TWI507210B - 包含氧化鋅及三甲基甘胺酸之口腔保健產品 - Google Patents
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Description
本發明係說明口腔保健組成物,其包含氧化鋅及三甲基甘胺酸呈游離或口腔可接受鹽形式之混合物。亦提供製造及使用該組成物之方法。
牙齒侵蝕係由於受到來自非細菌來源之酸攻擊而涉及對牙齒結構去礦化及破壞。侵蝕最初係於琺瑯質中發現,且若未加以控制,可繼續到下面的牙本質。牙齒侵蝕可由酸性食物與飲料、暴露於氯化游泳池水中,及胃酸逆流所引起或惡化。牙齒琺瑯質為帶負電荷之表面,其自然地傾向於吸引帶正電之離子,如氫及鈣離子,同時抗拒帶負電荷離子如氟離子。牙齒琺瑯質會依周圍唾液之相對pH而定,損失或得到正性電荷離子,如鈣離子。通常唾液具有pH介於7.2至7.4之間。當該pH降低且氫離子之濃度變得相對高時,該氫離子會替代琺瑯質中之鈣離子,形成磷酸氫鹽(磷酸)而損害琺瑯質且產生多孔、海綿狀粗糙之表面。若唾液長時間保持酸性,則
再礦化作用可能不發生,且該牙齒會繼續失去礦物質,導致該牙齒衰弱且最終失去結構。
牙本質敏感症為急性、局部的牙齒疼痛,其反應牙本質表面之物理刺激,如熱(熱或冷)滲透,熱之觸覺組合與暴露的牙本質之滲透及觸覺刺激。該牙本質之暴露通常係由於牙齦衰退,或失去琺瑯質,而經常導致敏感症。打開至表面之牙本質小管與牙本質敏感症具有高的相關性。牙本質小管係由牙髓通向至齒堊質。當牙根之表面齒堊質被侵蝕時,該牙本質小管變得暴露於外在環境。該暴露之牙本質小管提供了用於傳遞流體流動至牙髓神經之途徑,該傳輸係由溫度、壓力及離子梯度變化所誘發。
重金屬離子,如鋅,係對抗酸侵害。於電化序列中鋅排行高於氫,使得當該鋅通入溶液中,金屬鋅於酸性溶液中會反應釋放氫氣而形成二價陽離子Zn2+
。於牙菌斑及齲齒研究中,鋅已顯示具有抗細菌特性。
可溶鋅鹽,如檸檬酸鋅,業已使用於潔牙劑組成物中,參見,例如,美國專利案號6,121,315,但有幾個缺點。鋅離子於溶液中給予令人不悅的澀口感,所以提供有效之鋅含量以及具有可接受感官特性之調配物一直難以達成。最後,鋅離子會與陰離子表面活化劑如月桂基硫酸鈉進行反應,因而干擾起泡與清潔。
氧化鋅業已用作為牙膏之成份。雖然其已顯示多種口腔保健功效,其之性能被有限的氧化鋅溶解度所限制。氧化鋅具有於30℃時每100毫升水約0.16毫克之低溶解度。因此,可有效地輸送如可溶物質之氧化鋅的量是有限的。以傳統粉末形式輸送之氧化鋅,於口腔內對牙齒或黏膜表面沒有強的親和力。因此,於治療期
結束,當使用者吐出牙膏、潄口劑等時,所輸送之氧化鋅會被沖走。
N,N,N-三甲基甘胺酸(TMG或甘胺酸甜菜鹼)具有四級銨結構。於中性之pH時,該化合物係以兩性離子存在,於四級銨與該分子之羧基部分之間形成內鹽。於強酸存在下,其會形成酸加成鹽,例如,氫氯化物。該化合物最初係由甜菜分離,且於動物飼料中用作為飲食補充物及作為實驗室試劑穩定劑,例如,於聚合酶鏈反應中。有報導指出其於口腔保健產品中治療口乾之用途,例如US 6,156,293,及用於止汗產品中,例如US 6,969,510。
雖然先前技術揭示使用多種口腔用組成物用來治療牙本質敏感症、齲齒,及琺瑯質侵蝕與去礦化,於此等治療中仍需要另外的組成物及方法提供改良之性能。
雖然於先前技術之調配物中氧化鋅係以有限的溶解度存在,複合物現今業已發現氯化鋅可以游離形式及酸加成形式二者與TMG形成可溶複合物。當置於調配物中時,該複合物提供有效濃度之鋅離子至琺瑯質及/或牙本質表面,因而保護該牙齒對抗侵蝕、減少細菌定殖及生物膜發展,且提供增強之光澤。此外,於使用過程中稀釋時,該調配物提供可塞住牙本質小管之沉澱物,因而減輕牙齒之敏感性。另外,於使用過程中稀釋時,該調配物提供主要為鋅鹽及一些TMG之固態材料塗層於該牙齒表面上。該固態材料對該牙齒表面之強親和力允許較佳之直接性(substantivity),且允許由其控制釋放該活性物。這是意想不到的,至少部份係因為通常會
預期藉由稀釋可呈現較佳之溶解。
傳統雖然與傳統含氧化鋅之調配物相較,可提供有效之鋅輸送,該包含氧化鋅與TMG之調配物並未表現出與傳統鋅為主使用可溶鋅鹽之口腔保健產品有關的不良味道及口感,不良氟化物輸送,不良之起泡及清洗。
由氧化鋅與TMG以其之酸加成形式所形成之可溶複合物為特別有效。該酸可為任何酸,宜為氫鹵化物。TMG之酸加成形式可用一種預先存在之實體提供,如TMG氫氯化物,或可於原地由TMG與該酸以各種比例混合所形成,例如由1:5至5:1(TMG之莫耳數對由酸所釋放之質子莫耳數)。由氧化鋅與TMG以其之酸加成形式所形成之可溶複合物於用水稀釋時可導致沉澱。該沉澱物可為自由浮動固體之形式,及/或附著於牙齒與黏膜表面用於隨後釋放。相反的,由氧化鋅與TMG以其之游離形式所形成之可溶複合物於用水稀釋時不太能產生沉澱。
本發明因此於一個具體例中提供包含氧化鋅與TMG以其之游離或酸加成形式之複合物,例如鋅-TMG-HCl複合物,例如,由合併氧化鋅與三甲基甘胺酸氫氯化物於水溶液中所形成。
於進一步之具體例中,本發明係提供包含氧化鋅與TMG以其之游離或酸加成形式合併,例如包含如上述之複合物之口腔保健組成物,例如潄口水、口腔凝膠或潔牙劑組成物。該組成物可任意進一步包含氟化物來源及或另外的磷酸鹽來源。該組成物可調配於,例如,傳統潔牙劑、口腔凝膠或潄口水基質,例如,其包含一種或多種研磨劑、表面活化劑、起泡劑、維生素、聚合物、酵素、濕潤劑、增稠劑、抗微生物劑、防腐劑、調味劑,及/或著色劑
之適當口腔保健調配物中。
本發明進一步提供使用本發明之組成物用來減少及抑制琺瑯質之酸侵蝕、清潔牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、減少牙齦炎、減少牙齦炎、減少口臭、提供緩解口乾、抑制蛀牙與蛀洞形成,及減輕牙本質敏感症之方法,其包含施用本發明之組成物至牙齒。本發明進一步提供使用本發明之組成物藉由授予塗層於牙齒上以美白牙齒之方法,其中該塗層比天然的牙齒潔白。
本發明之適用性的其他領域可由下文中所提供之詳細說明變得顯而易見。應瞭解,該詳細說明及特定實例在指出本發明之較佳具體例時,其意欲用於闡明之目的而已且並非意欲用來限制本發明之範圍。
下列較佳具體例之說明僅係性質上示範且不意欲限制本發明,其之應用,或用途。
如本文中所用之“三甲基甘胺酸”係指N,N,N
-三甲基甘胺酸;且該術語可於本文中互換使用。
因此,本發明於第一個具體例中係提供,包含或由氧化鋅與三甲基甘胺酸(TMG)以游離或口腔可接受酸加成鹽形式之混合物所製備之口腔保健組成物(組成物1),例如,
