KR102415678B1 - 기판 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

척 조립체, 적어도 하나의 제1 노즐(107, 207) 및 울트라 또는 메가 음파 장치(206, 306)를 구비하는 기판 세정 장치. 상기 척 조립체는 기판을 수용하고 클램핑하도록 구성된다. 상기 적어도 하나의 제1 노즐(107, 207)은 기판의 상부면 상에 액체를 분사하도록 구성된다. 상기 울트라 또는 메가 음파 장치(206, 306)는 기판에 울트라 또는 메가 음파 세정을 제공하도록 기판의 상부면 상에 배치하도록 구성된다. 상기 울트라 또는 메가 음파 장치(206, 306)와 기판의 상부면 사이에는 갭이 형성되고, 상기 갭은 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진되어, 기 울트라 또는 메가 음파 장치(206, 306)의 전체 하부는 세정 공정 동안에 항상 액체로 충진된다.

Description

기판 세정 장치
본 발명은 울트라 또는 메가 음파 장치를 이용하여 마스크와 같은 기판을 세정하기 위한 장치에 관한 것이다.
반도체 기술의 발전이 첫 번째 트랜지스터로부터 반세기 이상이 되었지만, 여전히 발전 모멘텀이 강하게 유지되어, 칩 집적이 18개월마다 2배가 되고, 반도체 소자의 크기가 3년마다 0.7배 작아지는 무어의 법칙(Moore's Law)을 계속하여 따르고 있다. 더욱이, 반도체 웨이퍼의 직경은 300mm에 도달한다. IC 생산의 큰 사이즈, 미세 라인 폭, 높은 정밀도, 높은 효율 및 낮은 비용은 반도체 장비에 대한 전례 없는 도전을 가져온다.
반도체 소자의 제조 공정에서, 복수의 리소그래피 공정은 이 공정 중 필수적인 부분이다. 예컨대, 노광 및 선택적 화학 에칭을 통해, 마스크 상의 집적 회로 패턴이 반도체 웨이퍼 상에 인쇄된다. 리소그래피 공정에서, 마스크는 필수적이며 주요한 역할을 한다. 마스크는 반도체 소자 제조 공정에서 패턴 전달을 위한 고정밀 툴이다. 일반적으로, 마스크가 반복적으로 사용된다. 마스크가 복수의 횟수 동안에 반복적으로 사용된 후에, 마스크는 더러워진다(잔류 레지스트, 먼지, 지문 등). 따라서, 마스크는 세정될 필요가 있다. 65nm 이하의 노드에서, 마스크 세정은 훨씬 더 중요해진다. 마스크가 깨끗한지의 여부는 반도체 소자의 품질 및 수율에 영향을 미칠 것이다. 현재, 마스크를 세정하기 위한 여러 가지 방법이 있다. 하나의 방법은 마스크를 세정하기 위해 계면활성제 및 수동 스크럽을 이용하는 것이다. 또 다른 방법은 마스크를 세정하기 위해 아세톤, 알코올, 초순수를 이용하는 것이다. 또 다른 방법은 초음파 진동으로 조합된 마스크를 침지시키는 세정액을 이용하는 것이다. 그러나, 마스크 상의 오염물을 제거하는 상기한 방법의 효과는 이상적이지 않다.
따라서, 본 발명의 목적은 기판의 세정 효과를 향상시킬 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
일 실시예에 따르면, 기판들을 세정하기 위한 장치는 척 조립체, 적어도 하나의 제1 노즐, 및 울트라 또는 메가 음파 장치를 구비한다. 상기 척 조립체는 기판을 수용하고 클램핑하도록 구성된다. 상기 적어도 하나의 제1 노즐은 기판의 상부면 상에 액체를 분사하도록 구성된다. 상기 울트라 또는 메가 음파 장치는 기판에 울트라 또는 메가 음파 세정을 제공하기 위해 기판의 상부면 위에 배치되도록 구성된다. 상기 울트라 또는 메가 음파 장치와 상기 기판의 상부면 사이에는 갭이 형성되고, 상기 갭은 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진되어 울트라 또는 메가 음파 장치의 전체 하부가 세정 공정 동안에 상기 액체로 항상 충진된다.
