KR20190138836A - 와이어링 하네스의 자동화 생산을 위한 시스템 및 방법 - Google Patents

와이어링 하네스의 자동화 생산을 위한 시스템 및 방법 Download PDF

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레오니 보르드네츠-시스테메 게엠베하
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Abstract

시스템(2)은 와이어링 하네스(3)의 자동화된 생산을 위해 사용되며, 이 와이어링 하네스는 복수의 개별적인 전도체 요소들(22)로 구성되는 분기된 구조를 갖는다. 개별적인 분기된 구조를 갖는 와이어링 하네스들(3)을 형성하기 위해, 전도체 요소들(22)은 서로 평행하게 배향되는 복수의 제2 레일들(50) 및 이렇게 하기 위해 제2 레일들(50) 상에 분배되는 복수의 제2 트랜스포터들(48)을 사용하여, 미리 규정된 분배 구조가 자동으로 된다. 제2 트랜스포터들(48)에는 전도체 요소들(22)의 하나의 와이어 단부가 각각 제공된다. 분배 구조를 형성하기 위해, 그 후, 제2 레일들은 수직 방향(14)으로 이동되며, 그리고 제2 트랜스포터들(48)은 제2 레일(50)을 따라 이동된다. 이러한 펼친 구조(spread-out structure)에서, 그 후, 추가의 처리 단계들, 예컨대 전도체 요소들(22)을 서로 고정시키는 단계가 수행된다.

Description

와이어링 하네스의 자동화 생산을 위한 시스템 및 방법
본 발명은, 특히 자동차를 위한 와이어링 하네스의 자동화된 제조를 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.
와이어링 하네스는 일반적으로, 서로 연결된 다수의 개별적인 전도체 요소들을 포함한다. 전도체 요소들은, 특히, 와이어들, 트위스팅된 와이어(쌍들), 광도파관들 또는 심지어 미리 제작된(prefabricated) 부분적인 케이블들, 예를 들어, 비금속성 피복 케이블들이다. 와이어는 일반적으로, 절연체에 의해 둘러싸인 전도체, 전도성 와이어 또는 연선된 와이어(stranded wire)인 것으로 이해된다. 특정한 와이어링 하네스는, 예를 들어 자동차 내에 또는 다른 설치부에 나중의 와이어-포설(wire-laying) 구조에 대응하는 분기된 구조를 갖는다. 분기된 구조는, 개별적인 전도체 요소들이 와이어링 하네스의 상이한 포지션들에서 주요 가닥(main strand)에서 떨어져 분기하는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 마무리된 와이어링 하네스에서, 플러그들 또는 다른 접촉 요소들이 보통, 전도체 요소들 중 일부의 전도체 요소의 단부들에 부착된다.
이러한 유형의 와이어링 하네스들의 제조 및 핸들링(handling)은 복잡하다. 자동차 산업에서, 특히, 다양한 상이한 와이어링 하네스 유형들이, 고객에 의해 개별적으로 미리 규정된 상이한 장비 변경들로 인해 ─ 심지어 동일한 자동차 모델에서도 ─ 존재한다. 고객에 의해 개별적으로 구성되는 자동차용 와이어링 하네스는, 보통 고객 주문을 받은 후까지 제조되지 않는다. 바람직한 짧은 운반 시간들로 인해, 개별적인 와이어링 하네스의 바람직하게는 신속한 제조가 목적이 된다.
이러한 개별적인 와이어링 하네스들의 많은 유형 및 변경 다양성으로 인해, 이러한 유형의 와이어링 하네스들의 제조를 자동화하는 것은 어려우며, 이는, 많은 비율의 수동 작업이 특별히 자동차 산업을 위한 와이어링 하네스들을 제조하는 것에 대해 여전히 필요한 이유이다. 개별적인 전도체 요소들은 통상적으로, 미리 규정된 개별적인 분기된 구조에 따라 소위 케이블 보드들을 따라 수동으로 놓이며, 그리고 개별적인 전도체 요소들은, 후속하여 예를 들어 테이핑(taping)에 의해 수동으로 서로 고정된다.
전도체 가닥들로 와이어링 하네스들을 제조하기 위한 부분적으로 자동화된 방법은 DE 33 27 583 A1로부터 명백하다. 이러한 방법에서, 미리 제작된 전도체 가닥들은, 커플링 피스들의 보조로 우선적으로 탈착가능하게 서로 연결되고 그리고 예를 들어, 권선 디바이스 상에 권선되는 무단(endless) 전도체로 조합된다. 그 후, 커플링 피스들은 전도체 가닥들로부터 탈착되며, 그리고 플러그 하우징들이 다른 장치에서 단부들에 체결되며, 그리고 후속하여 와이어링 하네스가 형성된다.
와이어링 하네스를 제조하기 위한 다른 자동화된 방법은 DE 38 20 638 C2로부터 명백하다. 미리 제작된 전도체 요소들은 산업용 로봇의 보조로 플러그 하우징들로 삽입된다. 플러그 하우징들은 수직으로 배향된 와이어-포설 보드(wire-laying board) 상에 라인을 따라 배열된다. 2개의 인접한 플러그 하우징들 사이의 전도체 가닥들은 느슨하게 늘어진다(hang down). 그 후, 권선이 또한 발생하며, 산업용 로봇은 이러한 목적을 위해 공구 교체를 실행한다. 하나의 설계 변경에서, 플러그 하우징들은, 선형 안내부를 따라 이동가능한 회전 판들 상에 배열된다. 플러그 하우징들이 끼워맞춤된 후에, 회전 판들은, 회전 판들 상에 배열된 플러그 하우징들과 함께, 미리 규정된 포지션으로 이동한다.
이를 기초로, 본 발명의 목적은, 분기된 구조를 가지는 이러한 유형의 와이어링 하네스들의 자동화된 제조를 위한 방법뿐만 아니라 시스템을 용이하게 하는 것이다.
본 발명에 따라, 본 목적은 제1 항의 특징들을 가지는 와이어링 하네스의 자동화된 제조를 위한 시스템에 의해 달성된다. 본 목적은 추가적으로, 제15 항의 특징들을 가지는 이러한 유형의 와이어링 하네스의 자동화된 제조를 위한 방법에 의해 달성된다. 시스템에 관하여 언급된 이점들 및 바람직한 실시예들은 또한, 본 방법으로 유사하게 전달가능하다.
