KR20160108532A - 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 - Google Patents

니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 Download PDF

Info

Publication number
KR20160108532A
KR20160108532A KR1020167022359A KR20167022359A KR20160108532A KR 20160108532 A KR20160108532 A KR 20160108532A KR 1020167022359 A KR1020167022359 A KR 1020167022359A KR 20167022359 A KR20167022359 A KR 20167022359A KR 20160108532 A KR20160108532 A KR 20160108532A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
nitro
cycloalkyl
hydrogen
branched alkyl
Prior art date
Application number
KR1020167022359A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101798220B1 (ko
Inventor
샤오춘 치안
Original Assignee
샹조우 트론리 뉴 일렉트로닉 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드
창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 샹조우 트론리 뉴 일렉트로닉 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드, 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 filed Critical 샹조우 트론리 뉴 일렉트로닉 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20160108532A publication Critical patent/KR20160108532A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101798220B1 publication Critical patent/KR101798220B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32Oximes
    • C07C251/62Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • C07C251/64Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
    • C07C251/66Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/46Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
    • C07C323/47Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/88Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/91Dibenzofurans; Hydrogenated dibenzofurans
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/76Dibenzothiophenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/08Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14The ring being saturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 화학식 (I)로 표시되는 구조식을 갖는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제에 관한 것이다. 이 광개시제는 저장 안정성, 감광성, 현상성, 패턴 무결성 등의 측면에서 우수한 사용 성능을 가지며, 단일 파장의 UV-LED 광원에 대해 양호한 적용성을 갖고, UV-LED 조사하에서 기존의 광개시제보다 확연하게 우수한 감광특성을 나타낸다.