본 발명에서, 상기 척 조립체는 기판을 보유하기 위한 수용 캐비티를 갖는 척을 구비한다. 마스크는 척의 수용 캐비티 내에 배치되어, 마스크가 척의 일부로서 보일 수 있다. 울트라 또는 메가 음파 장치의 하부는 마스크의 상부면과 척의 상부면 위에 있고, 상기 울트라 또는 메가 음파 장치와 상기 마스크의 상부면과 상기 척의 상부면 사이의 갭은 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진된다. 상기 울트라 또는 메가 음파 장치의 전체 하부는 세정 공정 동안에 액체로 항상 충진된다. 상기 울트라 또는 메가 음파 에너지는 액체를 통해 마스크의 상부면으로 안정적으로 전달된다. 따라서, 상기 마스크의 전체 상부면은 균일한 울트라 또는 메가 음파 전력 밀도 분포를 성취하여, 마스크의 세정 효과를 향상시키고, 특히 마스크의 에지의 세정 효과를 향상시킨다.
도 1은 본 발명의 제1 예시적인 실시예에 따른 기판 세정 장치의 정면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 장치의 평면도이다.
도 3은 도 2의 A-A선을 따라 취한 단면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 장치의 사시도이다.
도 5는 도 4의 B 부분에 대한 부분 확대도이다.
도 6은 클램프 장치의 사시도이다.
도 7은 마스크를 세정하는데 사용되는 장치의 사시도이다.
도 8은 도 7의 C 부분에 대한 부분 확대도이다.
도 9는 마스크를 세정하는데 사용되는 장치의 평면도이다.
도 10은 도 9의 D-D선을 따라 취한 단면도이다.
도 11은 마스크를 세정하기 위한 울트라 또는 메가 음파 장치와 조합된 장치의 평면도이다.
도 12 는 본 발명의 제2 예시적인 실시예에 따른 기판 세정 장치의 정면도이다.
도 13은 도 12에 도시된 장치의 평면도이다.
도 14는 도 13의 E-E선을 따라 취한 단면도이다.
도 15는 도 12에 도시된 장치의 사시도이다.
도 16은 본 발명의 제2 예시적인 실시예에 따른 마스크를 세정하는데 사용되는 장치의 평면도이다.
도 17은 도 16의 F-F선을 따라 취한 단면도이다
도 18은 본 발명의 제2 예시적인 실시예에 따른 마스크 세정을 위한 울트라 또는 메가 음파 장치와 조합된 장치의 평면도이다.
도 19는 마스크를 세정하기 위한 울트라 또는 메가 음파 장치와 조합된 종래의 장치의 평면도이다.
도 1 내지 도 11을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 울트라 또는 메가 음파 장치를 이용한 기판 세정 장치가 도시되어 있다. 상기 장치는 기판을 수용하고 클램핑하기 위한 척 조립체를 포함한다. 구체적으로, 척 조립체는 척(101), 척(101)에 고정된 회전 스핀들(102), 회전 구동 기구, 지지 핀(105) 및 클램프 장치(104)를 구비한다. 회전 스핀들(102)은 회전 구동 기구에 연결된다. 회전 구동 기구는 회전 스핀들(102) 및 척(101)을 회전시키도록 구동한다. 척(101)은 마스크(103)와 같은 기판을 보유하기 위한 수용 캐비티(1011)를 갖는다. 수용 캐비티(1011)의 개구 형상은 마스크(103)의 형상과 일치하는 실질적으로 정방형이다. 수용 캐비티(1011)의 개구 형상은 기판의 형상과 일치하며, 이는 마스크(103)에 한정되지 않고, 또한 정방형에 한정되지 않는 것으로 인식되어야 한다. 척(101)은 수용 캐비티(1011)의 개구를 형성하도록 구성된 4개의 수직 평면(1015)을 갖는다. 