시스템은 와이어링 하네스의 자동화된 제조를 위해 사용되며, 이 와이어링 하네스는 복수의 개별적인 전도체 요소들로 구성되는 분기된 구조를 갖는다. 시스템은 시스템의 개별적인 공정 작업흐름들을 제어하기 위한 제어 유닛, 와이어링 하네스의 분기된 구조에 따라 미리 규정된 분배 구조로 전도체 요소들을 분배하기 위한 분배 스테이션뿐만 아니라, 제2 수송 시스템을 포함한다. 제2 수송 시스템은, 서로 독립적으로 제1 방향으로 그리고 와이어링 하네스의 미리 규정된 분기된 구조에 따라 조절가능한, 서로 평행하게 배향되는 다수의 제2 레일들을 포함하는 제2 레일 시스템을 포함한다. 제2 수송 시스템은 게다가, 특정한 전도체 요소의 와이어 단부를 수용하도록 각각 설계되는 다수의 제2 트랜스포터들을 포함한다. 제2 트랜스포터들은 제2 방향으로 제2 레일을 따라 이동가능하다. 작동 동안, 제2 레일들뿐만 아니라 트랜스포터들은, 제1 방향으로 제2 레일들을 이동시킴으로써 그리고 제2 레일들을 따라 그리고 이에 따라 제2 방향으로 제2 트랜스포터들을 이동시킴으로써 바람직한 분배 구조가 생성되는 방식으로 활성화된다. 개별적인 전도체 요소들의 특정한 와이어 단부들이 제2 트랜스포터들 상에 배열되기 때문에, 이에 의해, 개별적인 전도체 요소들로 조립된 와이어링 하네스는 제2 트랜스포터들뿐만 아니라 제2 레일들의 자동 움직임에 의해 효율적으로 멀리 펼쳐진다. 그 결과, 제공된 코스(course)를 따른 개별적인 전도체 요소들의 개별적인 포설은 필요하지 않다. 따라서, 와이어링 하네스의 멀리 펼침 및 와이어링 하네스의 분기된 구조의 취함이 분배 스테이션 내의 특별한 제2 수송 시스템의 보조로 자동으로 발생한다.
개별적인 트랜스포터들이 이들의 단부 포지션들에서 바람직한 분배 구조를 취하는 2차원 평면은, 제2 트랜스포터들 및 제2 레일들의 움직임에 의해 걸쳐진다.
바람직한 일 실시예에서, 이러한 평면은 수직 평면이며, 즉, 제1 방향 및 제2 방향은 수직 평면에 걸쳐진다. 제1 방향은 특히 수직 방향이며, 즉, 제2 레일들은 수직 방향으로 이동가능하게 배열된다. 이에 대응하여, 제2 방향은, 특히 수평 방향으로 이어지는 길이 방향이다. 따라서, 제조될 와이어링 하네스는 “현수된(suspended)” 방식으로 전체적으로 형성된다.
전반적으로, 시스템은 와이어링 하네스를 완전 자동으로 제조하는 데 사용된다. 제조 공정 동안, 분배 스테이션에서 멀리 펼쳐진 와이어링 하네스는, 서로 연속적으로 뒤따르는 다수의 부가의 제2 처리 스테이션들을 통과한다. 공정 또는 제조 단계는 이러한 처리 스테이션들 각각에서 실행되어서, 와이어링 하네스는 생산 라인의 방식으로 연속적으로 형성된다. 시스템은 바람직하게는 2개의 부품들로 분할되며, 특정한 와이어링 하네스에 의해 요구되는 개별적인 전도체 요소들은 시스템의 제1 부품에서 개별적으로 준비되고, 그리고 구체적으로는 수집 또는 버퍼 스테이션에서 제공된다. 그 후, 이 전도체 요소들은 각각의 경우에 이 수집 또는 버퍼 스테이션으로부터 제거되고, 제조될 와이어링 하네스를 위해 조립되며, 그리고 바람직한 분기된 구조로 배치된다. 개별적인 전도체 요소들의 조립 및 와이어링 하네스의 형성은 시스템의 제2 부품에서 발생한다.
시스템의 하나의 특정한 이점은, 이와 같은 와이어링 하네스의 구성뿐만 아니라 전도체 요소들의 갯수 및 유형이 하나의 특정한 개별적인 와이어링 하네스의 자동화된 제조에 의해 각각의 개별적인 와이어링 하네스를 위해 미리 규정될 수 있다는 것임을 알 수 있다. 그 후, 제2 트랜스포터들은 특정한 개별적인 와이어링 하네스에 따라 분배 스테이션에서 분배 구조를 취한다. 각각의 경우에, 제2 트랜스포터들이 특정한 개별적인 와이어링 하네스를 위해 끼워맞춤될 수 있는지 그리고 이것이 제어 유닛을 통해 어떻게 이루어지는지가 미리 규정된다. 와이어링 하네스의 자동 제조 및 동시적으로 특정한 와이어링 하네스의 높은 정도의 개별화 둘 모두가 이러한 조치에 의해 용이하게 된다. 제조 동안의 많은 공정 자유도로 인해, 따라서, 시스템은, 전체적으로, 상이한 구성들로 잇따라서 제조되는 연속적인 와이어링 하네스들을 조립할 수 있고 그리고 임의의 수동 개입을 요구하지 않고 와이어링 하네스들을 제조할 수 있다.
편리한 일 실시예에서, 시스템은 매니퓰레이터(manipulator)를 포함하며, 이 매니퓰레이터는, 특히, 구체적으로는 이전에 언급된 버퍼 스테이션으로부터 전도체 요소들을 개별적으로 수용하도록 그리고 수용된 전도체 요소들과 제2 트랜스포터들을 끼워맞춤하도록 설계된다. 매니퓰레이터는, 특히, 로봇, 구체적으로는, 산업용 로봇이고, 그리고 일반적으로 다축 결합된 아암 로봇(multi-axis jointed-arm robot)이다. 다축 결합된 아암 로봇은 통상적으로, 다수의 자유도, 특히 다수의 회전 자유도뿐만 아니라 다수의 선형 자유도의 조절 능력들을 갖는다. 매니퓰레이터는, 제공 스테이션(버퍼 스테이션)으로부터 개별적인 전도체 요소들을 파지하도록 그리고 이 전도체 요소들을 제2 트랜스포터들에 고정시키도록 적합하게 설계된 총 하나의 로봇 핸드(robot hand)를 포함한다.