1.1.組成物1,其中鋅之含量於該調配物中以元素基準以重量計為0.05-4%,例如,1-2%,例如,0.5-1.5%,例如,約1%。
1.2.組成物1或1.1,其中該TMG係以口腔可接受之酸加成鹽形式,例如氫氯化物鹽形式提供,或TMG係藉由提供
如分開實體之TMG與酸(如HCl),於原地以莫耳比1:5至5:1間(TMG之莫耳數對由酸所釋放之質子的莫耳數)所形成。
1.3.任何前述之組成物,其中,氧化鋅對TMG之莫耳比為由1:1至1:10,例如,約1:5。
1.4.任何前述之組成物,其中,鋅對TMG之莫耳比為由5:1至1:2,例如,約1:1。
1.5.任何前述之組成物,其中,該pH係介於pH 5與pH 6之間。
1.6.任何前述之組成物,其中,該調配物係包含合併氧化鋅與三甲基甘胺酸氫氯化物於水溶液中之步驟。
1.7.任何前述之組成物,其中,該TMG係以氫鹵化物鹽形式提供,且該氧化鋅與TMG形成可溶複合物,選自於鋅-TMG-鹵化物複合物、鋅-鹵化物複合物,及其混合物,例如,其中該鹵化物係選自於氟化物、氯化物、溴化物及其混合物。
1.8.任何前述之組成物,其中,該TMG係以氫鹵化物鹽形式提供,且該氧化鋅與TMG形成二種可溶複合物,一種具有化學組成物Zn2
O8
H6
X2
且另一種具有化學組成物Zn2
O8
H5
X2
-TMG,其中X係選自於Cl、F、Br,及其混合物。
1.9.任何前述之組成物,其中,該TMG係以氫氯化物鹽形式提供,且該氧化鋅與TMG形成可溶複合物,選自於鋅-TMG-氯化物複合物、鋅-氯化物複合物,及其混合物。
1.10.任何前述之組成物,其中,該TMG係以氫氯化物鹽形式提供,且該氧化鋅與TMG形成二種可溶複合物,一種具有化學組成物Zn2
O8
H6
Cl2
且另一種具有化學組成物Zn2
O8
H5
Cl2
-TMG。
1.11.任何前述之組成物,其中,於施用該組成物後,於原地以全部或以部分形成包含氧化鋅與TMG之複合物。
1.12.任何前述之組成物,其中,於調配該組成物後,於原地以全部或以部分形成包含氧化鋅與TMG之複合物。
1.13.任何前述之組成物,其包含酸,例如氫氯酸,例如,使得該混合物之pH介於5與6之間。
1.14.任何前述之組成物,其進一步包含鹼式胺基酸,例如,賴胺酸或精胺酸。
1.15.任何前述之組成物,其係於實質無水載劑,例如,含水低於10%之載劑中。
1.16.任何前述之組成物,其係以牙膏、凝膠、漱口水、粉末、乳液、細條,或膠之形式。
1.17.任何前述之組成物,其係於口腔可接之受基質,例如,漱口水、凝膠,或潔牙劑基質。
1.18.任何前述之組成物,其係以潔牙劑之形式,例如,其中該氧化鋅與TMG係以有效量,例如,以0.05-4%鋅以重量計之量,例如,約0.5-3%,例如約1%鋅以重量計,存在於潔牙劑基質中。
1.19.組成物1.1,其中該潔牙劑基質包含研磨劑,例如,有效量之矽石研磨劑,例如,10-30%,例如,約20%。
1.20.組成物1,其係以漱口水之形式,例如,其中該氧化鋅係以有效量存在,例如,以0.05-4%鋅以重量計之量,例如,約1%鋅以重量計。
1.21.任何前述之組成物,其進一步包含有效量之氟離子來源,例如,提供500至3000ppm氟化物。
1.22.任何前述之組成物,其進一步包含有效量之氟化物,例如,其中該氟化物為鹽,選自於氟化亞錫、氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟化胺(例如,N'-十八基三甲基烯二胺-N,N,N'-三(2-乙醇)-二氫氟化物)、氟化銨、氟化鈦、六氟硫酸鹽,及其組合物。
1.23.任何前面的組成物,其包含有效量之一種或多種鹼金屬磷酸鹽,例如,鈉、鉀或鈣鹽,例如,選自於鹼金屬二元磷酸鹽及鹼金屬焦磷酸鹽,例如,鹼金屬磷酸鹽選自於磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二鈣二水合物、焦磷酸鈣、焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、三聚磷酸鈉,及此等之任何二種或多種之混合物,例如,以該組成物之1-20%之量,例如,2-8%,例如,大約5%以重量計。
1.24.任何前述之組成物,其包含緩衝劑,例如,磷酸鈉緩衝劑(例如,磷酸二氫鈉及磷酸氫二鈉)。
1.25.任何前述之組成物,其包含濕潤劑,例如,選自於丙三醇、山梨糖醇、丙二醇、聚乙二醇、木糖醇,及其混合物,例如其包含至少20%,例如,20-40%,例如,25-35%之丙三醇。
1.26.任何前面的組成物,其包含一種或多種表面活化劑,例如,選自於陰離子性、陽離子性、兩性離子,及非離子性表面活化劑,及其混合物,例如,其包含陰離子表面活化劑,例如,表面活化劑選自於月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸醚鈉,及其混合物,例如以由約0.3%至約4.5%以重量計之量,例如1-2%月桂基硫酸鈉(SLS);及/或兩性離子表面活化劑,例如甜菜鹼表面活化劑,例如椰油基醯胺基丙基甜菜鹼,例如以由約0.1%至約4.5%以重量計之量,例如0.5-2%椰油基醯胺基丙基甜菜鹼。
1.27.任何前面的組成物,其進一步包含黏度調節量之一種或多種多糖膠,例如黃原膠或卡拉膠、矽石增稠劑,及其組合物。
1.28.任何前面的組成物,其包含膠條或碎片。
1.29.任何前面的組成物,其進一步包含調味劑、香劑及/或顏料。
1.30.任何前述之組成物,其包含有效量之一種或多種抗細菌劑,例如,其包含抗細菌劑選自於鹵化二苯醚(例如三氯沙(triclosan)、草藥萃出物及精油(例如,迷迭香萃出物、茶萃出物、木蘭萃出物、瑞香草酚、薄荷腦、桉樹腦、香葉草醇、香芹酚、檸檬醛、檜木醇、兒茶酚、水楊酸甲酯、表沒食子兒茶素沒食子酸酯、表沒食子兒茶素、沒食子酸、米斯瓦克(miswak)萃出物、沙棘萃出物)、雙胍(bisguanide)防腐劑(例如,氯己啶(chlorhexidine)、阿來西啶(alexidine)或奥替尼啶(octenidine))、四級銨化合物
(例如,氯化十六基鈚錠(CPC)、氯化烷基二甲苯甲銨(benzalkonium chloride)、氯化十四基鈚錠(TPC)、氯化N-十四基-4-乙基鈚錠(TDEPC))、酚防腐劑、海克替啶(hexetidine)、奥替尼啶、血根鹼、波維酮(povidone)碘、地莫品醇(delmopinol)、沙利弗(salifluor)、金屬離子(例如,鋅鹽,例如檸檬酸鋅、亞錫鹽、銅鹽、鐵鹽)、血根鹼、蜂膠及充氧劑(oxygenating agents)(例如,過氧化氫、緩衝過氧硼酸鈉或過氧碳酸鈉)、酞酸及其之鹽、單鄰苯二羧酸(monoperthalic acid)及其之鹽與酯、硬脂酸抗壞血酸酯、油醯肌胺酸、硫酸烷基酯、磺基琥珀酸二辛基酯、水楊醯替苯胺、溴化度米氛(domiphen bromide)、地莫品醇、辛哌醇(octapinol)及其他N-六氫吡啶基衍生物、尼辛(nicin)製劑、亞氯酸鹽;及任何前述之混合物;例如,其包含三氯沙或氯化十六基鈚錠。
