KR20150097492A

KR20150097492A - 산화아연과 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 용품

Info

Publication number: KR20150097492A
Application number: KR1020157015475A
Authority: KR
Inventors: 궈펑 수; 쯔치앙 리우; 롱 판; 라톤야 킬패트릭-리버맨; 잉 양; 마이클 에이. 스트라닉; 지강 하오
Original assignee: 콜게이트-파아므올리브캄파니
Priority date: 2012-12-19
Filing date: 2012-12-19
Publication date: 2015-08-26
Also published as: CN104853727A; US9901523B2; AU2012397270A1; PH12015501439A1; AU2012397270B2; US20150328112A1; JP2016506405A; EP2934446B1; IL239122A0; IL239122B; MX2015007675A; ZA201503690B; AU2012397270B9; CN104853727B; CA2892422C; TWI507210B; WO2014098829A1; MX352556B; TW201503906A; RU2015123707A

Abstract

산화아연과 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태로 트리메틸글리신의 혼합물을 포함하는 구강 관리 조성물을 본원에서 기재한다. 조성물의 제조 방법과 사용 방법이 또한 제공된다.

Description

산화아연과 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 용품{ORAL CARE PRODUCTS COMPRISING ZINC OXIDE AND TRIMETHYLGLYCINE}

치아 침식(erosion)은 비세균 원으로부터 산 공격으로 인해 치아 구조에 대한 손상과 탈회를 포함한다. 침식은 초기에 에나멜에서 발견되며, 검사받지 않으면 하층 상아질까지 진행될 수 있다. 치아 침식은 산성 식품과 음료수, 염소 소독된 수영장 물에 노출, 및 위산의 역류에 의해 원인이 되거나 악화될 수 있다. 치아 에나멜은 음으로 하전된 표면이며, 이는 음으로 하전된 이온 예컨대 불화물 이온에 반발하면서, 자연스럽게 양으로 하전된 이온 예컨대 수소와 칼슘 이온을 끌어당기는 경향이 있다. 주변 침의 상대 pH에 따라, 치아 에나멜은 양으로 하전된 이온 예컨대 칼슘 이온을 상실하거나 얻을 것이다. 일반적으로 침은 pH가 7.2 내지 7.4이다. pH가 낮아지고, 수소 이온의 농도가 비교적 높게 되는 경우, 수소 이온은 에나멜에서 칼슘 이온을 대체하여, 인산수소(인산)를 형성할 것이며, 이는 에나멜을 손상하고, 다공성의, 스폰지 같은 거친 표면을 만든다. 침이 장기간에 걸쳐 산성으로 유지되면, 재석회화가 일어날 수 없으며, 치아는 계속 미네랄을 상실할 것이며, 치아가 약화하고, 결국 구조를 상실하게 된다.

상아질 과민증은 노출된 상아질의 열, 삼투 및 촉감 자극의 열적(뜨겁거나 찬) 삼투성, 촉감 조합에 의해서와 같이 상아질 표면의 물리적 자극에 따라 급성의, 국소 치통이다. 상아질의 노출은 일반적으로 검의 오목부, 또는 에나멜의 상실로 인한 것인데, 자주 과민증으로 유발된다. 표면에 열려 있는 상아질 세관은 상아질 과민증과 밀접하게 관련되어 있다. 상아질 세관은 수질에서 시멘트질까지 연결된다. 치근의 표면 시멘트질이 침식되는 경우, 상아질 세관은 외부 환경에 노출된다. 노출된 상아질 세관은 치수 신경으로 유체 흐름의 전달을 위한 통로를 제공하며, 전달은 온도, 압력 및 이온 기울기의 변화에 의해 유도된다.

중금속 이온, 예컨대 아연은 산 공격에 저항성이 있다. 전기화학 계열에서 아연은 수소보다 높아서, 아연이 용액으로 변화되어 이가 양이온(di-cation)(Zn² ⁺)을 형성할 때 산성 용액 중 금속 아연은 반응하여 수소 가스를 유리할 것이다. 아연은 치석 및 충치 연구에서 항균 특성이 있다고 밝혀졌다.

가용성 아연 염, 예컨대 시트르산 아연은 치약 조성물에 사용되었지만(예를 들어, 미국특허 제6,121,315호 참조), 여러 가지 단점이 있다. 용액 중 아연 이온은 불쾌한, 떫은 입맛을 부여하여서, 유효 수준의 아연을 제공하고, 또한 허용되는 감각 자극 특성이 있는 제제를 얻기 어려웠다. 끝으로, 아연 이온은 음이온성 계면활성제 예컨대 소듐 라우릴 설페이트와 반응할 것이며, 따라서 발포와 세정에 방해가 된다.

산화아연은 치약용 성분으로서 사용되었다. 이것은 다양한 구강 관리 효능을 보여주었지만, 이의 성능은 산화아연의 제한된 용해도에 의해 제약된다. 산화아연은 용해도가 30℃에서 물 100 ml 당 약 0.16 mg으로 낮다. 따라서 가용성 종으로서 효과적으로 전달될 수 있는 산화아연이 양적으로 한정된다. 종래의 분말 형태로 전달되는 산화아연은 구강 내 치아 또는 점막 표면에 대해 친화성이 강하지 않다. 따라서 사용자가 치약, 구강 린스제, 등을 내뱉을 때 치료 기간의 종료 시에 전달된 산화아연을 씻어낼 것이다.

N,N,N-트리메틸글리신(TMG 또는 글리신 베타인)은 사차 암모늄 구조를 갖는다. 중성 pH에서, 화합물은 양성 이온으로서 존재하여, 분자의 사차 암모늄과 카르복시 부분 사이에 내부 염을 형성한다. 강산의 존재 하에, 이것은 산 부가염, 예를 들어 염산염을 형성할 것이다. 화합물은 처음에 사탕무로부터 단리되고, 동물 사료의 식이 보충제로서 그리고 실험용 시약 안정화제로서, 예를 들어 중합효소 연쇄 반응에 사용된다. 구강 건조를 치료하는 구강 관리 용품, 예를 들어 미국특허 제6,156,293호에서 및 발한억제제 제품, 예를 들어 미국특허 제6,969,510호에서 이의 사용에 대한 보고들이 있다.

선행 기술이 상아질 과민증, 충치, 에나멜 침식 및 탈회의 치료를 위한 다양한 구강 조성물의 용도를 개시하고 있지만, 이러한 치료에서 향상된 성능을 제공하는 추가 조성물과 방법에 대해 여전히 필요하다.

산화아연이 선행 기술 제제에서 제한된 용해도로서 존재하지만, 이제 산화아연이 이의 유리 형태와 산 부가 형태 둘 다에서 TMG와 가용성 착물을 형성할 수 있다고 이제 밝혀졌다. 이 착물은 제제에 넣을 경우 에나멜 및/또는 상아질 표면에 유효 농도의 아연 이온을 제공하며, 이에 의해 침식에 대해 보호하고, 세균 정착과 생체막 발생을 줄이며, 치아의 광택을 향상시킨다. 더구나, 사용 중 희석 시, 제제는 상아질 세관을 메울 수 있는 침전물을 제공하며, 이에 의해 치아의 감도를 줄인다. 추가로, 사용 중 희석 시, 제제는 주로 아연염과 일부 TMG의 고체 물질의 코팅을 치아 표면에 제공한다. 치아 표면에 고체 물질의 강한 친화력은 더 양호한 지속성을 가능하게 하며, 이로부터 활성제의 제어된 방출을 허용한다. 이는 더 양호한 가용화가 일반적으로 희석에 의해 예상되므로 적어도 부분적으로 예외적이다.

산화아연이 있는 종래의 제제와 비교하여 아연의 효과적인 전달을 제공하지만, 산화아연과 TMG를 포함하는 제제는 가용성 아연 염을 사용하는 종래의 아연계 구강 관리 용품과 관련된, 좋지 않은 맛과 구강 촉감, 좋지 않은 불화물 전달, 및 좋지 않은 발포 및 세정을 나타내지 않는다.

산화아연과 산부가 형태의 TMG로부터 형성되는 가용성 착물은 특히 효과적이다. 산은 임의의 산일 수 있으며, 바람직하게는 염산염이다. 산부가 형태의 TMG는 한 사전 독립체(entity), 예컨대 TMG 염산염으로서 제공될 수 있거나, TMG를 산과 다양한 비율로, 예를 들어 1:5 내지 5:1(TMG의 몰수 대 산으로부터 유리될 수 있는 양성자의 몰수)로 혼합함으로써 계 내에서 형성될 수 있다. 산화아연과 산부가 형태의 TMG로부터 형성되는 가용성 착물은 물에 의한 희석 시 침전을 유도할 수 있다. 침전물은 부유성 고체의 형태로 있을 수 있고/있거나 후속 방출을 위한 치아와 점막 표면에 부착될 수 있다. 비교하여, 산화아연과 유리 형태의 TMG로부터 형성되는 가용성 착물은 물에 의한 희석 시 침전을 덜 생성할 수 있다.

따라서 본 발명은 일 실시형태에서 예를 들어 수용액에서 산화아연과 트리메틸글리신 염산염을 배합함으로써 형성되는 산화아연과 유리 또는 산부가 형태의 TMG를 포함하는 착물, 예를 들어 아연-TMC-HCl 착물을 제공한다.