제2 트랜스포터들의 적어도 일부분은 플러그 하우징들과 편리하게 끼워맞춤될 수 있다. 플러그 하우징들은 전도체 요소들의 와이어 단부들을 수용하기 위해 제공된다. 이러한 플러그 하우징들은 마무리된 와이어링 하네스의 플러그 하우징들이다. 지금까지, 사전제작 단계가 여기서 실시된다. 접촉 요소들로 보통 준비된 와이어 단부들은 매니퓰레이터를 통해 플러그 하우징들로 삽입되거나 이에 놓여진다. 매니퓰레이터의 보조로의 끼워맞춤으로 인해, 높은 공정 보안이 구성된다. 공정 모니터링 기능, 예를 들어, 포지션 모니터링 및/또는 삽입 힘의 힘 모니터링이 끼워맞춤 공정 동안 형성되는 것이 구체적으로 제공된다.
플러그 하우징들 이외에도, 제2 트랜포터들에는 또한 편향 요소들 또는 다른 홀더들이 편리하게 제공되거나 끼워맞춤된다. 편향 요소들은, 예를 들어, 분기된 구조의 규정된 포지션들에서, 예를 들어 분기들에서, 개별적인 전도체 요소들을 구부리는 데 사용된다.
부가의 홀더들은, 예를 들어, 특히, 서로에 대해 용융-접합되는(fusion-bonded) 2개의 전도체 요소들의 와이어 단부들을 수용하는 데 사용된다. 와이어링 하네스들에서, 전도체 요소들이 예를 들어 용접에 의해 이러한 목적을 위해 동일한 기준 포텐셜(reference potential)이 되고 그리고 서로 연결될 필요가 어느 정도 있다. 홀더들은 이러한 방식으로 연결되는 와이어 단부들을 수용하는 데 사용된다. 제2 트랜스포터들은 플러그 하우징들 및/또는 편향 요소들 또는 홀더들과 편리하게 각각 끼워맞춤될 수 있다. 이는, 하우징들 및/또는 편향 요소들 또는 홀더들이 제2 트랜스포터들에 임시적으로 고정될 수 있는 것을 의미한다. 플러그 하우징들, 편향 요소들 또는 홀더들과 개별적인 제2 트랜스포터들을 끼워맞춤하기 위해, 이러한 끼워맞춤 공정을 위해 적합하게 설계된 다른 매니퓰레이터가 편리하게 배치된다.
제2 트랜스포터들은 바람직하게는, 일반적으로 제2 레일 시스템을 따라 회로(circuit)에서 안내된다. 제2 트랜스포터들은, 특정한 와이어링 하네스를 위해 요구되는 플러그 하우징들 등과 우선적으로 끼워맞춤되며, 그 후에 전도체 요소들은 트랜스포터들에 개별적으로 체결되며, 그리고 제조될 와이어링 하네스는 그 후, 분기된 구조로 멀리 펼쳐지고 그리고 자동으로 마무리된다. 단부에서, 마무리된 와이어링 하네스는 제2 트랜스포터들로부터 제거되며, 그리고 이 제2 트랜스포터는 다시 뒤로 안내되고 그리고 다음 와이어링 하네스를 위해 플러그 하우징들, 편향 요소들 등과 다시 끼워맞춤된다.
전도체 요소들의 와이어 단부들과의 제2 트랜스포터들의 끼워맞춤은, 특히 소위 플러그 스테이션의 구역에서 발생한다. 이전에 언급된 매니퓰레이터는 이러한 플러그 스테이션에서 배치되며, 그리고 제2 트랜스포터들은 이러한 플러그 스테이션의 2개의 레일들 상에 제공된다. 플러그 하우징들, 편향 요소들 또는 홀더들과의 미리 규정된 끼워맞춤을 포함하는, 정확히 규정된 수의 제2 트랜스포터들이, 제조될 와이어링 하네스에 따라, 이러한 플러그 스테이션을 위한 제2 레일들 상에 제공된다. 서로 평행하게 배열되는 다수의 제2 레일들은 플러그 스테이션에 형성된다. 와이어링 하네스-특정 끼워맞춤을 가지는 개별적인 제2 트랜스포터들은 이러한 다수의 제2 레일들에 분배된다. 제조될 각각의 개별적인 와이어링 하네스를 위해, 따라서, 제2 트랜스포터들은 제2 처리 스테이션에 의해 형성되는 생산 라인의 시작시에 제조될 와이어링 하네스를 위해 개별적으로 제공된다.
바람직하게는 높은 처리 속도에 관하여, 시스템 및 제어 유닛은, 제2 트랜스포터들이 전도체 요소들과 끼워맞춤하기 위해 함께 밀린 상태(pushed-together state)로 제공되고 그리고 작동 동안, 특히 플러그 스테이션에서 분배 구조로 이러한 상태를 벗어나 이동되는 방식으로 설계된다. 따라서, 제2 트랜스포터들은 끼워맞춤 목적들을 위해 바람직하게는 함께 가깝게 조합된다. 이는, 동일한 레일 상에 위치되는 제2 트랜스포터들이 대체로 함께 밀린다는 것을 의미한다. 또한, 제2 레일들은 바람직하게는 함께 가깝게 된다. 끼워맞춤 후에, 그 후, 제2 트랜스포터들은 분배 구조를 취한다.
다수의 처리 단계들이 와이어링 하네스를 제조하기 위해 통상적으로 필요하다. 특히, 전도체 요소들은 서로 고정되어야 한다. 바람직한 일 실시예에서, 따라서, 시스템은 일반적으로, 서로 바로 접하여 배열된 다수의 제2 처리 스테이션들을 갖는다. 이러한 제2 처리 스테이션들 각각은 바람직하게는, 제1 방향으로, 즉, 특히 수직 방향으로 각각, 개별적으로 이동가능한 다수의 제2 레일들을 포함한다. 따라서, 분배 구조는 각각의 제2 처리 스테이션에서 취해질 수 있다. 특별히 전도체 요소들을 서로 고정하기 위해, 전도체 요소들이 분배 구조로 배열되어, 특히 치수적으로 안정한 분기들이 형성된다면, 고정이 예를 들어 분기 지점들에서 적합하게 발생할 수 있어, 유리하다.
편리한 일 실시예에서, 제어 유닛은, 게다가, 분배 구조에 따라, 인접한 제2 처리 스테이션들의 제2 레일들이 서로에 대한 정렬된 배향이 되는 방식으로 설계된다. 인접한 처리 스테이션들의 제2 레일들은 서로 직접적으로 합쳐져서, 제2 트랜스포터들은 하나의 제2 레일로부터 다른 레일로 전달될 수 있다.
