染料の染色性に基づく上記浸漬の時間及び染色溶液の温度によって任意に調整可能であるが、染色溶液中に０．１～１０質量％であることが好ましく、０．１～２質量％であることがより好ましい。

染色工程後、当該染料含有工程で基材の表面に付着した染色溶液を除去するために、任意に予備洗浄工程を実施することができる。予備洗浄工程を実施することによって、次に処理する液中に基材の表面に残存する染料が移行することを抑制することができる。予備洗浄工程では、洗浄液として一般的には水が用いられる。洗浄方法は、洗浄液に染色した基材を浸漬することが好ましく、一方で、洗浄液を当該基材に塗布することによって洗浄することもできる。洗浄時間は、特に限定されるものではないが、好ましくは１～３００秒であり、より好ましくは１～６０秒である。予備洗浄工程における洗浄液の温度は、基材を構成する材料が溶解しない温度であることが必要となり、一般的には５～４０℃で洗浄処理が施される。尚、予備洗浄工程の工程がなくとも、偏光素子の性能には特段大きな影響を及ぼさないため、予備洗浄工程は省略することも可能である。

（架橋工程）
染料含有工程又は予備洗浄工程の後、基材に架橋剤を含有させることができる。基材に架橋剤を含有させる方法は、架橋剤を含む処理溶液に基材を浸漬させることが好ましく、一方で、当該処理溶液を基材に塗布又は塗工してもよい。処理溶液中の架橋剤としては、ホウ酸を含有する溶液を使用することが好ましい。処理溶液中の溶媒は、特に限定されるものではないが、水が好ましい。処理溶液中のホウ酸の濃度は、０．１～１５質量％であることが好ましく、０．１～１０質量％であることがより好ましい。処理溶液の温度は、３０～８０℃が好ましく、４０～７５℃がより好ましい。また、この架橋工程の処理時間は３０秒～１０分が好ましく、１～６分がより好ましい。本実施態様に係る偏光膜の製造方法が、この架橋工程を有することにより、得られる偏光素子は、高いコントラストを示す。このことは、従来技術において、耐水分性又は光透過性を改善する目的で使用されていたホウ酸の機能からは全く予期し得ない優れた作用である。また、架橋工程においては、必要に応じて、カチオン系高分子化合物を含む水溶液で、フィックス処理をさらに併せて行ってもよい。フィックス処理により、染料の固定化が可能となる。このとき、カチオン系高分子化合物として、例えば、ジシアン系としてジシアンアミドとホルマリン重合縮合物、ポリアミン系としてジシアンジアミド・ジエチレントリアミン重縮合物、ポリカチオン系としてエピクロロヒドリン・ジメチルアミン付加重合物、ジメチルジアリルアモンニウムクロライド・二酸化イオン共重合物、ジアリルアミン塩重合物、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド重合物、アリルアミン塩の重合物、ジアルキルアミノエチルアクリレート四級塩重合物等が使用される。

（延伸工程）
架橋工程を行った後、延伸工程を実施する。延伸工程は、基材を一定の方向に一軸延伸することにより行われる。延伸方法は、湿式延伸法又は乾式延伸法のいずれであってもよい。延伸倍率は、３倍以上であることが好ましく、より好ましくは５～８倍である。

乾式延伸法において、延伸加熱媒体が空気媒体である場合には、空気媒体の温度が常温～１８０℃で基材を延伸するのが好ましい。また、湿度は２０～９５％ＲＨの雰囲気中であることが好ましい。基材の加熱方法としては、例えば、ロール間ゾーン延伸法、ロール加熱延伸法、熱間圧延伸法及び赤外線加熱延伸法等が挙げられるが、これらの延伸方法に限定されるものではない。乾式延伸工程は、一段階の延伸で実施しても、二段階以上の多段延伸で実施してもよい。

湿式延伸法においては、水、水溶性有機溶剤又はその混合溶液中で基材を延伸することが好ましい。より好ましくは、架橋剤を少なくとも１種含有する溶液中に基材を浸漬しながら延伸処理を行う。架橋剤は、例えば、上記架橋剤工程におけるホウ酸を用いることができ、好ましくは、架橋工程で使用した処理溶液中で延伸処理を行うことができる。延伸温度は４０～６０℃であることが好ましく、４５～５８℃がより好ましい。延伸時間は通常３０秒～２０分であり、好ましくは２～７分である。湿式延伸工程は、一段階の延伸で実施しても、二段階以上の多段延伸で実施してもよい。尚、延伸処理は、任意に、染料含有工程の前に行ってもよく、この場合には、染色の時点で染料の配向も一緒に行うことができる。

