KR20150097551A - 아연 아미노산 할라이드 구강 청결제 - Google Patents

아연 아미노산 할라이드 구강 청결제 Download PDF

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샤오탕 유안
시라 필치
제임스 지. 마스터즈
쯔치앙 리우
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콜게이트-파아므올리브캄파니
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Abstract

본원에는 아연 이온 공급원 산의 착체를 포함하는 구강 청결제가 개시되어 있다. 또한, 조성물의 제조 방법 및 사용 방법이 제공된다.

Description

아연 아미노산 할라이드 구강 청결제{ZINC AMINO ACID HALIDE MOUTHWASHES}
치아 침식증은 비세균성 공급원으로부터의 산 공격으로 인한 치아 구조로의 탈회 및 손상을 포함한다. 침식증은 초기에는 법랑질에서 발견되며, 그대로 둘 경우 그 아래의 상아질까지 진행될 수 있다. 치아 침식증은 산성 식품 및 음료, 염소 처리한 수영장 물 및 위산의 역류에 의하여 야기되거나 또는 악화될 수 있다. 치아 법랑질은 음으로 하전된 이온, 예컨대 플루오라이드 이온을 견디면서 양으로 하전된 이온, 예컨대 수소 및 칼슘 이온을 자연적으로 끌어들이기 쉬운 음으로 하전된 표면이다. 주위 타액의 상대적 pH에 의존하여, 치아 법랑질은 양으로 하전된 이온, 예컨대 칼슘 이온을 잃거나 또는 얻을 것이다. 일반적으로, 타액의 pH는 7.2 내지 7.4이다. pH가 감소되며 그리고 수소 이온의 농도가 상대적으로 높아질 경우, 수소 이온은 법랑질에서 칼슘 이온을 대체할 것이며, 이는 인산수소염 (인산)을 형성하며, 이는 법랑질을 손상시키며, 다공성의 스폰지 같은 거친 면을 생성한다. 타액이 오랜 시간에 걸쳐 산성을 유지할 경우, 재석회화가 발생되지 않을 수 있으며, 치아는 계속 미네랄을 잃어서 치아가 약하게 되고, 결국에는 구조를 잃게 될 것이다.
상아질 과민증은 노출된 상아질의 열적 (고온 또는 저온) 삼투성, 열적, 삼투성 및 촉각 자극의 촉각 조합에 의하여서와 같이 상아질 표면의 물리적 자극에 반응하는 급성 국소 치통이다. 일반적으로 잇몸 퇴축 또는 법랑질 상실로 인한 상아질의 노출은 종종 과민증을 초래한다. 표면으로 개방된 상아질 세관은 상아질 과민증과의 높은 상관관계를 갖는다. 상아질 세관은 수질로부터 백악질로 연결된다. 치근의 표면 백악질이 침식될 경우, 상아질 세관은 외부 환경으로 노출된다. 노출된 상아질 세관은 수질 신경으로의 유체 흐름의 전달을 위한 경로를 제공하며, 전달은 온도, 압력 및 이온 구배에서의 변화에 의하여 유도된다.
중금속 이온, 예컨대 아연은 산 공격에 대한 저항성을 갖는다. 아연은 전기화학 서열에서 수소보다 서열이 더 높으며, 그리하여 아연이 용액을 통과하여 2가 양이온 Zn2+을 형성함에 따라 산성 용액 중의 금속 아연은 반응하여 수소 기체를 방출하게 될 것이다. 아연은 치태 및 충치 실험에서 항세균성을 갖는 것으로 밝혀졌다.
가용성 아연 염, 예컨대 구연산아연은 치약 조성물에 사용되어 왔으나, (예를 들면 미국 특허 제6,121,315호를 참조함), 그러나, 몇몇 단점을 갖는다. 용액 중의 아연 이온은 불쾌한 톡쏘는 듯한 맛을 부여하므로, 효과적인 농도의 아연을 제공하며 그리고 허용 가능한 관능성을 갖는 배합물을 얻기가 곤란하였었다. 마지막으로, 아연 이온은 음이온성 계면활성제, 예컨대 나트륨 라우릴 술페이트와 반응하여 발포 및 세정을 방해할 것이다. 다른 한편으로, 산화아연 및 불용성 아연 염은 그의 불용성으로 인하여 치아에 아연을 전달하는 작업을 잘 수행하지 못할 수 있다.
종래 기술은 상아질 과민증, 충치 및 법랑질 침식증 및 탈회의 치료를 위한 다양한 경구 조성물의 사용을 개시하나, 그러한 치료에서의 개선된 성능을 제공하는 추가의 조성물 및 방법에 대한 수요가 여전히 존재한다.
아연 이온은 아미노산과 함께 가용성 착체를 형성할 수 있는 것으로 밝혀졌었다. 아연 및 아미노산 및 임의로 음이온 및/또는 산소를 포함하는 착체는 가용성 양이온성 모이어티를 형성하며, 이는 다시 할라이드 또는 기타 음이온과 함께 염을 형성할 수 있다. 배합물 중에 존재할 경우, 이러한 착체는 효과적인 농도의 아연 이온을 법랑질에 제공하여 침식증으로부터 보호하며, 세균 집락 및 균막 발생을 감소시키며, 치아에 개선된 윤기를 제공한다. 게다가, 사용시, 배합물은 상아질 세관을 폐색시켜 치아의 민감성을 저하시킬 수 있는 침전물을 제공한다. 불용성 아연 염과의 배합물에 비하여 아연의 효과적인 전달을 제공하면서, 아연-아미노산 착체를 포함하는 배합물은 가용성 아연 염을 사용한 통상의 아연계 구강 관리 제품과 관련된 좋지 못한 미각 및 입맛, 불량한 플루오라이드 전달 및, 불량한 발포 및 세정성을 나타내지 않는다.
한 특정한 실시양태에서, 아연-아미노산 착체는 아연-리신-HCl 착체, 예를 들면 산화아연 및 리신 염산염의 혼합물로부터 형성될 수 있는 ZLC로 표시한 신규한 착체이다. ZLC는 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-을 가지며, 양이온성 양이온 ([Zn(C6H14N2O2)2Cl]+) 및 클로라이드 음이온의 용액 중에 존재할 수 있거나 또는 고체 염, 예를 들면 결정, 임의로 1수화물 또는 2수화물 형태로 존재할 수 있다.
그래서, 본 발명은 구강 관리 조성물, 예를 들면 아연-아미노산 착체, 예를 들면 아연-리신-클로라이드 착체, 예를 들면 ZLC를 포함하는 구강 청결제, 경구 겔 또는 치약 조성물을 제공한다. 조성물은 플루오라이드 공급원 및/또는 추가의 인산염 공급원을 임의로 추가로 포함할 수 있다. 조성물은 예를 들면 1종 이상의 연마제, 계면활성제, 발포제, 비타민, 중합체, 효소, 습윤제, 증점제, 항균제, 방부제, 풍미제 및/또는 착색제를 포함하는 적절한 구강 관리 배합물, 예를 들면 통상의 치약, 경구 겔 또는 구강 청결제 베이스 중에 배합될 수 있다.
특정한 실시양태에서, 본 발명은 아연-아미노산 착체, 예를 들면 아연-리신-클로라이드 착체, 예를 들면 ZLC를 포함하는 구강 청결제를 제공한다.
본 발명은 본 발명의 조성물을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소를 위한 본 발명의 조성물의 사용 방법을 추가로 제공한다.
본 발명은 아연 이온 공급원 (예를 들면 ZnO), 아미노산 (예를 들면 염기성 아미노산, 예를 들면 아르기닌 또는 리신) 및 임의로 할라이드 공급원을 합하고, 예를 들면 산화아연 및 리신 염산염을 수용액 중에서 예를 들면 1:1 내지 1:3, 예를 들면 1:2의 Zn:아미노산 및 존재할 경우 1:1 내지 1:3, 예를 들면 1:2의 Zn:할라이드의 몰비로 합하고; 임의로 고체로서 형성된 이온성 착체를 분리하고; 구강 청결제 베이스와 혼합하는 것을 포함하는, 본 발명의 조성물의 제조 방법을 추가로 제공한다.
본 발명의 이용 가능성의 추가의 분야는 하기에 제공된 상세한 설명으로부터 자명할 것이다. 상세한 설명 및 구체적인 예는 본 발명의 바람직한 실시양태를 나타내지만 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범주를 한정하고자 하는 것이 아닌 것으로 이해하여야 한다.
하기 바람직한 실시양태(들)의 설명은 사실상 단지 예시를 위한 것이며, 어떠한 방법으로도 본 발명, 그의 적용예 또는 용도를 한정하고자 하는 것이 아니다.
그러므로, 본 발명은 제1의 실시양태에서 아미노산과의 착체 중의 아연을 포함하는 구강 청결제 (조성물 1)를 제공하며;
예를 들면
1.1. 아미노산이 유리 또는 경구 허용 가능한 산 부가 염 형태, 예를 들면 염산염 형태의 리신, 글리신 및 아르기닌으로부터 선택된 조성물 1.
1.2. 아미노산이 유리 또는 경구 허용 가능한 염 형태의 염기성 아미노산, 예를 들면 아르기닌 또는 리신인 조성물 1 또는 1.1.
1.3. 아연 및 아미노산과 이온 결합된 할라이드를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.4. Zn:아미노산의 몰비가 3:1 내지 1:5, 예컨대 약 1:2이고, 존재할 경우 Zn:할라이드의 몰비가 3:1 내지 1:3, 예컨대 약 1:2인 임의의 상기 조성물.
1.5. 조성물이 적용된 후 현장내에서 아연-아미노산 착체가 전부 또는 일부 형성되는 임의의 상기 조성물.
1.6. 조성물을 배합한 후 현장내에서 아연-아미노산 착체가 전부 또는 일부 형성되는 임의의 상기 조성물.
1.7. 아미노산이 리신인 임의의 상기 조성물.
1.8. 아연이 조성물의 0.05 내지 10 중량%, 임의로 조성물의 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 이상, 1 이상, 2 이상, 3 이상 또는 4 내지 10 중량%, 예를 들면 약 0.5-3%, 예컨대 약 2-2.7 중량%의 양으로 존재하는 임의의 상기 조성물.
1.9. 아미노산이 조성물의 0.05 내지 30 중량%, 임의로 조성물의 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 이상, 1 이상, 2 이상, 3 이상, 4 이상, 5 이상, 10 이상, 15 이상, 20 내지 30 중량%, 예컨대 약 1-10 중량%의 양으로 존재하는 임의의 상기 조성물.
1.10. 아연 대 아미노산의 몰비가 2:1 내지 1:4, 임의로 1:1 내지 1:4, 1:2 내지 1:4, 1:3 내지 1:4, 2:1 내지 1:3, 2:1 내지 1:2 또는 2:1 내지 1:1, 예컨대 약 1:2 또는 1:3인 임의의 상기 조성물.
1.11. 아연 및 아미노산과 이온 결합된 할라이드를 포함하며, 할라이드가 불소, 염소 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 임의의 상기 조성물.
1.12. 아연 아미노산 착체가 아연 리신 클로라이드 착체 (예를 들면 (ZnLys2 Cl)+Cl- 또는 (ZnLys3)2+Cl2) 또는 아연 아르기닌 클로라이드 착체인 임의의 상기 조성물.
