KR20190047113A - 페인팅 설비 및 페인팅 설비를 동작하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 생산물의 부품들을 페인팅하기 위한 페인팅 설비를 제공하는 것이고, 상기 페인팅 설비는 조밀하고 원유 가스 흐름으로부터 페인트 분진의 안정한 침적을 가능하게 한다. 이러한 목적을 위하여, 상기 페인팅 설비는 다음과 같은 요소들인, 상기 생산물 부품들이 페인트로 페인트될 수 있는 페인팅 큐비클; 상기 페인팅 큐비클을 통하여 이동 방향으로 페인트되도록 상기 생산물 부품들을 이송하기 위해 사용된 운반 디바이스; 상기 페인팅 큐비클에서 페인트 분진을 선택하는 상기 페인팅 큐비클을 나가는 처리 가스 흐름을 세척하기 위한 침적 및/또는 필터 설비로서, 상기 침적 및/또는 필터 설비는 상기 원유 가스 흐름으로부터 상기 페인트 분진을 분리하기 위한 적어도 하나의 필터 디바이스를 포함하는 침적 및/또는 필터 설비; 및 상기 적어도 하나의 필터 디바이스에 의해 상기 원유 가스 흐름을 세척함으로써 얻을 수 있는 클린 가스 흐름을 위한 적어도 하나의 정화 가스 라인을 포함한다.

Description

페인팅 설비 및 페인팅 설비를 동작하는 방법{PAINTING FACILITY AND METHOD FOR OPERATION A PAINTING FACILITY}
본 발명은 소재들(workpieces)을 페인팅하기 위한 페인팅 설비(painting installation)에 관한 것이다.
페인팅 설비는 페인팅 부스 아래에 배치된 분리 및/또는 필터 시스템을 포함하는 예를 들어 WO 2010/069407 A1로부터 알려져 있다.
본 발명은 서두에 언급된 유형의 페인팅 설비를 제공하는 목적에 기초하고, 이것은 구성에 있어서 소형이고, 처리 가스(raw gas) 흐름으로부터 페인트 분진(overspray)의 신뢰성있는 분리를 허용한다.
본 발명의 목적은, 페인팅 설비가, 소재들이 페인트로 페인팅가능한 페인팅 부스와, 페인팅될 소재들이 페인팅 부스를 통해 운반 방향으로 운반가능한 운반 디바이스를 포함한다는 점에서 본 발명에 따라 달성된다. 더욱이, 페인팅 설비는 처리 가스 흐름을 세척하기 위한 분리 및/또는 필터 시스템을 포함하고, 이 처리 가스 흐름은 페인팅 부스를 떠나고, 페인팅 부스에서 흡수된 페인트 분진을 갖고, 분리 및/또는 필터 시스템은 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리하기 위한 적어도 하나의 필터 디바이스와, 적어도 하나의 필터 디바이스에 의해 처리 가스 흐름을 세척함으로써 얻어질 수 있는 클린 가스 흐름을 위한 적어도 하나의 클린 가스 라인을 포함한다.
분리 및/또는 필터 시스템은 간략함을 위해 "필터 시스템"으로서 아래에 언급될 것이다.
적어도 하나의 클린 가스 라인이 적어도 하나의 필터 디바이스의 외부 윤곽(outer contour) 내의 적어도 부분들에 배치되는 것이 본 발명의 하나의 구성에 제공된다.
필터 디바이스의 외부 윤곽은, 본 설명 및 첨부된 청구항들에서, 운반 방향에 수직으로 취해진 필터 디바이스의 각 단면이 페인팅 설비의 단부들까지 운반 방향을 따라 이동될 때, 이들 단면들 중 적어도 하나에 의해 통과되는 공간 영역의 외부 한계를 의미하는 것으로 취해질 것이다.
특히 적어도 하나의 클린 가스 라인이 적어도 하나의 필터 디바이스의 외부 윤곽 내의 적어도 부분들에 배치될 때, 필터 시스템은 구성에 있어서 소형일 수 있다. 특히, 어떠한 클린 가스 라인도 필터 시스템의 벽들을 한정하는 측면을 지나 돌출하지 않는다는 것이 제공될 수 있다.
외부 윤곽을 결정하기 위한 운반 방향을 따른 단면의 이동은, 이동된 단면이 국부적인 운반 방향에 항상 수직으로 향하는 방식으로 발생한다. 운반 방향이 일정하지 않을 때(굴곡진 운반 경로의 경우에), 그 결과 단면은 페인팅 설비의 단부들로의 이동 동안 각 국부적인 운반 방향의 진로에 따라 회전된다.
그러므로, 특히, 클린 가스 라인은, 운반 방향에 적어도 거의 평행하게 이어지는 필터 디바이스의 한정 벽들의 가상 확장의 경우에, 이들 확장된 한정 벽들에 의해 한정되는 공간 영역 내에 적어도 부분들에서 배치된다.
그러므로, 적어도 하나의 클린 가스 라인은 운반 방향을 따라 적어도 하나의 필터 디바이스의 수평 돌출부 내에서 적어도 부분들에서 완전히 배치된다.
적어도 하나의 클린 가스 라인의 적어도 하나의 외부 한정 벽은 페인팅 부스의 수직 길이 방향의 중심면으로부터 멀리 떨어져 있고, 바람직하게 페인팅 부스의 수직 길이방향 중심면으로부터 멀리 떨어진 필터 디바이스의 외부 한정 벽보다 페인팅 부스의 수직 길이방향 중심면으로부터 동일하거나 적은 정도로 이격된다.
클린 가스 흐름은 바람직하게 적어도 대략 수직으로 아래로, 적어도 하나의 필터 디바이스를 따라 적어도 하나의 적어도 대략 수직으로 향하는 클린 가스 라인에 의해 안내가능하다.
특히, 필터 시스템이 운반 방향으로 잇달아 배치된 복수의 필터 디바이스들을 포함할 때, 적어도 하나의 클린 가스 라인이 운반 방향으로 잇달아 배치된 2개의 필터 디바이스들 사이에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 필터 디바이스는 바람직하게 재생성가능 필터 디바이스로서 구성된다.
재생성가능 필터 디바이스는, 필터 디바이스의 필터 요소들을 교환할 필요 없이, 특히 분리된 불순물들이 세척될 수 있는, 분진 입자들을 함유하는 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리시키기 위해, 페인팅 부스를 통해 안내된 가스 흐름으로부터 불순물들을 분리시키기 위한 분리 디바이스를 의미하는 것으로 취해진다.
또한 특히 하나 이상의 건조 필터 요소들 및/또는 건조 분리 디바이스들을 갖는 필터 디바이스가 본 발명에 따른 재생성가능 필터 디바이스(필터 장치)로서 제공되는데, 여기서 가스 흐름은 필터 요소들에 액체를 첨가하지 않고도 실질적으로 세척된다. 이에 따라, 후속하거나 이전의 세척 스테이지들은 (정상 상태들에서) 액체 용매들 또는 세척제들을 이용하여 다시 제공될 수 있다.
더욱이, 필터 디바이스가, 필터 동작 동안, 보조 필터 물질, 예를 들어 돌가루(rock flour)를 포함하는 장벽 층 및/또는 보호 층을 구비한 적어도 하나의 필터 요소를 포함한다는 것이 재생성가능 필터 디바이스에 제공될 수 있다.
이에 따라 필터 요소는 필터 디바이스의 필터 동작 동안 필터 디바이스에 공급된 가스 흐름으로부터 불순물로 막히게 되는 것으로부터 방지될 수 있다. 필터 디바이스의 필터 요소로부터 장벽 층 또는 보호 층을 세척함으로써, 특히 필터 요소의 특히 쉬운 재생성이 발생할 수 있고, 이것은 새로운 장벽 층 또는 새로운 보호 층을 도포함으로써 재활용될 수 있다.
특히 분말 페인트 또는 유체 페인트가 페인트로서 고려될 수 있다.
액체로부터 페이스티(pasty){예를 들어 PVC 플라스티솔(plastisol)의 경우에}로 유동가능한 농도(consistency)를 갖는 페인트는 - "분말 페인트"라는 용어에 비해 - 본 명세서에서 "유체 페인트"라는 용어에 의해 지정된다. 특히 "유체 페인트"라는 용어는 "액체 페인트" 및 "습윤 페인트"라는 용어들을 포함한다.
그러므로, 유체 페인트를 이용할 때, 페인팅 부스로부터의 페인트 분진은 유체 페인트 분진이고, 습윤 페인트를 이용할 때, 습윤 페인트 분진이다.
본 발명의 하나의 구성에서, 필터 시스템이 운반 방향에 수직으로 이어지는 수평 방향에 대해 페인팅 부스 아래에 실질적으로 중심에 배치되는 적어도 하나의 처리 가스 샤프트를 포함하는 것이 제공된다.
특히, 처리 가스 샤프트의 유입 개구부가 운반 방향에 수직으로 이어지는 수평 방향에 대해 페인팅 부스 아래에 실질적으로 중심에 배치되는 것이 본 명세서에 제공될 수 있다.
처리 가스 샤프트는 바람직하게 가스 흐름을 페인팅 부스로부터 필터 시스템의 적어도 하나의 필터 디바이스에 공급하는데 사용된다.
특히 실질적으로 수직 방향으로의, 수직 이동 구성요소를 갖는 가스 흐름은 바람직하게 필터 시스템의 필터 동작 동안 처리 가스 샤프트를 통해 흐르고, 여기서 페인팅 부스로부터 나오는 가스 흐름이 세척된다.
처리 가스 샤프트의 하부 단부는 바람직하게 필터 시스템의 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널에 접한다.
적어도 2개의 필터 디바이스들, 바람직하게 필터 시스템의 모든 필터 디바이스들이 페인팅 부스의 수직의 길이 방향 중심면에 대해 처리 가스 샤프트의 동일한 면 상에 배치되는 경우 선호될 수 있다.
처리 가스 샤프트가 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소 위로부터 및/또는 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소 아래로 연장하는 경우 유리할 수 있다.
본 발명의 하나의 구성에서, 필터 시스템이 적어도 하나의 클린 가스 라인을 포함하는데, 이러한 적어도 하나의 클린 가스 라인이 적어도 부분들에서, 공간적으로 처리 가스 샤프트 아래에 안내되는데, 특히 처리 가스 샤프트 바로 밑(under)에 배치되는 것이 제공될 수 있다. 이에 따라 처리 가스 흐름은 페인팅 부스의 수직의 길이방향 중심면의 한 면으로부터 대항 면으로 특히 용이하게 안내될 수 있다. 특히, 적어도 하나의 클린 가스 라인은 충돌없이 처리 가스 샤프트를 가로지를 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 적어도 하나의 클린 가스 라인이 적어도 부분들에서 공간적으로 처리 가스 샤프트 위에 안내되는데, 특히 처리 가스 샤프트 위에 배치되므로, 바람직하게 그 위에서 처리 가스 샤프트를 가로지르는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 클린 가스 라인은 바람직하게 처리 가스 샤프트 아래를 통해 연장하고, 바람직하게 본 명세서에서 실질적으로 수평 방향으로 및/또는 운반 방향에 횡단하여, 특히 실질적으로 수직으로 이어진다.
더욱이, 적어도 하나의 클린 가스 라인이 적어도 부분들에서, 적어도 하나의 필터 디바이스 밑 및/또는 위의 적어도 하나의 필터 디바이스의 수직 돌출부 내에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 클린 가스 라인이 적어도 부분들에서, 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘, 적어도 하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너 및/또는 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 하우징 아래에, 특히 바로 밑에 배치되는 경우 선호될 수 있다.
필터 시스템이 처리 가스 샤프트와 교차하는 및/또는 횡단하는 클린 가스 라인을 포함하는 것이 제공될 수 있다.
클린 가스 라인은 처리 가스 샤프트 내에 배치되는 부분을 포함하고, 처리 가스 샤프트 외부에 배치되는 하나 이상의 추가 부분들을 포함할 수 있다.
특히, 필터 시스템이 처리 가스 샤프트의 상부 단부의 영역에 배치되고 그와 횡단하는 클린 가스 라인을 포함하는 것이 제공될 수 있다.
그러므로, 바람직하게 처리 가스는 페인팅 설비의 동작 동안 클린 가스 라인 주위에 흐른다. 클린 가스 라인에 의해, 클린 가스 흐름은 바람직하게 페인팅 부스의 수직의 길이방향 중심면의 한 면으로부터 대항 면으로 안내될 수 있다.
그러나, 적어도 하나의 클린 가스 라인이 처리 가스 샤프트의 하부 단부와 상부 단부 사이에, 또는 처리 가스 샤프트 위에, 바람직하게 페인팅 부스 베이스 아래에 다른 지점에 배치된다는 것이 제공될 수 있다.
클린 가스 라인은 바람직하게 운반 방향에 대해 실질적으로 수평 방향으로 및/또는 횡방향으로, 특히 실질적으로 수직으로 이어진다.
필터 시스템이 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널을 포함하는데, 필터 시스템의 적어도 2개의 클린 가스 라인들이 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널로 개방되는 경우 선호될 수 있다. 클린 가스는 하류에 클린 가스 수집 채널에 접하는 하나의 라인만을 이용하여 특히 쉽게 안내될 수 있다.
적어도 하나의 클린 가스 수집 채널은 바람직하게 운반 방향에 대략 평행하게 가장 적게 연장한다.
한 편으로 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널, 및 다른 한 편으로 필터 시스템의 적어도 2개의 필터 디바이스들이 페인팅 부스의 수직의 길이방향 중심면에 대해 필터 시스템의 상호 대항하는 면들 상에 배치되는 것이 본 발명에 따른 하나의 구성에 제공된다.
특히, 필터 시스템의 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널이 특히, 운반 방향을 따라 연장하는 분할 벽에 의해, 운반 방향을 따라 2개의 영역들로, 즉 상류 영역 및 하류 영역으로 분리되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 2개의 클린 가스 라인들은 바람직하게 상류 영역으로 개방되므로, 이러한 상류 영역은 클린 가스 수집 채널의 2개의 영역들의 마우스(mouth) 영역을 형성한다.
적어도 2개의 클린 가스 라인들에 의해 클린 가스 수집 채널에 공급된 클린 가스 흐름들의 혼합은 바람직하게 클린 가스 수집 채널의 적어도 2개의 영역들의 마우스 영역에서 발생한다.
본 발명의 하나의 구성에서, 클린 가스 수집 채널의 하류 영역이 클린 가스 수집 채널의 2개의 영역들의 방출 영역인데, 이것은 필터 시스템으로부터 클린 가스를 방출하는데 사용되고, 예를 들어, 페인팅 부스로의 클린 가스 흐름의 (재개된) 공급을 위한 순환 공기 안내 디바이스 및/또는 페인팅 설비로부터 처리 가스 흐름을 제거하기 위해 배기 공기 안내 디바이스와의 유체 연결부를 갖는 것이 제공된다.
클린 가스 수집 채널의 마우스 영역은 바람직하게 적어도 하나의 팬에 의해 클린 가스 수집 채널의 방출 영역과의 유체 연결부를 갖는다. 클린 가스 수집 채널의 마우스 영역에 배치된 가스는 이에 따라 클린 가스 수집 채널의 방출 영역에 특히 쉽게 공급될 수 있다.
클린 가스 수집 채널의 마우스 영역이 적어도 부분들에서, 클린 가스 수집 채널의 방출 영역 아래에, 특히 바로 밑에 바람직하게 완전히 배치되는 경우 유리할 수 있다.
적어도 하나의 팬(송풍기)이 가스 채널에 의해 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널의 분할 벽에 직접적으로 또는 간접적으로 연결되는 것이 본 발명의 하나의 구성에 제공된다.
적어도 하나의 팬이 페인팅 설비가 조립된 상태로 구성되는 베이스 상에 배치되고, 가스 채널이 팬을 분할 벽에 연결하는데 제공되는 경우 유리할 수 있다.
더욱이, 수용 디바이스(프레임)를 갖는 적어도 하나의 팬이 제공되고, 수용 디바이스가 베이스 상에 배치되고, 적어도 하나의 팬이 특히 수용 디바이스 상에 배치되는 것이 제공될 수 있다. 가스 채널은 바람직하게 팬을 분할 벽에 연결하도록 제공된다.
적어도 하나의 팬이 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널의 분할 벽 상에 배치되고 및/또는 분할 벽에 일체화되는 경우 선호될 수 있다. 팬을 분할 벽에 연결하기 위한 추가 가스 채널이 이에 따라 필요 없을 수 있다.
본 발명의 추가 구성에서, 적어도 하나의 팬이 적어도 하나의 수집 채널의 분할 벽에, 특히 그 위에 배치되는 수용 디바이스에, 특히 그 위에 배치되고, 적어도 하나의 가스 채널은 적어도 하나의 팬을 분할 벽에 연결하도록 제공되는 것이 제공된다.
