KR20190006052A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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KR20190006052A
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가즈키 이노우에
마사키 이와미
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판의 비처리면에 대한 처리액의 부착을 억제한다.
기판 처리 장치는, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하는 유지 부재와, 당해 기판의 상면과 간극을 두고 대향하는 본체부와, 본체부의 주연부 중 적어도 일부로부터 유지 부재의 측방으로 연장되는 연장 형성부를 구비한 대향 부재를 구비한다. 연장 형성부의 선단측 부분과 유지 부재의 측면 부분 중 일방의 부분에 돌출부가 형성됨과 함께, 타방의 부분에는, 회전축을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부의 전후로부터 돌출부에 대향하여 배치되어 돌출부의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 구조가 형성된다. 유지 부재와 대향 부재는, 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제되어 있고, 당해 기판 처리 장치는, 유지 부재와 대향 부재의 적어도 일방을, 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와, 기판의 처리면에 처리액을 토출하는 노즐을 추가로 구비하고, 돌출부와 규제 구조는, 유지 부재의 상면보다 하방에 배치되어 있다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
이 발명은, 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치용 유리 기판, 플라즈마 디스플레이용 유리 기판, 광 디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광 자기 디스크용 기판, 포토마스크용 유리 기판, 태양 전지용 기판, 등 (이하, 간단히 「기판」 이라고 한다) 에, 처리를 실시하는 기판 처리 기술에 관한 것이다.
이와 동일한 처리를 실시하는 기판 처리 장치로서, 특허문헌 1, 2 에는, 하방으로부터 기판을 수평으로 유지하는 유지 부재와, 기판의 상면에 대향하는 차단판을 회전시키면서 처리액을 기판에 공급하여 기판을 처리하는 장치가 나타나 있다. 차단판은, 기판보다 약간 크고, 기판의 상방 근접 위치에 기판을 덮도록 배치되어 있다. 차단판의 주연부로부터 하방에 돌출 형성된 제 1 걸어맞춤부의 선단부와, 유지 부재의 주연부로부터 상방에 돌출 형성된 제 2 걸어맞춤부의 선단부는, 기판과 유지 부재 사이의 위치에서 걸어맞춤되어 있다. 이와 같이 유지 부재와 차단판이 걸어맞춤된 상태에서 회전 구동부가 유지 부재를 회전시킨다. 이로써, 차단판은, 유지 부재와 동일한 회전 방향으로, 동일한 회전 속도로 회전 구동되어, 기판의 상면에 대한 먼지나 미스트의 부착 등의 방지가 도모된다.
또, 특허문헌 3 에는, 하방으로부터 기판을 수평으로 유지하는 유지 부재와, 기판의 상면에 대향하는 차단판을 구비하고, 유지 부재와 차단판을 각각 회전시키면서, 처리액을 기판의 처리면에 공급하여 기판을 처리하는 장치가 나타나 있다. 차단판은, 기판 표면의 분위기를 그 외부의 분위기로부터 차단하는 것을 목적으로 하여 형성되어 있다. 차단판은, 기판보다 약간 크고, 기판의 상방에 있어서, 기판을 덮도록 배치되어 있다. 차단판은, 기판의 상면에 대향하는 대향면과 주벽부를 갖는다. 주벽부는, 차단판의 주연부로부터 하방에 돌출 형성되어 있고, 기판의 주연부의 전체 둘레를 둘러싸고 있다. 주벽부의 선단연(先端緣)은, 유지 부재에 유지된 기판보다 유지 부재의 근처에 위치한다. 주벽부의 내주면은, 대향면을 상면으로 하는 원추대의 측면과 동일한 형상을 가지며, 그 직경은, 대향면측으로부터 선단연측에 가까워짐에 따라, 서서히 커지고 있다. 기판에 토출된 처리액은, 기판의 회전에 의해, 기판 표면으로부터 배출되어, 유지 부재의 상면 주연부와, 차단판의 선단연의 간극으로부터 배출된다.
또, 특허문헌 4 에는, 하방으로부터 기판을 수평으로 유지하는 유지 부재와, 유지 부재와 기판의 사이에 형성된 원판상의 노즐을 구비하는 장치가 개시되어 있다. 원판상의 노즐은, 기판 (W) 의 하면의 중앙 부분에 대향한다. 당해 장치는, 유지 부재를 회전시키면서, 처리액을 원판상의 노즐로부터 기판의 하면의 중앙부를 향하여 토출한다. 토출된 처리액은, 원심력에 의해 기판의 하면 전체를 덮도록, 하면의 중앙부로부터 주연부로 이동하여 주연부로부터 기판 외부에 배출된다. 이로써, 기판의 하면 전체가 처리된다.
또, 특허문헌 5 에는, 척 핀에 의해 기판을 대략 수평으로 유지하면서 회전하는 스핀 베이스 (「유지 부재」) 와, 당해 기판의 상면으로부터 소정 간격을 두고 평행하게 대향하는 덮개 부재와 덮개 부재의 중앙부에 형성된 관통공을 통하여 당해 기판의 상면에 불산이나 순수(純水) 등을 선택적으로 공급하는 노즐을 구비하는 장치가 개시되어 있다. 또, 당해 장치는, 저면을 갖는 원통상의 처리 컵을 추가로 구비한다. 스핀 베이스는, 처리 컵의 저면의 상방에 회전 가능하게 지지되어 있다. 당해 장치는, 원통상의 가드를 추가로 구비한다. 가드는, 처리 컵의 측벽의 내주면을 따라 형성되어 있고, 스핀 베이스를 둘러싼다. 가드는, 구동 기구에 의해 소정의 하방 위치와 상방 위치의 사이에서 승강된다. 기판의 처리 시에 노즐로부터 기판에 공급된 액은, 기판으로부터 배출될 때에 스핀 베이스의 측면에 부착된다. 그래서, 당해 장치는, 스핀 베이스의 측면의 세정을 실시하는 세정 노즐을 추가로 구비한다. 세정 노즐은, 스핀 베이스로부터 직경 방향 외측으로 떨어져, 처리 컵의 저면에 형성되어 있다. 세정 노즐은, 세정액을 스핀 베이스의 측면을 향하여 경사 상방으로 토출하여, 스핀 베이스의 측면을 세정한다.
일본 공개특허공보 2014－67778호 일본 공개특허공보 2014－67780호 일본 공개특허공보 2010－56218호 일본 공개특허공보 2011－211094호 일본 공개특허공보 평11－102882호
그러나, 특허문헌 1, 2 의 장치에 있어서는, 차단판과 유지 부재를 걸어맞춤하는 제 1, 제 2 걸어맞춤부의 접속 부분이 유지 부재보다 상방에 있다. 이 때문에, 기판의 처리면에 공급되어 원심력에 의해 기판의 주연부(周緣部)로부터 외부에 배출된 처리액이, 당해 접속 부분의 이음매 등에 의해 기판측으로 되튀겨져 기판의 처리면 이외의 면 (비처리면) 에 부착되어 파티클 등의 결함을 발생한다는 문제가 있다.
또, 특허문헌 3 의 장치에 있어서는, 차단판과 유지 부재에 의해 둘러싸인 공간 중 주벽부의 내주면과 기판의 주연부 사이의 환상의 공간이 좁기 때문에, 기판으로부터 배출되어 주벽부의 내주면에서 되튀겨진 처리액이, 기판의 비처리면에 도달하여 부착되어, 기판에 결함이 생긴다는 문제가 있다.
또, 특허문헌 4 의 장치에 있어서는, 기판의 하면에 토출된 처리액의 일부가, 기판 하면으로부터 유지 부재의 상면에 낙하하여 부착되고, 그대로 잔존한다는 문제가 있다.
또, 가드의 상단 부분은, 통상적으로, 스핀 베이스의 회전축으로 향해 경사 상방으로 연장 형성된다. 특허문헌 5 의 기판 처리 장치는, 가드가 상방 위치에 배치되어 있는 상태에서, 노즐로부터 기판에 액을 공급한다. 공급된 액은, 기판으로부터 배출될 때에 비산하여, 가드의 내주면에도 부착된다. 부착된 액이 잔류한 상태에서 처리를 반복하면, 당해 액이 건조되어 고화된 퇴적물이, 가드에 서서히 퇴적되어 간다. 이와 동일한 퇴적물이 박리되면 파티클의 원인이 된다. 가드의 상단 부분은 기판에 가깝기 때문에, 상단 부분에 부착된 퇴적물은, 파티클의 원인이 되기 쉽다.
그러나, 특허문헌 5 의 장치에 있어서는, 스핀 베이스의 측면을 세정하는 세정 노즐에 의해, 가드의 내주면을 세정할 수는 없다는 문제가 있다. 또, 예를 들어, 가드의 내주면을 향하여 세정액을 토출하는 전용의 세정 노즐을 추가로 형성하면, 장치 구성이 복잡화되어, 제조 비용이 증가한다는 문제가 있다. 또, 파티클을 효과적으로 억제하기 위해서는, 가드의 상단 부분의 내주면에 부착된 액을 세정하는 것이 유효하다. 그러나, 스핀 베이스가 기판을 유지하고 있는 상태에서, 세정 노즐이 당해 상단 부분의 내주면을 향하여 하방으로부터 세정액을 토출하면, 세정액이 가드의 상단 부분으로부터 기판측으로 비산하여 기판에 부착된다는 문제가 있다. 또, 이 세정액의 부착을 피하려고 하면, 기판을 스핀 베이스로부터 대피시킨 후에, 가드를 세정할 필요가 있다는 문제도 있다.
본 발명은, 이러한 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 기판에 공급되어 기판으로부터 외부로 배출된 처리액의 기판의 비처리면에 대한 부착을 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 유지 부재에 유지되어 회전하는 기판의 하면에 공급된 처리액이 유지 부재 상에 낙하하여 부착되고, 그대로 잔존하는 것을 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 이러한 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 유지 부재가 기판을 유지하고 있는 상태에서, 가드와 유지 부재의 쌍방을 공통의 세정액 토출부에 의해 세정할 수 있는 기술을 제공하는 것을, 또 다른 목적으로 한다.
상기의 과제를 해결하기 위해서, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판 처리 장치로서, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 유지 부재와, 상기 유지 부재에 유지된 상기 기판의 상면과 간극을 두고 대향하는 본체부와, 상기 본체부의 주연부 중 적어도 일부로부터 상기 유지 부재의 측방으로 연장되는 연장 형성부를 구비하여 상기 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 대향 부재를 구비하고, 상기 연장 형성부의 선단측 부분과 상기 유지 부재의 측면 부분 중 일방의 부분에 돌출부가 형성됨과 함께, 타방의 부분에는, 상기 회전축을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 상기 돌출부의 전후로부터 상기 돌출부에 대향하여 배치되어 상기 돌출부의 상기 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 구조가 형성되고, 상기 유지 부재와 상기 대향 부재는, 상기 회전축을 중심으로 하는 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 상기 돌출부와 상기 규제 구조를 통하여 서로 규제되어 있고, 당해 기판 처리 장치는, 상기 유지 부재와 상기 대향 부재의 적어도 일방을, 상기 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와, 상기 유지 부재에 유지되어 회전하고 있는 상기 기판의 처리면에 처리액을 토출하는 노즐을 추가로 구비하고, 상기 돌출부와 상기 규제 구조는, 상기 유지 부재의 상면보다 하방에 배치되어 있다.
제 2 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 돌출부와 상기 규제 구조 중 적어도 일방은, 타방과 대향하는 부분을 구비하고 있고, 당해 부분은 탄성 부재에 덮여 있다.
제 3 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 또는 제 2 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 대향 부재를 상기 유지 부재에 대해 상기 회전축 방향을 따라 제 1 위치와 제 2 위치의 사이에서 상대적으로 이동시키는 이동부를 추가로 구비하고, 상기 규제 구조는, 상기 돌출부가 상기 이동부에 의해 상기 규제 구조에 대해 상대적으로 이동하는 이동 경로를 제외하고 배치되어 있고, 상기 대향 부재가 상기 제 1 위치에 배치되면, 상기 규제 구조가 상기 둘레 방향에 있어서 상기 돌출부의 전후로부터 상기 돌출부에 대향하여 배치되고, 상기 대향 부재가 상기 제 2 위치에 배치되면, 상기 규제 구조가 상기 회전축 방향을 따라 상기 돌출부로부터 상대적으로 떨어져 배치된다.
제 4 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 규제 구조는, 상기 돌출부의 적어도 일부를 수용 가능하도록 상기 타방의 부분에 형성된 함몰부이다.
제 5 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 3 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 타방의 부분은, 상기 회전축을 중심으로 하는 둘레 방향을 따라 환상으로 연장되어 있음과 함께, 상기 둘레 방향에 있어서의 상기 타방의 부분의 전체 둘레에 걸쳐서 연속해서 형성된 복수의 함몰부를 구비하고 있고, 상기 복수의 함몰부의 각각은, 상기 일방의 부분으로부터 돌출하는 상기 돌출부에 상기 회전축 방향을 따라 향한 개구를 갖는 함몰부이며, 당해 함몰부는, 상기 돌출부의 적어도 일부를 수용 가능한 형상으로 형성되어 있고, 당해 함몰부 중 적어도 당해 개구측의 부분의 상기 둘레 방향을 따른 폭은, 당해 개구에 가까워짐에 따라 넓어져 있고, 상기 돌출부 중 적어도 선단 부분은, 상기 회전축 방향을 따라 상기 함몰부에 대향하고 있고, 당해 선단 부분의 상기 둘레 방향을 따른 폭은, 선단에 가까워짐에 따라 좁아져 있다.
제 6 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치 로서, 상기 돌출부와, 상기 규제 구조 중 상기 둘레 방향에 있어서 상기 돌출부의 전후에 배치된 각 부분과의 각 간격을 넓히도록 자기적인 척력을 작용시키는 복수의 자석을 추가로 구비하고, 당해 자기적인 척력에 의해, 상기 규제 구조에 대한 상기 돌출부의 상기 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제한다.
제 7 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 6 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 규제 구조는, 상기 회전축 방향을 따라 상기 돌출부와 대향하여 배치된 대향부를 포함하고, 당해 기판 처리 장치는, 상기 돌출부와 상기 대향부의 간격을 상기 회전축 방향을 따라 넓히도록 자기적인 척력을 작용시키는 복수의 자석을 구비하고, 당해 자기적인 척력에 의해, 상기 대향부에 대해 상기 돌출부가 상기 회전축 방향을 따라 가까워지는 움직임을 규제한다.
제 8 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 연장 형성부는, 상기 대향 부재의 주연부를 따라 형성된 통형상 벽부이다.
제 9 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 8 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 통형상 벽부의 내주면은, 상기 대향 부재의 하면과 연속됨과 함께, 상기 유지 부재의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면을 포함하고 있다.
제 10 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판 처리 장치로서, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 유지 부재와, 상기 유지 부재에 유지된 상기 기판의 상면과 간극을 두고 대향하는 본체부와, 상기 본체부의 주연부로부터 상기 기판의 단면을 둘러싸고 상기 유지 부재측으로 연장되는 통형상의 연장 형성부를 구비하고, 상기 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 대향 부재와, 상기 유지 부재와 상기 대향 부재를, 상기 회전축을 중심으로 서로 동일한 방향으로 회전시키는 회전 기구와, 상기 유지 부재에 유지되어 회전하고 있는 상기 기판의 상면 및 하면 중 어느 일방의 처리면에 처리액을 토출하는 토출부를 구비하고, 상기 대향 부재는, 상기 기판의 상면 및 단면을 둘러싸는 내측면 중 일부에 형성된 환상의 함몰부를 포함하고, 당해 일부는, 상기 연장 형성부의 선단측 부분과, 상기 내측면 중 상기 기판에 대향하는 대향면의 사이의 부분에 형성되어 있고, 상기 환상의 함몰부는 상기 대향면의 주연부보다 상방으로 움푹 패어 있다.
제 11 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 10 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 유지 부재와 상기 대향 부재는, 상기 회전축을 중심으로 동일한 방향으로 동일한 속도로 회전한다.
제 12 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 10 또는 제 11 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 대향 부재는, 상기 내측면 중 상기 환상의 함몰부보다 직경 방향 외측의 부분에, 상기 유지 부재의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면을 구비하고 있다.
제 13 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 유지 부재를, 상기 기판과 함께 상기 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 스텝과, 상기 유지 부재에 유지되어 회전하고 있는 상기 기판의 하면의 중앙부의 하방으로부터 당해 중앙부를 향하여 처리액을 토출하는 처리액 토출 스텝과, 상기 유지 부재에 유지되어 회전하고 있는 상기 기판의 중앙부와 상기 유지 부재의 중앙부의 사이로부터 상기 유지 부재의 상면을 따라 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 세정액을 토출하는 세정액 토출 스텝을 구비한다.
제 14 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 13 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 처리액 토출 스텝과 상기 세정액 토출 스텝을 병행하여 실시한다.
제 15 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 13 또는 제 14 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 처리액 토출 스텝은, 상기 기판의 하면의 중앙부와, 상기 유지 부재의 상면의 쌍방과 간극을 두고 대향하는 판상 부재를 구비하는 노즐의 상기 판상 부재의 상면에 형성된 처리액 토출구로부터 상기 하면의 중앙부를 향하여 처리액을 토출하는 스텝이며, 상기 세정액 토출 스텝은, 상기 노즐의 상기 판상 부재의 상면 또는 하면에 형성된 세정액 토출구로부터 상기 판상 부재의 상면 또는 하면과, 상기 유지 부재의 상면의 쌍방의 면을 따라, 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 세정액을 토출하는 스텝이다.
제 16 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 13 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 처리액 토출 스텝은, 상기 기판의 하면의 중앙부와, 상기 유지 부재의 상면의 쌍방과 간극을 두고 대향하는 판상 부재를 구비하는 노즐의 상기 판상 부재의 상면에 형성된 처리액 토출구로부터 상기 기판의 하면의 중앙부를 향하여 처리액을 토출하는 스텝이며, 상기 세정액 토출 스텝은, 상기 노즐의 상기 판상 부재의 측면에 형성된 세정액 토출구로부터 상기 유지 부재의 상면을 따라 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 세정액을 토출하는 스텝이다.
제 17 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 유지 부재와, 상기 유지 부재를, 상기 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와, 상기 기판의 하면의 중앙부의 하방으로부터 당해 중앙부를 향하여 처리액을 토출하는 처리액 토출구와, 상기 기판의 중앙부와 상기 유지 부재의 중앙부의 사이로부터 상기 유지 부재의 상면을 따라 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 세정액을 토출하는 세정액 토출구가 각각 형성된 노즐을 구비한다.
제 18 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 17 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 노즐은, 기판의 하면의 중앙부와, 상기 유지 부재의 상면의 쌍방과 간극을 두고 대향하는 판상 부재를 구비하고, 상기 처리액 토출구는, 상기 판상 부재의 상면에 형성되어 상기 기판의 하면의 중앙부를 향하여 처리액을 토출하고, 상기 세정액 토출구는, 상기 판상 부재의 상면 또는 하면에 형성되어 상기 판상 부재의 상면 또는 하면과, 상기 유지 부재의 상면의 쌍방의 면을 따라 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 세정액을 토출한다.
제 19 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 17 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 노즐은, 기판의 하면의 중앙부와, 상기 유지 부재의 상면의 쌍방과 간극을 두고 대향하는 판상 부재를 구비하고, 상기 처리액 토출구는, 상기 판상 부재의 상면에 형성되어 상기 기판의 하면의 중앙부를 향하여 처리액을 토출하고, 상기 세정액 토출구는, 상기 판상 부재의 측면에 형성되어 상기 유지 부재의 상면을 따라 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 세정액을 토출한다.
제 20 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성되고, 상기 회전축을 중심축으로 하는 원판상의 기부와, 상기 기부의 주벽부로부터 직경 방향 외측으로 돌출하는 플랜지부를 구비하는 유지 부재와, 상기 유지 부재를, 상기 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 구동부와, 상단측 부분이 상기 회전축을 향해 경사 상방으로 연장되는 통형상을 가지고 상기 유지 부재의 주위를 둘러싸고, 승강 가능하게 형성된 가드와, 상기 기판의 처리면에 처리액을 토출 가능한 처리액 토출부와, 상기 유지 부재의 상기 플랜지부의 하방으로부터 상기 플랜지부에 세정액을 토출 가능한 세정액 토출부와, 상기 처리액 토출부로부터 상기 기판에 공급된 후에 상기 기판으로부터 배출되는 상기 처리액을 받는 것이 가능한 상방 위치와, 상기 가드의 상단이 상기 플랜지부의 측방에 위치하는 하방 위치의 사이에서 상기 가드를 승강시킬 수 있는 승강 구동부와, 상기 승강 구동부와 상기 처리액 토출부와 상기 세정액 토출부를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 승강 구동부에 상기 가드를 상기 상방 위치에 배치시킨 상태에서 상기 처리액 토출부에 상기 기판의 상기 처리면을 향하여 상기 처리액을 토출시켜 상기 기판을 처리시킨 후에, 상기 승강 구동부에 상기 가드를 상기 하방 위치에 배치시킨 상태에서 상기 세정액 토출부에 상기 기판을 유지하면서 회전하는 상기 유지 부재의 상기 플랜지부를 향하여 상기 세정액을 토출시킨다.
