TWI555534B - 含四鹼基鋅-胺基酸-鹵化物複合物之口腔保健產品 - Google Patents
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Description
本文係描述包括四鹼基鋅鹵化物和胺基酸之口腔保健組成物;以及製造和使用彼等之方法。
重金屬離子例如鋅對於酸侵襲具有阻抗性。在電位序次上鋅排在氫之上,所以當鋅進入溶液,金屬鋅在酸性溶液中將會與游離的氫氣反應,形成二-陽離子Zn2+。在牙菌斑和齲齒研究中鋅已顯示具有抗細菌性質。
可溶性鋅鹽例如檸檬酸鋅,已用於潔牙劑組成物中,參見,例如美國專利第6,121,315號,但有數個缺點。在溶液中鋅離子給予一種不愉悅、澀的口感,所以提供有效量以及具有可接受感官感知性質的鋅之組成物,難以達成。最後,鋅離子會與陰離子界面活性劑例如月桂基硫酸鈉反應,因而妨礙起泡性和清潔性。
四鹼基氯化鋅(TBZC)為一具有化學式Zn5(OH)8Cl2.H2O之氫氧化鋅化合物。其亦稱為氯化氫氧化鋅單水合物(zinc chloride hydroxide monohydrate)、鹼性氯化鋅(basic zinc chloride)、氯氫氧化鋅(zinc hydroxychloride)或氯氧化鋅(zinc oxychloride)。其天然生成為礦物氯水鋅礦。不同於氯化鋅,TBZC不溶於水。已建議TBZC用於口腔保健組成物中,參見,例如GB2243775A,但由於TBZC的不溶解性,此等調配物無法有效地將鋅遞送至牙齒。
在先前技術中揭示各種口腔組成物供治療牙本質敏感、齲齒和琺瑯質蛀蝕以及去礦化之用途的同時,對於提供改善性能之此等治療的另外組成物和方法仍有需求。
當TBZC在先前技術調配物中實質上為不可溶的時,目前已發現四鹼基氯化鋅可與胺基酸形成可溶性複合物。當置於調配物中,此複合物提供琺瑯質一有效的鋅濃度,藉此保護免於蛀蝕、降低細菌定植和生物膜產生,並增進牙齒閃亮。再者,因使用,此調配物提供可阻塞牙本質小管之沉澱物,藉此降低牙齒敏感性。就TBZC之拙劣的溶解度而言,此項為意料之外的。相較於含不溶性TBZC之習用調配物,在提供有效遞送鋅之同時,此等包括TBZC-胺基酸複合物之調配物不具有與使用可溶性鋅鹽之習用鋅-基底的口腔保健產品有關之拙劣的味道和口感、拙劣的氟化物遞送和拙劣的起泡性和清潔性。
本發明因此係提供包括TBZC與胺基酸組合之口腔保健組成物,例如漱口水、口腔凝膠或潔牙劑組成物。在一實施例中,此組成物進一步係包括胺基酸,例如鹼性胺基酸。此等組成物可視需要進一步包括氟化物來源或另外的磷酸來源。此等組成物可調配於適合的口腔保健調配物,例如習用的潔牙劑、口腔凝膠或漱口水基底中,例如係包括一或多種研磨劑、界面活性劑、起泡劑、維生素、聚合物、酵素、保濕劑、增稠劑、抗微生物劑、防腐劑、調味劑及/或色素。
本發明進一步係提供使用本發明組成物用以降低和抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞以及降低牙本質過敏之方法,其包括將本發明之組成物施用於牙齒。
由下文所提供的詳細說明,本發明進一步的適用領域將變得顯而易見。應了解,詳細說明和特定實例,當指出本發明之較佳實施例時,係希望僅供說明之目的而不希望限制本發明之範圍。
下列較佳實施例之說明本質上僅為示例性而不希望在任何方面限制本發明、其應用或用途。
本發明因此在第一實施例中係提供一包括四鹼基氯化鋅(TBZC)與胺基酸複合之口腔凝膠組成物(組成物1);例如
1.1. 組成物1,其中胺基酸係選自游離或口腔可接受酸加成鹽形式,例如鹽酸鹽形式之離胺酸、甘胺酸和精胺酸。
1.2. 組成物1或1.1,其中該胺基酸為鹼性胺基酸,例如游離或口腔可接受鹽形式之精胺酸或離胺酸。
1.3. 任何前述之組成物,其中該TBZC-胺基酸複合物,整體或部分係於施用組成物後於原位形成。
1.4. 任何前述之組成物,其中該TBZC-胺基酸複合物,整體或部分係於組成物調配後於原位形成。
1.5. 任何前述之組成物,其中該胺基酸為離胺酸。
1.6. 任何前述之組成物,其中該鋅胺基酸鹵化物及/或鋅胺基酸鹵化物前驅物係以組成物之重量計0.05至10%之量存在,視需要以組成物之重量計至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,至少1,至少2,至少3,或至少4至高10%。
1.7. 任何前述之組成物,其中TBZC係以組成物之重量計0.05至10%之量存在,視需要以組成物之重量計至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,至少1,至少2,至少3,或至少4至高10%。
1.8. 任何前述之組成物,其中胺基酸氫鹵化物係以組成物之重量計0.05至30%之量存在,視需要至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,至少1,至少2,至少3,至少4,至少5,至少10,至少15,至少20至高30%重量比。