필터 시스템은 바람직하게 적어도 하나의 가스 흐름, 특히 적어도 하나의 클린 가스 흐름을 조절하기 위한 적어도 하나의 조절 디바이스를 포함한다. 특히, 조절 디바이스가 가열 디바이스, 냉각 디바이스, 가습 디바이스 및/또는 제습 디바이스로서 구성되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 조절 디바이스는 바람직하게 가스 흐름의 흐름 방향, 특히 필터 시스템의 클린 가스 수집 채널에 또는 클린 가스 흐름에 대해 필터 시스템의 클린 가스 수집 채널 앞에 배치된다.
필터 시스템은 바람직하게 가스 흐름을 몰기 위해 적어도 하나의 팬, 예를 들어 적어도 하나의 축방향 팬을 포함한다.
적어도 하나의 팬은, 예를 들어 클린 가스 흐름에, 그리고 이에 따라 가스 흐름의 흐름 방향에 대해 필터 시스템의 클린 가스 수집 패널 앞에 배치될 수 있고, 적어도 하나의 클린 가스 라인이 상기 채널 안으로 개방된다.
대안으로서 또는 이에 더하여, 적어도 하나의 팬이 클린 가스 라인 및/또는 가스 흐름의 흐름 방향에 대해 클린 가스 수집 채널의 하류에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 팬은 구동부에 의해 구동가능한 임펠러(impeller)를 포함할 수 있다.
팬의 임펠러의 회전축은 페인팅 부스의 길이 방향에 및/또는 페인팅 설비의 운반 방향에 대해 실질적으로 수평 및 횡방향으로, 바람직하게 실질적으로 수직으로 향하게 될 수 있다.
임펠러의 구동부는 페인팅 부스의 길이 방향에 수직으로 및/또는 운반 방향에 수직으로, 팬에 나란히 측면으로, 특히 임펠러에 나란히 측면으로 향하는 횡방향으로 배치될 수 있다.
임펠러의 구동부는 페인팅 부스의 베이스 영역 외부에 또는 페인팅 부스의 베이스 면의 수직 돌출부 외부에 적어도 부분적으로 배치될 수 있는데, 바람직하게 실질적으로 완전히 배치될 수 있다.
하지만, 팬의 임펠러의 회전축은, 또한 페인팅 부스의 길이 방향에 및/또는 운반 방향에 상이하게, 예를 들어 실질적으로 수평으로 그리고 실질적으로 평행하게 향하게 될 수 있다. 더욱이, 임펠러의 회전축은 또한 실질적으로 수직으로 향하게 될 수 있다.
임펠러의 구동부는 페인팅 부스의 길이 방향으로 및/또는 팬의 앞 또는 뒤의 운반 방향으로 배치될 수 있다.
임펠러의 구동부는 또한 팬의 아래 또는 위에 수직으로 배치될 수 있다.
임펠러의 구동부는, 페인팅 부스의 베이스 영역 내에 또는 페인팅 부스의 베이스 영역의 수직 돌출부 내에 적어도 부분적으로, 바람직하게 실질적으로 완전하게 배치될 수 있다.
필터 시스템이 적어도 하나의 클린 가스 라인, 적어도 하나의 팬, 적어도 하나의 조절 디바이스 및/또는 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널을 포함하는데, 이들이 페인팅 부스 아래의 페인팅 부스의 수직 돌출부 내에 배치되는 경우 선호될 수 있다.
필터 시스템은 바람직하게 적어도 하나의 필터 모듈을 포함하는데, 이러한 적어도 하나의 필터 모듈은 적어도 하나의 처리 가스 샤프트의 적어도 하나의 부분, 적어도 하나의 필터 디바이스, 적어도 하나의 클린 가스 라인, 적어도 하나의 조절 디바이스, 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널 및/또는 적어도 하나의 팬의 적어도 하나의 부분을 포함한다.
필터 모듈은 본 명세서에서 구조적 유닛인데, 이러한 구조적 유닛은 적어도 부분적으로 사전 조립된, 바람직하게 완전히 조립된 언급된 구성요소들을 포함하여, 필터 모듈은 페인팅 부스의 조립 장소와 상이한 장소에서 사전 조립될 수 있거나 완성될 수 있고, 조립 장소로의 운송 이후에 낮은 조립 비용으로 페인팅 설비의 나머지 구성성분들에 연결될 수 있다.
필터 시스템은 바람직하게 적어도 2개의 필터 모듈들을 포함한다.
특히 필터 모듈이 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널 및/또는 적어도 하나의 처리 가스 샤프트의 적어도 부분을 포함할 때, 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널 또는 적어도 하나의 처리 가스 샤프트는 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운반 방향으로 서로 나란한 행에 필터 모듈들을 배치함으로써, 그리고 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널 또는 적어도 하나의 처리 가스 샤프트의 개별적인 부분들을 서로 유체-밀봉 연결함으로써 완료될 수 있다.
필터 디바이스에 대한 손상의 경우에, 예를 들어 필터 디바이스의 필터 요소에 대한 손상의 경우에 보조 필터 물질 및/또는 분진 입자들이 깨끗하게 유지될 필터 시스템의 영역들 안으로 원하지 않게 침투하는 것을 방지하기 위해, 적어도 하나의 안전 필터{규제 필터(policing filter), 비상 필터(emergency filter)}가 적어도 하나의 클린 가스 라인 및/또는 클린 가스 수집 채널에 제공되는 경우 유리할 수 있다.
더욱이 본 발명은 페인팅 설비의 필터 시스템에서의 사용을 위한 필터 모듈에 관한 것으로, 필터 모듈은 적어도 하나의 필터 디바이스, 적어도 하나의 클린 가스 라인, 적어도 하나의 조절 디바이스, 적어도 하나의 처리 가스 샤프트 부분, 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널 부분 및/또는 적어도 하나의 팬을 포함한다.
본 발명은 페인팅 설비를 제공하는 추가 목적에 기초하며, 이것은 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진의 특히 신뢰성있는 분리를 허용한다.
이 목적은, 페인팅 설비에서, 분진 입자들을 함유하는 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리하기 위한 적어도 하나의 필터 디바이스가,
- 필터 디바이스의 처리 가스 챔버를 한정하고 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소가 배치되는 하우징과;
- 처리 가스 흐름을 필터 디바이스의 처리 가스 챔버 안으로 들어가게 하기 위한 적어도 하나의 입구 채널과;
- 보조 필터 물질을 처리 가스 흐름에 도입하기 위한 적어도 하나의 보조 필터 도입 메커니즘을
포함한다는 점에서 본 발명에 따라 달성된다.
보조 필터 물질을 처리 가스 흐름에 도입하기 위한 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 제공되기 때문에, 보조 필터 물질은 처리 가스 흐름에 특히 용이하게 제공될 수 있어서, 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진의 효율적이고 신뢰성있는 분리가 가능해진다. 특히, 보조 물질을 소용돌이치게 하기 위한(swirling) 압축 공기 디바이스는 이에 따라 필요 없어진다.
적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널은 바람직하게, 처리 가스 흐름이 수평에 예각으로 처리 가스 챔버 안으로 안내가능해지는 방식으로 구성된다.
적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 기계적으로 처리하기 위한 처리 디바이스를 포함하는 경우 유리할 수 있다.
보조 필터 물질 또는, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 "기계적 처리"는, 처리 디바이스가 예를 들어 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 이동시키고, 운반하고, 혼합하고, 연마하고 및/또는 분해하기(loosen) 위해 보조 필터 물질 또는, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물과 직접 접촉하는 방식으로 이루어지는 처리를 의미하도록 취해진다.
처리 디바이스가 혼합 디바이스로서 구성되는 경우 선호될 수 있다.
특히, 혼합 디바이스가 페인트 분진로 로딩된 보조 필터 물질, 및 로딩되지 않거나 작은 정도로만 로딩되는 보조 필터 물질을 페인트 분진와 혼합하는데 사용되는 것이 제공될 수 있다.
기계적 처리를 위한 적어도 하나의 처리 디바이스는 바람직하게 예를 들어, 패들(paddle)로서 구성되고 축 주위에서 회전가능한 적어도 하나의 처리 요소를 포함한다.
적어도 하나의 처리 디바이스는 바람직하게 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 덩어리들(agglomerates)을 붕괴(breaking up)시키는데 사용된다.
적어도 하나의 처리 디바이스는 바람직하게 보조 필터 물질을 분해하기 위한 적어도 하나의 분해(loosening) 요소를 포함한다. 특히, 적어도 하나의 분해 요소가 패들 및/또는 스쿠프(scoop)로서 구성되는 것이 본 명세서에 제공될 수 있다.
적어도 하나의 분해 요소는 특히, 입자들(보조 필터 입자들 및/또는 분진 압자들; 총 질량에 기초하여, 입자 개수 및/또는 총 부피)의 10% 이상의 부분이 인접한 입자들에 대해 이동되는 방식으로 보조 필터 물질(또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물)이 내부 이동을 수행하도록 하기 위해 제공된다. 이것은 분해, 혼합, 운반 및/또는 분쇄를 발생시킨다. 후자의 경우에, 적어도 하나의 분해 요소는 적어도 하나의 대응부(counterpiece)와 협력하고, 적어도 하나의 분해 요소 및 적어도 하나의 대응부는 바람직하게 정상 동작 동안 상이한 속도들을 갖고, 이에 따라 보조 필터 물질은 적어도 하나의 분해 요소와 적어도 하나의 대응부 사이에 기계적으로 프로세싱될 수 있다.
적어도 하나의 처리 디바이스는 바람직하게 보조 필터 물질을 예를 들어, 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운반 방향에 평행한 방향으로 운반하기 위한 적어도 하나의 운반 요소를 포함한다.
더욱이, 적어도 하나의 처리 디바이스가 적어도 하나의 처리 요소를 포함하는데, 이러한 적어도 하나의 처리 요소는 운반 방향에 예를 들어, 수평으로, 특히 실질적으로 평행하게 이어지는 회전축 주위를 회전할 수 있고, 예를 들어 분해 요소, 혼합 요소 및/또는 운반 요소로서 구성되는 것이 제공될 수 있다.
처리 가스 챔버에 공급된 처리 가스 흐름은 바람직하게, 처리 가스 챔버로의 처리 디바이스의 회전축에 대해 횡방향으로, 특히 실질적으로 수직으로 흐르는 방식으로 향하게 된다. 특히, 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 처리 디바이스의 회전축에 실질적으로 수직으로 향하게 되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 처리 디바이스가 예를 들어, 필터 디바이스의 처리 가스 챔버로부터 보조 필터 물질을 제거하기 위한 제거 개구부를 가지고, 필터 디바이스의 제거 디바이스와 협력하는 경우 유리할 수 있다. 특히, 처리 디바이스가 제거 개구부쪽으로의 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 운반을 허용하는 것이 제공될 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 균일한 분배가 필터 디바이스의 보조 필터 물질 수용 컨테이너에서 적어도 하나의 처리 디바이스에 의해 달성가능하다는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘은 바람직하게 적어도 하나의 필터 디바이스의 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된다.
더욱이 본 발명은 페인팅 설비에 관한 것으로, 이러한 페인팅 설비는, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 처리 가스 흐름의 흐름에 영향을 미치기 위해 제공되는 필터 시스템을 포함한다.
이러한 관점에서, 본 발명은 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진의 신뢰성있는 분리를 허용하는 필터 시스템을 포함하는 페인팅 설비를 제공하는 목적에 기초한다.
이 목적은, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 적어도 하나의 흐름 영향화(influencing) 요소를 포함한다는 점에서 본 발명에 따라 달성된다.
그 결과, 처리 가스 흐름은 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 신뢰성있게 분리할 수 있기 위해 특히 유리하게 영향받을 수 있다.
"흐름 영향화 요소"는 더 간단한 참조를 위해 아래에 "흐름 요소"로 언급될 것이다.
적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 처리 가스 흐름의 흐름에 영향을 미치게 하기 위한 흐름 안내 디바이스를 포함하고, 이러한 흐름 안내 디바이스가 적어도 하나의 흐름 요소를 포함한다는 점에서 본 발명의 하나의 구성에 제공된다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 구성 및/또는 배치 및/또는 방향에 관해 가변적일 수 있는 적어도 하나의 흐름 요소를 포함하는 경우 유리할 수 있다. 이에 따라 처리 가스 흐름은 보조 필터 물질을 분해 및/또는 소용돌이치는데 사용될 수 있으므로, 보조 필터 물질을 처리 가스 흐름에 도입하는데 사용될 수 있다.
특히, 적어도 하나의 가변 흐름 요소가 조정가능하게 및/또는 선회가능하게 배치된 가이드 플레이트로서 구성되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널에 적어도 부분적으로 배치되는 경우 유리할 수 있다. 특히, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 입구 채널의 한계를 형성하는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소는 바람직하게 필터 디바이스의 동작 이전, 동안 및/또는 이후에 구성 및/또는 배치 및/또는 방향에 관해 가변적이다. 특히, 적어도 하나의 흐름 요소가 필터 동작 이전, 동안 및/또는 이후에 구성 및/또는 배치 및/또는 방향에 관해 가변적이고, 여기서 처리 가스 흐름이 필터 디바이스에 의해 세척될 수 있다는 것이 제공될 수 있다. 더욱이, 적어도 하나의 흐름 요소가 필터 디바이스의 세척 동작 이전, 동안 및/또는 이후에 구성 및/또는 배치 및/또는 방향에 관해 가변적이고, 여기서 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소가 세척될 수 있는데, 즉 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 접착으로부터 자유롭다는 것이 제공될 수 있다.
더욱이, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소는 바람직하게 필터 디바이스의 시동 이전에 사전-조정가능하고 및/또는 필터 디바이스의 동작, 특히 필터 동작 동안 자동으로 조정가능한, 특히 자가-조정(self-adjusting)된다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 가변 흐름 요소가 그 설계로 인해, 특히 자체 중량으로 인해, 필터 디바이스의 동작 동안 상이한 흐름 상태들에, 특히 처리 가스 흐름의 부피 흐름에 적응되는 경우 유리할 수 있다.
예를 들어, 적어도 하나의 흐름 요소의 질량이, 처리 가스 흐름의 흐름 방향에 수직인 방향으로 입구 채널의 변하는 개구부 단면이 부피 흐름에 대해 변하는 처리 가스 흐름에 의해 입구 채널에서 자동으로 생성되도록 선택되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소는 바람직하게, 처리 가스 흐름이 처리 가스 챔버에 흐르는 각도가 적어도 하나의 흐름 요소에 의해 조정가능한 방식으로 구성된다.
처리 가스 챔버에 흐르는 처리 가스 흐름의 속도가 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소에 의해 영향을 받을 수 있는, 특히 증가될 수 있는 경우 유리할 수 있다. 가스 흐름의 속도는 본 명세서에서 가스 흐름의 평균 속도, 예를 들어 난류들이 무시되는 국부적인 소도 차이들을 의미하도록 취해진다.
특히, 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널로의 처리 가스 흐름의 속도가 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소에 의해 필터 시스템의 적어도 하나의 처리 가스 샤프트로의 처리 가스 흐름의 속도에 비해, 영향을 받는데, 특히 증가되는 것이 본 명세서에 제공될 수 있다.
적어도 하나의 처리 가스 샤프트를 통해 안내된 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 및/또는 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널에 의해, 페인팅 부스의 수직의 길이방향 중심면에 대해 비대칭적으로, 특히 페인팅 부스의 수직의 길이방향 중심면의 한 면쪽으로만 안내되거나 편향되는 경우 선호될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해, 처리 가스 챔버에 도입된 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 직접 향하게 되는 경우 유리할 수 있다. 그 결과, 보조 필터 물질이 처리 가스 흐름에 의해 소용돌이치고 및/또는 획득(picked up)되는 경우 유리할 수 있다.
보조 필터 물질 및 분진 입자들로 로딩된 처리 가스 흐름은 바람직하게 수직의 이동 구성요소로, 예를 들어 실질적으로 수직으로 위쪽으로 편향되고, 및/또는 공급되어, 실질적으로 수직으로 위쪽으로 또는 적어도 수직으로 위쪽으로 향하는 이동 구성요소로 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소에 흐르게 된다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 가변 흐름 요소의 이용은 바람직하게, 처리 가스 챔버에 도입된 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 특정한 방식으로 공급가능하다는 장점을 제공한다.