추가 실시형태에서, 본 발명은 구강 관리 조성물, 산화아연을 유리 또는 산부가 형태의 TMG과 조합하여 포함하는, 예를 들어 상기에 기재한 착물을 포함하는 구강 관리 조성물, 예를 들어, 구강 세정제(mouthwash), 구강 겔 또는 치약 조성물을 제공한다. 조성물은 임의로 불화물 원 및/또는 추가의 인산염 원을 추가로 포함할 수 있다. 조성물은 예를 들어 1 이상의 연마제, 계면활성제, 발포제, 비타민, 중합체, 효소, 보습제, 증점제, 항미생물제, 보존제, 향미제, 및/또는 착색제를 포함하는 적합한 구강 관리 제제, 예를 들어 종래의 치약, 구강 겔 또는 구강 세정제 베이스(base)로 제제화될 수 있다.

본 발명은 추가로 치아에 본 발명의 조성물을 적용하는 것을 포함하는, 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 구강 악취를 줄이며, 구강 건조로부터 완화를 제공하고, 충치와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는 본 발명의 조성물의 사용 방법을 제공한다. 본 발명은 추가로 치아에 코팅을 부여함으로써 치아를 미백하는 본 발명의 조성물의 사용 방법을 제공하며, 여기서 코팅은 천연 치아보다 더 백색이다.

본 발명의 적용성에 대한 추가 영역은 이후 제공되는 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 상세한 설명과 구체적인 실시예는 본 발명의 바람직한 실시형태를 나타내지만, 당연히 예시 목적만을 위한 것이며, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 의도되지 않는다.

바람직한 실시형태(들)의 하기 설명은 특성상 단지 예시적이며, 어느 식으로든 본 발명, 그의 응용 분야, 또는 용도를 한정하는 것으로 의도되지 않는다.

본원에서 사용되는 바와 같이, "트리메틸글리신"은 N,N,N-트리메틸글리신을 의미하며; 이 용어들은 본원에서 상호 교환하여 사용될 수 있다.

따라서 본 발명은 제1 실시형태에서, 산화아연과 유리되거나 경구로 허용가능한 산 부가염 형태의 트리메틸글리신(TMG)의 혼합물을 포함하거나 제조되는 구강 관리 조성물(조성물 1)을 제공하며; 예를 들면, 하기 조성물이다:

1.1. 제제 중 아연의 수준이 원소 기준으로 0.05-4 중량%, 예를 들어 1-2 중량%, 예를 들어 0.5-1.5 중량%, 예를 들어 약 1 중량%인 조성물 1.

1.2. TMG가 경구로 허용가능한 산 부가염 형태, 예를 들어 염산염 형태로 제공되거나, TMG가 TMG와 산(예컨대 HCl)을 별도 독립체로서 1:5 내지 5:1(TMG의 몰수 대 산으로부터 방출되는 양성자의 몰수)의 몰 비로 제공함으로써 계 내에서 형성되는 조성물 1 또는 1.1.

1.3. 산화아연 대 TMG의 몰 비가 1:1 내지 1:10, 예를 들어 1:5인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.4. 아연 대 TMG의 몰 비가 5:1 내지 1:2, 예를 들어 약 1:1인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.5. pH가 pH 5 내지 pH 6인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.6. 제제화가 산화아연과 트리메틸글리신 염산염을 수용액에서 배합하는 단계를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.7. TMG가 염산염 형태로 제공되며, 산화아연과 TMG가 아연-TMG-할로겐화물 착물, 아연-할로겐화물 착물, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 가용성 착물을 형성하며, 예를 들어 할로겐화물은 불화물, 염화물, 브롬화물 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.8. TMG가 염산염 형태로 제공되며, 산화아연과 TMG가 2종의 가용성 착물을 형성하고, 하나는 화학 조성이 Zn₂O₈H₆X₂이고, 다른 하나는 화학 조성이 Zn₂O₈H₅X₂-TMG이며, 여기서 X는 Cl, F, Br, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.9. TMG가 염산염 형태로 제공되며, 아연과 TMG가 아연-TMG-염화물 착물, 아연-염화물 착물, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 가용성 착물을 형성하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.10. TMG가 염산염 형태로 제공되며, 산화아연과 TMG가 2종의 가용성 착물을 형성하고, 하나는 화학 조성이 Zn₂O₈H₆Cl₂이고, 다른 하나는 화학 조성이 Zn₂O₈H₅Cl₂-TMG인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.11. 산화아연과 TMG를 포함하는 착물이 조성물을 적용한 후 계 내에서 전체 또는 부분적으로 형성되는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.12. 산화아연과 TMG를 포함하는 착물이 조성물을 제제화한 후 계 내에서 전체 또는 부분적으로 형성되는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.13. 예를 들어 혼합물의 pH가 5 내지 6이도록, 산, 예를 들어 염산을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.14. 염기성 아미노산, 예를 들어 리신 또는 아르기닌을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.15. 실질적으로 무수 담체, 예를 들어 10% 미만의 물을 포함하는 담체에서 상기 조성물 중 어느 하나.

1.16. 치약, 겔, 구강 세정제, 분말, 크림, 스트립(strip), 또는 검의 형태인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.17. 경구로 허용가능한 베이스, 예를 들어 구강 세정제, 겔, 또는 치약 베이스인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.18. 치약의 형태로, 예를 들어 산화아연 및 TMG가 치약 베이스에서 유효량, 예를 들어 0.05-4 중량%, 예를 들어 약 0.5-3 중량%, 예를 들어 약 1 중량%의 아연의 양으로 존재하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.19. 치약 베이스가 연마제, 예를 들어 유효량의 실리카 연마제를, 예를 들어 10-30%, 예를 들어 약 20% 포함하는 조성물 1.1.

1.20. 구강 세정제의 형태로, 예를 들어 산화아연이 유효량으로, 예를 들어 0.05-4 중량%의 아연, 예를 들어 약 1 중량%의 아연의 양으로 존재하는 조성물 1.

1.21. 유효량의 불화물 이온 원을 추가로 포함하는, 예를 들어 500 내지 3000 ppm의 불화물을 제공하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.22. 유효량의 불화물을 추가로 포함하고, 예를 들어 불화물이 불화주석, 불화나트륨, 불화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 불화물(예, N'-옥타데실트리메틸렌디아민-N,N,N'-트리스(2-에탄올)-디히드로플루오라이드), 불화암모늄, 불화티탄, 헥사플루오로설페이트, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 염인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.23. 예를 들어 알칼리 이염기성 인산염 및 알칼리피로인산염으로부터 선택되는 1 이상의 알칼리 인산염, 예를 들어 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염, 예를 들어 제2 인산나트륨, 제2 인산칼륨, 인산이칼슘 이수화물, 피로인산칼슘, 피로인산사나트륨, 피로인산사칼륨, 트리폴리인산나트륨, 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 알칼리 인산염의 유효량, 예를 들어 조성물의 1-20 중량%, 예를 들어 2-8 중량%, 예를 들어 약 5 중량%의 양으로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.24. 완충제, 예를 들어 인산나트륨 완충액(예, 제1 인산나트륨 및 인산이나트륨)을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.25. 예를 들어 글리신, 소르비톨, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 자일리톨, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 보습제를 포함하며, 예를 들어 적어도 20%, 예를 들어 20-40%, 예를 들어 25-35%의 글리세린을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.26. 예를 들어 음이온성, 양이온성, 양성 이온성, 및 비이온성 계면활성제, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 1 이상의 계면활성제를 포함하는, 예를 들어 음이온성 계면활성제, 예를 들어 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 에테르 라우릴 설페이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 계면활성제 예를 들어 약 0.3 중량% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들어 1-2 중량% 소듐 라우릴 설페이트(SLS)의 양으로; 및/또는 양성 이온성 계면활성제, 예를 들어 베타인 계면활성제, 예를 들어 코카미도프로필베타인, 예를 들어 약 0.1 중량% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들어 0.5-2 중량% 코카미도프로필베타인의 양으로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.27. 점도 조절량의 1 이상의 폴리사카라이드 검, 예를 들어 크산탄 검 또는 카라기난, 실리카 증점제, 및 이들의 조합을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.28. 검 스트립 또는 단편을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.29. 향미제, 항료 및/또는 착색제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.30. 유효량의 1 이상의 항균제를 포함하는, 예를 들어 할로겐화 디페닐 에테르(예, 트리클로산), 허브 추출물 및 에센셜 오일(예, 로즈메리 추출물, 차 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 살리실산메틸, 에피갈로카테킨갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산, 미스왁(miswak) 추출물, 산자 나무 추출물), 비스구아니드 소독제(예, 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 및 사차 암모늄 화합물(예, 세틸피리디늄 클로라이드(CPC), 염화벤즈알코늄, 염화테트라데실피리디늄(TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드(TDEPC), 페놀계 소독제, 헥세티딘, 옥테니딘, 상귀나린, 포비돈 요드, 델모피놀, 살리플루오르, 금속 이온(예, 아연염, 예를 들어 시트르산아연, 주석염, 구리염, 철염), 상귀나린, 프로폴리스 및 산소화제(예, 과산화수소, 완충 퍼옥시붕산 또는 퍼옥시탄산나트륨), 프탈산 및 그의 염, 모노퍼탈산(monoperthalic acid) 및 그의 염과 에스테르, 스테아르산아스코르빌, 올레오일 사르코신, 알킬 설페이트, 디옥틸 설포숙시네이트, 살리실아닐리드, 도미펜 브로마이드, 델모피놀, 옥타피놀 및 다른 피페리디노 유도체, 니신 제제, 아염소산염; 및 상기 중 어느 하나의 혼합물로부터 선택되는 항균제를 포함하는; 예를 들어, 트리클로산 또는 염화세틸피리디늄을 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.31. 항균 유효량의 트리클로산, 예를 들어 약 0.1-0.5%, 예를 들어 약 0.3%를 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.32. 예를 들어 과산화물, 금속 아염소산염, 과붕산염, 과탄산염, 과산, 하이포아염소산염, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 미백제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.33. 과산화수소 또는 과산화수소 원, 예를 들어 과산화우레아 또는 과산화물 염 또는 착물(예, 예컨대 퍼옥시인산염, 퍼옥시탄산염, 과붕산염, 퍼옥시규산염, 또는 과황산염; 예를 들어 퍼옥시인산칼슘, 과붕산나트륨, 과산화탄산나트륨, 퍼옥시인산나트륨, 및 과황산칼륨)을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.34. 세균 부착을 방해하거나 방지하는 제제, 예를 들어 소르비톨 또는 키토산을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.35. (i) 칼슘 유리 착물, 예를 들어 칼슘 소듐 포스포실리케이트, 및 (ii) 칼슘 단백질 착물, 예를 들어 카제인 포스포펩티드 비정질 인산칼슘으로부터 선택되는 칼슘과 인산염의 원을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.36. 예를 들어 황산칼슘, 염화칼슘, 질산칼슘, 아세트산칼슘, 락트산칼슘, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 가용성 칼슘염을 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.37. 생리적으로 또는 경구로 허용가능한 칼륨염, 예를 들어 질산칼륨 또는 염화칼륨을 상아질 감도를 줄이는데 유효한 양으로 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.38. 음이온성 중합체, 예를 들어 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트를 추가로 포함하며, 예를 들어 음이온성 중합체가 또 다른 중합가능한 에틸렌 불포화 단량체와 말레산 무수물 또는 말레산의 1:4 내지 4:1 공중합체로부터 선택되고; 예를 들어 음이온성 중합체는 평균 분자량(M.W.)이 약 30,000 내지 약 1,000,000, 예를 들어 약 300,000 내지 약 800,000인 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물(PVM/MA) 공중합체이며, 예를 들어 음이온성 중합체가 조성물 중량의 약 1-5%, 예를 들어 약 2%인 상기 조성물 중 어느 하나.