1.9. 任何前述之組成物,其中該TBZC和胺基酸氫鹵化物的存在量係以當組合成鋅胺基酸鹵化物時,此鋅胺基酸鹵化物,以組成物的重量計,應以0.05至10%之量存在。
1.10. 任何前述之組成物,其中鋅與胺基酸之莫耳比率為2:1至1:4,視需要1:1至1:4,1:2至1:4,1:3至1:4,2:1至1:3,2:1至1:2,或2:1至1:1,或1:3。
1.11. 任何前述之組成物,其中存在組成物中之總鋅量為0.05至10%重量比。
1.12. 任何前述之組成物,其中該鹵化物係由氟、氯和碘組成之群中選出。
1.13. 任何前述之組成物,其中該鋅胺基酸鹵化物為鋅離胺酸氯化物。
1.14. 任何前述之組成物,係於無水載劑中。
1.15. 任何前述之組成物,其為包括TBZC和胺基酸氫鹵化物之無水組成物。
1.16. 任何前述之組成物,係包括一離胺酸鹽酸鹽之胺基酸氫鹵化物。
1.17. 任何前述之組成物,係包括由TBZC和胺基酸氫鹵化物所形成的鋅胺基酸鹵化物。
1.18. 任何前述之組成物,其中該鹵化物為氯化物。
1.19. 任何前述之組成物,其中該胺基酸為離胺酸。
1.20. 任何前述之組成物,其中該鋅胺基酸鹵化物為鋅離胺酸氯化物複合物(例如,(ZnLys2Cl)+Cl-或(ZnLys3)2+Cl2)或Zn精胺酸氯化物複合物。
1.21. 任何前述之組成物,係為牙膏、凝膠、漱口水、粉末、乳膏、條片或膠之形式。
1.22. 任何前述之組成物,係於口腔可接受的基底,例如漱口水、凝膠或潔牙劑基底中。
1.23. 任何前述之組成物,為一潔牙劑形式,例如其中TBZC-胺基酸複合物係以一有效量存在於潔牙劑基底中,例如0.5-4%重量比之鋅,例如約1-3%重量比之鋅。
1.24. 組成物1.1,其中該潔牙劑基底係包括一研磨劑,例如一有效量之矽氧研磨劑,例如10-30%,例如約20%。
1.25. 漱口水形式之組成物1,例如其中TBZC-胺基酸複合物係以一有效量存在,例如0.5-4%重量比之鋅,例如約1-3%重量比之鋅。
1.26. 任何前述之組成物,進一步係包括一有效量之氟化物離子來源,例如提供500至3000ppm氟化物。
1.27. 任何前述之組成物,進一步係包括一有效量之氟化物,例如其中氟化物為一選自氟化亞錫、氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟化胺(N'-十八基三伸甲基二胺-N,N,N'-叁(2-乙醇)-二氫氟化物)、氟化銨、氟化鈦、六氟硫酸鹽之鹽及其組合物。
1.28. 任何前述之組成物,係包括一有效量之一或多種鹼性磷酸鹽,例如鈉、鉀或鈣鹽,例如選自鹼性磷酸氫鹽和鹼性焦磷酸鹽,例如選自磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二鈣二水合物、焦磷酸鈣、焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、三聚磷酸鈉之鹼性磷酸鹽及任何二或多種此等之混合物,例如以組成物的重量計1-20%,例如2-8%,例如約5%之量。
1.29. 任何前述之組成物,係包括緩衝劑,例如磷酸鈉緩衝劑(例如磷酸二氫鈉和磷酸二鈉)。
1.30. 任何前述之組成物,係包括保濕劑,例如選自甘油、山梨醇、丙二醇、聚乙二醇、木糖醇及其混合物,例如包括至少20%,例如20-40%,例如25-35%甘油。
1.31. 任何前述之組成物,係包括一或多種界面活性劑,例如選自陰離子、陽離子、兩性離子和非離子及其混合物,例如係包括一陰離子界面活性劑,例如選自月桂基硫酸鈉、月桂基醚硫酸鈉及其混合物之界面活性劑,例如從約0.3%至約4.5%重量比之量,例如1-2%的月桂基硫酸鈉(SLS);及/或兩性離子界面活性劑,例如甜菜鹼界面活性劑,例如椰油醯胺丙基甜菜鹼,例如從約0.1%至約4.5%重量比之量,例如0.5-2%椰油醯胺丙基甜菜鹼。
1.32. 任何前述之組成物,進一步係包括黏度調變量之一或多種的多糖膠,例如三仙膠或鹿角菜膠、矽氧增稠劑及其組合物。
1.33. 任何前述之組成物,係包括膠條或膠片。
1.34. 任何前述之組成物,進一步係包括調味劑、香精及/或調色劑。
1.35. 任何前述之組成物,係包括一有效量之一或多種抗細菌劑,例如包括由下列選出之抗細菌劑:鹵素化二苯基醚(例如三氯沙)、香草萃取物和精油(例如迷迭香萃取物、茶萃取物、木蘭萃取物、百里醇、薄荷醇、桉油醇、香葉醇、香芹酚、檸檬醛、扁柏酚、兒茶酚、水楊酸甲酯、