1.31.任何前述之組成物,其包含抗細菌有效量之三氯沙,例如0.1-0.5%,例如約0.3%。
1.32.任何前面的組成物,其進一步包含美白劑,例如,選自:過氧化物、金屬亞氯酸鹽、過氧硼酸鹽、過氧碳酸鹽、過氧酸、次氯酸鹽,及其組合物組成之群組。
1.33.任何前面的組成物,其進一步包含過氧化氫或過氧化氫來源,例如,過氧化脲或過氧化物鹽或複合物(例如,過氧磷酸鹽、過氧碳酸鹽、過氧硼酸鹽、過氧矽酸鹽,或過氧硫酸鹽;例如過氧磷酸鈣、過氧硼酸鈉、碳酸鈉過氧化物、過氧磷酸鈉,及過氧硫酸鉀);
1.34.任何前面的組成物,其進一步包含干擾或防止細菌附著之試劑,例如,索布洛(solbrol)或聚葡萄胺糖。
1.35.任何前面的組成物,其進一步包含鈣及磷酸鹽之來源,其係選自於(i)鈣-玻璃複合物,例如,磷矽酸鈉鈣,及(ii)鈣-蛋白質複合物,例如,酪蛋白磷酸肽無定形磷酸鈣。
1.36.任何前面的組成物,其進一步包含可溶鈣鹽,例如,選自於硫酸鈣、氯化鈣、硝酸鈣、醋酸鈣、乳酸鈣,及其組合物。
1.37.任何前面的組成物,其進一步包含生理或口腔可接受之鉀鹽,例如,硝酸鉀或氯化鉀,以有效減輕牙本質敏感性之量。
1.38.任何前述之組成物,其進一步包含陰離子聚合物,例如,合成陰離子聚合聚羧酸酯,例如,其中,該陰離子聚合物係選自於順式丁烯二酸酐或酸與另一個聚合乙烯不飽和單體之1:4至4:1共聚物;例如,其中該陰離子聚合物為甲基乙烯基醚/順式丁烯二酸酐(PVM/MA)共聚物具有平均分子量(M.W.)約30,000至約1,000,000,例如約300,000至約800,000,例如,其中該陰離子聚合物為該組成物重量之約1-5%,例如,約2%。
1.39.任何前面的組成物,其進一步包含口氣清新劑、香劑或調味劑。
1.40.任何前述之組成物,其係用於減少及抑制琺瑯質之酸侵蝕、清潔牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、
減少牙齦炎、抑制蛀牙與蛀洞形成,及減輕牙本質敏感症。
1.41.任何前述之組成物,其係由包含混合氧化鋅與三甲基甘胺酸氫氯化物於水介質中之步驟的方法所產生。
1.42.任何前述之組成物,其中於用水稀釋,例如,至鋅之含量相對於水為低於1%時,鋅沉澱物形成。
本發明進一步提供用於減少及抑制琺瑯質之酸侵蝕、清潔牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、減少牙齦炎、提供緩解口乾、減少口臭、抑制蛀牙與蛀洞形成、改進美白度,及減輕牙本質敏感症之方法,其包含施用有效量之本發明之組成物,例如,任何組成物1以及下列者至該牙齒。
本發明進一步提供製造包含氧化鋅與TMG之組成物,例如,任何組成物1以及下列者之方法,其包含合併氧化鋅與TMG之口腔可接受酸加成鹽,例如,TMG-HCl,於水介質中之步驟。
例如,於多種具體例中,本發明係提供方法用來(i)減輕牙齒之敏感症,(ii)減少牙菌斑累積,(iii)減少或抑制牙齒之去礦化且促進再礦化作用,(iv)抑制微生物之生物膜於口腔中形成,(v)減少或抑制牙齦炎,(vi)促進口中痛處或傷口癒合,(vii)降低產酸細菌之含量,(viii)增加非生齲及/或非牙菌斑形成細菌之相對含量,(ix)減少或抑制齲齒形成,(x)降低、修復或抑制琺瑯質之齲齒前病灶,例如,藉由定量光所誘發之螢光(QLF)或電動齲齒測定(ECM)所偵測者,(xi)治療、緩解或降低口乾,(xii)清潔牙齒及口腔,(xiii)減少侵蝕,(xiv)美白牙齒;(xv)減少牙垢積聚,(xvi)減少口臭,及/或(xvii)促進全身健康,包含心血管健康,例如,經
由口腔組織來降低全身感染之可能性,其包含將如上所述之任何組成物1以及下列者施用至需要其之個人的口腔,例如,每日一次或多次。本發明進一步提供組成物1以及下列者使用於任何此等方法中。
本發明進一步提供氧化鋅與TMG以游離或口腔可接受之鹽形式,例如,三甲基甘胺酸氫氯化物,於製造口腔保健組成物,例如任何組成物1以及下列者等之用途。
於一些具體例中,本發明之組成物係提供於5秒鐘後緩解牙本質敏感性。於一些具體例中,本發明之組成物係提供於10秒鐘後緩解牙本質敏感性。於一些具體例中,本發明之組成物係提供於15秒鐘後緩解牙本質敏感性。於一些具體例中,本發明之組成物係提供於30秒鐘後緩解牙本質敏感性。於一些具體例中,本發明之組成物係提供於60秒鐘後緩解牙本質敏感性。
本發明進一步提供氧化鋅與TMG以游離或口腔可接受之鹽形式(亦即,酸加成形式)一起用於減少及抑制琺瑯質之酸侵蝕、清潔牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、減少牙齦炎、抑制蛀牙與蛀洞形成,及減輕牙本質敏感症之用途;(ii)選自於(a)氧化鋅及胺基酸鹵化物,及/或(b)氧化鋅、胺基酸及任意氫鹵酸之鋅胺基酸鹵化物前驅物,於製造用來減少及抑制琺瑯質之酸侵蝕、清潔牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、減少牙齦炎、減少口臭、提供緩解口乾、抑制蛀牙與蛀洞形成,及減輕牙本質敏感症之組成物的用途。
所發現的是,該鋅與TMG相互作用將氧化鋅轉換成高度可溶之複合物。較佳者為,該TMG係以酸加成鹽形式,例如氫氯化物形式。複合物該複合物係以高溶解濃度於水中,例如對應至約
1%或更多鋅含量。但隨著於水中之稀釋增加,例如,以0.1至1%,例如約0.5%鋅於水中之濃度,該複合物分解,且於該複合物中鋅離子回復成不溶形式,其實質上不含氧化鋅。複合物在使用氧化鋅與胺基酸如賴胺酸來形成複合物之實驗中,於稀釋時亦觀察到沉澱,但該沉澱物為氧化鋅,所以形成之沉澱物實質上不含氧化鋅是意想不到的。
並非希望藉由理論來束縛,應注意的是至少二種複合物存在溶液中。至少一種複合物係由鋅未與TMG相互作用所衍生,且至少一種複合物係由鋅與TMG相互作用所衍生。一種複合物具有Zn2
O8
H5
Cl2
之結構,且另一個具有Zn2
O8
H5
Cl2
-TMG之結構。
於增加稀釋時該動態-降低之溶解性係不尋常且意想不到的。於刷牙或沖洗或用唾液合併時之稀釋促進該鋅沉澱物於給予時沉積於牙齒上,其係作用封閉牙本質小管,因而減少敏感症,且亦提供鋅至琺瑯質而減少酸侵蝕、生物膜與牙菌斑形成。