1.39. 호흡 청량제(breath freshener), 향료 또는 향미제를 추가로 포함하는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.40. 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는데 사용하기 위한 상기 조성물 중 어느 하나.

1.41. 산화아연과 트리메틸글리신 염산염을 수성 매질에서 혼합하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 상기 조성물 중 어느 하나.

1.42. 물에 의한 희석 시, 예를 들어 물에 대한 아연 1% 이하의 수준으로 희석 시, 아연 침전물이 형성되는 상기 조성물 중 어느 하나.

본 발명은 추가로 치아에 본 발명의 조성물, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)의 유효량을 적용하는 것을 포함하는, 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 구강 건조로부터 완화를 제공하며, 구강 악취를 줄이며, 충치와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하며, 미백을 개선하고, 상아질 과민증을 줄이는 방법을 제공한다.

본 발명은 추가로 산화아연과 TMG의 경구로 허용가능한 산 부가염, 예를 들어 TMG-HCl을 수성 매질에서 배합하는 단계를 포함하는, 산화아연과 TMG를 포함하는 조성물, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)의 제조 방법을 제공한다.

예를 들어, 다양한 실시형태에서, 본 발명은 (i) 치아의 과민증을 줄이고, (ii) 치석 축적을 줄이며, (iii) 치아의 탈회를 줄이거나 억제하며, 치아의 재석회화를 촉진하고, (iv) 구강에서 미생물 생체막 형성을 억제하며, (v) 치은염을 줄이거나 억제하고, (vi) 구내 헌데 또는 베인 상처의 치유를 촉진하며, (vii) 산 생성 세균의 수준을 줄이고, (viii) 비우식성 및/또는 비치석 형성 세균의 상대 수준을 증가시키며, (ix) 충치의 형성을 줄이거나 억제하고, (x) 예를 들어 정량 광유도 형광(QLF, quantitative light-induced fluorescence) 또는 전기 충치 측정(ECM, electrical caries measurement)에 의해 검측된 바와 같이, 에나멜의 전충치 병변을 줄이거나, 회복하거나 억제하며, (xi) 구강 건조를 치료하거나, 완화하거나 줄이고, (xii) 치아와 구강을 청소하며, (xiii) 침식을 줄이고, (xiv) 치아를 미백하며; (xv) 치석 축적을 줄이고; (xvi) 구강 악취를 줄이며/이거나; (xvii) 예를 들어 구강 조직을 통한 전신 감염에 대한 가능성을 낮춤으로써, 심혈관 건강을 포함하여, 전신 건강을 촉진하는 방법으로서, 상기에 기재한 임의의 조성물 1(및 이하 참조)을 이러한 처리가 필요한 인간의 구강에 1일 1회 이상 적용하는 것을 포함하는 방법을 제공한다. 또한 임의의 이들 방법에 사용하기 위한 조성물 1(및 이하 참조)이 제공된다.

본 발명은 추가로 구강 관리 조성물, 예를 들어 임의의 조성물 1(및 이하 참조)을 제조하기 위한, 산화아연 및 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태의 TMG, 예를 들어 트리메틸글리신 염산염의 용도를 제공한다.

일부 실시형태에서, 본 발명의 조성물은 상아질 과민증으로부터 5초 후 완화를 제공한다. 일부 실시형태에서, 본 발명의 조성물은 상아질 과민증으로부터 10초 후 완화를 제공한다. 일부 실시형태에서, 본 발명의 조성물은 상아질 과민증으로부터 15초 후 완화를 제공한다. 일부 실시형태에서, 본 발명의 조성물은 상아질 과민증으로부터 30초 후 완화를 제공한다. 일부 실시형태에서, 본 발명의 조성물은 상아질 과민증으로부터 60초 후 완화를 제공한다.

본 발명은 추가로 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는, 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태(즉, 산 부가염 형태)로 TMG와 함께 산화아연의 용도; (ii) 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 구강 악취를 줄이며, 구강 건조로부터 완화를 제공하고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며, 상아질 과민증을 줄이는 조성물의 제조에서 (a) 산화아연과 아미노산 할로겐화물, 및/또는 (b) 산화아연, 아미노산 및 임의로 할로겐산으로부터 선택되는 아연 아미노산 할로겐화물 전구체의 용도를 제공한다.

아연과 TMG의 상호작용은 산화아연을 높은 가용성 착물로 전환한다고 밝혀져 있다. 바람직하게는, TMG는 산 부가염 형태, 예를 들어 염산염 형태로 있다. 착물은 수중 농도, 예를 들어 약 1% 이상의 아연에 상응하는 수준에서 가용성이 높다. 그러나 수중 희석을 증가시킴에 따라, 예를 들어 물에서 0.1 내진 1%, 예를 들어 약 0.5%의 아연 농도에서, 착물은 해리하며, 착물 중 아연 이온은 불용성 형태로 전화되며, 이는 실질적으로 산화아연으로부터 유리된다. 산화아연과 아미노산 예컨대 리신을 사용하여 착물이 형성되는 실험에서, 또한 희석 시 침전이 관찰되지만, 침전물은 산화아연이며, 따라서 산화아연으로부터 실질적으로 유리되는 침전물의 형성은 예외적이다.

이론에 매이고 싶지 않지만, 적어도 2종의 착물이 용액에 존재한다고 알려져 있다. 하나 이상의 착물은 TMG와 상호작용 없이 아연으로부터 유래하며, 하나 이상의 착물은 TMG와 상호작용에서 아연으로부터 유래한다. 한 착물은 구조가 Zn₂O₈H₅Cl₂이고, 다른 하나는 구조가 Zn₂O₈H₅Cl₂-TMG이다.

이러한 동력(희석 증가 시 용해도 감소)은 예외적이며, 예상하지 못한 일이다. 솔질 또는 헹굼 또는 침과 조합 시 희석은 투여에 의해 치아에 아연 침전물의 침착을 용이하게 하고, 이는 상아질 세관을 폐색하는 작용이 있으며, 이에 의해 과민증을 줄이고, 또한 아연을 에나멜에 제공하여, 산식증, 생체막 및 치석 형성을 줄인다.

아연, 및 TMG가 주로 전구체 물질(예, 산화아연 및 TMG-HCl)의 형태로 또는 착물의 형태로 있을 수 있지만, 어느 정도의 평형이 있을 수 있어서, 전구체 형태에서의 비율과 비교하여 착물에 실제로 있는 물질의 비율은 제제의 정확한 상태, 물질의 농도, pH, 물의 존재 또는 부존재, 다른 하전 분자의 존재 또는 부존재, 등에 따라 달라질 수 있다는 사실이 이해될 것이다.

착물이 또한 혼합물의 형태로 존재할 수 있다는 사실이 이해될 것이다. 산화아연과 TMG는 한 형태의 착물을 형성할 수 있고, 반면에 산화아연과 산 부가 형태의 TMG는 또 다른 착물을 형성할 수 있다. 이들 착물은 특히 TMG와 산으로부터 양성자가 다른 몰 량으로 제공되는 경우 상이한 비율로 존재할 수 있다.

활성제는 임의의 구강 관리 제제, 예를 들어 치약, 겔, 구강 세정제, 분말, 크림, 스트립, 검, 또는 본 기술에서 알려진 임의의 다른 형태로 전달될 수 있다.

활성제가 구강 세정제의 형태로 전달되는 경우, 이용자는 저장 용액 및 침에 의한 저장 용액의 자연스런 희석액으로 헹구며, 이는 아연의 침전을 시작할 것이다. 대안으로, 이용자는 저장 용액을 수성 희석제의 적당량과 혼합할 수 있으며(예를 들어, 약 0.1-1%의 물에 대해 아연의 농도를 제공하도록), 혼합물로 헹굴 수 있다.