表沒食子兒茶素沒食子酸酯(epigallocatechin gallate)、表沒食子兒茶素(epigallocatechin)、沒食子酸、美斯瓦克(miswak)萃取物、沙棘萃取物)、雙胍類抗菌劑(例如氯己定(chlorhexidine)、阿來西定(alexidine)或奧替尼啶(octenidine))、四級銨化合物(例如十六烷基氯化吡錠(CPC)、苯紮氯銨(benzalkonium chloride)、十四烷基氯化吡錠(TPC)、N-十四烷基-4-乙基氯化吡錠(TDEPC))、酚系殺菌劑、海克替啶(hexetidine)、奧替尼啶(octenidine)、血根鹼(sanguinarine)、聚維酮碘(povidone iodine)、地莫匹醇(delmopinol)、5-正辛醯-3'-三氟甲基苯基水楊醯胺(salifluor)、金屬離子(如鋅鹽,如檸檬酸鋅,亞錫鹽、銅鹽、鐵鹽)、血根鹼、蜂膠和氧化劑(如過氧化氫、緩衝的過氧硼酸鈉或過氧碳酸鹽)、酞酸及其鹽類、單酞酸(monoperthalicacid)及其鹽類和酯類、抗壞血酸硬脂酸酯、油醯肌胺酸、硫酸烷基酯、磺基琥珀酸二辛酯、水楊醯苯胺、溴化度米芬(domiphen bromide)、地莫匹醇、辛哌醇(octapinol)和其他哌啶基衍生物、nicin製備物、亞氯酸鹽類;以及任何前述之混合物;例如包括三氯沙或十六烷基氯化吡錠。
1.36. 任何前述之組成物,係包括抗細菌上有效量之三氯沙,例如0.1-0.5%,例如約0.3%。
1.37. 任何前述之組成物,進一步係包括,例如由下列組成之群中選出之增白劑:過氧化物、金屬亞氯酸鹽、過硼酸鹽、過碳酸鹽、過氧酸、次氯酸鹽及其組合物。
1.38. 任何前述之組成物,進一步係包括過氧化氫或過氧化氫來源,例如尿素過氧化物或過氧化物鹽或複合物(例如過氧磷酸鹽、過氧碳酸鹽、過硼酸鹽、過氧矽酸鹽或過硫酸鹽;例如過氧磷酸鈣、過硼酸鈉、過氧碳酸鈉、過氧磷酸鈉和過硫酸鉀);1.39. 任何前述之組成物,進一步係包括干擾或防止細菌黏附之試劑,例如尼泊金丙酯(solbrol)或幾丁聚醣。
1.40. 任何前述之組成物,進一步係包括選自(i)鈣-玻璃複合物,例如磷矽酸鈉鈣,及(ii)鈣-蛋白複合物,例如酪蛋白磷酸肽-非晶磷酸鈣之鈣和磷酸來源。
1.41. 任何前述之組成物,進一步係包括可溶性鈣鹽,例如選自硫酸鈣、氯化鈣、硝酸鈣、乙酸鈣、乳酸鈣及其組合物。
1.42. 任何前述之組成物,進一步係包括有效降低牙本質敏感量之生理上或口腔上可接受的鉀鹽,例如硝酸鉀或氯化鉀。
1.43. 任何前述之組成物,進一步係包括陰離子聚合物,例如合成的陰離子聚合性聚羧酸鹽,例如其中該陰離子聚合物係選自馬來酸酐或酸與另外的可聚合乙烯化不飽和單體之1:4至4:1的共聚物,例如其中該陰離子聚合物為具有約30,000至約1,000,000,例如約300,000至約800,000平均分子量(M.W.)之甲基乙烯基醚/馬來酸酐(PVM/MA)共聚物,例如其中該陰離子聚合物,以組成物重量計為約1-5%,例如約2%。
1.44. 任何前述之組成物,進一步係包括一呼吸清新劑、香精或調味劑。
1.45. 任何前述之組成物,其中組成物的pH為約中性,例如從pH 6至pH 8,例如約pH 7。
1.46. 任何前述之組成物,係用於降低和抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞以及降低牙本質過敏。
在某些實施例中,本發明係提供包括四鹼基鋅鹵化物和胺基酸之口腔保健組成物。
本發明進一步係提供降低和抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞以及降低牙本質過敏之方法,其係包括將一有效量之本發明化合物,例如任何組成物1及以下組成物施予牙齒。
本發明進一步係提供製造包括鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物,例如任何組成物1及以下組成物的方法,其包括將選自(a)四鹼基鋅氯化物和胺基酸,及/或(b)四鹼基鋅氯化物和胺基酸之鋅胺基酸鹵化物前驅物於水性基底中組合。
本發明進一步係提供製造包括鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物,例如任何組成物1及以下組成物的方法,其包括將選自(a)四鹼基
鋅氯化物和胺基酸鹵化物,及/或(b)四鹼基鋅氯化物、胺基酸和鹵酸之鋅胺基酸鹵化物前驅物於水性基底中組合。
例如,在各種實施例中,本發明係提供(i)降低牙齒過敏,(ii)降低牙菌斑堆積,(iii)降低或抑制去礦化作用並促進牙齒再礦化,(iv)抑制口腔中微生物生物膜形成,(v)降低或抑制牙齦炎,(vi)促進口中傷口或割傷之癒合,(vii)降低產酸菌的量,(viii)增加非致齲性及/或非牙菌斑形成細菌之相對量,(ix)降低或抑制齲齒形成,(x)降低、修復或抑制琺瑯質之齲前病灶,例如藉由定量光學螢光(QLF)或電子齲蝕監測器(ECM)偵測,(xi)治療、舒緩或降低口乾,(xii)清潔牙齒和口腔,(xiii)降低蛀蝕,(xiv)牙齒增白;(xv)降低酒石形成,及/或(xvi)促進全身健康,包括心血管健康,例如藉由降低經由口腔組織之全身性感染的潛在性之方法,其係包括將如上述之任何組成物1及以下的組成物施用於有此需要之個人的口腔,例如每天一或多次。本發明進一步係提供組成物1及以下的組成物供用於任何這些方法中。
本發明進一步係提供TBZC和胺基酸用於製造包括鋅胺基酸鹵合物之口腔保健組成物的用途。