바람직한 일 실시예에서, 제2 트랜스포터들은, 제2 트랜스포터들의 취해진 분배 구조를 유지하면서, 하나의 처리 스테이션으로부터 후속하는 처리 스테이션으로 이동된다. 멀리 펼쳐진 와이어링 하네스는 이러한 멀리 펼쳐진 포지션에서 처리 스테이션들 사이에서 이동된다.
편리한 일 실시예에서, 제2 트랜스포터들은 일반적으로 개별적으로 이동가능하고, 그리고 개별적으로 다시 구동가능하다. 이는, 바람직한 분배 구조가 제2 트랜스포터들을 통해, 각각의 경우에, 개별적으로 취해질 수 있는 것을 보장한다.
제2 트랜스포터들은 전기식으로 또는 자기식으로 편리하게 구동될 수 있다. 구동은 예를 들어 선형 모터의 방식으로 발생한다. 자기식 또는 전자기식 구동의 경우에, 특히 제2 트랜스포터들이 서스펜션 레일웨이(suspension railway)의 방식으로 자기장들을 변경시킴으로 통해 구동되는 것이 제공된다. 제2 트랜스포터들은 캐리지의 방식으로 변하는 제2 레일들을 따라 일반적으로 안내된다. 개별적인 제2 트랜스포터들은 효율적으로 각각 별도의 구동 유닛을 포함한다. 자기식 구동의 경우에, 가장 간단한 경우에, 이러한 구동 유닛은 영구 자석 또는 전자석으로 구성된다. 그 후, 자석들, 특히 전자석들은 제2 레일들을 따라 분배된다. 자석들, 특히 영구 자석들은 또한, 제2 트랜스포터들 상에 대응하여 배열된다. 트랜스포터들을 구동시키는 연속적인 자기장은 전자석들의 대응하는 극성 반전에 의해 생성된다.
시스템은 ─ 위에서 언급된 바와 같이 ─ 전도체 요소들을 고정하도록 또한 설계된다. 특히, 다른 매니퓰레이터가 고정 목적들을 위해 제공된다. 제어 유닛 및 시스템은, 이제 전도체 요소들이, 분배 구조로 멀리 펼쳐지면서, 고정되는 방식으로 설계된다. 높은 사이클 속도들이 이에 의해 달성된다. 대응하는 매니퓰레이터는 이동가능한 방식으로 편리하게 배열되어서, 이 매니퓰레이터는 펼침 움직임을 뒤따를 수 있다.
대안적으로 또는 부가적으로, 전도체 요소들의 고정 또는 추가의 고정은 또한, 분배 구조로 멀리 펼쳐진 후에, 발생한다.
본 발명의 일 예시적인 실시예는 도면들을 기초하여 아래에서 더 상세히 설명된다. 매우 간소화된 표시들로,
도 1은, 제1 부품 및 제2 부품을 포함하는, 와이어링 하네스의 자동화된 제조를 위한 시스템의 정면도를 도시한다.
도 2는, 저장 유닛과 함께, 제1 부품의 구역에서의 시스템의 사시적인 표시의 상세를 도시한다.
도 3은 제2 부품의 구역에서의 시스템의 사시적인 표시의 상세를 도시한다.
도 4는 플러그 스테이션의 구역에서의 상세도를 도시하며, 여기서 다수의 제2 트랜스포터들(transporters)이 제공된다.
도 5는 플러그 스테이션과 분배 스테이션 사이의 전이 구역에서 표시의 확대된 상세를 도시하며, 여기서 제2 트랜스포터들은 분배 구조물로 전달된다.
도 6은, 제2 트랜스포터들에 부착되는 전도체 요소들을 포함하는 제2 트랜스포터들의 매우 간소화된 표시를 도시하며, 그리고
도 7은 다른 제2 처리 스테이션의 정면도를 도시하며, 여기서 제2 트랜스포터들이 분배된 구조물에 배열되고 와이어링 하네스를 유지한다.
도면들에서, 동일한 기능을 가지는 부품들에는 동일한 도면 부호들이 제공된다.
도 1 내지 도 3에서 예시되는 시스템(2)은 와이어링 하네스(3)의 자동화된 제조를 위해 사용되며, 그리고 이 시스템에는 다양한 개별적인 처리 스테이션들로 구성되는 모듈형 설계가 제공된다. 시스템은, 제1 처리 스테이션들(A, B, C, D)을 포함하는 제1 부품(4)뿐만 아니라 제2 처리 스테이션들(E, F, G, H, I, K)을 포함하는 제2 부품을 갖는다. 수직 랙의 방식으로 설계된 저장 유닛(8)은 제1 부품(4)으로부터 상류에 배열된다. 개별적인 처리 스테이션(A 내지 K) 각각은 프레임(10)을 가지며, 이 프레임은 프레임워크를 본질적으로 규정하며, 프레임 내에, 상이한 작업 단계들을 실행하기 위한 처리 유닛들이 제1 부품(4)에 배열된다. 프레임들(10)은 서로 바로 인접하게 체결되고, 그리고, 특히 선형으로 연장하는 프레임 배열체를 형성한다. 프레임들(10)은 길이 방향(12)으로 나란히 배열된다. 프레임들(10)은 쉘빙(shelving)의 방식으로 설정된다. 프레임들은 수직 방향(14)으로 상향으로 연장하고, 그리고 횡단 방향(16)으로 연장하는 깊이를 갖는다. 길이 방향(12) 및 수직 방향(14)은 수직 평면에 걸쳐지며, 횡단 방향(16)은 수직 평면에 수직하게 배향되어 있다. 예시적인 실시예에서, 저장 유닛(8)은 횡단 방향(16)으로 이어지게 배열된다. 수직 방향으로의 프레임들(10)의 정렬로 인해, 전체 프레임 배열체는 전방 측(18) 및 후방 측(20)을 갖는다.
와이어링 하네스(3)의 제조 동안, 시스템(2)은 제1 처리 스테이션(A)으로부터 마지막 처리 스테이션(L)으로 길이 방향(12)으로 연속적으로 지나간다. 예시된 모듈형 시스템(2)의 예시적인 실시예에서, 다음의 처리 스테이션들이 제공된다:
절단 스테이션(A), 스트리핑 스테이션(B), 접촉 스테이션(C), 버퍼 스테이션(D). 제2 부품(6)은, 플러그 스테이션(E)으로 시작하여, 분리 스테이션(F), 예시적인 실시예에서, 3개의 서브스테이션들(G1, G2, G3)을 포함하는 멀티-부품 고정 스테이션(G)이 후속되고, 추가적으로 클립 스테이션(H), 패키징 스테이션(I) 및 종료 또는 수집 스테이션(K)이 후속된다.