Description

니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도{DUAL OXIME ESTERS PHOTOINITIATOR CONTAINING NITRO, AND PREPARATION METHOD AND USE THEREOF}
본 발명은 광개시제(photoinitiator)의 기술분야에 관한 것으로, 구체적으로는 니트로 함유 비스옥심(bisoxime) 에스테르 광개시제, 그의 제조방법 및 용도에 관한 것이다.
카바졸릴의 그룹, 디페닐 설파이드 그룹 등을 갖고 옥심 에스테르 구조와 연결되어 있는 화합물의 광개시제로서의 용도는 당분야에 공지되어 있으며, 신규한 옥심 에스테르 개시제, 특히 양호한 적용 성능을 갖는 것들의 설계 및 합성은 최근의 광경화 분야에서 항상 뜨거운 관심을 받고 있다. 예를 들어, 중국 특허 공개공보 CN1514845A, CN101508744A, CN101528694A 등에서는 다양한 옥심 에스테르 광개시제를 기술하고 있으며, 이 생성물들은 양호한 감광성, 저장 안정성 등을 가져, 광경화 조성물의 개발에 대한 요구를 일정 범위까지 충족하고 개선하였다.
그러나, 실제 적용에 있어서, 기존 옥심 에스테르 광개시제의 경우 적합한 여기 광원의 선택시 일반적인 광개시제와 마찬가지로 매우 심각한 제한이 있는 것을 발견하였다. 전형적으로, 이것은 광범위 스펙트럼 자외선(UV)의 조사하에서만 작용하기 위해 활성화될 수 있다. 현재, 광경화 시스템을 활성화(즉, 상기한 광범위 스펙트럼 자외선을 발광)하는 광원은 주로 고압 수은 램프이며, 그의 발광 스펙트럼은 436 nm, 405 nm, 365 nm, 313 nm, 및 302 nm에 집중되어 있고, 기존 광개시제 대부분은 상기한 단파장에서 양호한 흡수를 갖는다. 그러나, 이러한 광원은 분명한 단점, 예컨대 과다한 에너지 소비, 긴 예열시간, 환경적 비친화성 등이 있어서, 적용하는데 있어 더욱 더 제한되며 시장에 의해 점차 배제되고 있다.
UV-LED 광원은 환경친화적이며 높은 광순도, 낮은 에너지 소모, 간단한 작동, 환경적 친화성 등의 이점이 있다. 현재 이것은 민간적 용도 분야에서 널리 사용되고 있으며, 광경화 산업에서 점차 알려지고 있다. UV 수은 램프 시스템과 비교하여 UV-LED는 에너지 절약과 발광 감소, 생산 효율의 개선, 광경화 기술 적용범위 확대 등의 측면에서 상당한 이점이 있다. UV-LED 여기의 방식은 광경화 기술 개발의 차세대 주류 트렌드가 될 것으로 매우 기대된다.
UV-LED 광원 자체는 상대적으로 좁은 발광 스펙트럼을 갖기 때문에 기존 광개시제가 그의 여기 하에 나타내는 적용 성능은 거의 만족스럽지 못하다. 그러므로, UV-LED 광원과 부합된 우수한 감광특성을 갖는 광개시제를 연구하여 개발하는 것이 중요하다.
기존 광개시제의 결함과 관련하여, 본 발명의 목적은 수은 램프와 UV-LED 램프 둘 다에서 우수한 적용 성능을 나타내는 옥심 에스테르 광개시제를 제공하는 것이다. 화학적 구조의 정교한 디자인과 개질에 의해 니트로 그룹과 비스옥심 에스테르 구조를 함유하는 화합물을 설계하여 합성하였다. 이 생성물은 저장 안정성, 감광성, 현상성, 패턴 무결성 등의 측면에서 우수한 성능을 가지며, 특히 단일파장(예컨대 395nm)을 갖는 UV-LED 조사하에서 기존 광개시제보다 확연하게 우수한 감광특성을 나타낸다.
상기한 기술적 효과를 달성하기 위해 본 발명에서 사용된 기술적 해결방법은 다음과 같다:
화학식 (I)로 표시되는 구조를 갖는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제:
Figure pct00001
상기 식에서,
X와 Y는 각각 독립적으로 카보닐 (-CO-) 또는 단일 결합을 나타내고;
Z는 존재하지 않거나(즉, 오른쪽과 왼쪽에 2개 벤젠 고리가 서로 A에 의해서만 연결된다), 단일 결합, 또는 C1-C5 알킬렌이고;
A는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소, C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹을 나타내고;
R1은 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 또는 알콕시 그룹, 또는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 것으로 임의로 치환된 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹을 나타내고;
R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소, C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹, 또는 C7-C20 아르알킬 그룹을 나타내고, 임의로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 것으로 치환될 수 있고;