또 다른 실시형태에서, 혼합물을 제조하여 즉시 보유 트레이(tray), 예컨대 미백 겔을 담는데 사용되는 것들로 이동시키고, 이용자는 유효 기간 동안 트레이를 착용할 수 있다. 혼합물과 접촉하고 있는 치아는 치료될 것이다. 보유 트레이를 사용하기 위해, 혼합물은 저 점도 액체 또는 겔의 형태일 수 있다.

또 다른 실시형태에서, 저장 용액, 또는 물과 저장 용액의 혼합물을 겔 제제로 치아에 적용하며, 예를 들어 여기서 겔은 효과적인 치료를 위해 장기간 동안 치아에 머물 수 있다.

또 다른 실시형태에서, 활성제를 치약에 제공한다. 솔질 시, 활성제는 침과 물에 의해 희석되어, 침전과 침착물 및 폐색 입자의 형성을 유도한다.

제제로부터 침전 속도는 저장 용액 중 착물의 농도를 조정하고, 원료 대 물의 비를 변경함으로써 조절될 수 있다. 포뮬라(formula)가 더 묽을수록 더 빠른 침전을 유도하며, 따라서 신속한 치료를 원하는 경우 바람직하다.

본 발명의 구강 관리 조성물에 대한 이점은 많다. 아연 이온 및 구강에 아연 이온을 방출할 수 있는 아연 함유 화합물을 제공함으로써, 본 발명의 구강 관리 조성물은 항미생물, 항치석, 항치은염, 항악취, 항충치, 및 항결석 이점을 제공한다. 폐색 입자와 표면 침착물은 구강에 아연 이온을 방출할 수 있으며, 상기에 인정한 다양한 이점을 제공할 수 있는 아연 염을 함유하는 화합물이다. 침착으로 인한 치아 표면에 형성되는 코팅은 치아 표면의 미백을 향상시킬 수 있으며, 따라서 미백 이점을 제공할 수 있다. 추가의 이점은 항부착, 항치주염과 항골상실, 및 상처 치유의 촉진을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다.

제2 이점은 아연 이온의 항침식 특성이며, 아연 이온은 산화와 가수분해를 통해 치아 표면에 항침식 침착물을 형성한다. 표면 침착물, 및 폐색 입자는 산과 반응하여 산을 중화할 수 있으며, 따라서 산의 침식 효과로부터 치아 표면을 보호한다. 또한 표면 침착물과 폐색 입자가 산을 중화하는 경우, 유리한 아연 이온이 방출될 수 있으며, 항침식 외에 구강 관리 이점을 제공할 수 있다.

제3 이점은 폐색 결과로서 항과민 이점이다. 상아질 세관의 폐색은 감도 완화를 유도한다.

제4 이점은 TMG와 관련된 이점이다. TMG는 이의 양성 이온성으로 인해, 완충 작용을 제공하며, 치아에 유해할 수 있는 산과 반작용하여서 항충치 이점을 제공할 수 있다. 추가로, TMG는 구강 건조로부터 완화를 제공한다고 인정되었다.

특정 실시형태에서, 본 발명은 산화아연, TMG 및 음이온성 종, 예를 들어 할로겐화물, 예를 들어 염화물을 포함하는 이온성 착물을 제공한다. 특정 실시형태에서, 본 발명은 산화아연과 TMG HCl을 수성 매질에서 배합하여 편리하게도 ZnO-TMG HCl 착물로서 언급되는 착물을 형성함으로써 형성되는 착물을 제공한다.

또 다른 실시형태에서, 본 발명은 ZnO-TMG HCl 착물을 포함하는 구강 관리 조성물, 예를 들어 ZnO-TMG HCl 착물을 포함하는 조성물 1(및 이하 참조)에 따른 조성물을 예를 들어 구강 린스제, 겔, 치약, 크림, 분말, 스트립, 또는 검의 형태로 제공한다.

일 실시형태에서, 원하는 제제가 구강 린스제의 형태인 경우, 2 성분 전달 시스템이 예상된다. 제1 성분은 ZnO-TMG HCl 착물의 진한 용액이고, 제2 성분은 실질적으로 물이다. 2 성분은 처치 바로 전에 관리자/사용자에 의해 혼합된다. 대안으로, 구강 린스제의 형태로 단일 성분 전달 시스템이 예상되며, 여기서 시스템은 ZnO-TMG HCl 착물의 진한 용액을 포함하며, 희석제는 관리자/사용자에 의해 전형적인 구강 관리 치료에 자연스럽게 포함되는 물 및/또는 사용자에 의해 생성되는 침의 형태로 공급된다.

본 발명은 또한 추가 실시형태에서 조성물 1(및 이하 참조)에 따른 조성물을 투여하는 것을 포함하는, 구강 내에서 장기간에 걸쳐 아연 이온과 TMG를 전달하기 위한 제어된 방출 시스템 및 방법에 관한 것이다.

특정 실시형태에서, 조성물 1(및 이하 참조)은 산화아연과 TMG로부터 착물, 예를 들어 아연-TMG-염화물 착물, 및/또는 착물 전구체로서 산화아연과 유리되거나 산 부가염 형태, 예를 들어 TMG-HCl의 TMG로부터 착물을 제공하며, 착물 전구체는 계 내에서 물과 반응하여 착물을 형성할 수 있다. 계 내 형성은 제제화의 용이성을 제공한다. 또 다른 실시형태에서, 전구체로부터 착물의 형성을 허용하는 물은 적용 후 조성물과 접촉되는 침 및/또는 헹굼 물로부터 나온다.

특정 실시형태에서, TMG는 산 부가염, 예를 들어 염산염, 예를 들어 트리메틸글리신 염산염의 형태로 제공되며, 이는 수성 매질에서 산화아연과 착물들의 착물을 형성한다.

일부 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 조성물의 0.05 내지 8 중량%이다. 다른 실시형태에서, 아연의 총량은 조성물의 적어도 0.1, 적어도 0.2, 적어도 0.3, 적어도 0.4, 적어도 0.5, 적어도 1 내지 8 중량% 이하이다. 다른 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 조성물의 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만, 또는 1 미만 내지 0.05 중량%이다. 예를 들어, 일부 실시형태에서, 조성물 중 아연의 총량은 약 1%일 수 있다.

활성제 : 본 발명의 조성물은 아연 TMG 할로겐화물 착물을 포함하거나 이에 더해, 에나멜과 치아 구조의 강도 및 완전성을 보호하며, 향상시키고/거나 세균 및 관련 충치 및/또는 치주질환을 줄이는데 활성이 있는 다양한 제제를 포함할 수 있다. 본원에서 사용되는 활성 성분의 유효 농도는 사용되는 특정 제제와 전달 시스템에 좌우될 것이다. 치약은 예를 들어 전형적으로 사용 시 물에 의해 희석될 것이지만, 구강 린스제는 전형적으로 그렇지 않을 것으로 이해된다. 따라서 치약에서 활성제의 유효 농도는 통상적으로 구강 린스제에 필요한 것보다 5-15배 더 클 것이다. 농도는 또한 선택되는 정확한 염 또는 중합체에 좌우될 것이다. 예를 들어, 활성제가 염 형태로 제공되는 경우, 짝 이온이 염의 중량에 영향을 미칠 것이며, 그 결과 짝 이온이 더 무거운 경우, 최종 생성물에서 활성 이온의 동일한 농도를 제공하는데 더 많은 염이 중량으로 필요할 것이다. 아르기닌은, 존재하는 경우, 예를 들어 약 0.1 내지 약 20 중량%(유리 염기의 중량으로서 표시됨), 예를 들어 소비용 치약에 대해 약 1 내지 약 10 중량% 또는 전문 또는 처방 치료 제품에 대해 약 7 내지 약 20 중량%의 수준으로 존재할 수 있다. 불화물은 존재하는 경우 예를 들어 약 25 내지 약 25,000 ppm, 예를 들어 소비용 치약에 대해 약 750 내지 약 2,000 ppm, 또는 전문 또는 처방 치료 제품에 대해 약 2,000 내지 약 25,000 ppm의 수준으로 존재할 수 있다. 항균제의 수준은 유사하게 달라질 것이며, 치약에 사용되는 수준은 예를 들어 구강 린스제에 사용되는 것보다 약 5 내지 약 15배 더 크다. 예를 들어, 트리클로산 치약은 약 0.3 중량%의 트리클로산을 함유할 수 있다.

불화물 이온 원 : 구강 관리 조성물은 추가로 1 이상의 불화물 이온 원, 예를 들어 가용성 불화물 염을 포함할 수 있다. 광범위한 불화물 이온 생성 물질이 본 조성물에서 가용성 불화물의 원으로서 사용될 수 있다. 적합한 불화물 이온 생성 물질의 일예는 브리너(Briner) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,535,421호; 파란 주니어(Parran, Jr.) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제4,885,155호 및 위더(Widder) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,678,154호에 알려져 있다. 대표적인 불화물 이온 원은 불화주석, 불화나트륨, 불화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 불화물, 불화암모늄, 및 이들의 조합을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 특정 실시형태에서, 불화물 이온 원은 불화주석, 불화나트륨, 모노플루오로인산나트륨 및 이들의 혼합물을 포함한다. 특정 실시형태에서, 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 불화물 이온 또는 불소 제공 성분의 원을 약 25 ppm 내지 약 25,000 ppm의 불화물 이온을 제공하는데 충분한 양으로, 일반적으로 적어도 약 500 pm, 예를 들어 약 500 내지 약 2000 ppm, 예를 들어 약 1000 내지 약 1600 ppm, 예를 들어 약 1450 ppm으로 함유할 수 있다. 불화물의 적합한 수준은 특정 응용 분야에 좌우될 것이다. 일반적인 소비 용도를 위한 치약은 전형적으로 약 1000 내지 약 1500 ppm이며, 소아용 치약은 약간 적다. 전문 응용 분야를 위한 치약 또는 코팅은 약 5,000 ppm 만큼 또는 심지어 약 25,000 ppm의 불화물을 가질 수 있다. 불화물 이온 원은 본 발명의 조성물에 일 실시형태에서 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 10 중량% 또는 약 0.03 중량% 내지 약 5 중량%, 및 또 다른 실시형태에서 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 1 중량% 의 수준으로 첨가될 수 있다. 불화물 이온의 적합한 수준을 제공하는 불화물 염의 중량은 명백히 염에서 짝 이온의 중량에 기초하여 달라질 것이다.