바람직하게, 수용 캐비티(1011) 내에 마스크(103)를 배치하는 것을 용이하게 하기 위해, 척(101)은 4개의 수직 평면(1015)에 각각 연결되는 4개의 안내 평면(1014)을 갖는다. 4개의 클램프 장치(104)는 척(101) 상에 장착되며, 마스크(103)를 클램핑하도록 수용 캐비티(1011)의 4개의 코너에 위치된다. 도 6에 도시된 바와 같이, 모든 클램프 장치(104)는 척(101) 상에 고정된 받침대(1041)를 갖는다. 받침대(1041)는 개구(1042)를 형성하고, 샤프트(1043)는 개구(1042)를 횡방향으로 통과하고, 샤프트(1043)의 2개의 단부는 받침대(1041) 상에 고정된다. 클램프 핀(1044)는 샤프트(1043) 상에 매달린다. 클램프 핀(1044)은 개구(1042)에 위치되어 샤프트(1043) 둘레에서 회전할 수 있다. 클램프 핀(1044)의 상단부는 마스크(103)의 코너와 일치하도록 실질적인 직각 슬롯(1045)을 형성한다. 클램프 핀(1044)의 내부는 재료가 스테인리스강인 무거운 블록을 설정한다. 클램프 핀(1044)을 위해 제조되는 재료의 밀도는 무거운 블록을 위해 제조되는 재료의 밀보보다 더 낮다. 척(101)의 회전 속도가 임계값보다 높은 경우, 클램프 핀(1044)은 원심력에 의해 마스크(103)를 클램핑한다. 척(101)의 회전 속도가 임계값보다 낮은 경우, 클램프 핀(1044)은 그 자체 중력에 의해 원래의 위치로 복귀하여 마스크(103)를 해제한다. 4개의 지지 핀(105)은 마스크(103)를 지지하도록 척(101)의 수용 캐비티(1011) 내에 배치된다. 4개의 지지 핀(105)은 수용 캐비티(1011)의 4개의 코너에 위치되어 4개의 클램프 핀(1044)에 대응한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 척(101)의 하부는 복수의 드레인 구멍(1012)을 형성한다. 복수의 드레인 구멍(1012)은 수용 캐비티(1011)와 연통한다. 복수의 드레인 구멍(1012)은 원으로 배치된다. 모든 드레인 구멍(1012)은 수용 캐비티(1011) 내의 배수액에 전도성인 기울기를 갖는다. 수용 캐비티(1011) 내의 척(101)의 하부는 드레인 구멍(1012)으로 흐르는 액체에 전도성인 경사면(1013)을 갖는다.
마스크(103)를 세정하기 위해 도 1 내지 도 11에 도시된 장치를 사용할 때, 로봇은 마스크(103)를 이송시키고, 척(101)의 수용 캐비티(1011) 내에 마스크(103)를 배치하는데 이용된다. 척(101)의 수용 캐비티(1011) 내에 마스크(103)를 배치하기 위해 로봇을 용이하게 하도록 마스크(103)의 측벽과 척(101)의 수직 평면(1015) 사이에는 거리가 있다. 그 거리는 0.5mm 내지 2mm의 범위이다. 일반적으로, 로봇이 척(101)의 수용 캐비티(1011) 내에 마스크(103)를 정확하게 배치하는 것은 절대적으로 보장할 수 없는데, 이는 로봇이 척(101)의 하나의 수직 평면(1015)과 수직함을 의미한다. 로봇은 각도를 편향시킬 수 있지만, 그렇다고 하더라도, 마스크(103)는 로봇에 의해 척(101)의 수용 캐비티(1011) 내에 여전히 배치된다. 로봇의 편향 각도(θ)는 하기의 수학식을 만족한다:
Figure 112019109303875-pct00001
, 여기서 d는 마스크(103)의 측벽과 척(101)의 수직 평면(1015) 사이의 거리를 나타내고, A는 마스크(103)의 측부 길이를 나타낸다.