（洗浄工程）
延伸工程を実施した後には、基材の表面に架橋剤の析出又は異物が付着することがあるため、基材の表面を洗浄する洗浄工程を行うことができる。洗浄時間は１秒～５分が好ましい。洗浄方法は、基材を洗浄液に浸漬することが好ましく、一方で、洗浄液を基材に塗布又は塗工によって洗浄することもできる。洗浄液としては、水が好ましい。洗浄処理は一段階で実施しても、２段階以上の多段処理で実施してもよい。洗浄工程の洗浄溶の温度は、特に限定されるものではないが、通常、５～５０℃、好ましくは１０～４０℃であり、常温であってよい。

上述した各工程で用いる溶液又は処理液の溶媒としては、上記水の他にも、例えば、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールまたはトリメチロールプロパン等のアルコール類、エチレンジアミンおよびジエチレントリアミン等のアミン類等が挙げられる。当該溶液又は処理液の溶媒は、これらに限定されるものではないが、最も好ましくは水である。また、これらの溶液又は処理液の溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上の混合物を用いてもよい。

（乾燥工程）
洗浄工程の後、基材の乾燥工程を行う。乾燥処理は、自然乾燥により行うことができるものの、より乾燥効率を高めるため、ロールによる圧縮やエアーナイフ又は吸水ロール等による表面の水分除去等により行うことが可能であり、さらには、送風乾燥を行うことも可能である。乾燥処理の温度は、２０～１００℃であることが好ましく、６０～１００℃であることがより好ましい。乾燥時間は、３０秒～２０分であることが好ましく、５～１０分であることがより好ましい。

このようにして、本実施態様に係る偏光膜を作製することができる。また、本実施態様における上記各式で表されるスチルベン系化合物は、液晶と共に混合させ配向させる方法、又はシェアさせる塗工方法により配向させることにより、各種の色、またはニュートラルグレーを有する偏光膜を製造することができる。

［偏光板］
本実施態様に係る偏光板は、上述の偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の面に設けられた透明保護層とを備えており、好ましくは染料系偏光板である。透明保護層は、偏光膜の耐水性や取扱性等を向上させるために使用される。そのため、このような透明保護層は、本実施態様に係る偏光膜が示す偏光作用に何ら影響を与えるものではない。

透明保護層は、光学的透明性および機械的強度に優れる透明保護膜であることが好ましい。また、透明保護層は、偏光膜の形状を維持できる層形状を有するフィルムであることが好ましく、透明性および機械的強度の他に、熱安定性、水分遮蔽性等にも優れるプラスチックフィルムであることが好ましい。また、偏光膜は、紫外光域の光を吸収して偏光発光作用を示すため、透明保護層は、紫外光吸収機能を有さないことが好ましく、特に、紫外光吸収機能を有さないプラスチックフィルムであることが好ましい。このような透明保護膜を形成する材料としては、例えば、セルロースアセテート系フィルム、アクリル系フィルム、四フッ化エチレン／六フッ化プロピレン系共重合体のようなフッ素系フィルム、或いは、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂又はポリアミド系樹脂のフィルム等が挙げられ、好ましくはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムやシクロオレフィン系フィルムが用いられる。透明保護層の厚さは、１μｍ～２００μｍの範囲が好ましく、１０μｍ～１５０μｍの範囲がより好ましく、４０μｍ～１００μｍが特に好ましい。本実施態様に係る偏光板を製造する方法は、特に限定されるものではないが、例えば、偏光膜に透明保護層を重ねて、公知の処方にてラミネートすることによって偏光板を作製することができる。

このような偏光板は、透明保護層と偏光膜との間に、透明保護層を偏光膜に貼り合わせるための接着剤層をさらに備えていてもよい。接着剤層を構成する接着剤は、特に限定されるものではないが、ポリビニルアルコール系接着剤、ウレタンエマルジョン系接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステルーイソシアネート系接着剤等が挙げられ、好ましくはポリビニルアルコール系接着剤が用いられる。透明保護層と偏光膜とを接着剤により貼り合せた後、適切な温度で乾燥又は熱処理を行うことによって偏光板を作製することができる。