R4는 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C20 헤테로아릴 그룹, 또는 C6-C20 아릴 그룹을 나타내고, 임의로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 페닐 그룹, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 것으로 치환될 수 있다.
본 발명의 바람직한 해결방안으로, 상기한 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제에서:
Z는 존재하지 않거나, 단일 결합, 메틸렌 그룹, 에틸렌, 또는 프로필렌 그룹이고;
A는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소, C1-C10 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C15 사이클로알킬 그룹, 또는 C4-C15 사이클로알킬알킬 그룹을 나타내고;
R1은 수소, 할로겐, 니트로 그룹, 또는 C1-C15 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹이고;
R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소, C1-C15 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C15 사이클로알킬 그룹, C4-C15 사이클로알킬알킬 그룹, C4-C15 알킬사이클로알킬 그룹, 또는 C7-C15 아르알킬 그룹을 나타내고, 임의로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 것으로 치환될 수 있고;
R4는 C1-C10 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C10 사이클로알킬 그룹, C4-C10 사이클로알킬알킬 그룹, C4-C10 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C10 헤테로아릴 그룹, 또는 C6-C10 아릴 그룹을 나타낸다.
본 발명의 바람직한 해결방안으로, 상기한 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제는 다음 구조들로 이루어진 군에서 선택된다:
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
Figure pct00005
Figure pct00006
본 발명은 또한 니트로-비스옥시미노(bisoximino) 그룹 구조를 함유하는 화합물과 상응하는 산 무수물 또는 산 할로겐화물 사이의 에스테르화 반응을 수행하여 목적 생성물을 얻는 것을 포함하는 상기한 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제의 제조방법에 관한 것으로, 구체적인 반응은 다음과 같다:
Figure pct00007
상기 식에서, B는 할로겐, 예컨대 F, Cl, Br, 또는 I를 나타낸다.
상기한 제조방법에서, 모든 반응 물질은 종래기술에서 알려진, 상업적으로 입수가능하거나 공지된 합성방법으로 제조되는 화합물이다. 본원에서, 니트로-비스옥시미노 그룹 구조,
Figure pct00008
를 함유하는 화합물은, 예를 들어 CN101565427B와 CN102020727B에 개시된 공지의 방법으로 합성할 수 있다. 본 발명에서 개시된 제조방법은 공정이 간단하고, 오염된 폐기물을 생성하지 않고, 생성물의 순도가 높고, 산업적 생산에 적합하다.
본 발명은 또한 광경화 조성물(즉, 감광성 조성물)에서 상기한 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제의 용도에 관한 것이다. 한정하는 것은 아니나, 광개시제는 컬러 포토레지스트(RGB), 블랙 포토레지스트(BM), 포토-스페이서(photo-spacer), 드라이 필름, 반도체 포토레지스트, 잉크 등과 같은 측면에서 사용될 수 있다.
이하에서, 본 발명을 구체적인 실시예와 결합하여 더욱 상세하게 설명할 것이나, 본 발명의 범위가 이에 제한되는 것은 아니다.
제조예
실시예 1:
1-니트로-3-(1-옥심 아세테이트)프로필-6-(1-옥심 아세테이트-3-사이클로헥실)프로필-9-에틸-카바졸의 제조
Figure pct00009
(화합물 1)
23.2 g의 1-니트로-3-(1-케톡심)프로필-6-(1-케톡심-3-사이클로헥실)프로필-9-에틸-카바졸, 100g의 디클로로메탄, 및 5.1g의 트리에틸아민을 250mL의 4구 플라스크에 투입하여 실온에서 5분 동안 교반한 다음, 11.3 g의 무수 아세트산을 약 30분 이내에 적가하였다. 실온에서 2시간 동안 교반을 계속한 다음, 5% NaHCO3 수용액을 첨가하여 pH 값을 중성이 되게 조절하였다. 분액깔대기를 사용하여 유기층을 분리한 후, 200mL의 물로 2회 세척하여 50g의 무수 MgSO4로 건조하였고, 용매를 회전에 의해 증발시켜서 점성 액체를 얻었다. 메탄올로 재결정하여 흰색 고형 분말을 얻었으며, 이를 여과하여 24.7g의 생성물을 수율 90%, 순도 99%로 얻었다.