다양한 실시형태에서, 아미노산은 전체 조성물 중량의 약 0.5 중량% 내지 약 20 중량%, 전체 조성물 중량의 약 0.5 중량% 내지 약 10 중량%의 양으로 존재하며, 예를 들어 치약의 경우에 전체 조성물 중량의 약 1.5 중량%, 약 3.75 중량%, 약 5 중량%, 또는 약 7.5 중량%, 또는 예를 들어 구강 세정제의 경우 약 0.5-2 중량%, 예를 들어 약 1%이다.

연마제 : 본 발명의 조성물, 예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)은 실리카 연마제를 포함하며, 추가의 연마제, 예를 들어 인산칼슘 연마제, 예, 인산삼칼슘(Ca₃(PO₄)₂), 히드록시아파타이트(Ca₁₀(PO₄)₆(OH)₂), 또는 인산이칼슘 이수화물(CaHPO₄·2H₂O, 또한 때로 본원에서 DiCal로 언급됨) 또는 피로인산칼슘; 탄산칼슘 연마제; 또는 메타인산나트륨, 메타인산칼륨, 규산알루미늄, 하소 알루미나, 벤토나이트 또는 다른 규질 물질 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.

본원에서 유용한 다른 실리카 연마 연삭 물질, 및 다른 연마제는 일반적으로 평균 입자 크기가 약 0.1 내지 약 30 마이크론, 약 5 내지 약 15 마이크론 범위이다. 실리카 연마제는 침강 실리카 또는 실리카 겔, 예컨대 파더(Pater) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,538,230호 및 디기울리오(Digiulio)의 미국특허 제3,862,307호에 기재되어 있는 실리카 크세로젤로부터 유래할 수 있다. 특정 실리카 크세로젤은 더블유 알 그레이스사(W. R. Grace & Co.)의 데이비슨(Davison) 화학부에 의해 상품명 Syloid® 하에 시판되고 있다. 침강 실리카 물질은 제이 엠 후버사(J. M. Huber Corp.)에 의해 명칭 Zeodent 115 및 119를 지닌 실리카를 포함하여, 상품명 Zeodent® 하에 시판되는 것들을 포함한다. 이들 실리카 연마제는 와슨(Wason)의 미국특허 제4,340,583호에 기재되어 있다. 특정 실시형태에서, 본 발명에 따른 구강 관리 조성물의 실시에 유용한 연마제 재료는 흡유량이 약 100 cc/100 g(실리카) 미만 및 약 45 cc/100 g(실리카) 내지 약 70 cc/100 g(실리카) 범위인 실리카 겔 및 침강 비정질 실리카를 포함한다. 흡유량은 ASTA Rub-Out Method D281을 사용하여 측정된다. 특정 실시형태에서, 실리카는 평균 입자 크기가 약 3 마이크론 내지 약 12 마이크론, 및 약 5 내지 약 10 마이크론인 콜로이드 입자이다. 본 발명의 실시에서 특히 유용한 낮은 흡유 실리카 연마제는 상품명 Sylodent XWA® 하에 더블유 알 그레이스사(21203 매릴랜드 볼티모어)의 데이비슨 화학부에 의해 시판되고 있다. 함수량이 29 중량%이고, 직경이 평균 약 7 내지 약 10 마이크론이며, 흡유량이 약 70 cc/100 g(실리카) 미만인 콜로이드 실리카의 입자로 이루어진 실리카 히드로겔인, Sylodent 650 XWA®이 본 발명의 실시에 유용한 낮은 흡유 실리카 연마제의 일예이다.

발포제: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 구강을 닦을 때 생성되는 거품의 양을 증가시키는 제제를 포함할 수 있다. 거품의 양을 증가시키는 제제의 예시적인 일예는 폴리옥시에틸렌을 포함하나, 이에 한정되지 않으며, 특정 중합체는 알긴산염 중합체를 포함하나, 이에 한정되지 않는다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 담체 성분에 의해 생성되는 거품의 양과 두께를 증가시킬 수 있다. 폴리옥시에틸렌은 또한 통상적으로 폴리에틸렌 글리콜("PEG") 또는 폴리에틸렌 옥사이드로 알려져 있다. 본 발명에 적합한 폴리옥시에틸렌은 분자량이 약 200,000 내지 약 7,000,000일 것이다. 일 실시형태에서, 분자량은 약 600,000 내지 약 2,000,000일 것이며, 또 다른 실시형태에서 약 800,000 내지 약 1,000,000일 것이다. Polyox®은 유니온 카바이드사(Union Carbide)가 제조한 고분자량 폴리옥시에틸렌에 대한 상품명이다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 조성물 중 구강 관리 담체 성분의 약 1 중량% 내지 약 90 중량%, 일 실시형태에서 약 5 중량% 내지 약 50 중량% 및 또 다른 실시형태에서 약 10 중량% 내지 약 20 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 존재하는 경우, 구강 관리 조성물에서 발포제의 양(즉, 1회량)은 약 0.01 내지 약 0.9 중량%, 약 0.05 내지 약 0.5 중량%, 및 또 다른 실시형태에서 약 0.1 내지 약 0.2 중량%이다.

계면활성제 : 본 발명에서 유용한 조성물은 음이온성, 양이온성, 비이온성 및/또는 양성 이온성 계면활성제를 함유할 수 있으며, 예를 들면 하기 물질이다:

i. 고급 지방산 모노글리세라이드 일황산염의 수용성 염, 예컨대 소듐 N-메틸 N-코코일 타우레이트, 소듐 코코모노글리세라이드 설페이트와 같은 수소화 코코넛 오일 지방산의 일황산화 모노글리세라이드의 나트륨염,

ii. 고급 알킬 설페이트, 예컨대 소듐 라우릴 설페이트,

iii. 예를 들어 화학식 CH₃(CH₂)_mCH₂(OCH₂CH₂)_nOSO₃X의 고급 알킬 에테르 설페이트(여기서 m은 6-16, 예, 10이며, n은 1-6, 예, 2, 3 또는 4이고, X는 Na 또는 K이다), 예를 들어 소듐 라우레트-2 설페이트(CH₃(CH₂)₁₀CH₂(OCH₂CH₂)₂OSO₃Na),

iv. 고급 알킬 아릴 설포네이트 예컨대 소듐 도데실 벤젠 설포네이트(소듐 라우릴 벤젠 설포네이트),

v. 고급 알킬 설포아세테이트, 예컨대 소듐 라우릴 설포아세테이트(도데실 소듐 설포아세테이트), 1,2 디히드록시 프로판 설포네이트의 고급 지방산 에스테르, 설포코라우레이트(N-2-에틸 라우레이트 칼륨 설포아세트아미드) 및 소듐 라우릴 사르코시네이트.

"고급 알킬"이란 예를 들어 C₆ _-30 알킬을 의미한다. 특정 실시형태에서, 음이온성 계면활성제는 소듐 라우릴 설페이트 및 소듐 에테르 라우릴 설페이트로부터 선택된다. 음이온성 계면활성제는 유효량, 예를 들어 제제의 >0.01 중량%로 존재할 수 있지만, 구강 조직에 자극적일 농도, 예를 들어 <10 중량%로 존재하지 않고, 최적 농도는 특정 제제와 특정 계면활성제에 좌우된다. 예를 들어, 사용되는 농도 또는 구강 세정제는 전형적으로 치약에 사용되는 농도의 십분의 일 정도이다. 일 실시형태에서, 음이온성 계면활성제는 치약에서 약 0.3 중량% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들어 약 1.5 중량%로 존재한다. 본 발명의 조성물은 임의로 예를 들어 음이온성 계면활성제와 음이온성, 양이온성, 양성 이온성 또는 비이온성일 수 있는 다른 계면활성제를 포함하는, 계면활성제의 혼합물을 함유할 수 있다. 일반적으로, 계면활성제는 광범위한 pH 범위 전체에 걸쳐 합리적으로 안정한 것들이다. 계면활성제는 예를 들어 아그리콜라(Agricola) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,959,458호; 헤펠(Haefele)의 미국특허 제3,937,807호; 및 기스케(Gieske) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제4,051,234호에 더 완전하게 기재되어 있다. 특정 실시형태에서, 본원에서 유용한 음이온성 계면활성제는 알킬 라디칼에서 탄소 원자 수가 약 10 내지 약 18개인 알킬 황산염의 수용성 염 및 탄소 원자 수가 약 10 내지 약 18개인 지방산의 설폰화 모노글리세라이드의 수용성 염을 포함한다. 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 라우로일 사르코시네이트 및 소듐 코코넛 모노글리세라이드 설포네이트가 이러한 형태의 음이온성 계면활성제의 일예이다. 특정 실시형태에서, 본 발명의 조성물, 예를 들어 조성물 1(및 이하 참조)는 소듐 라우릴 설페이트를 포함한다.