전도체 요소들(22)이 시스템(2)의 제1 부품(4)에서 우선적으로 준비된다. 이러한 전도체 요소들은 특히, 와이어들 또는 트위스팅된 와이어들이다. 이 전도체 요소들은 릴들(24)을 통해 벌크 제품들로서 제공된다. 릴들(24)은 저장 유닛(8)에 저장된다.
개별적인 준비된 전도체 요소들(22)은 제2 부품(6)에서 와이어링 하네스(3)로 조합된다. 이는 모두 수동 개입 없이 완전 자동으로 발생한다. 개별적인 사전제작 단계들에서, 전도체 요소들(22)은, 제1 수송 시스템(26)의 보조로 제1 부품(4) 내에서 개별적인 처리 스테이션들(A 내지 D) 사이에 각각 수송된다.
와이어링 하네스(3)가 개별적인 전도체 요소들(22)로 조립되는 제2 부품(6)에서, 특정한 와이어링 하네스들은 제2 수송 시스템(28)의 보조로 이들의 다양한 사전제작 단계들에서 제2 부품(6)의 개별적인 처리 스테이션들(E 내지 J)로 연속적으로 이송된다.
제1 부품(4)에서의 개별적인 처리 단계들은, 특정한 제1 처리 스테이션(A 내지 D)의 특정한 프레임(10) 내에 배열되는 처리 유닛들(30)의 보조로 실행된다.
제2 부품(6)에서, 개별적인 요구된 작업 단계들은, 예시적인 실시예에서, 다축 결합된-아암 로봇들로서 설계되는 매니퓰레이터들(32)에 의해 실행된다. 별도의 매니퓰레이터(32)는 각각의 개별적인 처리 스테이션(E 내지 I)에 할당된다. 개별적인 매니퓰레이터들(32)은 길이 방향(12)으로 이동가능하게 배열된다. 예시적인 실시예에서, 이 매니퓰레이터들은 오버헤드 레일에 현수된 방식으로 체결된다(이는 여기서 더 상세히 예시되지 않음).
아래에서 보다 상세히 설명되는 바와 같이, 와이어링 하네스(3)는 와이어링 하네스(3)를 제조하는 목적을 위한 부품(6)에서 바람직한 나중에 분기되는 구조를 따라 멀리 펼쳐진다. 따라서, 와이어링 하네스(3)는 2차원 평면에서 멀리 펼쳐진다. 이러한 평면은 수직으로 배향되며, 즉, 이러한 평면은 전술된 수직 평면에 위치결정된다. 와이어링 하네스들(3)은 프레임(10)의 전방 측 상에 배열된다. 따라서, 처리는 매니퓰레이터들(32)의 보조로 프레임들(10)의 전방 측(18) 상에서 발생한다.
예시적인 실시예에서 예시된 시스템(2)에서, 다음의 제조 단계들은 와이어링 하네스(3)의 자동 생산을 위해 연속적으로 그리고 자동으로 완성된다.
다수의 릴들(24)이 저장 유닛(8)에 저장되며, 이 저장 유닛 상에서 상이한 유형들의 전도체 요소들(22)이 연속적인 제품들로서 권선된다. 전도체 요소들(22)의 개별적인 유형들은, 이들의 단면들, 특히 전도체들의 단면들, 와이어 절연체의 색상 또는 와이어가 개별적인 와이어 또는 특히 트위스팅된 와이어 쌍인지의 여부와 관련하여 서로 상이하다.
절단 스테이션(A)에서, 릴들(24)로부터 풀어지는(wound-off) 상이한 유형들의 전도체 요소들(22)이 제조될 와이어링 하네스(3)를 위해 필요한 길이로 절단된다.
스트리핑 스테이션(B)에서, 전도체 요소들(22)의 와이어 단부들은 대응하는 스트리핑 유닛들의 보조로 처리 유닛들(30)의 형태로 스트리핑된다.
접촉 스테이션(C)에서, 접촉 요소들, 예를 들어 접촉 소켓들 또는 접촉 핀들은 단부들 상에서 노출된 와이어 단부들에, 즉, 전도체 요소(22)의 특정한 전도체들에 체결된다. 이는, 예를 들어, 크림핑(crimping) 공정에 의해 발생한다.
준비된 전도체 요소들(22)이 버퍼 스테이션(D)에 수집된다. 따라서, 다양한 전도체 요소들(22) ─ 이들의 유형 및/또는 이들의 길이에 대해 서로 상이함 ─ 은 임시적인 저장 방식으로 버퍼 스테이션(D)에 위치된다.
제1 수송 시스템(26)은 각각의 경우에 개별적인 처리 스테이션들(A 내지 D) 사이에서 전도체 요소들(22)을 수송하는 데 사용된다. 제1 수송 시스템은 제1 레일 시스템(34)을 포함한다. 이 제1 레일 시스템은, 개별적인, 별도로 이동가능한 제1 트랜스포터들(38)이 배열되는 회전 안내 레일(revolving guide rail)(36)을 포함한다. 이러한 제1 트랜스포터들(38)은, 캐리지들의 방식으로 안내 레일(36)을 따라 이동가능한 캐리어 유닛들이다. 이 캐리어 유닛들은, 특히 현수된 방식으로 하나 또는 다수의 전도체 요소들을 수용하도록 각각 설계된다. 특정한 처리 스테이션(A 내지 D)으로부터 또는 이 처리 스테이션에서 이러한 제1 트랜스포터들(38)로의 전달은, 길이 방향(12)을 따라 횡단 레일들(42)에 의해 이동가능한 위치결정 유닛들(40)의 보조로 발생한다. 결국, 횡단 레일들(42)은 수직 방향을 따라 수직 레일들(44)에 의해 이동가능하다.
제1 레일 시스템(34)은 일반적으로 다양한 제1 레일들(46)로 구성된다. 특정한 제1 레일(46)은 특정한 프레임(10)에 할당되고, 그리고 특히 그의 길이를 갖는다. 따라서, 제1 레일 시스템(34)에는 프레임 배열에 대응하는 모듈형 설계가 또한 제공된다. 인접한 처리 스테이션들의 제1 레일들(46)은 회전 안내 레일을 형성하기 위해 서로 정렬된다.