1.13. 아연 아미노산 착체가 양이온성 양이온 (예를 들면 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+) 및 클로라이드 음이온의 용액 중의 또는 고체 염 형태, 예를 들면 결정 형태, 임의로 1수화물 또는 2수화물 형태의 아연 리신 클로라이드 착체, 예를 들면 ZLC, 예를 들면 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-를 갖는 아연 리신 클로라이드 착체인 임의의 상기 조성물.
1.14. 배합물 중에서 실질적으로 투명하지만, 희석시 뿌옇게 되는 임의의 상기 조성물.
1.15. 아연-아미노산 착체가 유효량, 예를 들면 0.1-4 중량%의 아연, 예컨대 약 0.1-1 중량%의 아연의 양으로 존재하는 임의의 상기 조성물.
1.16. 유효량의 플루오라이드 이온 공급원을 더 포함하며, 예를 들면 50 내지 3,000 ppm 플루오라이드를 제공하는 임의의 상기 조성물.
1.17. 유효량의 플루오라이드를 더 포함하며, 예를 들면 플루오라이드가 불소화제1주석, 불소화나트륨, 불소화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 플루오라이드 (예를 들면 N'-옥타데실트리메틸렌디아민-N,N,N'-트리스(2-에탄올)-디히드로플루오라이드), 불소화암모늄, 불소화티타늄, 헥사플루오로술페이트 및 그의 조합으로부터 선택된 염인 임의의 상기 조성물.
1.18. 유효량의 1종 이상의 알칼리 인산염, 예를 들면 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염, 예를 들면 2염기성 알칼리 인산염 및 알칼리 피로인산염으로부터 선택된, 예를 들면 2염기성 인산나트륨, 2염기성 인산칼륨, 인산2칼슘 2수화물, 피로인산칼슘, 피로인산테트라나트륨, 피로인산테트라칼륨, 트리폴리인산나트륨 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택된 알칼리 인산염을 예를 들면 조성물의 1-20 중량%, 예를 들면 2-8 중량%, 예를 들면 약 5 중량%의 양으로 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.19. 완충제, 예를 들면 인산나트륨 완충제 (예를 들면 1염기성 인산나트륨 및 인산2나트륨)를 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.20. 습윤제, 예를 들면 글리세린, 소르비톨, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 자일리톨 및 그의 혼합물로부터 선택된 것, 예를 들면 20% 이상, 예를 들면 20-40%, 예를 들면 25-35% 글리세린을 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.21. 1종 이상의 계면활성제, 예를 들면 음이온성, 양이온성, 쯔비터이온성 및 비이온성 계면활성제 및 그의 혼합물로부터 선택되는 것, 예를 들면 음이온성 계면활성제, 예를 들면 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 에테르 라우릴 술페이트 및 그의 혼합물로부터 선택된 계면활성제, 예를 들면 약 0.3% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들면 1-2% 양의 나트륨 라우릴 술페이트 (SLS); 및/또는 쯔비터이온성 계면활성제, 예를 들면 베타인 계면활성제, 예를 들면 코카미도프로필베타인, 예를 들면 약 0.1% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들면 0.5-2% 코카미도프로필베타인의 양으로 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.22. 다당류 껌, 예를 들면 크산탄 껌 또는 카라기난, 실리카 증점제 및 그의 조합 중 1종 이상의 점도 변경양을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.23. 풍미제, 향료 및/또는 착색제를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.24. 유효량의 1종 이상의 항세균제, 예를 들면 할로겐화 디페닐 에테르 (예를 들면 트리클로산), 허브 추출물 및 에센셜 오일 (예를 들면 로즈마리 추출물, 티 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 메틸 살리실레이트, 에피갈로카테킨 갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산, 미즈왁 추출물, 산자나무 추출물), 비스구아니드 방부제 (예를 들면 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 4차 암모늄 화합물 (예를 들면 세틸피리디늄 클로라이드 (CPC), 벤즈알코늄 클로라이드, 테트라데실피리디늄 클로라이드 (TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드 (TDEPC)), 페놀성 방부제, 헥세티딘, 옥테니딘, 산구이나린, 포비돈 요오드, 델모피놀, 살리플루오르, 금속 이온 (예를 들면 아연 염, 예를 들면 구연산아연, 제1주석 염, 구리 염, 철 염), 산구이나린, 프로폴리스 및 산소화제 (예를 들면 과산화수소, 완충 나트륨 퍼옥시보로네이트 또는 퍼옥시카르보네이트), 프탈산 및 그의 염, 모노페르탈산 및 그의 염 및 에스테르, 아스코르빌 스테아레이트, 올레일 사르코신, 알킬 술페이트, 디옥틸 술포숙시네이트, 살리실아닐리드, 도미펜 브로마이드, 델모피놀, 옥타피놀 및 기타 피페리디노 유도체, 니신 제제, 아염소산염; 임의의 상기의 혼합물로부터 선택된 항세균제; 예를 들면 트리클로산 또는 세틸피리디늄 클로라이드를 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.25. 항세균성 유효량의 트리클로산을, 예를 들면 0.1-0.5%, 예를 들면 약 0.3% 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.26. 미백제, 예를 들면 퍼옥시드, 금속 아염소산염, 과붕산염, 과탄산염, 퍼옥시산, 차아염소산염 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.27. 과산화수소 또는 과산화수소 공급원, 예를 들면 우레아 퍼옥시드 또는 퍼옥시드 염 또는 착체 (예를 들면 퍼옥시포스페이트, 퍼옥시카르보네이트, 과붕산염, 퍼옥시실리케이트 또는 과황산염; 예를 들면 퍼옥시인산칼슘, 과붕산나트륨, 탄산나트륨 퍼옥시드, 나트륨 퍼옥시포스페이트 및 과황산칼륨)를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.28. 세균 부착을 방해 또는 방지하는 물질, 예를 들면 솔브롤 또는 키토산을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.29. (i) 칼슘-유리 착체, 예를 들면 칼슘 나트륨 포스포실리케이트 및 (ii) 칼슘-단백질 착체, 예를 들면 카제인 포스포펩티드-무정형 인산칼슘으로부터 선택된 칼슘 및 인산염의 공급원을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.30. 가용성 칼슘 염, 예를 들면 황산칼슘, 염화칼슘, 질산칼슘, 아세트산칼슘, 락트산칼슘 및 그의 조합으로부터 선택된 것을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.31. 상아질 민감도를 감소시키는 유효량으로 생리학적 또는 경구 허용 가능한 칼륨 염, 예를 들면 질산칼륨 또는 염화칼륨을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.32. 음이온성 중합체, 예를 들면 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트를 더 포함하며, 예를 들면 음이온성 중합체가 말레산 무수물 또는 산과 또 다른 중합성 에틸렌형 불포화 단량체의 1:4 내지 4:1 공중합체로부터 선택되며; 예를 들면 음이온성 중합체가 약 30,000 내지 약 1,000,000, 예를 들면 약 300,000 내지 약 800,000의 평균 분자량 (M.W.)을 갖는 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 (PVM/MA) 공중합체이며, 예를 들면 음이온성 중합체가 조성물의 약 1-5 중량%, 예컨대 약 2 중량%인 임의의 상기 조성물.
1.33. 구강 청량제, 향료 또는 풍미제를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.34. 조성물의 pH가 대략 중성, 예를 들면 pH 6 내지 pH 8, 예를 들면 약 pH 7인 임의의 상기 조성물.
1.35. 아미노산이 리신이고, 아연 및 리신이 0.5-2 중량%, 예컨대 약 1 중량% 아연을 제공하는 양으로 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-를 갖는 아연-리신-클로라이드 착체를 형성하며, 습윤제, 예를 들면 소르비톨, 프로필렌 글리콜 및 그의 혼합물을 예를 들면 10-25%, 예컨대 약 15-20%의 양으로, 비이온성 계면활성제, 예를 들면 폴록사머를 예를 들면 0.1-1%의 양으로 그리고 감미제, 풍미제 및 물을 더 포함하는 것, 예를 들면 하기를 포함하는 구강 청결제인 임의의 상기 조성물:
Figure pct00001
1.36. 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소에 사용하기 위한 임의의 상기 조성물.
본 발명은 유효량의 본 발명의 조성물, 예를 들면 임의의 조성물 1 (이하 참조)을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소 방법을 추가로 제공한다.
예를 들면 본 발명은 유효량의 본 발명의 조성물, 예를 들면 임의의 조성물 1 (이하 참조)을 치아에 적용한 후, 조성물로부터 산화아연의 침전을 유발시키기에 충분한 물 또는 수용액으로 헹구는 것을 포함하는, 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소 방법을 제공한다.
본 발명은 아연 이온 공급원과 아미노산을 유리 또는 염 형태로 수성 매체 중에서 합하고 (예를 들면 산화아연을 리신 염산염과 합하고), 임의로 고체 염 형태로 형성된 착체를 분리하고, 착체를 구강 청결제 베이스와 혼합하는 것을 포함하는, 아연 아미노산 착체를 포함하는 구강 관리 조성물, 예를 들면 임의의 조성물 1 (이하 참조)의 제조 방법을 추가로 제공한다.
예를 들면 다양한 실시양태에서, 본 발명은 상기 기재된 바와 같은 임의의 조성물 1 (이하 참조)을 치료를 필요로 하는 사람의 구강에 예를 들면 1일 1회 이상 적용하는 것을 포함하는, (i) 치아 과민증의 감소, (ii) 치태 축적의 감소, (iii) 치아의 탈회의 감소 또는 억제 그리고 재석회화의 촉진, (iv) 구강에서 미생물 균막 형성의 억제, (v) 치은염의 감소 또는 억제, (vi) 입에서의 궤양 또는 자상의 치유 촉진, (vii) 산 생성 세균 농도의 감소, (viii) 비-우식원 및/또는 비-치태 형성 세균의 상대적 농도의 증가, (ix) 치아 우식 형성의 감소 또는 억제, (x) 예를 들면 정량적 광-유도된 형광 (QLF) 또는 전기 충치 측정 (ECM)에 의하여 검출된 바와 같이 법랑질의 전-우식 병변의 감소, 복구 또는 억제, (xi) 구강 건조증의 치료, 완화 또는 감소, (xii) 치아 및 구강의 세정, (xiii) 침식증의 감소, (xiv) 치아 미백; (xv) 치석 축적의 감소 및/또는 (xvi) 예를 들면 구강 조직을 통한 전신 감염에 대한 가능성을 감소시켜 심혈관계 건강을 비롯한 건강의 촉진을 위한 방법을 제공한다. 본 발명은 이들 방법 중 임의의 방법에 사용하기 위한 조성물 1 (이하 참조)을 추가로 제공한다.
일부 실시양태에서, 본 발명은 아연 아미노산 할라이드를 포함하는 구강 청결제를 제공한다. 일부 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드는 전구체로부터 형성된다. 일부 실시양태에서, 전구체는 아연 이온 공급원, 아미노산 공급원 및 할라이드 공급원이며, 할라이드 공급원은 아연 이온 공급원, 아미노산 공급원 또는 할로겐 산의 일부가 될 수 있다.
일부 실시양태에서, 아미노산은 유리 또는 경구 허용 가능한 산 부가 염 형태의 리신, 글리신 및 아르기닌으로부터 선택된다. 일부 실시양태에서, 아미노산은 유리 또는 경구 허용 가능한 염 형태의 염기성 아미노산이다.