적어도 하나의 흐름 요소가 가이드 플레이트로서 구성되는 것이 본 발명의 하나의 구성에 제공된다. 이에 따라 처리 가스 흐름은 미리 결정된 방향으로 특정한 방식으로 안내될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 요소가 수동으로 조정되고, 바람직한 고리형 위치에 고정되는 경우 유리할 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 적어도 하나의 흐름 요소가 자가-조정 흐름 요소로서 구성되는 것이 제공될 수 있다. 따라서, 예를 들어, 적어도 하나의 흐름 요소가 적은 질량을 가져, 필터 디바이스에 어떠한 처리 가스 흐름도 공급되지 않을 때 중력으로 인해 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널을 차단하므로, 특히 보조 필터 물질이 필터 디바이스로부터 처리 가스 흐름의 흐름 방향에 반대 방향인 페인팅 부스로 다시 빠져나가는 것을 방지하는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소는 바람직하게, 이 목적을 위해, 수직 방향에 횡단하여 향하는 축 주위에, 특히 실질적으로 수직으로 배치된다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나이 흐름 요소의 질량은 바람직하게, 적어도 하나의 흐름 요소가 처리 가스 흐름에 의한 적어도 하나의 필터 디바이스의 처리 가스 챔버로의 처리 가스 흐름의 유입에 의해 차단된 위치로부터 개방 위치로 이동가능하도록 선택된다.
적어도 하나의 흐름 요소의 질량(자체 중량)에서 초래되는 역-압력(counter-pressure)은 바람직하게 처리 가스 흐름에 의해 가해진 압력에 의해 균형을 유지하게 된다.
처리 가스 흐름에 의해 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소에 가해진 압력은 바람직하게 처리 가스 흐름의 부피 흐름에 비례한다.
처리 가스 흐름의 부피 흐름에 따라, 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널은 바람직하게 조정가능한데, 바람직하게 자동적으로, 특히 가변 흐름 요소에 의해 조정가능하다.
특히, 처리 가스 흐름의 부피 흐름에 따라, 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 처리 가스 챔버로의 처리 가스 흐름의 유입 각도는 적어도 하나의 가변 흐름 요소에 의해 자동으로 조정가능하다는 것이 제공될 수 있다. 이에 따라 처리 가스 흐름에 의해 소용돌이치고 처리 가스 흐름에 의해 획득되는 보조 필터 물질의 양의 적응은 자동으로 조정될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 2개의 흐름 요소들이 바람직하게 제공되고, 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널의 상호 대항하는 한계 벽들을 형성한다. 이러한 방식으로, 입구 채널을 통해 처리 가스 챔버에 흐르는 처리 가스 흐름의 특정한 영향화가 발생할 수 있다.
특히, 적어도 2개의 가변 흐름 요소들이 제공되는데, 이것은 수직 방향으로 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널을 한정하는 것이 제공될 수 있다. 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 2개의 흐름 요소들의 상대적인 위치가 서로에 대해 조정가능한 경우 유리할 수 있다.
특히, 적어도 하나의 흐름 요소가 적어도 하나의 추가 흐름 요소에 대해 변위가능하게 및/또는 회전가능하게 배치되는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 복수의 흐름 요소들이 제공되고, 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운반 방향으로 서로 인접하게 배치되고, 이것이 서로 개별적으로 조정가능하여, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스, 이에 따라 하나의 필터 디바이스가 운반 방향을 따라 가변적인 부피 흐름들로 상이한 처리 가스 흐름들에 적응가능하다는 것이 본 발명의 하나의 구성에 제공된다. 이에 따라, 특히 상이한 부피 흐름들의 경우에도, 보조 필터 물질의 적어도 원하는 최소량이 필터 디바이스에 흐를 때 처리 가스 흐름에 의해 항상 획득될 수 있는 것이 보장될 수 있다.
더욱이, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소가 수평 방향으로 변위가능하게 배치되는 것이 제공될 수 있다. 이에 따라 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널을 통해 안내된 처리 가스 흐름은 특정한 방식으로 처리 가스 챔버의 상이한 영역들에, 즉 처리 가스 흐름이 필터 동작 동안 존재하는 필터 디바이스의 내부의 상이한 영역들에, 특히 필터 디바이스의 보조 필터 물질 수용 컨테이너의 상이한 영역들에 공급될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스는, 바람직하게 처리 가스 흐름이 필터 디바이스의 처리 디바이스 위에 흐르고 및/또는 필터 디바이스의 처리 가스 챔버로의 처리 디바이스 상으로 향하는 방식으로 처리 가스 흐름이 흐름 안내 디바이스에 의해 필터 디바이스에 공급되도록 구성된다.
본 발명의 추가 구성에서, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소가 구동 디바이스, 예를 들어 모터-제어 구동 디바이스에 의해 회전가능하게 및/또는 수평으로 및/또는 수직으로 이동가능한 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 요소의 방향(orientation) 및/또는 위치 지정(positioning)이 적어도 하나의 필터 디바이스의 동작 모드, 예를 들어 적어도 하나의 필터 디바이스가 세척되는 세척 동작, 또는 예를 들어 화재 알람이 개시되는 위험 상태에 따라, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 자동으로 수행되도록 구성되는 경우 유리할 수 있다. 이에 따라 적어도 하나의 흐름 요소는 안전 디바이스, 예를 들어 화재 방지 요소로서 사용될 수 있다.
본 발명의 하나의 구성에서, 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 제어 디바이스를 포함하고, 이 제어 디바이스에 의해 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 도입 용량이 제어 및/또는 통제되도록 구성되는 것이 제공될 수 있다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘의 도입 용량은 이러한 설명 및 첨부된 청구항들에서, 보조 필터 물질 도입 메커니즘에 의해 미리 결정된 시간에 처리 가스 흐름에 도입될 수 있는 보조 필터 물질의 양의 측정을 의미하도록 취해진다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘의 도입량이, 처리 가스 흐름으로부터 분진 입자들을 처리 가스 흐름에 도입된 보조 필터 물질이 흡수할 수 있는 성능이 적어도 거의 일정한 방식으로 제어 디바이스에 의해 제어 및/또는 통제되도록 구성되는 경우 유리할 수 있다.
도입된 보조 필터 물질의 양이 보조 필터 물질의 비 흡수 용량(specific absorption capacity)에 따라 제어 및/또는 통제되는 경우 유리할 수 있다. 비 흡수 용량은 페인트 분진의 어떤 양이 보조 필터 물질의 미리 결정된 양에 의해 흡수될 수 있는지를 나타낸다. 그러므로, 비 흡수 용량은 페인트 분진을 갖는 보조 필터 물질의 로딩 상태에 따라 변한다. 특히, 비 흡수 용량은 필터 디바이스의 증가하는 동작 기간으로 감소한다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 비 흡수 용량이 처리 디바이스에 의해, 예를 들어 보조 필터 물질의 통제된 및/또는 제어된 규칙적인 교환에 의해, 및/또는 혼합 프로세스 및/또는 연마 프로세스의 제어 및/또는 통제에 의해 제어 및/또는 통제되는 것이 제공될 수 있다. 이에 따라 처리 가스 흐름에 도입된 보조 필터 물질이 처리 가스 흐름으로부터 분진 입자들을 흡수할 수 있는 능력은 특히, 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 일정한 도입 용량의 경우에, 적어도 거의 일정하게 유지될 수 있다.
더욱이, 도입 용량의 제어 및/또는 통제가 보조 필터 물질의 로딩 상태, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에서의 보조 필터 물질의 양, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에서의 보조 필터 물질의 질량, 입구 채널에서의 처리 가스 흐름의 흐름 속도, 분진 입자들을 갖는 처리 가스 흐름의 오염도 및/또는 클린 가스 라인 및 처리 가스 챔버에서의 압력 사이의 차이에 따라 제어 디바이스에 의해 발생하는 것이 제공될 수 있다.
특히, 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 도입 용량이 적어도 하나의 흐름 요소의 조정에 의해 제어 및/또는 통제되도록 구성되는 것이 제공될 수 있다. 특히, 적어도 하나의 흐름 요소의 위치 및/또는 각 위치(angular position)가 이 목적을 위해 적응되고, 제어 및/또는 통제되는 것이 이 목적을 위해 제공될 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 더욱이 보조 필터 물질, 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 기계적으로 처리하기 위한 적어도 하나의 처리 디바이스에 의해, 도입 용량이 적응가능한데, 특히 제어 및/또는 통제되도록 구성되는 것이 제공될 수 있다. 특히, 적어도 하나의 처리 디바이스의 회전(처리) 요소들의 회전 속도가 조정가능한데, 특히 제어 및/또는 통제되도록 구성되어, 도입 용량을 제어 및/또는 통제하는 것이 본 명세서에 제공될 수 있다.
필터 시스템의 적어도 하나의 필터 디바이스가 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스를 포함하고, 이러한 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 필터 디바이스의 처리 가스 챔버에 배치되고, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널을 통해 처리 가스 챔버에 흐르는 처리 가스 흐름이 영향을 받도록 구성되는 경우 유리할 수 있다. 이러한 방식으로, 처리 가스 흐름은 처리 가스 흐름으로부터 분진 입자들의 유리한 분리를 얻기 위해 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소에 특정한 방식으로 공급될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스는 바람직하게 이러한 목적을 위해, 적어도 하나의 필터 디바이스의 한계 벽들과 상이한 적어도 하나의 요소, 예를 들어, 특히 가변적인 흐름 요소를 포함한다.
필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널을 통해 처리 가스 챔버에 흐르는 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소쪽으로 편향될 수 있는 경우 유리할 수 있다.
더욱이, 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널을 통해 처리 가스 챔버에 흐르는 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 소용돌이칠 수 있는 것이 제공될 수 있다. 이에 따라 처리 가스 챔버 내의 난류 흐름이 얻어질 수 있어서, 분진 입자들 및 보조 필터 물질의 입자들의 더 양호한 혼합과, 이에 따라 처리 가스 흐름으로부터의 분진 입자들의 더 양호한 분리가 얻어질 수 있다.
특히 처리 가스 챔버에 공급된 처리 가스 흐름의 소용돌이가 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 달성될 때, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 예를 들어, 확산기로서 구성된 적어도 하나의 흐름 요소를 포함하는 것이 제공될 수 있다. 특히, 적어도 하나의 로드-형태의(rod-shaped) 흐름 요소가 제공될 수 있다.
더욱이, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스가 적어도 하나의 흐름 요소를 포함하는데, 이러한 적어도 하나의 흐름 요소는 예를 들어 가이드 플레이트로서 구성되고, 이러한 적어도 하나의 흐름 요소에 의해, 처리 가스 챔버에서 처리 가스 흐름의 바람직한 흐름을 교란시키는 필터 디바이스의 돌출부들 및/또는 다른 지점들이 브리징(bridged)될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소가 개구부들을 구비하고, 이러한 개구부들을 통해 보조 필터 물질이 필터 디바이스의 필터 동작 동안 통과할 수 있는 경우 유리할 수 있다. 이러한 방식으로, 보조 필터 물질은 처러 가스 챔버를 향하는 모든 표면들에 도포될 수 있고, 이들 표면들의 신뢰성있는 보호는 페인트 분진의 원하지 않는 오염에 대해 달성될 수 있다.
더욱이, 유리하게, 가이드 플레이트로서 구성된 적어도 하나의 흐름 요소가 복수의 개구부들을 갖고 및/또는 바람직하게 확산기로서 작용하는 것이 제공될 수 있다.
확산기는, 이러한 설명 및 첨부된 청구항들에서, 특히 그를 따라 안내된 흐름들의 소용돌이를 촉진시키는 요소를 의미하는 것으로 취해진다. 특히, 이것은 난류 흐름이 생성되도록, 층류가 소용돌이될 수 있는 요소를 의미하는 것으로 취해질 수 있다.
본 발명의 하나의 구성에서, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소가 필터 디바이스의 필터 동작 동안 실질적으로 층류가 우세한 처리 가스 챔버의 충류 영역에 배치되고, 특히 고정되고, 및/또는 난류 흐름이 우세하거나 필터 디바이스의 필터 동작 동안 생성되는 필터 디바이스의 처리 가스 챔버의 난류 영역으로 연장하는 것이 제공된다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스의 적어도 하나의 흐름 요소의 이용은, 특히 분진 입자들을 함유하는 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소에 대해 실질적으로 일정하게 흐를 수 있다는 장점을 제공할 수 있다. 더욱이, 처리 가스 챔버 내의 보조 필터 물질의 바람직하지 않는 축적물들은 이에 의해 감소될 수 있는데, 특히 완전히 회피될 수 있다.
페인팅 설비, 특히 페인팅 설비의 필터 시스템이 냉각 디바이스, 가습 디바이스 및/또는 방울 분리 디바이스를 포함하는 조절 디바이스를 포함하는 것이 본 발명의 하나의 구성에 제공된다. 더욱이, 조절 디바이스는 바람직하게 냉각 디바이스, 가습 디바이스 및/또는 방울 분리 디바이스를 위한 특히 공통적인, 액체 취급 시스템을 포함한다. 조절 디바이스를 통해 안내된 가스 흐름은 이에 따라 특히 효율적으로 냉각되고 및/또는 가습될 수 있다. 더욱이, 가스 흐름에 위치된 방울들은 이에 따라 쉽게 분리될 수 있다.
조절 디바이스가 냉각 디바이스 및 가습 디바이스를 포함하고, 가습 디바이스는 조절 디바이스의 방향의 관통-흐름(through-flow)에 대해 냉각 디바이스의 하류에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
더욱이, 조절 디바이스가 냉각 디바이스 및 방울 분리 디바이스를 포함하고, 방울 분리 디바이스가 바람직하게 조절 디바이스의 관통-흐름 방향에 대해 냉각 디바이스의 하류에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
조절 디바이스가 가열 디바이스를 포함하는 경우 선호될 수 있다. 이러한 유형의 가열 디바이스는 예를 들어, 조절 디바이스의 관통-흐름 방향에 대해 냉각 디바이스의 하류에 및/또는 가습 디바이스의 상류에 배치될 수 있는 경우 선호될 수 있다.
더욱이, 조절 디바이스가 적어도 2개의 방울 분리 디바이스들을 포함하고, 하나의 방울 분리 디바이스가 바람직하게 조절 디바이스의 관통-흐름 방향에 대해 가습 디바이스의 상류에 배치되고, 추가 방울 분리 디바이스가 가습 디바이스의 하류에 배치되는 경우 선호될 수 있다.
조절 디바이스가 액체 취급 시스템을 포함하고, 액체 취급 시스템에 의해 냉각 디바이스 상에 형성하는 응축물, 및/또는 가습 디바이스에 의해 방출되는 가스 흐름에 의해 흡수되지 않은 액체가 수용가능하다는 것이 본 발명의 하나의 구성에 제공된다.
특히, 액체 취급 시스템이 바람직하게 냉각 디바이스 아래에, 가습 디바이스 아래에 및/또는 방울 분리 디바이스 아래에 배치되는 수집 트러프(trough)를 갖는 것이 제공될 수 있다. 액체 취급 시스템은 바람직하게 냉각 디바이스, 가습 디바이스 및/또는 방울 분리 디바이스를 위한 공통 수집 트러프를 포함하여, 가스 흐름에 의해 흡수되지 않고 조절 디바이스에서 축적되는 실질적으로 전체 액체가 공통 수집 트러프에서 수집가능하다.
가습 디바이스에 의해, 액체가 냉각 디바이스 상에 도포되도록, 특히 분무되도록 구성되는 경우 선호될 수 있다. 그 결과, 가스 흐름이 그 위에서 흐르는 냉각 디바이스의 표면은 습윤 효율을 증가시키기 위해 액체로 적셔질 수 있다. 이에 따라 냉각 디바이스는 상 인터페이스 제공자(phase interface provider)를 위한 추가물 또는 대체물로서 사용될 수 있다.
액체 상으로부터 진공 상으로의 요소 전이는 특히 습윤을 위해 상 인터페이스 제공자에 의해 용이하게 될 수 있다. 특히, 액체의 표면은 여기서 증가될 수 있다.
예를 들어, 상 인터페이스 제공자, 예를 들어 냉각 디바이스가 액체가 도포되는, 특히 그 위에 액체가 흐르도록 만들어지거나 분무되는 큰 표면을 갖는 니트 직물(knitted fabric), 예를 들어 와이어 니트 직물에 의해 형성되는 것이 제공될 수 있다. 대안적으로, 또는 이에 더하여, 액체 표면이 가스 흐름과 가능한 한 많이 접하게 하기 위해, 액체가 예를 들어 활성화된 탄소로 만들어진 충진 바디(filling body)에 도포되고, 특히 그 위에 흐르도록 만들어지거나 그 위에 분무되고, 동시에, 가스가 그를 통해 흐르도록 만들어지는 것이 제공될 수 있다.
더욱이, 상 인터페이스 제공자는, 가스 흐름에서의 방울들이 분리되는 장점을 제공할 수 있다. 그러므로, 상 인터페이스 제공자는 또한 방울 분리 디바이스로서 사용될 수 있다.