계면활성제 또는 양립가능한 계면활성제의 혼합물은 본 발명의 조성물에서 약 0.1 중량% 내지 약 5.0 중량%, 또 다른 실시형태에서 약 0.3 중량% 내지 약 3.0 중량% 및 또 다른 실시형태에서 전체 조성물의 약 0.5 중량% 내지 약 2.0 중량%로 존재할 수 있다.

치석 제거제: 본 발명의 다양한 실시형태에서, 조성물은 항결석(치석 조절)제를 포함한다. 적합한 항결석제는 제한 없이 인산염과 폴리인산염(예를 들어 피로인산염), 폴리아미노프로판설폰산(AMPS), 헥사메타인산염, 시트르산아연 삼수화물, 폴리펩티드, 폴리올레핀 설폰산염, 폴리올레핀 인산염, 디포스포네이트를 포함한다. 따라서 본 발명은 인산염을 포함할 수 있다. 특정 실시형태에서, 이들 염은 알칼리 인산염, 즉 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 토류 수산화물의 염, 예를 들어 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염이다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "인산염"은 경구로 허용가능한 모노- 및 폴리인산염, 예를 들어 P₁ _-6 인산염, 예를 들어 단량체 인산염 예컨대 제1, 제2 또는 제3 인산염; 이량체 인산염 예컨대 피로인산염; 및 다량체 인산염, 예를 들어 헥사메타인산나트륨을 포함한다. 특정 일예에서, 선택된 인산염은 예를 들어 제2 인산나트륨, 제2 인산칼륨, 인산이칼슘 이수화물, 피로인산칼슘, 피로인산사나트륨, 피로인산사칼륨, 트리폴리인산나트륨, 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택되는 알칼리 이염기성 인산염 및 알칼리 피로인산염으로부터 선택된다. 특정 실시형태에서, 예를 들어 조성물은 피로인산사나트륨(Na₄P₂O₇), 피로인산칼슘(Ca₂P₂O₇), 및 제2 인산나트륨(Na₂HPO₄)의 혼합물을 예를 들어 약 3-4%의 제2 인산나트륨 및 약 0.2-1%의 각 피로인산염의 양으로 포함한다. 또 다른 실시형태에서, 조성물은 피로인산사나트륨(TSPP)과 트리폴리인산나트륨(STPP)(Na₅P₃O₁₀)의 혼합물을 예를 들어 TSPP 약 1-2% 및 STPP 약 7% 내지 약 10%의 비율로 포함한다. 이러한 인산염은 에나멜의 침식을 줄이며, 치아 청소에 도움이 되고/되거나 치아에 치석 축적을 줄이는데 유효한 양으로, 예를 들어 조성물의 2-20 중량%, 예를 들어 약 5-15 중량%의 양으로 제공된다.

향미제 : 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 향미제를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시에서 사용되는 향미제는 에센셜 오일 및 다양한 향미 알데히드, 에스테르, 알코올, 및 유사물질을 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 에센셜 오일의 일예는 스피어민트, 페퍼민트, 노루발풀(wintergree), 사사프라스, 정향(clove), 세이지, 유칼립투스, 마조람, 계피, 레몬, 라임, 자몽, 및 오렌지의 오일을 포함한다. 멘톨, 카르본, 및 아네톨과 같은 화학제품이 또한 유용하다. 특정 실시형태는 페퍼민트와 스피어민트의 오일을 사용한다. 향미제는 구강 조성물에 약 0.1 내지 약 5 중량%, 예를 들어 약 0.5 내지 약 1.5 중량%의 농도로 혼입될 수 있다.

중합체 : 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 제제의 점도를 조정하거나 다른 성분의 용해도를 향상시키는 추가 중합체를 포함할 수 있다. 이러한 추가 중합체는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리사카라이드(예, 셀룰로스 유도체, 예컨대 카르복시메틸 셀룰로스, 또는 폴리사카라이드 검, 예를 들어 크산탄 검 또는 카라기난 검)를 포함한다. 산성 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트 겔은 이들의 유리산 또는 부분적으로 또는 완전히 중화된 수용성 알칼리 금속(예, 칼륨 및 나트륨) 또는 암모늄염의 형태로 제공될 수 있다.

수성 매질에서 중합체 구조 또는 겔을 형성하는 실리카 증점제가 존재할 수 있다. 이들 실리카 증점제는 물리적으로 및 기능적으로 조성물에 또한 존재하는 미립자 실리카 연마제와 상이하며, 그 이유는 실리카 증점제가 매우 미세하게 분할되어서, 연마 작용을 거의 또는 전혀 제공하지 못하기 때문이라는 사실에 주의한다. 다른 증점제는 카르복시비닐 중합체, 카라기난, 히드록시에틸 셀룰로스 및 셀룰로스 에테르의 수용성 염 예컨대 소듐 카르복시메틸 셀룰로스 및 소듐 카르복시메틸 히드록시에틸 셀룰로스이다. 천연 검 예컨대 카라야, 아라비아 검, 및 트라가칸트 검이 또한 혼입될 수 있다. 콜로이드 규산 알루미늄 마그네슘이 또한 조성물의 텍스처를 추가로 개선하기 위해 증점 조성물의 성분으로서 사용될 수 있다. 특정 실시형태에서, 전체 조성물의 약 0.5 중량% 내지 약 5.0 중량%의 양으로 증점제가 사용된다.

본 발명의 조성물은 음이온성 중합체를 예를 들어 약 0.05 내지 약 5%의 양으로 포함할 수 있다. 이러한 제제는 일반적으로 치약에서의 용도에 대해 알려져 있으며, 이러한 특정 용용 분야에 대해서는 아니지만, 미국특허 제5,188,821호 및 제5,192,531호에 본 발명에서 유용하다고 개시되어 있고; 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트, 예컨대 분자량(M.W)이 약 30,000 내지 약 1,000,000, 가장 바람직하게는 약 300,000 내지 약 800,000인, 또 다른 중합가능한 에틸렌계 불포화 단량체와 무수 말레산 또는 말레산, 바람직하게는 메틸 비닐 에테르/무수 말레산의 1:4 내지 4:1 공중합체를 포함한다. 이들 공중합체는 예를 들어 아이에스피 테크놀로지스사(ISP Technologies, Inc.)(08805 뉴저지 바운드 브룩)로부터 입수가능한, Grantrez, 예, AN 139(M.W. 500,000), AN 119(M.W. 250,000) 및 바람직하게는 S-97 의약품 등급(M.W. 700,000)으로서 이용될 수 있다. 촉진제(enhancing agent)가 존재하는 경우 약 0.05 내지 약 3 중량% 범위의 양으로 존재한다. 다른 유효 중합체는 에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈, 또는 에틸렌과 무수 말레산의 1:1 공중합체로서, 후자는 예를 들어 Monsanto EMA No. 1103, M.W. 10,000 및 EMA Grade 61로서 이용가능한 공중합체, 및 메틸 또는 히드록시에틸 메타크릴레이트, 메틸 또는 에틸 아크릴레이트, 이소부틸 비닐 에테르 또는 N-비닐-2-피롤리돈과 아크릴산의 1:1 공중합체와 같은 것들을 포함한다. 활성화 탄소 대 탄소 올레핀 이중 결합과 하나 이상의 카르복실기를 함유하는 중합된 올레핀계 또는 에틸렌계 불포화 카르복실산, 즉 카르복실기에 관해 알파 베타 위치에서 또는 말단 메틸렌 그룹(grouping)의 일부로서 단량체 분자 내에 올레핀 이중 결합의 존재 때문에 중합에서 쉽게 작용하는 올레핀 이중 결합을 함유하는 산이 일반적으로 적합하다. 이러한 산의 예시는 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 알파-클로로아크릴산, 크로톤산, 베타-아크릴옥시 프로피온산, 소르브산, 알파-클로르소르브산, 신남산, 베타-스티릴아크릴산, 무콘산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 글루타콘산, 아코니트산, 알파-페닐아크릴산, 2-벤질 아크릴산, 2-시클로헥실아크릴산, 앙겔산, 움벨산, 푸마르산, 말레산 및 무수물이다. 이러한 카르복실산 단량체와 공중합가능한 다른 상이한 올레핀 단량체는 비닐아세테이트, 비닐 클로라이드, 디메틸 말레에이트 등을 포함한다. 공중합체는 수용해도를 위해 충분한 카르복실산염 기들을 함유한다. 추가 부류의 고분자제는 치환된 아크릴아미드의 단독 중합체 및/또는 불포화 설폰산 및 이들의 염의 단독 중합체를 함유하는 조성물을 포함하며, 특히 여기서 중합체는 자히드(Zahid)의 1989. 6. 27자 미국특허 제4,842,847호에 기재된, 분자량이 약 1,000 내지 약 2,000,000인 2-아크릴아미드 2-메틸프로판 설폰산과 같은 아크릴아미도알칸 설폰산으로부터 선택되는 불포화 설폰산을 기초로 한다. 또 다른 유용한 부류의 고분자제는, 예를 들어 시케스(Sikes) 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제4,866,161호에 기재된 바와 같이, 아스파르트산, 글루탐산 및 포스포세린과 같은 음이온성 표면 활성 아미노산의 부분을 함유하는 폴리아미노산을 포함한다.

물 : 구강 조성물은 상당 수준의 물을 포함할 수 있다. 시판 구강 조성물의 제제에서 사용되는 물은 탈이온수이어야 하며, 유기 불순물이 없어야 한다. 조성물에서 물의 양은 첨가되는 자유수 플러스 다른 물질과 함께 도입되는 양을 포함한다.