일부 실시양태에서, 구강 청결제는 약 0.05% 내지 약 4 중량%의 아연을 포함한다. 임의의 상기의 구강 청결제는 아연이 배합물 중에 가용화되지만, 타액 및/또는 헹굼액과 함께 사용 및 희석시 아연 침전물을 제공하는 것을 청구한다. 기타 실시양태에서, 아연 이온 공급원 및 아미노산 공급원은 아연 리신 클로라이드 착체 또는 아연 아르기닌 클로라이드 착체를 형성한다.
일부 실시양태에서, 아연 아미노산 착체는 양이온성 양이온 (예를 들면 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+) 및 클로라이드 음이온의 용액으로 또는 고체 염 형태로, 임의로 1수화물 또는 2수화물 형태로 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-을 갖는 아연 리신 클로라이드 착체이다.
일부 실시양태는 유효량의 플루오라이드 이온 공급원을 더 포함한다.
기타 실시양태는 완충제, 습윤제, 계면활성제, 증점제, 구강 청량제, 풍미제, 향료, 착색제, 항세균제, 미백제, 세균 부착을 방해 또는 예방하는 물질, 칼슘 공급원, 인산염 공급원, 경구 허용 가능한 칼륨 염 및 음이온성 중합체 중 1종 이상으로부터 선택된 성분을 포함하는 경구 허용 가능한 베이스를 포함한다.
일부 실시양태에서, 구강 청결제의 pH는 pH 4 내지 pH 8이다.
기타 실시양태에서, 아미노산은 리신이며, 아연 및 리신을 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-을 갖는 아연-리신-클로라이드 착체를 구강 청결제의 0.5-2 중량% 아연을 제공하는 양으로 형성하도록 하며, 구강 청결제는 습윤제를 10-25 중량%의 양으로, 비이온성 계면활성제을 0.1-1 중량%의 양으로 그리고 감미제, 풍미제 및 물을 더 포함한다.
일부 실시양태는 법랑질의 산식증의 감소 또는 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소에 사용하기 위한 구강 청결제를 제공한다.
일부 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드 대 물의 중량비는 약 1:6 내지 약 1:1이다. 일부 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드 대 물의 중량비는 약 1:5 내지 약 1:2이다. 일부 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드 대 물의 중량비는 약 1:4이다.
일부 실시양태는 구강 청결제의 제조를 위한 아연 아미노산 할라이드의 용도를 제공한다. 기타 실시양태는 본원에 기재된 바와 같은 구강 청결제를 적용하는 것을 포함하는, 치아 법랑질 침식증의 치료 또는 감소, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소의 방법을 제공한다. 기타의 실시양태는 구강 청결제로부터 산화아연의 침전을 유발하기에 충분한 물 또는 수용액으로 헹구는 단계를 더 포함한다.
본 발명은 아연 아미노산 착체를 포함하는 구강 관리 조성물을 생성하기 위한 아연 및 아미노산의 용도를 추가로 제공한다.
본 발명은 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소를 위한 아연 아미노산 착체, 예를 들면 아연 아미노산 할라이드, 예를 들면 아연-리신-클로라이드 착체의 용도를 추가로 제공한다.
특정 이론으로 한정하고자 하는 것은 아니나, 아연 아미노산 할라이드의 형성은 아연 할라이드의 형성에 이어서 중심 아연 주위에 아미노산 잔기의 배위 결합에 의하여 진행되는 것으로 여겨진다. 예로서 물 중에서 ZnO와 리신 염산염의 반응을 사용하면 아연은 리신 및/또는 리신·HCl과 반응하여 Zn-리신-클로라이드 착체 (ZnLys3Cl2)의 맑은 용액을 형성할 수 있으며, 여기서 Zn++는 2개의 리신의 카르복실산 및 아민 기 각각으로부터의 적도면에서 2개의 산소 및 2개의 질소 원자와 배위결합되는 8면체 중심에 위치한다. 아연은 또한 금속 기하의 정점의 위치에서 그의 질소 및 카르복실 산소를 통하여 제3의 리신에 배위결합된다.
또 다른 실시양태에서, 아연 양이온은 2개의 아미노산 잔기 및 2개의 클로라이드 잔기와의 착체를 형성한다. 예를 들면 아미노산이 리신인 경우, 착체는 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-을 갖는다. 이러한 착체에서, Zn 양이온은 적도면에서 NH2 기로부터의 2개의 N 원자 및 카르복실 기로부터의 O 원자를 갖는 2개의 리신 리간드에 의하여 배위결합된다. 이는 Cl- 원자가 차지하는 정점 위치를 갖는 왜곡된 왜곡된 사각뿔 기하를 나타낸다. 이러한 새로운 구조는 양의 양이온 모이어티를 생성하며, 이는 Cl- 음이온이 합쳐져서 이온성 염을 형성한다.
아연 및 아미노산의 기타 착체가 가능하며, 정확한 형태는 부분적으로 전구체 화합물의 몰비에 의존하며, 예를 들면 제한된 할라이드가 존재할 경우, 무-할라이드 착체는 예를 들면, 피라미드 구조를 가지며, 상기 화합물 (Zn이 상이한 리신으로부터의 2개의 산소 및 2개의 질소 원자에 결합됨)과 동일한 적도면을 가지며, 피라미드의 상부는 O 원자가 차지하는 ZnOLys2를 형성할 수 있다.
예를 들면 아연 구조에 기초한 복수의 아연 이온을 포함하는 착체 및/또는 추가의 착체 구조의 혼합물이 가능하며, 본 발명의 범주내에서 고려된다. 착체가 고체 형태로 존재할 경우, 이는 예를 들면 수화된 형태로 결정을 형성할 수 있다.
그러나, 착체 또는 착체들의 정확한 구조와는 무관하게, 아연 및 아미노산의 상호작용은 대략 중성 pH에서 불용성 산화아연 또는 아연 염을 가용성이 큰 착체로 전환시킨다. 그러나, 물 중에서의 희석이 증가함에 따라, 착체는 분해되며, 아연 이온은 불용성 산화아연으로 전환된다. 이러한 역학은 예상 밖이며 (통상적으로 이온성 조성물은 더 높은 희석율에서 가용성이 더 커지며, 더 낮은 희석율에서는 그러하지 않으며), 이는 타액의 존재하에 그리고 헹굼액을 사용하여 투여시 치아에서 아연 침전물의 침착을 촉진시킨다. 이러한 침전은 상아질 세관을 폐색시켜 과민증을 감소시키고, 아연을 법랑질에 제공하여 산식증, 균막 및 치태 형성을 감소시킨다.
상기 구성에서 리신 대신에 기타 아미노산을 사용할 수 있는 것으로 이해될 것이다. 또한, 아연, 아미노산 및 임의로 할라이드가 주로 전구체 물질의 형태로 또는 이온성 착체의 형태로 존재할 수 있기는 하나, 어느 정도의 평형이 존재할 수 있어서 전구체 형태의 비율에 비하여 실제로 착체에서 물질의 비율이 배합의 정확한 조건, 물질의 농도, pH, 물의 존재 또는 부재, 기타 하전된 분자의 존재 또는 부재 등에 의존하여 변경될 수 있다는 것도 또한 이해될 것이다.
활성 물질은 임의의 구강 관리 배합물, 예를 들면 크림치약, 겔, 구강 청결제, 파우더, 크림, 스트립, 껌 또는 당업계에 공지된 임의의 기타의 것의 형태로 전달될 수 있다.
활성 물질이 구강 청결제의 형태로 전달될 경우, 잇점을 원하는 사람은 스톡 용액으로 헹구고, 타액에 의한 스톡 용액의 자연 희석은 아연의 침전을 개시할 것이다. 대안으로, 스톡 용액을 적량의 수성 희석제와 혼합하고, 혼합액으로 헹굴 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 혼합액을 생성하고, 즉시 보유 트레이, 예컨대 미백 겔을 유지하는데 사용되는 것으로 옮기고, 유효한 시간 동안 트레이를 착용할 수 있다. 혼합액과 접촉되는 치아가 처리될 것이다. 보유 트레이와 함께 사용하는 경우, 혼합액은 저 점도 액체 또는 겔의 형태로 존재할 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 스톡 용액 또는, 스톡 용액과 물의 혼합액을 겔 배합물 중의 치아에 적용하며, 예를 들면 겔은 효과적인 처리를 위하여 연장된 시간 동안 치아에 머물 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 활성 물질은 크림치약에 제공될 수 있다. 칫솔질을 하면, 활성 물질은 타액 및 물에 의하여 희석되어 침전이 야기되며, 침착물 및 폐색 입자를 형성한다.
배합물로부터의 침전 속도는 스톡 용액 중의 착체의 농도를 조절하고, 스톡 대 물의 비를 변경시켜 조절될 수 있다. 배합물이 희석될수록 침전은 더 신속하게 이루어져서 신속 처리를 희망할 때 바람직하게 된다.
본 발명의 구강 관리 조성물은 다수의 잇점을 갖는다. 아연 이온 및, 구강에서 아연 이온을 배출할 수 있는 아연 함유 화합물을 제공하여 본 발명의 구강 관리 조성물은 항균, 치태 방지, 치은염 방지, 악취 방지, 충치 예방 및 치석형성 억제의 잇점을 제공한다. 폐색 입자 및 표면 침착물은 아연 이온을 구강에 배출할 수 있으며, 상기에서 인지하는 바와 같이 다양한 잇점을 제공할 수 있는 아연을 함유하는 화합물 (특히 ZnO)뿐 아니라, 기타 아연 유도체이다. 추가의 잇점으로는 부착 방지, 치주염 방지 및 골 손실 방지뿐 아니라, 상처 치유 촉진을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
제2의 잇점은 산화 및 가수분해에 의하여 치아 표면에서의 부식 방지성 침착물을 형성하는 아연 이온의 부식 방지성이다. 표면 침착물뿐 아니라, 폐색 입자는 산과 반응하여 중화되어 치아 표면을 산의 부식 효과로부터 보호할 수 있다. 이러한 점에서, 처리가 초래하는 표면 침착/폐색이 클수록 처리는 더 효과적이게 되며, 그러므로 아연-아르기닌 및 아연-리신이 바람직하다. 또한, 표면 침착물 및 폐색 입자가 산을 중화시킬 때, 이로운 아연 이온 및 아미노산 (하기와 같음)이 배출되어 침식 방지증을 제외한 구강 관리 잇점을 제공할 수 있다는 점에 유의한다.
제3의 잇점은 폐색의 결과로서 민감 방지성 효과이다. 상아질 세관의 폐색은 민감성 완화를 초래한다.
제4의 잇점은 아미노산과 관련된 잇점이다. 폐색 입자 및 표면 침착물은 해당 아미노산, 예컨대 아르기닌 및 리신을 함유한다. 이들 아미노산은 복수의 잇점을 제공한다. 예를 들면 염기성 아미노산은 치태의 더 높은 pH를 초래하여 충치 방지 효과를 제공할 수 있다.