냉각 디바이스가 동시에 방울 분리 디바이스로서 사용되는 경우 유리할 수 있다.
더욱이, 냉각 디바이스가 조절 디바이스에서 가스 흐름을 균질화하기 위해 균질화 디바이스로서 사용되는 것이 제공될 수 있다. 이러한 유형의 균질화 디바이스는 또한 흐름 평형기(flow equaliser)로서 언급될 수 있다.
그러므로, 바람직하게, 상 인터페이스 제공자 및/또는 평형기의 기능들은 냉각 디바이스에 일체화된다.
이러한 유형의 조절 디바이스는, 가스 흐름이 조절 디바이스를 통해 흐를 때 발생된 압력 손실이 감소되는 장점을 제공할 수 있다.
더욱이, 이러한 유형의 조절 디바이스는 소형 구조를 가질 수 있어서, 공간 요건이 감소된다.
조절 디바이스의 구성요소들의 개수가 이에 의해 감소될 수 있다.
본 발명은 페인팅 설비를 동작하는 방법을 제공하는 추가 목적에 기초하며, 이것은 페인트 분진로 로딩된 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진의 신뢰성있는 분리를 허용한다.
이 목적은, 다음의 방법 단계들,
- 운반 디바이스에 의해 페인트 부스를 통해 운반 방향으로 소재들을 운반하고, 페인팅 부스에서의 소재들을 페인팅하는 단계;
- 페인팅 부스에서 흡수된 페인트 분진을 갖는 페인팅 설비의 페인팅 부스로부터 필터 시스템에 처리 가스 흐름을 공급하는 단계;
- 클린 가스 흐름이 얻어지도록, 필터 시스템의 적어도 하나의 필터 디바이스에 의해 분진 입자들로 로딩된 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리시키는 단계가
수행된다는 점에서 본 발명에 따라 달성된다.
본 발명에 따른 방법은 바람직하게 본 발명에 따른 페인팅 설비와 연계하여 전술한 특징들 및/또는 장점들을 갖는다.
클린 가스 흐름이 적어도 부분적으로 적어도 하나의 필터 디바이스의 외부 윤곽 내에 배치되는 적어도 하나의 클린 가스 라인에 의해 방출되는 경우 유리할 수 있다.
보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물이 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘에 의해, 특히 보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 기계적으로 처리하기 위한 처리 디바이스에 의해 분해되는 경우 유리할 수 있다.
처리 가스 흐름의 적어도 일부분이 적어도 필터 디바이스의 적어도 하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 도입되는 경우 선호될 수 있다.
더욱이, 분해된 보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 분해된 혼합물이 처리 가스 흐름에 의해 비말 동반(entrained)되어, 처리 가스 흐름의 처리 가스와 혼합되는 경우 선호될 수 있다.
특히, 보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 가지고 처리 가스 흐름으로부터 처리 가스를 로딩하는 것이 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너로의 처리 가스 흐름의 도입에 의해 미리 발생할 때, 보조 필터 물질을 소용돌이치기 위해 적어도 하나의 압축 공기 디바이스 또는 유사한 디바이스들에 의한 압축 공기 블라스트들(blasts)이 제거될 수 있다.
특히, 클린 가스 흐름이 페인팅 설비의 처리 가스 샤프트 아래를 통해 안내되는 것이 제공될 수 있다. 이에 따라 필터 시스템 내의 특히 유리한 가스 흐름 안내 및 필터 시스템의 컴팩트한 구성이 가능해진다.
더욱이, 본 발명은 페인팅 설비를 동작하는 방법에 관한 것으로, 다음의 방법 단계들,
- 운반 디바이스에 의해 페인팅 부스를 통해 운반 방향으로 소재들을 운반하고, 페인팅 부스에서 소재들을 페인팅하는, 운반 및 페인팅 단계와;
- 페인팅 부스에서 흡수된 페인팅 분진을 갖는, 페인팅 설비의 페인팅 부스로부터 필터 시스템으로 처리 가스 흐름을 공급하는 단계와;
- 클린 가스 흐름이 얻어지도록, 필터 시스템의 적어도 하나의 필터 디바이스에 의해 분진 입자들로 로딩된 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리하는 단계를 포함한다.
본 발명은, 이러한 관점에서, 페인트 분진이 페인트 분진로 로딩된 처리 가스 흐름으로부터 쉽게 분리될 수 있는 방법을 제공하는 목적에 기초한다.
이 목적은, 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입구 채널에 의해 적어도 하나의 필터 디바이스의 처리 가스 챔버로 안내되고, 보조 필터 물질이 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘에 의해 처리 가스 흐름에 공급된다는 점에서 본 발명에 따라 달성된다.
본 발명에 따른 방법은 바람직하게 본 발명에 따른 페인팅 설비 및/또는 전술한 방법과 연계하여 전술한 특징들 및/또는 장점들을 가질 수 있다.
특히, 보조 필터 물질이 보조 필터 물질 도입 메커니즘에 의해 소용돌이치고, 혼합되고, 운반되고 및/또는 연마된다.
더욱이, 본 발명에 따른 페인팅 설비들 및/또는 본 발명에 따른 방법들은 다음의 설명된 특징들 및/또는 장점들을 가질 수 있다:
페인팅 설비가 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘을 포함하고, 이러한 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 또한 소위 사전 코팅 물질로 언급되는 보조 필터 물질을 분진 입자들로 로딩된 처리 가스 흐름에 특정하게 공급하기 위한 분배 메커니즘으로서 구성되는 경우 유리할 수 있다.
페인팅 설비의 필터 시스템은 바람직하게 적어도 하나의 처리 가스 챔버로부터 적어도 하나의 필터 디바이스의 필터 요소에 의해 분리되는 적어도 하나의 클린 가스 챔버를 포함하고, 세척된 가스 흐름은 적어도 하나의 클린 가스 챔버에서 필터 디바이스의 필터 동작 동안 존재하고, 분진 입자들로 로딩된 가스 흐름은 처리 가스 챔버에 존재한다.
페인팅 설비는 바람직하게 적어도 하나의 가스 복귀 시스템, 예를 들어 순환 공기 가이드 디바이스를 갖고, 이에 의해 처리 가스 흐름을 세척함으로써 얻어진 클린 가스 흐름은 적어도 부분적으로 페인팅 부스에 다시 공급가능하다.
페인팅 설비는 바람직하게 적어도 하나의 클린 가스 라인을 포함하는데, 이러한 적어도 하나의 클린 가스 라인은 적어도 부분들에서, 적어도 하나의 필터 디바이스에 인접하게 배치되고 및/또는 적어도 부분들에서 실질적으로 수직으로 향하게 된다. 적어도 하나의 필터 디바이스에 인접한 클린 가스는 바람직하게 적어도 부분들에서, 적어도 하나의 클린 가스 라인에 의해 실질적으로 수직으로 아래로 안내될 수 있다.
더욱이, 페인팅 설비는 적어도 하나의 클린 가스 라인을 포함하고, 이것은 (처리 가스) 샤프트 아래를 통해 인도하므로, 페인팅 부스의 수직의 길이 방향 중심면에 대해, 하나의 면으로부터 이러한 면에 대항하는 면으로의 클린 가스 흐름의 안내를 허용하는 것이 제공될 수 있다.
유리하게, 처리 가스 흐름이 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 처리 가스 챔버로 수평에 대해 예각으로 안내될 수 있는데, 특히 흐르도록 이루어질 수 있다. 적어도 하나의, 특히 이동가능하게 구성된 가이드 요소(흐름 요소)가 페인팅 부스의 길이 방향 중심면 및/또는 필터 시스템(공기 세척 시스템의)의 길이 방향 중심면에 대해 비대칭적으로 처리 가스 샤프트에서의 처리 가스 흐름의 평균 흐름 방향을 편향하고, 이를 바람직하게 가속화 방식으로, 처리 가스 챔버에 공급하기 위해 제어 및/또는 통제될 수 있는 경우 본 명세서에서 유리할 수 있다. 특히, 처리 가스 샤프트의 상부 단부에서 처리 가스 샤프트의 입력 영역에서의 처리 가스 흐름의 평균 흐름 방향이 필터 디바이스의 입구 채널에서의 처리 가스 흐름의 평균 흐름 방향과 교차한다는 것이 제공될 수 있다. 더욱이 필터 디바이스의 입구 채널에서의 처리 가스 흐름의 평균 흐름 방향은 바람직하게 페인팅 부스의 수직의 길이 방향 중심면에 교차하게 이어진다.
필터 시스템의 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 처리 가스 챔버에서, 처리 가스 흐름 및/또는 처리 디바이스, 예를 들어 회전 혼합 유닛(패들 혼합기, 나사 혼합기)의 도움으로, 예를 들어 트러프로서 구성된 보조 물질 수용 컨테이너에 배치되는 보조 필터 물질이 소용돌이칠 수 있고, 처리 가스 흐름에 공급(계량)될 수 있는 경우 유리할 수 있다. 이에 따라 보조 필터 물질로 로딩된 처리 가스 흐름은 바람직하게 편향되고, 수직으로 위로 향하는 흐름 구성 요소와 함께 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소에 공급될 수 있다.
처리 가스 샤프트 아래를 통해 인도되는 클린 가스 라인이 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운바 방향에 실질적으로 교차하게 이어지고, 또한 가스 복귀 시스템의 구성 요소, 특히 순환 공기 안내 디바이스의 구성 요소인 클린 가스 수집 채널에 개방되고, 이로부터 클린 가스가 페인팅 부스에 공급하기 위해 제거될 수 있는 경우 유리할 수 있다.
예를 들어 혼합 유닛으로서 구성된 보조 필터 물질 도입 메커니즘은 바람직하게 적어도 하나의 처리 요소가 그 주위를 회전할 수 있는 실질적으로 수평으로 향하는 회전축을 갖고, 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운반 방향에 실질적으로 평행하게 향하는 방향으로 보조 필터 물질의 운반을 허용한다. 처리 가스 흐름의 공급이 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 회전축에 교차하게 이어지는, 특히 이에 실질적으로 수직인 방향으로 발생하고, 처리 가스 샤프트 아래를 통해 인도되는 클린 가스 라인이 또한 적어도 부분적으로 필터 디바이스 아래로, 특히 바로 밑으로 및/또는 보조 필터 물질 도입 메커니즘 아래로, 특히 바로 밑에 이어지는 것이 본 명세서에 제공될 수 있다.
페인팅 설비의 필터 시스템은 바람직하게 필터 모듈 내의 적어도 하나의 팬에 의한 압력 구축을 허용한다.
특히, 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 처리 디바이스로서 구성될 때, 보조 필터 물질 도입 메커니즘에 인접하게 배치된 출구가 적어도 하나의 처리 디바이스에 의해 필터 디바이스로부터 보조 필터 물질을 제거하도록 세척될 수 있어서, 이러한 출구가 막힐 수 없고, 특히 분진 입자들로 많이 로딩된 보조 필터 물질의 방출을 방지하지 않는다는 것이 처리 디바이스의 적어도 하나의 처리 요소에 의해 제공될 수 있다.
본 발명의 하나의 구성에서, 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 적어도 하나의 연마 볼 및/또는 적어도 하나의 연마 디바이스를 포함하고, 이들에 의해 특히, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 덩어리들이 붕괴될 수 있다는 것이 제공될 수 있다.
필터 디바이스로부터 보조 필터 물질을 제거하기 위한 필터 디바이스에서의 출구가 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 큰 덩어리들을 갖는 출구의 차단을 방지하기 위해 안전 디바이스, 예를 들어 십자가 형태로 배치된 바들을 구비하는 경우 유리할 수 있다.
본 발명의 하나의 구성에서, 적어도 하나의 처리 디바이스가 다양한 처리 요소들, 예를 들어 분해 요소들, 운반 요소들, 연마 요소들 및/또는 혼합 요소들을 포함하는 것이 제공된다.
특히, 적어도 하나의 처리 디바이스의 적어도 하나의 처리 요소가 적어도 5개의 면들에서 미리 결정된 부피를 둘러싸고, 보조 필터 물질이 처리 동작 동안 그 안에 수용될 수 있어서, 예를 들어 보조 필터 물질이 소용돌이칠 수 있는 처리 디바이스의 처리 동작 동안, 특정량의 보조 필터 물질은, 이러한 보조 필터 물질이 적어도 하나의 처리 요소로부터 다시 즉시 슬라이딩하지 않고도, 적어도 하나의 처리 요소에 의해 포착될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 처리 디바이스는 바람직하게 연마기, 연마 돌 및/또는 예를 들어 세라믹으로 형성된 연마 볼들을 포함한다.
처리 디바이스의 하나의 구성에서, 적어도 하나의 연마 볼이 고밀도 물질, 예를 들어 금속 물질, 특히 스틸로 만들어진 자유롭게 구르는 볼로서 구성되는 것이 제공된다.
적어도 하나의 처리 디바이스는 연마 돌들이 서로 마찰하는 연마기를 포함하는 경우 유리할 수 있다.
더욱이, 적어도 하나의 처리 디바이스가 회전 나사 컨베이어를 포함하는 경우 유리할 수 있다.
본 발명의 하나의 구성에서, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질의 중량 또는 질량, 또는 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 혼합물의 중량 또는 질량이 가중화 디바이스(weighting device)에 의해 결정되는 것이 제공될 수 있다.
이 경우에, 가중화 디바이스는, 특히 보조 필터 물질 수용 컨테이너의 상부 부분으로부터 기계적으로 결합 해제되는 보조 필터 물질 수용 컨테이너의 하부 부분에 결합될 수 있다.
더욱이, 보조 필터 물질 수용 컨테이너의 하부 부분 및 그 안에 포함된 물질의 중량 또는 질량이 바람직하게 가중화 디바이스에 의해 결정된다.
처리 가스 흐름을 세척하기 위해 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 포함된 물질의 유용성을 평가할 수 있기 위해, 보조 필터 물질 수용 컨테이너로부터의 물질이 적어도 하나의 소용돌위 단계에서 분해 및/또는 소용돌이치고, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 포함된 물질의 세척 용량 또는 효율이 소용돌이 단계 이전 및 소용돌이 단계 이후에 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 포함된 물질의 중량 또는 질량의 비교에 의해 결정되는 것이 제공될 수 있다. 특히, 소용돌이 단계 동안 필터 디바이스의 적어도 하나의 필터 요소에 접착하는 보조 필터 물질의 양은 그 위에 보호층을 형성하기 위해 이에 의해 결정될 수 있다.
효율(비 흡수 용량)은 보조 필터 물질이 필터 요소에 접착하고 페인트 분진을 결속할 수 있는 능력의 척도이다.
이러한 유형의 효율은 특히, 한 편으로 소용돌이침에 의해, 그리고 다른 한 편으로 순 소용돌이 시간에 의해 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 포함된 물질의 중량 또는 질량에서 감소의 몫으로서 결정될 수 있다.
유효성의 더 정확한 결정을 위해, 소용돌이 사이클이 소용돌이 중단들에 의해 서로 분리된 복수의 소용돌이 단계들로 수행되고, 각 경우에 소용돌이 사이클의 제 1 소용돌이 단계 이전 및 소용돌이 사이클의 마지막 소용돌이 단계 이후에 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 포함된 물질의 중량 또는 질량이 유효성을 결정하도록 비교되는 것이 제공될 수 있다. 이러한 유효성의 값이 더 커질수록, 적어도 하나의 필터 요소 상에 보호층을 형성하기 위해 보조 필터 물질 수용 컨테이너로부터의 물질은 더 적합해진다.
그러므로, 결정된 효율 및/또는 중량 또는 질량 차이가 미리 결정된 최소값 아래에 있을 때 보조 필터 물질 수용 컨테이너로부터 물질이 제거되는 경우 선호된다.
제거된 물질, 특히 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 혼합물은 바람직하게 페인트 분진로 로딩된 신선한 보조 필터 물질로 대체되지 않거나, 작은 정도로만 대체된다.
바람직한 구성에서, 가중 곡선의 진폭이 가중화 디바이스에 의해 결정되고, 상기 가중 곡선은 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 총 중량의 시간 경과를 나타내는 것이 제공될 수 있다.
예를 들어, 미리 결정된 한계 중량이 아래로 떨어지고 및/또는 초과될 때, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 적어도 일부분이 보조 필터 물질 수용 컨테이너로부터 제거되고, 분진 입자들로 로딩된 신선한 보조 필터 물질로 대체되지 않거나, 작은 정도로만 대체되는 것이 제공될 수 있다.
오랜 기간에 걸쳐 보조 필터 물질의 높은 효율 정도가 이에 따라 유지될 수 있다.