보습제 : 구강 조성물의 특정 실시형태 내에서, 조성물이 공기에 노출 시 경화되는 것을 방지하는 보습제를 혼입하는 것이 또한 바람직하다. 특정 보습제는 또한 치약 조성물에 바람직한 단맛 또는 향미를 부여할 수 있다. 적합한 보습제는 식용 다가 알코올 예컨대 글리세린, 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜 및 다른 폴리올과 이들 보습제의 혼합물을 포함한다. 본 발명의 일 실시형태에서, 주요 보습제는 글리세린이며, 이는 25% 초과, 예를 들어 25-35%, 약 30%의 수준에서 존재할 수 있고, 다른 보습제는 5% 이하이다.

다른 임의 성분 : 상기에 기재한 성분 외에, 본 발명의 실시형태는 다양한 임의 치약 성분을 함유할 수 있으며, 이들 중 일부는 하기에 기재된다. 임의 성분은 예를 들어 접착제, 거품제(sudsing agent), 향미제, 감미제, 추가의 항치석제, 연마제, 및 착색제를 포함하나, 이들에 한정되지 않는다. 이들 및 다른 임의 성분은 추가로 마제티(Majeti)의 미국특허 제5,004,597호; 아그리콜라 외 그의 공동 발명자의 미국특허 제3,959,458호 및 헤펠의 미국특허 제3,937,807호에 기재되어 있으며, 모두 본원에서 참조로서 원용한다.

달리 언급되지 않는 한, 본 명세서에서 제시된 조성물 성분의 모든 퍼센트는 100%의 전체 조성물 또는 제제를 기준으로 중량에 의한 것이다.

달리 구체적으로 확인되지 않는 한, 본 발명의 조성물 및 제제에서 사용하는 성분은 바람직하게는 미용상 허용가능한 성분이다. "미용상 허용가능한"이란 인간 피부에 국소 적용을 위한 제제에 사용하는데 적합한 것을 의미한다. 예를 들어, 미용상 허용가능한 부형제는 본 발명의 제제에서 예상되는 양과 농도로 외용에 적합한 부형제이며, 예를 들어 미국 식품의약국에 의해 "일반적으로 안전한 것으로서 인정되는"(GRAS, Generally Recognized as Safe) 부형제를 포함한다.

본원에서 제공되는 조성물과 제제는 본 기술에서 통상적이듯이, 이들의 성분과 관련하여 기재되고, 청구된다. 당업자에게 명백하듯이, 성분들은 일부 일예에서 서로 반응할 수 있어서, 최종 제제의 실제 조성은 열거한 성분들과 정확히 상응하지 않을 수 있다. 따라서 본 발명은 당연히 열거한 성분들의 조합 제품으로 연장된다.

전체에 사용되는 바와 같이, 범위는 범위 내에 있는 각각의 값과 모든 값을 기재하기 위해 축소한 표현으로서 사용된다. 범위 내의 임의 값은 범위의 한계로서 선택될 수 있다. 추가로, 본원에서 인용한 모든 문헌은 본 문서로서 이들 전체를 참조로서 원용한다. 본 개시 내용에서 정의 및 인용 문헌의 정의에서 대립의 경우, 본 개시 내용이 통제한다.

달리 규정되지 않는 한, 본원에서 및 명세서 중 다른 곳에서 표시한 모든 퍼센트와 양은 당연히 중량 퍼센트를 의미한다. 제시한 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.

실시예

실시예 1

샘플 1, ZnO-TMG를 다음과 같이 제조한다. 실온에서, 4.0712 g(0.05003 mol)의 산화아연 분말, 및 유리 형태로 5.8595 g(0.05002 mol)의 TMG(CAS# 107-43-7)를 함유하는 플라스크에 50 mL의 탈이온수를 천천히 첨가한다. 혼합물을 약 20 시간 동안 밤새 교반한다. 원심분리 이어서 0.45 마이크론 막을 통한 여과에 의해 미반응 산화아연을 제거한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다.

샘플 1	ZnO	TMG
첨가량	4.0712 g, 0.05003 mol	5.8595 g, 0.05002 mol
최종 용액의 pH	7.77

샘플 2, ZnO-TMG-HCl을 다음과 같이 제조한다. 실온에서, 4.0712 g(0.05003 mol)의 산화아연 분말, 및 7.6832 g(0.05002 mol)의 TMG-HCl(CAS# 590-46-5)을 함유하는 플라스크에 50 mL의 탈이온수를 천천히 첨가한다. 혼합물을 약 20 시간 동안 밤새 교반한다. 원심분리 이어서 0.45 마이크론 막을 통한 여과에 의해 미반응 산화아연을 제거한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다.

샘플 2	ZnO	TMG - HCl
첨가량	4.0712 g, 0.05003 mol	7.6832 g, 0.05002 mol
최종 용액의 pH	6.02

샘플 3, ZnO-TMG-HCl을 다음과 같이 제조한다. 7.68 g(0.0500 mol)의 TMG-HCl(CAS# 590-46-5)을 50 mL의 탈이온수에 용해시켜 1M TMG-HCl을 제조한다. 실온에서, 4.07 g(0.0500 mol)의 산화아연 분말을 TMG-HCl 용액에 천천히 첨가한다. 혼합물을 약 20 시간 동안 밤새 교반한다. 원심분리 이어서 0.45 마이크론 막을 통한 여과에 의해 미반응 산화아연을 제거한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다.

샘플 3	ZnO	TMG - HCl
첨가량	4.07 g, 0.0500 mol	7.68 g, 0.0500 mol
최종 용액의 pH	5.56

희석 시 침전 또는 응집을 형성하는 능력과 속도에 대해 각 샘플을 평가한다. 이러한 분석을 위해, 다양한 희석 비율(예를 들어, 2x 내지 32x)을 가진 샘플을 제조하여 37℃에서 보관한다. 샘플을 주기적으로 검측하여, 침전/응집을 생성하는 이들의 효율을 기록한다.

희석 실험에서는 ZnO-TMG-HCl(샘플 2 및 3)이 침전/응집을 생성하고, 따라서 상아질 표면에 고체 입자를 침착시키는데 바람직하다는 사실을 나타낸다. 응집/침전 속도는 희석 비에 좌우되며, 이는 물이 원하는 비율로 저장 용액과 혼합되는 시기에 최초 아연 농도에 관련된다.

ZnO-TMG-HCl 샘플 2를 사용하여 제1 희석 실험을 수행한다. 저장 용액을 물과 부피를 기준으로 한 상이한 비율로 혼합하여, 2x(1:1 원료 및 물), 4x, 8x, 16x 및 32x 희석액을 생성함으로써 희석액을 제조한다. 희석된 샘플을 37℃에서 보관하고, 응집/침전이 일어나는 속도를 검측한다. 혼합으로부터 1 시간에, 가시적인 침전이 2x, 4x 및 8x 희석액이 있는 시스템에서 관찰된다.

ZnO-TMG-HCl 샘플 3을 사용하여 제2 희석 실험을 수행한다. 저장 용액을 물과 부피를 기준으로 한 상이한 비율로 혼합하여, 2x(1:1 원료 및 물), 4x, 8x, 16x 및 32x 희석액을 생성함으로써 희석액을 제조한다. 희석된 샘플을 37℃에서 보관하고, 응집/침전이 일어나는 속도를 검측한다. 혼합으로부터 24 시간에, 가시적인 침전이 2x, 4x 및 8x 희석액이 있는 시스템에서 관찰된다. 희석된 시스템의 pH 값을 24 시간 처리 기간의 종료 시에 측정하며, 이들은 각각 2x, 4x, 8x, 16x 및 32x 희석액이 있는 시스템에 대해 5.57, 5.69, 5.89, 6.06, 6.28이다. 이들 pH 값은 구강 관리 응용 분야에 적합한 5.5 내지 10 범위 내에서 만족할 만하다.

ZnO-TMG 샘플 1을 사용하여 제3 희석 실험을 수행한다. 저장 용액을 물과 부피를 기준으로 한 상이한 비율로 혼합하여, 2x(1:1 원료 및 물), 4x, 8x, 16x 및 32x 희석액을 생성함으로써 희석액을 다시 제조한다. 희석된 샘플을 37℃에서 보관하고, 응집/침전이 일어나는 속도를 검측한다. 혼합으로부터 1 시간에, 어느 샘플에서도 가시적인 침전이 관찰될 수 없다.

응집/침전을 생성하는 제제는 치아 및 점막 표면을 포함하여, 구강 표면에 활성제를 침착시키는데 사용될 수 있다. 이에 관해, 2x 내지 8x 희석액이 사용될 수 있다. 저장 용액이 상이한 농도로 제조되는 경우에, 동일한 유효 아연 로딩(loading)을 생성하는 희석액이 사용될 수 있다. 실제 제제에서, 제제 중 아연의 농도는 물론 물에 대한 희석액 농도보다 낮을 것이며, 그 이유는 전체 제제가 물 외에 성분을 포함할 것이기 때문이다. 농도 스펙트럼의 하한선 및 상한선에서 제제는 더 긴 처리 시간을 필요로 하는 경향이 있으며, 침전/응집을 생성하는데 가장 신뢰성 있는 것에 포함되지 않는다.

육안으로 식별할 수 있는 응집/침전을 생성하지 않는 제제는 또한 구강 표면에 활성제를 침착시키는데 사용될 수 있다. 확인가능한 응집/침전을 생성하지 못하는 것은 바람직하지 못한 희석 비 또는 적당하지 못한 처리기간으로 인한 것일 수 있다. 그러나 제제는 여전히 입자, 예컨대 콜로이드 입자를 생성할 수 있다. 이들 입자는 처리기간 내에 침전물을 형성하지 못하지만, 이들은 구강 표면에 표면 침착물을 형성할 수 있다. 이에 관해, 희석 비 및/또는 처리기간의 조작가능한 범위는 상기에 언급된 희석 실험으로부터 직접 추정될 수 있는 것보다 더 넓다.