제 21 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 20 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 유지 부재는, 상기 기부의 주벽부의 상단부로부터 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 상기 플랜지부보다 돌출하는 상측 플랜지부를, 상기 플랜지부의 상측에 추가로 구비하고 있다.
제 22 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 20 또는 제 21 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 유지 부재는, 원호상의 단면 형상을 가지며, 상기 유지 부재의 상기 기부의 외주면과, 상기 플랜지부의 하면의 각각에 완만하게 접속하는 곡면부를 상기 플랜지부의 기단 부분에 구비하고 있고, 상기 세정액 토출부는, 상기 플랜지부의 상기 곡면부를 향하여 하방으로부터 상기 세정액을 토출한다.
제 23 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 20 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 가드의 외측에 형성되고, 상기 유지 부재의 주위를 둘러싸고, 승강 가능한 통형상의 외측 가드를 추가로 구비하고, 상기 승강 구동부는, 상기 외측 가드도 승강시킬 수 있고, 상기 제어부는, 상기 승강 구동부에 상기 가드를 상기 하방 위치에 배치시킴과 함께 상기 외측 가드를 상기 처리액 토출부로부터 상기 기판에 공급된 후에 상기 기판으로부터 배출되는 상기 처리액을 받는 것이 가능한 위치에 배치시킨 상태에서, 상기 처리액 토출부에 상기 기판의 상기 처리면을 향하여 상기 처리액을 토출시킴과 함께, 상기 세정액 토출부로부터 상기 플랜지부의 하면을 향하여 상기 세정액을 토출시킨다.
제 24 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 20 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 유지 부재에 유지된 상기 기판의 상면과 간극을 두고 대향하는 본체부와, 상기 본체부의 주연부로부터 상기 기판의 단면을 둘러싸고 상기 유지 부재측으로 연장되는 통형상의 연장 형성부를 구비하고, 상기 회전축을 중심으로 회전하는 대향 부재를 추가로 구비한다.
제 25 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 기판 처리 장치를 사용하는 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 처리 장치는, 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성되고, 상기 회전축을 중심축으로 하는 원판상의 기부와, 상기 기부의 주벽부로부터 직경 방향 외측으로 돌출하는 플랜지부를 구비하는 유지 부재와, 상기 유지 부재를, 상기 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 구동부와, 상단측 부분이 상기 회전축을 향해 경사 상방으로 연장되는 통형상을 가지며 상기 유지 부재의 주위를 둘러싸고, 승강 가능하게 형성된 가드와, 상기 기판의 처리면에 처리액을 토출 가능한 처리액 토출부와, 상기 유지 부재의 상기 플랜지부의 하방으로부터 상기 플랜지부에 세정액을 토출 가능한 세정액 토출부와, 상기 처리액 토출부로부터 상기 기판에 공급된 후에 상기 기판으로부터 배출되는 상기 처리액을 받는 것이 가능한 상방 위치와, 상기 가드의 상단이 상기 플랜지부의 측방에 위치하는 하방 위치의 사이에서 상기 가드를 승강시킬 수 있는 승강 구동부를 구비하고, 상기 기판 처리 방법은, 상기 승강 구동부가 상기 가드를 상방 위치에 배치한 상태에서 상기 처리액 토출부가 상기 기판을 향하여 상기 처리액을 토출하여 상기 기판을 처리하는 처리 스텝과, 상기 처리 스텝 후에, 상기 승강 구동부가 상기 가드를 상기 하방 위치에 배치한 상태에서 상기 세정액 토출부가 상기 기판을 유지하면서 회전하는 상기 유지 부재의 상기 플랜지부를 향하여 상기 세정액을 토출하는 세정 스텝을 구비한다.
제 26 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 25 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 처리 장치의 상기 유지 부재는, 상기 기부의 주벽부의 상단부로부터 상기 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 상기 플랜지부보다 돌출하는 상측 플랜지부를, 상기 플랜지부의 상측에 추가로 구비하고 있다.
제 27 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 25 또는 제 26 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 처리 장치의 상기 유지 부재는, 원호상의 단면 형상을 가지며, 상기 유지 부재의 상기 기부의 외주면과, 상기 플랜지부의 하면과의 각각에 완만하게 접속하는 곡면부를 상기 플랜지부의 기단 부분에 구비하고 있고, 상기 세정 스텝은, 상기 세정액 토출부가 상기 플랜지부의 상기 곡면부를 향하여 하방으로부터 상기 세정액을 토출하는 스텝이다.
제 28 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 25 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 가드의 외측에 형성되고, 상기 유지 부재의 주위를 둘러싸고, 승강 가능한 통형상의 외측 가드를 추가로 구비하고, 상기 승강 구동부는, 상기 외측 가드도 승강시킬 수 있고, 상기 기판 처리 방법의 상기 세정 스텝은, 상기 승강 구동부에 상기 가드를 상기 하방 위치에 배치시킴과 함께 상기 외측 가드를 상기 처리액 토출부로부터 상기 기판에 공급된 후에 상기 기판으로부터 배출되는 상기 처리액을 받는 것이 가능한 위치에 배치시킨 상태에서, 상기 처리액 토출부에 상기 기판의 상기 처리면을 향하여 상기 처리액을 토출시킴과 함께, 상기 세정액 토출부로부터 상기 플랜지부의 하면을 향하여 상기 세정액을 토출시키는 스텝을 포함한다.
제 29 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 25 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 유지 부재에 유지된 상기 기판의 상면과 간극을 두고 대향하는 본체부와, 상기 본체부의 주연부로부터 상기 기판의 단면을 둘러싸고 상기 유지 부재측으로 연장되는 통형상의 연장 형성부를 구비하여 상기 회전축을 중심으로 회전하는 대향 부재를 추가로 구비한다.
제 1 양태에 관련된 발명에 의하면, 연장 형성부는, 대향 부재의 본체부의 주연부로부터 유지 부재의 측방으로 연장되어 있다. 연장 형성부의 선단측 부분과, 유지 부재의 측면 부분 중 일방의 부분에 돌출부가 형성됨과 함께, 타방의 부분에 규제 구조가 형성되고, 돌출부와 규제 구조는, 유지 부재의 상면보다 하방에 배치된다. 따라서, 기판으로부터 배출된 처리액이, 돌출부 또는 규제 구조에 의해 되튀겨서 기판의 비처리면에 부착되는 것을 억제할 수 있다.
제 2 양태에 관련된 발명에 의하면, 돌출부와 규제 구조 중 적어도 일방은, 타방과 대향하는 부분을 구비하고 있고, 당해 부분은 탄성 부재에 덮여 있으므로, 돌출부와 규제 구조의 접촉 시의 충격을 억제할 수 있다.
제 3 양태에 관련된 발명에 의하면, 둘레 방향에 있어서 돌출부의 전후로부터 규제 구조가 돌출부에 대향하여 배치되는 제 1 위치와, 회전축 방향을 따라 규제 구조가 돌출부로부터 상대적으로 떨어져 배치되는 제 2 위치의 사이에서, 대향 부재가 회전축 방향을 따라 유지 부재에 대해 상대적으로 이동한다. 이로써, 규제 구조가 돌출부의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 상태와, 규제하지 않는 해방 상태를 용이하게 전환할 수 있다.
제 4 양태에 관련된 발명에 의하면, 규제 구조는, 돌출부의 적어도 일부를 수용 가능하도록 타방의 부분에 형성된 함몰부이다. 따라서, 대향 부재의 연장 형성부의 선단측 부분과, 유지 부재의 측면 부분을 접근할 수 있으므로, 대향 부재를 소형화할 수 있다.
제 5 양태에 관련된 발명에 의하면, 대향 부재가 제 2 위치로부터 제 1 위치로 상대적으로 이동되는 과정에서, 돌출부는, 복수의 함몰부 중 대향하는 함몰부에 맞닿는다. 대향 부재가 회전축을 중심으로 하는 회전이 규제되어 있지 않은 상태이면, 돌출부의 선단 부분이 당해 함몰부에 맞닿은 후는, 당해 함몰부 및 돌출부의 각각의 형상에서 기인하여, 돌출부가 당해 함몰부의, 보다 깊게 움푹 팬 부분으로 유도되도록, 유지 부재에 대한 대향 부재의 둘레 방향에 있어서의 상대 위치가 수정되면서, 대향 부재가 회전축 방향을 따라 제 1 위치로 상대적으로 이동된다. 대향 부재가 제 1 위치로 이동된 후는, 당해 함몰부가 돌출부의 둘레 방향의 움직임을 규제하여, 유지 부재에 대한 대향 부재의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제된다. 따라서, 유지 부재에 대한 대향 부재의 둘레 방향에 있어서의 상대 위치를 위치 맞춤하지 않아도, 복수의 함몰부 중 돌출부와 대향하는 함몰부가, 둘레 방향으로의 돌출부의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 구조가 된다. 이로써, 유지 부재에 대한 대향 부재의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제할 수 있다.
제 6 양태에 관련된 발명에 의하면, 돌출부와, 규제 구조 중 둘레 방향의 전후에 배치된 각 부분과의 각 간격을 넓히도록, 복수의 자석이 자기적인 척력을 작용시킨다. 이로써, 규제 구조에 대한 돌출부의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제된다. 따라서, 규제 구조와 돌출부의 접촉을 억제할 수 있다.
제 7 양태에 관련된 발명에 의하면, 규제 구조는, 회전축 방향을 따라 돌출부와 대향하여 배치된 대향부를 포함하고 있다. 복수의 자석이, 돌출부와 대향부의 간격을 회전축 방향을 따라 넓히도록 자기적인 척력을 작용시킨다. 이로써, 대향부에 대해 돌출부가 회전축 방향을 따라 가까워지는 움직임이 규제된다. 따라서, 규제 구조와 돌출부의 접촉을 한층 더 억제할 수 있다.
제 8 양태에 관련된 발명에 의하면, 연장 형성부는, 대향 부재의 주연부를 따라 형성된 통형상 벽부이므로, 연장 형성부는, 원심력에 의해 기판 표면으로부터 외부로 배출되는 처리액의 흐름을 횡단하지 않는다. 이로써, 연장 형성부에 있어서의 처리액의 비산을 억제할 수 있으므로 처리액이, 돌출부 또는 규제 구조에 의해 되튀겨서 기판의 비처리면에 부착되는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
제 9 양태에 관련된 발명에 의하면, 통형상 벽부의 내주면은, 대향 부재의 하면과 연속함과 함께, 유지 부재의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면을 포함하고 있다. 원심력에 의해 기판 표면으로부터 외부로 배출되는 처리액은, 통형상 벽부의 내주면을 따라 원활하게 흐르기 쉬워지므로, 처리액을, 내주면과 유지 부재의 간극으로부터 외부로 배출하는 것이 용이하게 된다.
제 10 양태에 관련된 발명에 의하면, 대향 부재는, 기판의 상면 및 단면을 둘러싸는 내측면 중 일부에 형성된 환상의 함몰부를 포함하고, 당해 일부는, 연장 형성부의 선단측 부분과, 내측면 중 기판에 대향하는 대향면 사이의 부분에 형성되어 있고, 환상의 함몰부는 당해 대향면의 주연부보다 상방으로 움푹 패어 있다. 이로써, 기판의 주연부의 외측에, 당해 대향면보다 상방으로 팽창한 환상의 팽창 공간이 형성되므로, 기판으로부터 배출된 후에 연장 형성부의 내주면으로부터 되튀겨지는 처리액이 기판의 비처리면에 부착되는 것을 억제할 수 있다.
제 11 양태에 관련된 발명에 의하면, 유지 부재와 대향 부재는, 회전축을 중심으로 동일한 방향으로 동일한 속도로 회전하므로, 기판 상면과 대향 부재의 하면의 사이에 있어서, 기판의 중심측을 향하는 기류가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 이로써, 처리액이 기판의 비처리면에 부착되는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
제 12 양태에 관련된 발명에 의하면, 대향 부재의 내측면 중 환상의 함몰부보다 직경 방향 외측의 부분에, 유지 부재의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면이 형성되어 있으므로, 기판에 토출되어 기판으로부터 배출되는 처리액이 만곡면을 따라 연장 형성부의 선단측으로 흐르기 쉬워진다. 따라서, 대향 부재의 내측면 중 환상의 함몰부보다 외측의 부분에 있어서의 처리액의 되튀김을 억제할 수 있다. 이로써, 처리액이 기판의 비처리면에 부착되는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
제 13 및 제 17 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 세정액은, 유지 부재의 상면을 따라 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 토출된다. 이로써, 세정액이 기판의 하면에 닿아 하면에 부착되어 있는 처리액과 혼합되는 것을 억제하면서, 세정액에 의해 유지 부재의 상면을 세정할 수 있음과 함께, 기판의 하면으로부터 낙하한 처리액이, 유지 부재의 상면에 부착되기 전에 세정액에 의해 씻어낼 수 있다. 따라서, 기판의 하면에 공급된 처리액이 유지 부재 상에 낙하하여 부착되고, 그대로 잔존하는 것을 억제할 수 있다.
제 14 양태에 관련된 발명에 의하면, 처리액 토출 스텝과 세정액 토출 스텝이 병행하여 실시되므로, 기판의 이면에 토출된 처리액이 유지 부재의 상면에 부착되는 것을 효율적으로 억제할 수 있다.
제 15 및 제 18 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 세정액은, 노즐의 판상 부재의 상면 또는 하면과, 유지 부재의 상면의 쌍방의 면을 따라, 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 토출되므로, 유지 부재의 세정 중에 노즐의 세정도 실시할 수 있다.
제 16 및 제 19 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 세정액은, 노즐의 판상 부재의 측면에 형성된 세정액 토출구로부터 유지 부재의 상면을 따라 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 토출된다. 따라서, 세정액 토출구의 형상을 판상 부재의 둘레 방향으로 길게 하여, 토출되는 세정액을 확산시키는 것이 용이해진다.
제 20 및 제 25 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 기판으로부터 배출되는 처리액을 받는 것이 가능한 상방 위치에 가드가 배치된 상태에서 처리액 토출부가 기판의 처리면을 향하여 처리액을 토출한다. 그 후, 가드의 상단이 유지 부재의 플랜지부의 측방에 위치하는 하방 위치에 가드가 배치된 상태에서, 세정액 토출부가, 기판을 유지하면서 회전하는 유지 부재의 플랜지부를 향하여 세정액을 토출한다. 토출된 세정액은, 플랜지부의 하면으로부터 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 배출된다. 하방 위치에 배치된 가드의 상단은, 플랜지부의 측방에 위치하므로, 배출된 처리액은 가드의 상단 부분의 내주면에 닿는다. 이로써, 유지 부재에 기판을 유지한 상태에서, 처리액이 부착되어 있는 가드와 유지 부재의 쌍방을 공통의 세정액 토출부에 의해 세정할 수 있다.
제 21 및 제 26 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 상측 플랜지부가, 플랜지부보다 상방에 위치함과 함께, 플랜지부보다 유지 부재의 직경 방향 외측으로 돌출되어 있다. 하방으로부터 플랜지부에 토출된 세정액은, 플랜지부의 하면을 따라 플랜지부의 선단으로 이동하고, 선단으로부터 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 유지 부재의 외부로 배출된다. 기판의 처리면에 토출되어 기판으로부터 배출되는 처리액은, 상측 플랜지부의 상면을 거쳐 세정액보다 직경 방향 외측 또한 상방으로부터 유지 부재의 직경 방향 외측을 향하여 배출된다. 따라서, 처리액과 세정액은 서로 분리된 상태에서 유지 부재로부터 배출되므로, 배출된 처리액과 세정액이 혼합되는 것을 억제할 수 있다.
제 22 및 제 27 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 세정액 토출부는, 플랜지부의 곡면부를 향하여 하방으로부터 세정액을 토출한다. 곡면부는, 유지 부재의 기부의 외주면과, 플랜지부의 하면의 각각에 완만하게 접속한다. 따라서, 곡면부에 토출된 후, 하방으로 되튀겨지는 세정액을 감소시켜, 보다 많은 세정액을 플랜지부의 하면을 따라 배출할 수 있다. 이로써, 가드의 내주면을 보다 효율적으로 세정할 수 있다.
제 23 및 제 28 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 가드가 하방 위치에 배치됨과 함께, 처리액 토출부로부터 기판에 공급된 후에 기판으로부터 배출되는 처리액을 받는 것이 가능한 위치에 외측 가드가 배치된다. 이 상태에서, 기판의 처리면을 향하여 처리액이 토출됨과 함께, 플랜지부의 하면을 향하여 세정액이 토출된다. 따라서, 기판의 처리와 유지 부재 및 가드의 세정 처리를 병행하여 실시할 수 있다.
제 24 및 제 29 중 어느 양태에 관련된 발명에 의해서도, 대향 부재에 의해 기판의 밀폐성을 높인 상태에서, 유지 부재 및 가드의 세정을 할 수 있기 때문에, 기판의 상면을 한층 더 보호할 수 있다.
도 1 은, 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 2 는, 처리 위치에 배치된 도 1 의 차단판과 스핀 베이스를 나타내는 사시도이다.
도 3 은, 도 2 의 스핀 베이스를 나타내는 사시도이다.
도 4 는, 도 2 의 차단판을 나타내는 사시도이다.
도 5 는, 도 2 의 스핀 베이스를 나타내는 사시도이다.
도 6 은, 도 2 의 차단판과 스핀 베이스의 주연부를 나타내는 종단면도이다.
도 7 은, 도 2 의 차단판과 스핀 베이스의 주연부를 나타내는 다른 종단면 도이다.
도 8 은, 도 6 의 규제부의 횡단면도이다.
도 9 는, 도 8 의 규제부가 탄성 부재에 의해 덮인 상태를 나타내는 단면도이다.
도 10 은, 실시 형태 1 에 관련된 차단판과 스핀 베이스의 다른 구성예를 나타내는 사시도이다.
도 11 은, 도 10 의 차단판이 처리 위치에 배치된 상태를 나타내는 사시도이다.
도 12 는, 실시 형태 1 에 관련된 차단판과 스핀 베이스의 다른 구성예의 종단면도이다.
도 13 은, 도 12 의 차단판과 스핀 베이스의 다른 단면을 나타내는 종단면도이다.
도 14 는, 실시 형태 1 에 관련된 규제부의 다른 구성예를 나타내는 횡단면도이다.
도 15 는, 도 14 의 규제부의 다른 상태를 나타내는 횡단면도이다.
도 16 은, 도 14 의 규제부의 다른 상태를 나타내는 횡단면도이다.
도 17 은, 도 14 의 규제부의 다른 상태를 나타내는 횡단면도이다.
도 18 은, 실시 형태 1 에 관련된 규제부의 다른 구성예를 나타내는 단면도이다.
도 19 는, 실시 형태 1 에 관련된 규제부의 다른 구성예를 나타내는 단면도이다.
도 20 은, 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 21 은, 도 20 의 노즐의 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 22 는, 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로우 차트이다.
도 23 은, 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 24 는, 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로우 차트이다.
도 25 는, 도 24 의 플로우 차트에 나타내는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 26 은, 도 24 의 플로우 차트에 있어서의 일부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서, 실시 형태에 대해 설명한다. 이하의 실시 형태는, 본 발명을 구체화한 일례이며, 본 발명의 기술적 범위를 한정하는 사례는 아니다. 또, 이하에 참조하는 각 도면에서는, 이해 용이를 위해, 각 부의 치수나 수가 과장 또는 간략화되어 도시되어 있는 경우가 있다. 상하 방향은 연직 방향이며, 스핀 베이스에 대해 기판측이 위이다.
＜1. 실시 형태 1 에 대해＞
＜1－1. 기판 처리 장치 (1) 의 구성＞
기판 처리 장치 (1) 의 구성에 대해, 도 1 ∼ 도 5 를 참조하면서 설명한다. 도 1 은, 기판 처리 장치 (1) 의 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 도 1 에서는, 차단판 (90) 이 대피 위치에 배치되어 있는 상태가 나타나 있다. 또, 처리 위치에 배치된 차단판 (90) 이 가상선으로 나타나 있다. 도 2 는, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치된 상태에서, 회전축 (a1) 둘레로 회전하는 차단판 (90) 과 스핀 베이스 (21) 를 나타내는 개략 사시도이다. 도 3 은, 기판 (9) 을 유지하여 회전축 (a1) 둘레로 회전하는 스핀 베이스 (21) 를 경사 상방에서 본 개략 사시도이다. 차단판 (90) 의 기재는 생략되어 있다. 기판 (9) 의 표면 형상은 대략 원형이다. 기판 (9) 의 기판 처리 장치 (1) 로의 반입 반출은, 차단판 (90) 이 대피 위치에 배치된 상태에서, 로봇 등에 의해 실시된다. 기판 처리 장치 (1) 에 반입된 기판 (9) 은, 스핀 베이스 (21) 에 의해 착탈 자재로 유지된다. 도 4 는, 차단판 (90) 을 경사 하방에서 본 개략 사시도이다. 도 5 는, 스핀 베이스 (21) 를 경사 상방에서 본 개략 사시도이다.
또한, 이하의 설명에 있어서, 「처리액」 에는, 약액 처리에 사용되는 「약액」 과, 약액을 헹구어 흘리는 린스 처리에 사용되는 「린스액 (「세정액」 이라고도 칭해진다)」 이 포함된다.