생성물의 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였으며, 구체적인 특성 결과는 다음과 같다:
1H-NMR(CDCl3, 500MHz): 0.9015-1.0102(3H, t), 1.3918-1.4714 (13H, m), 1.5073-1.5932(3H, t), 2.1022(6H, s), 2.5468-2.7029(4H,m), 3.8210-3.9421(2H, m), 7.0301-7.8127(3H, m), 8.4301-8.6127(2H, s).
실시예 2:
1,8-디니트로-3-(1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트-3-사이클로부틸)프로필-6-(1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트)프로필-9-에틸-카바졸의 제조
Figure pct00010
(화합물 2)
24.8 g의 1,8-디니트로-3-(1,2-디온-2-옥심-3-사이클로부틸)프로필-6-(1,2-디온-2-옥심)프로필-9-에틸-카바졸, 100g의 디클로로메탄, 및 5.1g의 트리에틸아민을 250mL의 4구 플라스크에 투입하여 실온에서 5분 동안 교반한 다음, 14.3 g의 염화벤조일을 약 30분 이내에 적가하였다. 실온에서 2시간 동안 교반을 계속한 다음, 5% NaHCO3 수용액을 첨가하여 pH값을 중성이 되게 조절하였다. 분액깔대기를 사용하여 유기층을 분리한 후, 200mL의 물로 2회 세척하여 50g의 무수 MgSO4로 건조하였고, 용매를 회전에 의해 증발시켜서 점성 액체를 얻었다. 메탄올로 재결정하여 흰색 고형 분말을 얻었으며, 이를 여과하여 20.9g의 생성물 수율 87%, 순도 99%로 얻었다.
생성물의 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였으며, 구체적인 특성 결과는 다음과 같다:
1H-NMR(CDCl3, 500MHz): 1.4908-1.5193(3H,t), 1.9037-2.1823(7H,m), 2.5099-2.7629(5H, m), 3.90732-4.0231(2H,m), 7.4309-7.7098(6H,t), 8.1067-8.2319(4H,d), 8.3980-8.6678(4H,s).
실시예 3 내지 15
실시예 1 또는 2에 기재된 방법을 참조하여, 실시예 3 내지 15에 나타낸 화합물 3 내지 15를 니트로-비스옥시미노 그룹 구조,
Figure pct00011
를 함유하는 상응하는 화합물과 산 할로겐화물 화합물 또는 산 무수물로부터 제조하였다.
목적 화합물의 구조와 그의 1H-NMR 데이터를 표 1에 기재하였다.
표 1
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
성능 평가
예시적인 광경화 조성물을 제제화하여 저장 안정성, 감광성, 현상성, 패턴 무결성 등의 측면을 포함하는, 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 광개시제의 개별 적용 성능을 평가하였다.
1. 광경화 조성물의 배합
(1) 미착색 광경화 조성물 A
아크릴레이트 코폴리머 100
(벤질 메타크릴레이트/메타크릴산/하이드록시에틸 메타크릴레이트 (몰비 70/10/20) 코폴리머 (Mw: 10,000))
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(TMPTA) 100
광개시제 2
부타논 (용매) 25
(2) 착색 광경화 조성물 B
아크릴레이트 코폴리머 100
(벤질 메타크릴레이트/메타크릴산/메틸 메타크릴레이트 (몰비 50/15/30) 코폴리머 (Mw: 15,000))
디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 100
광개시제 2
부타논 (용매) 25
다이 블루(Dye blue) 5
상기한 조성물 A와 B에서, 광개시제는 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 화합물 또는 비교로서 종래기술에서 알려진 광개시제이며, 각각의 성분들은 중량부로 표시하였다.
2. 노광에 의한 현상
(1) 필름 코팅 후 수은 램프 광원 하의 노광에 의한 현상
상기한 광경화 조성물 A와 B를 각각 차광하에 교반하였다. 재료들을 PET 템플레이트에 취하여 필름 코팅을 와이어 바로 수행하였고, 용매를 90℃에서 5분 동안 건조하여 제거한 다음, 필름 두께가 약 2μm인 코팅 필름을 형성하였다. 코팅 필름이 형성된 기판을 실온으로 냉각하고, 마스크 플레이트를 그 위에 부착한 후, 장파장 조사는 FWHM 컬러 필터를 통해 고압 수은 램프 1PCS 광원으로 이루어졌다. 파장이 370-420nm인 자외선 하에서 마스크 플레이트의 틈(seam)을 통해 코팅 필름에 대한 노광을 수행하였다. 이후, 25℃에서 20초 동안 2.5% 탄산나트륨 용액에 담가서 현상을 수행한 다음, 초순수 물로 세척하고 공기 건조하였다. 220℃에서 30분 동안 하드 베이킹하여 패턴을 고정하고 얻어진 패턴을 평가하였다.
(2) 필름 코팅 후 UV-LED 광원 하의 노광에 의한 현상