本發明進一步係提供(i)由TBZC(例如選自(a)四鹼基鋅氯化物和胺基酸鹵化物,及/或(b)四鹼基鋅氯化物、胺基酸及視需要鹵酸之鋅胺基酸鹵化物前驅物)所製造的鋅胺基酸鹵化物,用於降低和抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞及/或降低牙本質過敏之用途;(ii)選自(a)四鹼基鋅氯化物和胺基酸鹵化物,及/或(b)四鹼基鋅氯化物、胺基酸和視需要鹵酸之鋅胺基酸鹵化物前驅物用於製造組成物供降低和抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞及/或降低牙本質過敏之用途。
不受限於理論,咸信鋅胺基酸鹵化物之形成係經由形成鋅鹵化物然後環繞中央鋅與胺基酸殘基配位來進行。使用TBZC與離胺酸在水中之反應為例,TBZC(Zn5(OH)8Cl2.H2O)可與離胺酸及/或離胺酸HCl形成澄清的Zn-離胺酸-氯化物複合物(ZnLys3Cl2)溶液,其中其中Zn2+係位於與分別來自二個離胺酸羧酸和胺基基團之二個氧和二個氮原子在赤道面配位的
八面體中心。鋅亦經由其氮和羧酸氧在金屬幾何形狀的頂點與第三離胺酸配位。
在另外的實施例中,鋅陽離子係與二個胺基酸殘基和二個氯化物殘基複合。例如,當此胺基酸為離胺酸時,此複合物具有化學式[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-。在此複合物中,Zn陽離子係藉由二個離胺酸配體與二個來自NH2基團的N原子和來自羧酸基團的O原子於赤道面配位。其出現了一頂端位置被Cl-原子佔據之扭曲的四方錐幾合形狀。此新穎的結構產生一正陽離子基團,一Cl-基團係與其結合而形成離子鹽。
其他TBZC和胺基酸之複合物為可能的,且精確的形式係部份依照前驅化合物之莫耳比率而定,例如若鹵化物受限,則可能形成無鹵化物之複合物,例如具有金字塔幾何形狀之ZnOLys2,其中赤道平面係與上述化合物相同(Zn係與來自不同離胺酸的二個氧和二個氮結合),其中金字塔幾何形狀之頂端係被O原子所佔據。
複合物之混合物及/或另外複雜的結構,例如包括以TBZC結構為基礎之多個鋅離子為可能的並涵蓋在本發明之範圍內。當複合物為固體形式時,其可能形成晶體,例如水合形式。
不論該(等)複合物之精確結構,然而鋅與胺基酸之相互作用在約中性pH將不溶性的TBZC轉變成高可溶性複合物。然而隨著水中稀釋度增加,複合物解離,此鋅離子轉變為不溶性氧化鋅或TBZC。此動態為意料之外的並幫助鋅沉澱物,因施用而沉積在牙齒上,此沉澱用於阻塞牙本質小管,藉此降低過敏,且亦提供鋅給琺瑯質,其降低了酸蝕、生物膜和牙菌斑形成。
應了解,在前述流程中可使用其他胺基酸取代離胺酸。亦應了解,雖然鋅、胺基酸和視需要的鹵化物可能主要為前驅物形式或複合物形式,其在某些程度上為平衡的,所以實際上為複合物之物質的比例,相較於前驅物形式的比例,依照調配物之精確的條件、物質濃度、pH、有或無水存在、有或無其他帶電分子存在等等可能不同。
活性物可以任何的口腔保健調配物形式來遞送,例如牙膏、凝膠、漱口水、粉末、乳膏、條片、膠或任何其他本項技術中已知者。
若活性物係以漱口水的形式來遞送,需要此項利益之個人係以儲存溶液和唾液之天然儲存溶液的稀釋液沖洗將會引發鋅之沉澱。另外,該個人亦可將儲存溶液與適量的水性稀釋劑(例如,就TBZC-離胺酸樣本約1份儲存溶液和8份水),並以此混合物沖洗。
在另外的實施例中,係製備此混合物並立即轉置於牙托盤,例如該等用於裝盛潔白凝膠者,該個人可戴著此托盤一段有效的時間。便可處理與此混合物接觸之牙齒。就以牙托盤來使用,此混合物可為低黏度液體或凝膠之形式。
在另外的實施例中,儲存溶液或儲存溶液與水之混合物,係以凝膠調配物施用於牙齒,例如其中該凝膠可留在牙齒上歷經一段有效處理之延長的時間。
在另外的實施例中,活性物係以牙膏來提供。因刷洗,活性物被唾液和水稀釋,導致沉澱和沉積物和阻塞粒子形成。
調配物之沉澱速率可藉由調整複合物在儲存溶液中的濃度及改變儲存液與水的比率來調節。當希望快速處理時,較稀的調配物產生較快的沉澱且因此為較佳。
本發明口腔保健組成物之利益眾多。藉由提供鋅離子和在口腔中可釋放鋅離子之含鋅化合物,本發明口腔保健組成物提供了抗微生物、抗牙菌斑、抗牙齦炎、抗臭、抗齲蝕和抗牙結石利益。阻塞粒子和表面沉積為含鋅化合物(特別是ZnO),以及可將鋅離子釋放至口腔並提供各種上述已知利益之其他鋅衍生物。另外的利益包括(但不限於)抗黏附、抗牙周炎及抗骨質流失,以及促進傷口癒合。
第二項利益為鋅離子經由氧化和水解在牙齒表面形成抗蛀蝕沉積物之抗蛀蝕性質。表面沉積物,以及阻塞粒子可與酸反應並中和酸,因此保護牙齒表面免於酸之侵蝕效應。就此,處理時引起越多表面沉積/阻塞,則處理越有效,且因此TBZC-精胺酸和TBZC-離胺酸為較佳。同時請注意,當表面沉積和阻塞粒子中和酸時,可能釋放有利的鋅離子和胺基酸(下文),提供抗-蛀蝕以外的口腔保健利益。
第三項利益為由阻塞所產生之抗過敏利益。阻塞牙本質小管使敏感緩解。
第四項利益為與胺基酸有關的利益。阻塞粒子和表面沉積含有對應的胺基酸,例如精胺酸和離胺酸。這些胺基酸提供多種利益。例如,鹼性胺基酸使牙菌斑的pH較高並可提供抗齲利益。此外,亦預期精胺酸可增進精胺酸分解細菌之活性,使牙菌斑更健康。精胺酸已知亦促進傷口癒合和膠原蛋白完整。