기판 처리 장치 (1) 는, 스핀 척 (2), 비산 방지부 (3), 표면 보호부 (4), 처리부 (5), 및 제어부 (130) 를 구비한다. 이들 각 부 (2 ∼ 5) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 로부터의 지시에 따라 동작한다. 제어부 (130) 로서는, 예를 들어, 일반적인 컴퓨터와 동일한 것을 채용할 수 있다. 즉, 제어부 (130) 는, 예를 들어, 각종 연산 처리를 실시하는 CPU, 기본 프로그램을 기억하는 판독 출력 전용의 메모리인 ROM, 각종 정보를 기억하는 판독 기록 자재의 메모리인 RAM, 제어용 소프트웨어나 데이터 등을 기억해 두는 자기 디스크, 등을 구비하고 있다. 제어부 (130) 에 있어서는, 프로그램에 기술된 순서에 따라 주제어부로서의 CPU 가 연산 처리를 실시함으로써, 기판 처리 장치 (1) 의 각 부를 제어한다.
＜스핀 척 (2)＞
스핀 척 (2) 은, 기판 (9) 을, 그 일방의 주면을 상방을 향한 상태에서, 대략 수평 자세로 유지하는 기판 유지부로서, 당해 기판 (9) 을, 주면의 중심 (c1) 을 통과하는 연직인 회전축 (a1) 의 둘레로 회전시킨다.
스핀 척 (2) 은, 기판 (9) 보다 약간 큰 원판상의 부재인 스핀 베이스 (「유지 부재」) (21) 를 구비한다. 스핀 베이스 (21) 는, 그 상면, 하면의 중앙에 각각 개구하는 원통상의 관통공 (21a) 이, 그 중심축이 회전축 (a1) 에 일치하도록 형성되어 있다. 관통공 (21a) 의 하측의 개구에는, 원통상의 회전축부 (22) 가 연결되어 있다. 이로써 관통공 (21a) 과 회전축부 (22) 의 중공부가 연통한다. 회전축부 (22) 는, 그 축선을 연직 방향으로 따르게 하는 자세로 배치된다. 또, 회전축부 (22) 에는, 회전 구동부 (예를 들어, 모터) (23) 가 접속된다. 회전 구동부 (23) 는, 회전축부 (22) 를 그 축선 둘레로 회전 구동한다. 회전축부 (22) 의 축선은, 회전축 (a1) 과 일치한다. 따라서, 스핀 베이스 (21) 는, 회전축부 (22) 와 함께 회전축 (a1) 둘레로 회전 가능하다. 회전축부 (22) 및 회전 구동부 (23) 는, 통형상의 케이싱 (24) 내에 수용되어 있다.
또, 스핀 베이스 (21) 의 상면의 주연부 부근에는, 적당한 간격을 두고 복수개 (예를 들어 6 개) 의 척 핀 (25) 이 형성되어 있다. 각 척 핀 (25) 은, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 형성된 복수의 개구 (21b) 에 있어서 스핀 베이스 (21) 에 장착되어 있다. 척 핀 (25) 은, 기판 (9) 의 단면과 맞닿아 기판 (9) 의 수평 방향의 위치 결정을 실시함과 함께, 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 약간 높은 위치에서 (즉, 스핀 베이스 (21) 의 상면으로부터 정해진 간격을 두고), 기판 (9) 을 대략 수평 자세로 유지한다. 즉, 스핀 베이스 (21) 는, 척 핀 (25) 을 개재하여 기판 (9) 을 하방으로부터 대략 수평으로 유지한다. 스핀 베이스 (21) 의 상면은, 기판 (9) 의 하면과 간극을 두고, 예를 들어, 대략 평행하게 대향한다. 스핀 베이스 (21) 의 원통상의 측면 부분에는, 2 개의 돌출부 (26) 가 둘레 방향을 따라 등간격으로 형성되어 있다. 돌출부 (26) 는, 적어도 1 개 형성되면 되고, 다수의 돌출부 (26) 가 형성되어도 된다.
이 구성에 있어서, 스핀 베이스 (21) 가 그 상방에서 척 핀 (25) 에 의해 기판 (9) 을 유지한 상태에서, 회전 구동부 (23) 가 회전축부 (22) 를 회전하면, 스핀 베이스 (21) 가 연직 방향을 따른 축심 둘레로 회전되고, 이로써, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 이, 그 면내의 중심 (c1) 을 통과하는 연직인 회전축 (a1) 의 둘레로 회전된다. 후술하는 표면 보호부 (4) 에는 차단판 (90) 이 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 회전 가능하게 형성되어 있다. 당해 둘레 방향에 있어서의 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 의 상대 위치는, 규제 가능하다. 당해 상대 위치가 규제된 상태에서, 회전 구동부 (23) 가 회전축부 (22) 를 회전시키면 스핀 베이스 (21), 기판 (9), 및 차단판 (90) 이 동일한 회전 방향으로, 동일한 회전 속도로 회전한다. 회전 구동부 (23) 와 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 는, 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 을, 회전축 (a1) 을 중심으로 서로 동일한 방향으로 회전시키는 회전 기구 (231) 이다.
또한, 당해 상대 위치가 규제된 상태에서 회전축 (a1) 을 중심으로 차단판 (90) 을 회전시키는 다른 회전 구동부가, 회전 구동부 (23) 대신에 형성되어도 된다. 이 경우, 당해 다른 회전 구동부가, 회전 구동부 (23) 대신에 회전 기구 (231) 의 구성 요소의 하나가 된다. 또, 회전 구동부 (23) 와 당해 다른 회전 구동부의 쌍방이 형성되어도 된다. 즉, 회전 기구 (231) 는, 둘레 방향에 있어서의 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 의 상대 위치가 규제된 상태에서, 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 의 적어도 일방을, 회전축 (a1) 을 중심으로 회전시킨다. 회전 기구 (231) 가 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 을 동일한 방향으로 동일한 속도로 회전시키면, 기판 (9) 의 상면과 차단판 (90) 의 하면의 사이에, 기판 (9) 의 중심 (c1) 측으로 향하는 기류가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 이로써, 처리액의 액적이 기판 (9) 의 상면에 빨려 들어가는 것을 억제할 수 있다.
회전 구동부 (23) 와 당해 다른 회전 구동부의 쌍방이 형성되는 경우에는, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 가 형성되어 있지 않아도 된다. 이 경우에는, 또한, 회전 구동부 (23) 가 스핀 베이스 (21) 를 회전시키는 속도와, 당해 다른 회전 구동부가 차단판 (90) 을 스핀 베이스 (21) 와 동일한 방향으로 회전시키는 속도가 상이해도 된다. 또, 회전 구동부 (23) 와 당해 다른 회전 기구의 쌍방이 형성되는 경우에는, 연장 형성부 (92) 의 선단이, 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 약간 상측에 위치하고 있어도 된다.
척 핀 (25) 및 회전 구동부 (23) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 의 제어하에서 동작한다. 요컨대, 스핀 베이스 (21) 상에 기판 (9) 을 유지하는 타이밍, 유지된 기판 (9) 을 해방하는 타이밍, 및, 스핀 베이스 (21) 의 회전 양태 (구체적으로는, 회전 개시 타이밍, 회전 종료 타이밍, 회전수 (즉, 회전 속도), 등) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다.
＜비산 방지부 (3)＞
비산 방지부 (3) 는, 스핀 베이스 (21) 와 함께 회전되는 기판 (9) 으로부터 비산하는 처리액 등을 받아낸다.
비산 방지부 (3) 는, 스플래쉬 가드 (31) 를 구비한다. 스플래쉬 가드 (31) 는, 상단이 개방된 통형상의 부재이며, 스핀 척 (2) 을 둘러싸도록 형성된다. 이 실시 형태에서는, 스플래쉬 가드 (31) 는, 예를 들어, 바닥 부재 (311), 내부재 (「내측 가드」 라고도, 간단히 「가드」 라고도 칭한다) (312), 및, 외부재 (「외측 가드」 라고도 칭한다) (313) 의 3 개의 부재를 포함하여 구성되어 있다. 외부재 (313) 가 형성되어 있지 않아도 되고, 반대로, 외부재 (313) 의 외측에, 스핀 척 (2) 을 둘러싸도록 가드가 추가로 형성되어도 된다.
바닥 부재 (311) 는, 상단이 개방된 통형상의 부재이며, 원환상의 저부(底部)와 저부의 내측 가장자리부로부터 상방으로 연장되는 원통상의 내측 벽부와, 저부의 외측 가장자리부로부터 상방으로 연장되는 원통상의 외측 벽부를 구비한다. 내측 벽부의 적어도 선단 부근은, 스핀 척 (2) 의 케이싱 (24) 에 형성된 플랜지상 부재 (241) 의 내측 공간에 수용된다.
저부에는, 내측 벽부와 외측 벽부 사이의 공간과 연통하는 배액홈 (도시 생략) 이 형성된다. 이 배액홈은, 공장의 배액 라인과 접속된다. 또, 이 배액홈에는, 홈 내를 강제적으로 배기하여, 내측 벽부와 외측 벽부 사이의 공간을 부압 상태로 하는 배기액 기구가 접속되어 있다. 내측 벽부와 외측 벽부 사이의 공간은, 기판 (9) 의 처리에 사용된 처리액을 모아 배액하기 위한 공간이며, 이 공간에 모아진 처리액은, 배액홈으로부터 배액된다.
내부재 (312) 는, 상단이 개방된 통형상의 부재이며, 내부재 (312) 의 상부 (「상단측 부분」, 「상단 부분」) 는 내측 상방을 향해 연장되어 있다. 즉, 당해 상부는, 회전축 (a1) 을 향해 경사 상방으로 연장되어 있다. 내부재 (312) 의 하부에는, 상부의 내주면을 따라 하방으로 연장되는 통형상의 내주 벽부와, 상부의 외주면을 따라 하방으로 연장되는 통형상의 외주 벽부가 형성된다. 바닥 부재 (311) 와 내부재 (312) 가 근접하는 상태 (도 1 에 나타나는 상태) 에 있어서, 바닥 부재 (311) 의 외측 벽부는, 내부재 (312) 의 내주 벽부와 외주 벽부의 사이에 수용된다. 내부재 (312) 의 상부가 받은 처리액 등은, 바닥 부재 (311) 를 통하여 배출된다.
외부재 (313) 는, 상단이 개방된 통형상의 부재이며, 내부재 (312) 의 외측에 형성되어 있다. 외부재 (313) 의 상부 (「상단측 부분」, 「상단 부분」) 는 내측 상방을 향해 연장되어 있다. 즉, 당해 상부는, 회전축 (a1) 을 향해 경사 상방으로 연장되어 있다. 하부는, 내부재 (312) 의 외주 벽부를 따라 하방으로 연장되어 있다. 외부재 (313) 의 상부가 받은 처리액 등은, 내부재 (312) 의 외주 벽부와 외부재 (313) 의 하부의 간극으로부터 배출된다.
스플래쉬 가드 (31) 에는, 이것을 승강 이동시키는 가드 구동 기구 (「승강 구동부」) (32) 가 배치 형성되어 있다. 가드 구동 기구 (32) 는, 예를 들어, 스텝핑 모터에 의해 구성된다. 이 실시 형태에서는, 가드 구동 기구 (32) 는, 스플래쉬 가드 (31) 가 구비하는 3 개의 부재 (311, 312, 313) 를, 독립적으로 승강시킨다.
내부재 (312), 및, 외부재 (313) 의 각각은, 가드 구동 기구 (32) 의 구동을 받아, 각각의 상방 위치와 하방 위치의 사이에서 이동된다. 여기서, 각 부재 (312, 313) 의 상방 위치는, 당해 부재 (312, 313) 의 상단 가장자리부가, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 측방, 또한, 상방에 배치되는 위치이다. 한편, 각 부재 (312, 313) 의 하방 위치는, 당해 부재 (312, 313) 의 상단 가장자리부가, 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 하방에 배치되는 위치이다. 외부재 (313) 의 상방 위치 (하방 위치) 는, 내부재 (312) 의 상방 위치 (하방 위치) 보다 약간 상방에 위치한다. 내부재 (312) 와 외부재 (313) 는, 서로 부딪치지 않도록 동시에, 혹은 순차 승강된다. 바닥 부재 (311) 는, 그 내측 벽부가, 케이싱 (24) 에 형성된 플랜지상 부재 (241) 의 내측 공간에 수용되는 위치와, 그 하방의 위치의 사이에서 가드 구동 기구 (32) 에 의해 구동된다. 단, 가드 구동 기구 (32) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 의 제어하에서 동작한다. 요컨대, 스플래쉬 가드 (31) 의 위치 (구체적으로는, 바닥 부재 (311), 내부재 (312), 및, 외부재 (313) 각각의 위치) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다.
＜표면 보호부 (4)＞
표면 보호부 (4) 는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 상면의 중앙 부근에 대해, 가스 (커버 가스) 를 공급하여, 기판 (9) 의 상면을, 하면에 공급된 처리액의 분위기 등으로부터 보호한다.
표면 보호부 (4) 는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지되는 기판 (9) 의 상면의 중앙 부근을 향하여, 가스를 토출하는 원통상의 커버 가스 노즐 (41) 을 구비한다. 커버 가스 노즐 (41) 은, 수평으로 연장되는 아암 (42) 의 선단 부근의 부분에 장착되어 있어, 아암 (42) 을 연직 방향으로 관통하고 있다. 커버 가스 노즐 (41) 의 중심축은, 회전축 (a1) 과 일치하고 있다. 커버 가스 노즐 (41) 의 하단 부분은, 아암 (42) 의 하단면으로부터 한층 더 하방으로 연장 형성되어 있다. 커버 가스 노즐 (41) 의 하단 부분에는, 원판상의 회전부 (93) 가 베어링을 개재하여 장착되어 있다. 회전부 (93) 의 중심축은, 회전축 (a1) 과 일치하고 있다. 이로써, 회전부 (93) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 커버 가스 노즐 (41) 의 주위를 둘레 방향으로 회전 가능하게 되어 있다.
회전부 (93) 의 하부에는, 원판상의 차단판 (「대향 부재」) (90) 이 회전부 (93) 와 함께 회전 가능하도록 장착되어 있다. 차단판 (90) 의 상면은, 대략 수평이 되도록 형성되어 있고, 그 형상은, 스핀 베이스 (21) 보다 약간 큰 원형이며, 그 중심을 회전축 (a1) 이 통과한다. 이로써, 차단판 (90) 은, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 회전 가능하다. 차단판 (90) 은, 회전축 (a1) 을 중심축으로 하는 원판상의 본체부 (91) 와, 본체부 (91) 의 주연부에 형성된 연장 형성부 (92) 를 구비하고 있다. 본체부 (91) 의 중앙부에는, 커버 가스 노즐 (41) 과 연통하는 관통공 (91a) 이 형성되어 있다. 연장 형성부 (92) 는, 본체부 (91) 의 주연부로부터 하방으로 연장 형성된 통형상 벽부 (환상 벽부) 이며, 당해 주연부의 둘레 방향을 따라 형성되어 있다. 연장 형성부 (92) 는, 본체부 (91) 의 주연부로부터 기판 (9) 의 단면을 둘러싸고 스핀 베이스 (21) 측으로 연장되는 통형상의 부재이다. 연장 형성부 (92) 는, 기판 (9) 을 포함하는 평면을, 기판 (9) 의 단면의 외측에 있어서 횡단하여 기판 (9) 보다 스핀 베이스 (21) 측으로 돌출되어 있다.
아암 (42) 의 기단부는, 노즐 기대 (43) 에 연결되어 있다. 노즐 기대 (43) 는, 그 축선을 연직 방향을 따르게 하는 자세로 배치되어 있어, 연직 방향을 따라 신축 가능하게 구성되어 있다. 아암 (42) 의 기단부는 노즐 기대 (43) 의 상단에 연결되어 있다. 노즐 기대 (43) 에는, 노즐 기대 (43) 를 그 축선을 따라 신축시키는 구동부 (「이동부」) (44) 가 배치 형성되어 있다. 구동부 (44) 는, 예를 들어, 스텝핑 모터 등을 구비하여 구성된다.
구동부 (44) 는, 노즐 기대 (43) 를 신축시킴으로써, 처리 위치 (「 제 1 위치」) 와, 처리 위치의 상방의 대피 위치 (「제 2 위치」) 의 사이에서 차단판 (90) 을 회전축 (a1) 방향을 따라 스핀 베이스 (21) 에 대해 상대적으로 이동시킨다. 차단판 (90) 의 처리 위치는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지되는 기판 (9) 의 상방의 위치로서, 차단판 (90) 의 하면이 기판 (9) 의 상면과 대향하면서, 당해 상면과 비접촉 상태로 근접하는 위치이다. 차단판 (90) 의 대피 위치는, 차단판 (90) 이 기판 (9) 의 반송 경로와 간섭하지 않는 위치이며, 예를 들어, 스플래쉬 가드 (31) 의 상단 가장자리부보다 상방의 위치이다. 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되었을 때에, 본체부 (91) 는, 스핀 베이스 (21) 에 유지된 기판 (9) 의 상면과 간극을 두고, 예를 들어, 대략 평행하게 대향한다. 구동부 (44) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 의 제어하에서 동작한다. 요컨대, 차단판 (90) 의 위치는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다.
연장 형성부 (92) 의 선단측 부분에는, 2 개의 규제 구조 (94) 가 형성되어 있다. 규제 구조 (94) 로서 예를 들어, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 연장 형성부 (92) 의 선단면으로부터, 연장 형성부 (92) 의 내주면에 걸쳐 개구하는 함몰부가 채용된다. 당해 함몰부에는, 돌출부 (26) 의 적어도 일부가 수용된다.
스핀 베이스 (21), 차단판 (90) 에는, 각각의 둘레 방향에 있어서의 초기 위치 (초기 회전 각도) 가 미리 설정되어 있다. 차단판 (90) 이 처리 위치의 상방의 대피 위치에 배치되어 있을 때는, 스핀 베이스 (21), 차단판 (90) 은, 각각 둘레 방향의 초기 위치에 배치되어 있다. 2 개의 규제 구조 (94) 는, 이 상태에서, 차단판 (90) 의 상방으로부터 투시했을 때에, 스핀 베이스 (21) 의 측면 부분에 형성된 2 개의 돌출부 (26) 와 각각 겹치도록, 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분에 각각 형성되어 있다.
도 6 에 나타내는 바와 같이, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치된 상태에 있어서, 돌출부 (26) 의 적어도 일부가 규제 구조 (94) 에 수용된다. 이 경우, 규제 구조 (94) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26) 의 전후로부터 돌출부 (26) 에 대향하여 배치되어 돌출부 (26) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제한다. 바꾸어 말하면, 규제 구조 (94) 는, 당해 둘레 방향에 있어서의 돌출부 (26) 의 양단에 대향하여 배치되어 있다. 즉, 규제 구조 (94) 는, 당해 둘레 방향을 따라 돌출부 (26) 를 사이에 두도록 배치되어 있다. 이로써, 규제 구조 (94) 는, 당해 둘레 방향에 있어서의 돌출부 (26) 의 상대적인 움직임을 규제한다. 또, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치된 상태에서는, 연장 형성부 (92) 는, 본체부 (91) 의 주연부로부터 스핀 베이스 (21) 의 측방으로 연장되어 있다. 그리고, 규제 구조 (94) 는, 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 하방에 배치되어 있다. 즉, 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 의 쌍방이, 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 하방에 배치되어 있다. 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 은, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 를 개재하여 서로 규제된다. 즉, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 는, 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제부 (201) 이다. 바꾸어 말하면, 규제부 (201) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 차단판 (90) 의 스핀 베이스 (21) 에 대한 상대 위치를 규제한다.
차단판 (90) 이 대피 위치에 배치되어 있을 때는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 의 각각의 둘레 방향의 회전 위치는, 서로 위치 맞춤되어 있다. 규제 구조 (94) 는, 대피 위치로부터 처리 위치로의 차단판 (90) 의 이동 과정에 있어서의 돌출부 (26) 의 규제 구조 (94) 에 대한 상대적인 이동 경로를 피해 배치되어 있다. 이로써, 당해 이동 과정에 있어서의 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 의 충돌을 회피할 수 있다. 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되면, 규제 구조 (94) 가 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26) 의 전후로부터 돌출부 (26) 에 대향하여 배치된다. 보다 상세하게는, 규제 구조 (94) 가 처리 위치에 배치된 직후에서, 스핀 베이스 (21) 가 정지하고 있을 때는, 규제 구조 (94) 는, 당해 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26) 의 전후로부터, 돌출부 (26) 에 접촉하지 않고 돌출부 (26) 에 대향하여 배치된다. 이로써, 당해 둘레 방향에 있어서 차단판 (90) 의 스핀 베이스 (21) 에 대한 상대 위치가 규제된다. 또, 차단판 (90) 이 대피 위치에 배치되면, 규제 구조 (94) 는 회전축 (a1) 방향을 따라 돌출부 (26) 로부터 상대적으로 떨어져 배치된다.
차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되어, 규제부 (201) 에 의해, 스핀 베이스 (21) 에 대한 차단판 (90) 의 둘레 방향에 있어서의 상대 위치가 규제된 상태에서, 회전 구동부 (23) 가 회전축부 (22) 를 회전시키면, 스핀 베이스 (21) 가 기판 (9) 과 함께 회전한다. 이로써, 규제 구조 (94) 중 돌출부 (26) 에 대해 회전 방향 하류측의 부분에 돌출부 (26) 가 맞닿는다. 그 후, 차단판 (90) 이 스핀 베이스 (21) 와 동일한 회전 방향으로, 동일한 회전 속도로 종동 회전한다.