また、本実施態様に係る偏光板は、透明保護層の露出面に、反射防止層、防眩層、さらなる透明保護層等の公知の各種機能性層を適宜備えていてもよい。このような各種機能性を有する層を作製する場合、各種機能性を有する材料を透明保護層の露出面に塗工する方法が好ましく、一方、そのような機能を有する層又はフィルムを接着剤若しくは粘着剤を介して透明保護層の露出面に貼合せることも可能である。

さらなる透明保護層としては、例えば、アクリル系、ポリシロキサン系等のハードコート層、ウレタン系の保護層等が挙げられる。また、単体透過率をより向上させるために、透明保護層の露出上に反射防止層を設けることもできる。反射防止層は、例えば、二酸化珪素、酸化チタン等の物質を、透明保護層上に蒸着又はスパッタリング処理するか、或いは、フッ素系物質を透明保護層上薄く塗布することにより形成することができる。

本実施態様に係る偏光板は、必要に応じて、ガラス、水晶、サファイヤ等の透明な支持体等をさらに設けることができる。このような支持体は、偏光板に貼り付けるため、平面部を有していることが好ましく、また光学用途の観点から、透明基板であることが好ましい。透明基板としては、無機基板と有機基板に分けられ、例えば、無機基としては、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラス、水晶基板、サファイヤ基板、スピネル基板等が挙げられ、有機基板としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、シクロオレフィンポリマー等から構成される基板が挙げられる。透明基板の厚さ、大きさ等は特に限定されるものでなく、適宜決定することができる。また、このような透明基板を有する偏光板には、単体透過率をより向上させるために、その支持体面又は偏光板面の一方もしくは双方の面に反射防止層を設けることが好ましい。偏光板と支持体の平面部とを接着させるためには、透明な接着（粘着）剤を支持体平面部に塗布し、次いで、この塗布面に本実施態様に係る偏光板を貼付すればよい。使用する接着剤又は粘着剤は、特に限定されるものではなく、市販されているものを用いることができ、アクリル酸エステル系の接着剤又は粘着剤が好ましい。

また、本実施態様に係る偏光板は、位相差板を貼付することにより、円偏光板又は楕円偏光板として使用することもできる。このとき、偏光板に支持体等をさらに設ける場合、支持体は、位相差板側であっても偏光板側であってもよい。このように、偏光板には様々な機能性層、支持体等をさらに設けることができ、このような偏光板は、例えば、液晶プロジェクター、電卓、時計、ノートパソコン、ワープロ、液晶テレビ、カーナビゲーション及び屋内外の計測器や表示器等、レンズ、或いはメガネ等の様々な製品に使用できる。

このようにして作製された本実施態様に係る偏光膜及び偏光板は、紫外光領域において高い偏光度を示すと共に、さらには、可視光領域において偏光発光作用、高い透過率を示す。また、本実施態様に係る偏光膜及び偏光板は、熱、湿度、光等に対して優れた耐久性を示すため、過酷な環境下でも、その性能を維持することが可能であり、従来のヨウ素系偏光板よりも高い耐久性を有する。そのため、本実施態様に係る偏光膜及び偏光板は、可視光領域での高い透明性及び過酷な環境下での高い耐久性が求められる液晶ディスプレイ、例えば、テレビ、ウェアラブル端末、タブレット端末、スマートフォン、車載モニター、屋外又は屋内にて用いられるデジタルサイネージ、スマートウィンドウ等の各種表示装置に応用することができる。