組成物可包括鋅胺基酸鹵化物及/或其前驅物。前驅物,其可在原位與水反應形成鋅胺基酸鹵化物,包括(i)TBZC和胺基酸氫鹵化物,或(ii)氯化鋅和胺基酸,或(iii)鋅離子來源、胺基酸及鹵酸,或(iv)(i)、(ii)及/或(iii)之組合。在一實施例中,鋅胺基酸鹵化物可於室溫藉由將前驅物於溶液,例如水中混合來製備。原位形成使調配容易。可使用前驅物取代必須先形成胺基酸鹵化物。在另外的實施例中,得以由前驅物形成鋅胺基酸鹵化物之水係來自唾液及/或施用後與組成物接觸之沖洗水。
鋅胺基酸鹵化物為水溶性複合物,其係由鋅之鹵酸加成鹽(例如氯化鋅)和胺基酸所形成,或由胺基酸之鹵酸加成鹽(例如離胺酸鹽酸鹽)和鋅離子來源,例如TBZC所形成,及/或由所有三種鹵酸、胺基酸和鋅離子來源之組合所形成。
胺基酸之實例包括(但不限於)常見天然胺基酸,例如離胺酸、精胺酸、組胺酸、甘胺酸、絲胺酸、蘇胺酸、天門冬醯胺酸、麩醯胺酸、半胱胺酸、硒半胱胺酸、脯胺酸、丙胺酸、纈胺酸、異白胺酸、白胺酸、甲硫胺酸、苯丙胺酸、酪胺酸、色胺酸、天門冬胺酸及麩胺酸。在某些實施例中,此胺基酸為天然或酸性胺基酸,例如甘胺酸。
由下列實例可看出,當複合物係由鹼性胺基酸所形成時,因以水稀釋之來自複合物的沉澱為最顯著。因此,當藉由稀釋來沉澱為所欲時,鹼性胺基酸可能較佳。在某些實施例中,因此,該胺基酸為鹼性胺基酸。「鹼性胺基酸」係指天然生成的鹼性胺基酸,例如精胺酸、離胺酸和組胺酸,以及在分子中具有羧基基團和胺基基團之任何鹼性胺基酸,其為水溶性並提供帶有約7或更高之pH的水溶液。因此,鹼性胺基酸包括(但不
限於)精胺酸、離胺酸、瓜胺酸、鳥胺酸、肌胺酸、組胺酸、二胺基丁酸、二胺基丙酸、其鹽類或其組合物。在特定的實施例中,此鹼性胺基酸為離胺酸。在其他的實施例中,此胺基酸為精胺酸。
鹵化物可為氯、溴或碘,最典型地為氯。胺基酸和鹵酸之酸加成鹽(例如HCl、HBr或HI)有時在本處係指胺基酸氫鹵化物。因此一胺酸氫鹵化物之實例為離胺酸鹽酸鹽。另一為甘胺酸鹽酸鹽。
用於與胺基酸鹵化物或胺基酸視需要加上鹵酸組合之鋅離子來源在此情況下為四鹼基氯化鋅。具有化學式Zn5(OH)8Cl2.H2O之四鹼基氯化鋅(TBZC)或氯化氫氧化鋅單水合物,亦稱為氯氫氧化鋅或氯氧化鋅。其為一無色的固體晶體,不溶於水。本發明一另人意外的優點為TBZC比氧化鋅能更有效地與胺基酸形成複合物。
在特定的實施例中,組成物中鋅胺基酸鹵化物的量,以組成物的重量計為0.05至10%。在特定實施例中,前驅物,例如TBZC和胺基酸氫鹵化物存在量,係以當組合成鋅胺基酸鹵化物時,該鋅胺基酸鹵化物應以組成物的重量計0.05至10%之量存在。在任一這些實施例中,鋅胺基酸鹵化物之量可就所欲的目的,例如潔牙或漱口水而不同。在其他的實施例中,鋅胺基酸鹵化物之量,以組成物的重量計為至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,至少1,至少2,至少3,或至少4至高30%。在其他的實施例中,鋅胺基酸鹵化物之量,以組成物的重量計係低於9,低於8,低於7,低於6,低於5,低於4,低於3,低於2,低於1,低於0.5至0.05%。在其他的實施例中,此量,以組成物的重量計為0.05至5%,0.05至4%,0.05至3%,0.05至2%,0.1至5%,0.1至4%,0.1至3%,0.1至2%,0.5至5%,0.5至4%,0.5至3%或0.5至2%。
在特定實施例中,TBZC係以組成物的重量計0.05至10%之量存在。在其他的實施例中,TBZC之量以組成物的重量計為至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,至少1,至少2,至少3,或至少4至高10%。在其他的實施例中,TBZC之量,以組成物的重量計係低於9,低於8,低於7,低於6,低於5,低於4,低於3,低於2,低於1,低於0.5至0.05%。在其他的實施例中,此量,以組成物的重量計為0.05至5%,
0.05至4%,0.05至3%,0.05至2%,0.1至5%,0.1至4%,0.1至3%,0.1至2%,0.5至5%,0.5至4%,0.5至3%或0.5至2%。
在特定實施例中,胺基酸氫鹵化物係以0.05至30%重量比之量存在。在其他實施例中,此量為至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5,至少1,至少2,至少3,至少4,至少5,至少10,至少15,至少20至高30%重量比。在其他的實施例中,此量以組成物的重量計係低於30,低於25,低於20,低於15,低於10,低於5,低於4,低於3,低於2,或低於1低至0.05%。
當前驅物質存在時,其較佳地係以大約產生所欲的鋅胺基酸鹵化物所需之莫耳比率存在,雖然在特定的調配物中過量的某種物質可能為所希望,例如平衡pH對抗其他調配物組成份,提供另外的抗細菌鋅,或提供胺基酸緩衝劑。然而,較佳地係限制鹵化物之量,因為限制鹵化物的量會些許助長鋅和胺基酸間的相互作用。