여기서, 예를 들어, 기판 처리 장치 (1) 가 기판을 회전시키면서 한창 처리하고 있는 중에, 긴급 정지 동작이 실시된 경우를 생각한다. 예를 들어 이 경우에는, 기판 처리 장치 (1) 는, 차단판 (90) 을 대피 위치에 이동시키는 것이 상정된다. 이와 같이 차단판 (90) 및 스핀 베이스 (21) 가 초기 위치 (초기 회전 각도) 로 되어 있지 않은 경우라도, 자동적으로 처리를 재개시킬 필요가 있다.
스핀 베이스 (21) 는 회전 구동부 (23) 에 구동됨으로써 회전 가능한 한편, 차단판 (90) 은 스핀 베이스 (21) 의 회전에 종동 회전한다. 그 때문에, 이하의 동작이 필요하게 된다. 제어부 (130) 는, 구동부 (44) 를 제어하여, 예를 들어, 차단판 (90) 이 스핀 베이스 (21) 에 약간 접촉하도록 차단판 (90) 을 상하 방향으로 이동시킨다. 그 후, 제어부 (130) 는, 회전 구동부 (23) 를 제어하여, 스핀 베이스 (21) 를 저속으로 회전시킴으로써, 차단판 (90) 을 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 회전시킨다.
차단판 (90) 은, 당해 둘레 방향에 있어서의 차단판 (90) 의 초기 위치를 검출 가능한 센서를 구비하고 있다. 제어부 (130) 는, 당해 센서의 출력에 기초하여, 차단판 (90) 이 초기 위치에 도달한 시점에서 회전 구동부 (23) 를 제어하여 차단판 (90) 의 회전을 정지시킨다.
그 후, 제어부 (130) 는, 구동부 (44) 를 제어하여 차단판 (90) 을 상방의 대피 위치로 이동시킴과 함께, 회전 구동부 (23) 를 제어하여, 스핀 베이스 (21) 를 둘레 방향의 초기 위치로 회전시킨다. 이로써, 차단판 (90) 이 대피 위치에 배치된 상태에서, 차단판 (90) 과 스핀 베이스 (21) 는 둘레 방향의 초기 위치에 배치된다. 차단판 (90) 이 대피 위치와 처리 위치의 사이에서, 스핀 베이스 (21) 에 대해 상대적으로 이동할 때에, 차단판 (90) 이 둘레 방향의 초기 위치로부터 어긋나지 않도록 하는 것이 바람직하다. 이 때문에, 표면 보호부 (4) 는, 바람직하게는, 차단판 (90) 이 둘레 방향의 초기 위치에 배치된 상태에서, 아암 (42) 에 대한 회전부 (93) 및 차단판 (90) 의 둘레 방향의 위치를 고정시키는 로크 기구를 구비한다. 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되어 있을 때는, 당해 로크 기구는 해방된다.
도 4, 도 5 의 예에서는, 규제 구조 (94) 가 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분 (하단측 부분) 에 형성됨과 함께, 돌출부 (26) 가 스핀 베이스 (21) 의 측면 부분에 형성되어 있지만, 규제 구조 (94) 가 스핀 베이스 (21) 의 측면 부분에 형성됨과 함께, 돌출부 (26) 가 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분에 형성되어도 된다. 즉, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과 스핀 베이스 (21) 의 측면 부분 중 일방의 부분에 돌출부 (26) 가 형성됨과 함께, 타방의 부분에 규제 구조 (94) 가 형성된다.
규제 구조 (94) 로서 함몰부 대신에, 예를 들어, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26) 의 전후로부터 돌출부 (26) 에 대향하여 배치되는 1 쌍의 돌출부가 채용되어도 된다. 이 경우도, 당해 규제 구조에 의해 돌출부 (26) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제할 수 있으므로, 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 돌출부 (26) 의 적어도 일부를 수용 가능한 함몰부가 규제 구조로서 채용되는 경우에는, 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 의 간격을 보다 좁게 할 수 있으므로, 차단판 (90) 을 보다 소직경으로 할 수 있다.
또, 도 4 에 나타나는 연장 형성부 (92) 는 통형상 부재이지만, 연장 형성 부로서 본체부 (91) 의 주연부에 있어서 둘레 방향으로 분산하여 배치되고, 주연부로부터 하방으로 연장되는 복수의 벽부, 혹은 기둥부가 이용되어도 된다. 이 연장 형성부는, 본체부 (91) 의 주연부 중 적어도 일부로부터 스핀 베이스 (21) 의 측방으로 연장된다. 연장 형성부가 통형상 부재이면, 기판 (9) 에 공급되어 기판 (9) 으로부터 외부로 배출되는 처리액의 흐름을 횡단하지 않기 때문에, 연장 형성부로부터 기판 (9) 측으로 되튀겨지는 처리액을 적게 할 수 있다.
커버 가스 노즐 (41) 에는, 이것에 가스 (여기서는, 예를 들어, 질소 (N2) 가스) 를 공급하는 배관계인 커버 가스 공급부 (45) 가 접속되어 있다. 커버 가스 공급부 (45) 는, 구체적으로는, 예를 들어, 질소 가스를 공급하는 공급원인 질소 가스 공급원 (451) 이, 개폐 밸브 (453) 가 끼워 삽입된 배관 (452) 을 통하여, 커버 가스 노즐 (41) 에 접속된 구성을 구비하고 있다. 이 구성에 있어서, 개폐 밸브 (453) 가 개방되면, 질소 가스 공급원 (451) 으로부터 공급되는 질소 가스가, 커버 가스 노즐 (41) 을 거쳐, 차단판 (90) 의 중앙부에 형성된 관통공 (91a) 으로부터 토출된다. 또한, 커버 가스 노즐 (41) 에 공급되는 가스는, 질소 가스 이외의 기체 (예를 들어, 질소 가스 이외의 각종의 불활성 가스, 건조 공기, 등) 여도 된다.
차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되어 있는 상태에 있어서, 커버 가스 공급부 (45) 로부터 커버 가스 노즐 (41) 에 가스가 공급되면, 커버 가스 노즐 (41) 로부터, 스핀 베이스 (21) 상에 유지되는 기판 (9) 의 상면의 중앙 부근을 향하여, 가스 (커버 가스) 가 기판 (9) 의 상면을 향하여 토출된다. 단, 커버 가스 공급부 (45) 의 개폐 밸브 (453) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 의 제어하에서 개폐된다. 요컨대, 커버 가스 노즐 (41) 로부터의 가스의 토출 양태 (구체적으로는, 토출 개시 타이밍, 토출 종료 타이밍, 토출 유량, 등) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다.
＜처리부 (5)＞
처리부 (5) 는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 처리면 (도 1 의 예에서는, 하면) 에 대한 처리를 실시한다. 구체적으로는, 처리부 (5) 는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 처리면에 처리액을 공급한다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 처리부 (5) 는, 예를 들어, 스핀 척 (2) 의 회전축부 (22) 의 중공부에 관통하여 배치된 공급관 (81) 을 구비한다. 공급관 (81) 의 선단은, 공급관 (81) 과 스핀 베이스 (21) 의 관통공 (21a) 이 연통하도록, 관통공 (21a) 의 하측의 개구에 접속되어 있다. 관통공 (21a) 의 상측 (기판 (9) 측) 의 개구에는, 노즐 (50) 이 접속되어 있다. 노즐 (50) 은, 스핀 베이스 (21) 에 유지되어 회전하고 있는 기판 (9) 의 하면에 대향하는 토출구를 구비하고 있다. 노즐 (50) 은, 공급관 (81) 을 거쳐 공급되는 처리액을 당해 토출구로부터 기판의 하면에 토출한다. 또한, 처리면인 기판 (9) 의 상면 (전체 또는 주연부) 에 처리액을 공급 가능한 노즐이 채용되어도 된다. 이와 같은 노즐은, 예를 들어, 차단판 (90) 에 형성된다. 즉, 기판 처리 장치 (1) 는, 스핀 베이스 (21) 에 유지되어 회전하고 있는 기판 (9) 의 상면 및 하면 중 어느 일방의 처리면에 처리액을 토출 가능한 노즐을 구비한다. 노즐 (50) 로서, 기판 (9) 의 처리면에 처리액을 토출 가능한 여러 가지의 노즐이 채용될 수 있다.
공급관 (81) 에는, 이것에 처리액을 공급하는 배관계인 처리액 공급부 (83) 가 접속되어 있다. 처리액 공급부 (83) 는, 구체적으로는, SC－1 공급원 (831a), DHF 공급원 (831b), SC－2 공급원 (831c), 린스액 공급원 (831d), 복수의 배관 (832a, 832b, 832c, 832d), 및, 복수의 개폐 밸브 (833a, 833b, 833c, 833d) 를, 조합하여 구성되어 있다.
SC－1 공급원 (831a) 은, SC－1 을 공급하는 공급원이다. SC－1 공급원 (831a) 은, 개폐 밸브 (833a) 가 끼워 삽입된 배관 (832a) 을 통하여, 공급관 (81) 에 접속되어 있다. 따라서, 개폐 밸브 (833a) 가 개방되면, SC－1 공급원 (831a) 으로부터 공급되는 SC－1 이, 노즐 (50) 로부터 토출된다.
DHF 공급원 (831b) 은, DHF 를 공급하는 공급원이다. DHF 공급원 (831b) 은, 개폐 밸브 (833b) 가 끼워 삽입된 배관 (832b) 을 통하여, 공급관 (81) 에 접속되어 있다. 따라서, 개폐 밸브 (833b) 가 개방되면, DHF 공급원 (831b) 으로부터 공급되는 DHF 가, 노즐 (50) 로부터 토출된다.
SC－2 공급원 (831c) 은, SC－2 를 공급하는 공급원이다. SC－2 공급원 (831c) 은, 개폐 밸브 (833c) 가 끼워 삽입된 배관 (832c) 을 통하여, 공급관 (81) 에 접속되어 있다. 따라서, 개폐 밸브 (833c) 가 개방되면, SC－2 공급원 (831c) 으로부터 공급되는 SC－2 가, 노즐 (50) 로부터 토출된다.
린스액 공급원 (831d) 은, 린스액을 공급하는 공급원이다. 여기서는, 린스액 공급원 (831d) 은, 예를 들어, 순수를, 린스액으로서 공급한다. 린스액 공급원 (831d) 은, 개폐 밸브 (833d) 가 끼워 삽입된 배관 (832d) 을 통하여, 공급관 (81) 에 접속되어 있다. 따라서, 개폐 밸브 (833d) 가 개방되면, 린스액 공급원 (831d) 으로부터 공급되는 린스액이, 노즐 (50) 로부터 토출된다. 또한, 린스액으로서 순수, 온수, 오존수, 자기수, 환원수 (수소수), 각종의 유기 용제 (이온수, IPA (이소프로필알코올), 기능수 (CO2 수 등), 등이 이용되어도 된다.
처리액 공급부 (83) 로부터 공급관 (81) 에 처리액 (SC－1, DHF, SC－2, 혹은, 린스액) 이 공급되면, 노즐 (50) 로부터, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 처리면의 중앙 부근을 향하여, 당해 처리액이 토출되게 된다. 단, 처리액 공급부 (83) 가 구비하는 개폐 밸브 (833a, 833b, 833c, 833d) 의 각각은, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있어, 제어부 (130) 의 제어하에서 개폐된다. 요컨대, 노즐 (50) 로부터의 처리액의 토출 양태 (구체적으로는, 토출되는 처리액의 종류, 토출 개시 타이밍, 토출 종료 타이밍, 토출 유량, 등) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다. 노즐 (50) 과 공급관 (81) 과 처리액 공급부 (83) 는, 제어부 (130) 의 제어에 의해 기판 (9) 의 처리면에 처리액을 토출하는 처리액 토출부 (83A) 이다.
＜1－2. 차단판과 스핀 베이스의 구성＞
도 6, 도 7 은, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되어 있을 때의 차단판 (90) 과 스핀 베이스 (21) 의 주연부의 구성을 나타내는 종단면도이다. 도 6 에는, 규제부 (201) 에 있어서의 단면이 도시되고, 도 7 에는, 규제부 (201) 이외의 부분에 있어서의 단면이 도시되어 있다. 도 6, 도 7 의 예에서는, 스플래쉬 가드 (31) 의 외부재 (313) 가 상방 위치에 배치되고, 내부재 (312) 가 하방 위치에 배치되어 있다. 도 8 은, 규제부 (201) 를 나타내는 횡단면도이다. 도 9 는, 실시 형태 1 에 관련된 다른 규제부 (201F) 를 나타내는 횡단면도이다.
스핀 베이스 (21) 는, 상면 형상이 원형인 원판상의 기부 (28) 와, 기부 (28) 의 주연 (측면) 에 있어서, 기부 (28) 의 상면보다 약간 하방의 위치로부터 직경 방향 외측으로 돌출 형성되는 환상의 플랜지부 (29) 를 구비하고 있다. 기부 (28) 및 플랜지부 (29) 는, 예를 들어, 염화비닐에 의해, 일체적으로 형성되어 있다. 플랜지부 (29) 의 상면과 하면 (보다 상세하게는, 플랜지부 (29) 중기단 부분 이외의 부분의 하면, 즉 플랜지부 (29) 의 선단측 부분의 하면) 은, 수평면을 따라 형성되고, 기부 (28) 의 측면은, 연직면이다. 플랜지부 (29) 의 기단 부분에는, 스핀 베이스 (21) 의 둘레 방향을 따른 환상의 곡면 (「곡면부」) (211) 이 형성되어 있다. 곡면 (211) 은, 예를 들어, 회전축 (a1) 을 향해 경사 상방으로 볼록한 1/4 원호상의 단면 형상을 가지고 있다. 당해 원호의 반경은, 예를 들어, 5 mm ∼ 10 mm 로 설정된다. 플랜지부 (29) 의 선단측 부분의 하면과, 기부 (28) 의 측면 중 플랜지부 (29) 보다 하측의 부분은, 곡면 (211) 에 의해 완만하게 접속되어 있다.
플랜지부 (29) 의 상면과, 기부 (28) 의 측면 중 플랜지부 (29) 의 상측 부분에 의해 환상의 함몰이 형성되어 있다. 이 함몰에는, 환상의 판상 부재인 탈수부 ( 「상측 플랜지부」) (27) 가 볼트에 의해 고정되어 있다. 탈수부 (27) 는, 바람직하게는, 기부 (28) 보다 내열성이 높은, 예를 들어, 불소 수지 등에 의해 형성된다. 탈수부 (27) 의 외주연부는, 기부 (28) 의 직경 방향에 있어서 플랜지부 (29) 의 외주연보다 외측으로 연장되어 있다. 탈수부 (27) 의 외주연의 직경, 즉 스핀 베이스 (21) 의 외주연의 직경은, 기판 (9) 의 직경보다 크다. 탈수부 (27) 중 외주연부 (「선단 부분」) 이외의 부분의 상면은, 기부 (28) 의 상면과 동일한 수평면을 이루고 있다. 탈수부 (27) 의 외주연부의 상면은, 경사 상방 외측을 향하여 장출하여 만곡한 곡면이다. 당해 외주연부는, 외주연에 가까워짐에 따라 서서히 두께가 얇아지고 있다. 상기 서술한 2 개의 돌출부 (26) 는, 탈수부 (27) 의 외주연부의 선단 (외연) 으로부터 차단판 (90) 의 직경 방향 외측을 향하여 각각 돌출 형성되어 있다. 돌출부 (26) 는, 예를 들어, 도 5, 도 6, 도 8 에 나타내는 바와 같이 사각 기둥상의 형상으로 형성된다. 이 돌출부 (26) 의 상면 (261) 은, 장방 형상의 수평면이다. 돌출부 (26) 의 선단면 (262) 은, 상면 (261) 과 직교하고, 그 중심을 통과하는 법선이 회전축 (a1) 과 교차하는 장방 형상의 연직면이다. 돌출부 (26) 의 측면 (263, 264) 은, 상면 (261), 선단면 (262) 의 쌍방과 직교하는 장방 형상의 연직면이다. 상면 (261) 은, 기부 (28) 의 상면보다 하방에 위치한다. 이로써 돌출부 (26) 전체가 기부 (28) 의 상면보다 하방에 위치한다.
차단판 (90) 의 본체부 (91) 는, 예를 들어, 염화비닐에 의해 형성된 원판상의 부재이다. 본체부 (91) 의 하면 중 주연부 이외의 하면 (911) 은, 스핀 베이스 (21) 의 척 핀 (25) 에 유지된 기판 (9) 의 상면과, 간극을 두고 대향하고 있다. 하면 (911) 과 기판 (9) 의 상면의 간격 D2 는, 예를 들어, 1 mm 정도이다. 본체부 (91) 의 하면 중 주연부에는, 주연을 따른 환상의 함몰이 형성되어 있다. 이로써, 본체부 (91) 의 주연부의 두께는, 다른 부분의 반정도로 되어 있다. 연장 형성부 (92) 는, 이 함몰에 끼워 맞춤 가능한 환상의 형상을 갖는다. 연장 형성부 (92) 는, 이 함몰에 끼워 맞춤하여 볼트에 의해 본체부 (91) 에 고정되어 있다. 연장 형성부 (92) 는, 바람직하게는, 본체부 (91) 보다 내열성이 우수한, 예를 들어, 불소 수지 등의 재료에 의해 형성된다. 연장 형성부 (92) 의 환상의 내주면 (921) 은, 그 하단으로부터 상방을 향해 수직 형성된 후, 회전축 (a1) 측을 향해 기판 (9) 의 주연부의 상방까지 연장되어 있다. 내주면 (921) 중 회전축 (a1) 측의 환상의 주연부는, 본체부 (91) 의 하면 (911) 에 완만하게 접속되어 있고, 하면 (911) 과 함께, 기판 (9) 의 상면에 대향하는 대향면을 이루고 있다. 연장 형성부 (92) 는, 본체부 (91) 의 주연부로부터 하방으로 연장 형성된 통형상 벽부로 되어 있고, 그 선단측 부분은, 스핀 베이스 (21) 의 측방 부분에 연장되어 있다. 연장 형성부 (92) 의 내주면 (921) 중 연장 형성부 (92) 의 선단측 (하단측) 의 부분은, 스핀 베이스 (21) 의 측방 부분에 연장되어 있다. 연장 형성부 (92) 의 외연측의 내주면 (921) 은, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 장출하도록 만곡한 곡면이다. 바꾸어 말하면, 내주면 (921) 중 연장 형성부 (92) 의 선단측 (하단측) 의 부분은, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 장출하도록 만곡한 곡면이다. 이로써, 차단판 (90) 의 직경 방향에 있어서의 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분의 폭은, 하방, 즉, 스핀 베이스 (21) 의 측방 부분을 향함에 따라 서서히 가늘어지고 있다. 이와 같이, 내주면 (921) 은, 차단판 (90) 의 하면과 연속함과 함께, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 장출하도록 팽창하여 만곡하고 있다.
연장 형성부 (92) 의 선단측 부분에는, 규제 구조 (94) 가 형성되어 있다. 규제 구조 (94) 는, 예를 들어, 도 4, 도 6, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 연장 형성부 (92) 의 선단면으로부터, 연장 형성부 (92) 의 내주면에 걸쳐 개구하는 함몰부이다. 이 규제 구조 (94) 는, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되었을 때에, 돌출부 (26) 의 적어도 일부를 수용 가능하도록 형성되어 있다. 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 은, 장방 형상의 수평면이다. 규제 구조 (94) 의 저면 (942) 은, 상면 (941) 과 직교하고, 그 중심을 통과하는 법선이 회전축 (a1) 과 교차하는 장방 형상의 연직면이다. 규제 구조 (94) 의 측면 (943, 944) 은, 상면 (941), 저면 (942) 의 쌍방과 직교하는 장방 형상의 연직면이다. 상면 (941) 은, 기부 (28) 의 상면보다 하방, 또한, 돌출부 (26) 의 상면 (261) 보다 상방에 위치한다. 이로써 규제 구조 (94) 전체가 기부 (28) 의 상면보다 하방에 위치한다.
차단판 (90) 이 처리 위치에 배치되었을 때에, 2 개의 규제 구조 (94) 의 일방이, 2 개의 돌출부 (26) 의 일방의 적어도 일부를 수용하고, 타방의 규제 구조 (94) 가, 타방의 돌출부 (26) 의 적어도 일부를 수용한다.
돌출부 (26) 가 규제 구조 (94) 에 수용된 직후의 상태에 있어서, 스핀 베이스 (21) 가 정지하고 있을 때는, 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 과, 돌출부 (26) 의 상면 (261) 이 간극을 두고 서로 대향함과 함께, 규제 구조 (94) 의 저면 (942) 과, 돌출부 (26) 의 선단면 (262) 이 간극을 두고 서로 대향한다. 그리고, 규제 구조 (94) 의 측면 (943) 은, 돌출부 (26) 의 측면 (263) 과 대향하고, 규제 구조 (94) 의 측면 (944) 은, 돌출부 (26) 의 측면 (264) 과 대향한다. 이로써, 규제 구조 (94) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26) 의 전후로부터 돌출부 (26) 에 대향하여 배치되어 돌출부 (26) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제 가능하게 된다. 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향을 따른 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 의 상대적인 움직임을 규제하는 규제부 (201) 이다.