4개의 지지 핀(105)은 마스크(103)를 지지한다. 바람직하게, 마스크(103)의 상부면 및 척(101)의 상부면은 동일 평면 상에 있다. 마스크(103)의 상부면 및 척(101)의 상부면이 상이한 평면 상에 있을 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 회전 구동 기구는 회전 스핀들(102) 및 척(101)을 회전 구동시켜서, 원심력에 의해 4개의 클램프 핀(1044)이 마스크(103)를 클램핑하게 한다. 마스크(103)의 모든 코너는 클램핑되고, 실질적인 직각 슬롯(1045) 내에 있다. 이로써, 마스크(103)는 척(101)의 수용 캐비티(1011) 내에 보유되어 위치설정된다. 적어도 하나의 제1 노즐(107)은 마스크(103)의 상부면을 세정하도록 마스크(103)의 상부면 상에 액체를 분사한다. 울트라 또는 메가 음파 장치(106)는 마스크(103)에 울트라 또는 메가 음파 세정을 제공하도록 마스크(103)의 상부면 및 척(101)의 상부면 위에 배치된다. 울트라 또는 메가 음파 장치(106)와 마스크(103)의 상부면과 척(101)의 상부면 사이에는 갭이 형성된다. 갭은 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진되어, 울트라 또는 메가 음파 에너지가 액체를 통해 마스크(103)의 상부면으로 안정적으로 전달된다. 따라서, 마스크(103)의 전체 상부면은 균일한 울트라 또는 메가 음파 전력 밀도 분포를 성취한다. 수용 캐비티(1011) 내의 액체는 복수의 드레인 구멍(1012)을 통해 배출된다.
도 12 내지 도 18을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 울트라 또는 메가 음파 장치를 이용한 기판 세정 장치가 도시되어 있다. 상기 장치는 척(201)과, 척(201)에 고정된 회전 스핀들(202)을 구비한다. 회전 스핀들(202)은 회전 구동 기구에 연결된다. 회전 구동 기구는 회전 스핀들(202) 및 척(201)을 회전 구동시킨다. 척(201)은 마스크(203)와 같은 기판을 보유하기 위한 수용 캐비티(2011)을 갖는다. 수용 캐비티(2011)의 개구 형상은 마스크(203)의 형상과 일치하는 실질적으로 정방형이다. 수용 캐비티(2011)의 개구 형상은 기판의 형상과 일치하며, 이는 마스크(203)에 한정되지 않고, 또한 정방형에 한정되지 않는 것으로 인식되어야 한다. 척(201)은 수용 캐비티(2011)의 개구를 형성하도록 구성된 4개의 수직 평면(2015)을 갖는다. 바람직하게, 수용 캐비티(2011) 내에 마스크(203)를 용이하게 배치하기 위해, 척(201)은 4개의 수직 평면(2015)에 각각 연결하는 4개의 안내 평면(2014)을 갖는다.
회전 스핀들(202)은 중공이고 척(201)의 바닥부의 중앙에 고정된다. 척(201)의 바닥부의 중앙은 관통 구멍(2016)을 형성한다. 관통 구멍(2016)은 수용 캐비티(2011) 및 중공 회전 스핀들(202)과 연통한다. 제2 노즐(210)은 마스크(203)의 하부면을 세정하도록 척(201)의 관통 구멍(2016) 및 중공 회전 스핀들(202)을 통과한다. 제2 노즐(210)의 상단부는 척(201)의 관통 구멍(2016)을 통과하여 수용 캐비티(2011) 내에 수용된다. 제2 노즐(20)의 하단부는 중공 회전 스핀들(202)을 통과한다. 제2 노즐(210)은, 제2 노즐(210)의 하단부로부터 제2 노즐(210)의 상단부로 연장되며 마스크(203)의 하부면을 세정하기 위해 마스크(203)의 하부면 상에 액체를 분사하도록 제2 노즐(210)의 상단부를 관통하는 3개의 액체 채널(2101)을 갖는다. 모든 액체 채널(2101)에 대응하여, 제2 노즐(210)의 하단부는 액체 채널(2101)에 액체를 공급하기 위한 입구(2102)를 형성한다. 액체 채널(2101)의 개수는 3개로 제한되지 않는다는 것을 인식해야 한다. 공정 요건을 만족시킬 수 있는 임의 개수의 액체 채널(2101)이 수용가능하다. 세정 공정 동안에, 제2 노즐(210)은 회전하지 않는다. 본 발명의 제1 실시예에 개시된 장치와 비교하여, 본 발명의 제2 실시예에 개시된 장치는 마스크(203)의 양면 세정을 실현한다.