［表示装置］
本実施態様に係る表示装置は、上記の偏光膜又は偏光板を備える。すなわち、本実施態様における特定のスチルベン系化合物を含有する偏光膜又は偏光板を有するディスプレイは、４００ｎｍ以下の光、例えば紫外光を照射することによって偏光発光作用を示し、この作用を利用することによって表示が可能となる。本実施態様に係る表示装置は、可視光領域で高い透過率を有しているため、従来の偏光板のような可視光領域の透過率の低下がないか、透過率の低下があっても、従来の偏光板の透過率よりも透過率の低下は著しく小さい。例えば、従来の偏光板であるヨウ素系偏光板、他の染料化合物を使用した染料系偏光板は、偏光度をほぼ１００％にするためには、可視光領域での視感度補正が３５～４３％程度である。その理由としては、従来の偏光板は、光の吸収軸として縦軸と横軸の両方を有しているが、ほぼ１００％の偏光度を得るために縦軸又は横軸の一方の入射した光を吸収する、すなわち、一方の軸では光を吸収し、他方の軸では光を透過することによって偏光が生じる。このような場合、一方の軸での光は吸収されて透過しないことから、必然的に透過率は５０％以下になってしまう。また、従来の偏光板は二色性色素を延伸させたフィルム中で配向させて偏光板を作製しているが、必ずしも二色性色素が１００％配向しているわけではなく、また、光の透過軸に対しても若干吸収成分を有しているため、物質の表面反射によって透過率が約４３％以下でないとほぼ１００％の偏光度は実現できない、つまりは、透過率を低下させなければ高い偏光度を実現することができなかった。それに対して、本実施態様に係る偏光膜又は偏光板は、約４００ｎｍ付近に光の吸収軸がある。このような偏光膜又は偏光板は、紫外光領域に光の吸収作用があり、可視光領域に偏光した光を発光する偏光発光作用を示す一方で、可視光領域ではほとんど光を吸収しないため、可視光領域での透過率は非常に高くなる。さらに、可視光領域では、偏光発光作用を示すため、従来の偏光板を用いるよりも光の損失はなく、従来の偏光板のような透過率の低下は非常に少ない。このことから、本実施態様に係る偏光膜又は偏光板を使用した表示装置、例えば、液晶ディスプレイは、従来の偏光板を用いた液晶ディスプレイよりも高い輝度が得られる。さらに、本実施態様に係る偏光膜又は偏光板を備える表示装置は、透明性が高いことから、液晶ディスプレイでありながら、ほぼ透明なディスプレイを得ることができ、また、文字、画像等の表示時には偏光発光が透過するように設計できることから、透明な液晶ディスプレイでありながらも表示可能なディスプレイ、すなわち、透明なディスプレイに文字等が表示可能なディスプレイを得ることができる。そのため、本実施態様に係る表示装置は、光損失がない透明な液晶ディスプレイ、特に、シースルーディスプレイとしての適用に有効である。

一方で、本実施態様に係る表示装置は、例えば、人の目に見えない紫外光により偏光が可能であることから、紫外光によって表示可能な液晶ディスプレイへの応用が可能である。その紫外光領域に表示された画像等を、コンピュータ等によって認識することによって、紫外光の照射したときのみ視認可能とする簡易でセキュリティ性の高い液晶ディスプレイを作製することができる。

また、本実施態様に係る表示装置は、例えば、紫外光を照射することによって偏光発光作用を示し、その偏光発光を利用した液晶ディスプレイが作製可能である。そのため、可視光を使用した通常の液晶表示ディスプレイではなく、紫外光を使用した液晶表示ディスプレイを実現することも可能とする。つまり、光のない暗い空間においても、紫外光が照射され得る空間であれば、表示される文字、画像等が表示される自己発光型液晶ディスプレイを作製することが可能となる。

さらに、可視光領域と紫外光領域とでは光の吸収帯域が異なるため、可視光領域の光によって表示可能な液晶表示部位と、紫外光による偏光発光作用によって表示された光での液晶表示部位とが併在する異なる２つの表示が可能なディスプレイを作製することも可能である。２つの異なる表示が可能なディスプレイは、これまでにも存在はしているが、同一液晶パネルでありながら、紫外光領域と可視光領域とで別々の光源によって異なる表示が可能なディスプレイは存在しない。このことから、本実施態様に係る表示装置は、上記の偏光膜又は偏光板を有することによって新規なディスプレイの作製が可能となる。

本実施態様に係る偏光膜若しくは偏光板を用いた車載用又は屋外表示用液晶ディスプレイにおいて、使用する液晶セルは、例えば、ＴＮ液晶、ＳＴＮ液晶、ＶＡ液晶、ＩＰＳ液晶などに限定されるものでなく、当該液晶ディスプレイは、あらゆる液晶ディスプレイモードで使用が可能である。

このような本実施態様に係る偏光板を使用した車載用又は屋外表示用ニュートラルグレー偏光板は、偏光性能に優れ、さらに車内や屋外の高温、高湿状態でも変色や偏光性能の低下が抑えられる。そのため、車載用又は屋外表示用液晶ディスプレイの長期信頼性の向上に寄与することができる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、これらは例示的なものであって、本発明を何ら限定するものではない。また、下記に記載されている「％」および「部」は、特に言及されない限り質量基準である。また、合成した化合物のうち、λｍａｘ（最大吸収波長）を測定した化合物については、ｐＨ７～８の水溶液中での測定値を示した。また、各実施例及び比較例で使用した化合物の各構造式において、スルホ基等の酸性官能基は、遊離酸の形態で記載した。