應理解,雖然該鋅與TMG主要以前驅物材料之形式(例如,氧化鋅與TMG-HCl)或以複合物之形式,可能有某種程度之平衡,複合物因此該材料實際上為複合物形式之比例相較於前驅物之比例,可依該調配物之精確條件、材料之濃度、pH、含或不含水,含或不含其他帶電分子等而變化。
應理解的是,該複合物亦可為混合物之形式。氧化鋅與TMG可形成一種類型之複合物,而氧化鋅與TMG以酸加成形式可形成另一種。此等複合物可以不同的比率存在,特別當TMG與來自於酸之質子以不相等之莫耳數量提供時。
該活性物可以任何口腔保健調配物,例如,牙膏、凝
膠、漱口水、粉末、乳液、細條、樹膠,或任何其他已知於此方面技術中之形式輸送。
若該活性物係以漱口水之形式輸送,希望藉由該儲液及用口水自然稀釋該儲液來提升效益之人會啟動鋅之沉澱。替代地,個人可將儲液與適當量之含水稀釋劑混合(例如,提供相對於水約0.1-1%之鋅濃度),且用該混合物沖洗。
於另一個具體例中,將該混合物製備且立即轉移至維持托盤(retaining tray)中,如那些用來托住美白凝膠時所使用者,且個人可戴著托盤達一段有效期間。與該混合物接觸之牙齒將被治療。使用維持托盤時,該混合物可為低黏度液體或凝膠之形式。
於另一個具體例中,該儲液,或該儲液與水之混合物,係於凝膠調配物中施用至牙齒,例如,其中該凝膠可停留於牙齒上達一段持久之時間用於有效之治療。
於另一個具體例中,該活性物係於牙膏中提供。於刷牙時,該活性物藉由唾液及水稀釋,導致沉澱且形成沉積物與阻塞粒子。
由該調配物之沉澱速率可藉調節於該儲液中之複合物的濃度,及改變該儲液對水之比例來調整。越稀釋之配方導致越快速之沉澱作用且當期望快速處理時以此為宜。
本發明之口腔保健組成物效益很多。藉由提供鋅離子及可於口腔中釋放鋅離子之含鋅化合物,本發明之口腔保健組成物提供抗微生物、抗牙菌斑、抗牙齦炎、抗惡臭、抗齲齒,及抗結石之優點。該阻塞粒子及該表面沉積物為含鋅鹽之化合物,其可釋放鋅離子進入口腔中且提供多種如上所認可之效益。由於沉積作用,
於牙齒表面上由於沉積所形成之塗層可增進該牙齒表面之美白度,因而提供美白之效益。其他效益包含,但非侷限於抗附著、抗牙周炎及抗骨質流失,以及促進傷口癒合。
第二個效益為鋅離子之抗侵蝕性,其經由氧化與水解作用,於牙齒之表面上形成抗侵蝕之沉積物。該表面沉積物,以及該阻塞粒子,可與酸進行反應且中和,因而保護該牙齒表面免於酸之侵蝕作用。亦應注意的是,當該表面沉積物與阻塞粒子中和酸時,可釋放有益之鋅離子,除了抗侵蝕外亦可提供口腔保健之效益。
第三個效益是由於阻塞的結果產生之抗敏感性效益。牙本質小管阻塞導致敏感性緩解。
第四個效益是與TMG相關之效益。該TMG,由於其之兩性離子特性而提供緩衝效應,抵消可損傷牙齒之酸性且因此可提供抗齲齒效益。此外,業已承認TMG可提供緩解口乾。
於特別具體例中,本發明係提供包含氧化鋅、TMG及陰離子系之離子複合物,例如鹵化物,例如氯化物複合物。於特別具體例中,本發明係提供由合併氧化鋅與TMG HCl於水介質中所形成之複合物,以形成合宜稱為ZnO-TMG HCl複合物之複合物。
於另一個具體例中,本發明係提供包含ZnO-TMG HCl複合物之口腔保健調配物,例如,包含ZnO-TMG HCl複合物之根據組成物1以及下列者,例如以潄口劑、凝膠、牙膏、乳液、粉末、細條,或樹膠之形式。
於一個具體例中,若所想要之調配物係為潄口劑之形式,則考慮用二-成份輸送系統。該第一成份為ZnO-TMG HCl複合物之濃縮液,且第二成份實質上為水。該二成份係由給藥者/使用者
於治療前立即混合。或者,考慮一漱口劑形式之單-成份輸送系統,該系統包含ZnO-TMG HCl複合物之濃縮液,且稀釋劑係由自然包含於典型口腔保健治療中之水的形式及/或由該使用者所產生之唾液所供給。複合物
於進一步之具體例中,本發明亦涉及控制性釋放系統及於口腔內用於輸送鋅離子及TMG達一段持久期間之方法,其包含給予根據組成物1以及下列者等。
複合物複合物複合物複合物複合物於特別具體例中,組成物1以及下列者係提供來自於氧化鋅與TMG之複合物,例如鋅-TMG-氯化物複合物,及/或該氧化鋅與TMG以游離或酸加成鹽形式,例如,TMG-HCl,作為複合物前驅物,其可於原地與水進行反應形成複合物。於原地形成係提供配製上的便利。於另一個具體例中,該水容許形成之複合物係來自產生於唾液及/或沖洗水之前驅物,此複合物施用後會與組成物接觸。
於特別具體例中,該TMG係以酸加成鹽之形式提供,例如氫鹵化物,例如三甲基甘胺酸氫氯化物,其於水介質中與氧化鋅形成複合物。
因為於本文中各種鋅鹽與複合物之莫耳數或重量百分比會根據特定鹽或複合物形式而變化,吾等經常於本文中談及調配物中之總鋅量係以重量或按莫耳數之總數計,不論其之鹽或複合物形式。於一些具體例中,鋅於該組成物中之總量為0.05至8%以組成物重量計。於其他具體例中,鋅之總量為至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,或至少1多至8%以組成物重量計。於其他具體例中,鋅於該組成物中之總量為低於5、低於4、低於3、低於2,
或低於1至0.05%以組成物重量計。例如,於一些具體例中,鋅於該組成物中之總量可為約1%。
活性劑
:本發明之組成物可包含多種試劑,其係活性於保護及增強琺瑯質與牙齒結構之強度及完整性,及/或於減少細菌及與蛀牙及/或牙齦相關之疾病,其包含鋅-TMG-鹵化物複合物及其以外之複合物。本文中所使用之活性組成份之有效濃度係依所使用之特別試劑及輸送系統而定。應理解,例如牙膏典型地於使用時用水稀釋,而漱口劑典型地不用。因此,活性物之有效濃度於牙膏中通常會比於漱口劑中所需者高出5-15倍。該濃度亦依所選擇之確切的鹽或聚合物而定。例如,當該活化劑係以鹽形式提供,該相對離子將影響該鹽之重量,使得若該相對離子較重,則於最終產物中需要更多以重量計之鹽來提供相同之活性離子濃度。當精胺酸存在時,其可由例如約0.1至約20重量%(以游離鹼之重量表示)之含量存在,例如於消費者牙膏時約1至約10重量%或於專業或處方治療產品時約7至約20重量%。當氟化物存在時,其可由例如約25至約25,000ppm之含量存在,例如,於消費者牙膏時約750至約2,000ppm,或於專業或處方治療產品時約2,000至約25,000ppm。抗細菌劑之含量會同樣變化,使用於牙膏中之含量係例如,比使用於潄口劑中者多約5至約15倍。例如,三氯沙牙膏可含有約0.3重量%三氯沙。
氟離子來源
:該口腔保健組成物可進一步包含一種或多種氟離子來源,例如,可溶氟化物鹽。多種不同的氟離子產生物質可於本發明之組成物中用作為可溶氟化物之來源。適當氟離子產生物質之實例可於頒給布林納等人之美國專利案號3,535,421;頒給小巴郎等人之美國專利案號4,885,155,及頒給懷德等人之美國專利