4개의 클램프 장치(204)는 척(201) 상에 장착되어, 마스크(203)를 클램핑하도록 수용 캐비티(2011)의 4개의 코너에 위치된다. 모든 클램프 장치(204)는 척(204) 상에 고정된 받침대를 갖는다. 받침대는 개구를 형성하고, 샤프트는 개구를 횡방향으로 통과하고, 샤프트의 2개의 단부는 받침대 상에 고정된다. 클램프 핀(2044)은 샤프트 상에 매달린다. 클램프 핀(2044)은 개구에 위치되고 샤프트 둘레에서 회전할 수 있다. 클램프 핀(2044)의 상단부는 마스크(2041)의 코너와 일치하도록 실질적인 직각 슬롯을 형성한다. 클램프 핀(2044)의 내부는 물질이 스테인레스강인 무거운 블록을 설정한다. 클램프 핀(2044)를 위해 제조된 재료의 밀도는 무거운 블록을 위해 제조된 재료의 밀도보다 더 낮다. 척(201)의 회전 속도가 임계값보다 높을 때, 클램프 핀(2044)은 원심력에 의해 마스크(203)를 클램핑한다. 척(201)의 회전 속도가 임계값보다 낮을 때, 클램프 핀(2044)은 그 자체 중력에 의해 원래의 위치로 복귀하여 마스크(203)를 해제한다. 4개의 지지 핀(205)은 마스크(203)를 지지하도록 척(201)의 수용 캐비티(2011) 내에 배치된다. 4개의 지지 핀(205)은 수용 캐비티(2011)의 4개의 코너에 위치되어 4개의 클램프 핀(2044)에 대응한다.
도 14에 도시된 바와 같이, 척(201)의 하부는 복수의 드레인 구멍(2012)을 형성한다. 복수의 드레인 구멍(2012)은 수용 캐비티(2011)와 연통한다. 복수의 드레인 구멍(2012)은 원으로 배치된다. 모든 드레인 구멍(2012)은 수용 캐비티(2011) 내에서 드레인되는 액체에 전도되는 경사를 갖는다. 수용 캐비티(2011) 내부의 척(201)의 하부는 드레인 구멍(2012)으로 흐르는 액체에 전도되는 경사면(2013)을 갖는다.
마스크(203)를 세정하기 위해 도 12 내지 도 18에 도시된 장치를 사용할 때, 마스크(203)를 이송하는데 로봇이 이용되어 척(201)의 수용 캐비티(2011) 내에 마스크(203)를 배치한다. 로봇이 척(201)의 수용 캐비티(2011) 내에 마스크(203)를 용이하게 배치하도록 척(201)의 수직 평면(2015)과 마스크(203)의 측벽 사이에는 거리가 있다. 그 거리는 0.5mm 내지 2mm의 범위이다. 일반적으로, 로봇이 척(201)의 수용 캐비티(2011) 내에 배치하는 것을 절대적으로 보장할 수 없는데, 이는 로봇이 척(201)의 하나의 수직 평면(2015)과 수직임을 의미한다. 로봇은 각도를 편향시킬 수 있지만, 그렇다고 하더라도, 마스크(203)는 로봇에 의해 척(201)의 수용 캐비티(2011) 내에 여전히 배치된다. 로봇의 편향 각도(θ)는 하기의 수학식을 만족한다:
Figure 112019109303875-pct00002
, 여기서 d는 마스크(203)의 측벽과 척(201)의 수직 평면(2015) 사이의 거리를 나타내고, A는 마스크(203)의 측부 길이를 나타낸다.
4개의 지지 핀(205)은 마스크(203)를 지지한다. 바람직하게, 마스크(203)의 상부면 및 척(201)의 상부면은 동일 평면 상에 있다. 마스크(203)의 상부면 및 척(201)의 상부면이 상이한 평면 상에 있을 수 있다는 것이 인식되어야 한다. 회전 구동 기구는 중공 회전 스핀들(202) 및 척(201)을 회전 구동시켜서, 원심력에 의해 4개의 클램프 핀(2044)이 마스크(203)를 클램핑하게 한다. 마스크(203)의 모든 코너는 클램핑되고, 실질적인 직각 슬롯 내에 있다. 이로써, 마스크(203)는 척(201)의 수용 캐비티(2011) 내에 보유되어 위치설정된다. 적어도 하나의 제1 노즐(207)은 마스크(203)의 상부면을 세정하도록 마스크(203)의 상부면 상에 액체를 분사한다. 울트라 또는 메가 음파 장치(206)는 마스크(203)에 울트라 또는 메가 음파 세정을 제공하도록 마스크(203)의 상부면 및 척(201)의 상부면 위에 배치된다. 울트라 또는 메가 음파 장치(206)와 마스크(203)의 상부면과 척(201)의 상부면 사이에는 갭이 형성된다. 갭은 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진되어, 울트라 또는 메가 음파 에너지가 액체를 통해 마스크(203)의 상부면으로 안정적으로 전달된다. 따라서, 마스크(203)의 전체 상부면은 균일한 울트라 또는 메가 음파 전력 밀도 분포를 성취한다. 제2 노즐(210)은 마스크(203)의 하부면을 세정하도록 마스크(203)의 하부면 상에 액체를 분사한다. 수용 캐비티(2011) 내의 액체는 복수의 드레인 구멍(2012)을 통해 배출된다.