在某些實施例中,組成物中鋅的總量,以組成物的重量計為0.05至8%。在其他的實施例中,鋅之總量,以組成物的重量計為至少0.1,至少0.2,至少0.3,至少0.4,至少0.5或至少1至高8%。在其他的實施例中,組成物中鋅的總量,以組成物的重量計係低於5,低於4,低於3,低於2,或低於1至0.05%。
在特定實施例中,鋅與胺基酸之莫耳比率為至少2:1。在其他的實施例中,莫耳比率為至少1:1,至少1:2,至少1:3,至少1:4,2:1至1:4,1:1至1:4,1:2至1:4,1:3至1:4,2:1至1:3,2:1至1:2,2:1至1:1,或1:3。1:4以上,預計鋅將可完全溶解。
在特定實施例中,此組成物為無水的。無水為具有低於5%重量比的水,視需要低於4,低於3,低於2,低於1,低於0.5,低於0.1低至0%重量比的水。
當以無水組成物提供時,前驅物,例如TBZC和胺基酸氫鹵化物,明顯地將不會反應形成鋅胺基酸鹵化物。當與足量的水(其可為唾液及/或施用組成物後用於沖洗口部之水)接觸時,前驅物然後將會反應形成鋅胺基酸鹵化物,然後因進一步的稀釋,將提供牙齒含鋅的沉澱。
載劑係代表組成物中鋅胺基酸鹵化物複合物或其前驅物以外的所有其他物質。載劑的量為加上鋅胺基酸鹵化物(包括任何前驅物)重量,達到100%之量。
包括或除了鋅-胺基酸-鹵化物複合物外,本發明之組成物可包含各種對於保護和增進琺瑯質以及牙齒結構之強度和完整性及/或降低細菌和相關牙齒蛀蝕及/或牙齦疾病有效之試劑。用於文中之活性成份的有效濃度將依所用的特定試劑和遞送系統而定。請了解,例如牙膏典型地於使用時會以水稀釋,漱口水典型地則否。因此,牙膏中活性劑的有效濃度一般將比漱口水所要求高5-15x。濃度亦將依確切的鹽或所選的聚合物而定。例如,當活性劑係以鹽形式提供時,相對離子將會影響鹽的重量,所以若相對離子越重將需要更高重量比的鹽,以提供最終產物中相同的活性離子濃度。精胺酸,若存在時,可以從例如約0.1至約20重量%(以游離鹼的重量表示)之量存在,例如就消費者牙膏約1至約10重量%,或就專業或處方治療產品約7至約20重量%。氟化物,若存在時,可以例如約25至約25,000ppm之量存在,例如就消費者牙膏為750至2,000ppm,或就專業或處方治療產品為2,000至25,000ppm。抗細菌劑之量同樣地可不同,用於牙膏中的量比用於漱口水中的量多例如約5至約15倍。例如三氯沙牙膏可含有0.3%重量比的三氯沙。
口腔保健組成物可進一步包括一或多種氟化物離子來源,例如可溶性氟化物鹽類。可使用廣泛各種產生氟化物離子之物質作為本組合物中之可溶性氟化物。適合的產生氟化物離子之物質實例係參見Briner等人之美國專利第3,535,421號、Parran,Jr.等人之美國專利第4,885,155號及Widder等人之美國專利第3,678,154號。代表性的氟化物離子來源包括(但不限於)氟化亞錫、氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟化胺、氟化銨及其組合物。在特定的實施例中,氟化物離子來源包括氟化亞錫、氟化鈉、單氟磷酸鈉以及其混合物。在特定的實施例中,本發明之口腔保健組成物亦含有足以供應約25ppm至5,000ppm氟化物離子之量的氟化物離子或氟提供成份,一般至少約500ppm,例如約500至約2000ppm,例如約1000至約1600ppm,例如1450ppm。適當的氟化物之量將依
特定的施用而定。供一般消費者使用的牙膏典型地可具有約1000至約1500ppm,而兒童牙膏可具有較少一些。供專業用途之潔牙劑或塗料可具有約5,000或甚至約25,000ppm的氟化物。氟化物離子來源可以組合物之重量計約0.01%至約10%之量加至組成物中,在一實施例中約0.03至約5%,而在另外的實施例中約0.1%至約1%。提供適量氟化物離子之氟化物鹽類的重量明顯地將以鹽中相對離子的重量為基準而變。
在某些實施例中,本發明之組成物係包括一胺基酸。在特定的實施例中,胺基酸可為鹼性胺基酸。「鹼性胺基酸」係指天然生成的鹼性胺基酸,例如精胺酸、離胺酸和組胺酸,以及在分子中具有羧基基團和胺基基團之任何鹼性胺基酸,其為水溶性並提供帶有約7或更高之pH的水溶液。因此,鹼性胺基酸包括(但不限於)精胺酸、離胺酸、瓜胺酸、鳥胺酸、肌胺酸、組胺酸、二胺基丁酸、二胺基丙酸、其鹽類或其組合物。在特定的實施例中,此鹼性胺基酸係選自精胺酸、瓜胺酸和鳥胺酸。在特定的實施例中,此鹼性胺基酸為精胺酸,例如1-精胺酸或其鹽。
在各種實施例中,胺基酸係以總組成物重量之約0.5重量%至約20重量%,總組成物重量之約0.5重量%至約10重量%之量存在,例如就潔牙劑的情況約總組成物重量之1.5重量%,約3.75重量%,約5重量%或約7.5重量%,或例如就漱口水的情況約0.5-2重量%,例如約1%。