조성물은 아연 아미노산 할라이드 및/또는 그의 전구체를 포함할 수 있다. 현장내에서 물과 반응하여 아연 아미노산 할라이드를 형성할 수 있는 전구체로는 (i) 아연 및 아미노산 히드로할라이드 또는 (ii) 염화아연 및 아미노산 또는 (iii) 아연 이온 공급원, 아미노산 및 할로겐 산 또는 (iv) (i), (ii) 및/또는 (iii)의 조합을 들 수 있다. 한 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드는 전구체를 용액, 예컨대 물 중에서 혼합하여 실온에서 생성될 수 있다. 현장내 형성은 배합의 용이성을 제공한다. 전구체는 우선 아연 아미노산 할라이드를 형성하는 것을 대신하여 사용될 수 있다. 또 다른 실시양태에서, 전구체로부터 아연 아미노산 할라이드를 형성하도록 하는 물은 적용후 조성물과 접촉하게 되는 타액 및/또는 헹굼수로부터 유래한다.
아연 아미노산 할라이드는 아연 (예를 들면 염화아연) 및 아미노산의 할라이드 산 부가 염으로부터 또는 아미노산 (예를 들면 리신 염산염) 및 아연 이온 공급원의 할라이드 산 부가 염으로부터 및/또는 할로겐 산, 아미노산 및 아연 이온 공급원의 3종 모두의 조합으로부터 형성된 수용성 착체이다.
아미노산의 예로는 통상의 천연 아미노산, 예를 들면 리신, 아르기닌, 히스티딘, 글리신, 세린, 트레오닌, 아스파라긴, 글루타민, 시스테인, 셀레노시스테인, 프롤린, 알라닌, 발린, 이소류신, 류신, 메티오닌, 페닐알라닌, 티로신, 트립토판, 아스파르트산 및 글루탐산을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 일부 실시양태에서, 아미노산은 중성 또는 산성 아미노산, 예를 들면 글리신이다.
하기 실시예로부터 알 수 있는 바와 같이, 물로 희석시 착체로부터 아연의 침전은 착체가 염기성 아미노산으로부터 형성될 때 가장 뚜렷하다. 그래서, 희석시 침전이 요구될 경우, 염기성 아미노산이 바람직할 수 있다. 그러므로, 일부 실시양태에서, 아미노산은 염기성 아미노산이다. "염기성 아미노산"이라는 것은 수용성인, 분자내에 카르복실 기 및 아미노 기를 갖는 임의의 염기성 아미노산뿐 아니라, 천연 발생 염기성 아미노산, 예컨대 아르기닌, 리신 및 히스티딘을 의미하며, pH가 약 7 이상인 수용액을 제공한다. 따라서, 염기성 아미노산의 예로는 아르기닌, 리신, 시트룰린, 오르니틴, 크레아틴, 히스티딘, 디아미노부타노산, 디아미노프로프리온산, 그의 염 또는 그의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 특정한 실시양태에서, 아미노산은 리신이다. 기타 실시양태에서, 아미노산은 아르기닌이다.
할라이드는 염소, 브롬 또는 요오드, 가장 통상적으로는 염소일 수 있다. 아미노산 및 할로겐 산 (예를 들면 HCl, HBr 또는 HI)의 산 부가 염은 때때로 본원에서 아미노산 히드로할라이드로 지칭한다. 그래서, 아미노산 히드로할라이드의 일례로는 리신 염산염이 있다. 또 다른 예로는 글리신 염산염이 있다.
이러한 경우에서 아미노산 할라이드 또는 아미노산과 임의로 할로겐 산과의 조합을 위한 아연 이온 공급원은 예를 들면 산화아연 또는 염화아연일 수 있다.
특정한 실시양태에서, 조성물 중의 아연 아미노산 할라이드의 양은 조성물의 0.05 내지 30 중량%이다. 특정한 실시양태에서, 전구체, 예를 들면 아연 및 아미노산 히드로할라이드는 아연 아미노산 할라이드로 조합될 때 아연 아미노산 할라이드는 조성물의 0.05 내지 10 중량%의 양으로 존재하도록 하는 양으로 존재한다. 이들 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드의 양은 원하는 목적, 예컨대 치약 또는 구강 청결제에 대하여 변경될 수 있다. 기타 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드의 양은 조성물의 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 이상, 1 이상, 2 이상, 3 이상 또는 4 이상 10 중량% 이하이다. 기타 실시양태에서, 아연 아미노산 할라이드의 양은 조성물의 9 미만, 8 미만, 7 미만, 6 미만, 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만, 1 미만, 0.5 내지 0.05 중량%이다. 기타 실시양태에서, 상기 양은 조성물의 0.05 내지 5%, 0.05 내지 4%, 0.05 내지 3%, 0.05 내지 2%, 0.1 내지 5%, 0.1 내지 4%, 0.1 내지 3%, 0.1 내지 2%, 0.5 내지 5%, 0.5 내지 4%, 0.5 내지 3% 또는 0.5 내지 2 중량%이다.
특정한 실시양태에서, 아연은 조성물의 0.01 내지 10 중량%의 양으로 존재한다. 기타 실시양태에서, 아연의 양은 조성물의 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 이상, 1 이상, 2 이상, 3 이상 또는 4 이상 10 중량% 이하이다. 기타 실시양태에서, 아연의 양은 조성물의 9 미만, 8 미만, 7 미만, 6 미만, 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만, 1 미만, 0.5 내지 0.05 중량%이다. 기타 실시양태에서, 상기 양은 조성물의 0.05 내지 5%, 0.05 내지 4%, 0.05 내지 3%, 0.05 내지 2%, 0.1 내지 5%, 0.1 내지 4%, 0.1 내지 3%, 0.1 내지 2%, 0.5 내지 5%, 0.5 내지 4%, 0.5 내지 3% 또는 0.5 내지 2 중량%이다.
특정한 실시양태에서, 아미노산 히드로할라이드는 0.05 내지 30 중량%의 양으로 존재한다. 기타 실시양태에서, 상기 양은 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 이상, 1 이상, 2 이상, 3 이상, 4 이상, 5 이상, 10 이상, 15 이상, 20 내지 30 중량%이다. 기타 실시양태에서, 상기 양은 조성물의 30 미만, 25 미만, 20 미만, 15 미만, 10 미만, 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만 또는 1 내지 0.05 중량%이다.
전구체 물질이 존재할 경우, 이들은 예를 들면 기타 배합물 성분에 대한 pH의 균형을 이루고, 추가의 항세균성 아연을 제공하거나 또는 아미노산 완충제를 제공하기 위하여, 특정 배합물에서 과잉의 한 물질 또는 또 다른 물질이 바람직할 수 있기는 하나, 원하는 아연 아미노산 할라이드를 생성하는데 요구되는 바와 같은 대략 몰비로 존재하는 것이 바람직하다. 그러나, 할라이드의 레벨을 제한하는 것은 다소 아연 및 아미노산 사이의 상호작용을 도우므로 할라이드의 양은 제한되는 것이 바람직하다.
일부 실시양태에서, 조성물 중의 아연의 총량은 조성물의 0.05 내지 8 중량%이다. 기타 실시양태에서, 아연의 총량은 조성물의 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 또는 1 내지 8 중량%이다. 기타 실시양태에서, 조성물 중의 아연의 총량은 조성물의 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만 또는 1 미만 내지 0.05 중량%이다.
특정한 실시양태에서, 아연 대 아미노산의 몰비는 2:1 이상이다. 기타 실시양태에서, 몰비는 1:1 이상, 1:2 이상, 1:3 이상, 1:4 이상, 2:1 내지 1:4, 1:1 내지 1:4, 1:2 내지 1:4, 1:3 내지 1:4, 2:1 내지 1:3, 2:1 내지 1:2, 2:1 내지 1:1 또는 1:3이다. 1:4 초과에서 아연은 완전히 용해될 것으로 예상된다.
특정한 실시양태에서, 조성물은 무수 상태이다. 무수라는 것은 5 중량% 미만의 물, 임의로 4 미만, 3 미만, 2 미만, 1 미만, 0.5 미만, 0.1 내지 0 중량%의 물이 존재한다.
무수 조성물 중에 제공될 때, 전구체, 예를 들면 TBZC 및 아미노산 히드로할라이드는 아연 아미노산 할라이드를 형성하기 위하여 상당하게 반응하지 않을 것이다. 조성물의 적용 도중에 또는 이후에 입을 헹구는데 사용된 타액 및/또는 물의 형태로 존재할 수 있는 충분량의 물과 접촉시, 전구체는 반응하여 아연 아미노산 할라이드를 형성한 후, 추가의 희석시 아연-함유 침전물을 치아에 제공할 것이다.
캐리어는 아연 아미노산 할라이드 착체 또는 그의 전구체를 제외한 조성물 중에 존재하는 모든 기타의 물질을 나타낸다. 그후, 캐리어의 양은 임의의 전구체를 포함한 아연 아미노산 할라이드의 중량에 첨가하여 100%가 되는 양이다.
활성 물질: 본 발명의 조성물은 법랑질 및 치아 구조의 강도의 강도 및 온전함을 보호 및 향상시키고 및/또는 아연-아미노산-할라이드 착체를 비롯한 또는 그 외에 세균 및 관련 충치 및/또는 잇몸 질환을 감소시키기 위하여 활성인 각종 물질을 포함할 수 있다. 본원에서 사용된 활성 성분의 유효 농도는 사용된 특정 물질 및 전달계에 의존할 것이다. 크림치약은 예를 들면 통상적으로 사용시 물로 희석될 것이지만, 구강 헹굼액은 통상적으로 그렇지 않을 것으로 이해하여야 한다. 그래서, 크림치약 중의 활성 물질의 유효 농도는 일반적으로 구강 헹굼액에 대하여 요구되는 것보다 5-15배 더 높을 수 있다. 농도는 또한 선택된 정확한 염 또는 중합체에 의존할 것이다. 예를 들면 활성 물질이 염 형태로 제공될 경우, 반대이온은 염의 중량에 영향을 미칠 것이며, 그래서 반대이온이 더 무거울 경우 최종 생성물 중의 활성 이온의 동일한 농도를 제공하기 위하여서는 더 많은 염 (중량 기준)이 요구될 것이다. 아르기닌이 존재할 경우 소비재 크림치약의 경우 예컨대 약 0.1 내지 약 20 중량% (유리 염기의 중량으로 나타냄), 예컨대 약 1 내지 약 10 중량% 또는 전문 또는 처방 치료 제품의 경우 약 7 내지 약 20 중량%의 레벨로 존재할 수 있다. 플루오라이드가 존재한다면 소비재 크림치약의 경우 예컨대 약 25 내지 약 25,000 ppm, 예컨대 약 750 내지 약 2,000 ppm 또는 전문 또는 처방 치료 제품의 경우 약 2,000 내지 약 25,000 ppm의 레벨로 존재할 수 있다. 항세균제의 레벨은 매우 유사하게 변경될 것이며, 크림치약에 사용된 레벨은 구강세정액 중에 사용된 것보다 예컨대 약 5 내지 약 15 배 더 크다. 예를 들면 트리클로산 크림치약은 약 0.3 중량% 트리클로산을 함유할 수 있다.