일부 실시형태에서, 희석 시 형성되는 침전물 또는 입자는 1 이상의 형태의 아연염, 및 TMG를 포함한다. 일부 실시형태에서, 아연염은 주로 산화아연으로부터 유리되어 있으며, 구강에서 적어도 부분적으로 가용화될 수 있는 형태이다. 일부 실시형태에서, 한 형태의 아연염은 수산화아연이다. 일부 실시형태에서, TMG는 또한 침전물 또는 입자에 이의 내부 성분으로서, 또는 불순물로서 존재한다.

ZnO-TMG-HCl은 ZnO 단독으로부터 전달될 수 있는 것과 비교하여 비교적 높은 수준의 가용화 아연을 제공하며, 더구나 희석 시 치아 표면(예컨대 상아질 및 에나멜 표면)에 국소화되고 농후한 전달을 제공한다. 전달된 물질은 고체 코팅의 형태로 존재한다. 코팅은 치아 표면의 미백을 향상시킨다. 코팅은 상아질 세관을 차단하여 과민성으로부터 완화를 제공할 수 있다. 코팅은 산을 중화하여 항침식 이점을 제공할 수 있다. 코팅은 침에서 및/또는 산 공격 시 분해되고, 장기간에 걸쳐 아연 이온과 TMG를 방출할 수 있으며, 아연과 TMG에 관련한 모든 이점을 제공할 수 있다.

실시예 2

ZnO-TMG HCl, 1450 ppm의 불화물, 및 인삼염을 포함하는 시험 치약을 다음과 같이 제조한다:

성분	중량%
PEG600	3
CMC-7	0.65
크산탄	0.2
소르비톨	27
글리세린	20
사카린	0.3
피로인산사나트륨	0.5
피로인산칼슘	0.25
제2 인산나트륨	3.5
불화나트륨	0.32
이산화티탄	0.5
연마제 실리카	8
증점제 실리카	8
TMG-HCl	5
소듐 라우릴 설페이트	1.5
향미제	1.2
ZnO	2
물	QS

실시예 3

안정한 구강 세정제 제제를 다음과 같이 제공한다:

성분	중량%
소르비톨	7.5
글리세린	7.5
프로필렌 글리콜	7
나트륨 사카린	0.02
시트르산(무수)	0.05
ZnO TMG HCl	2 5
향신료/염료	0.12
소르브산칼륨	0.05
코카미도프로필 베타인	1
물	QS

실시예 4

샘플 4, ZnO-TMG-HCl을 다음과 같이 제조한다. 15.3604 g(0.1000 mol)의 TMG-HCl(CAS# 590-46-5)을 1000 mL의 탈이온수에 교반하면서 용해시킨다. 실온에서, 8.1370 g(0.09999 mol)의 산화아연 분말을 TMG-HCl 용액에 천천히 첨가한다. 혼합물을 약 16 시간 동안 밤새 교반한다. 원심분리 이어서 0.45 마이크론 막을 통한 여과에 의해 미반응 산화아연을 제거한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다.

샘플 4	ZnO	TMG-HCl
첨가량	8.1370 g, 0.09999 mol	15.3604 g, 0.1000 mol
최종 용액의 pH	6.02

짧은 기간 내에 희석 시 침전 및/또는 응집을 형성하는 능력을 평가하기 위해 샘플 4에 의한 희석 실험을 수행한다.

희석 전에, 샘플 4의 저장 용액과 탈이온수를 37℃로 예열한다. 저장 용액을 물과 부피 기준으로 한 상이한 비율로 혼합하고, 1.5x(1 mL의 원료 및 0.5 mL의 물), 2x(1 mL의 원료 및 1 mL의 물), 4x(1 mL의 원료 및 3 mL의 물), 8x(1 mL의 원료 및 7 mL의 물), 16x(0.5 mL의 원료 및 7.5 mL의 물) 및 32x(0.5 mL의 원료 및 15.5 mL의 물) 희석액으로 샘플을 제조함으로써 희석액을 제조한다. 처음 혼합 시, 샘플을 손으로 흔들어 주위 조건(약 24℃에서 기온) 하에 유효 혼합을 유지한다. 응집/침전이 일어나는 속도를 검측한다.

희석액은 상이한 속도로 침전 및/또는 응집을 생성한다고 밝혀진다.1.5x에서 희석액은 처음 혼합으로부터 약 20초 내에 육안으로 확인가능한 응집을 나타냈다. 2x에서 희석액은 약 5초 내에 응집을 나타냈다. 4x 및 8x에서 희석액은 육안으로 응집을 확인할 수 있는데 약 10초가 필요하다. 16x에서 희석액은 약 1분을 필요로 한다. 32x에서 희석액은 처음 혼합으로부터 2분까지 육안으로 확인가능한 응집을 나타내지 않는다.

또한 37℃보다 낮은 온도에서 유사한 속도를 얻을 수 있음이 밝혀지며, 이는 전형적인 사용자에 의한 초기 사용 단계의 경우이다. 이에 대해, 샘플 4의 저장 용액(37℃로 예열된)과 물을 상기에 언급된 부피로 혼합함으로써(주위 온도, 약 24℃에서) 1.5x 및 2x 희석액을 제조한다. 희석액의 온도는 37℃보다 낮다. 희석액은 각각 동일한 20초 및 5초 기간 내에서 응집을 나타냈다.

이들 짧은 처리로부터 생성되는 응집은 또한 치아와 점막 표면에 부착될 수 있으며, 아연 함유 화합물과 TMG를 표적 표면에 전달할 수 있다. 상기에 언급된 ZnO-TMG-HCl 샘플(샘플 2 및 3)에 관련하여 설명되는 모든 이점이 적용된다.

짧은 기간 처리는 특히 치약 및 구강 린스제를 통해 전달되는 경우, 구강 관리 응용 분야에 대해 유일하게 적합하다. 전형적인 사용자는 2분 미만 동안 솔질하거나 헹굴 것이다. 사용자의 요법 순응도는 긴 처리기간을 필요로 하는 상황과 비교하여 크게 개선될 것이다.

짧은 처리기간에 의한 효능은 또한 다른 ZnO-TMG-HCl 착물, 즉 샘플 2 및 3에 의해 예상된다.

본 발명은 본 발명을 실시하는 현재 바람직한 모드를 포함하여 구체적인 실시예에 관해 기재되었지만, 당업자는 상기에 기재한 시스템과 기술의 많은 변형과 변경이 존재한다는 것을 인정할 것이다. 다른 실시형태가 사용될 수 있으며, 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고서 구조적 및 기능적으로 변화시킬 수 있다는 사실이 이해될 것이다. 따라서 본 발명의 범위는 청구범위에 제시된 바와 같이 넓게 해석되어야 한다.

Claims

산화아연과 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태의 트리메틸글리신(TMG)의 혼합물을 포함하는 구강 관리 조성물.
제1항에 있어서, 할로겐화물이 염화물, 브롬화물 및 불화물로부터 선택되는 것인 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 할로겐화물이 염화물인 조성물.
제1항에 있어서, TMG는 경구로 허용가능한 산 부가염 형태로 제공되는 것인 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, TMG가 염산염의 형태로 제공되는 것인 조성물.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 아연의 양은 0.05-4 중량%인 조성물.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 산화아연이 제제에서 가용화되지만, 사용 시 및 침 및/또는 헹굼에 의한 희석 시 아연 침전물을 제공하는 것인 조성물.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 산화아연과 TMG의 혼합물이 구강 관리 조성물에 혼입하기 전에 제조되는 것인 조성물.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 치약, 겔, 구강 세정제(mouthwash), 분말, 크림, 스트립(strip), 또는 검 형태인 조성물.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 유효량의 불화물 이온 원을 추가로 포함하는 조성물.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 연마제, 완충제, 보습제, 계면활성제, 증점제, 검 스트립 또는 단편, 호흡 청량제(breath freshener), 향신료(flavor), 향료(fragrance), 착색제, 항균제, 미백제, 세균 부착을 방해하거나 방지하는 제제, 칼슘 원, 인산염 원, 경구로 허용가능한 칼륨염, 음이온성 중합체, 및 이들 2종 이상의 조합으로부터 선택되는 성분을 포함하는 경구로 허용가능한 베이스를 포함하는 조성물.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 혼합물의 pH는 pH 5 내지 pH 8인 조성물.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 에나멜의 산식증을 줄이고, 억제하며, 치아를 청소하고, 치아를 미백하며, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이고, 치은염을 줄이며, 충치와 충치 구멍(cavity) 형성을 억제하고/하거나, 상아질 과민증을 줄이는데 사용하기 위한 조성물.
산화아연, TMG 및 음이온성 종을 포함하는 이온성 착물.
구강 관리 용품의 제조에 사용되는, 유리되거나 경구로 허용가능한 염 형태의 TMG와 함께 산화아연의 용도.
치아 에나멜 침식(erosion)을 치료하거나 줄이며, 치아를 청소하고, 세균 생성 생체막과 치석을 줄이며, 치은염을 줄이고, 충치와 충치 구멍 형성을 억제하며, 구강 악취를 줄이고/이거나, 상아질 과민증을 줄이는 방법으로서, 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 치아에 적용하는 단계를 포함하는 방법.
산화아연 트리메틸글리신 착물.