案號3,678,154中發現。代表性氟離子來源包含,但非侷限於,氟化亞錫、氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟化胺、氟化銨,及其組合物。於特定具體例中,該氟離子來源包含氟化亞錫、氟化鈉、單氟磷酸鈉以及其混合物。於特定具體例中,本發明之口腔保健組成物亦可含有氟離子之來源或提供氟之組成份,以足夠用來供應約25ppm至約25,000ppm氟離子之量,通常至少約500ppm,例如,約500至約2000ppm,例如,約1000至約1600ppm,例如,約1450ppm。氟化物之適當含量係依特別之施用而定。於一般消費者使用之牙膏時,典型地具有約1000至約1500ppm,而兒童用牙膏具有稍微少些。專業應用之潔牙劑或塗層可具有多達約5,000或甚至約25,000ppm氟化物。氟離子來源可加至本發明之組成物中,於一個具體例中以約0.01重量%至約10重量%或約0.03重量%至約5重量%,且於另一個具體例中約0.1重量%至約1重量%以該組成物之重量計。用於提供適當氟離子含量之氟化物鹽的重量明顯地係根據該鹽中之相對離子的重量而變化。
於多種具體例中,該胺基酸係以該總組成物重量之約0.5重量%至約20重量%,該總組成物重量之約0.5重量%至約10重量%之量存在,例如於潔牙劑之情況中,該總組成物重量之約1.5重量%,約3.75重量%,約5重量%,約7.5重量%,或例如約0.5-2重量%,例如於漱口水之情況中約1%。
研磨劑:本發明之組成物,例如組成物1以及下列者可包含矽石研磨劑,且可包含另外的研磨劑,例如,磷酸鈣研磨劑,例如,磷酸三鈣(Ca3
(PO4
)2
)、羥基磷灰石(Ca10
(PO4
)6
(OH)2
),或磷酸二鈣二水合物(CaHPO4
‧2H2
O,於本文中有時亦稱為DiCal)或焦磷
酸鈣;碳酸鈣研磨劑;或研磨劑如偏磷酸鈉、偏磷酸鉀、矽酸鋁、煅燒礬土、膨潤土或其他矽質材料,或其組合物。
有用於本文中之其他矽石研磨劑擦亮材料,以及其他研磨劑,通常具有平均粒子大小範圍於約0.1及約30微米間,於約5及約15微米之間。該矽石研磨劑可來自於沉澱矽石或矽膠,如說明於頒給帕德等人之美國專利案號3,538,230及頒給迪吉里歐之美國專利案號3,862,307中之矽石乾凝膠。特別之矽石乾凝膠係以商品名稱塞洛德(Syloid)®並由W.R.葛蕾絲公司大維森化學部門(W.R.Grace & Co.,Davison Chemical Division)銷售。該沉澱矽石材料係包含那些由J.M.胡柏公司以商品名稱矽歐頓(Zeodent)®銷售者,其包含帶有命名矽歐頓115及119之矽石。此等矽石研磨劑係說明於美國專利案號4,340,583頒給華生中。於特定具體例中,於實行根據本發明口腔保健組成物之有用的研磨材料包含矽膠及沉澱的無定形矽石,其具有油吸收值低於約100立方厘米/100克矽石且於範圍約45立方厘米/100克至約70立方厘米/100克矽石中。油吸收值係使用ASTA擦去法D281測定。於特定具體例中,該矽石為具有平均粒子大小約3微米至約12微米,及約5至約10微米之膠體粒子。於本發明實行中特別有用之低油吸收矽石研磨劑係以商業命名塞洛頓(Sylodent)XWA®並由W.R.葛蕾絲公司之大維森化學部門及巴蒂摩公司Md.21203(Davison Chemical Division of W.R.Grace & Co.,Baltimore,Md.21203)銷售。塞洛頓650 XWA®為矽石水凝膠,其係由具有含水量29%以重量計,直徑平均約7至約10微米,且矽石之油吸收低於約70立方厘米/100克之膠態矽石粒子所組成,其係於本發明實行中有用之低油吸收矽石研磨劑的實例。
起泡劑
:本發明之口腔保健組成物亦可包含用於增加當口腔刷牙時產生泡沫量之試劑。增加泡沫量之試劑的闡明性實例包含,但非侷限於聚氧化乙烯及特定聚合物包含,但非侷限於,海藻酸酯聚合物。該聚氧化乙烯可增加由本發明之口腔保健載劑成份所產生之泡沫的量及泡沫的厚度。聚氧化乙烯亦俗稱為聚乙二醇("PEG")或聚乙烯氧化物。適合於本發明之聚氧化乙烯係具有分子量約200,000至約7,000,000。於一個具體例中,該分子量為約600,000至約2,000,000且於另一個具體例中約800,000至約1,000,000。保粒歐(Polyox)®為為聯合碳化物公司(Union Carbide)所生產之高分子量聚氧化乙烯的商品名稱。該聚氧化乙烯可按本發明之口腔保健組成物之口腔保健載劑成份之重量,以約1%至約90%之量存在,於一個具體例中,約5%至約50%且於另一個具體例中約10%至約20%。當存在時,該起泡劑之量於該口腔保健組成物中(亦即,單劑量)為約0.01至約0.9%以重量計,約0.05至約0.5%以重量計,且於另一個具體例中約0.1至約0.2%以重量計。
表面活化劑
:於本發明中有用之組成物可含有陰離子表面活化劑,例如:
i.高級脂肪酸單甘油酯單硫酸酯之水溶性鹽,如氫化椰子油脂肪酸之單硫酸化單甘油酯之鈉鹽,如N-甲基N-椰油醯牛磺酸鈉、椰油基單甘油酯硫酸鈉,ii.高級烷基硫酸鹽,如月桂基硫酸鈉,iii.高級烷基-醚硫酸鹽,例如,具式CH3
(CH2
)m
CH2
(OCH2
CH2
)n
OSO3
X,其中m為6-16,例如10,n為1-6,例如2、3或4,且X為Na或K,例如月桂基-2
硫酸鈉(CH3
(CH2
)10
CH2
(OCH2
CH2
)2OSO3
Na)。
iv.高級烷基芳基磺酸鹽,如十二烷基苯磺酸鈉(月桂基苯磺酸鈉),v.高級烷基磺基醋酸鹽,如月桂基磺基醋酸鈉(十二基磺基醋酸鈉)、1,2二羥基丙烷磺酸酯之高級脂肪酸酯、磺基椰基月桂酸鹽(sulfocolaurate)(N-2-月桂酸乙酯磺基乙醯胺鉀)及月桂基肌氨酸鈉。
“高級烷基”意指,例如,C6-30
烷基。於特別具體例中,該陰離子表面活化劑係選自於月桂基硫酸鈉及月桂基硫酸醚鈉。該陰離子表面活化劑可以有效之量存在,例如,該調配物之>0.01重量%,但並非以會刺激口腔組織之濃度,例如,<10%,且最理想之濃度係依特別調配物及特別表面活化劑而定。例如,所使用之濃度或漱口水典型地為使用於牙膏時之十分之一不等。於一個具體例中,該陰離子表面活化劑係以由約0.3%至約4.5%以重量計存在於牙膏中,例如約1.5%。本發明之組成物可任意含有表面活化劑之混合物,例如,其包含陰離子表面活化劑及其他表面活化劑,其可為陰離子性、陽離子性、兩性離子或非離子性者。通常,表面活化劑為那些合理地遍及於廣大pH範圍內穩定者。表面活化劑更完整說明於,例如,頒給亞利可拉等之美國專利案號3,959,458;頒給海非爾之美國專利案號3,937,807;及頒給吉斯凱等之美國專利案號4,051,234中。於特定具體例中,於本文中有用之陰離子表面活化劑包含於烷基自由基中具有約10至約18個碳原子之烷基硫酸酯之水溶性鹽,及具有約10至約18個碳原子之脂肪酸之磺化單甘油酯的水溶性鹽。月桂基硫酸鈉、月桂醯肌胺酸鈉及椰油基單甘油酯磺酸鈉為