도 19에 도시된 바와 같이, 마스크(303)를 세정하도록 울트라 또는 메가 음파 장치(306)와 조합된 종래의 장치에서, 울트라 또는 메가 음파 장치(306) 아래의 영역(A) 및 영역(B)은 세정 공정 동안에 액체 오프(off) 및 온(on)을 갖는다. 예를 들어, 울트라 또는 메가 음파 장치(306)가 위치(A)에 있을 때, 액체는 울트라 또는 메가 음파 장치(306)와 마스크(303)의 상면 사이의 갭을 완전히 채워서, 울트라 또는 메가 음파 장치(306) 아래의 영역(A) 및 영역(B)은 액체를 갖는다. 그러나, 울트라 또는 메가 음파 장치(306)가 위치(B)에 있을 때, 울트라 또는 메가 음파 장치(306) 아래의 영역(A) 및 영역(B)은 공기에 노출되어, 영역(A) 및 영역(B)에서 액체가 없다. 기체 및 액체 상이 영역(A) 및 영역(B)에 교호적으로 존재한다. 울트라 또는 메가 음파 에너지는 가스와 액체 상들의 게면 사이에서 집중한다. 에너지 집중에 의해 발생되는 울트라 또는 메가 음파 전력은 마스크(303) 손상의 위험을 갖는다. 또한, 영역(A) 및 영역(B)에 액체가 없을 때, 울트라 또는 메가 음파 에너지가 마스크(303)의 상부면으로 전달되는 것이 아니라, 영역(A) 및 영역(B)은 액체로 완전히 충진되는 경우, 울트라 또는 메가 음파 에너지는 액체를 통해 마스크(303)의 상부면으로 전달된다. 게다가, 불안정한 액체 전달은 난류 흐름을 야기하며, 또한 울트라 또는 메가 음파 에너지 전달은 균일하지 않다.
상기한 문제를 극복하기 위하여, 본 발명에서는, 마스크가 척의 수용 캐비티 내에 배치되어, 마스크는 척의 일부로서 볼 수 있다. 울트라 또는 메가 음파 장치의 아래가 마스크의 상부면 및 척의 상부면에 대해 위에 있고, 울트라 또는 메가 음파 장치와 마스크의 상부면과 척의 상부면 사이의 갭이 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진되는 한, 척의 크기 및 형상은 제한되지 않는다. 울트라 또는 메가 음파 장치의 아래 전체는 세정 공정 동안에 항상 액체를 갖는다. 울트라 또는 메가 음파 에너지는 액체를 통해 마스크의 상부면에 안정적으로 전달된다. 따라서, 마스크의 전체 상부면은 균일한 울트라 또는 메가 음파 전력 밀도 분포를 성취하며, 이는 마스크의 세정 효과를 향상시키고, 특히 마스크의 에지의 세정 효과를 향상시킨다.
본 발명은 반도체 분야에 한정되지 않는다. 반도체 분야 이외에, 본 발명은 또한 LCD, PCB 제조 분야 등에 적용된다.
본 발명의 상술된 설명은 예시 및 설명의 목적으로 제시되었다. 본 발명을 개시된 정확한 형태로 제한하려는 것이 아니며, 상기한 교시의 관점에서 많은 변형 및 수정이 가능하다. 당업자에게 명백할 수 있는 이러한 변형 및 수정은 첨부된 청구범위에 의해 정의된 바와 같이 본 발명의 범위 내에 포함되도록 의도된다.