［実施例１］
（合成例１）
市販品の４－アミノ－４’－ニトロスチルベン－２，２’－ジスルホン酸４．０部と炭酸ナトリウム２．８部をＮ－メチル－２－ピロリドン３０部に加え、次いで４－メトキシベンゾイルクロリド３．４部を５分かけて滴下した。その後、得られた溶液を１１０℃にて６時間撹拌した。次いで、得られた反応液を水１００部に添加し、析出した固体をろ過により分離し、更にアセトン１００部にて洗浄することにより、ウェットケーキ１０．０部を得た。このウェットケーキを８０℃の熱風乾燥機で乾燥することにより下記式（７）で表される本発明に係るスチルベン系化合物（λｍａｘ：３７０ｎｍ）３．０部を合成した。

（偏光膜及び偏光板の作製）
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（クラレ社製 ＶＦ－ＰＳ＃７５００）を４０℃の水に３分間浸漬して、フィルムを膨潤させた。膨潤して得られたフィルムを、合成例１で得られた上記式（７）のスチルベン系化合物１．０部、芒硝１．０部及び水１０００部を含む４５℃の水溶液に、４分間浸漬して式（７）のスチルベン系化合物をフィルムに含有させた。式（７）のスチルベン系化合物を含有したフィルムを３％ホウ酸水溶液中に５０℃で５分間浸漬し、５倍に延伸した。延伸したフィルムを、緊張状態を保ったまま常温の水で２０秒間水洗し、次いで乾燥して偏光膜を作製した。得られた偏光膜の両面に、紫外線吸収剤を含有しないトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製 ＺＲＤ-６０）（厚さ：６０μｍ）を公知の処方にてラミネートし、本発明に係る偏光板を作製した。この偏光板を実施例１の測定試料とした。

［実施例２］
（合成例２）
上記合成例１において、４－メトキシベンゾイルクロリド３．４部の代わりに４－ニトロベンゾイルクロリド４．０部を使用する以外は合成例１と同様の操作を行い、下記式（８）で表される本発明に係るスチルベン系化合物（λｍａｘ：３７３ｎｍ）３．２部を合成した。次いで、式（８）で表されるスチルベン系化合物を使用して、実施例１と同様に偏光膜および偏光板を作製し、本発明に係る偏光板を作製した。この偏光板を実施例２の測定試料とした。

［実施例３］
（合成例３）
市販品の４－アミノ－４’－ニトロスチルベン－２，２’－ジスルホン酸３５．２部を水３００部に加え撹拌し、３５％塩酸を用いてｐＨ０．５とした。得られた溶液に４０％亜硝酸ナトリウム水溶液１０．９部を加え、１０℃で１時間撹拌した。次いで、ジアゾ化した溶液に６－アミノナフタレン－２－スルホン酸１７．２部を加え、さらに、１５％炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ４．０に調製後４時間撹拌した。得られた反応液に塩化ナトリウム６０部を加え、析出固体をろ過分離、更にアセトン１００部にて洗浄することにより、中間体である式（９）の化合物のウェットケーキ１２４．０部を得た。

得られた式（９）の中間体６２．３部を水３００部に加え撹拌し、２５％水酸化ナトリウム水溶液を用いてｐＨ１０．０とした。得られた溶液に２８％アンモニア水２０部、及び硫酸銅五水和物９．０部を加え、９０℃で２時間撹拌した。得られた反応液に塩化ナトリウム２５部を加え、析出固体をろ過分離、さらにアセトン１００部にて洗浄することにより、式（１０）の化合物のウェットケーキ４０．０部を得た。このウェットケーキを８０℃の熱風乾燥機で乾燥することにより下記式（１０）で表される化合物（λｍａｘ：３７６ｎｍ）２０．０部を合成した。