該類型陰離子表面活化劑之實例。於特別具體例中,本發明之組成物,例如,組成物1以及下列者係包含月桂基硫酸鈉。
該表面活化劑或相容表面活化劑之混合物可按該總組成物之重量,以約0.1%至約5.0%存在於本發明之組成物中,於另一個具體例中約0.3%至約3.0%且於另一個具體例中約0.5%至約2.0%。
牙垢控制劑
:於本發明之多種具體例中,該組成物包含抗結石(牙垢控制)劑。適當之抗結石劑包含但非侷限於磷酸鹽及多磷酸鹽(例如焦磷酸鹽)、聚胺基丙磺酸(AMPS)、六偏磷酸鹽、檸檬酸鋅三水合物、多胜肽、聚烯烴磺酸酯、聚烯烴磷酸酯、二磷酸鹽。本發明因此可包含磷酸鹽。於特別具體例中,此等鹽為鹼金屬磷酸鹽,亦即,鹼金屬氫氧化物或鹼土金屬氫氧化物之鹽,例如,鈉、鉀或鈣鹽。如本文中所用之“磷酸鹽”係包含口腔可接受之單-及多磷酸鹽,例如,P1-6
磷酸鹽,例如單體磷酸鹽如一元、二元或三元磷酸鹽;二聚體磷酸鹽如焦磷酸鹽;及多聚體磷酸鹽,例如,六偏磷酸鈉。於特別實例中,所選擇之磷酸鹽係選自於鹼金屬二元磷酸鹽及鹼金屬焦磷酸鹽,例如,選自於磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二鈣二水合物、焦磷酸鈣、焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、三聚磷酸鈉,及此等之任何二種或多種之混合物。於特別具體例中,例如該組成物包含焦磷酸四鈉(Na4
P2
O7
)、焦磷酸鈣(Ca2
P2
O7
),與磷酸氫二鈉(Na2
HPO4
)之混合物,例如,以磷酸氫二鈉之大約3-4%及各個焦磷酸鹽之大約0.2-1%之量。於另一個具體例中,該組成物包含焦磷酸四鈉(TSPP)與三聚磷酸鈉(STPP)(Na5
P3
O10
)之混合物,例如,以TSPP於約1-2%且STPP於約7%至約10%之比例。此等磷酸鹽係以
有效於減少琺瑯質侵蝕,有助於清潔牙齒,及/或減少牙垢於牙齒上積聚之量,例如按該組成物之重量,以2-20%之量,例如,大約5-15%提供。
調味劑
:本發明之口腔保健組成物亦可包含調味劑。可使用於本發明實行中之調味劑包含,但非侷限於,精油以及多種調味醛、酯、醇,及類似之物質。該精油之實例包含綠薄荷、薄荷、鹿蹄草、黃樟、丁香、鼠尾草、桉樹、馬鬱蘭、肉桂、檸檬、萊姆、葡萄柚,及柳橙之油。亦有用者為此等化學品如薄荷腦、香芹酮,及茴香腦。特定具體例係採用薄荷及綠薄荷之油。該調味劑可以約0.1至約5重量%,例如約0.5至約1.5重量%之濃度合併於該口腔用組成物中。
聚合物
:本發明之口腔保健組成物亦可包含附加之聚合物用來調節該調配物之黏度或提高其他組成份之溶解度。此等附加之聚合物包含聚乙二醇、多糖(例如,纖維素衍生物,例如羧基甲基纖維素,或多糖膠,例如黃原膠或角叉菜膠)。酸性聚合物,例如聚丙烯酸酯凝膠可以其等之游離酸之形式或部份或完全中和之水溶性鹼金屬(例如,鉀及鈉)或銨鹽提供。
矽石增稠劑,其於水介質中形成聚合結構或凝膠者可以存在。注意的是,此等物理上及功能上不同於顆粒矽石研磨劑之矽石增稠劑亦存在於該組成物中,係為極細碎且提供微量或無研磨劑作用之矽石增稠劑。其他增稠劑為羧基乙烯基聚合物、角叉菜、羥基乙基纖維素及纖維素醚之水溶性鹽,如羧基甲基纖維素鈉及羧基甲基羥基乙基纖維素鈉。天然樹膠如刺梧桐、阿拉伯膠,及黃蓍膠亦可併入。膠態矽酸鋁鎂亦可用作為該增稠組成物之成份,用來
進一步改良該組成物之質地。於特定具體例中,增稠劑係以該總組成物之約0.5%至約5.0%以重量計之量使用。
本發明之組成物可包含陰離子聚合物,例如以由約0.05至約5%之量。此等試劑係已知一般使用於潔牙劑中,雖然並非用於此特別之應用上,於本發明中有用者係揭示於美國專利案號5,188,821及5,192,531中;且包含合成陰離子聚合聚羧酸酯,如順式丁烯二酸酐或酸與另一個聚合乙烯不飽和單體之1:4至4:1共聚物,較佳為甲基乙烯基醚/順式丁烯二酸酐具有分子量(M.W.)約30,000至約1,000,000,最佳為約300,000至約800,000者。此等共聚物可例如以甘特滋(Gantrez)取得,例如,AN 139(M.W.500,000)、AN 119(M.W.250,000)且較佳為S-97醫藥等級(M.W.700,000)可得自於ISP技術公司(SP Technologies,Inc.),Bound Brook,N.J.08805。當增強劑存在時,其係以由約0.05至約3重量%範圍之量存在。其他有效的聚合物包含那些如順式丁烯二酸酐與丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸羥基乙基酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮,或乙烯之1:1共聚物,後者可得自於例如以孟山都EMA 1103號,M.W.10,000及EMA等級61,及丙烯酸與甲基或甲基丙烯酸羥基乙基酯、甲基或乙基丙烯酸酯、異丁基乙烯基醚或N-乙烯基-2-吡咯烷酮之1:1共聚物。一般適當者為含有活化之碳對碳烯雙鍵及至少一個羧基之聚合化烯屬或乙烯不飽和羧酸,亦即,含有烯雙鍵的酸,因為其以相對於羧基之α-β位或作為終端亞甲基基團之一部分存在於單體分子中而易作用於聚合作用中。此等酸之闡明例為丙烯酸、甲基丙烯酸、乙基丙烯酸、α-氯丙烯酸、巴豆酸、β-丙烯醯氧基丙酸、山梨酸、α-氯山梨酸、肉桂酸、β-苯乙烯基丙烯酸、己二烯二酸、衣康酸、檸康酸(citraconic)、中康酸
(mesaconic)、戊烯二酸、烏頭酸、α-苯基丙烯酸、2-苄基丙烯酸、2-環己基丙烯酸、當歸酸、繖形酸(umbellic)、反式丁烯二酸、順式丁烯二酸及酐。其他可與此等羧酸單體共聚合之不同烯屬單體共包含乙烯基醋酸酯、氯乙烯、順式丁烯二酸二甲基酯及類似物。共聚物含有足夠之羧酸鹽群組用於水溶解度。另一類聚合劑係包含含有經取代之丙烯醯胺的均聚物及/或不飽和磺酸之均聚物及其鹽之組成物,特別是其中根據不飽和磺酸之聚合物,此不飽和磺酸係選自於丙烯醯胺烷烴(acrylamidoalykane)磺酸,例如具有分子量約1,000至約2,000,000之2-丙烯醯胺2甲基丙烷磺酸,其說明於1989年6月27日頒給薩伊德之美國專利案號4,842,847中。另一個有用的聚合劑種類包含含有部份陰離子表面活性胺基酸,如天門冬胺酸、麩胺酸及磷絲胺酸(phosphoserine)之聚胺基酸,例如,揭示於美國專利案號4,866,161席克斯等中者。