제2 수송 시스템(28)의 제2 트랜스포터들(48)은 플러그 스테이션(E)에서 전도체 요소들(22)과 끼워맞춤된다. 제2 트랜스포터들(48)의 적어도 일부분이 이러한 목적을 위해 플러그 하우징들(60)과 끼워맞춤된다(도 4 참조). 전도체 요소들(22)의 와이어 단부들에 부착되는 접촉 요소들은 이 와이어 단부들로 삽입된다. 제2 트랜스포터들(48) 중 일부는 또한, 2개의 전도체 요소들(22)의 상호연결된 와이어 단부들을 수용하기 위한 홀더들이 제공되거나 이 홀더들과 끼워맞춤된다. 최종적으로, 제2 트랜스포터들 중 일부는 전도체 요소들(22)을 안내하거나 편향시키도록 설계되거나, 대응하는 편향 요소들 또는 홀더들과 끼워맞춤된다.
제2 트랜스포터들(48)이 제2 수송 시스템(28)의 다수의 제2 레일들(50)에 분배된다는 사실은 특히, 플러그 스테이션(E) 내에서 중요하다. 제2 레일들(50)은 서로에 대해 평행하게 배열된다. 전도체 요소들(22)의 개별적인 와이어 단부들 각각은 하나의 제2 트랜스포터(48) 상에 적합하게 고정되며, 이 와이어 단부들은 제2 레일들(50) 위에 분배되어 배열된다. 제조될 와이어링 하네스(3)를 위해 플러그 스테이션(E)에 요구되는 모든 전도체 요소들(22)은 버퍼 스테이션(D)으로부터 취해지고 그리고 제2 트랜스포터들(48)에 체결된다. 이는 플러그 스테이션(E)에 할당된 매니퓰레이터(32)의 보조로 발생한다.
플러그 스테이션(E)은 비교적 좁은 스테이션이다. 이러한 스테이션에서, 제2 트랜스포터들(48) 각각은 바람직하게는 함께 가깝게 배열될 수 있다. 서로 평행하게 배열되는 제2 레일들(50)은 바람직하게는 나란히 직접적으로 배열된다.
전도체 요소들(22)과 끼워맞춤된 제2 트랜스포터들(48)은 분배 스테이션(F)에 있는 부가의 제2 레일들(50)에 전달된다. 와이어링 하네스(3)에 의해 미리 규정된 분기된 구조로의 제2 트랜스포터들(48), 및 이에 따라 전도체 요소들(22)의 와이어 단부들의 분배는 분배 스테이션(F)에 발생한다. 따라서, 개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 와이어링 하네스(3)의 분기된 구조에 따라 수직 평면 내에 분배 구조를 취한다. 이러한 목적을 위해, 제2 트랜스포터들(48)은 이들의 특정한 제2 레일(50) 상에서 길이 방향(12)으로 미리 규정된 포지션으로 이동된다. 동시에, 서로 평행하게 배열되는 제2 레일들(50)은, 바람직한 분기된 구조가 초래되도록 수직 방향(14)으로 멀어지게 당겨진다. 도 3의 예시에서, 중간 상황이 도시되며, 여기서 완성된 분배기 구조는 분배 스테이션(F) 내에 아직 취해지지 않는다. 분배 구조는 후속하는 처리 스테이션들에서 명백하다.
제2 레일들(50)의 멀리 펼침 및 이들의 미리 규정된 길이 방향 포지션으로의 제2 트랜스포터들(48)의 길이 방향으로의 움직임은 반드시 분배 스테이션(F)에서 끝날 필요는 없다. 이는, 예를 들어, 후속한 고정 스테이션(G)에서 적어도 부분적으로 발생할 수 있다.
개별적인 전도체 요소들은 구체적으로는, 미리 규정된 분기된 구조를 고정하기 위해, 즉, 특정한 안정성을 제공하기 위해 고정 스테이션(G)에 서로 고정된다. 이러한 목적을 위해, 다수의 서브스테이션들(G1, G2, G3)은 편리하게 제공되며, 다수의 서브스테이션들은, 예를 들어, 상이한 고정 방법들을 위해 설계된다.
도 1, 도 3을 기초로 하여 명백한 바와 같이, 분배 스테이션(F)뿐만 아니라 제1 고정 스테이션(G1)은 서로 조합되고, 그리고 따라서 프레임(10)을 공유한다.
(체결) 클립들은 필요에 따라 클립 스테이션에 부착된다. 이들은 테이핑의 보조로 와이어링 하네스(3)에 통상적으로 체결된다.
패키징 스테이션(I)은 마무리된 와이어링 하네스(3)를 제거하는 데 그리고 이의 추가의 수송을 위해 사용된다. 이러한 목적을 위해, 와이어링 하네스(3)는 할당된 매니퓰레이터(32)의 보조로 제2 레일들(50)로부터 제거된다.
수집 스테이션(K)에서, 개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 공유된 복귀 레일(52)로 수집되고 그리고 이송된다. 이 공유된 복귀 레일은 후방 측(20) 상에서 이어지고, 그리고 플러그 스테이션(E)까지 연장한다. 이러한 스테이션에서, 제2 트랜스포터들(48)은 후방 측(20) 상에 배열되는 매니퓰레이터(32)의 보조로 플러그 하우징들(60)과 적합하게 다시 끼워맞춤되고, 그리고 따라서, 다음의 와이어링 하네스(3)를 제조하기 위해 준비된다.
제2 수송 시스템(28)은 전술된 제2 레일들(50) 및 제2 트랜스포터들(48)을 포함한다. 제1 트랜스포터들(38)과 유사하게는, 제2 트랜스포터들(48)은 캐리지들의 방식으로 레일들(50)을 따라 이동가능하게 배열된다. 개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 별도로 이동가능하고, 그리고 전자석 구동 시스템을 포함한다. 제2 레일들(50)은 수직 방향(40)으로 각각 이동가능하다. 각각의 처리 스테이션(E 내지 I)은, 서로 평행하게 배열되는 다수의 제2 레일들(50)을 갖는다. 제2 레일들(50)은, 오직, 하나의 특정한 처리 스테이션(E 내지 I)의 하나의 특정한 프레임(10)의 길이에 걸쳐 각각 연장한다. 제2 레일들(50)은 인접한 처리 스테이션들 사이에서 제2 트랜스포터들(48)을 전달하기 위해 정렬된 배열이 된다.