도 7 에 나타내는 바와 같이, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치된 상태에서, 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과, 스핀 베이스 (21) 의 측부, 보다 구체적으로는, 탈수부 (27) 의 선단 부분의 사이에는, 규제부 (201) 이외의 부분에 있어서, 간극 (G1) 이 형성된다. 간극 (G1) 의 폭 D1 은, 예를 들어, 1 mm ∼ 5 mm 정도이다. 처리부 (5) 의 노즐 (50) 이 기판 (9) 의 처리면에 토출된 처리액은, 처리면을 따라, 기판 (9) 의 외부에 배출되고, 또한 스핀 베이스 (21) 의 주연부로부터 간극 (G1) 을 지나 외부에 배출된다. 연장 형성부 (92) 의 내주면 (921) 중 연장 형성부 (92) 의 선단의 부분과, 탈수부 (27) 의 선단 부분의 상면이, 상기 서술한 바와 같이, 서로 만곡하고 있으면, 처리액은, 간극 (G1) 으로부터 순조롭게 외부에 배출된다.
연장 형성부 (92) 의 내주면 (921) 의 상단 부분은, 차단판 (90) 의 하면 중 기판 (9) 에 대향하는 대향면 (보다 상세하게는, 당해 대향면의 주연부) 보다 상방, 즉 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 당해 대향면보다 높은 위치에 있다. 이로써, 내주면 (921) 의 상단측 부분에, 환상의 함몰부 (922) 가 형성되어 있다. 함몰부 (922) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향을 따라 형성되어 있다. 함몰부 (922) 는, 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과, 차단판 (90) 중 기판 (9) 에 대향하는 부분의 사이에 형성되어 있다. 즉, 함몰부 (922) 는, 차단판 (90) 의 내측면 (901) 중, 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과, 기판 (9) 에 대향하는 대향 부분의 사이의 부분에 형성되어 있다. 내측면 (901) 은, 기판 (9) 의 상면 및 단면을 둘러싸는 면이다. 내측면 (901) 은, 본체부 (91) 의 하면 (911) 과 연장 형성부 (92) 의 내주면 (921) 을 포함하고 있다. 함몰부 (922) 는, 차단판 (90) 중 기판 (9) 의 상면에 대향하는 대향 부분의 주연부보다 상방으로 움푹 패어 있다. 함몰부 (922) 와 스핀 베이스 (21) 의 상면의 사이에는, 환상의 팽창된 공간 (「팽창 공간」) (923) 이 형성된다. 공간 (923) 은, 차단판 (90) 중 기판 (9) 에 대향하는 대향면보다 상방으로 팽창되어 있다. 함몰부 (922) 의 가장 움푹 패인 부분과 기판 (9) 의 상면의 간격 (D3) 은, 간격 (D2) 보다 길다. 차단판 (90) 의 직경 방향에 있어서의 함몰부 (922) 의 폭 D4 는, 바람직하게는, 예를 들어, 20 mm 이상으로 설정된다.
차단판 (90) 의 내측면 (901) (보다 상세하게는, 연장 형성부 (92) 의 내주면 (921)) 중, 하면 (911) 에 대해 함몰부 (922) 보다 외측 (차단판 (90) 의 직경 방향 외측) 의 부분에는, 상기 서술한 바와 같이, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면이 형성되어 있다. 또한, 도시의 예에서는, 하면 (911) 은, 기판 (9) 의 상면과 평행하다. 그러나, 예를 들어, 하면 (911) 중 그 주연부를 제외한 부분이, 하면 (911) 의 중심을 향함에 따라 기판 (9) 의 상면으로부터 높아지는 등, 하면 (911) 전체가 기판 (9) 의 상면과 평행하지 않아도 된다.
간극 (G1) 으로부터 배출되는 처리액은, 처리액의 양과 간극 (G1) 의 폭에 따라서는, 연장 형성부 (92) 와 탈수부 (27) 의 사이의 공간에 체류하는 경우가 있지만, 함몰부 (922) 에 의해 형성된 공간 (923) 이, 버퍼가 된다. 이로써, 체류한 처리액에서 기인하여, 처리액이 기판 (9) 의 비처리면에 되튀겨져 부착되는 것을 억제할 수 있다.
또, 탈수부 (27) 의 선단 부분으로부터 배출되는 처리액의 일부는, 규제 구조 (94), 돌출부 (26) 에 닿아 되튀겨진다. 그러나, 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치된 상태에서, 차단판 (90) 의 규제 구조 (94) 와, 스핀 베이스 (21) 의 돌출부 (26) 의 쌍방이 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 하방에 있는 점에서, 되튀겨진 처리액이, 기판 (9) 의 처리면 이외의 주면 (「비처리면」) 에 부착되는 것이 억제된다.
연장 형성부 (92), 탈수부 (27) 가, 내열성이 우수한 불소 수지 등에 의해 형성되어 있으면, 처리액이 고온인 경우라도, 고온에 의한 차단판 (90), 스핀 베이스 (21) 의 손상을 억제할 수 있다. 그러나, 예를 들어, 불소 수지는, 염화비닐에 비해, 내열성이 우수하지만, 경도가 낮다. 차단판 (90) 이 처리 위치에 배치된 상태에서, 회전 구동부 (23) 가 회전축부 (22) 를 개재하여 스핀 베이스 (21) 를 회전시키는 경우, 가속 시, 감속 시에는, 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 가 서로 맞닿는다. 이로써, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 끼리, 즉 불소 수지제의 부재끼리가 충돌하여, 먼지가 발생하는 경우가 있다. 이 먼지가 기판 (9) 에 부착되면 결함이 된다. 또한, 연장 형성부 (92), 스핀 베이스 (21) 가 각각 동일한 재료로 일체적으로 형성되어 있어도 된다.
도 9 의 구성예에서는, 스핀 베이스 (21) 의 돌출부 (26) 는, 그 외주면 중 선단면 (262) 이외의 면을, EPDM 등의 탄성 부재에 의해 형성된 O 링 등에 의해 덮여 있다. 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26) 가 스핀 베이스 (21) 의 가속 시 등에 서로 맞닿는 경우라도, 먼지의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 중 적어도 일방이, 타방과 대향하는 부분이 탄성 부재에 덮여 있으면 발진을 억제할 수 있다. 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 중 어느 것이나, 탄성 부재에 의해 덮여 있지 않다고 해도 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
도 12, 도 13 은, 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치의 차단판, 스핀 베이스의 다른 구성예로서, 차단판 (90B) 과 스핀 베이스 (21B) 를 나타내는 종단면도이다. 도 12, 도 13 에서는, 차단판 (90B) 과 스핀 베이스 (21B) 의 주연부가 도시되어 있다. 도 12 에서는, 규제부 (201) 에 있어서의 단면이 도시되고, 도 13 에서는, 규제부 (201) 이외의 부분에 있어서의 단면이 도시되어 있다. 차단판 (90B) 은, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 대신에, 연장 형성부 (92B) 를 구비하고 있는 것을 제외하고, 차단판 (90) 과 동일한 구성을 구비하고 있다. 스핀 베이스 (21B) 는, 스핀 베이스 (21) 의 탈수부 (27) 대신에, 탈수부 (27B) 를 구비하고 있는 것을 제외하고 스핀 베이스 (21) 와 동일한 구성을 구비하고 있다.
연장 형성부 (92B) 의 내주면 (하면) (921B) 은, 본체부 (91) 중 박육의 주연부 이외의 부분의 하면과 매끄럽게 접속되어 있다. 내주면 (921B) 에는, 연장 형성부 (92) 의 함몰부 (922) 가 형성되어 있지 않다. 또, 탈수부 (27B) 에는, 탈수부 (27) 의 선단 부분의 상면에 형성되어 있는 곡면이 형성되어 있지 않고, 탈수부 (27B) 의 선단면은, 연직면이다. 처리액은, 기판 (9) 의 처리면 및 스핀 베이스 (21B) 의 상면의 주연부를 거쳐, 연장 형성부 (92B) 와 탈수부 (27B) 사이의 간극 (G2) 으로부터 외부로 배출된다. 규제부 (201) 가 형성되어 있는 부분에 있어서는, 처리액은, 규제부 (201) (규제 구조 (94), 돌출부 (26)) 에 의해 되튀겨진다.
그러나, 탈수부 (27B) 의 선단 부분, 즉 스핀 베이스 (21B) 의 측면 부분에 형성된 돌출부 (26) 와, 연장 형성부 (92B) 의 선단측 부분에 형성된 규제 구조 (94) 가, 스핀 베이스 (21B) 의 상면보다 하방에 배치되어 있다. 이로써, 되튀겨진 처리액의 기판 (9) 의 비처리면으로의 침입과 부착이 억제된다. 따라서, 차단판 (90) 대신에 차단판 (90B) 이 채용됨과 함께, 스핀 베이스 (21) 대신에 스핀 베이스 (21B) 가 채용되었다고 해도 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다. 또, 차단판 (90B) 이, 스핀 베이스 (21) 와 조합되어도 되고, 차단판 (90) 이, 스핀 베이스 (21B) 와 조합되어도 된다.
＜1－3. 다른 구성예에 대해＞
도 10, 도 11 은, 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치의 차단판, 스핀 베이스의 다른 구성예로서, 차단판 (90A) 과 스핀 베이스 (21A) 를 나타내는 사시도이다. 도 11 은, 차단판 (90A) 이 처리 위치에 배치되었을 때의 차단판 (90A) 과 스핀 베이스 (21A) 를 나타내는 사시도이다.
차단판 (90A) 은, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 대신에, 연장 형성부 (92A) 를 구비하는 것을 제외하고, 차단판 (90) 과 동일하게 구성되어 있다. 연장 형성부 (92A) 는, 연장 형성부 (92) 와 동일하게, 원판상의 본체부 (91) 의 주연부로부터 스핀 베이스 (21A) 의 측방에 연장 형성되어 있고, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향을 따라 환상으로 연장하는 통형상 벽부이다. 연장 형성부 (92A) 와 연장 형성부 (92) 의 차이는, 차단판 (90) 이 그 선단측 부분에 2 개의 규제 구조 (94) 를 구비하고 있던 것에 대해, 연장 형성부 (92A) 가, 그 선단측 부분에 복수의 규제 구조 (94A) 를 구비하는 것이다.
또, 스핀 베이스 (21A) 는, 스핀 베이스 (21) 의 탈수부 (27) 의 선단 부분에, 돌출부 (26) 대신에, 돌출부 (26A) 를 구비하는 것을 제외하고 스핀 베이스 (21) 와 동일하게 구성되어 있다. 규제 구조 (94A) 와 돌출부 (26A) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로의 스핀 베이스 (21A) 와 차단판 (90A) 의 서로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제부 (201A) 이다.
복수의 규제 구조 (94A) 는, 연장 형성부 (92A) 의 선단측 부분의 둘레 방향의 전체 둘레에 걸쳐서 연속하여 형성되어 있다. 각 규제 구조 (94A) 는, 돌출부 (26A) 의 적어도 일부를 수용 가능한 형상으로 형성된 함몰부이다. 각 규제 구조 (94A) 는, 연장 형성부 (92A) 의 선단 부분을 차단판 (90A) 의 직경 방향을 따라 관통함과 함께, 당해 선단 부분의 하방에도 개구하고 있다. 즉, 규제 구조 (94A) 는, 스핀 베이스 (21A) 의 측면 부분으로부터 돌출하는 돌출부 (26A) 에 회전축 (a1) 방향을 따라 향하는 방향으로 개구하고 있다. 또한, 도 6 에 나타내는 규제 구조 (94) 와 같이, 규제 구조 (94A) 가, 연장 형성부 (92A) 의 선단 부분을 차단판 (90A) 의 직경 방향을 따라 관통하고 있지 않다고 해도, 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다. 이 경우에는, 차단판 (90A) 에 의한 기판 (9) 의 밀폐성을 향상시킬 수 있다.
규제 구조 (94A) 중 적어도 하방측의 개구 부분의 둘레 방향을 따른 폭 W1 은, 당해 개구에 가까워짐에 따라 넓어지고 있다. 구체적으로는, 규제 구조 (94A) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향을 따라 서로 비스듬히 대향하는 측면 (경사면) (943A, 944A) 을 구비하고 있다. 측면 (943A) 과, 측면 (944A) 의 당해 둘레 방향을 따른 폭 W1 은, 하방에 가까워짐에 따라 넓어지고 있다.
돌출부 (26A) 는, 예를 들어, 5 각 기둥상으로 형성되어 있고, 그 축방향은, 스핀 베이스 (21A) 의 직경 방향을 따르고 있다. 돌출부 (26A) 는, 장방 형상의 수평한 저면 (267A) 과, 스핀 베이스 (21A) 의 둘레 방향에 있어서의 저면 (267A) 의 양단의 각각으로부터 상방, 즉 규제 구조 (94A) 의 개구측에 수직 형성된 장방 형상의 측면 (265A, 266A) 을 구비한다. 측면 (265A, 266A) 은, 연직면이다. 측면 (265A, 266A) 의 상단부에는, 경사면 (263A, 264A) 이 접속하고 있다. 경사면 (263A) 과 경사면 (264A) 은, 돌출부 (26A) 의 선단 부분 (상단 부분) 을 형성하고 있다. 경사면 (263A) 과, 규제 구조 (94A) 의 측면 (943A) 은 서로 대략 평행이며, 경사면 (264A) 과 측면 (944A) 도 서로 대략 평행이다. 경사면 (263A) 과 경사면 (264A) 의 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향의 폭 W2 는, 상방에 가까워짐에 따라 좁아지고 있다. 즉, 돌출부 (26A) 중 적어도 선단 부분은, 연장 형성부 (92A) 의 선단측 부분의 규제 구조 (94A) 에 대향하고, 당해 선단 부분의 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향을 따른 폭 W2 는, 규제 구조 (94) 에 가까워짐에 따라 좁아지고 있다. 또, 규제 구조 (94A) 와 돌출부 (26A) 는, 바람직하게는, 돌출부 (26A) 중 적어도 선단측 부분이, 규제 구조 (94A) 중 적어도 돌출부 (26A) 측의 개구 부분에 끼워 맞춤 가능하도록 각각 형성된다.
여기서, 스핀 베이스 (21A) 와 차단판 (90A) 중 적어도 일방이 둘레 방향의 초기 위치에 배치되어 있지 않고, 또한, 어느 일방이, 당해 둘레 방향으로의 회전이 로크되어 있지 않고, 타방이 로크되어 있는 상태에서, 차단판 (90A) 이 대피 위치로부터 처리 위치로 이동되는 경우에 대해, 검토한다.
복수의 규제 구조 (94A) 는, 연장 형성부 (92A) 의 선단측 부분의 둘레 방향의 전체 둘레에 걸쳐서 연속해서 형성되어 있다. 따라서, 차단판 (90A) 의 처리 위치로의 이동의 도중에, 돌출부 (26A) 의 선단이, 복수의 규제 구조 (94A) 중 어느 1 개의 규제 구조 (94A) 에 맞닿는다. 대부분의 경우에는, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 규제 구조 (94) 의 측면 (944A) 과, 돌출부 (26A) 의 경사면 (264A) 이 맞닿거나, 혹은, 규제 구조 (94) 의 측면 (943A) 과, 돌출부 (26A) 의 경사면 (263A) 이 맞닿게 된다. 즉, 서로 거의 동일한 경사의 경사면끼리가 서로 맞닿는다.
이 상태로부터, 차단판 (90A) 이 더욱 처리 위치로 이동되면, 그 과정에서, 규제 구조 (94A) 의 정부(頂部)와 돌출부 (26A) 의 선단이 서로 둘레 방향을 따라 가까워지도록, 연장 형성부 (92A) 가, 스핀 베이스 (21A) 에 대해 둘레 방향으로 상대적으로 회전하면서 처리 위치로 이동된다. 그리고, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 차단판 (90A) 이 처리 위치에 배치되었을 때에, 돌출부 (26A) 의 선단측 부분이, 규제 구조 (94A) 에 수용된다. 이로써, 차단판 (90A) 은, 스핀 베이스 (21A) 에 대한 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제된다.
또, 차단판 (90A) 이 처리 위치에 배치되었을 때에, 각 규제 구조 (94A) 의 상단과 돌출부 (26A) 의 상단은, 스핀 베이스 (21A) 의 상면보다 하방에 형성되어 있다. 따라서, 기판 (9) 의 처리면으로부터 배출되는 처리액이, 규제부 (201A) 에 닿아 되튀겨지는 경우라도, 되튀겨진 처리액의 기판 (9) 의 비처리면으로의 부착을 억제할 수 있다.
또한, 복수의 규제 구조 (94A) 가 스핀 베이스 (21A) 의 측면 부분에 있어서 둘레 방향을 따라 형성되고, 돌출부 (26A) 가, 연장 형성부 (92A) 의 선단측 부분에 형성되어도 된다.
도 14 ∼ 도 17 은, 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치의 차단판 및 스핀 베이스의 규제부의 다른 구성예로서, 차단판 (90C) 과 스핀 베이스 (21C) 의 규제부 (201C) 를 나타내는 횡단면도이다. 차단판 (90C) 은, 처리 위치에 배치되어 있다. 도 14 는, 스핀 베이스 (21) 가 정지하고 있는 상태의 규제부 (201) 를 나타내고, 도 15 는, 스핀 베이스 (21C) 가 가속하면서 회전하고 있을 때의 규제부 (201C) 를 나타내고 있다. 도 16 은, 스핀 베이스 (21C) 가 등속 회전하고 있을 때의 규제부 (201C) 를 나타내고, 도 17 은, 스핀 베이스 (21C) 가 감속하면서 회전하고 있을 때의 규제부 (201C) 를 나타내고 있다.
스핀 베이스 (21C) 는, 스핀 베이스 (21) 의 돌출부 (26) 대신에, 돌출부 (26C) 를 구비하는 것을 제외하고, 스핀 베이스 (21) 와 동일하게 구성되어 있다. 돌출부 (26C) 는, 내부에 자석 (101a) 을 구비하는 것을 제외하고, 돌출부 (26) 와 동일하게 구성되어 있다. 자석 (101a) 의 N 극은, 측면 (263) 측에 배치되고, S 극은 측면 (264) 측에 배치되어 있다. 자석 (101a) 은, N 극과 S 극이, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 대략 따라서 순차로 늘어서도록 돌출부 (26C) 에 형성되어 있다.
차단판 (90C) 은, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 대신에, 연장 형성부 (92C) 를 구비하는 것을 제외하고, 차단판 (90) 과 동일하게 구성되어 있다. 연장 형성부 (92C) 는, 내부에 자석 (101b, 101c) 을 구비하는 것을 제외하고, 연장 형성부 (92) 와 동일하게 구성되어 있다. 자석 (101b) 은, N 극과 S 극이, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 대략 따라서 순차로 늘어섬과 함께, N 극이, S 극보다 규제 구조 (94) 의 측면 (943) 에 가까워지도록 규제 구조 (94) 에 대해 스핀 베이스 (21C) 의 회전 방향 상류측에 형성되어 있다. 자석 (101c) 은, N 극과 S 극이, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 대략 따라서 순차로 늘어섬과 함께, S 극이, N 극보다 규제 구조 (94) 의 측면 (944) 에 가까워지도록 규제 구조 (94) 에 대해 스핀 베이스 (21C) 의 회전 방향 하류측에 형성되어 있다.
이와 같이, 자석 (101a ∼ 101c) 은, 자석 (101b) 의 N 극과, 자석 (101a) 의 N 극이 마주보고, 자석 (101a) 의 S 극과 자석 (101c) 의 S 극이 서로 마주보도록 배열되어 있다. 그리고, N 극끼리, S 극끼리의 사이에 자기적인 척력이 작용한다. 또, 각 자석 (101a ∼ 101c), 서로 대략 동일한 강도의 자장을 발생시키는 것이 바람직하다.
즉, 자석 (101a ∼ 101c) 은, 돌출부 (26C) 와 규제 구조 (94) 중 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26C) 의 전후에 배치된 측면 (943, 944) 의 각 간격을 넓히도록 자기적인 척력을 작용시킨다. 당해 자기적인 척력에 의해, 규제 구조 (94) 에 대한 돌출부 (26C) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제된다. 또, 자석 (101a ∼ 101c) 의 각각의 N 극과 S 극이 서로 반전하도록 자석 (101a ∼ 101c) 이 형성되어도 된다.
도 14 에 나타내는 바와 같이, 스핀 베이스 (21) 가 정지하고 있을 때에는, 측면 (943) 과 측면 (263) 의 간격을 넓히도록 작용하는 힘과, 측면 (944) 과 측면 (264) 의 간격을 넓히도록 작용하는 힘은, 서로 대략 동일해져, 이들의 간격은, 대략 동일해진다. 도 16 에 나타내는 바와 같이, 스핀 베이스 (21) 가 등속 회전하고 있을 때도, 이들의 간격은, 대략 동일해진다.
도 15 에 나타내는 바와 같이, 스핀 베이스 (21) 가 가속하고 있을 때에는, 각 자석간의 자기적인 척력에 더하여, 스핀 베이스 (21) 의 가속에 의해, 측면 (944) 과 측면 (264) 의 간격을 좁힘과 함께, 측면 (943) 과 측면 (263) 의 간격을 넓히는 힘이 더욱 작용한다. 이 때문에, 측면 (944) 과 측면 (264) 의 간격은, 측면 (943) 과 측면 (263) 의 간격보다 넓어진다.