Claims (14)

  1. 기판을 수용하여 클램핑하기 위한 척 조립체로서, 상기 척 조립체는 기판을 보유하도록 수용 캐비티를 갖는 척을 구비하고, 상기 수용 캐비티는 상기 척의 상부면에 의해 둘러싸이는, 상기 척 조립체;
    상기 기판의 상부면 상에 액체를 분사하는 적어도 하나의 제1 노즐; 및
    상기 기판에 울트라 또는 메가 음파 세정을 제공하도록 상기 기판의 상부면 및 상기 척의 상부면 위에 배치된 울트라 또는 메가 음파 장치로서, 상기 울트라 또는 메가 음파 장치와 상기 기판의 상부면과 상기 척의 상부면 사이에는 갭이 형성되고, 상기 갭은 상기 액체로 완전히 그리고 연속적으로 충진되어 상기 울트라 또는 메가 음파 장치의 전체 하부는 세정 공정 동안에 상기 액체로 항상 충진되는, 상기 울트라 또는 메가 음파 장치
    를 포함하는,
    기판 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 척 조립체는,
    상기 척에 고정된 회전 스핀들;
    상기 회전 스핀들 및 상기 척을 회전 구동시키도록 상기 회전 스핀들에 연결된 회전 구동 기구;
    상기 기판을 지지하도록 상기 척의 수용 캐비티 내에 배치된 지지 핀; 및
    상기 기판을 클램핑하도록 상기 척 상에 장착된 클램프 장치
    를 포함하고,
    상기 울트라 또는 메가 음파 장치는 상기 기판에 울트라 또는 메가 음파를 제공하도록 상기 기판의 상부면 및 상기 척의 상부면 위에 배치되고, 상기 갭은 상기 울트라 또는 메가 음파 장치와 상기 기판의 상부면과 상기 척의 상부면 사이에 형성되는,
    기판 세정 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 회전 스핀들은 중공이고 상기 척의 바닥부에 고정되고, 상기 척의 바닥부는 상기 수용 캐비티 및 상기 회전 스핀들과 연통하는 관통 구멍을 형성하고, 상기 기판의 하부면을 세정하도록 상기 척의 관통 구멍 및 상기 회전 스핀들을 통해 제2 노즐이 통과하는,
    기판 세정 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제2 노즐은, 상기 제2 노즐의 하단부로부터 상단부로 연장되며 상기 기판의 하부면 상에 액체를 분사하도록 상기 제2 노즐의 상단부를 관통하는 적어도 하나의 액체 채널을 갖는,
    기판 세정 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    모든 액체 채널에 대응하여, 상기 제2 노즐의 하단부는 상기 액체 채널에 액체를 공급하기 위한 입구를 형성하는,
    기판 세정 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 척의 하부는 상기 수용 캐비티와 연통하는 복수의 드레인 구멍을 형성하는,
    기판 세정 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 수용 캐비티 내의 상기 척의 하부는 상기 드레인 구멍으로 흐르는 상기 수용 캐비티 내의 액체에 전도성인 경사면을 갖는,
    기판 세정 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    모든 클램프 장치는 원심력에 의해 상기 기판을 클램핑하기 위한 클램프 핀을 갖는,
    기판 세정 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 수용 캐비티의 개구 형상은 상기 기판의 형상과 일치하는,
    기판 세정 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 마스크이고, 상기 수용 캐비티의 개구 형상은 실질적으로 정방형인,
    기판 세정 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 척 상에 장착되며 상기 수용 캐비티의 4개의 코너에 위치된 4개의 클램프 장치가 있는,
    기판 세정 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    모든 클램프 장치는 클램프 핀을 갖고, 상기 클램프 핀의 상단부는 상기 마스크의 코너를 클램핑하기 위한 실질적인 직각의 슬롯을 형성하는,
    기판 세정 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 수용 캐비티의 4개의 코너에 위치되며 상기 4개의 클램프 장치에 대응하는 4개의 지지 핀이 있는,
    기판 세정 장치.
  14. 제2항에 있어서,
    상기 기판의 상부면 및 상기 척의 상부면은 동일 평면 상에 있는,
    기판 세정 장치.
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