本發明之組成物,例如組成物1以及以下組成物,係包括矽氧研磨劑,並可包括另外的研磨劑,例如磷酸鈣研磨劑,例如磷酸三鈣(Ca3(PO4)2)、羥磷灰石(Ca10(PO4)6(OH)2)或磷酸氫鈣二水合物(CaHPO4.2H2O,文中有時亦稱DiCal)或焦磷酸鈣;碳酸鈣研磨劑;或例如偏磷酸鈉、偏磷酸鉀、矽酸鋁、煅燒氧化鋁、膨潤土或其他矽質物質或其組合物之研磨劑。
可用於本文之其他矽氧研磨拋光物質以及其他研磨劑,一般係具有範圍介於約0.1至約30微米,介於約5至約15微米之平均粒子大小。矽氧研磨劑可來自沉澱矽氧或矽氧凝膠,例如,Pader等人之美國專利第3,538,230號及Digiulio之美國專利第3,862,307號中所描述的矽氧乾凝膠(silica xerogel)。特定的矽氧乾凝膠有W.R.Grace & Co.,Davison Chemical
Division所販售的商品名Syloid®。沉澱矽氧物質包括J.M.Huber公司所販售的商品名Zeodent®,包括名稱Zeodent 115和119之矽氧。這些矽氧研磨劑係描述於Wason之美國專利第4,340,583號中。在特定的實施例中,可用於施行本發明之口腔保健組成物之有用的研磨物質包括具有低於約100毫升/100克矽氧及約45毫升/100克至約70毫升/100克矽氧範圍內吸油值之矽氧凝膠及沉澱非晶矽氧。吸油值係使用ASTA Rub-Out Method D281所測量。在特定的實施例中,矽氧為具有約3微米至約12微米及約5至約10微米之平均粒子大小的膠體粒子。特別可用於本發明施行中之低吸油矽氧研磨劑為Davison Chemical Division of W.R.Grace & Co.,Baltimore,Md.21203所販售的商品名Sylodent XWA®。Sylodent 650 XWA®,一種由膠狀矽氧粒子所組成的矽氧水凝膠,具有約29%重量比之水含量,平均直徑約7至約10微米,及低於約70cc/100g矽氧之吸油性,為可用於本發明施行中之低吸油矽氧研磨劑的實例。
本發明之口腔保健組成物亦可包括當刷洗口腔時增加所產生的泡沫量之試劑。增加泡沫量試劑之說明性實例包括(但不限於)聚氧乙烯及特定的聚合物,包括(但不限於)藻酸鹽聚合物。聚氧乙烯可增加泡沫的量及由口腔保健載劑組份所產生之泡沫的厚度。聚氧乙烯一般亦稱為聚乙二醇("PEG")或聚環氧乙烷。適用於本發明之聚氧乙烯係具有約200,000至約7,000,000之分子量。在一實施例中,分子量係為約600,000至約2,000,000,及在另一實施例中為約800,000至約1,000,000。Polyox®為由聯合碳化物公司(Union Carbide)所生產的高分子量聚氧乙烯之商品名稱。聚氧乙烯,以本發明口腔保健組成物之口腔保健載劑組份的重量計,可以約1%至約90%之量存在,在一實施例中為約5%至約50%,而在另一實施例中為約10%至約20%。若存在時,口腔保健組成物中起泡劑的量(亦即單一劑量)為約0.01至約0.9%重量比,約0.05至約0.5%重量比,及在另外的實施例中為約0.1至約0.2%重量比。
本發明中有用的組成物可含有陰離子界面活性劑,例如:i.高脂肪酸單甘油酯單硫酸鹽之水溶性鹽類,例如氫化椰油脂肪酸之單硫酸單甘油酯,例如N-甲基N-椰油醯基牛磺酸鈉、椰單甘油酯硫酸鈉,
ii.高烷基硫酸鹽,例如月桂基硫酸鈉,iii.高烷基-醚硫酸鹽,例如式CH3(CH2)mCH2(OCH2CH2)nOSO3X之高烷基-醚硫酸鹽,其中m為6-16例如10,n為1-6例如2、3或4,及X為Na或K,例如月桂醇聚醚-2硫酸鈉(CH3(CH2)10CH2(OCH2CH2)2OSO3Na),iv.高烷基芳基磺酸鹽,例如十二烷基苯磺酸鈉(月桂基苯磺酸鈉),v.高烷基磺基乙酸鹽,例如月桂基磺乙酸鈉(十二烷基磺乙酸鈉)、1,2二羥基丙磺酸之高脂肪酸酯、磺基月桂酸鹽(N-2-乙基月桂酸鉀磺基乙醯胺)及月桂基肌胺酸鈉。
「高烷基」係指例如C6-30烷基。在特定的實施例中,陰離子界面活性劑係選自月桂基硫酸鈉及月桂基醚硫酸鈉。陰離子界面活性劑可以調配物的重量計例如>0.01%之有效量存在,但不可為刺激口腔組織之濃度,例如<10%,且最適濃度係依照特定的調配物及特定的界面活性劑而定。例如,所用的濃度或漱口水典型地為用於牙膏的將近十分之一。在一實施例中,陰離子界面活性劑係以從約0.3至約4.5%重量比,例如約1.5%存在於牙膏中。本發明組成物可視需要含有界面活性劑之混合物,例如包含陰離子界面活性劑及其他可為陰離子、陽離子、兩性離子或非離子之界面活性劑。一般而言,界面活性劑為該等在整個廣泛pH範圍中相當穩定之界面活性劑。界面活性劑係更充分地描述於,例如Agricola等人之美國專利第3,959,458號;Haefele之美國專利第3,937,807號及Gieske等人之美國專利第4,051,234號中。在特定實施例中,可用於本文之陰離子界面活性劑包括在烷基上具有約10至約18個碳原子之烷基硫酸鹽的水溶性鹽類,及具有約10至約18個碳原子之脂肪酸的磺酸化單甘油酯之水溶性鹽類。月桂基硫酸鈉、月桂醯肌胺酸鈉及椰子單甘油酯磺酸鈉為此類陰離子界面活性劑之實例。在一特定的實施例中,本發明組成物,例如組成物1及以下組成物,係包括月桂基硫酸鈉。.