도 4는 플러그 스테이션(E)과 분배 스테이션(F) 사이의 전이 구역의 확대된 표시를 도시한다. 분배 스테이션(F)뿐만 아니라 플러그 스테이션(E)의 제2 레일들(50) 각각은 여기서 명백하다. 제2 레일들(50)은 서로 정렬된다. 예시된 예시적인 실시예에서, 총 4개의 제2 레일들(50)은 각각의 처리 스테이션(E, F)에 배열된다. 이들은 수직 방향(14)으로 수직 레일들(44)을 따라 개별적으로 이동가능하게 배열된다.
다수의 제2 레일들(50)에 걸쳐 분배된 채 배열되는 다수의 제2 트랜스포터들(48)이 제2 레일들(50) 상에 배열된다.
개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 상이한 요소들과, 특히 플러그 하우징들(60)과 그리고 편향 요소들(62)과 끼워맞춤된다. 개별적인 제2 트랜스포터들(50)은 전체적으로, 바람직하게는 서로에 대해 조밀한 배열로 배열된다. 제2 레일들(50)은 바람직하게는 함께 밀리는 상태로 이동된다. 동시에, 개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 특정한 제2 레일들(50) 상에 촘촘하게 또는 제2 레일들 사이에서 공간이 전혀 없게 배열된다. 도 4에서 예시된 이러한 포지션에서, 제2 트랜스포터들(48), 특히 편향 요소들(62)뿐만 아니라 제2 트랜스포터들에 부착되는 플러그 하우징들(60)은 전도체 요소들(22)과 끼워맞춤된다. 매니퓰레이터(32)는 이러한 목적을 위해 사용되며, 이 매니퓰레이터는 플러그 스테이션(E)에 할당된다. 전도체 요소들(22)의 준비된 와이어 단부들은 플러그 하우징들(60)로 삽입된다. 와이어 단부들에는 통상적으로, 접촉 요소들, 예를 들어 크림프 요소들이 미리 구성된다.
후속하여 제2 트랜스포터들(48)은 플러그 스테이션(E)으로부터 후속하는 분배 스테이션(F)의 제2 레일들(50)로 전달된다. 그 후, 와이어링 하네스의 바람직한 분배 구조로의 “멀리 펼침”은 분배 스테이션(F)에서 발생한다. 개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 길이 방향(12)으로 이들의 특정한 제2 레일(50)을 따라 멀리 당겨진다. 동시에, 제2 레일들(50)은 또한, 수직 방향(14)으로 멀리 당겨진다. 단부에서, 제2 트랜스포터들(48)은 예를 들어 도 5에서 예시되는 분배 구조를 취한다. 도 5는, 예를 들어, 고정 스테이션들(G1, G2, G3) 중 하나 또는 조합된 분배 스테이션(F)/고정 스테이션(G1) 중 하나의 도면을 도시한다. 전도체 요소들(22)이 도 4 또는 도 5에서 예시되지 않는다.
전도체 요소들(22)의 예들은 단지 도 6에서만 예시된다. 개별적인 전도체 요소들(22)이 이들의 와이어 단부들에 의해 제2 트랜스포터들(48)에 각각 체결되는 것이 분명히 명백하다. 전체 시스템 및 프레임들(10)의 수직 배열로 인해, 개별적인 전도체 요소들(22)은 제2 트랜스포터들(48) 상에 현수된다. 전도체 요소들이 이들의 와이어 단부들에 의해 각각 유지되기 때문에, 각각의 전도체 요소들은 대략적으로 U 형상으로 현수되어 배열된다. 도 6은 플러그 스테이션(E)의 구역에서의 상황을 도시하며, 여기서 개별적인 제2 트랜스포터들(48)은 따라서 촘촘하게 배열되고, 그리고 목적된 분배 구조는 아직 아니다.
도 7은, 예를 들어, 분기된 구조의 와이어링 하네스(3)를 갖는 고정 스테이션들(G1, G2, G3)의 제2 처리 스테이션들 중 하나의 도면을 도시한다. 와이어링 하네스(3)가 현재 유지되는 처리 스테이션 및 후속하는 처리 스테이션(이미지의 왼쪽 절반)의 제2 레일들(50)의 정렬된 배향은 분명히 명백하다. 와이어링 하네스(3)가 처리 스테이션에서 처리된 후에, 이 와이어링 하네스는, 분기된 구조를 유지하면서, 멀리 펼쳐진 구조로, 즉, 제2 트랜스포터들(48)의 분배 구조로 후속하는 제2 처리 스테이션, 예를 들어, 다른 고정 스테이션(G2)으로 전달된다.
개별적인 제2 트랜스포터들(48)이 별도로 구동가능하고 그리고 따라서 특정한 제2 레일 상에서 개별적인 포지션을 각각 취할 수 있다는 사실은 여기서 설명된 시스템(2)에서 특히 중요하다. 동시에, 제2 레일들(50) 각각은 각각의 제2 처리 스테이션에 개별적으로 이동가능해서, 수직 방향(14)으로의 2개의 인접한 레일들(50) 사이의 거리들은 자유롭게 조절가능하다.
이는 제조될 그리고 이에 따라 이러한 구조를 또한 취할 각각의 와이어링 하네스를 위한 개별적인 분배 구조를 미리 규정하는 것을 가능하게 한다. 전체적으로, 상이한 분기된 구조들을 가지는 개별적인 와이어링 하네스들의 자동화된 제조는 이에 의해 가능해진다. 요구된 전도체 요소들, 플러그 하우징들 등의 선택뿐만 아니라 바람직한 분배 구조가 제어 유닛을 통해 미리 규정되며, 이는 여기서 보다 상세히 예시되지 않는다.