도 17 에 나타내는 바와 같이, 스핀 베이스 (21) 가 감속하고 있을 때에는, 자석간의 자기적인 척력에 더하여, 스핀 베이스 (21) 의 감속에 의해, 측면 (944) 과 측면 (264) 의 간격을 넓힘과 함께, 측면 (943) 과 측면 (263) 의 간격을 좁히는 힘이 더욱 작용한다. 이 때문에, 측면 (944) 과 측면 (264) 의 간격은, 측면 (943) 과 측면 (263) 의 간격보다 좁아진다.
각 자석 (101a ∼ 101c) 과 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서, 스핀 베이스 (21C) 에 대한 차단판 (90C) 의 상대적인 움직임 (위치) 을 규제하는 규제부 (201C) 이다.
도 14 ∼ 도 17 에 나타내는 바와 같이 차단판 (90C) 이 처리 위치에 배치되어 있을 때는, 스핀 베이스 (21) 의 가속 중, 감속 중을 포함하여, 돌출부 (26C) 와 연장 형성부 (92C) 의 규제 구조 (94) 는, 항상, 비접촉 상태에서, 서로 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향의 움직임을 규제하는 것이 바람직하다. 이 경우에는, 돌출부 (26C) 와 연장 형성부 (92C) 의 규제 구조 (94) 의 접촉에 의한 발진을 완전히 방지할 수 있다. 만일, 각 자석이 작용시키는 척력의 크기나, 스핀 베이스 (21C) 의 가속도의 크기에서 기인하여, 스핀 베이스 (21) 의 가속 중, 감속 중에 돌출부 (26C) 와, 연장 형성부 (92C) 의 규제 구조 (94) 가 접촉한다고 해도, 각 자석 (101a ∼ 101c) 이 형성되지 않는 경우에 비해, 접촉 시의 충격을 대폭으로 경감할 수 있다. 따라서, 스핀 베이스 (21) 의 가속 중, 감속 중에 돌출부 (26C) 와, 연장 형성부 (92C) 의 규제 구조 (94) 가 접촉한다고 해도, 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
도 18 은, 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치의 차단판 및 스핀 베이스의 규제부의 다른 구성예로서, 연장 형성부 (92D) 와 스핀 베이스 (21C) 의 규제부 (201D) 를 나타내는 단면도이다. 도 19 는, 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치의 차단판 및 스핀 베이스의 규제부의 다른 구성예로서, 연장 형성부 (92E) 와 스핀 베이스 (21C) 의 규제부 (201E) 를 나타내는 단면도이다. 도 18, 도 19 는, 규제부 (201D, 201E) 부분을, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 원통에 의해 각각 절단한 단면도이다.
도 18, 도 19 에 나타내는 스핀 베이스 (21C) 는, 도 14 에 나타내는 스핀 베이스 (21C) 와 동일한 구성을 구비하고 있다. 도 18 의 차단판 (90D) 은, 도 14 의 차단판 (90C) 의 연장 형성부 (92C) 대신에, 연장 형성부 (92D) 를 구비하는 것을 제외하고, 차단판 (90C) 과 동일하게 구성되어 있다. 연장 형성부 (92D) 는, 내부에 자석 (101d) 을 추가로 구비하는 것을 제외하고, 연장 형성부 (92C) 와 동일하게 구성되어 있다. 각 자석 (101a ∼ 101e) 은, 서로 대략 동일한 강도의 자장을 발생시키는 것이 바람직하다. 자석 (101d) 은, 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 을 따라, N 극과 S 극이 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 대략 따라서 순차로 늘어서도록 형성되어 있다. 자석 (101d) 의 N 극은, 자석 (101a) 의 N 극과 마주 보고, 자석 (101d) 의 S 극은, 자석 (101a) 의 S 극과 마주본다. 이로써, 자석 (101a, 101d) 간에는, 자기적인 척력이 작용한다. 이로써, 상면 (941) 과 상면 (261) 의 간격을 넓히고자 하는 힘이 작용한다.
자석 (101a ∼ 101c) 은, 규제 구조 (94) 의 측면 (943, 944) 과 돌출부 (26C) 의 각 간격을, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 넓어지는 자기적인 척력을 작용시킨다. 또한, 자석 (101a, 101d) 은, 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 과 돌출부 (26C) 의 상면 (261) 의 간격을 회전축 (a1) 방향 (연직 방향) 으로 넓히도록 자기적인 척력을 작용시킨다. 이로써, 상면 (941) 과 상면 (261) 이 서로 가까워지는 움직임이 규제되고, 서로의 접촉도 억제되므로, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 의 접촉에 의한 먼지의 발생을 한층 더 억제할 수 있다.
각 자석 (101a ∼ 101d) 과 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향과, 연직 방향의 쌍방에 있어서, 스핀 베이스 (21C) 에 대한 차단판 (90C) 의 상대적인 움직임 (위치) 을 규제하는 규제부 (201D) 이다.
도 19 의 차단판 (90E) 은, 도 14 의 차단판 (90C) 의 연장 형성부 (92C) 대신에, 연장 형성부 (92E) 를 구비하는 것을 제외하고, 차단판 (90C) 과 동일하게 구성되어 있다. 연장 형성부 (92E) 는, 내부에 자석 (101e, 101f) 을 추가로 구비하는 것을 제외하고, 연장 형성부 (92C) 와 동일하게 구성되어 있다. 각 자석 (101a ∼ 101c, 101e, 101f) 은, 서로 대략 동일한 강도의 자장을 발생시키는 것이 바람직하다. 자석 (101e) 은, 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 의 상방에 있어서, 그 N 극이 상면 (941) 에 근접하고, 그 상방에 S 극이 위치하도록 형성되어 있다. 또, 자석 (101d) 의 N 극과 자석 (101a) 의 N 극이 서로 마주보고 있다. 자석 (101f) 은, 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 의 상방에 있어서, 그 S 극이 상면 (941) 에 근접하고, 그 상방에 N 극이 위치하도록 형성되어 있다. 또, 자석 (101d) 의 S 극과 자석 (101a) 의 S 극이 서로 마주보고 있다.
이로써, 자석 (101a, 101e) 간에, 자기적인 척력이 작용함과 함께, 자석 (101a, 101f) 의 사이에도 자기적인 척력이 작용한다. 이로써, 상면 (941) 과 상면 (261) 의 간격을 넓히고자 하는 힘이 작용한다.
자석 (101a ∼ 101e) 은, 규제 구조 (94) 의 측면 (943, 944) 과 돌출부 (26C) 의 각 간격을, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 넓히는 자기적인 척력을 작용시킨다. 또한, 자석 (101a, 101e, 101f) 은, 규제 구조 (94) 의 상면 (941) 과 돌출부 (26C) 의 상면 (261) 의 간격을 회전축 (a1) 방향 (연직 방향) 으로 넓히도록 자기적인 척력을 작용시킨다. 이로써, 상면 (941) 과 상면 (261) 이 서로 가까워지는 움직임이 규제되고, 서로의 접촉도 억제되므로, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 의 접촉에 의한 먼지의 발생을 한층 더 억제할 수 있다.
각 자석 (101a ∼ 101c, 101e, 101f) 과 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 는, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향과 연직 방향의 쌍방에 있어서, 스핀 베이스 (21C) 에 대한 차단판 (90C) 의 상대적인 움직임 (위치) 을 규제하는 규제부 (201E) 이다.
이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 연장 형성부 (92) 는, 차단판 (90) 의 본체부 (91) 의 주연부로부터 스핀 베이스 (21) 의 측방으로 연장되어 있다. 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과, 스핀 베이스 (21) 의 측면 부분 중 일방의 부분에 돌출부 (26) 가 형성됨과 함께, 타방의 부분에 규제 구조 (94) 가 형성되어 있다. 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 는, 스핀 베이스 (21) 의 상면보다 하방에 배치된다. 따라서, 기판 (9) 으로부터 배출된 처리액이, 돌출부 (26) 또는 규제 구조 (94) 에 의해 되튀겨져 기판 (9) 의 비처리면에 부착되는 것을 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 중 적어도 일방은, 타방과 대향하는 부분을 구비하고, 당해 부분은 탄성 부재에 덮여 있으므로, 돌출부 (26) 와 규제 구조 (94) 의 접촉 시의 충격을 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 회전축 (a1) 을 중심으로 하는 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26) 의 전후로부터 규제 구조 (94) 가 돌출부 (26) 에 대향하여 배치되는 처리 위치와, 회전축 (a1) 방향을 따라 규제 구조 (94) 가 돌출부 (26) 로부터 상대적으로 떨어져 배치되는 대피 위치의 사이에서, 차단판 (90) 이 회전축 (a1) 방향을 따라 스핀 베이스 (21) 에 대해 상대적으로 이동한다. 이로써, 규제 구조 (94) 가 돌출부 (26) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 상태와, 규제하지 않는 해방 상태를 용이하게 전환할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 규제 구조 (94) 는, 돌출부 (26) 의 적어도 일부를 수용 가능하도록 형성된 함몰부이다. 따라서, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과, 스핀 베이스 (21) 의 측면 부분을 근접할 수 있으므로, 차단판 (90) 을 소형화할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 차단판 (90A) 이 대피 위치로부터 처리 위치로 스핀 베이스 (21A) 에 대해 상대적으로 이동되는 과정에서, 돌출부 (26A) 는, 복수의 함몰부 (규제 구조 (94A)) 중 대향하는 함몰부에 맞닿는다. 차단판 (90A) 이 회전축 (a1) 주위의 회전이 규제되어 있지 않은 상태이면, 돌출부 (26A) 의 선단 부분이 당해 함몰부에 맞닿은 후는, 당해 함몰부 및 돌출부 (26A) 의 각각의 형상에서 기인하여, 돌출부 (26A) 가 당해 함몰부의 보다 깊게 움푹 팬 부분으로 유도되도록, 스핀 베이스 (21A) 에 대한 차단판 (90A) 의 둘레 방향에 있어서의 상대 위치가 수정되면서, 차단판 (90A) 이 회전축 (a1) 방향을 따라 처리 위치로 이동된다. 차단판 (90A) 이 처리 위치로 이동된 후는, 당해 함몰부가 돌출부 (26A) 의 둘레 방향의 움직임을 규제하고, 스핀 베이스 (21A) 에 대한 차단판 (90A) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제된다. 따라서, 스핀 베이스 (21A) 에 대한 차단판 (90A) 의 둘레 방향에 있어서의 상대 위치를 위치 맞춤하지 않아도, 복수의 함몰부 중 돌출부 (26A) 와 대향하는 함몰부가, 둘레 방향으로의 돌출부 (26A) 의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 구조가 된다. 이로써, 스핀 베이스 (21A) 에 대한 차단판 (90A) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 돌출부 (26C) 와 규제 구조 (94) 중 둘레 방향에 있어서 돌출부 (26C) 의 전후에 배치된 각 부분의 각 간격을 넓히도록, 복수의 자석 (101a ∼ 101b) 이 자기적인 척력을 작용시킨다. 이로써, 규제 구조 (94) 에 대한 돌출부 (26C) 의 둘레 방향으로의 상대적인 움직임이 규제된다. 따라서, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 의 접촉을 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 규제 구조 (94) 는, 회전축 (a1) 방향을 따라 돌출부 (26C) 와 대향하여 배치된 상면 (941) 을 포함하고 있다. 복수의 자석 (101a, 101d (101e 및 101f)) 이, 돌출부 (26C) 와 상면 (941) 의 간격을 회전축 (a1) 방향을 따라 넓히도록 자기적인 척력을 작용시킨다. 이로써, 상면 (941) 에 대해 돌출부 (26C) 가 회전축 (a1) 방향을 따라 가까워지는 움직임이 규제된다. 따라서, 규제 구조 (94) 와 돌출부 (26C) 의 접촉을 한층 더 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 연장 형성부 (92) 는, 차단판 (90) 의 주연부를 따라 형성된 통형상 벽부이므로, 연장 형성부 (92) 는, 원심력에 의해 기판 (9) 의 표면에서 외부로 배출되는 처리액의 흐름을 횡단하지 않는다. 이로써, 연장 형성부 (92) 에 있어서의 처리액의 비산을 억제할 수 있으므로 처리액이, 돌출부 (26) 또는 규제 구조 (94) 에 의해 되튀겨져 기판 (9) 의 비처리면에 부착되는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 통형상 벽부 (연장 형성부 (92)) 의 내주면 (921) 은, 차단판 (90) 의 하면과 연속됨과 함께, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면을 포함하고 있다. 원심력에 의해 기판 (9) 의 표면에서 외부로 배출되는 처리액은, 내주면 (921) 을 따라 원활하게 흐르기 쉬워지므로, 처리액을, 내주면 (921) 과 스핀 베이스 (21) 의 간극 (G1) 으로부터 외부로 배출하는 것이 용이하게 된다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 차단판 (90) 은, 기판 (9) 의 상면 및 단면을 둘러싸는 내측면 (901) 중, 연장 형성부 (92) 의 선단측 부분과, 기판 (9) 에 대향하는 대향면의 사이의 부분에 형성된 환상의 함몰부 (922) 를 포함하고, 당해 함몰부 (922) 는, 당해 대향면의 주연부보다 상방으로 움푹 패어 있다. 이로써, 기판 (9) 의 주연부의 외측에, 당해 대향면보다 상방으로 팽창한 환상의 공간 (923) 이 형성되므로, 기판 (9) 에 공급되어 기판 (9) 으로부터 배출된 후에 연장 형성부 (92) 의 내주면 (921) 으로부터 되튀겨지는 처리액이 기판 (9) 의 비처리면에 부착되는 것을 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 스핀 베이스 (21) 와 차단판 (90) 은, 회전축 (a1) 을 중심으로 동일한 방향으로 동일한 속도로 회전하므로, 기판 (9) 의 상면과 차단판 (90) 의 하면의 사이에, 기판 (9) 의 중심 (c1) 측을 향하는 기류의 발생을 억제할 수 있다. 이로써, 처리액이 기판 (9) 의 비처리면에 부착되는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
또, 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 1 에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 차단판 (90) 의 내측면 (901) 중 환상의 함몰부 (922) 보다 차단판 (90) 의 직경 방향 외측의 부분에, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 대해 경사 상방 외측으로 팽창하여 만곡하는 만곡면이 형성되어 있다. 이로써, 기판 (9) 에 토출되어 기판 (9) 으로부터 배출되는 처리액이 당해 만곡면을 따라 연장 형성부 (92) 의 선단측으로 흐르기 쉬워진다. 따라서, 차단판 (90) 의 내측면 (901) 중 환상의 함몰부 (922) 보다 직경 방향 외측의 부분에 있어서의 처리액의 되튀겨짐을 억제할 수 있으므로 처리액이 기판 (9) 의 비처리면에 부착되는 것을 한층 더 억제할 수 있다.
＜2. 실시 형태 2 에 대해＞
＜2－1. 기판 처리 장치 (1A) 의 구성＞
도 20 은, 기판 처리 장치 (1A) 의 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 기판 처리 장치 (1A) 는, 기판 처리 장치 (1) 의 처리부 (5) 대신에, 처리부 (5A) 를 구비하는 것, 및, 린스액 공급부 (84) 를 추가로 구비하는 것을 제외하고 기판 처리 장치 (1) 와 동일한 구성을 구비하고 있다. 즉, 기판 처리 장치 (1A) 는, 기판 처리 장치 (1) 와 동일하게, 도 2 ∼ 도 9 에 나타내는 구성을 구비하고 있다. 도 20 에서는, 차단판 (90) 이 대피 위치에 배치되어 있는 상태가 도시되어 있다. 또, 처리 위치에 배치된 차단판 (90) 이 가상선으로 도시되어 있다. 또, 기판 처리 장치 (1A) 는, 기판 처리 장치 (1) 와 동일하게, 도 10 ∼ 도 13 에 나타내는 차단판과 스핀 베이스의 다른 구성예를 채용 가능하고, 도 14 ∼ 도 19 에 나타내는 규제부의 다른 구성예를 채용 가능하다. 따라서, 기판 처리 장치 (1A) 에 대해, 기판 처리 장치 (1) 와 다른 구성을 설명한다. 동일한 구성에 대해서는, 상이한 구성의 설명에 있어서의 참조를 제외하고 설명의 일부 혹은 전부를 생략한다.
＜처리부 (5A)＞
처리부 (5A) 는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 처리면 (도 20 의 예에서는, 하면) 에 대한 처리를 실시한다. 구체적으로는, 처리부 (5A) 는, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 처리면, 즉 하면에 처리액을 공급한다. 또, 처리부 (5A) 는, 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라 린스액을 공급하여, 당해 상면을 세정한다.
도 20 에 나타내는 바와 같이, 처리부 (5A) 는, 예를 들어, 스핀 척 (2) 의 회전축부 (22) 의 중공부와 관통공 (21a) 을 관통하여 배치된 공급관 (81) 을 구비한다. 공급관 (81) 의 선단 (기판 (9) 측의 단) 에는, 노즐 (50A) 이 접속되어 있다. 공급관 (81) 에는, 처리액 공급관 (811), 린스액 공급관 (812) 이 삽입 통과되고 있다. 처리액 공급관 (811) 에는, 이것에 처리액을 공급하는 배관계인 처리액 공급부 (83) 가 접속되어 있다. 린스액 공급관 (812) 에는, 이것에 린스액을 공급하는 배관계인 린스액 공급부 (84) 가 접속되어 있다.
도 21 은, 노즐 (50A) 의 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 노즐 (50A) 은, 기판 (9) 의 하면의 중앙부와, 스핀 베이스 (21) 의 상면의 쌍방의 면과 간극을 두고 대략 평행하게 대향하는 원형의 판상 부재 (51) 를 구비한다. 판상 부재 (51) 의 중심축은, 회전축부 (22) 와 마찬가지로 회전축 (a1) 이다. 판상 부재 (51) 의 직경은, 예를 들어, 회전축부 (22) 의 직경과 동일한 정도이거나, 혹은 약간 크게 설정된다.
판상 부재 (51) 의 상면 (52) 은, 기판 (9) 의 하면과 대략 평행하게 대향하고, 하면 (53) 은, 스핀 베이스 (21) 의 상면의 중앙 부분과 대략 평행하게 대향한다. 상면 (52) 의 중앙 부분은, 상면 (52) 의 주연부보다 기판 (9) 측에 볼록 형상을 가지며, 하면 (53) 의 중앙 부분은, 하면 (53) 의 중앙 부분보다 스핀 베이스 (21) 의 상면측에 볼록 형상을 가지고 있다. 도 21 의 예에서는, 상면 (52) 의 중앙 부분은, 원추대상으로 형성되고, 하면 (53) 의 중앙 부분은, 원판상으로 형성되어 있다.
판상 부재 (51) 의 상면 (52) 의 중앙 부분에는, 기판 (9) 의 중심에 대향하는 개구를 갖는 처리액 토출구 (54) 가 형성되어 있다. 처리액 토출구 (54) 는, 처리액 공급관 (811) 과 접속되어 있다. 처리액 토출구 (54) 는, 처리액 공급관 (811) 을 통하여 처리액 공급부 (83) 로부터 공급되는 처리액을, 기판 (9) 의 중앙부의 하방으로부터 기판 (9) 의 하면의 중앙부를 향하여 대략 연직 방향으로 토출한다. 또, 상면 (52) 의 중앙 부분의 측면에는, 린스액 토출구 (「세정액 토출구」) (55) 가 형성되어 있고, 하면 (53) 의 중앙 부분의 측면에는, 린스액 토출구 (56) 가 형성되어 있다. 린스액 토출구 (55, 56) 는, 린스액 공급관 (812) 과 각각 접속되어 있다. 린스액 토출구 (55, 56) 는, 린스액 공급관 (812) 을 통하여 린스액 공급부 (84) 로부터 공급되는 린스액을 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 각각 토출한다. 보다 상세하게는, 린스액 토출구 (55) 는, 상면 (52) 과 스핀 베이스 (21) 의 상면의 쌍방의 면을 따라 린스액을 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 토출하고, 린스액 토출구 (56) 는, 하면 (53) 과 스핀 베이스 (21) 의 상면의 쌍방의 면을 따라 린스액을 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 토출한다.
노즐 (50A) 이, 린스액 토출구 (55, 56) 중 어느 일방만을 구비해도 된다. 또, 판상 부재 (51) 의 외주면 (측면) 에 형성되어, 린스액을 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라, 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측으로 토출하는 측면 토출구가, 린스액 토출구 (55, 56) 대신에, 혹은, 린스액 토출구 (55, 56) 중 적어도 일방에 추가하여, 형성되어도 된다.
또한, 기판 처리 장치 (1A) 에, 기판 (9) 의 상면 (보다 상세하게는, 상면의 전체 또는 주연부) 에 처리액을 공급 가능한 노즐이 추가로 형성되어도 된다. 이와 같은 노즐은, 예를 들어, 차단판 (90) 에 형성된다.
린스액 공급부 (84) 는, 구체적으로는, 린스액 공급원 (841d), 배관 (842d), 및 개폐 밸브 (843d) 를 구비하여 구성되어 있다.