상기한 광경화 조성물 A와 B를 각각 차광하에 교반하였다. 재료들을 PET 템플레이트에 취하여 필름 코팅을 와이어 바로 수행하였고, 용매를 90℃에서 5분 동안 건조하여 제거한 다음, 필름 두께가 약 2μm인 코팅 필름을 형성하였다. 코팅 필름이 형성된 기판을 실온으로 냉각하고, 마스크 플레이트를 그 위에 부착한 후, LED 포인트 광원 (모델: UVEL-ET, Shenzhen Lamplic Technology Co., Ltd.)으로 조사를 수행하였고, 395nm의 파장 하에서 마스크 플레이트의 틈(seam)을 통해 코팅 필름에 대한 노광을 수행하였다. 이후, 25℃에서 20초 동안 2.5% 탄산나트륨 용액에 담가서 현상을 수행한 다음, 초순수 물로 세척하고 공기 건조하였다. 220℃에서 30분 동안 하드 베이킹하여 패턴을 고정하고 얻어진 패턴을 평가하였다.
3. 광경화 조성물의 성능 평가
(1) 저장 안정성
실온에서 1개월 동안 액체 상태 광경화 조성물을 자연적으로 저장한 후, 물질의 침전도를 다음 기준에 따라 육안으로 평가하였다:
A: 침전이 관찰되지 않음;
B: 침전이 약간 관찰됨;
C: 상당한 침전이 관찰됨.
(2) 감광성
노광시, 노광 단계에서 현상 후에 90% 이상의 필름 잔존률을 가지는 조사 부위의 최소 노광량을 노광 요구량으로 평가하였다. 노광 요구량이 적을수록 높은 민감도를 나타낸다.
(3) 현상성 및 패턴 무결성
기판상의 패턴을 주사전자현미경(SEM)으로 관찰하여 현상성과 패턴 무결성을 평가하였다.
현상성은 다음 기준에 따라 평가하였다:
○: 노광되지 않은 부분에서 잔류물이 관찰되지 않음;
◎: 소량의 잔류물이 노광되지 않은 부분에서 관찰되었으나 허용가능:
●: 노광되지 않은 부분에서 상당한 잔류물 관찰.
패턴 무결성은 다음 기준에 따라 평가하였다:
◇: 패턴 결점이 관찰되지 않음;
□: 약간의 결점이 패턴의 일부 부분에서 관찰됨;
◆: 다수의 결점이 패턴에서 상당히 관찰됨.
평가 결과를 표 2 내지 5에 나타내었다:
표 2 광경화 조성물 A의 성능 평가(수은 램프 광원의 조사 조건 하에서 노광 요구량, 현상성, 및 패턴 무결성의 측정)
Figure pct00015
표 3 광경화 조성물 A의 성능 평가(LED 광원 조사)
Figure pct00016
표 4 광경화 조성물 B의 성능 평가(수은 램프 광원의 조사 조건 하에서 노광 요구량, 현상성, 및 패턴 무결성의 측정)
Figure pct00017
표 5 광경화 조성물 B의 성능 평가(LED 광원 조사)
Figure pct00018
표 2-5에서, 비교화합물 1은 CN102492060A에 개시된 광개시제, 1-{4-[4-(2-티오펜카보닐)페닐티오]페닐}-(3-사이클로펜틸)-프로판-1-케톡심-O-아세테이트를 나타내고; 비교화합물 2는 CN103130919A에 개시된 광개시제, 1-[6-(2-티오펜카보닐)-9-에틸카바졸-3-일]-3-사이클로펜틸-프로판-1,2-디온-2-옥심-O-아세테이트를 나타내고; 비교화합물 3은 CN101508744A에 개시된 광개시제, 1-(6-o-메틸 벤조일-9-에틸카바졸-3-일)-(3-사이클로펜틸아세톤)-1-옥심-아세테이트를 나타내고; 비교화합물 4는 CN1241562A에 개시된 광개시제, 1-(4-페닐티오-페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트를 나타내고; 비교화합물 5는 CN1514845A에 개시된 광개시제, 1-(6-o-메틸 벤조일-9-에틸카바졸-3-일)-(3-에타논)-1-옥심-아세테이트를 나타내고; 비교화합물 6은 일반적으로 사용되는 광개시제, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모폴리닐-프로판-1-온 (통상 Irgacure907로 알려짐)을 나타낸다.
표 2-5의 결과로부터 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제를 포함하는 광경화 조성물이 양호한 저장 안정성을 갖고, 통상적인 고압 수은 램프 광원 조건 하 또는 UV-LED 광원 조건 하에서 이러한 광경화 조성물(무색 시스템 및 안료 시스템 포함)이 매우 우수한 감광성, 현상성 및 패턴 무결성을 나타내고 우수한 적용 효과를 갖는 것을 알 수 있다. 그러나, 비교된 6개의 기존 광개시제는 분명한 단점을 갖는다. 이들은 수은 램프의 여기 조건 하에서 이점이 없을 뿐만 아니라, UV-LED 광원과 거의 매칭될 수 없다. 따라서, 중합을 개시할 수 없거나 중합을 개시하는 효율이 특히 낮다. 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제는 단일 파장을 갖는 UV-LED 조사 하에서 기존의 광개시제보다 확연하게 우수한 감광 특성을 갖는다.
요약하면, 본 발명에 개시된 화학식 (I)로 표시되는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제는 우수한 사용성능을 가지며 UV-LED 광원에 대해 양호한 적용성을 나타내어, 광경화 제품의 성능을 상당히 개선할 수 있고 광경화 분야에서 UV-LED 광원의 보급 및 사용을 촉진하는 양호한 효과를 갖는다.