플루오라이드 이온 공급원: 구강 관리 조성물은 1종 이상의 플루오라이드 이온 공급원, 예를 들면 가용성 플루오라이드 염을 더 포함할 수 있다. 광범위한 플루오라이드 이온-산출 물질은 조성물 중에 가용성 플루오라이드의 공급원으로서 사용될 수 있다. 적절한 플루오라이드 이온-산출 물질의 예는 미국 특허 제3,535,421호 (Briner et al.); 미국 특허 제4,885,155호 (Parran, Jr. et al.) 및 미국 특허 제3,678,154호 (Widder et al.)에서 찾아볼 수 있다. 대표적인 플루오라이드 이온 공급원으로는 불소화제1주석, 불소화나트륨, 불소화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 플루오라이드, 불소화암모늄 및 그의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 특정한 실시양태에서, 플루오라이드 이온 공급원으로는 불소화제1주석, 불소화나트륨, 모노플루오로인산나트륨뿐 아니라, 그의 혼합물을 들 수 있다. 특정한 실시양태에서, 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 플루오라이드 이온 또는 불소-제공 성분의 공급원을 약 25 ppm 내지 약 25,000 ppm의 플루오라이드 이온, 일반적으로 약 500 ppm 이상, 예컨대 약 500 내지 약 2,000 ppm, 예컨대 약 1,000 내지 약 1,600 ppm, 예컨대 약 1,450 ppm을 제공하기에 충분한 양으로 함유할 수 있다. 플루오라이드의 적절한 레벨은 특정한 적용예에 의존할 것이다. 일반적인 소비재 용도를 위한 크림치약은 통상적으로 약 1,000 내지 약 1,500 ppm를 가질 것이며, 소아용 크림치약은 다소 적게 갖는다. 전문 적용예용 치약 또는 코팅은 약 5,000 또는 심지어 약 25,000 ppm 플루오라이드 정도로 많이 갖는다. 플루오라이드 이온 공급원은 한 실시양태에서 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 10 중량% 또는 또 다른 실시양태에서 조성물의 약 0.03 중량% 내지 약 5 중량%, 또 다른 실시양태에서 약 0.1 중량% 내지 약 1 중량%의 레벨로 본 발명의 조성물에 첨가될 수 있다. 적절한 레벨의 플루오라이드 이온을 제공하기 위한 플루오라이드 염 (중량)은 염에서 반대이온의 중량을 기준으로 하여 명백하게 변경될 것이다.
아미노산: 일부 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 아미노산을 포함한다. 특정한 실시양태에서, 아미노산은 염기성 아미노산일 수 있다. "염기성 아미노산"은 수용성인, 천연 발생 염기성 아미노산, 예컨대 아르기닌, 리신 및 히스티딘뿐 아니라, 분자에서 카르복실 기 및 아미노 기를 갖는 임의의 염기성 아미노산을 의미하며, pH가 약 7 이상인 수용액을 제공한다. 따라서, 염기성 아미노산으로는 아르기닌, 리신, 시트룰린, 오르니틴, 크레아틴, 히스티딘, 디아미노부타노산, 디아미노프로프리온산, 그의 염 또는 그의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 특정한 실시양태에서, 염기성 아미노산은 아르기닌, 시트룰린 및 오르니틴으로부터 선택된다. 특정한 실시양태에서, 염기성 아미노산은 아르기닌, 예를 들면 l-아르기닌 또는 그의 염이다.
다양한 실시양태에서, 아미노산은 치약의 경우 조성물 총 중량의 약 0.5 중량% 내지 약 20 중량%, 조성물 총 중량의 약 0.5 중량% 내지 약 10 중량%, 예컨대 조성물 총 중량의 약 1.5 중량%, 약 3.75 중량%, 약 5 중량% 또는 약 7.5 중량% 또는 구강 청결제의 경우 예컨대 약 0.5-2 중량%, 예컨대 약 1%의 양으로 존재한다.
발포제: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 구강을 칫솔질할 때 발생하는 기포의 양을 증가시키는 물질을 포함할 수 있다. 발포의 양을 증가시키는 물질의 예로는 알기네이트 중합체를 비롯한 (이에 한정되지 않음) 특정 중합체 및 폴리옥시에틸렌을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 캐리어 성분에 의하여 생성된 발포의 양 및 발포의 두께를 증가시킬 수 있다. 폴리옥시에틸렌은 또한 통상적으로 폴리에틸렌 글리콜 ("PEG") 또는 폴리에틸렌 옥시드로서 공지되어 있다. 본 발명에 적절한 폴리옥시에틸렌은 약 200,000 내지 약 7,000,000의 분자량을 가질 것이다. 한 실시양태에서, 분자량은 약 600,000 내지 약 2,000,000이며, 또 다른 실시양태에서 약 800,000 내지 약 1,000,000이다. 폴리옥스(Polyox)®는 유니온 카바이드(Union Carbide)가 제조한 고 분자량 폴리옥시에틸렌에 대한 상표명이다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 조성물의 구강 관리 캐리어 성분의 약 1% 내지 약 90%, 한 실시양태에서 약 5% 내지 약 50%, 또 다른 실시양태에서, 약 10% 내지 약 20 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 존재할 경우, 구강 관리 조성물 중의 발포제의 양 (즉, 1회 투여량)은 약 0.01 내지 약 0.9 중량%, 약 0.05 내지 약 0.5 중량%, 또 다른 실시양태에서 약 0.1 내지 약 0.2 중량%이다.
계면활성제: 본 발명에서 유용한 조성물은 예를 들면 음이온성 계면활성제을 함유할 수 있다.
i. 고급 지방산 모노글리세리드 모노술페이트의 수용성 염, 예컨대 수소화 코코넛 오일 지방산의 모노술페이트화 모노글리세리드의 나트륨 염, 예컨대 나트륨 N-메틸 N-코코일 타우레이트, 나트륨 코코모노글리세리드 술페이트,
ii. 고급 알킬 술페이트, 예컨대 나트륨 라우릴 술페이트,
iii. 예를 들면 화학식 CH3(CH2)mCH2(OCH2CH2)nOSO3X의 고급 알킬-에테르 술페이트 (여기서 m은 6-16, 예를 들면 10이고, n은 1-6, 예를 들면 2, 3 또는 4이고, X는 Na 또는 K임), 예를 들면 나트륨 라우레쓰-2 술페이트 (CH3(CH2)10CH2(OCH2CH2)2OSO3Na),
iv. 고급 알킬 아릴 술포네이트, 예컨대 나트륨 도데실 벤젠 술포네이트 (나트륨 라우릴 벤젠 술포네이트),
v. 고급 알킬 술포아세테이트, 예컨대 나트륨 라우릴 술포아세테이트 (도데실 나트륨 술포아세테이트), 1,2 디히드록시 프로판 술포네이트의 고급 지방산 에스테르, 술포코라우레이트 (N-2-에틸 라우레이트 칼륨 술포아세트아미드) 및 나트륨 라우릴 사르코시네이트.
"고급 알킬"은 예를 들면 C6-30 알킬을 의미한다. 특정한 실시양태에서, 음이온성 계면활성제은 나트륨 라우릴 술페이트 및 나트륨 에테르 라우릴 술페이트로부터 선택된다. 음이온성 계면활성제은 예를 들면 배합물의 >0.01 중량%인 효과적인 양으로 존재할 수 있으나, 구강 조직에 자극이 되는 농도, 예를 들면 <10%로는 존재하지 않으며, 최적의 농도는 특정한 배합 및 특정한 계면활성제에 의존한다. 예를 들면 사용된 농도 또는 구강 청결제는 통상적으로 크림치약에 사용되는 것의 1/10 정도이다. 한 실시양태에서, 음이온성 계면활성제은 크림치약 중에 약 0.3% 내지 약 4.5 중량%, 예컨대 약 1.5%로 존재한다. 본 발명의 조성물은 예를 들면 음이온성, 양이온성, 쯔비터이온성 또는 비이온성일 수 있는 기타 계면활성제 및 음이온성 계면활성제을 포함하는 계면활성제의 혼합물을 임의로 함유할 수 있다. 일반적으로, 계면활성제은 넓은 pH 범위에 걸쳐 타당하게 안정한 것이다. 계면활성제은 예를 들면 미국 특허 제3,959,458호 (Agricola et al.); 미국 특허 제3,937,807호 (Haefele); 및 미국 특허 제4,051,234호 (Gieske et al.)에서 보다 구체적으로 기재되어 있다. 특정한 실시양태에서, 본원에서 유용한 음이온성 계면활성제로는 알킬 라디칼에서 약 10 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 술페이트의 수용성 염 및 약 10 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 지방산의 술포네이트화 모노글리세리드의 수용성 염을 들 수 있다. 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우로일 사르코시네이트 및 나트륨 코코넛 모노글리세리드 술포네이트는 이러한 유형의 음이온성 계면활성제의 예이다. 특정한 실시양태에서, 본 발명의 조성물, 예를 들면 조성물 1 (이하 참조)은 나트륨 라우릴 술페이트를 포함한다.
계면활성제 또는 적합한 계면활성제의 혼합물은 총 조성물의 약 0.1% 내지 약 5.0%, 또 다른 실시양태에서 약 0.3% 내지 약 3.0%, 또 다른 실시양태에서 약 0.5% 내지 약 2.0 중량%로 본 발명의 조성물 중에서 존재할 수 있다.
치석 조절제: 본 발명의 다양한 실시양태에서, 조성물은 치석형성 억제제 (치석 조절제)를 포함한다. 적절한 치석형성 억제제의 비제한적인 예로는 인산염 및 폴리인산염 (예를 들면 피로인산염), 폴리아미노프로판술폰산 (AMPS), 헥사메타인산염, 구연산아연 3수화물, 폴리펩티드, 폴리올레핀 술포네이트, 폴리올레핀 인산염, 2인산염을 들 수 있다. 그래서, 본 발명은 인산염을 포함할 수 있다. 특정한 실시양태에서, 이들 염은 알칼리 인산염, 즉 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 토금속 수산화물의 염, 예를 들면 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염이다. 본원에서 사용된 바와 같은 "인산염"은 경구 허용 가능한 모노- 및 폴리인산염, 예를 들면 P1-6 인산염, 예를 들면 단량체 인산염, 예컨대 1염기성, 2염기성 또는 3염기성 인산염; 이량체 인산염, 예컨대 피로인산염; 및 다합체 인산염, 예를 들면 나트륨 헥사메타인산염을 포함한다. 특정한 예에서, 선택된 인산염은 2염기성 알칼리 인산염 및 알칼리 피로인산염으로부터 선택되며, 예를 들면 2염기성 인산나트륨, 2염기성 인산칼륨, 인산2칼슘 2수화물, 피로인산칼슘, 피로인산테트라나트륨, 피로인산테트라칼륨, 트리폴리인산나트륨 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택된다. 특정한 실시양태에서, 예를 들면 조성물은 피로인산테트라나트륨 (Na4P2O7), 피로인산칼슘 (Ca2P2O7) 및 2염기성 인산나트륨 (Na2HPO4)의 혼합물을 예를 들면 약 3-4%의 2염기성 인산나트륨 및 약 0.2-1%의 각각의 피로인산염의 양으로 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 조성물은 피로인산테트라나트륨 (TSPP) 및 트리폴리인산나트륨 (STPP) (Na5P3O10)의 혼합물을 예를 들면 약 1-2%의 TSPP 및 약 7% 내지 약 10%의 STPP의 비율로 포함한다. 그러한 인산염은 법랑질의 침식증의 감소, 치아의 세정에 도움 및/또는 치아에서 치석 축적의 감소에 효과적인 양으로, 예를 들면 조성물의 중량의 2-20%, 예를 들면 약 5-15%의 양으로 제공된다.