水
:該口腔用組成物可包含顯著含量的水。使用於商業口腔用組成物製劑中之水應為去離子且不含有機雜質。該組成物中之水量係包含所添加之自由水分加上其他材料所導入之量。
濕潤
劑:於該口腔用組成物之特定具體例內,亦想要併入濕潤劑以防止該組成物曝露於空氣中時變硬。特定濕潤劑亦可賦予想要之甘味或香味至潔牙劑組成物。適當之濕潤劑包含可食多元醇如丙三醇、山梨糖醇、木糖醇、丙二醇以及其他多元醇及此等濕潤劑之混合物。於本發明之一個具體例中,主要的濕潤劑為丙三醇,其可以大於25%之含量存在,例如25-35%、約30%,含5%或更少之其他濕潤劑。
其他任意之組成份
:除了上述之成份,本發明之具體
例可含有多種任意之潔牙劑組成份,其中一些說明於下。任意之組成份包含,例如,但非侷限於,膠黏劑、起泡劑(sudsing agents)、調味劑、甜化劑、附加之抗牙菌斑劑、研磨劑,及著色劑。此等與其他任意之成份進一步說明於頒給馬杰第之美國專利案號5,004,597;頒給亞利可拉等之美國專利案號3,959,458及頒給海非爾之美國專利案號3,937,807中,其全部合併於本文中參考。
除非另有說明,於本說明書中所給定之組成物成份之所有的百分比係以重量計,以總組成物或調配物之100%重量計。
除非另有特定確認,使用於本發明之組成物及調配物中之組成份宜為化妝品可接受之組成份。“化妝品可接受”係指適用於局部施用至人類皮膚之調配物中。化妝品可接受之賦形劑,例如,為適合以本發明之調配物中所預計之量與濃度於外部施用之賦形劑,且包含例如由美國食品及藥物管理局“一般認為安全”(GRAS)之賦形劑。
如本文中所提供之組成物及調配物,係參照其等之組成份,如於此方面技術中常用者來說明且請求。如對精於此方面技術之人士所顯而易見者,該組成份可於某些情況中與另一個進行反應,使得最終調配物之真正組成物可能不完全對應於所列舉之組成份。因此,應瞭解本發明係延伸到所列舉組成份之組合物的產物。
如全文中所使用者,範圍係以簡略方式使用來說明該範圍內之各個及每一個數值。於該範圍內之任何數值可選擇作為該範圍之界線。此外,於本文中所引證之所有的參考,其等之全部內容係合併於本文中參考。萬一於本發明揭示內容中之定義與所引證之參考者發生衝突,則對照本發明之揭示內容。
除非另有指明,於本文中及於本說明書中任何地方所表達之所有的百分比及量應瞭解係指重量百分比。所給定之量係以該物質之活性重量計。
樣品1,ZnO-TMG之製備如下。於室溫,將50毫升去離子水緩緩添加到含有4.0712克(0.05003莫耳)氧化鋅粉末,及5.8595克(0.05002莫耳)TMG以其之游離形式(CAS# 107-43-7)之燒瓶。將該混合物攪拌過夜達約20小時。將未反應之氧化鋅藉離心分離接著經由0.45微米膜過濾予以去除。該最終產物為透明溶液。
樣品2,ZnO-TMG-HCl之製備如下。於室溫,將50毫升去離子水緩緩添加到含有4.0712克(0.05003莫耳)氧化鋅粉末,及7.6832克(0.05002莫耳)TMG-HCl(CAS# 590-46-5)之燒瓶。將該混合
物攪拌過夜達約20小時。將未反應之氧化鋅藉離心分離接著經由0.45微米膜過濾予以去除。該最終產物為透明溶液。
樣品3,ZnO-TMG-HCl之製備如下。1M TMG-HCl溶液係藉由溶解7.68克(0.0500莫耳)TMG-HCl(CAS# 590-46-5)於50毫升去離子水中而製備。於室溫,將4.07克(0.0500莫耳)氧化鋅粉末緩緩添加到該TMG-HCl溶液。將該混合物攪拌過夜達約20小時。將未反應之氧化鋅藉離心分離接著經由0.45微米膜過濾予以去除。該最終產物為透明溶液。
將各個樣品進行評估其於稀釋時形成沉澱或膠凝作用之能力與速率。於此分析時,製備具有多種稀釋比率之樣品(例如,2x到32x)且保持於37℃。將該樣品定期監測且記錄其等產生沉澱/膠凝作用之效率。
稀釋實驗指出,ZnO-TMG-HCl(樣品2及3)產生沉澱/膠凝作用,且因此較佳用於沉積固體粒子於牙本質表面上。膠凝/沉澱作用之速率係依稀釋比而定,其關係到水與儲液以想要之比例混合當時之起始鋅濃度。
第一稀釋實驗係使用ZnO-TMG-HCl樣品2進行。稀釋係藉該儲液與水以不同之比率按體積混合而製備,產生具有2x(1:1儲液與水)、4x、8x、16x與32x倍稀釋之樣品。將該稀釋之樣品保持於37℃,且將發生膠凝/沉澱作用時之速率予以監測。混合一小時後,於具有2x、4x與8x倍稀釋之系統中可目視觀察到沉澱作用。
第二稀釋實驗係使用ZnO-TMG-HCl樣品3進行。稀釋再次藉由該儲液與水以不同之比率按體積混合而製備,產生具有2x(1:1儲液與水)、4x、8x、16x與32x倍稀釋之樣品。將該稀釋之樣品保持於37℃,且將發生膠凝/沉澱作用時之速率予以監測。混合24小時後,於具有2x、4x與8x倍稀釋之系統中可目視觀察到沉澱作用。該稀釋系統之pH值係於24小時處理期結束時測量,且於具有2x、4x、8x、16x及32x倍稀釋之系統,其等分別為5.57、5.69、5.89、6.06、6.28。此等pH值恰當係在適合口腔保健應用之5.5至10範圍內。
第三稀釋實驗係使用ZnO-TMG樣品1進行。稀釋再次藉由該儲液與水以不同之比率按體積混合而製備,產生具有2x(1:1儲液與水)、4x、8x、16x與32x倍稀釋之樣品。將該稀釋之樣品保持於37℃,且將發生膠凝/沉澱作用時之速率予以監測。混合1小時後,沒有任何樣品可目視觀察到沉澱作用。
產生膠凝/沉澱作用之製劑可用於沉積活性劑於口腔表面上,包含牙齒及黏膜表面。關於這一點,可使用稀釋由2x到8x
倍。於以不同濃度製備該儲液之情況中,可使用產生相同有效鋅填料之稀釋。於實際之調配物中,當然,鋅於該調配物中之濃度會比相對於水之稀釋濃度低,因為該總調配物係包含除了水以外之成分。於該濃度譜之低與高兩端之製劑,往往需要較長的處理時間,且於產生沉澱/膠凝作用上不是其中最可靠者。
不產生肉眼可辨之膠凝/沉澱作用之製劑亦可用於沉積活性劑於口腔表面上。未能產生明顯的膠凝/沉澱作用,可能係由於不利的稀釋比率或處理期間不足。然而,該製劑仍能夠產生粒子,如膠體粒子。雖然此等粒子於處理期間內不形成沉澱物,其等可於口腔表面上形成表面沉積物。關於這一點,稀釋比率及/或處理期間之操作範圍比由上述稀釋實驗中所直接推斷者更加寬廣。
於一些具體例中,於稀釋時所形成之沉澱物或粒子係包含一種或多種類型之鋅鹽,以及TMG。於一些具體例中,該鋅鹽主要不含氧化鋅,且係以可至少部份溶解於口腔中之形式。於一些具體例中,該鋅鹽之一種類型為氫氧化鋅。於一些具體例中,TMG亦以沉澱物或粒子存在,作為其必要成份,或作為雜質。