Claims (9)

  1. 화학식 (I)로 표시되는 구조를 갖는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제:
    Figure pct00019

    상기 식에서,
    X와 Y는 각각 독립적으로 카보닐 (-CO-) 또는 단일 결합을 나타내고;
    Z는 존재하지 않거나, 단일 결합, 또는 C1-C5 알킬렌 그룹이고;
    A는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소, C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹을 나타내고;
    R1은 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 또는 알콕시 그룹, 또는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 것으로 임의로 치환된 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹을 나타내고;
    R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소, C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹, 또는 C7-C20 아르알킬 그룹을 나타내고, 임의로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 것으로 치환될 수 있고;
    R4는 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C20 헤테로아릴 그룹, 또는 C6-C20 아릴 그룹을 나타내고, 임의로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 페닐 그룹, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 것으로 치환될 수 있다.
  2. 제1항에 있어서, Z가 존재하지 않거나, 단일 결합, 메틸렌 그룹, 에틸렌 또는 프로필렌 그룹인 것을 특징으로 하는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제.
  3. 제1항에 있어서, A가 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소, C1-C10 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C15 사이클로알킬 그룹, 또는 C4-C15 사이클로알킬알킬 그룹을 나타내는 것을 특징으로 하는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제.
  4. 제1항에 있어서, R1이 수소, 할로겐, 니트로 그룹, 또는 C1-C15 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹을 나타내는 것을 특징으로 하는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제.
  5. 제1항에 있어서, R2 및 R3가 각각 독립적으로 수소, C1-C15 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C15 사이클로알킬 그룹, C4-C15 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C15 알킬사이클로알킬 그룹, 또는 C7-C15 아르알킬 그룹을 나타내고, 임의로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 것으로 치환될 수 있는 것을 특징으로 하는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제.
  6. 제1항에 있어서, R4가 C1-C10 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C10 사이클로알킬 그룹, C4-C10 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C10 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C10 헤테로아릴 그룹, 또는 C6-C10 아릴 그룹을 나타내는 것을 특징으로 하는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제.
  7. 제1항에 있어서, 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제가 다음 구조로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제:
    Figure pct00020

    Figure pct00021

    Figure pct00022

    Figure pct00023

    Figure pct00024
  8. 구체적인 반응식이 하기한 바와 같고, 니트로-비스옥시미노(bisoximino) 그룹 구조를 함유하는 화합물과 상응하는 산 무수물 또는 산 할로겐화물 사이의 에스테르화 반응을 수행하여 목적 생성물을 얻는 단계를 포함하는, 제1항의 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제의 제조방법:
    Figure pct00025

    상기 식에서, B는 할로겐을 나타낸다.
  9. 제1항의 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제의 광경화 조성물에서의 용도.
KR1020167022359A 2014-03-18 2015-03-17 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 KR101798220B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410101531.XA CN103819583B (zh) 2014-03-18 2014-03-18 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN201410101531.X 2014-03-18
PCT/CN2015/074368 WO2015139604A1 (zh) 2014-03-18 2015-03-17 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160108532A true KR20160108532A (ko) 2016-09-19
KR101798220B1 KR101798220B1 (ko) 2017-11-15