（偏光膜及び偏光板の作製）
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（クラレ社製ＶＦ－ＰＳ＃７５００）を４０℃の水に３分間浸漬して、フィルムを膨潤させた。膨潤して得られたフィルムを、合成例３で得られた上記式（１０）のスチルベン系化合物１．０部と、芒硝１．０部と、水１０００部とを含む４５℃の水溶液に、４分間浸漬して式（１０）のスチルベン系化合物をフィルムに含有させた。式（１０）の化合物を含有したフィルムを３％ホウ酸水溶液中５０℃で５分間浸漬し、で５倍に延伸した。延伸して得られたフィルムを、緊張状態を保ったまま常温の水で２０秒間水洗し、乾燥して偏光膜を作製した。得られた偏光膜の両面を、紫外線吸収剤を含有しないトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製 ＺＲＤ－６０）を公知の処方にてラミネートして偏光板を作製した。この偏光板を実施例３の測定試料とした。

［実施例４］
（合成例４）
国際公開第２００５／０３３２１１号に記載の方法により合成した下記式（１１）の化合物６．０部と炭酸カリウム１．６部をＮ－メチル－２－ピロリドン５０部に加え撹拌した。得られた溶液に４－メトキシベンゾイルクロリド２．１部を添加し、９０℃にて４時間撹拌した。得られた反応液を２０％塩化ナトリウム水溶液３００部に加え、析出固体をろ過分離、更にアセトン１００部にて洗浄する事により、式（１２）の化合物のウェットケーキ２０．０部を得た。このウェットケーキを８０℃の熱風乾燥機で乾燥することにより下記式（１２）で表される化合物（λｍａｘ：３７２ｎｍ）５．０部を得た。

（偏光膜及び偏光板の作製）
実施例３で作製した偏光膜において、式（１０）で示されるスチルベン系化合物に代えて、式（１２）で表されるスチルベン系化合物を用いた以外は、実施例３と同様にして偏光膜および偏光板を作製した。この偏光板を実施例４の測定試料とした。

[実施例５]
（合成例５）
特公昭５０－０３３８１４号公報及び特公平０３－２９４５９８号公報を参考にして、４００部の氷水中にライオン社製、商品名：レオコールＴＤ９０（界面活性剤）０．２０部を加えて激しく攪拌し、その中に塩化シアヌル１８．４部を添加し０～５℃で３０分間攪拌し、懸濁液を得た。次にこの懸濁液にアニリン－２，５－ジスルホン酸２５．３部を加え、ｐＨ４～６、０～３０℃で４時間撹拌し、続いて４、４’－ジアミノスチルベンー２，２’－ジスルホン酸１８．５部を加え、ｐＨ４～８、２０～５０℃で６時間撹拌した。得られた反応液にジエタノールアミン１１部を加え、ｐＨ８～１０、４０～７０℃で６時間撹拌した後、塩化ナトリウム８０部を添加し析出固体をろ過分離、更にアセトン１００部にて洗浄する事により、ウェットケーキ１００．０部を得た。このウェットケーキを８０℃の熱風乾燥機で乾燥することにより下記式（１３）で表される化合物（λｍａｘ：３７０ｎｍ）３０．０部を得た。
反応液を得た。

（偏光膜及び偏光板の作製）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、上記式（１３）の化合物を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製し、本発明に係る偏光板を作製した。この偏光板を実施例５の測定試料とした。

[実施例６]
（合成例６）
合成例５で使用したアニリン－２，５－ジスルホン酸２５．３部を４－アミノベンゼンスルホン酸１７．３部とする以外は合成例５と同様の方法により、下記式（１４）で表される化合物（λｍａｘ：３７０ｎｍ）２３．０部を得た。

（偏光膜及び偏光板の作製）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、上記式（１４）の化合物を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製し、本発明に係る偏光板を作製した。この偏光板を実施例６の測定試料とした。

[実施例７]
（合成例７）
合成例５で使用したジエタノールアミン１１部をフェノール１８．８部とする以外は合成例５と同様の方法により、下記式（１５）で表される化合物（λｍａｘ：３７０ｎｍ）１５．０部を得た。

（偏光膜及び偏光板の作製）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、上記式（１５）の化合物を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製し、本発明に係る偏光板を作製した。この偏光板を実施例７の測定試料とした。

[実施例８]
（合成例８）
合成例５で使用したアニリン－２，５－ジスルホン酸２５．３部を４－アミノベンゼンスルホン酸アミド１７．２部とする以外は合成例５と同様の方法により、下記式（１６）で表される化合物（λｍａｘ：３７０ｎｍ）２３．０部を得た。