특히, 보조 필터 물질 도입 메커니즘에 의해, 연속적인 사전 코팅, 즉 적어도 하나의 필터 디바이스의 필터 동작 동안 보조 필터 물질의 처리 가스 흐름으로의 연속적인 도입이 실현될 수 있다.
보조 필터 물질의 혼합, 분해 및/또는 소용돌이를 위한 압축 공기 디바이스는 바람직하게 제거될 수 있다.
대안적인 실시예에서, 또는 전술한 보조 필터 물질 도입 메커니즘 외에도, 압축 공기 디바이스는 보조 필터 물질의 혼합, 분해 및/또는 소용돌이를 위해 제공될 수 있다.
저장 탱크(보조 필터 물질 수용 컨테이너)로부터의 처리 가스 흐름에 보조 필터 물질을 연속적으로 첨가하는 것이 바람직하게 발생한다. 이것은 필터 카트리지들(필터 요소들) 상에서 2개의 세척 프로세스들 사이의 (단기간) 연속적인 질량 손실을 발생시킨다. 중간 기간에서, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 질량에서의 증가는 보조 피터 물질 수용 컨테이너에서 발생되고, 또한 특정한 순간으로부터 다시 감소된다. 보조 필터 물질 수용 컨테이너에서의 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 질량은 바람직하게 이를 위해 연속적으로 감시된다. 특히, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에서의 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 질량의 전개는 기준값, 예를 들어 사용되지 않은 보조 필터 물질에 대한 기준 값, 즉 페인트 분진 입자들로 오염되지 않은 보조 필터 물질에 대한 기준값과 고정된 시간 간격들에서 비교된다.
바람직하게, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 혼합물이 유동화할 수 있는지의 여부가 결정될 수 있다. 이 목적을 위해, 예를 들어, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 존재하는 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 총 질량의 시간에 대한 전개가 결정될 수 있고, 기준값들과 비교될 수 있으며, 특히 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 혼합물이 유동화할 능력을 나타낼 수 있기 위해 세척 및 소용돌이 사이클 내에서 발생하는 보조 필터 물질 수용 컨테이너에서의 질량 변화를 검출할 수 있어야 한다. 이러한 유형의 사이클의 진행에서의 너무 낮은 질량차는, 필터 디바이스의 신뢰성있는 필터 동작에 필요한 보조 필터 물질의 양이 유동화할 수 없다는 것을 의미한다.
적어도 하나의 처리 디바이스에 의해, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 또는 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 분해된 상태로 유지될 수 있는데, 예를 들어 유동화될 수 있어서, 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 특히 쉽게 소용돌이칠 수 있고, 처리 가스 흐름에 공급될 수 있다.
더욱이, 보조 필터물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 적어도 하나의 처리 디바이스에 의해 특히, 연속적으로 배출될 수 있어서, 처리 가스 흐름에 의해 특히 쉽게 비말 동반(entrained)될 수 있으므로, 처리 가스 흐름에 의해 획득될 수 있다.
전기 모터는 예를 들어, 적어도 하나의 처리 디바이스를 구동하기 위해 제공될 수 있다. 적어도 하나의 처리 디바이스의 회전(처리) 요소의 회전 속도는 특히, 이러한 방식으로 특히 쉽게 제어 및/또는 통제될 수 있다.
특히 도입 용량은 적어도 하나의 처리 디바이스의 회전 속도(주파수)를 제어 및/또는 통제함으로써 영향을 받을 수 있다.
적어도 하나의 흐름 안내 디바이스 및/또는 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 입력 채널은 바람직하게, 처리 디바이스의 영역에서, 특히 처리 디바이스의 위에서 처리 가스 챔버에 안내된 처리 가스 흐름이 처리 가스 챔버에 흘러서, 처리 디바이스의 이미 작은 배출 높이가 보조 필터 물질을 처리 가스 흐름에 공급하는데 충분한데, 즉 심지어 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 물질이 작은 거리에 걸쳐 수직으로 위쪽으로 적어도 하나의 처리 디바이스에 의해 운반될 때, 보조 필터 물질 또는, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물이 처리 가스 흐름에 의해 획득될 수 있는 방식으로 배치된다.
특히 적어도 하나의 처리 디바이스가 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 물질(보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물)을 연마하는 연마 디바이스를 포함할 때, 분진 입자들 및 보조 필터 물질의 덩어리들은 특히 쉽게 분말화될 수 있어, 일정한 그레인 크기 분배가 보장될 수 있다.
대안적으로, 또는 이에 더하여, 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 음향 디바이스, 예를 들어 초음파 디바이스를 포함하며, 이에 의해 분진 입자들 및 보조 필터 물질의 혼합물이 사운드에 의해 작용될 수 있어서, 분진 입자들 및 보조 필터 물질의 덩어리들이 분쇄될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 처리 디바이스의 적어도 하나의 처리 요소는 바람직하게 연속적인 동작 동안 마모를 최소화하기 위해 금속 물질로 형성된다. 하지만, 대안으로서, 또는 이에 더하여, 또한 적어도 하나의 처리 디바이스의 적어도 하나의 처리 요소가 플라스틱 물질, 예를 들어 강화 섬유 플라스틱 물질, 및/또는 세라믹 물질을 포함하거나, 플라스틱 물질, 예를 들어 강화 섬유 플라스틱 물질 또는 세라믹 물질로 형성되는 것이 제공될 수 있다.
특히 비금속 물질들이 적어도 하나의 처리 디바이스의 처리 요소들을 위해 선택될 때, 더 높은 회전 속도들은 스파크 형성에 두려워할 필요 없이 달성될 수 있다.
적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘이 필터 디바이스에 고의가 아니게 흡입된 아이템들, 특히 금속 아이템들을 포획하기 위해 예를 들어, 거친 분리기로서, 특히 그리드로서, 자기 매트릭스 또는 콤(comb)으로서 구성된 안전 디바이스에 의해 제공되는 경우 유리할 수 있다. 특히 처리 디바이스는 그에 의하여 손상으로부터 보호될 수 있다.
특히, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 효율(비 흡수 용량)이 적어도 하나의 필터 디바이스의 필터 동작 동안에 감소될 때, 적어도 하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너의 부분적인 비워짐(partial emptying)이 수행되고, 매우 미세한 보조 필터 물질이 그 안에 공급되는 것이 제공될 수 있다. 예를 들어, 그레인 크기 분배를 갖는 보조 필터 물질이 공급되고, 이러한 그레인 크기 분배는 약 1㎛ 내지 약 10㎛의 중간값(D50)을 갖는데, 즉 입자들의 50%는 약 1㎛와 약 10㎛ 사이의 미리 결정된 값보다 더 크고, 입자들의 50%는 더 작다.
더욱이, 분진 입자들로 로딩되고 보조 필터 물질 수용 컨테이너로부터 방출된 보조 필터 물질이 저장될 수 있는 사일로로부터의 물질은 분진 입자들로 로딩되지 않은 신선한 보조 필터 물질과 혼합되고, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 다시 공급되는 것이 제공될 수 있다. 더욱이, 신선한 보조 필터 물질과 분진 입자들이 로딩된 보조 필터 물질의 혼합물은, 보조 필터 물질 수용 컨테이너에 공급되기 전에 처리되는데, 예를 들어 연마되는 것이 본 명세서에 제공될 수 있다.
적어도 하나의 필터 디바이스의 필터 영역이 추가 필터 요소들을 추가함으로써 확장될 수 있어서, 바람직하게 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운반 방향을 따라 연장하는 필터 디바이스들의 하나의 행이 제공되고, 페인팅 부스로부터 나오는 총 공기, 즉 총 처리 가스 흐름이 필터 디바이스들의 이러한 행에 공급되는 것이 본 발명에 따른 페인팅 설비 및/또는 본 발명에 따른 방법에 제공될 수 있다.
페인팅 설비는 바람직하게 "2개의 방들(storeys)로" 구성된 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널을 포함하며, 2개의 "방들"은 바람직하게 적어도 하나의 팬에 의해 서로 연결되고, 이러한 적어도 하나의 팬은 예를 들어, 축방향 팬으로서 구성되고, 2개의 "방들"을 분리시키는 중간 플로어에 배치된다.
클린 가스 수집 채널에서 수집된 공기(클린 가스)는 바람직하게 페인팅 설비의 단부 면으로의 페인팅 설비의 운반 디바이스의 운반 방향에 평행하게 안내되고, 페인팅 부스의 수문(sluice)의 영역에서 페인팅 설비의 플리넘(plenum)에 적어도 거의 수직으로 위쪽으로 안내된다. 클린 가스 수집 채널에 의해 수집된 클린 가스를 플리넘에 공급하기 위한 이러한 유형의 채널은 예를 들어, 4개 이상의 각각의 필터 디바이스들 뒤에 제공될 수 있다.
적어도 하나의 필터 디바이스는 바람직하게 적어도 하나의, 예를 들어 수직으로 현가된 필터 요소를 포함하는데, 이러한 필터 요소는 페인팅 부스 바로 밑에 페인팅 부스의 수직 돌출부 내에 배치되고, 필터 디바이스로부터 해체될 수 있다.
페인팅 설비는 예를 들어 적어도 하나의 필터 디바이스 위에, 특히 바로 위에 배치되는 적어도 하나의 압축 공기 탱크를 포함하는 것이 페인팅 설비의 하나의 구성에 제공된다.
클린 가스를 다양한 필터 디바이스들로부터 클린 가스 수집 채널로 공급하는 다양한 클린 가스 라인들이 상이한 조절 디바이스들을 구비하는 경우 유리할 수 있다. 따라서, 예를 들어, 적어도 하나의 필터 디바이스의 적어도 하나의 클린 가스 라인이 냉각 디바이스로서 구성된 조절 디바이스를 구비하고, 다른 필터 디바이스의 적어도 하나의 추가 클린 가스 라인이 제습 디바이스로서 구성된 조절 디바이스를 구비하는 것이 제공될 수 있다. 페인팅 부스에 공급될 가스 흐름의, 페인팅 설비를 동작하는페 필요한 열은 바람직하게 적어도 하나의 팬에 의해 상기 가스 흐름에 공급되는데, 즉 이러한 열은 바람직하게 적어도 하나의 팬의 압축 열로부터 나온다.
특히, 다양한 조절 디바이스들이 다양한 클린 가스 라인들에 제공될 때, 페인팅 부스에 공급될 가스 흐름의 필요한 온도 및/또는 공기 습도가 상이한 클린 가스 라인들로부터 나오는 상이하게 조절된 클린 가스 흐름들을 혼합함으로써 얻어지는 것이 제공될 수 있다.
적어도 하나의 필터 디바이스는 바람직하게 적어도 하나의 퓨넬(funnel)을 포함한다.
적어도 하나의 필터 디바이스는 유리하게 걸어서 들어가게 되도록 구성되는데, 즉 사람은 적어도 하나의 필터 디바이스의 내부에 들어갈 수 있다.
적어도 하나의 필터 디바이스에 보조 필터 물질(예를 들어 돌가루)이 공급될 수 있고 및/또는 보조 필터 물질이 필터 디바이스로부터 제거될 수 있는 경우 선호될 수 있다.
기본적으로, 2.5m 모듈은 필터 디바이스로서 제공될 수 있는데, 이것은 예를 들어 약 15,000 m3/h 내지 약 30,000 m3/h의 부피 흐름을 허용한다. 특히, 1,200 Pa의 압력에서, 예를 들어 약 22,000 m3/h의 부피 흐름이 신뢰성있고, 예를 들어 약 20,000 m3/h의 부피 흐름이 약 1,000 Pa에서 신뢰성있다는 것이 제공될 수 있다. 이것은 이전에 알려진 2m 모듈의 부피 흐름의 실질적으로 2배에 해당한다.
본 발명의 추가 특징들 및/또는 장점들은 다음의 설명 및 실시예들의 도면의 주제이다.
도 1은 페인팅 설비의 유지 보수 측의 시야로서, 페인팅 설비의 개략적인 사시도.
도 2는 페인팅 설비의 유지 보수 측에 대항하는 페인팅 설비의 후방 측의 시야로서, 도 1로부터의 페인팅 설비의 개략적인 사시도.
도 3은 도 1로부터의 페인팅 설비의 필터 시스템의 필터 모듈의 개략적인 사시도.
도 4는 도 1로부터의 페인팅 설비의 개략적인 횡단면도.
도 5는 도 1로부터의 페인팅 설비의 유지 보수 측의 개략적인 평면도.
도 6은 도 1로부터의 페인팅 설비의 필터 시스템의 필터 디바이스의 입구 채널의 개략적인 단면도.
도 7은 도 6으로부터의 입구 채널의 개략적인 사시도.
도 8은 도 1로부터의 페인팅 설비의 필터 시스템의 필터 디바이스의 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 개략적인 사시도.
도 9는 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 조립된 상태에서 페인팅 설비의 유지 보수 측을 향하는 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 측의 시야로서, 도 8로부터의 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 개략적인 측면도.
도 10은 도 9에서 라인 10-10을 따라 도 8로부터의 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 개략적인 횡단면도.
도 11은 도 10에 대응하며, 연마 플레이트들을 포함하는 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 대안적인 실시예의 단면도.
도 12는 도 10에 대응하며, 연마 볼들이 제공되는 보조 필터 물질 도입 메커니즘의 추가로 대안적인 실시예의 단면도.
도 13은 도 1로부터의 페인팅 설비의 조절 디바이스의 개략적인 단면도.
도 14는 도 4에 대응하며, 조절 디바이스가 팬의 하류에 배치되는, 페인팅 설비의 대안적인 실시예의 개략적인 횡단면도.
도 15는 도 14로부터의 페인팅 설비를 위에서 본 개략적인 평면도.
도 16은 도 15에 대응하며, 2개의 필터 디바이스들을 포함하는, 페인팅 설비의 추가로 대안적인 실시예를 위에서 본 개략적인 평면도.
도 17은 도 14에 대응하며, 클린 가스 채널이 처리 가스 샤프트를 교차하는, 페인팅 설비의 대안적인 실시예의 개략적인 횡단면도.
도 18은 도 15에 대응하며, 도 17로부터의 페인팅 설비의 개략적인 평면도.
도 19는 도 18에 대응하며, 3개의 필터 디바이스들을 포함하는, 페인팅 설비의 추가로 대안적인 실시예의 개략적인 평면도.
도 20은 페인팅 설비들의 다양한 실시예들의 기능 모드의 개략도.
동일하거나 기능적으로 동등한 요소들은 모든 도면들에서 동일한 도면 부호들을 갖는다.
전체적으로 100으로 표시되고 도 1 내지 도 10에 도시된 페인팅 설비는 소재들(104)이 예를 들어 유체 페인트, 특히 습윤 페인트로 페인팅가능한 페인팅 부스(102)와, 페인팅 부스(102)를 통해 안내된 공기 흐름이 세척될 수 있는 필터 시스템(106)을 포함한다.
페인팅 부스(102)는 운반 디바이스(108)를 포함하고, 이러한 운반 디바이스(108)에 의해 소재들(104), 예를 들어 차체들은 페인팅 부스(102)를 통해 운반 방향(110)으로 운반될 수 있다(특히 도 4를 참조).
페인팅 부스(102)에서의 소재들(104)의 페인팅 동안, 분진은 예를 들어, 페인팅 부스(102)를 통해 안내된 공기에 의해 흡수되므로 그것을 오염시키는 습윤 페인트, 습윤 페인트 분진을 이용할 때 발생된다.
그러므로, 분진이 페인팅 부스(102)를 통해 안내된 공기로부터 제거될 수 있는 필터 시스템(106)은 페인팅 설비(100)의 페인팅 부스(102) 바로 밑에 배치된다.
분진 입자들로 로딩되고 처리 가스 흐름으로서 페인팅 부스(102)를 통해 안내된 공기가 아래에 참조될 것이다.
처리 가스 흐름을 페인팅 부스(102)로부터 필터 시스템(106)에 공급할 수 있기 위해, 페인팅 부스(102)의 페인팅 부스 베이스(111)는 운반 방향(110)으로 연장하는 개구부(opening)(112)를 구비하고, 이 개구부(112)는 운반 방향(110)에 수직으로 연장하는 수평 방향에 대해 페인팅 부스 베이스(111)에 중심에 배치된다.
필터 시스템(106)의 실질적으로 입방 처리 가스 샤프트(114)는 개구부(112) 바로 밑에 배치된다.
필터 시스템(106)의 처리 가스 샤프트(114)는 운반 방향(110) 및 수직 방향으로 연장하고, 운반 방향(110)에 수평으로 그리고 수직으로 이어지는 방향에 대해 필터 시스템(106)에 실질적으로 중심에 배치된다.