풍미제: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 풍미제를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시에 사용되는 풍미제의 예로는 에센셜 오일뿐 아니라, 다양한 풍미 알데히드, 에스테르, 알콜 및 유사 물질을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 에센셜 오일의 예로는 스피어민트, 페퍼민트, 윈터그린, 사사프러스, 클로브, 세이지, 유칼립투스, 마조람, 시나몬, 레몬, 라임, 그레이프프루트 및 오렌지의 오일을 들 수 있다. 또한, 멘톨, 카르본 및 아네톨과 같은 화학물질도 유용하다. 특정 실시양태는 페퍼민트 및 스피어민트의 오일을 사용한다. 풍미제는 경구 조성물 중에 약 0.1 내지 약 5 중량%, 예를 들면 약 0.5 내지 약 1.5 중량%의 농도로 혼입될 수 있다.
중합체: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 배합물의 점도를 조절하거나 또는 기타 성분의 용해도를 향상시키는 추가의 중합체를 포함할 수 있다. 상기 추가의 중합체는 폴리에틸렌 글리콜, 다당류 (예를 들면 셀룰로스 유도체, 예를 들면 카르복시메틸 셀룰로스 또는 다당류 껌, 예를 들면 크산탄 껌 또는 카라기난 껌)를 포함한다. 산성 중합체, 예를 들면 폴리아크릴레이트 겔은 그의 유리 산 또는 부분 또는 완전 중화된 수용성 알칼리 금속 (예를 들면 칼륨 및 나트륨) 또는 암모늄 염의 형태로 제공될 수 있다.
수성 매체 중에서 중합체 구조 또는 겔을 형성하는 실리카 증점제가 존재할 수 있다. 이들 실리카 증점제는 매우 미세하게 분쇄되며 그리고 연마 작용이 매우 적거나 또는 전혀 없으므로, 조성물 중에 존재하는 입자상 실리카 연마제와는 물리적 그리고 기능적으로 상이하다는 점에 유의한다. 기타 증점제는 나트륨 카르복시메틸 셀룰로스 및 나트륨 카르복시메틸 히드록시에틸 셀룰로스 등의 셀룰로스 에테르의 수용성 염, 카르복시비닐 중합체, 카라기난 및 히드록시에틸 셀룰로스이다. 천연 껌, 예컨대 카라야, 아라비아 껌 및 트라가칸트 껌도 또한 혼입될 수 있다. 콜로이드성 규산마그네슘알루미늄은 또한 조성물의 질감을 추가로 개선시키기 위한 증점 조성물의 성분으로서 사용될 수 있다. 특정한 실시양태에서, 총 조성물의 약 0.5% 내지 약 5.0 중량%의 양으로 증점제를 사용한다.
본 발명의 조성물은 음이온성 중합체를 예를 들면 약 0.05 내지 약 5%의 양으로 포함할 수 있다. 상기 물질은 이러한 특정한 적용예에 대하여서는 아니지만, 일반적으로 치약에서의 용도가 공지되어 있으며, 본 발명에서 유용하며, 미국 특허 제5,188,821호 및 제5,192,531호에 개시되어 있으며; 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트, 예컨대 말레산 무수물 또는 산과 또 다른 중합성 에틸렌형 불포화 단량체의 1:4 내지 4:1 공중합체, 바람직하게는 약 30,000 내지 약 1,000,000, 가장 바람직하게는 약 300,000 내지 약 800,000의 분자량 (M.W.)을 갖는 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물을 들 수 있다. 이들 공중합체는 예를 들면 미국 뉴저지주 08805 바운드 브룩에 소재하는 아이에스피 테크놀로지즈, 인코포레이티드(ISP Technologies, Inc.)로부터 입수 가능한 강트레즈(Gantrez), 예를 들면 AN 139 (M.W. 500,000), AN 119 (M.W. 250,000) 및 바람직하게는 S-97 제약 등급 (M.W. 700,000)으로서 입수 가능하다. 증강제가 존재할 경우 약 0.05 내지 약 3 중량% 범위내의 양으로 존재한다. 기타 작동 중합체로는 예컨대 말레산 무수물과 에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈 또는 에틸렌의 1:1 공중합체 (후자는 예를 들면 몬샌토(Monsanto) EMA No. 1103, M.W. 10,000 및 EMA 그레이드 61로 입수 가능함) 및 아크릴산과 메틸 또는 히드록시에틸 메타크릴레이트, 메틸 또는 에틸 아크릴레이트, 이소부틸 비닐 에테르 또는 N-비닐-2-피롤리돈의 1:1 공중합체를 들 수 있다. 일반적으로, 활성화된 탄소-대-탄소 올레핀성 이중 결합 및 1종 이상의 카르복실 기를 함유하는 중합된 올레핀형 또는 에틸렌형 불포화 카르복실산, 즉 말단 메틸렌 기의 일부로서 또는 카르복실 기에 대하여 알파-베타 위치에서 단량체 분자 중에 그의 존재로 인하여 중합에서 쉽게 작용하는 올레핀성 이중 결합을 함유하는 산이 적절하다. 그러한 산의 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 알파-클로로아크릴산, 크로톤산, 베타-아크릴옥시 프로피온산, 소르브산, 알파-클로르소르브산, 신남산, 베타-스티릴아크릴산, 무콘산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 글루타콘산, 아코니트산, 알파-페닐아크릴산, 2-벤질아크릴산, 2-시클로헥실아크릴산, 앤젤산, 움벨산, 푸마르산, 말레산 및 무수물을 들 수 있다. 상기 카르복실 단량체와 공중합성을 갖는 기타 상이한 올레핀성 단량체로는 비닐아세테이트, 비닐 클로라이드, 디메틸 말레에이트 등을 들 수 있다. 공중합체는 수용해도에 대하여 충분한 카르복실염 기를 함유한다. 추가의 부류의 중합체 물질로는 치환 아크릴아미드의 단독중합체 및/또는 불포화 술폰산 및 그의 염의 단독중합체를 함유하는 조성물을 들 수 있으며, 특히 중합체는 미국 특허 제4,842,847호 (1989년 6월 27일, Zahid)에 기재된 약 1,000 내지 약 2,000,000의 분자량을 갖는 아크릴아미도알칸 술폰산, 예컨대 2-아크릴아미드 2 메틸프로판 술폰산으로부터 선택된 불포화 술폰산에 기초한다. 중합체 물질의 또 다른 유용한 유형으로는 소정 비율의 음이온성 계면활성 아미노산, 예컨대 아스파르트산, 글루탐산 및 포스포세린을 함유하는 폴리아미노산, 예를 들면 미국 특허 제4,866,161호 (Sikes et al.)에 개시되어 있는 바와 같다.
물: 경구 조성물은 상당한 레벨의 물을 포함할 수 있다. 시판 경구 조성물의 제조에 사용된 물은 탈이온화되어야 하며, 유기 불순물이 없어야 한다. 조성물 중의 물의 양은 기타 물질과 함께 투입되는 양에 더하여 첨가되는 유리 물을 포함한다.
습윤제: 경구 조성물의 특정한 실시양태에서, 또한 대기에 노출시 조성물이 경화되는 것을 방지하기 위하여 습윤제를 혼입하는 것이 바람직하다. 특정한 습윤제는 또한 치약 조성물에 바람직한 감미 또는 풍미를 부여할 수 있다. 적절한 습윤제로는 식용 다가 알콜, 예컨대 글리세린, 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜뿐 아니라, 기타 폴리올 및 이들 습윤제의 혼합물을 들 수 있다. 본 발명의 한 실시양태에서, 주요 습윤제는 25% 초과, 예를 들면 25-35%, 약 30%의 레벨로 존재할 수 있는 글리세린이며, 기타 습윤제는 5% 이하이다.
기타 임의의 성분: 상기 기재된 성분 이외에, 본 발명의 실시양태는 일부가 하기 기재된 각종 임의의 치약 성분을 함유할 수 있다. 임의의 성분으로는 예를 들면 접착제, 거품생성제(sudsing agent), 풍미제, 감미제, 추가의 치태 방지제, 연마제 및 착색제를 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 이들 및 기타 임의의 성분은 미국 특허 제5,004,597호 (Majeti); 미국 특허 제3,959,458호 (Agricola et al.) 및 미국 특허 제3,937,807호 (Haefele)에 추가로 기재되어 있으며, 이들 문헌 모두는 본원에 참조로 포함된다.
반대의 의미로 명시하지는 않지만, 본 명세서에 제공된 조성물 성분의 모든 비율(%)은 전체 조성물 또는 100%의 배합물 중량을 기준으로 한 중량이다.
그렇지 않고 구체적으로 명시하지 않는다면, 본 발명의 조성물 및 배합물에 사용하기 위한 성분은 화장품용으로 허용되는 성분인 것이 바람직하다. "화장품적으로 허용되는"이라는 것은 사람 피부로의 국소 적용을 위한 배합물에 사용하기에 적절하다는 것을 의미한다. 화장품적으로 허용되는 부형제는 예를 들면 본 발명의 배합물 중에서 고려되는 양 및 농도로 외용에 적절한 부형제이며, 예를 들면 미국 식품의약관리국에 의한 "일반적으로 안전한 물질로 인정되는 물질" (GRAS)인 부형제를 들 수 있다.
본원에서 제공된 바와 같은 조성물 및 배합물은 당업계에서 일반적인 바와 같이 그의 성분을 참조하여 기재 및 청구한다. 당업자에게 명백한 바와 같이 성분은 일부의 경우에서 서로 반응할 수 있어서 최종 배합물의 진정한 조성물이 제시된 성분에 정확하게 부합하지 않을 수 있다. 그래서, 본 발명은 제시된 성분의 조합의 생성물로 확장되는 것으로 이해하여야 한다.
본원에서 사용한 바와 같이, 범위는 해당 범위내의 각각의 값 및 모든 값을 기재하기 위하여 약칭으로서 사용된다. 상기 범위내의 임의의 값은 범위의 말단으로서 선택될 수 있다. 게다가, 본원에 인용된 모든 참고문헌은 그의 전체가 참조로서 포함된다. 본 개시내용의 정의 및 인용된 문헌의 것에서 충돌이 존재할 경우, 본 개시내용이 우선한다.
반대의 의미로 명시되지 않는다면, 본원 및 본 명세서의 다른 부분에 나타낸 모든 비율 및 양은 중량%를 지칭하는 것으로 이해하여야 한다. 제시된 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.
실시예
실시예 1
ZLC의 형성을 위한 일반적인 반응은 하기와 같다:
ZnO + 2(리신·HCl) → [Zn(리신)2Cl]Cl·2H2O (ZLC)
2:1 몰비의 ZnO:리신·HCl 현탁액은 실온에서 약 12 시간 동안 교반하여 생성한다. 혼합물을 원심분리한다. 1 ㎖의 상청액을 NMR 시험관으로 옮긴다. 그후, NMR 시험관을 결정 성장을 위하여 에탄올이 충전된 밀폐된 시험관에 넣는다. 다수의 무색, 입방체 결정은 1 주후 형성된다. ZLC 결정의 결정 구조는 단일 결정 X선 회절에 의하여 결정된다. 이러한 착체 분자의 치수는 1.7 ㎚×7.8 ㎚×4.3 ㎚이다. 이러한 착체에서, Zn 양이온은 적도면에서 2개의 리신 리간드에 의하여 NH2 기로부터의 2개의 N 원자 및 카르복실기로부터의 O 원자와 배위결합된다. 이는 Cl 원자가 차지하는 정점 위치를 갖는 뒤틀린 사각뿔 기하를 나타낸다. 이러한 새로운 구조는 Cl 음이온이 결합되어 이온성 염을 형성하는 양의 양이온 모이어티를 야기한다.