Family

ID=50754903

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167022359A KR101798220B1 (ko) 2014-03-18 2015-03-17 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9630913B2 (ko)
JP (1) JP6301489B2 (ko)
KR (1) KR101798220B1 (ko)
CN (1) CN103819583B (ko)
WO (1) WO2015139604A1 (ko)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103833872B (zh) * 2014-03-18 2016-04-06 常州强力先端电子材料有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104910053B (zh) * 2014-06-09 2017-09-12 北京英力科技发展有限公司 不对称二肟酯化合物及其制造方法与应用
CN104076606B (zh) * 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
KR101824429B1 (ko) * 2015-01-26 2018-02-06 주식회사 삼양사 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
CN104614940B (zh) * 2015-02-05 2019-04-09 常州强力先端电子材料有限公司 一种感光性树脂组合物及其应用
WO2016126070A1 (ko) * 2015-02-06 2016-08-11 한국화학연구원 신규한 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
CN107325206B (zh) * 2016-04-12 2018-12-18 常州强力先端电子材料有限公司 一种含硝基咔唑肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN107765510B (zh) * 2016-08-16 2020-02-07 常州强力电子新材料股份有限公司 一种9-苯基吖啶大分子类光敏剂及其制备方法和应用
CN109305951A (zh) * 2017-07-26 2019-02-05 湖北固润科技股份有限公司 香豆素肟酯类化合物及其制备和应用
CN109957349B (zh) * 2017-12-14 2022-02-22 常州强力电子新材料股份有限公司 各向异性导电膜、用于形成其的组合物及其应用
CN110066225B (zh) * 2018-01-23 2022-06-03 常州强力先端电子材料有限公司 双肟酯类光引发剂、制备方法、感光性树脂组合物及应用
KR102335614B1 (ko) * 2018-03-21 2021-12-03 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치
WO2021199748A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 組成物、膜及び光センサ
JP7371554B2 (ja) 2020-03-30 2023-10-31 日油株式会社 ビスオキシムエステル系光重合開始剤、重合性組成物、ならびに硬化物およびその製造方法
WO2022065006A1 (ja) 2020-09-28 2022-03-31 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物
JPWO2022131191A1 (ko) 2020-12-16 2022-06-23
WO2022130773A1 (ja) 2020-12-17 2022-06-23 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JPWO2022196599A1 (ko) 2021-03-19 2022-09-22
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
WO2022210175A1 (ja) 2021-03-29 2022-10-06 富士フイルム株式会社 黒色感光性組成物、黒色感光性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、ヘッドライトユニット
JP7259141B1 (ja) 2021-08-31 2023-04-17 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液
CN117916279A (zh) 2021-09-29 2024-04-19 富士胶片株式会社 组合物、树脂、膜及光传感器
WO2023120037A1 (ja) 2021-12-23 2023-06-29 富士フイルム株式会社 接合体の製造方法、接合体、積層体の製造方法、積層体、デバイスの製造方法、及び、デバイス、並びに、ポリイミド含有前駆体部形成用組成物
CN117348340A (zh) * 2022-06-24 2024-01-05 常州强力先端电子材料有限公司 负型感光性树脂组合物、固化膜及其制备方法、el元件和显示装置
CN117510396A (zh) * 2022-07-27 2024-02-06 常州强力电子新材料股份有限公司 肟酯光引发剂、其制备方法及应用
WO2024043108A1 (ja) * 2022-08-25 2024-02-29 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、硬化膜の製造方法、膜、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤
CN115583931B (zh) * 2022-09-28 2024-03-15 湖北固润科技股份有限公司 醚官能化香豆素肟酯类化合物及其制备和应用