처리 가스 샤프트(114)의 수직 방향으로의 상부 단부(116)는 페인팅 부스(102)의 개구부(112)를 향하고, 처리 가스 샤프트(114)의 유입 개구부(118)를 형성하고, 이러한 유입 개구부(118)를 통해 처리 가스 흐름은 처리 가스 샤프트(114)에 들어갈 수 있다.
수직 방향으로 하부 단부이고, 상부 단부(116)에 대항하여 배치되는 처리 가스 샤프트(114)의 단부(120)는 복수의 재생가능 필터 디바이스들(124)의 복수의 입구 채널들(122)에 접하여, 처리 가스 흐름은 처리 가스 샤프트(114)에 의해 필터 디바이스들(124)에 공급될 수 있다.
특히 도 4로부터 도출될 수 있듯이, 필터 시스템(106)은 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에 의해, 페인팅 부스(102)의 운반 디바이스(108)의 운반 방향(110)에 대해 좌측부(left-hand side)(128)와, 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에 대해 좌측부(128)에 대항하여 배치된 우측부(right-hand side)(130)로 분리될 수 있다.
필터 디바이스들(124)의 행이 필터 시스템(106)의 좌측부(128) 상에 배치되는데, 이러한 필터 디바이스들(124)의 행은 운반 방향(110)에서 잇달아 배치되고, 각 경우에, 처리 가스 샤프트(114)의 하부 단부(120)에 접하는 입구 채널(122)을 갖는다.
각 필터 디바이스들(124)은 본 명세서에서 실질적으로 입방체이고, 수평에 대해 바람직하게 적어도 약 80°의 각도로 경사진 한정 벽들(132)에 의해 형성되는 하우징(134)을 포함한다. 한정 벽들(132)은 처리 가스 챔버(136)를 한정한다.
각 필터 디바이스(124)의 하우징(134)은 필터 부분(138)과 퓨넬 부분(140)으로 분리될 수 있다.
필터 부분(138)은 실질적으로 입방체이고, 복수의 필터 요소들(142)을 수용하는데 사용된다.
필터 부분(138) 아래에 배치된 퓨넬 부분(140)은 실질적으로 삼각형의 단면을 갖고, 처리 가스 흐름을 필터 요소들(142)에 공급하고 처리 가스 흐름을 보조 필터 물질로 보강하는데 사용된다.
필터 요소들(142)에 의해 처리 가스 챔버(136)로부터 분리되는 클린 가스 챔버(142)는 필터 디바이스(124)의 필터 요소들(142) 위에 배치된다.
더욱이, 필터 디바이스(124)는 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)를 포함하고, 이러한 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)는 퓨넬 부분(140)의 하부 단부에 배치되고, 보조 필터 물질을 수용하는데 사용된다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치되고, 이러한 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)에 의해 보조 필터 물질은 입구 채널(122)을 통해 흐르는 처리 가스 흐름에 도입될 수 있다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 예를 들어, 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 기계적 처리를 위한 처리 디바이스(150)로서 구성된다.
보조 필터 물질은 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)에 의해 처리 가스 챔버(136)에서 소용돌이칠 수 있고, 필터 요소들(142) 상에 증착될 수 있으며, 이를 통해 보호층은 필터 요소들(142) 상에 형성된다.
필터 요소들(142)로부터 보조 필터 물질의 보호층을 제거하기 위해, 압축 공기 디바이스(152)가 클린 가스 챔버(144)에 제공되고, 이 디바이스에 의해 압축 공기는 필터 요소들(142)에 공급될 수 있다.
압축 공기는 이 경우에, 압축 공기 디바이스(152)에 의해 필터 디바이스(124)의 필터 동작에서 세척될 가스의 흐름 방향에 반대인 방향으로 필터 요소들(142)에 공급될 수 있어서, 보조 필터 물질의 보호층은 압축 공기 디바이스(152)에 의해 필터 요소들(142)로부터 특히 쉽게 제거될 수 있다.
특히, 신선한 보조 필터 물질을 필터 디바이스(124)의 퓨넬 부분(140)에 공급할 수 있도록, 공급 디바이스(154)는 필터 디바이스(124)의 퓨넬 부분(140)의 영역에 제공된다.
처리 가스흐름이 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)에 공급될 수 있는 입구 채널(122)은 흐름 안내 디바이스(156)를 구비하고, 이러한 흐름 안내 디바이스(156)는 적어도 하나의 흐름 요소(158)를 갖고, 필터 디바이스(124)의 입구 채널(122)을 통해 안내된 처리 가스 흐름의 흐름 방향 및/또는 흐름 속도에 영향을 미치는데 사용된다.
더욱이, 추가 흐름 안내 디바이스(156)가 처리 가스 챔버(136)에 제공되는데, 이러한 추가 흐름 안내 디바이스(156)는 가이드 플레이트로서 구성된 흐름 요소(158a)와 복수의, 예를 들어 4개의 로드-형태의 흐름 요소들(158b)를 포함하며(도 4 참조), 이들은 난류 형성, 및 필터 요소들(142)로의 처리 가스 흐름의 특정한 공급에 사용된다.
필터 디바이스들(124)에 의해 처리 가스 흐름을 세척함으로써, 클린 가스 흐름이 얻어질 수 있고, 이러한 클린 가스 흐름은 먼저 클린 가스 챔버(144)를 통해 흐른다.
클린 가스 라인(160)은 클린 가스 챔버(144)에 접하고, 이러한 클린 가스 라인(160)에 의해필터 디바이스(124)에 인접하는 클린 가스 챔버(144)로부터의 클린 가스 흐름은 수직으로 아래로 안내될 수 있다. 기본적으로, 개별적인 클린 가스 라인(160)은 각 필터 디바이스(124)에 대해 제공될 수 있다. 하지만, 세척된 가스 흐름이 공통 클린 가스 라인(160)에 의해 2개의 필터 디바이스들(124)로부터, 특히 2개의 필터 디바이스들(124) 사이에서 방출되는 경우 유리할 수 있다.
이러한 목적을 위해, 클린 가스 라인(160)은 한정 벽들(162)을 포함하는데, 이러한 한정 벽들(162)은 필터 디바이스(124)의 한정 벽들(132)과 실질적으로 정렬되고, 이것은 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에 적어도 거의 평행하게 이어진다. 그러므로, 클린 가스 라인(160)은 이러한 부분에서 운반 방향(110)에 수직으로 그리고 수평 방향으로 필터 디바이스(124)를 지나 돌출하지 않으므로, 필터 디바이스(124)의 외부 윤곽(163) 내에 배치된다.
특히, 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에서 멀리 떨어진 필터 디바이스(124)의 외부 한정 벽(164)은 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에서 멀리 떨어진 클린 가스 라인(160)의 외부 한정 벽(166)과 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에서 적어도 정확히 동일한 정도로 이격되게 배치되는 것이 제공된다.
페인팅 부스(102)의 길이 방향 중심면(126)을 향하는, 필터 디바이스(124) 또는 클린 가스 라인(160)의 한정 벽들(132, 162)은 바람직하게, 처리 가스 샤프트(114)의 실질적으로 레벨 한정 벽(168)이 이들 한정 벽들(132, 162)에 의해 형성되는 방식으로 서로 정렬된다.
클린 가스 라인(160)은 클린 가스 챔버(144)로부터 필터 디바이스(124)의 퓨넬 부분(140) 아래로 연장하고, 그로부터 처리 가스 샤프트(144) 아래의 수평 방향으로 운반 방향(110)에 실질적으로 수직으로 필터 시스템(106)의 좌측부(128)에 대항하는 필터 시스템(106)의 우측부(130)로 진행한다.
클린 가스 라인(160)이 개방하는 클린 가스 수집 채널(170)은 필터 시스템(106)의 이러한 우측부(130) 상에 배치된다.
예를 들어, 가열 디바이스, 냉각 디바이스, 가습 디바이스 및/또는 제습 디바이스로서 구성되는 적어도 하나의 조절 디바이스(172)는 클린 가스 라인(160)에 안내된 클린 가스 흐름을 조절하기 위해 클린 가스 라인(160)에 제공될 수 있다.
안전 필터(174)는 클린 가스 흐름의 흐름 방향에 대해 조절 디바이스(172)의 앞에, 즉 상류에 배치되고, 이러한 안전 필터(174)는 필터 디바이스(124)의 필터 요소(142)에 대한 원하지 않는 손상의 경우에, 조절 디바이스(172)에 도달하여, 이를 손상시키는 보조 필터물질을 방지할 수 있다.
조절 디바이스(172)에 의해 조절된 클린 가스 흐름은 클린 가스 수집 채널(170)의 마우스 영역(mouth region)(176)에 공급되고, 다양한 필터 디바이스들(124)의 복수의 클린 가스 라인들(160)이 이로 개방된다.
마우스 영역(176)으로부터 떨어져 있는 클린 가스 수집 채널(170)은 방출 영역(178)을 포함하고, 이러한 방출 영역(178)에 의해 세척되고 조절된 가스 흐름은 페인팅 부스(102)에서 재사용하기 위해 필터 시스템(106)으로부터 방출될 수 있다.
그러므로, 클린 가스 수집 채널(170)은 2개의 부분들로 분리되고, 마우스 영역(176)은 방출 영역(178) 바로 밑에 배치되고, 방출 영역(178)으로부터 수평면을 따라 연장하는 분할 벽(180)에 의해 분리된다.
복수의 팬들(182)이 분할 벽(180)에 배치되고, 이들 복수의 팬들(182)에 의해 클린 가스는 마우스 영역(176)으로부터 클린 가스 수집 채널(170)의 방출 영역(178)으로 이동될 수 있으므로, 또한 전체적으로 페인팅 설비(100)에서 클린 가스 흐름 및/또는 처리 가스 흐름을 인도한다.
특히 도 3으로부터 도출될 수 있듯이, 필터 디바이스(124), 클린 가스 라인(160), 클린 가스 수집 채널(170)의 부분, 조절 디바이스(172), 안전 필터(174), 및 처리 가스 샤프트(140)의 부분이 함께 필터 모듈(184)을 형성하는 것이 제공될 수 있다.
필터 모듈(184)은 이 경우에, 특히 사전 조립된 유닛인데, 이러한 사전 조립된 유닛은 페인팅 설비(100)의 건조물 사이트(erection site)로부터 개별적으로 조립될 수 있고, 페인팅 설비(100)를 완성하기 위해 다른 구성요소들, 특히 추가의, 특히 동일하게 형성된 필터 모듈들(184)에 연결될 수 있어야만 한다.
특히 도 6 및 도 7로부터 도출될 수 있듯이, 필터 디바이스(124)의 입구 채널(122)의 영역에서 흐름 안내 디바이스(156)는 예를 들어, 3개의 흐름 요소들(158c)을 포함하며, 처리 가스 샤프트(114)에 의해 처리 가스 챔버(136)에 공급될 처리 가스 흐름의 방향 및/또는 속도가 이들 3개의 흐름 요소들(158c)에 의해 제어 및/또는 통제될 수 있다.
흐름 요소들(158c)은 이 목적을 위해, 수평 및/또는 수직 방향으로 이동할 수 있고, 및/또는 회전축(186) 주위를 회전할 수 있다.
도 6 및 도 7에 도시된 흐름 안내 디바이스(156)의 실시예에서, 흐름 요소들(158c)은 입구 채널(122)의 영역에서, 가이드 플레이트들(188)로서 구성되고, 입구 채널(122)의 한정 벽들(190)을 형성한다.
이에 따라 입구 채널(122)의 단면은 특히, 서로에 대한 흐름 요소들(158c)의 이동에 의해 변할 수 있어서, 입구 채널(122)을 통해 안내된 처리 가스 흐름의 속도가 특히 조정될 수 있다.
더욱이, 어떤 지점에서 처리 가스 흐름이 처리 가스 챔버(136)에 안내되는지, 그리고 가스 흐름이 필터 디바이스(124)의 퓨넬 부분(140)에 얼마나 깊이 들어가는지에 관해 흐름 요소들(158c)에 의해 조정이 이루어질 수 있다. 이에 따라, 또한 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)로부터의 보조 필터 물질이 처리 가스 흐름에 의해 어느 정도 소용돌이치는지 그리고 처리 가스 흐름에 의해 어느 정도 비말 동반되는지에 대해 조정될 수 있다.
흐름 요소들(158c)이 서로 및/또는 입구 채널(122)의 추가 한정 벽들(190) 및/또는 필터 디바이스(124)의 한정 벽들(132) 및/또는 처리 가스 샤프트(114)의 한정 벽들(168)로 수용하는 각도를 변화시킴으로써, 흐름 요소들(158c)을 따라 필터 디바이스(124)의 필터 동작 동안 복귀 흐름들의 전개는 방지되거나 촉진될 수 있다.
복귀 흐름들은, 적어도 이러한 흐름 요소(158c)가 분진 입자들로 오염되는 것을 방지하기 위해 흐름 요소들(158c) 중 적어도 하나 상에 보조 필터 물질을 중단 에지(break-off edge)까지 축적하는데 사용될 수 있다. 다른 한 편으로, 복귀 흐름을 방지하는 것은 필터 디바이스(124)의 유지 보수 동작 동안 선호될 수 있는데, 이는 그 결과, 접착하는 보조 필터 물질의 자동 세척이 수동 세척을 수행할 필요 없이 발생할 수 있기 때문이다.
가변 흐름 요소(158c)를 형성하는 적어도 하나의 흐름 요소(158c)의 위치 및/또는 방향에서의 변화는 예를 들어, 드라이브 디바이스(미도시)에 의해, 예를 들어 전기 모터에 의해 발생할 수 있다. 더욱이, 적어도 하나의 흐름 요소(158c)가 예를 들어, 모터에 의해 길어지고 및/또는 짧아질 수 있는 것이 제공될 수 있다.
가이드 플레이트들(188)로서 구성된 흐름 요소들(158c) 중 적어도 하나는 바람직하게, 필터 디바이스(124)의 입구 채널(122)이 선택적으로 완전히 차단될 수 있는 방식으로 구성된다. 이러한 방식으로, 특히 처리 가스 샤프트(114)로의 그리고 페인팅 부스(102)로의 보조 필터 물질의 복귀 흐름이 특히 방지될 수 있다.
더욱이, 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)로의 세정제들 및/또는 다른 유체들의 원하지 않는 침투가 이에 따라 방지될 수 있고, 이것은 예를 들어, 페인팅 부스(102)의 습윤 세척 동작 동안, 또는 화재의 경우에 개시되는 스프링클러의 경우에 유리할 수 있다.
특히, 적어도 하나의 흐름 요소(158)의 수평 변위는 바람직하게 필터 디바이스(124)의 나머지 구성요소들과 독립적으로 수행된다.
이러한 방식으로, 예를 들어 필터 디바이스(124)의 퓨넬 부분(140)에 대해 오프셋되어 배치된 흐름 요소(158)에 의해, 처리 가스 흐름이 필터 디바이스(124)의 퓨넬 부분(140)의 한정 벽(132)을 따라 흐르지 않고, 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)의 중심으로 직접, 특히 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 중심으로 직접 흘러서, 특히 많은 양의 보조 필터 물질이 수용되고, 필터 디바이스(124)의 필터 요소들(142)에 운송될 수 있다는 것이 초래될 수 있다.
도 8은 페인팅 설비(100)의 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146) 및 그 안에 배치된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 확대된 사시도를 도시한다.
도 9 및 도 10으로부터 도출될 수 있듯이, 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 샤프트(194)를 포함하는데, 이러한 샤프트(194)는 예를 들어 전기 모터를 포함하는 구동 디바이스(192)에 의해 회전가능하고, 페인팅 설비(100)의 운반 디바이스(108)의 운반 방향(110)에 실질적으로 평행하게 연장하고, 또한 페인팅 설비(100)의 운반 디바이스(108)의 운반 방향(110)에 평행하게 향하는 회전축(196) 주위를 회전할 수 있다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 샤프트(194)의 회전 속도는 제어 디바이스(198)에 의해 본 명세서에서 제어 및/또는 통제된다.
예를 들어 패들들(202)로서 구성되는 다수의 처리 요소들(200)은 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 샤프트(194) 상에 배치되어, 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 패들 혼합기(204)라 지칭될 수 있다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 기계적 처리를 위한 처리 디바이스(150)이다.
처리 디바이스(150)는 본 명세서에서 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146) 내에서 보조 필터 물질을 운반하는데 사용된다. 그러므로, 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)은 운반 요소들(206)이다.
더욱이, 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)은 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 소용돌이치는데 사용되어, 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)은 분해 요소들(208)을 형성한다.
마지막으로, 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)은 또한 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 혼합하는데 사용되어, 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)은 또한 혼합 요소들(210)을 형성한다.
기본적으로, 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)은 작업에 따라 상이한 형태들을 가질 수 있다.