2 시스템
3 와이어링 하네스
4 제1 부품
6 제2 부품
8 저장 유닛
10 프레임
12 길이 방향
14 수직 방향
16 횡단 방향
18 전방 측
20 후방 측
22 전도체 요소
24 릴들
26 제1 수송 시스템
28 제2 수송 시스템
30 처리 유닛들
32 매니퓰레이터
34 제1 레일 시스템
36 안내 레일
38 제1 트랜스포터들
40 위치결정 유닛
42 횡단 레일
44 수직 레일
46 제1 레일들
48 제2 트랜스포터들
50 제2 레일들
52 공유된 복귀 레일
60 커넥터 하우징
62 편향 요소
A 절단 스테이션
B 스트리핑 스테이션
C 접촉 스테이션
D 버퍼 스테이션
E 플러그 스테이션
F 분배 스테이션
G(G1, G2, G3) 고정 스테이션
H 클립 스테이션
I 패키징 스테이션
K 수집 스테이션

Claims (15)

  1. 와이어링 하네스(wiring harness)(3)의 자동 제조를 위한 시스템(system)(2)으로서,
    상기 와이어링 하네스는 분기된 구조 및 다수의 개별적인 전도체 요소들(22)을 가지며, 상기 시스템(2)은,
    상기 시스템(2)을 제어하기 위한 제어 유닛(control unit);
    상기 와이어링 하네스(3)의 분기된 구조에 따라 미리 규정된 분배 구조로 상기 전도체 요소들(22)을 분배하기 위한 분배 스테이션(distribution station)(F); 및
    제2 수송 시스템(transport system)(28)을 포함하며,
    상기 제2 수송 시스템은 서로 독립적으로 제1 방향(14)으로 그리고 상기 와이어링 하네스(3)의 미리 규정된 분기된 구조에 따라 조절가능한, 서로 평행하게 배향되는 다수의 제2 레일들(50)을 포함하는 제2 레일 시스템(rail system)을 포함할뿐만 아니라,
    다수의 제2 트랜스포터들(transporters)(48)을 포함하며, 상기 제2 트랜스포터들 각각은 특정한 전도체 요소(22)의 하나의 와이어 단부를 수용하도록 설계되고, 그리고 제2 방향(12)으로 상기 제2 레일들(50)을 따라 이동가능하며, 상기 제1 방향(14)으로 상기 제2 레일들(50)을 이동시킴으로써 그리고 상기 제2 레일들(50)을 따라 상기 제2 트랜스포터들(28)을 이동시킴으로써 상기 바람직한 분배 구조를 생성하는 것이 가능한,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 방향(14) 및 상기 제2 방향(12)은 수직 평면에 걸쳐지며, 상기 수직 평면 내에서 상기 제2 트랜스포터들(48)이 이동가능한,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  3. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
    매니퓰레이터(manipulator)(32)가 배치되며, 상기 매니퓰레이터(32)는 수용된 상기 전도체 요소들(22)과 상기 제2 트랜스포터들(28)을 끼워맞춤하도록 설계되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  4. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 트랜스포터들(48)의 적어도 일부분은 플러그 하우징들(60)과 끼워맞춤가능하며, 상기 플러그 하우징들은 상기 전도체 요소들(22)의 와이어 단부들을 수용하는 데 사용되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  5. 제4 항에 있어서,
    다른 매니퓰레이터(32)가 배치되며, 상기 다른 매니퓰레이터(32)는 플러그 하우징들(60)과 상기 제2 트랜스포터들(48)의 특정한 끼워맞춤을 위해 설계되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  6. 제3 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    플러그 스테이션(plug station)(E)이 제공되며, 상기 플러그 스테이션(E)은, 상기 전도체 요소들(22)의 와이어 단부들과 상기 제2 트랜스포터들(28)을 끼워맞춤하도록 설계되며, 상기 매니퓰레이터(32)는 상기 플러그 스테이션(E)에 배치되며, 그리고 상기 제2 트랜스포터들(28)은 상기 플러그 스테이션(E)의 제2 레일들(50) 상에 제공되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제어 유닛은, 상기 플러그 하우징들(60)과의 미리 규정된 끼워맞춤을 가지는 규정된 수의 제2 트랜스포터들(28)이 제조될 상기 와이어링 하네스에 따라, 상기 플러그 스테이션(E)에서 상기 제2 레일들(50) 상에 제공되는 방식으로 설계되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  8. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 유닛은, 상기 제2 트랜스포터들(28)이 작동 동안 상기 전도체 요소들과 끼워맞춤하기 위해 함께 밀린 상태(push-together state)로 제공되며 그리고 이러한 상태로부터 상기 분배 구조로 이동되는 방식으로 설계되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  9. 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    다수의 인접한 제2 처리 스테이션들이 배치되며, 그리고 상기 제2 처리 스테이션들 각각은, 상기 제1 방향(14)으로 개별적으로 각각 이동가능한 다수의 제2 레일들(50)을 가지는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제어 유닛은, 상기 인접한 제2 처리 스테이션들의 제2 레일들(50)이 상기 분배 구조에 따라, 서로에 대한 정렬된 배향이 되는 방식으로 설계되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  11. 제9 항 또는 제10 항에 있어서,
    상기 제어 유닛은, 상기 제2 트랜스포터들(28)이, 상기 분배 구조를 유지하면서, 작동 동안 하나의 처리 스테이션으로부터 후속 처리 스테이션으로 이동되는 방식으로 구성되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  12. 제1 항 내지 제11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 트랜스포터들(28)은 개별적으로 이동가능한,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 제2 트랜스포터들(28)은 전기식으로 또는 자기식으로 구동가능한,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  14. 제1 항 내지 제13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    매니퓰레이터가 상기 전도체 요소들(22)을 서로 고정시키기 위해 제공되며, 그리고 상기 제어 유닛은, 상기 전도체 요소들(22)의 고정이 상기 분배 구조로의 멀리 펼침(spreading apart) 동안 발생하는 방식으로 구성되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 시스템(2).
  15. 와이어링 하네스(3)의 자동 제조를 위한 방법으로서,
    상기 와이어링 하네스는 분기된 구조 및 다수의 개별적인 전도체 요소들(22)를 가지며,
    상기 전도체 요소들(22)은 상기 와이어링 하네스(3)의 분기된 구조에 따라 미리 규정된 분배 구조로 자동으로 분배되고, 다수의 제2 레일들(50)은 서로에 대해 평행하게 배향되며, 그리고 상기 제2 레일들(50) 상에 분배되는 다수의 제2 트랜스포터들(28)이 이러한 목적을 위해 사용되고, 그리고 상기 제2 트랜스포터들(28) 각각은 상기 전도체 요소들(22)의 하나의 와이어 단부와 끼워맞춤되며, 그리고 상기 제2 레일들(50)은 제1 방향(14)으로 후속하여 이동되고, 그리고 상기 제2 트랜스포터들(28)은 상기 분배 구조를 형성하기 위해 제2 방향(12)으로 상기 제2 레일들(50)을 따라 이동되는,
    와이어링 하네스의 자동 제조를 위한 방법.
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