與可由ZnO單獨輸送者相較,ZnO-TMG-HCl提供相對高含量之溶解鋅,而且於稀釋時提供局部及豐富的輸送至牙齒表面(如牙本質與琺瑯質表面)。所輸送之材料係以固體塗層之形式存在。該塗層改良牙齒表面之美白度。該塗層可阻斷牙本質小管而提供緩解敏感性。該塗層可中和酸而提供抗侵蝕效益。該塗層可於唾液中及/或於酸挑戰時分解,且於持久期間內釋放鋅離子與TMG,提供與鋅及TMG.相關之所有的效益。
包含ZnO-TMG HCl、1450ppm氟化物,及磷酸鹽之試驗潔牙劑係製備如下:
穩定之潄口水調配物係提供如下:
樣品4,ZnO-TMG-HCl之製備如下。將15.3604克(0.1000莫耳)TMG-HCl(CAS# 590-46-5)於攪拌下溶解於100毫升去離子水中。於室溫,將8.1370克(0.09999莫耳)氧化鋅粉末緩緩添加到TMG-HCl溶液。將該混合物攪拌過夜達約16小時。將未反應之氧化鋅藉離心分離接著經由0.45微米膜過濾予以去除。該最終產物為透明溶液。
樣品4之稀釋實驗係用來評估其於稀釋時於短期間內形成沉澱及/或膠凝作用之能力。
於稀釋之前,將樣品4之儲液與去離子水預熱至37℃。稀釋係藉該儲液與水以不同之比率按體積混合而製備,產生具有1.5x(1毫升儲液與0.5毫升水)、2x(1毫升儲液與1毫升水)、4x(1毫升儲液與3毫升水)、8x(1毫升儲液與7毫升水)、16x(0.5毫升儲液與7.5毫升水)及32x(0.5毫升儲液與15.5毫升水)倍稀釋之樣品。於起始混合時,將該樣品於周遭環境下(空氣溫度於約24℃),以手搖動以保持有效的混合。將發生膠凝/沉澱作用時之速率予以監測。
所發現的是,該稀釋以不同之速率發生沉澱及/膠凝作用。於1.5x倍稀釋時,由起始混合約20秒內肉眼可辨產生膠凝作用。於2x倍稀釋時,於約5秒內產生膠凝作用。於4x與8x倍稀釋時,於肉眼可辨之膠凝作用前需要約10秒。以16x倍之稀釋需要約1分鐘。於32x倍稀釋時,由起始混合多至2分鐘,不產生肉眼可辨之膠凝作用。
亦發現的是,類似之速率可於低於37℃之溫度取得,其係一般使用者於使用起始階段時之情形。為此,於1.5x與2x倍稀釋時,可將樣品4儲液(預熱至37℃)與水(於周遭溫度,約24℃)以如上所列舉之體積混合而製備。該稀釋之溫度為低於37℃。該稀釋分
別於相同之20秒及5秒時間框架內產生膠凝作用。
由此等短處理所產生之膠凝作用亦可附著於牙齒與黏膜表面,輸送含鋅化合物及TMG至目標表面上。所有參照上面提及之ZnO-TMG-HCl樣品(樣品2及3)所討論之效益可應用。
該短時間處理為唯一合適之口腔保健施用者,特別當經由牙膏及潄口劑輸送時。一般使用者刷牙或沖洗少於2分鐘。與當需要長時間處理期之情況相較,使用者遵照攝取法時將大大地改善。
其他ZnO-TMG-HCl樣品,亦即,樣品2及3亦被期望具有短處理期間之功效。
雖然本發明業已針對包含實行本發明目前最佳模式之特定具體例予以說明,精於此方面技術之人士應可領會上述系統及技術係有許多變化例及變更。應可理解,在不背離本發明之範圍下可利用其他具體例且逕行結構及功能之修改。因此,本發明之範圍應廣義解釋如後附申請專利範圍所闡述者。
Claims (17)
- 一種口腔保健組成物,其包含氧化鋅與三甲基甘胺酸(TMG)呈口腔可接受鹽形式之混合物,其中TMG係以氫氯化物鹽之形式提供,且氧化鋅與TMG形成可溶複合物,其選自於鋅-TMG-鹵化物複合物、鋅-鹵化物複合物,及其混合物。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該鹵化物係選自於氯化物、溴化物及氟化物。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其中該鹵化物為氯化物。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其中該TMG係以氫氯化物鹽之形式提供。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其中鋅之量為0.05-4重量%。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其中該氧化鋅係溶解於調配物中,但於使用及用唾液稀釋及/或沖洗時提供鋅沉澱物。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其中該氧化鋅與TMG之混合物係於合併於該口腔保健組成物中之前製備。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其係以牙膏、凝膠、漱口水、粉末、乳液、細條、或膠之形式。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其進一步包含有效量之氟離子來源。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其包含口腔可接受之基質,其含有選自於下列之組成份:研磨劑、緩衝劑、濕潤劑、表面活化劑、增稠劑、膠條或碎片、口氣清新劑、香料、香劑、著色劑、抗細菌劑、美白劑、干擾或防止細菌附著之試劑、鈣來源、磷酸 鹽來源、口腔可接受鉀鹽、陰離子聚合物,及其二種或多種之組合。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其中該混合物之pH為由pH 5至pH 8。
- 如申請專利範圍第1或2項之組成物,其係用於減少及抑制琺瑯質之酸侵蝕、清潔牙齒、美白牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、減少牙齦炎、抑制蛀牙與蛀洞形成,及/或減輕牙本質敏感症。
- 一種離子複合物,其包含氧化鋅、TMG及陰離子物質。
- 一種氧化鋅與TMG呈口腔可接受之鹽形式一起用於製造口腔保健產品之用途。
- 一種如申請專利範圍第1至12項中任一項的組成物之用途,其用於製造供治療或減少牙齒琺瑯質侵蝕、清潔牙齒、減少由細菌所產生之生物膜與牙菌斑、減少牙齦炎、抑制蛀牙及蛀洞形成、減少口臭,及/或減少牙本質牙本質敏感症之口腔保健產品。
- 一種氧化鋅-三甲基甘胺酸複合物。
- 如申請專利範圍第1項之口腔保健組成物,其中TMG係以口腔可接受鹽形式之TMG氫氯化物鹽之形式提供、或藉由提供呈分開實體之TMG與鹵酸於原地(in situ)以莫耳比1:5至5:1間所形成。
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