하지만, 처리 요소들(200)의 실질적으로 균일한 형태는 도 8 내지 도 10에 도시된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 실시예에 제공된다.
보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 회전축(196)에 대해 처리 디바이스(212)에서의 처리 요소들(200)의 방향만이 모든 처리 요소들(200)에 대해 일정하지 않다. 오히려, 처리 영역들(212)에서의 처리 요소들(200)은, 회전축(196) 주위의 샤프트(194)의 회전에 의해, 이에 따라 처리 요소들(200)의 회전에 의해, 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물이 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146) 상의 실질적으로 중심에 배치된 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)의 출구(214)에 운반될 수 있는 방식으로 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 회전축(196)에 대해 회전되도록 배치된다.
보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)의 출구(214)에 의해 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)로부터 제거될 수 있다. 이것은, 특히 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물에 의해 분진의 어떤 양이 흡수될 수 있는지에 대한 척도인 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 비 흡수 용량이 필터 디바이스(124)의 신뢰성있는 필터 동작에 대해 더 이상 충분하지 않을 때 발생한다.
보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 방출할 때, 예를 들어 덩어리 형성으로 인해, 출구(214)의 차단을 방지하기 위해, 출구(214)는 안전 디바이스(216)를 구비하고, 이러한 안전 디바이스(216)는 예를 들어 십자가 형태로 배치된 2개의 바들(218)에 의해 형성된다. 안전 디바이스(216)는 특히, 보조 필터 물질 및 페인트 분진의 과도하게 큰 덩어리들이 출구(214)에 도달하고 이 출구(214)를 막는 것을 방지한다.
특히 도 10으로부터 도출될 수 있듯이, 더욱이 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)는 압축 공기 연결부(220)를 포함하는데, 이러한 압축 공기 연결부(220)에 의해 압축 공기는 출구(214)에 공급될 수 있다. 한 편으로, 이것은 출구(214)에서의 방해물을 제거하는데 사용될 수 있고, 다른 한 편으로, 출구(214)에 의해 방출될 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 인도하는데 사용될 수 있다.
전술한 페인팅 설비(100)는 다음과 같은 기능을 한다:
페인팅 설비(100)의 페인팅 부스(102)에서, 소재(104)는 운반 방향(110)으로 운반 디바이스(108)에 의해 운반되고, 페인팅 로봇(미도시)에 의해 페인팅된다.
페인팅 부스(102)를 통해 안내된 공기 흐름은 이를 통해 분진로 로딩되고, 처리 가스 샤프트(114)에 의해 처리 가스 흐름으로서 분진을 함께 필터 시스템(106)에 공급된다. 처리 가스 샤프트(114)는 처리 가스 흐름을 필터 디바이스들(124)에 안내한다.
처리 가스 흐름은 입구 채널들(122)에 의해 필터 디바이스들(124)의 처리 가스 챔버들(136)에 걸쳐 분배된다.
필터 디바이스들(124)의 흐름 안내 디바이스들(156)은 처리 가스 챔버들(136)로의 처리 가스 흐름의 특정한 공급, 보조 필터 물질 수용 컨테이너들(146) 및 그 안에 배치된 보조 필터 물질 도입 메커니즘들(148)로의 처리 가스 흐름의 특정한 공급에 사용되며, 이것은 특히 조정가능 흐름 요소들(158)에 의해 발생한다.
그 결과, 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)로부터의 보조 필터 물질은 소용돌이치고, 처리 가스 흐름에 의해 획득될 수 있다.
처리 가스 흐름에 존재하는 분진 입자들은 보조 필터 물질의 입자들 상에서 처리 가스 챔버(136)를 통해 흐르는 동안 미리 축적된다. 보조 필터 물질 입자들 상에 아직 축적되지 않은 이들 덩어리들 및 분진 입자들은 필터 디바이스들(124)의 필터 요소들(142)에 공급되고, 보조 필터 물질로부터 형성된 보호층 상에 증착된다.
이에 따라 분진 입자들을 갖지 않는 처리 가스 흐름은 클린 가스 라인(160)에 의해 클린 가스로서 클린 가스 챔버(144)로부터 클린 가스 수집 채널(170)로 안내되고, 이 경우에, 조절 디바이스(172)에 의해 조절되고, 예를 들어 가열되고, 냉각되고, 가습되고 및/또는 제습된다.
다양한 필터 디바이스들(124)로부터의 클린 가스 흐름들은 클린 가스 수집 채널(170)의 마우스 영역(176)에서 미리 혼합된다.
클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180)에서의 팬들(182)에 의해, 클린 가스는 클린 가스 수집 채널(170)의 방출 영역(178)에 공급되고, 그런 후에 순환 공기 안내 디바이스(미도시)에 의해 페인팅 설비(100)의 페인팅 부스(102)에 다시 공급된다.
특히, 가스 흐름이 페인팅 부스(102)를 통해 반복적으로 안내되는 이러한 유형의 순환 공기 동작 동안, 처리 가스 챔버(136)로의 처리 가스의 공급은 필터 디바이스들(124)에서의 처리 가스 흐름을 처리 가스 샤프트(114)에서의 처리 가스 흐름의 순간 부피 흐름에 적응시키기 위해 흐름 안내 디바이스(156)에 의해 영향을 받을 수 있다.
적어도 하나의 가변 흐름 요소(158)는 특히 이러한 목적을 위해 적응된다.
특히, 적어도 하나의 가변 흐름 요소(158)가 회전축(186) 주위를 회전하도록 구성되고, 질량을 가져, 입구 채널(122)을 통해 안내된 처리 가스 흐름이 예를 들어, 흐름 요소(158)가 수직으로 향하는 휴지 위치(rest position)로부터의 흐름 요소(158)를 편향시킬 수 있게 하는 경우 유리할 수 있다.
흐름 요소(158)는 입구 채널(122)을 통해 흐르는 동안 처리 가스 흐름에 의해 자동으로 이동되어, 입구 채널(122)의 단면은 개별적인 제어 없이도, 처리 가스 흐름의 현재 우세한 부피 흐름에 자동으로 적응된다.
그 결과, 특히 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)로부터의 보조 필터 물질의 유리한 소용돌이치는 것과, 처리 가스 챔버(136)를 통한 유리한 흐름은 처리 가스 흐름으로부터 분진 입자들의 신뢰성있는 분리를 위해 달성될 수 있다.
보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 샤프트(194)에 의해 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)을 회전축(196) 주위에 회전시킴으로써 처리 디바이스(150)로서 구성된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)에 의해 혼합되고 소용돌이칠 수 있고, 동시에 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)의 출구(214)로 운반된다.
보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 배치된 보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 혼합함으로써, 처리 가스 흐름에 공급된 보조 필터 물질의 일정한 품질, 특히 일정한 비 흡수 용량이 보장될 수 있다.
보조 필터물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 소용돌이침으로써, 보조 필터 물질의 적절한 양이 항상 처리 가스 흐름에 공급되는 것이 보장될 수 있다.
보조 필터 물질, 또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물을 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 운반함으로써, 분진 입자들로 과도하게 오염된 보조 필터 물질은 출구(214)에 특히 용이하게 공급될 수 있고, 이러한 출구(214)에 의해 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)로부터 제거될 수 있다.
특히, 보조 필터 물질이 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)로부터 제거되었을 때, 분진 입자들로 로딩된 신선한 보조 필터 물질이 공급 디바이스(154)에 의해 필터 디바이스(124)에 공급되고, 그래서, 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 공급되는 것이 구현될 수 있다.
도 11에 도시된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(114)의 대안적인 실시예는, 운반 요소들(206), 분해 요소들(208) 및 동시에 혼합 요소들(210)을 형성하는 처리 요소들(200) 외에도, 연마 플레이트들(222)이 제공되고, 이러한 연마 플레이트들(222)에 의해 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 덩어리들이 붕괴되어, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 평균 그레인 크기가 감소될 수 있다는 점에서 실질적으로 도 1 내지 도 10에 도시된 실시예와 다르다.
연마 플레이트(222)는 예를 들어 샤프트(194) 상에 편심으로 장착된 디스크이다.
처리 디바이스(150)의 추가 처리 요소들(200)로서 연마 플레이트들(222)을 사용함으로써, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 필터 디바이스(124)의 필터 동작을 위해 장시간 기간에 걸쳐 사용될 수 있다.
다른 경우에, 도 11에 도시된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 실시예는 도 1 내지 도 10에 도시된 실시예들의 구조 및 기능에 대해 일치하여, 이러한 정도로, 상기 설명이 참조될 수 있다.
도 12에 도시된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 추가 대안은, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 덩어리들을 분쇄하기 위해, 연마 플레이트들(222)뿐 아니라, 샤프트(194)에 연결되지 않은 연마 볼들(224)이 제공된다는 점에서 도 11에 도시된 실시예와 다르다. 이들 연마 볼들(224)은 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에서 샤프트(194)의 회전축(196) 주위에서 처리 디바이스(150)의 처리 요소들(200)의 회전에 의해 앞뒤로 이동되어, 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 기계적 처리의 원하는 효과가 연마 볼들(224)의 마모 작용에 의해 발생된다.
다른 경우에, 도 12에 도시된 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 실시예는 도 1 내지 도 10에 도시된 실시예들의 구조 및 기능에 대해 일치하여, 이러한 정도로, 상기 설명이 참조된다.
도 13에 도시된 조절 디바이스(172)의 실시예는 냉각 디바이스(230)와, 2개의 방울-분리 디바이스들(232)과, 가습 디바이스(234)를 포함한다.
냉각 디바이스(230), 하나의 방울-분리 디바이스(232), 가습 디바이스(234) 및 추가 방울-분리 디바이스(232)는 조절 디바이스(172)의 관통-흐름 방향(240)에 대해 잇달아 배치된다.
수집 트러프(236)는 중력 방향(238)에 대해 냉각 디바이스(230), 방울-분리 디바이스(232) 및 가습 디바이스(234) 바로 밑에 배치된다.
냉각 디바이스(230)에서 조절 디바이스(172)의 동작 동안 축적된 응축물, 방울 분리 디바이스(232)에 의해 분리된 액체 방울들, 및 가습 디바이스(234)로부터 방출되지만 가스 흐름에 의해 흡수되지 않은 액체는 수집 트러프(236)에 의해 수집될 수 있다.
그러므로, 수집 트러프(236)는 조절 디바이스(172)의 모든 조절 요소들을 위한 공통 수집 트러프(236)이다.
그러므로, 조절 디바이스(172)는 조절 디바이스(172)의 동작 동안 축적되거나 사용된 액체들을 취급하기 위한 공통 액체 취급 시스템(242)을 포함하며, 이러한 시스템은 수집 트러프(236)를 포함한다.
도 13에 도시된 조절 디바이스(172)는 다음과 같은 기능을 한다:
가스 흐름이 트러프-흐름 방향(240)으로 조절 디바이스(172)를 통해 흐를 때, 가스 흐름은 냉각 디바이스(230)에 의해 냉각된다. 응축물이 여기에 형성할 수 있고, 이 응축물은 수집 트러프(236) 안으로 아래로 냉각 디바이스(230)를 따라 중력 방향(238)으로 흐른다.
냉각 디바이스(230)에 의해 냉각된 가스 흐름은 그런 후에 가스 흐름에 위치된 방울들을 분리시킬 수 있기 위해 제 1 방울-분리 디바이스(232)를 통해 안내된다.
중력 방향(238)으로 수집 트러프(236) 안으로 아래로 흐르는 액체는 또한 여기서 수집된다.
가스 흐름은 제 1 방울-분리 디바이스(232)의 하류에서 관통-흐름 방향(240)으로 배치된 가습 디바이스(234)에 의해 습해진다. 예를 들어, 액체는 가스 흐름에 분무된다. 가스 흐름에 의해 흡수되지 않은 액체는 수집 트러프(236)에서 또한 수집된다.
관통-흐름 방향(240)에 대해 가습 디바이스(234)의 하류에 배치된 추가 방울-분리 디바이스(232)는 가스 흐름으로부터 방울들을 분리시키기 위해 다시 사용된다. 중력 방향(238)으로 수집 트러프(236) 안으로 아래로 흐르는 액체 방울들은 또한 조절 디바이스(172)의 동작 동안 이러한 방울-분리 디바이스(232) 상에서 수집된다.
그러므로, 조절 디바이스(172)의 동작 동안 축적되거나 사용된 총 액체는 수집 트러프(236)에 의해 수집될 수 있다. 그러므로, 이러한 수집 트러프(236)는 조절 디바이스(272)의 공통 액체 취급 시스템(242)의 구성성분을 형성한다.
조절 디바이스(172)의 추가 실시예(미도시)에서, 가습 디바이스(234)는 냉각 디바이스(230)의 하류에 직접 배치된다. 냉각 디바이스(230)는 또한 가습 디바이스(234)에 의해 여기서 액체로 적셔질 수 있다. 그 결과, 조절 디바이스(172)의 효율은 조절 디바이스(172)를 통해 안내된 가스 흐름의 가습 동안 증가될 수 있다.
조절 디바이스들(172)의 전술한 실시예들은, 특히 페인팅 설비(100), 특히 페인팅 설비(100)의 필터 시스템(106), 예를 들어 필터 시스템(106)의 필터 모듈(184)에 사용하는데 적합하다.
도 14 및 도 15에 도시된 페인팅 설비(100)의 대안적인 실시예는, 조절 디바이스(172)가 클린 가스 흐름의 흐름 방향에 대해 팬(182)의 하류에 배치된다는 점에서 실질적으로 도 1 내지 도 13에 도시된 실시예와 다르다.
조절 디바이스(172)는 특히, 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 위에 배치된다.
도 14 및 도 15에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예의 필터 시스템(106)은 바람직하게 페이팅 설비(100)가 그 위에 배치되는 베이스(244)로부터, 필터 시스템(106)으로부터 페인팅 부스(102)를 분리시키는 그리드 평면(246)까지의 높이(H)를 갖고, 이러한 높이(H)는 약 6m이다. 필터 시스템(106)의 폭(B)은 바람직하게 약 5m이다.
특히 도 15로부터 도출될 수 있듯이, 필터 시스템(106)이 4개의 필터 디바이스들(124)을 포함한다는 것이 도 14 및 도 15에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예에 제공된다.
개별적인 필터 디바이스들(124)의 클린 가스 라인들(160)은 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 바로 밑에 클린 가스 수집 채널(170)로 개방되고, 팬(182)에 의해 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 위의 영역으로 안내된다. 이 목적을 위해, 팬(182)은 구동부(249)에 의해 구동가능한 임펠러(247)를 포함한다.
팬(182)의 임펠러(247)의 회전축은 페인팅 부스(102)의 길이 방향 및/또는 운반 방향(110)에 실질적으로 수평으로 그리고 횡방향으로, 바람직하게 실질적으로 수직으로 향할 수 있다.
임펠러(247)의 구동부(249)는 팬(182)에 나란히 측면으로, 특히 임펠러(247)에 나란히 측면으로, 페인팅 부스(102)의 길이 방향 및/또는 운반 방향(110)에 수직으로 향하는 횡방향으로 배치될 수 있다.
임펠러(247)의 구동부(249)는 페인팅 부스(102)의 베이스 영역 외부에, 또는 페인팅 부스(102)의 베이스 면의 수직 돌출부 외부에 적어도 부분적으로, 바람직하게 실질적으로 완전히 배치될 수 있다.
하지만, 팬(182)의 임펠러(247)의 회전축은 또한 페인팅 부스(102)의 길이 방향 및/또는 운반 방향(110)에 상이하게, 예를 들어 실질적으로 수평으로 그리고 실질적으로 평행하게 향할 수 있다. 더욱이, 임펠러(247)의 회전축은 또한 실질적으로 수직으로 향할 수 있다.
임펠러(247)의 구동부(249)는 팬(182) 앞 또는 뒤에서 페인팅 부스(102)의 길이 방향 및/또는 운반 방향(110)으로 배치될 수 있다.
임펠러(247)의 구동부(249)는 또한 팬(182) 바로 아래 또는 위에 수직으로 배치될 수 있다.
임펠러(247)의 구동부(249)는 페인팅 부스(102)의 베이스 영역 내에 또는 페인팅 부스(102)의 베이스 영역의 수직 돌출부 내에 적어도 부분적으로, 바람직하게 실질적으로 완전히 배치될 수 있다.
클린 가스 수집 채널(170)에 안내된 클린가스 흐름이 조절될 수 있는 조절 디바이스(172)는 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 위의 영역에 배치된다.
도 14 및 도 15에 도시된 실시예에 따라 페인팅 설비(100)의 필터 시스템(106)의 총 길이(L)는 예를 들어 약 10m이다.