（偏光膜及び偏光板の作製）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、上記式（１６）の化合物を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製し、本発明に係る偏光板を作製した。この偏光板を実施例８の測定試料とした。

（比較例１）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、下記式（１７）で示されるＣ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ４を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製した。この偏光板を比較例１の測定試料とした。

（比較例２）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、下記式（１８）で示されるＣ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ４４を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製した。この偏光板を比較例２の測定試料とした。

（比較例３）
実施例１で作製した偏光膜において、上記式（７）の化合物の代わりに、下記式（１９）で示される化合物を用いた以外は実施例１と同様にして偏光膜および偏光板を作製した。この偏光板を比較例３の測定試料とした。

［評価］
実施例１～８および比較例１～３で得られた各測定試料の評価を次のようにして行った。

（ａ）単体透過率Ｔｓ、平行位透過率Ｔｐ、および直交位透過率Ｔｃ
各測定試料の単体透過率Ｔｓ、平行位透過率Ｔｐ、および直交位透過率Ｔｃを、分光光度計（日立製作所社製「Ｕ－４１００」）を用いて測定した。ここで、単体透過率Ｔｓは、各測定試料を１枚で測定した際の各波長の透過率である。平行位透過率Ｔｐは、各実施例および各比較例で得られた同一の測定試料を２枚用意し、この２枚の測定試料をその吸収軸が平行となるように重ね合せて測定した各波長の分光透過率である。直交位透過率Ｔｃは、２枚の測定試料をその吸収軸が直交するように重ね合せて測定した分光透過率である。各透過率の測定は、２２０～７８０ｎｍの波長帯域にわたって行った。

（ｂ）偏光度ρ
各測定試料の偏光度ρを、以下の式（Ｉ）に、平行位透過率Ｔｐおよび直交位透過率Ｔｃを代入して算出した。ρの値が高いほど偏光度が優れていることを示す。

ρ＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００ ・・・式（Ｉ）

（ｃ）視感度補正単体透過率Ｙｓ
各測定試料の視感度補正単体透過率Ｙｓは、可視光領域における４００～７００ｎｍの波長領域で、所定波長間隔ｄλ（ここでは５ｎｍ）おきに求めた上記単体透過率Ｔｓについて、ＪＩＳ Ｚ ８７２２：２００９に従って視感度に補正した透過率である。具体的には、上記単体透過率Ｔｓを下記の式に代入して算出した。なお、下記式（ＩＩ）中、Ｐλは標準光（Ｃ光源）の分光分布を表し、ｙλは２度視野等色関数を表す。

（ｄ）偏光発光の測定
光源として紫外線ＬＥＤ ３７５ｎｍハンドライトタイプ ブラックライト（日亜化学工業社製「ＰＷ－ＵＶ９４３Ｈ－０４」）を用い、光源に紫外線透過・可視カットフィルター（五鈴精工硝子社製「ＩＵＶ－３４０」）を設置し可視光をカットした。その上で、可視光域及び紫外光域に偏光を有する偏光板（ポラテクノ社製「ＳＫＮ－１８０４３Ｐ」、厚さ１８０μｍ、Ｙｓは４３％）と、各実施例及び比較例で作製した各測定試料を設置し、測定試料からの偏光発光を、分光放射照度計（ウシオ電機社製「ＵＳＲ－４０」）（以下、「測定用偏光板」という）を用いて測定した。すなわち、光源からの光が、紫外線透過・可視カットフィルター、測定用偏光板、及び測定試料を、この順に通過し、分光放射照度計に入射するように配置して測定した。その際に各測定試料の紫外線の吸収が最大になる吸収軸と、測定用偏光板の吸収軸とが平行となるように各測定試料と測定用偏光板とを重ね合せて測定した各波長の分光発光量をＬｗ（弱発光軸）、各測定試料の紫外線の吸収が最大になる吸収軸と、測定用偏光板の吸収軸とが直交となるように各測定試料と当該偏光板とを重ね合せて測定した各波長の分光発光量をＬs（強発光軸）として、Ｌｗ及びＬｓを測定した。各測定試料の吸収軸と一般的な上記偏光板との吸収軸が平行な場合と、これらの吸収軸が直交する場合の可視光領域で発光された光のエネルギー量を確認することで、可視光領域である４００ｎｍ～７００ｎｍの波長領域における偏光発光を評価した。Ｌｗの値が小さく、Ｌｓの値が大きいほど、偏光発光作用が強いことを示し、つまりは高い偏光発光作用を表している。Ｌｗ及びＬｓの値の差が小さい場合、偏光発光作用が弱いことを示し、またそれぞれの値で「０」を示す場合には、それぞれの測定において発光が確認できなかったことを示す。