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1395615B1 (en) 2001-06-11 2009-10-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a combined structure
US20090292039A1 (en) * 2006-12-27 2009-11-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
KR101007440B1 (ko) * 2007-07-18 2011-01-12 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법
JP2009179619A (ja) * 2008-02-01 2009-08-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP2009235138A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化型インクジェットインキ
WO2009147031A2 (en) * 2008-06-06 2009-12-10 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2342237B1 (en) * 2008-11-03 2014-04-23 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5371471B2 (ja) * 2009-02-16 2013-12-18 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
CN101508744B (zh) * 2009-03-11 2011-04-06 常州强力电子新材料有限公司 咔唑肟酯类光引发剂
CN101565472B (zh) * 2009-05-19 2011-05-04 常州强力电子新材料有限公司 酮肟酯类光引发剂
CN102459171B (zh) * 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案
EP2625166B1 (en) * 2010-10-05 2014-09-24 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
CN102020727B (zh) * 2010-11-23 2013-01-23 常州强力先端电子材料有限公司 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
RU2628076C2 (ru) * 2011-05-25 2017-08-14 Америкэн Дай Сорс, Инк. Соединения с группами сложных эфиров оксима и/или ацильными группами
JP5989469B2 (ja) * 2011-09-06 2016-09-07 三洋化成工業株式会社 感光性組成物
CN102492060B (zh) * 2011-11-28 2013-06-26 常州强力先端电子材料有限公司 一种二苯硫醚肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
CN103130833B (zh) * 2011-11-28 2017-02-08 深圳市有为化学技术有限公司 可溶性肟酯和芳香酮光聚合引发剂
EP2834313A1 (en) * 2012-04-03 2015-02-11 3M Innovative Properties Company Crosslinkable composition comprising photobase generators
JP6127130B2 (ja) * 2012-05-03 2017-05-10 コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー 新規のオキシムエステルフルオレン化合物、およびこれを含む光重合開始剤、並びにフォトレジスト組成物
JP6021473B2 (ja) * 2012-07-02 2016-11-09 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
CN102775527B (zh) * 2012-07-05 2014-03-05 常州强力先端电子材料有限公司 一种酮肟酯类光引发剂及其制备方法
CN102778814B (zh) * 2012-07-05 2014-04-23 常州强力先端电子材料有限公司 一种含有酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
CN103130919B (zh) * 2013-02-08 2015-02-25 常州强力先端电子材料有限公司 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂

Also Published As

Publication number Publication date
CN103819583B (zh) 2016-05-18
KR101798220B1 (ko) 2017-11-15
JP2017508738A (ja) 2017-03-30
JP6301489B2 (ja) 2018-03-28
US20160376225A1 (en) 2016-12-29
WO2015139604A1 (zh) 2015-09-24
US9630913B2 (en) 2017-04-25
CN103819583A (zh) 2014-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101798220B1 (ko) 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도
KR101860511B1 (ko) 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도
KR101435652B1 (ko) 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR102252495B1 (ko) 플루오레닐아미노케톤 광개시제, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 uv 광경화성 조성물
JP7034175B2 (ja) 重合可能基含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、製造方法およびその応用
JP6328642B2 (ja) シクロペンタンジオンオキシムエステルとその応用
KR101883164B1 (ko) 비대칭 디옥심에테르 화합물 및 그 제조 방법과 응용
JP2019528331A (ja) フルオレン類光開始剤、その製造方法、それを有する光硬化性組成物、及び光硬化分野におけるフルオレン類光開始剤の使用
JP6816067B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物、これを含むカラーフィルタおよびこれを含む表示装置
BR112012024198B1 (pt) Composto e processo para a preparação de um aminoacrilato
JPWO2018221177A1 (ja) トリアジンペルオキシド誘導体、該化合物を含有する重合性組成物
ES2359809T3 (es) Fotoiniciador, nuevo compuesto, y composición fotocurable.
TW201831445A (zh) 過氧化肉桂酸酯衍生物、含有該化合物的聚合性組合物及其固化物與製備方法
JP7059384B2 (ja) ジブチルフルオレニル誘導体及びその光開始剤としての使用
JP2004149755A (ja) チオール化合物、光重合開始剤組成物および感光性組成物
KR20180101385A (ko) 플루오렌 다작용성 광개시제 및 이의 제조 및 용도, 및 플루오렌 광개시제를 포함하는 광감성 수지 조성물 및 이의 용도
CN105085718A (zh) 一种吡唑啉肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN106749776A (zh) 一种含芴肟酯类光引发剂
KR101102248B1 (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP6741854B2 (ja) 新規カチオン型光開始剤、並びにその製造方法及び使用
CN107325206B (zh) 一种含硝基咔唑肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN112441953A (zh) 含二苯硫醚基酮甲酸酯水溶性光聚合引发剂及其制备方法
KR102377268B1 (ko) 바인더 수지, 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 격벽 구조물 및 이를 포함하는 표시장치
KR102387414B1 (ko) 바인더 수지, 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 표시장치
CN106565690A (zh) 一种含杂环的硝基咔唑肟酯类光引发剂

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180928

Year of fee payment: 4