노즐 (50A) 은, 기판 처리 장치 (1) 의 노즐 (50) 과 동일하게, SC－1 공급원 (831a), DHF 공급원 (831b), SC－2 공급원 (831c) 으로부터 공급되는 SC－1, DHF, SC－2 가 토출 가능하다.
린스액 공급원 (831d, 841d) 은, 린스액을 공급하는 공급원이다. 여기서는, 린스액 공급원 (「세정액 공급원」) (831d, 841d) 은, 예를 들어, 순수를, 린스액으로서 공급한다. 린스액 공급원 (831d) 은, 개폐 밸브 (833d) 가 끼워 삽입된 배관 (832d) 을 통하여, 처리액 공급관 (811) 에 접속되어 있다. 따라서, 개폐 밸브 (833d) 가 개방되면, 린스액 공급원 (831d) 으로부터 공급되는 린스액이, 노즐 (50A) 의 처리액 토출구 (54) 로부터 토출된다. 또, 린스액 공급원 (841d) 은, 개폐 밸브 (843d) 가 끼워 삽입된 배관 (842d) 을 통하여, 린스액 공급관 (812) 에 접속되어 있다. 따라서, 개폐 밸브 (843d) 가 개방되면, 린스액 공급원 (841d) 으로부터 공급되는 린스액이, 노즐 (50A) 의 린스액 토출구 (55, 56) 로부터 토출된다. 또한, 린스액으로서 순수, 온수, 오존수, 자기수, 환원수 (수소수), 각종의 유기 용제 (이온수, IPA (이소프로필알코올), 기능수 (CO2 수 등), 등이 이용되어도 된다.
처리액 공급부 (83) 로부터 처리액 공급관 (811) 에 처리액 (SC－1, DHF, SC－2, 혹은, 린스액) 이 공급되면, 노즐 (50A) 의 처리액 토출구 (54) 로부터, 스핀 베이스 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 처리면의 중앙 부근을 향하여, 당해 처리액이 토출되게 된다. 또, 린스액 공급부 (84) 로부터 린스액 공급관 (812) 에 린스액이 공급되면, 노즐 (50A) 의 린스액 토출구 (55, 56) 로부터 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라, 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 린스액이 토출되게 된다. 단, 처리액 공급부 (83) 가 구비하는 개폐 밸브 (833a, 833b, 833c, 833d) 의 각각과, 린스액 공급부 (84) 가 구비하는 개폐 밸브 (843d) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 의 제어하에서 개폐된다. 요컨대, 노즐 (50A) 로부터의 처리액 (즉, 처리액 및 린스액) 의 토출 양태 (구체적으로는, 토출되는 처리액의 종류, 토출 개시 타이밍, 토출 종료 타이밍, 토출 유량, 등) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다.
또한, 노즐 (50A) 은, 처리액 토출구 (54) 로부터의 처리액의 토출과, 린스액 토출구 (55, 56) 로부터의 린스액의 토출을 병행하여 실시할 수 있고, 당해 처리액의 토출과, 당해 린스액의 토출을 선택적으로 실시할 수도 있는 노즐 (50A) 과 공급관 (81) 과 처리액 공급부 (83) 는, 제어부 (130) 의 제어에 의해 기판 (9) 의 처리면에 처리액을 토출하는 처리액 토출부 (83A) 이다. 노즐 (50A) 과 공급관 (81) 과 린스액 공급부 (84) 는, 린스액을 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 토출하는 린스액 토출부 (84A) 이다.
＜2－2. 기판 처리 장치의 동작에 대해＞
도 22 는, 기판 처리 장치 (1A) 의 동작의 일례를 나타내는 플로우 차트이다. 이하에, 도 22 의 플로우 차트에 기초하여, 기판 처리 장치 (1A) 의 동작에 대해 설명한다. 이 플로우 차트는, 스핀 베이스 (21) 가 이미 기판 (9) 을 유지하고 있는 상태로부터, 기판 처리 장치 (1A) 가, 처리액을 사용한 기판 (9) 의 하면의 처리와, 린스액을 사용한 스핀 베이스 (21) 의 상면의 세정을 실시하는 동작을 나타낸다.
기판 처리 장치 (1A) 는, 처리액 공급부 (83) 가 공급하는 처리액에 의한 기판 (9) 의 하면의 처리와, 린스액 공급부 (84) 가 공급하는 린스액에 의한 스핀 베이스 (21) 의 상면의 세정을 실시할 때에, 먼저, 제어부 (130) 가, 회전 구동부 (23) 를 구동하여, 기판 (9) 을 유지하는 스핀 베이스 (21) 를 회전시킴으로써, 기판 (9) 의 회전을 개시한다 (스텝 S10).
기판 처리 장치 (1A) 는, 기판 (9) 이 회전하고 있는 상태에서, 처리액 공급부 (83), 린스액 공급부 (84) 를 제어하여, 처리액, 린스액의 토출을 개시한다 (스텝 S20). 구체적으로는, 제어부 (130) 가, 예를 들어, 개폐 밸브 (833a ∼ 833d) 를 선택적으로 열리게 함으로써, 처리액 공급부 (83) 에 처리액 (SC－1, DHF, SC－2, 혹은, 린스액) 의 공급을 개시시킨다. 처리액은, 처리액 공급관 (811) 을 통하여 노즐 (50A) 의 처리액 토출구 (54) 에 공급되고, 처리액 토출구 (54) 가 기판 (9) 의 하면을 향하여 처리액의 토출을 개시한다. 하면에 토출된 처리액은, 기판 (9) 의 하면과 스핀 베이스 (21) 중 기판 (9) 의 하면에만 접촉하고, 스핀 베이스 (21) 에는 접촉하지 않고, 회전하고 있는 기판 (9) 의 하면을 그 주연측으로 넓힌다.
제어부 (130) 는, 처리액의 공급 개시와 병행하여, 개폐 밸브 (843d) 를 열어 린스액 공급부 (84) 에 린스액의 공급을 개시시킨다. 린스액은, 린스액 공급관 (812) 을 통하여 노즐 (50A) 의 린스액 토출구 (55, 56) 에 공급되고, 린스액 토출구 (55, 56) 가 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 린스액의 토출을 개시한다.
토출된 린스액은, 기판 (9) 의 하면과 스핀 베이스 (21) 의 상면 중 스핀 베이스 (21) 의 상면에만 접촉하고, 기판 (9) 의 하면에는 접촉하지 않고, 회전하고 있는 스핀 베이스 (21) 의 상면을 그 주연측으로 넓힌다. 이로써, 기판 처리 장치 (1A) 는, 처리액에 의한 기판 (9) 의 하면의 처리와, 스핀 베이스 (21) 의 상면의 세정 처리를 병행하여 실시한다. 처리 중의 기판 (W) 의 회전 속도는, 예를 들어, 300 rpm 으로 설정된다. 처리 시간은, 예를 들어, 30 초간 등으로 설정된다.
기판 (9) 의 하면의 처리가 종료하면, 기판 처리 장치 (1A) 는, 기판 (9) 이 회전하고 있는 상태에서, 처리액 공급부 (83), 린스액 공급부 (84) 를 제어하여, 처리액, 린스액의 토출을 정지한다 (스텝 S30). 구체적으로는, 제어부 (130) 가, 예를 들어, 개폐 밸브 (833a ∼ 833d) 를 닫게 함으로써, 처리액 공급부 (83) 에 처리액의 공급을 정지시킨다. 이로써, 처리액 토출구 (54) 가 기판 (9) 의 하면을 향한 처리액의 토출을 정지한다. 제어부 (130) 는, 처리액의 토출의 정지와 병행하여, 개폐 밸브 (843d) 를 닫게 하여 린스액 공급부 (84) 에 린스액의 공급을 정지시킨다. 이로써, 린스액 토출구 (55, 56) 가, 린스액의 토출을 정지한다.
처리액의 토출에 의한 기판 (9) 의 하면의 처리와, 린스액의 토출에 의한 스핀 베이스 (21) 의 상면의 처리는, 상기와 같이 병행하여 실시되어도 되고, 순차적으로 실시되어도 된다.
기판 (9) 의 하면의 처리 및 세정액에 의한 스핀 베이스 (21) 의 상면의 세정 처리가 종료하면, 제어부 (130) 가 회전 구동부 (23) 를 제어하여 스핀 베이스 (21) 를 고속으로 회전시킴으로써, 기판 처리 장치 (1A) 는, 기판 (9) 및 노즐 (50A) 에 부착되어 있는 처리액, 린스액 등의 액체를 털어내어 기판 (9) 및 노즐 (50A) 을 건조시키는 털어내기 처리 (「액 털어내기 처리」) 를 실시한다 (스텝 S40).
액 털어내기 처리가 종료하면, 기판 처리 장치 (1A) 의 제어부 (130) 가, 회전 구동부 (23) 를 제어하여, 스핀 베이스 (21) 의 회전을 정지하고 (스텝 S50), 일련의 기판 처리를 종료한다.
이상과 같은 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 세정액은, 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 토출된다. 이로써, 세정액이 기판 (9) 의 하면에 닿아 하면에 부착되어 있는 처리액과 혼합되는 것을 억제하면서, 세정액에 의해 스핀 베이스 (21) 의 상면을 세정할 수 있음과 함께, 기판 (9) 의 하면으로부터 낙하한 처리액이, 스핀 베이스 (21) 의 상면에 부착되기 전에 세정액에 의해 씻어낼 수 있다. 따라서, 기판 (9) 의 하면에 공급된 처리액이 스핀 베이스 (21) 상에 낙하하여 부착되고, 그대로 잔존하는 것을 억제할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 기판 (9) 의 하면으로의 처리액의 토출과, 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따른 세정액의 토출이 병행하여 실시되므로, 기판 (9) 의 이면에 토출된 처리액이 스핀 베이스 (21) 의 상면에 부착되는 것을 효율적으로 억제할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 세정액은, 노즐 (50A) 의 판상 부재 (51) 의 상면 또는 하면과, 스핀 베이스 (21) 의 상면의 쌍방의 면을 따라, 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 토출되므로, 스핀 베이스 (21) 의 세정 중에 노즐 (50A) 의 세정도 실시할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 2 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 세정액은, 노즐 (50A) 의 판상 부재 (51) 의 측면에 형성된 린스액 토출구 (55, 56) 로부터 스핀 베이스 (21) 의 상면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 토출된다. 따라서, 린스액 토출구 (55, 56) 의 형상을 판상 부재 (51) 의 둘레 방향으로 길게 하여, 토출되는 세정액을 확산시키는 것이 용이해진다.
＜3. 실시 형태 3 에 대해＞
＜3－1. 기판 처리 장치 (1B) 의 구성＞
도 23 은, 기판 처리 장치 (1B) 의 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 기판 처리 장치 (1B) 는, 세정부 (6), 및 린스액 공급부 (85) 를 추가로 구비하는 것을 제외하고 기판 처리 장치 (1) 와 동일한 구성을 구비하고 있다. 즉, 기판 처리 장치 (1B) 는, 기판 처리 장치 (1) 와 동일하게, 도 2 ∼ 도 9 에 나타내는 구성을 구비하고 있다. 도 23 에서는, 차단판 (90) 이 대피 위치에 배치되어 있는 상태가 도시되어 있다. 또, 처리 위치에 배치된 차단판 (90) 이 가상선으로 도시되어 있다. 또, 기판 처리 장치 (1B) 는, 기판 처리 장치 (1) 와 동일하게, 도 10 ∼ 도 13 에 나타내는 차단판과 스핀 베이스의 다른 구성예를 채용 가능하고, 도 14 ∼ 도 19 에 나타내는 규제부의 다른 구성예를 채용 가능하다. 따라서, 기판 처리 장치 (1B) 에 대해, 기판 처리 장치 (1) 와 상이한 구성을 설명한다. 동일한 구성에 대해서는, 상이한 구성의 설명에 있어서의 참조를 제외하고 설명의 일부 혹은 전부를 생략한다.
＜세정부 (6)＞
세정부 (6) 는, 스핀 베이스 (21) 의 측면과 스플래쉬 가드 (31) 의 내부재 (312) 의 쌍방에 대한 세정 처리를 실시한다. 구체적으로는, 세정부 (6) 는, 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) (도 6) 의 하방으로부터 플랜지부 (29) 의 하면에 처리액을 공급한다. 도 23 에 나타내는 바와 같이, 세정부 (6) 는, 예를 들어, 스핀 척 (2) 의 케이싱 (24) 의 측면에 형성된 복수 (예를 들어, 4 개) 의 린스액 토출구 (86) 와 복수 (예를 들어, 2 개) 의 린스액 토출구 (87) 를 구비한다.
복수의 린스액 토출구 (86) 는, 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 의 하면 (보다 바람직하게는, 플랜지부 (29) 의 기단 부분의 하면인 곡면 (211) (도 6)) 에 대향하여 당해 하면의 하방에, 스핀 베이스 (21) 의 둘레 방향으로 분산하여 형성되어 있다. 각 린스액 토출구 (86) 는, 플랜지부 (29) 의 하면 (보다 바람직하게는, 곡면 (211)) 을 향하여, 연직 방향을 따라 상향으로 린스액을 토출 가능하게 구성되어 있다.
복수의 린스액 토출구 (87) 는, 스핀 베이스 (21) 의 원판상의 기부 (28) (도 6) 의 하면의 주연부에 대향하여 당해 주연부의 하방에, 스핀 베이스 (21) 의 둘레 방향으로 분산하여 형성되어 있다. 각 린스액 토출구 (87) 는, 기부 (28) 의 하면의 주연부를 향하여, 연직 방향을 따라 상향으로 린스액을 토출 가능하게 구성되어 있다.
또한, 상기 서술한 케이싱 (24) 의 축선은, 회전축 (a1) 과 일치한다. 케이싱 (24) 의 상단 부분은, 회전축 (a1) 을 축선으로 하는 원통상으로 형성되어 있고, 그 직경은, 스핀 베이스 (21) 의 원판상의 기부 (28) 의 직경보다 약간 작다. 따라서, 기부 (28) 의 하면의 주연부는, 하방에서 보았을 때에, 케이싱 (24) 의 상단 부분의 외주면으로부터 외측으로 비어져나와 당해 외주면을 둘러싸고 있다. 이로써, 기부 (28) 의 하면의 주연부를 향하여 하방으로부터 린스액을 토출 가능하게 되어 있다. 또, 케이싱 (24) 은, 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 의 하면에 비스듬히 대향하는 경사면을 구비하고 있다. 당해 경사면은, 원추대의 측면과 같은 형상을 가지고 있고, 상단 (스핀 베이스 (21) 측) 에 가까워짐에 따라 직경이 작아진다. 각 린스액 토출구 (86, 87) 는, 예를 들어, 당해 경사면에 개구하여 형성된다.
각 린스액 토출구 (86, 87) 에는, 이것에 린스액을 공급하는 배관계인 린스액 공급부 (85) 가 접속되어 있다. 린스액 공급부 (85) 는, 스핀 베이스 (21) 가 회전하고 있을 때에 린스액을 공급한다. 린스액 공급부 (85) 는, 구체적으로는, 린스액 공급원 (851d), 배관 (852d), 및, 개폐 밸브 (853d) 를, 조합하여 구성되어 있다.
린스액 공급원 (851d) 은, 린스액을 공급하는 공급원이다. 여기서는, 린스액 공급원 (851d) 은, 예를 들어, 순수를, 린스액으로서 공급한다. 린스액 공급원 (851d) 은, 개폐 밸브 (853d) 가 끼워 삽입된 배관 (852d) 을 통하여, 각 린스액 토출구 (86, 87) 에 접속되어 있다. 배관 (852d) 은, 케이싱 (24) 의 내부에서 복수의 지관으로 분기하고, 각 지관의 상단이 각 린스액 토출구 (86, 87) 에 접속하고 있다. 따라서, 개폐 밸브 (853d) 가 개방되면, 린스액 공급원 (851d) 으로부터 공급되는 린스액이, 각 린스액 토출구 (86, 87) 로부터 토출된다. 또한, 린스액으로서 순수, 온수, 오존수, 자기수, 환원수 (수소수), 각종의 유기 용제 (이온수, IPA (이소프로필알코올), 기능수 (CO2 수 등), 등이 이용되어도 된다.
내부재 (312) (외부재 (313)) 는, 그 상방 위치에 배치된 상태에서, 노즐 (50) 로부터 기판 (9) 에 공급된 후에 기판 (9) 으로부터 배출되는 처리액을 받을 수 있다. 또, 내부재 (312) 가, 그 하방 위치에 배치된 상태에서는, 내부재 (312) 의 상단이 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 의 측방에 위치한다.
린스액 공급부 (85) 로부터 린스액 토출구 (86, 87) 에 린스액이 공급되면, 린스액 토출구 (86, 87) 로부터, 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 의 하면과, 기부 (28) 의 하면의 주연부를 향하여, 당해 린스액이 토출되게 된다. 기부 (28) 의 하면의 주연부를 향하여 토출된 린스액에 의해 기부 (28) 의 하면이 세정된다. 플랜지부 (29) 의 하면을 향하여 토출된 린스액은, 기부 (28) 의 측면을 세정하면서, 당해 측면을 따라 나아가, 플랜지부 (29) 의 하면에 닿는다. 이 처리액은, 스핀 베이스 (21) 의 회전에 의한 원심력에 의해 플랜지부 (29) 의 하면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측으로 이동하고, 플랜지부 (29) 의 선단부로부터 스핀 베이스 (21) 의 외부에 배출된다. 하방 위치에 배치된 내부재 (312) 는, 그 상단측 부분의 내주면에 의해, 스핀 베이스 (21) 의 외부에 배출된 당해 린스액을 받는다. 이로써, 내부재 (312) 의 내주면이 세정된다. 단, 린스액 공급부 (85) 가 구비하는 개폐 밸브 (853d) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있고, 제어부 (130) 의 제어하에서 개폐된다. 요컨대, 린스액 토출구 (86, 87) 로부터의 린스액의 토출 양태 (구체적으로는, 토출 개시 타이밍, 토출 종료 타이밍, 토출 유량, 등) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다. 린스액 토출구 (86, 87) 와 린스액 공급부 (85) 는, 제어부 (130) 의 제어에 의해 린스액을 토출하는 린스액 토출부 (「세정액 토출부」) (85A) 이다.
＜3－2. 기판 처리 장치의 동작과 구성＞
도 24 는, 기판 처리 장치 (1B) 가 노즐 (50), 세정부 (6) 에 의해, 기판 (9) 의 하면의 처리와, 스핀 베이스 (21) 의 측면 및 내부재 (312) 의 세정 처리를 실시하는 동작을 나타내는 플로우 차트이다. 도 25 는, 도 24 의 플로우 차트에 나타내는 동작을 설명하기 위한 모식도이다. 도 25 에는, 도 24 의 처리의 순서에 따라 기판 처리 장치 (1B) 의 종단면이 도시되어 있다. 도 26 은, 도 24 의 플로우 차트에 있어서의 스텝 S150 의 동작을, 보다 상세하게 설명하기 위한 모식도이다. 스텝 S150 은, 기판 처리 장치 (1B) 가, 세정부 (6) 에 의해 세정 처리를 실시하는 스텝이다. 도 26 에는, 기판 처리 장치 (1B) 중, 차단판 (90) 및 스핀 베이스 (21) 의 주연부와, 내부재 (312) 및 외부재 (313) 의 상측의 일부를 포함하는 부분의 종단면이 도시되어 있다. 스플래쉬 가드 (31) 의 외부재 (313) 가 상방 위치에 배치되고, 내부재 (312) 가 하방 위치에 배치되어 있다.
이하에, 도 24 ∼ 도 26 을 참조하면서, 기판 처리 장치 (1B) 가 기판 (9) 의 하면의 처리와, 스핀 베이스 (21) 의 측면 및 내부재 (312) 의 세정 처리를 실시하는 동작의 일례에 대해 설명한다. 또, 차단판 (90), 스핀 베이스 (21), 내부재 (312), 외부재 (313) 의 위치 관계 등에 대해서도 적절히 설명한다. 필요에 따라, 다른 도면도 적절히 참조한다. 여기서는, 노즐 (50) 이 기판 (9) 의 하면에 처리액을 토출하는 경우에 대해 설명하지만, 예를 들어, 차단판 (90) 의 중앙부에 형성된 노즐로부터 기판 (9) 의 상면에 처리액을 공급하여 기판 (9) 의 상면을 처리해도 된다.
도 24 에 나타내는 동작의 개시에 앞서, 기판 (9) 이 스핀 베이스 (21) 상에 반송되어, 척 핀 (25) 에 의해 유지되어 있다. 또, 차단판 (90) 은, 처리 위치에 배치되고, 내부재 (312), 외부재 (313) 는, 각각의 하방 위치에 배치되어 있다. 스핀 베이스 (21) 는 회전이 정지되어 있고, 노즐 (50), 린스액 토출구 (86, 87) 는, 처리액, 린스액의 토출을 실시하고 있지 않다.
기판 처리 장치 (1B) 는, 내부재 (312), 외부재 (313) 가 각각의 하방 위치에 배치되어 있는 상태로부터, 내부재 (312), 외부재 (313) 를 각각의 상방 위치로 이동한다 (스텝 S110). 구체적으로는, 제어부 (130) 가 가드 구동 기구 (32) 를 제어하여, 내부재 (312), 외부재 (313) 를 각각의 상방 위치로 이동시켜, 상방 위치에 배치시킨다. 그 후, 바람직하게는, 표면 보호부 (4) 의 커버 가스 노즐 (41) (도 23) 이, 스핀 베이스 (21) 상에 유지되는 기판 (9) 의 상면의 중앙 부근을 향하여, 가스 (커버 가스) 의 토출을 개시한다.