表１に、実施例１～８、並びに比較例１～３における得られた測定試料の最大偏光度を示す波長での単体透過率（Ｔｓ）、平行位透過率（Ｔｐ）、直交位透過率（Ｔｃ）及び偏光度（ρ）と、視感度補正単体透過率（Ｙｓ）を示す。

表２に実施例１～８および比較例１～３における各波長のＬｓ、Ｌｗを示す。

表１に示されるように、実施例１～８の測定試料は、紫外光領域に吸収をもつため、紫外線の波長帯域で偏光素子として機能していることが分かった。また、実施例１～８の測定試料は、可視光領域において９０％以上透過率（視感度補正透過率 Ｙｓ）を示しているため、紫外光領域に偏光を有しながらも可視光領域において透明性が高いことが分かった。さらに、表２に示されるように、実施例１～８の測定試料は、可視光領域においてＬｗとＬｓの値が検出されているため、紫外線を照射することによって４００～７００ｎｍの広い波長帯域にわたって発光していること分かり、さらに、ＬｗとＬｓの値に差があるため、その発光は偏光していることが分かった。すなわち、実施例１～８の測定試料は、紫外線の照射により可視光域に偏光発光作用を有していることが分かった。特に、実施例２～８の測定試料は、Ｌｗの値とＬｓの値との差が大きいため、高い偏光発光作用を示した。一方、比較例１～３の測定試料は、各波長においてＬｗとＬｓの測定値がいずれも「０」を示した。このことから、比較例１～３の偏光板は、紫外線を照射しても偏光発光作用を示していないことが分かった。

（耐久性試験）
さらに、実施例１～８の測定試料を、１０５℃の環境下で１０００時間と、６０℃かつ相対湿度９０％の環境下で１０００時間置き、実施例１～８については耐久性試験も実施した。実施例１～８の測定試料は、いずれも偏光度の低下及び偏光発光の変化は観察されなかった。実施例１～８測定試料は苛酷な環境下においても高い耐久性を有していることが分かる。

本発明に係るスチルベン系化合物を、偏光素子として用いることで、高い偏光度を有するだけでなく、偏光発光作用を示す偏光膜及び偏光板を得ることができる。したがって、本発明に係るスチルベン系化合物を用いた偏光膜及び偏光板は、自発光型の偏光フィルム、すなわち偏光発光フィルムとして応用できる。また、このような偏光膜及び偏光板は、優れた耐久性を具備しつつ、可視光域で高い透過率を有する。したがって、本発明に係る偏光膜及び偏光板を用いた表示装置は、可視光領域で透明性が高く、長期にわたって偏光発光による画像表示ができるため、テレビ、パソコン、タブレット端末、さらには、透明ディスプレイ（シースルーディスプレイ）等、幅広い用途へ適用可能である。さらに、本発明に係るスチルベン系化合物を用いて作製された偏光膜及び偏光板は、紫外光により発光可能であるため、高いセキュリティが要求されるディスプレイや媒体に応用することも可能である。

Claims (6)

1. 下記式（５）：
   

   

   （式（５）中、基Ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～２０のアルキルカルボニルアミノ基、置換基を有してもよいアリールカルボニルアミノ基、炭素数１～２０のアルキルスルホニルアミノ基、又は置換基を有してもよいアリールスルホニルアミノ基を表し、基Ｒ ^２ は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシ基、ニトロ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、ｎは０～３の整数を表す。）で表されるスチルベン系化合物又はその塩を含有する基材を有する、偏光膜。
2. 可視光領域に偏光した光を発光する偏光発光機能を有する、請求項１に記載の偏光膜。
3. 前記スチルベン系化合物又はその塩とは異なる有機染料又は蛍光染料をさらに１種類以上含有する、請求項１又は２に記載の偏光膜。
4. 前記基材が、ポリビニルアルコール樹脂又はその誘導体から作製されたフィルムである、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の偏光膜。
5. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の面に設けられた透明保護層と、を備える偏光板。
6. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の偏光膜、又は請求項５に記載の偏光板を備える表示装置。