순수한 ZLC 분말의 실험실 규모의 합성: 2 몰의 리신·HCl을 실온에서 교반하면서 1,000 ㎖ 탈이온수 중에 용해시키고, 1 몰의 고체 ZnO를 교반하면서 리신·HCl 용액에 천천히 첨가하고, 교반을 실온에서 밤새 (약 12 시간) 지속한다. 현탁 용액을 고속에서 15 분 동안 원심분리한다. 상청액을 EtOH에 서서히 붓는다. 즉시 침전물이 형성된다. 1 g의 분말을 얻는데 약 5-8 ㎖ EtOH가 필요하다. 분말을 갖는 EtOH 용매를 여과하고, 회백색 분말을 얻는다. 건조를 위하여 분말을 50℃ 오븐에 넣고, 88% 수율의 생성물을 얻는다. PXRD는 ZLC 결정과 비교한 ZLC 분말의 순도를 확인한다.
ZLC의 분말은 또한 ZLC 용액의 분무-건조에 의하여 얻을 수 있다.
실시예 2
활성 성분으로서 NaF, ZLC, ZnCl2 및 ZnO를 함유하는 500 g 구강 청결제 배취 4개는 하기 표 1에 제시된 성분으로 배합한다. 이러한 실험의 목적은 샘플의 투명도를 상이한 활성 물질과 비교하고자 한다. 혼탁도는 터비스캔(TurbiScan)® 분산 안정화도 분석기에 의하여 측정한 바와 같이 용액을 통한 광의 전달율에 의하여 평가한다. 전달율이 높을수록 조성물의 투명도가 크다. 그래서, 전달율이 작다는 것은 용액이 더욱 혼탁하다는 것을 시사한다. ICP (유도 결합 플라스마) 분석에 의하여 얻은 ZLC 용액 중의 아연 이온의 농도는 25,300 ppm이며, 이는 용액 중의 약 17 중량%의 ZLC 활성 물질에 해당한다. 모든 배취에서의 아연 이온 농도는 동일한 레벨, 즉 1.01 중량%로 조절된다. 4개의 배취 중에서, 활성 물질로서 ZnO를 갖는 것은 전달율이 0%인 유백색인 것으로 보이며, 나머지 3개의 샘플은 탈이온수 정도로 투명하다 (하기 표 2).
<표 1>
Figure pct00002
Figure pct00003
<표 2>
Figure pct00004
희석 실험: 모든 초기 구강 청결제 배취를 2 배, 4 배, 8 배, 16 배 및 32 배 희석한다. 모든 용액을 생성하고, 잘 진탕시킨 후 혼탁도 측정을 실시한다. 샘플의 혼탁도 데이타는 NaF, ZLC, ZnCl2 및 ZnO 각각을 함유하는 구강 청결제의 희석에 대하여 하기 표 3, 4, 5 및 6에 제시한다. ZLC 구강 청결제 샘플을 희석함에 따라 침전이 관찰되지만, 기타 샘플의 혼탁도는 불변한다.
<표 3>
Figure pct00005
<표 4>
Figure pct00006
<표 5>
Figure pct00007
<표 6>
Figure pct00008
숙성 실험: 희석된 ZLC 구강 청결제 샘플을 안정화도 실험에 대하여 37℃ 오븐에 주말 (약 60 시간)에 걸쳐 넣어둔다. 결과를 하기 표 7에 제시한다. 4배 희석으로부터 침전이 관찰되기 시작할 수 있다. 침전의 양이 가장 큰 것은 16배 희석에서 발견된다. 그러나, 초기 배취는 여전히 안정하며, 60 시간 동안 숙성시키더라도 침전이 나타나지 않는다.
<표 7>
Figure pct00009
ZnCl2 및 ZnO를 사용하여 배합된 구강 청결제 배취와 비교하여, 활성 물질로서 ZLC를 갖는 배합물만이 맑고 안정한 용액을 형성할 수 있으나, 희석시 침전물을 생성한다. 이러한 ZLC 구강 청결제 배합물은 중성 pH를 가지며, 37℃에서 안정하다. ZLC는 저장시에는 안정하지만, 희석 용액에서는 침전되는 구강 청결제 배합물을 제공한다. 이러한 희석에 의한 불용성 침전물의 형성은 상아질 세관에서의 "폐색"을 형성하여 과민증에 대한 잇점을 제공한다.
실시예 3
활성 성분으로서 ZLC를 사용한 상기 실시예의 구강 청결제 배합물은 활성 성분으로서 NaF를 함유하는 시판 구강 청결제 제품과의 경쟁적 투명도를 나타낼 뿐 아니라, 물에 의한 희석시 침전 능력을 나타낸다. 이러한 독특한 성질은 민감 방지성 및 충치 방지 효과를 도우며, 그리하여 크림치약 제품에서 ZLC를 사용하는 것에 이롭다.
활성 성분으로서 ZLC를 갖는 경구 겔 크림치약을 배합하고, ZnCl2, ZnO 및 NaF를 함유하는 기타 배합물과 비교한다. ZLC 배합물만이 NaF를 함유하는 통상의 겔 상으로서 경쟁적 투명도를 나타낸다. ZLC 겔 상의 침전 성질은 또한 가수분해 반응 실험에 의하여 조사되어 치아를 ZLC 활성 물질을 함유하는 크림치약과 함께 칫솔질할 때, 칫솔질 중에 형성된 불용성 입자가 상아질 세관을 침투하여 세관을 폐색시켜 소비자에게 민감 방지성 효과 및 신호를 생성한다는 증거를 제공한다.
활성 성분으로서 NaF (대조용), ZLC, ZnCl2 및 ZnO를 함유하는 4개의 500.0 g 겔 상 배취를 하기 표 8에 제시한 성분으로 배합한다. 상이한 활성 물질을 갖는 샘플의 투명도를 비교하고, 희석에 의한 ZLC 겔 상의 침전 특징을 평가한다. ICP에 의하여 얻은 ZLC 용액 중의 아연 이온의 농도는 25,300 ppm이었으며, 이는 용액 중의 ZLC 활성 물질의 약 17 중량%를 제공한다. 하기 배취 중의 아연 이온 농도는 0.5% (w/w) 아연 레벨에서 모두 생성된다.
<표 8>
Figure pct00010
Figure pct00011
람다 25 UV/VIS 분광계 (퍼킨엘머(PerkinElmer))를 사용하여 모든 샘플에 대한 흡광도 정보를 얻어서 상이한 활성 물질 사이의 겔 상의 투명도를 비교한다. 흡광도는 물질을 통과시 흡수되는 광의 양의 대수 측정치이다. 겔 중의 입자가 광을 흡수하므로, 용액 중에 존재하는 입자가 많을수록, 겔이 흡수하는 광은 많다. 그래서, 겔의 작은 수의 흡광도는 높은 투명도를 나타낸다. 흡광도는 610 ㎚의 광원 파장하에서 블랭크 용액으로서 탈이온수 (DI)를 사용하여 보정한다. ZnO는 용해되지 않고, 겔 상 중에 현탁되어 높은 흡광도를 나타낸다. ZnCl2가 물 중에서 가용성이더라도, ZnCl2를 함유하는 겔 상은 뿌옇게 나타난다. ZLC에 의하여 배합된 겔 상만이 균질한 용액을 형성하며, NaF에 의하여 배합된 겔 상으로서 경쟁적 투명도를 나타낸다. 모든 샘플에 대한 흡광도 및 pH는 하기 표 9에 제시한다.
<표 9>
Figure pct00012
희석 실험: 모든 초기의 겔 상 배취는 2 배, 4 배, 8 배, 16 배 및 32 배로 희석한다. NaF 겔, ZnCl2 겔 및 ZnO 겔이 추가로 희석됨에 따라 흡광도가 감소되며, 추가로 희석된 ZLC 겔 용액 중에서의 흡광도는 증가된다. 이러한 관찰은 ZLC 겔을 물로 희석할 때 침전물의 형성을 확인한다. 2 배, 4 배, 8 배, 16 배 및 32 배 희석된 ZLC 겔 용액의 pH는 각각 7.71, 7.91, 8.03, 8.12 및 8.14이다.
<표 10>
Figure pct00013
상기 겔은 단독으로 사용될 수 있거나 또는 겔 상 및 연마제 페이스트 상을 갖는 크림치약 중에 사용될 수 있다. 크림치약 배합물의 겔 상에서의 활성 성분으로서 ZLC. ZnCl2 및 ZnO에 의하여 배합된 겔 상 배취와 비교하여, 활성 물질로서 ZLC를 갖는 배합물만이 시판 제품에 사용된 것 (활성 성분으로서 NaF)으로서 경쟁적 투명도 및 pH를 나타낸다. 희석 실험은 ZLC 겔 상만이 희석시 투명한 겔로부터 불용성 침전물을 형성할 수 있다는 것을 나타낸다. 희석에 의한 불용성 침전물의 형성은 이러한 유형의 크림치약을 사용한 후 상아질 세관에서 "폐색"의 형성을 도우며, 게다가, 이는 소비자 사용 중에 백색 침전물 신호를 제공한다.
실시예 4
ZLC를 사용한 경구 겔에 의한 상아질 폐색은 잠재적인 과민증 방지 효과에 대하여 ZLC가 없는 경구 겔과 비교하여 측정한다. 플로덱(Flodec) 기기를 사용하여 상아질 세관을 통한 유체 흐름을 측정한다. 파쉴리(Pashley) 셀 방법 (예를 들면 Pashley DH, O'Meara JA, Kepler EE, et al., Dentin permeability effects of desensitizing dentifridces in vitro. J Periodontol. 1984;55(9):522-525)을 사용하여 S. Mello에 의한 구강 청결제 배합물에 대한 상아질 폐색을 측정하는데 사용된 절차를 수행한다. 400 ㎕ 샘플의 2회 10분 처리는 피펫을 사용하여 상아질 디스크에서 10 분 간격으로 적용한다. 각각의 처리후 디스크를 인산염 완충 염수 (PBS)로 헹구고, 모세관내의 메니스커스의 위치를 추적하여 부피의 작은 변화를 측정하는 장치인 플로덱 장치를 사용하여 유속을 측정한다. 하기 표 11은 ZLC를 사용한 경구 겔의 평균 유속 및 샘플 적용후 유속 감소율을 나타낸다.
<표 11>
Figure pct00014
상기에서 제시한 바와 같이, ZLC 3배를 갖는 경구 겔의 상아질 세관을 통한 평균 유속 감소율은 약 41%이다.
하기 표 12는 ZLC가 없는 경구 겔 (대조용)의 평균 유속 및 샘플 적용후 유속 감소율을 나타낸다.
<표 12>
Figure pct00015
상기에서 제시한 바와 같이, 상아질 세관을 통한 ZLC 3배가 없는 경구 겔 (대조용)의 평균 유속 감소율은 약 31%이다.