스텝 S110 의 처리가 완료되면, 기판 처리 장치 (1B) 는, 스핀 베이스 (21) 의 회전을 개시한다 (스텝 S120). 구체적으로는, 제어부 (130) 가, 회전 구동부 (23) 를 제어하여 회전축부 (22) 의 회전을 개시시킨다. 이로써, 스핀 베이스 (21) 가 회전축부 (22) 와 함께 회전을 개시한다. 스핀 베이스 (21), 즉 기판 (9) 의 회전수는, 예를 들어, 1000 ∼ 1500 rpm 으로 설정된다.
다음으로, 기판 처리 장치 (1B) 는, 처리액에 의한 기판 (9) 의 하면의 처리를 실시한다 (스텝 S130). 구체적으로는, 제어부 (130) 가, 예를 들어, 개폐 밸브 (833a ∼ 833d) 를 선택적으로 열리게 함으로써, 처리액 공급부 (83) 에 처리액 (SC－1, DHF, SC－2, 혹은, 린스액) 의 공급을 개시시킨다. 처리액은, 배관 (832a) 등을 통하여 노즐 (50) 에 공급되고, 노즐 (50) 이 기판 (9) 의 처리면 (도시의 예에서는, 하면) 을 향하여 처리액의 토출을 개시한다. 처리액은, 예를 들어, 600 ㎖/분의 유량으로, 7 ∼ 10 초간 공급된다. 그 후, 제어부 (130) 는, 개폐 밸브 (833a ∼ 833d) 를 닫게 함으로써, 처리액 공급부 (83) 에 처리액의 공급을 정지시킨다. 이로써, 노즐 (50) 이 기판 (9) 의 하면을 향한 처리액의 토출을 정지한다.
처리액 공급부 (83) 에 처리액의 공급을 정지시키면, 기판 처리 장치 (1B) 는, 내부재 (312) 를 하방 위치로 이동시켜, 하방 위치에 배치한다 (스텝 S140). 구체적으로는, 제어부 (130) 가, 가드 구동 기구 (32) 에 내부재 (312) 를 상방 위치로부터 하방 위치로 이동시켜, 하방 위치에서 내부재 (312) 를 정지시킨다.
내부재 (312) 가 하방 위치에 배치되면, 내부재 (312) 의 상단이 플랜지부 (29) 의 하면의 측방에 위치한다. 보다 구체적으로는, 내부재 (312) 의 상단의 하면은, 플랜지부 (29) 의 선단측 부분의 하면에 대해, 예를 들어, 하방 25 mm ∼ 상방 25 mm 의 범위에 배치된다. 바람직하게는, 도 26 에 나타내는 바와 같이, 내부재 (312) 의 상단의 하면과 플랜지부 (29) 의 선단측 부분의 하면은 동일한 높이로 배치된다. 내부재 (312) 가 하방 위치에 배치된 것에 의해 내부재 (312) 의 상단이 플랜지부 (29) 의 하면의 측방에 위치하면, 내부재 (312) 는, 그 상단 부분의 내주면에 의해, 플랜지부 (29) 의 하면을 따라 스핀 베이스 (21) 의 외부에 배출되는 린스액을 받을 수 있다.
내부재 (312), 외부재 (313) 의 상단부와, 차단판 (90) 의 외주면과의 수평 방향의 간격 D5 는, 예를 들어, 1 mm ∼ 5 mm 로 설정된다. 간격 D5 는, 내부재 (312), 외부재 (313) 의 승강에 관계없이 일정하다. 또, 내부재 (312), 외부재 (313) 의 상단부와, 탈수부 (27) 의 선단과의 수평 방향의 간격 D6 은, 예를 들어, 5 mm ∼ 10 mm 로 설정된다. 내부재 (312), 외부재 (313) 의 상단부와, 플랜지부 (29) 의 선단면과의 수평 방향의 간격 D7 은, 예를 들어, 15 mm ∼ 25 mm 로 설정된다. 또, 내부재 (312), 외부재 (313) 의 상단부와, 기부 (28) 의 측면과의 수평 방향의 간격 D8 은, 예를 들어, 40 mm 로 설정된다. 내부재 (312), 외부재 (313) 의 상단부의 두께는, 예를 들어, 5 mm 정도이다. 탈수부 (27) 의 하면과, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 의 하단면은 대략 동일한 높이로 설정되고, 이들의 면과, 내부재 (312) 의 상단부의 하면의 연직 방향의 간격 D9 는, 예를 들어, 10 mm 로 설정된다.
기판 처리 장치 (1B) 는, 내부재 (312) 를 하방 위치에 배치시킨 상태에서, 처리액에 의한 기판 (9) 의 하면의 처리를 실시하면서, 스핀 베이스 (21) 의 측면과, 내부재 (312) 의 내주면의 세정 처리를 실시한다 (스텝 S150). 즉, 제어부 (130) 는, 가드 구동 기구 (32) 에 내부재 (312) 를 하방 위치에 배치시킨 상태에서, 기판 (9) 을 유지하면서 회전하고 있는 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 의 하면을 향하여, 린스액 토출구 (86, 87) 에 린스액을 토출시킨다. 구체적으로는, 제어부 (130) 는, 개폐 밸브 (353d) 를 열게 하여, 린스액 공급원 (851d) 으로부터 각 린스액 토출구 (86, 87) 에, 예를 들어, 600 ㎖/분의 유량으로, 7 ∼ 10 초간 린스액을 공급시킨다. 린스액은, 배관 (852d) 을 통하여 각 린스액 토출구 (86, 87) 에 공급되고, 각 린스액 토출구 (86, 87) 는, 린스액을 연직 방향 상방으로 토출한다.
또한, 각 린스액 토출구 (86, 87) 에 대한 린스액의 공급 개시에 앞서, 제어부 (130) 는, 바람직하게는, 회전 구동부 (23) 를 제어하여, 스핀 베이스 (21) 의 회전수를 상승시킨다. 구체적으로는, 당해 회전수는, 예를 들어, 2000 rpm ∼ 2500 rpm 정도로 설정된다. 이로써, 플랜지부 (29) 의 하면에 토출되는 린스액이 내부재 (312) 에 의해 도달하기 쉬워진다.
또, 제어부 (130) 는, 스텝 S150 에 있어서, 각 린스액 토출구 (86, 87) 로부터 린스액을 연직 방향 상향으로 토출시키면서, 스텝 S130 의 처리와 동일하게 처리액 공급부 (83) 를 제어하여 기판 (9) 의 하면을 향하여 노즐 (50) 에 처리액을 토출시킨다. 스텝 S150 에 있어서 토출되는 처리액은, 스텝 S130 에 있어서 토출되는 처리액과 동일한 것이어도 되고, 상이해도 된다.
도 26 에 나타내는 바와 같이, 플랜지부 (29) 의 곡면 (211) 을 향하여 토출된 린스액은, 기부 (28) 의 측면을 따라 흘러 당해 측면을 세정한다. 곡면 (211) 에 도달한 린스액의 진행 방향은, 곡면 (211) 에 의해 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측 방향으로 변경된다. 린스액은, 스핀 베이스 (21) 의 회전에 의한 원심력에 의해 플랜지부 (29) 의 선단으로부터 내부재 (312) 의 상단측을 향하여 날아간다. 내부재 (312) 가 하방 위치에 배치되고, 그 상단이 플랜지부 (29) 의 선단측 부분의 하면의 측방에 배치된 경우에는, 플랜지부 (29) 의 선단으로부터 날아간 린스액은, 도 26 에 나타내는 바와 같이, 내부재 (312) 의 상단측 부분의 하면을 포함하는 내부재 (312) 의 내주면에 비산하여, 당해 내주면을 세정한다.
또, 노즐 (50) 에 의해 기판 (9) 의 하면에 공급된 처리액은, 차단판 (90) 의 연장 형성부 (92) 의 선단부 (하단부) 와, 스핀 베이스 (21) 의 탈수부 (27) 의 선단부의 간극 (G1) (도 7) 으로부터 스핀 베이스 (21) 의 외부에 배출된다. 탈수부 (27) 는, 플랜지부 (29) 보다 상방에 위치함과 함께, 플랜지부 (29) 보다 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측으로 돌출되어 있다. 따라서, 탈수부 (27) 의 상면으로부터 배출되는 처리액과, 플랜지부 (29) 의 하면으로부터 배출되는 린스액은 서로 분리된 상태에서 스핀 베이스 (21) 로부터 배출된다. 배출된 처리액과 린스액은, 내부재 (312) 의 상단측 부분에 의해 서로 분리된 상태에서, 상하 방향으로 확산되면서 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측으로 비산한다. 처리액은, 외부재 (313) 의 상단측 부분의 상면 상방 위치에 배치되어 있는 외부재 (313) 에 의해 받아들인다. 린스액은, 내부재 (312) 의 상단측 부분의 내주면을 포함하는 외부재 (313) 의 내주면에 받아들여, 내주면을 세정한다.
제어부 (130) 는, 스텝 S150 의 처리가 종료하면, 처리액 공급부 (83), 린스액 공급부 (85) 에 처리액, 린스액의 공급을 정지시켜, 내부재 (312), 외부재 (313) 의 하방 위치로의 이동, 혹은 스핀 베이스 (21) 의 회전 정지 등을 실시한다.
기술한 바와 같이, 탈수부 (27) 의 외주연부의 상면은, 경사 상방 외측을 향하여 장출하여 만곡한 곡면이며, 탈수부 (27) 의 외주연부 (선단 부분), 외주연에 가까워짐에 따라 서서히 두께가 얇아지고 있다. 따라서, 간극 (G1) 으로부터 배출된 처리액이, 탈수부 (27) 의 하면을 따라 플랜지부 (29) 측으로 돌아 들어가는 것이 억제된다. 따라서, 처리액이, 플랜지부 (29) 로부터 배출되는 린스액에 섞여 내부재 (312) 의 내주면을 향하여 비산하는 것이 억제된다.
예를 들어, 후술하는 탈수부 (27B) (도 13) 의 선단면은 연직면이지만, 탈수부 (27B) 나, 플랜지부 (29) 보다 상방에 위치함과 함께, 플랜지부 (29) 보다 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측으로 돌출되어 있다. 따라서, 탈수부 (27B) 의 상면으로부터 배출되는 처리액과, 플랜지부 (29) 의 하면으로부터 배출되는 린스액은 서로 분리된 상태에서 스핀 베이스 (21) 로부터 배출된다. 이와 같이, 탈수부 (27B) 가 채용되었다고 해도 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
예를 들어, 탈수부 (27 (27B)) 가 형성되지 않는 경우에는, 기판 (9) 에 토출되어 기판 (9) 을 거쳐 스핀 베이스 (21) 로부터 배출되는 처리액의 일부는, 플랜지부 (29) 의 하면측으로 돌아 들어간다. 이 경우에는, 돌아 들어간 처리액은, 플랜지부의 하면을 향하여 하방으로부터 토출되어 당해 하면을 따라 배출되는 린스액과 섞여 스핀 베이스 (21) 로부터 배출된다. 그러나, 기판 (9) 에 공급되는 처리액으로서, 린스액 공급부 (85) 가 공급하는 린스액과 동일한 린스액이 채용되면, 당해 혼합에 의한 문제는 생기지 않고, 린스액에 의해 기판 (9) 의 세정과, 내부재 (312) 의 내주면의 세정을 병행하여 실시할 수 있다. 따라서, 탈수부 (27 (27B)) 가 형성되지 않는다고 해도 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
또, 예를 들어, 스텝 S150 에 있어서 노즐 (50) 로부터 처리액을 토출하지 않고 린스액 토출구 (86, 87) 로부터의 린스액을 토출하면, 스텝 S130 에 있어서 기판 (9) 에 부착되어 잔존되어 있는 처리액을, 기판 (9) 의 고속 회전에 의해 털어내어 기판 (9) 을 건조시킬 수 있다. 이 경우에는, 스텝 S150 에 있어서, 다량의 처리액이 기판 (9) 을 거쳐 스핀 베이스 (21) 로부터 배출되는 일이 없다. 따라서, 외부재 (313) 가 형성되지 않는 경우라도, 스텝 S150 에 있어서, 스핀 베이스 (21) 의 측면의 세정과, 내부재 (312) 의 내주면의 세정을, 린스액 토출구 (86, 87) 에 의해 실시할 수 있다. 따라서, 외부재 (313) 가 형성되지 않는다고 해도 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
또, 플랜지부 (29) 의 기단 부분의 하면에 곡면 (211) 이 형성되어 있지 않고, 예를 들어, 플랜지부 (29) 의 하면과, 기부 (28) 의 측면이 대략 직교하고 있어도 된다. 이 경우에 있어서도, 플랜지부 (29) 의 하면에 토출된 린스액은, 스핀 베이스 (21) 의 회전에 의한 원심력에 의해 플랜지부 (29) 의 선단으로부터 내부재 (312) 의 내주면을 향하여 배출된다.
또, 각 린스액 토출구 (87) 가, 스핀 베이스 (21) 의 하면 주연부를 향하여 린스액을 토출하지 않는 경우라도, 각 린스액 토출구 (86) 가 플랜지부 (29) 의 하면을 향하여 린스액을 토출하면, 스핀 베이스 (21) 의 측면의 세정과, 내부재 (312) 의 내주면의 세정을 실시할 수 있다. 따라서, 각 린스액 토출구 (87) 가 형성되지 않는다고 해도 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
또, 스핀 베이스 (21), 린스액 토출구 (86, 87), 및 내부재 (312) 중 스핀 베이스 (21) 만이 회전축 (a1) 을 중심으로 회전한다. 이 때문에, 다수의 린스액 토출구 (86) 가 스핀 베이스 (21) 의 둘레 방향을 따라 분산하여 배치되면, 내부재 (312) 의 내주면을 보다 균일하게 세정할 수 있으므로 바람직하지만, 1 개의 린스액 토출구 (86) 만이 형성된다고 해도 스핀 베이스 (21) 의 측면과 내부재 (312) 의 내주면을 병행하여 세정할 수 있으므로, 본 발명의 유용성을 저해하는 것은 아니다.
이상과 같은 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 기판 (9) 으로부터 배출되는 처리액을 받는 것이 가능한 상방 위치에 내부재 (312) 가 배치된 상태에서, 처리액 토출부 (83A) 가 기판 (9) 의 처리면을 향하여 처리액을 토출한다. 그 후, 내부재 (312) 의 상단이 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 의 측방에 위치하는 하방 위치에 내부재 (312) 가 배치된 상태에서, 린스액 토출부 (85A) 가, 기판 (9) 을 유지하면서 회전하는 스핀 베이스 (21) 의 플랜지부 (29) 를 향하여 린스액을 토출한다. 토출된 린스액은, 플랜지부 (29) 의 하면으로부터 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 배출된다. 하방 위치에 배치된 내부재 (312) 의 상단은, 플랜지부 (29) 의 측방에 위치하므로, 배출된 처리액은 내부재 (312) 의 상단 부분의 내주면에 닿는다. 이로써, 스핀 베이스 (21) 에 기판 (9) 을 유지한 상태에서, 처리액이 부착되어 있는 내부재 (312) 와 스핀 베이스 (21) 의 쌍방을 공통의 린스액 토출부 (85A) 에 의해 세정할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 탈수부 (27) 가 플랜지부 (29) 보다 상방에 위치함과 함께, 플랜지부 (29) 보다 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측으로 돌출되어 있다. 하방으로부터 플랜지부 (29) 에 토출된 린스액은, 플랜지부 (29) 의 하면을 따라 플랜지부 (29) 의 선단으로 이동하고, 선단으로부터 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 배출된다. 기판 (9) 의 처리면에 토출되어 기판 (9) 으로부터 배출되는 처리액은, 탈수부 (27) 의 상면을 거쳐 린스액보다 직경 방향 외측 또한 상방으로부터 스핀 베이스 (21) 의 직경 방향 외측을 향하여 배출된다. 따라서, 처리액과 린스액은 서로 분리된 상태에서 스핀 베이스 (21) 로부터 배출되므로, 배출된 처리액과 린스액이 혼합되는 것을 억제할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 린스액 토출부 (85A) 는, 플랜지부 (29) 의 곡면 (211) 을 향하여 하방으로부터 린스액을 토출한다. 곡면 (211) 은, 스핀 베이스 (21) 의 기부 (28) 의 외주면과, 플랜지부 (29) 의 하면의 각각에 완만하게 접속한다. 따라서, 곡면 (211) 에 토출된 후, 하방에 되튀겨지는 린스액을 감소시켜, 보다 많은 린스액을 플랜지부 (29) 의 하면을 따라 배출할 수 있다. 이로써, 내부재 (312) 의 내주면을 보다 효율적으로 세정할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 내부재 (312) 가 하방 위치에 배치됨과 함께, 처리액 토출부 (83A) 로부터 기판 (9) 에 공급된 후에 기판 (9) 으로부터 배출되는 처리액을 받는 것이 가능한 위치에 외부재 (313) 가 배치된다. 이 상태에서, 기판 (9) 의 처리면을 향하여 처리액이 토출됨과 함께, 플랜지부 (29) 의 하면을 향하여 린스액이 토출된다. 따라서, 기판 (9) 의 처리와, 스핀 베이스 (21) 및 내부재 (312) 의 세정 처리를 병행하여 실시할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 방법 및 이상과 같이 구성된 본 실시 형태 3 에 관련된 기판 처리 장치의 어느 것에 의해서도, 차단판 (90) 에 의해 기판 (9) 의 밀폐성을 높인 상태에서, 스핀 베이스 (21) 및 내부재 (312) 의 세정을 할 수 있기 때문에, 기판 (9) 의 상면을 한층 더 보호할 수 있다.
본 발명은 상세하게 나타내어 기술되었지만, 상기의 기술은 모든 양태에 있어서 예시이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명은, 그 발명의 범위 내에 있어서, 실시 형태를 적절히, 변형, 생략하는 것이 가능하다.
1, 1A, 1B : 기판 처리 장치
21 : 스핀 베이스 (유지 부재)
23 : 회전 구동부
231 : 회전 기구
26 : 돌출부
44 : 구동부 (이동부)
50, 50A : 노즐
83 : 처리액 공급부
83A : 처리액 토출부
84, 85 : 린스액 공급부
84A, 85A : 린스액 토출부
86, 87 : 린스액 토출구
90 : 차단판 (대향 부재)
91 : 본체부
92 : 연장 형성부
94 : 규제 구조
312 : 내부재 (가드)
313 : 외부재 (외측 가드)

Claims (4)

  1. 기판을 하방으로부터 대략 수평으로 유지하고, 상기 기판의 하면과 간극을 두고 대향하는 상면을 구비하여 소정의 회전축 둘레로 회전 가능하게 형성된 유지 부재와,
    상기 유지 부재에 유지된 상기 기판의 상면과 간극을 두고 대향하는 본체부와, 상기 본체부의 주연부 중 적어도 일부로부터 상기 유지 부재의 측방으로 연장되는 연장 형성부를 구비하여 상기 회전축을 중심으로 회전 가능하게 형성된 대향 부재와,
    상기 유지 부재와 상기 대향 부재가, 상대적인 움직임을, 상기 유지 부재의 주연부와, 상기 연장 형성부의 일부에 형성되어 상기 회전축을 중심으로 하는 상기 주연부의 상기 둘레 방향으로의 상대적인 움직임을 규제하는 규제 구조를 통하여 규제된 상태에서, 상기 유지 부재와 상기 대향 부재의 적어도 일방을, 상기 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와,
    상기 유지 부재에 유지되어 회전하고 있는 상기 기판의 처리면에 처리액을 토출하는 노즐을 구비하고,
    상기 노즐로부터 토출된 처리액은 상기 유지 부재의 상기 주연부와 상기 연장 형성부의 간극을 통과하여 하방으로 배출되는, 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 유지 부재의 측면 부분의 선단 부분의 상면과, 상기 연장 형성부의 선단측 부분에 있어서의 상기 유지 부재의 대향면이 서로 만곡되어 있는, 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 규제 구조는, 유지된 상기 기판의 하면보다 하방에 배치되어 있는, 기판 처리 장치.
  4. 플랜지부를 구비하는 유지 부재에 의해 기판을 유지하는 유지 스텝과,
    상기 기판을 회전시키는 회전 스텝과,
    처리액을 상기 기판에 공급하는 공급 스텝과,
    가드에 의해 상기 처리액을 받는 처리 스텝과,
    상기 플랜지부의 아래로부터 세정액을 상기 플랜지부에 공급함으로써, 상기 가드에 부착된 상기 처리액을 세정하는 세정 스텝
    을 구비하고,
    상기 가드는, 상기 유지 부재의 주위를 둘러싸는 승강 가능한 통형상의 내부재와, 그 내부재의 외측에 형성되어 승강 가능한 통형상의 외부재를 갖고,
    상기 외부재가 상승되어 있는 상태에서 상기 외부재가 상기 처리액을 받는 상기 처리 스텝과, 상기 내부재가 하강되어 있는 상태에서 상기 내부재를 세정하는 상기 세정 스텝을 동시에 실행하는, 기판 처리 방법.
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