다른 경우에, 도 14 및 도 15에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예는 도 1 내지 도 13에 도시된 페인팅 설비(100)의 구조 및 기능에 대해 일치하여, 이러한 정도로, 상기 설명이 참조된다.
도 16에 도시된 페인팅 설비(100)의 대안적인 실시예는, 단지 2개의 필터 디바이스들(124)이 제공되고 페인팅 설비(100)의 필터 시스템(106)이 약 6m의 길이(L)를 갖는다는 점에서 실질적으로 도 14 및 도 15에 도시된 실시예와 다르다.
다른 경우에, 도 16에 도시된 페인팅 설비(100)의 대안적인 실시예는 도 14 및 도 15에 도시된 실시예의 구조 및 기능에 대해 일치하여, 이러한 정도로, 상기 설명이 참조된다.
도 17 및 도 18에 도시된 페인팅 설비(100)의 추가 실시예는, 필터 디바이스(124)의 클린 가스 챔버들(144)로부터 진행하는 필터 디바이스들(124)의 클린 가스 라인들(160)이 클린 가스 수집 채널(170)로의 필터 디바이스(108)의 운반 방향(110)에 실질적으로 수평 방향으로 그리고 실질적으로 수직으로 안내된다는 점에서 실질적으로 도 14 및 도 15에 도시된 실시예와 다르다.
그러므로, 클린 가스 라인들(160)은 도 17 및 도 18에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예에서 처리 가스 샤프트(114) 바로 아래에 배치되지 않는다.
오히려, 클린 가스 라인들(160)은 처리 가스 샤프트(114)의 상부 단부(116)의 영역에서 처리 가스 샤프트(114)를 교차한다.
처리 가스 샤프트(114)와 교차하는 클린 가스 라인(160)은 처리 가스 샤프트(114) 내부에 배치되는 부분을 포함하고, 처리 가스 샤프트(114) 외부에 배치되는 하나 이상의 부분들을 포함할 수 있다.
클린 가스 라인들(160)은 여기서 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 위에 배치되는 클린 가스 수집 채널(170)의 영역으로 개방된다.
하지만, 클린 가스 라인들(160) 중 적어도 하나가 처리 가스 샤프트(114)의 하부 단부(120)와 상부 단부(116) 사이의 상이한 지점에, 또는 처리 가스 샤프트(114) 위에, 바람직하게 페인팅 부스 베이스(111) 밑에 배치된다.
클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 위의 영역에서 수집된 클린 가스 흐름은 팬(182)에 의해 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 밑의 영역으로 운반된다.
조절 디바이스(172)는 클린 가스 수집 채널(170)에서 분할 벽(180) 아래에 배치되어, 클린 가스 수집 채널(170)의 분할 벽(180) 아래에 안내된 클린 가스 흐름은 조절 디바이스(172)에 의해 조절될 수 있다.
특히 도 18로부터 도출될 수 있듯이, 5개의 필터 디바이스들(124)은 도 17 및 도 18에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예에 제공된다.
다른 경우에, 도 17 및 도 18에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예는 도 14 및 도 15에 도시된 실시예의 구조 및 기능에 대해 일치하여, 이러한 관점에서, 상기 설명이 참조된다.
도 19에 도시된 페인팅 설비(100)의 추가 대안은, 단지 3개의 필터 디바이스들(124)만이 제공된다는 점에서 실질적으로 도 17 및 도 18에 도시된 실시예와 다르다.
페인팅 설비(100)의 필터 시스템(106)의 길이(L)는 여기서 약 6m이다.
다른 경우에, 도 19에 도시된 페인팅 설비(100)의 실시예는 도 17 및 도 18에 도시된 실시예의 구조 및 기능에 대해 일치하여, 이러한 관점에서, 상기 설명이 참조된다.
도 20은 페인팅 설비(100)의 상이한 실시예들의 기능 모드를 예시하기 위한 개략도를 도시한다.
페인팅 설비(100)를 동작하는데 필요한 공기는 순환 공기 가이드에서 안내된다.
공기는 먼저 클린 가스 흐름으로서 페인팅 설비(100)의 플리넘(248)을 통해 페인팅 부스(102)로 안내된다.
소재(104)는 페인팅 부스(102)에서 페인팅되어, 클린 가스 흐름은 페인트 분진로 로딩된다.
이에 의해 오염된 가스 흐름은 처리 가스 흐름으로서 필터 시스템(106)에 공급되고 습윤 페인트 분진을 갖지 않아서, 클린 가스 흐름이 다시 얻어진다.
세척은 여기서 예를 들어, 3개의 필터 디바이스들(124)에 의해 발생된다.
얻을 수 있는 클린 가스 흐름들은 클린 가스 라인들(160)에 의해 클린 가스 수집 채널(170)에 공급된다.
수집된 클린 가스 흐름은 마지막으로 단일, 또는 2개의 수집 채널들(170)에 의해 조절 디바이스(172)에 공급되고, 플리넘(248)에 의해 페인팅 설비(100)로의 페인팅 부스(102)에 다시 공급될 수 있기 위해 조절된다.
필터 디바이스(124)에 대한 손상의 경우에 보조 필터 물질이 조절 디바이스(172)에 침투하는 것을 방지하기 위해, 적어도 하나의 안전 필터(174)가 제공된다.
안전 필터(174)는 또한 그 기능으로 인해 규제 필터라 지칭되고, 필터 파손의 경우에 안전을 위해 사용된다.
기본적으로, 안전 필터들(174)이 각 클린 가스 라인(160)에 배치되는 것이 제공될 수 있다. 안전 필터들(174)은 여기서 페인팅 설비(100)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에 대해 필터 디바이스(124)의 면 상에, 즉 수직의 길이 방향 중심면(126)의 교차부(crossing)(250) 앞에, 또는 클린 가스 수집 채널(170)의 면 상에, 즉 수직의 길이 방향 중심면(126)의 교차부(250) 뒤에 배치될 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 적어도 하나의 안전 필터(174)가 클린 가스 수집 채널(170)에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
안전 필터(174)는 여기서 클린 가스 수집 채널(170)의 구성에 따라, 페인팅 설비(100)의 수직의 길이 방향 중심면(126)의 교차부(250) 앞 또는 뒤에 배치될 수 있다.
특히, 페인팅 설비(100)가 채널 부품 또는 연결 개구부로서 구성될 수 있는 채널 연결부(252)를 포함할 때, 안전 필터(174)가 채널 연결부(252) 앞 또는 뒤에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
채널 연결부(252)는 여기서 수직의 길이 방향 중심면(126)의 교차부(250) 앞 또는 뒤에 배치될 수 있다.
"앞" 및 "뒤"라는 용어들은 여기서 클린 가스 흐름 또는 처리 가스 흐름의 흐름 방향에 항상 관련된다.
공기 흐름, 특히 클린 가스 흐름 및 처리 가스 흐름을 인도하기 위해, 공통 팬(182)은 예를 들어 클린 가스 수집 채널(170)에 제공될 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 팬(182)이 수직의 길이 방향 중심면(126)의 교차부(250) 내의 채널 연결부(252) 및/또는 클린 가스 라인(160)에 배치되는 것이 제공될 수 있다. 특히, 팬(182)이 각 클린 가스 라인(160)에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
조절 디바이스(172)는 전체 클린 가스 흐름을 조절하기 위해 클린 가스 수집 채널(170)에 배치될 수 있다.
대안으로서, 또는 이에 더하여, 조절 디바이스(172)가 각 클린 가스 라인(160)에 배치되는 것이 제공될 수 있다.
특히, 복수의 조절 디바이스들(172)이 제공될 때, 각 조절 디바이스(172)는 가스 흐름의 모든 파라미터들을 조절하는데, 즉 가스 흐름이 특히 온도 및 습도에 관해 조절되는 것이 제공될 수 있다. 이에 대한 대안으로서, 상이한 파라미터들이 조절 디바이스들(172)에 의해 조절되고; 이것이 예를 들어 가습 프로세스가 조절 디바이스(172)에 의해 수행되고 클린 가스 흐름의 가열이 추가 조절 디바이스(172)에 의해 수행된다는 것을 의미하는 것이 제공될 수 있다. 클린 가스 흐름들을 클린 가스 수집 채널(170)에 공급함으로써, 완전히 조절된 총 공기 흐름이 바람직하게 얻어진다.
특히 페인팅 설비(100)가 채널 연결부(252)를 포함할 때, 필터 시스템(106)이 2개의 클린 가스 수집 채널들(170), 즉 채널 연결부(252) 앞의 클린 가스 수집 채널(170) 및 채널 연결부(252) 뒤의 클린 가스 수집 채널(170)을 포함하는 것이 제공될 수 있다.

Claims (17)

  1. 페인팅 소재들(workpieces)(104)을 위한 페인팅 설비(painting installation)로서,
    - 상기 소재들(104)이 페인트로 페인팅가능한 페인팅 부스(102)와;
    - 페인팅될 소재들(104)이 상기 페인팅 부스(102)를 통해 운반 방향(110)으로 운반가능한 운반 디바이스(108)와;
    - 페인팅 부스(102)에서 페인팅 분진을 흡수하여 페인팅 부스(102)를 떠나는 처리 가스 흐름(raw gas flow)을 세척하기 위한 분리 및/또는 필터 시스템(106)으로서, 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은 상기 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리하기 위한 적어도 2개의 필터 디바이스들(124), 및 적어도 2개의 필터 디바이스들(124)에 의해 상기 처리 가스 흐름을 세척함으로써 얻어질 수 있는 클린 가스 흐름들을 위한 적어도 2개의 클린 가스 라인들(160)을 포함하는, 분리 및/또는 필터 시스템(106)을
    포함하고,
    상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널(170)을 가지고, 상기 클린 가스 수집 채널로 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)의 상기 적어도 2개의 클린 가스 라인들(160)이 개방되고, 한편으로 상기 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널(170)과 또 한편으로 상기 적어도 2개의 필터 디바이스들(124)은 상기 페인팅 부스(102)의 수직의 길이 방향 중심면(126)에 대하여 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)의 상호 대항 면들(128, 130) 상에 배치되며,
    상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은 처리 가스 샤프트(114) 아래에 적어도 부분적으로 배치되는 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)을 포함하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 처리 가스 샤프트(114)의 유입 개구부(118)는 운반 방향(110)에 수직으로 이어지는 수평 방향에 대해 상기 페인팅 부스(102) 아래에 실질적으로 중심에 배치되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)을 포함하고, 상기 클린 가스 라인은 처리 가스 샤프트(114)를 가로지르거나 및/또는 횡단하고,
    처리 가스는 상기 페인팅 설비(100)의 작동중에 상기 클린 가스 라인(160) 주위로 바람직하게 흐르는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은, 상기 페인팅 부스(102) 아래에서 상기 페인팅 부스(102)의 수직 돌출부 이내에 배열되는 적어도 하나의 클린 가스 라인(160), 적어도 하나의 팬(182), 적어도 하나의 조절 디바이스(172) 및/또는 적어도 하나의 클린 가스 수집 채널(170)들을 포함하는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 처리 가스 샤프트(114)는 운반 방향(110)에 수직으로 이어지는 수평 방향에 대해 상기 페인팅 부스(102) 아래에 실질적으로 중심에 배치되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  6. 제 1 항에 있어서, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스(156)의 적어도 하나의 흐름 요소(158)에 의해 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)로 흐르는 상기 처리 가스 흐름의 속도가 영향을 받을 수 있는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  7. 제 1 항에 있어서, 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)은 적어도 하나의 필터 디바이스(124)의 외부 윤곽(outer contour)(163) 내에 적어도 부분적으로 배치되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은 적어도 하나의 필터 모듈(184)을 포함하고, 적어도 하나의 필터 모듈은 적어도 하나의 필터 디바이스(124), 적어도 하나의 클린 가스 라인(160), 적어도 하나의 조절 디바이스(172) 및/또는 적어도 하나의 팬(182)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 페인팅 소재들을 위한 페인팅 설비.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따른 페인팅 설비로서,
    분진 입자들을 함유하는 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진의 분리를 위한 적어도 하나의 필터 디바이스(124)는
    - 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)를 한정하고 상기 필터 디바이스(124)의 적어도 하나의 필터 요소가 배치되는 하우징(134)과;
    - 상기 처리 가스 흐름이 상기 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)에 들어가도록 하기 위한 적어도 하나의 입구 채널(122)과;
    - 보조 필터 물질을 상기 처리 가스 흐름에 도입하기 위한 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)을
    포함하고,
    상기 필터 디바이스(124)의 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)은 적어도 하나의 필터 디바이스(124)의 외부 윤곽(163) 내에 적어도 부분적으로 배치되고,
    적어도 하나의 안전 필터(174)는 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)에서 제공되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비.
  10. 제 9 항에 있어서, 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물의 기계적 처리를 위한 처리 디바이스(150)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비.
  11. 제 9 항에 있어서, 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)은 상기 처리 가스 흐름에 영향을 미치는 흐름 안내 디바이스(156)를 포함하고, 상기 흐름 안내 디바이스는 적어도 하나의 흐름 요소(158c)를 포함하고, 적어도 하나의 흐름 요소(158c)는 구성 및/또는 배치 및/또는 방향에 대해 가변적이고, 및/또는 조정가능하게 및/또는 선회가능하게 배치된 가이드 플레이트(188)로서 구성되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 필터 디바이스(124)는 제어 디바이스(198)를 포함하고, 제어 디바이스(198)에 의해 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)의 도입 용량이 제어 및/또는 통제되도록 구성되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)의 적어도 하나의 필터 디바이스(124)는 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스(156)를 포함하고, 상기 흐름 안내 디바이스는 상기 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)에 배치되고, 적어도 하나의 흐름 안내 디바이스에 의해 상기 필터 디바이스(124)의 적어도 하나의 입구 채널(122)을 통해 처리 가스 챔버(136)로 흐르는 상기 처리 가스 흐름이 영향을 받도록 구성되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 분리 및/또는 필터 시스템(106)은 냉각 디바이스(230), 가습 디바이스(234), 및/또는 방울-분리 디바이스(232)를 포함하는 조절 디바이스(172) 뿐만 아니라, 냉각 디바이스(230), 가습 디바이스(234) 및/또는 방울-분리 디바이스(232)를 위한 공통 액체 취급 시스템(242)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비.
  15. 페인팅 설비(100)를 동작하는 방법에 있어서,
    - 운반 디바이스(108)에 의해 페인팅 부스(102)를 통해 운반 방향(110)으로 소재들(104)을 운반하고, 페인팅 부스(102)에서 소재들(104)을 페인팅하는, 운반 및 페인팅 단계와;
    - 페인팅 부스(102)에서 흡수된 페인팅 분진을 갖는 처리 가스 흐름을 페인팅 설비(100)의 페인팅 부스(102)로부터 분리 및/또는 필터 시스템(106)에 공급하는 단계와;
    - 클린 가스 흐름이 얻어지도록, 분리 및/또는 필터 시스템(106)의 적어도 하나의 필터 디바이스(124)에 의해 분진 입자들로 로딩된 처리 가스 흐름으로부터 페인트 분진을 분리하는 단계를
    포함하고, 상기 페인팅 설비(100)를 동작하는 방법은
    보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 혼합물은 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)에 의해 분해되고,
    상기 처리 가스 흐름의 적어도 일부분은 적어도 하나의 필터 디바이스(124)의 적어도 하나의 보조 필터 물질 수용 컨테이너(146)에 도입되고,
    분해된 보조 필터 물질 및/또는 보조 필터 물질 및 분진 입자들의 분해된 혼합물은 상기 처리 가스 흐름에 의해 비말 동반(entrained)되어, 상기 처리 가스 흐름의 처리 가스와 혼합되고,
    적어도 하나의 흐름 안내 디바이스(156)의 적어도 하나의 흐름 요소(158)에 의해 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)로 흐르는 상기 처리 가스 흐름의 속도가 영향을 받는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비를 동작하는 방법.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 클린 가스 흐름은 부분적으로 또는 전체적으로 적어도 하나의 필터 디바이스(124)의 외부 윤곽(163) 내에 배치되는 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)에 의해 안내되고, 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)은 페인팅 설비(100)의 처리 가스 샤프트(114) 아래를 통해 안내되고 및/또는 적어도 하나의 클린 가스 라인(160)은 처리 가스 샤프트(114)를 교차하는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비를 동작하는 방법.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 처리 가스 흐름은 적어도 하나의 필터 디바이스(124)의 적어도 하나의 입구 채널(122)에 의해 적어도 하나의 필터 디바이스(124)의 처리 가스 챔버(136)에 안내되고, 보조 필터 물질은 적어도 하나의 보조 필터 물질 도입 메커니즘(148)에 의해 처리 가스 흐름에 공급되는 것을 특징으로 하는, 페인팅 설비를 동작하는 방법.
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