ZLC를 갖는 경구 겔은 플로덱 장치를 사용한 시험관내 수력학적 전도도 모델에서 ZLC가 없는 경구 겔 (대조용)에 비하여 우수한 성능을 나타낸다.
실시예 5
구강 표면에 또는 치아 구멍, 예컨대 개방 세관에 그 현장내에서 전달될 수 있는, 다양한 희석율의 ZLC를 생성하여 눈에 보이는 침전물 및/또는 폐색을 생성하는데 있어서 그의 효율을 평가한다.
ZLC의 니트 용액은 1) 0.5 몰의 ZnO 분말을 1 ℓ의 물 중의 1 몰의 리신·HCl과 실온에서 약 2 시간 동안 반응시키고, 2) 상청액을 원심분리에 의하여 수집한 후, 0.45 ㎛ 멤브레인을 사용하여 여과하여 생성한다. 니트 용액은 아연 농도가 2.39 중량%이고, pH는 약 7.03이다.
희석 실험은 니트 용액을 탈이온수와 혼합하여 실시한다. 니트 용액은 각각 1.20 중량%, 0.598 중량%, 0.398 중량%, 0.341 중량%, 0.299 중량%, 0.239 중량%, 0.199 중량%, 0.149 중량%, 0.120 중량%, 0.0996 중량%, 0.0854 중량%, 0.074 중량%의 초기 아연 농도에 해당하는 2 배, 4 배, 6 배, 7 배, 8 배, 10 배, 12 배, 16 배, 20 배, 24 배, 28 배 및 32배로 희석한다. 희석된 샘플을 37℃에서 보관하고, 폐색/침전이 발생하는 속도를 모니터한다. 0.149% 및 0.199%의 초기 아연 농도로의 희석은 스톡 용액이 물과 혼합되는 시점으로부터 30 분 이내에 일부 눈에 보이는 폐색을 생성할 수 있다. 혼합 후 1 시간에, 0.0854% 내지 0.239%의 초기 아연 농도의 희석에서 눈에 보이는 폐색이 관찰된다. 혼합 후 1 시간 30 분에, 0.0747% 내지 0.239%의 초기 아연 농도의 희석에서 눈에 보이는 폐색이 관찰된다. 혼합 후 2 시간에, 초기 아연 농도가 0.299%인 추가의 샘플은 또한 폐색의 존재를 나타냈다. 총 19 시간 후, 초기 아연 농도가 1.20%인 것 및 초기 아연 농도가 0.0747% 내지 0.239%인 것이 가장 많은 침전물을 나타낸 것을 제외한 모든 샘플에서 폐색 및/또는 침전이 관찰될 수 있다.
최종 희석된 샘플의 pH 값은 구강 관리 적용예에 적절하다. 초기 아연 농도가 0.0747%, 0.0854%, 0.0996%, 0.120%, 0.149%, 0.199 중량% 및 0.239%인 샘플은 최종 pH 값이 각각 7.99, 8.13, 8.11, 7.97, 7.99, 6.80 및 6.70이었다. 이들 pH 값은 5.5 내지 10의 범위내에 속하며, 이는 구강 관리 배합물에 대한 적절한 범위를 정의한다.
아연은 주로 산화아연의 형태로 침전물 중에 존재한다. 리신은 그의 필수 성분 및/또는 불순물로서 침전물 중에 존재한다.
실시예 6
공초점 화상은 눈에 보이는 침전이 형성될 수 있는 조건 하에서 상아질 표면 위의 표면 침착물의 생성 및 세관 구멍의 폐색에서의 ZLC의 효율을 나타낸다.
침착/폐색 분석은 실시예 5의 사람 상아질 슬라이스 및 니트 용액을 사용하여 실시한다. 상아질 슬라이스는 사람 치아를 두께가 약 800 ㎛인 얇은 상아질 절편으로 절단하고, 시험면을 선택하고, 약 600 그릿의 샌드페이퍼를 사용하여 상기 시험면을 닦고, 뷸러(Buehler) 연마포 및 5 ㎛ 뷸러 산화알루미늄을 사용하여 상기 시험면을 연마시키고, 상기 상아질 절편을 1% (중량) 구연산 용액 중에서 약 20 초 동안 산-에칭시키고, 상기 상아질 절편을 10 분 동안 음파 처리하고, 상기 상아질 절편을 인산염 완충 염수 (PBS, pH 7.4) 중에 보관하여 생성하였다.
처리의 경우, 니트 용액을 물로 16배 희석하여 초기 아연 농도가 약 0.149 중량%인 처리 용액을 생성한다. 상아질 절편을 처리 용액 중에 1 시간 동안 37℃에서 침지시킨다. 그후, 처리된 상아질 절편을 처리 용액으로부터 꺼내고, 매회 1 ㎖의 PBS로 4회 헹구었다. 그후, 종이계 티슈를 사용하여 상아질 절편을 건조시키고, XYZ 및 XYZ 모드 둘다에서의 공초점 현미경 하에서 조사한다. 차후의 처리는 동일한 방식으로 실시한다.
점진적인 침착 및 폐색은 공초점 영상화에 의하여 관찰할 수 있다. 제1의 처리는 뚜렷한 침착을 생성한다. 제2의 처리는 실질적으로 모든 세관 구멍을 폐색시키는 것을 포함한 완전한 표면 피복을 생성한다. 표면 침착물은 두께가 10 ㎛ 이상일 수 있다. 제3의 처리후, 세관 구멍의 완전 표면 피복 및 완전 폐색이 관찰된다. 표면 침착물은 두께가 25 ㎛ 이상일 수 있다. 침착물은 상아질 표면에 백색을 부여한다.
표면 침착물은 아연 및 리신과 통상적으로 관련된 것뿐 아니라, 침착물에 의한 부식성 산의 중화에 의한 침식증으로부터의 보호, 세관의 폐색을 통한 민감성으로부터의 보호 및, 특히 산 공격시 침착물로부터 아연 및 리신의 점진적인 배출로 인한 활성 물질의 제어된 배출을 비롯한 다양한 잇점을 제공한다.
실시예 7
공초점 화상은 눈에 보이는 침전이 관찰되지 않는 조건 하에서 상아질 표면 위의 표면 침착물의 생성 및 세관 구멍의 폐색에서의 ZLC의 효율을 나타낸다.
실시예 6에서 생성한 바와 같이 상아질 절편을 초기 아연 농도가 0.0747 중량%인 ZLC 희석으로 반복적으로 처리한다. 각각의 처리는 32 ㎖의 희석된 용액 (실시예 5로부터의 니트 용액 1 ㎖ 및 탈이온수 31 ㎖)을 포함하였으며, 10 분 동안 37℃에서 지속되며, 그 동안 육안으로 침전이 관찰되지 않는다. 상아질 절편을 각각의 처리후 공초점 현미경하에서 조사한다. 4회 연속 처리후, 상당한 표면 침착이 관찰된다. 12회 연속 처리후, 완전 표면 피복이 관찰되며, 이는 세관 구멍의 존재의 징후를 남기지 않는다.
그러므로, 눈에 보이는 침전을 생성하지 않는, 희석비 및 처리 기간 모두에 관한 조건하에서 표면 침착 및 세관 폐색이 발생할 수 있다.
실시예 8
아연-리신, 1,450 ppm 플루오라이드 및 인산염을 포함하는 테스트 치약은 하기와 같이 생성한다:
<표 13>
Figure pct00016
본 발명은 본 발명을 실시하는 바람직한 방식을 비롯한 구체적인 예에 관하여 기재하였으나, 당업자는 상기 기재된 시스템 및 기법의 다양한 변형 및 치환이 존재한다는 것을 이해할 것이다. 기타 실시양태를 사용할 수 있으며, 구조적 및 기능적 변형은 본 발명의 범주로부터 벗어남이 없이 이루어질 수 있는 것으로 이해하여야 한다. 그래서, 본 발명의 범주는 하기 첨부된 특허청구범위에서 명시된 바와 같이 광의로 해석하여야 한다.

Claims (20)

  1. 아연 아미노산 할라이드를 포함하는 구강 청결제.
  2. 제1항에 있어서, 아연 아미노산 할라이드가 전구체로부터 형성되는 구강 청결제.
  3. 제2항에 있어서, 전구체가 아연 이온 공급원, 아미노산 공급원 및 할라이드 공급원인 구강 청결제.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 할라이드 공급원이 아연 이온 공급원, 아미노산 공급원 또는 할로겐 산의 일부가 될 수 있는 구강 청결제.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노산이 유리 또는 경구 허용 가능한 산 부가 염 형태의 리신, 글리신 및 아르기닌으로부터 선택되는 구강 청결제.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노산이 유리 또는 경구 허용 가능한 염 형태의 염기성 아미노산인 구강 청결제.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 아연의 양이 0.05-4 중량%인 구강 청결제.
  8. 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 아연 이온 공급원 및 아미노산 공급원이 착체를 형성하는 구강 청결제.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 아연이 배합물 중에서 가용화되지만, 타액 및/또는 헹굼액과 함께 사용 및 이로써 희석시 아연 침전물을 제공하는 구강 청결제.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 아연 이온 공급원 및 아미노산 공급원이 아연 리신 클로라이드 착체 또는 아연 아르기닌 클로라이드 착체를 형성하는 구강 청결제.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 아연 아미노산 할라이드가 양이온성 양이온 (예를 들면 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+) 및 클로라이드 음이온의 용액으로 또는 고체 염 형태, 임의로 1수화물 또는 2수화물 형태로 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-를 갖는 아연 리신 클로라이드 착체인 구강 청결제.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 유효량의 플루오라이드 이온 공급원을 더 포함하는 구강 청결제.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 완충제, 습윤제, 계면활성제, 증점제, 구강 청량제, 풍미제, 향료, 착색제, 항세균제, 미백제, 세균 부착을 방해 또는 예방하는 물질, 칼슘 공급원, 인산염 공급원, 경구 허용 가능한 칼륨 염 및 음이온성 중합체 중 하나 이상으로부터 선택된 성분을 포함하는 경구 허용 가능한 베이스를 포함하는 구강 청결제.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 구강 청결제의 pH가 pH 4 내지 pH 8인 구강 청결제.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노산이 리신이어서 아연 및 리신이 구강 청결제의 0.5-2 중량% 아연을 제공하는 양으로 화학식 [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-을 갖는 아연-리신-클로라이드 착체를 형성하도록 하며, 10-25 중량%의 양으로 습윤제, 0.1-1 중량%의 양으로 비이온성 계면활성제, 감미제, 풍미제 및 물을 더 포함하는 구강 청결제.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 법랑질의 산식증의 감소 또는 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소를 위하여 사용하기 위한 구강 청결제.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 아연 아미노산 할라이드 대 물의 중량비가 약 1:6 내지 약 1:1인 구강 청결제.
  18. 구강 청결제의 제조를 위한 아연 아미노산 할라이드의 용도.
  19. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 의한 구강 청결제를 치아에 적용하는 것을 포함하는, 치아 법랑질 침식증의 치료 또는 감소, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소 방법.
  20. 제18항에 있어서, 구강 청결제로부터 산화아연의 침전을 유발시키기 위하여 충분한 물 또는 수용액을 사용하여 헹구는 단계를 더 포함하는 방법.
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