界面活性劑或相容的界面活性劑之混合物,可以總組成物的重量計約0.1%至約5.0%存在於本發明組成物中;在另一實施例中為約0.3%至約3.0%重量比,及在另一實施例中為約0.5%至約2.0%重量比。
在本發明各種實施例中,組合物係包括一抗結石(酒石控制)劑。適合的抗結石劑包括(不限於)磷酸鹽和聚磷酸鹽(例如焦磷酸鹽)、聚胺基丙磺酸(AMPS)、六偏磷酸鹽、檸檬酸鋅三水合物、多肽、聚烯烴磺酸鹽、聚烯烴磷酸鹽、二磷酸鹽。本發明因此可包括磷酸鹽類。在特定的實施例中,這些鹽類為鹼性磷酸鹽,亦即鹼金屬氫氧化物或鹼土金屬氫氧化物之鹽類,例如鈉鹽、鉀鹽或鈣鹽。「磷酸鹽」如文中所用係涵蓋口腔可接受的單-或聚磷酸鹽,例如P1-6磷酸鹽,例如單體磷酸鹽例如磷酸二氫鹽、磷酸氫鹽或磷酸鹽;二聚磷酸鹽例如焦磷酸鹽;及多聚磷酸鹽,例如六偏磷酸鈉。在特定的實例中,所選的磷酸鹽係選自鹼性磷酸氫鹽和鹼性焦磷酸鹽,例如選自磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二鈣二水合物、焦磷酸鈣、焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、三聚磷酸鈉及任何二或多種此等之混合物。在特定的實施例中,例如此組成物係包括焦磷酸四鈉(Na4P2O7)、焦磷酸鈣(Ca2P2O7)和磷酸氫二鈉(Na2HPO4)之混合物,例如約3-4%之量的磷酸氫二鈉和約0.2-1%之各焦磷酸鹽。在另外的實施例中,組成物係包括焦磷酸四鈉(TSPP)和三聚磷酸鈉(STPP)(Na5P3O10)之混合物,例如TSPP為約1-2%及STPP為約7%至約10%之比例。此等磷酸鹽係以有效降低琺瑯質蛀蝕、幫助清潔牙齒及/降低酒石累積在牙齒上之量來提供,例如以組成物之重量計2-20%,例如約5-15%之量。
本發明之口腔保健組成物亦可包括調味劑。可用於本發明施行中之調味劑包括(但不限於)精油以及各種調味醛類、酯類、醇類及類似物質。精油之實例包括綠薄荷油、椒薄荷油、冬青油、黄樟油、丁香油、鼠尾草油、尤加利油、馬鬱蘭油、肉桂油、檸檬油、萊姆油、葡萄柚油及柳橙油。亦可使用此等化合物如薄荷醇、香芹酮(carvone)及茴香腦(anethole)。特定實施例係使用椒薄荷油及綠薄荷油。調味劑係以約0.1至約5%重量比,例如約0.5至約1.5%重量比之濃度併入口腔組成物中。
本發明之口腔保健組成物亦可包括用以調整調配物黏度或增進其他成份溶解度之另外的聚合物。此等另外的聚合物包括聚乙二醇、多糖類(例如纖維素衍生物,例如羧甲基纖維素,或多糖膠,例如三仙膠或
鹿角菜膠)。酸聚合物,例如聚丙烯酸凝膠,可以其游離酸或部分或完全中和的水溶性鹼金屬(例如鉀或鈉)或銨鹽形式來提供。
在水性媒劑中形成聚合結構或凝膠之矽氧增稠劑亦可存在。請注意,這些矽氧增稠劑在物理上和功能上與同樣存在組成物中的顆粒矽氧研磨劑不同,因為矽氧增稠劑為非常細的細粉狀且提供極小或並無研磨作用。其他的增稠劑有羧乙烯基聚合物、鹿角菜膠、羥乙基纖維素及纖維素醚類之水溶性鹽類,例如羧甲基纖維素及羧甲基羥乙基纖維素鈉。亦可併入天然膠例如卡拉膠(karaya)、阿拉伯膠及黄蓍膠。膠體矽酸鎂鋁亦可用作增稠組成物之組份,進一步增進組合物之質地。在特定的實施例中,係使用以總組合物之重量計約0.5%至約5.0%之量的增稠劑。
本發明之組成物可包括,例如從約0.05至約5%之量的陰離子聚合物。此等試劑,雖然並非針對此項之特別應用,但一般已知係用於潔牙劑中,可用於本發明中者係揭示於美國專利第5,188,821號及第5,192,531號中;並包括合成的陰離子聚合性聚羧酸,例如馬來酸酐或酸與另外可聚合的乙烯化不飽和單體之1:4至4:1共聚物,較佳地具有約30,000至約1,000,000,最佳地約30,000至約800,000分子量(M.W.)之甲基乙烯醚/馬來酸酐。這些共聚物可取得的有例如來自ISP Technologies公司(Bound Brook,N.J.08805)之Gantrez如AN 139(M.W.500,000)、AN 119(M.W.250,000)及較佳地S-97醫藥等級(M.W.70,000)。當促進劑存在時,其係以範圍從約0.05至約3%重量比之量存在。其他可施用的聚合物包括該等例如馬來酸酐與丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸羥乙基酯、N-乙烯基-2-吡咯酮或乙烯(後者可取得有例如孟山都(Monsanto)EMA編號1103,M.W.10,000及EMA等級61)之1:1共聚物,以及丙烯酸與甲基丙烯酸甲酯或羥乙基酯、丙烯酸甲酯或乙酯、異丁基乙烯醚或N-乙烯基-2-吡咯酮之1:1共聚物。一般適合的為含有一活化碳-碳烯烴雙鍵和至少一羧基基團之聚合烯烴化或乙烯化不飽和羧酸,亦即含有在聚合作用中容易作用之烯烴雙鍵的酸,因為其係以相對於羧基基團之α-β位置或為末端伸甲基基團之部分存在於單體分子中。此等酸之示例有丙烯酸、甲基丙烯酸、乙基丙烯酸、α-氯丙烯酸、巴豆酸、β-丙烯醯氧基丙酸、山梨酸、α-氯山梨酸、肉桂酸、β-苯乙烯基丙烯酸、
黏康酸(muconic)、衣康酸(itaconic)、檸康酸(citraconic)、中康酸(mesaconic)、戊烯二酸、烏頭酸、α-苯基丙烯酸、2-苯甲基丙烯酸、2-環己基丙烯酸、當歸酸、傘形酸、延胡索酸、馬來酸及酸酐。可與此等羧酸單體共聚化之其他不同的烯烴單體包括乙烯基乙酸、氯化乙烯、馬來酸二甲酯及其類似物。共聚物含有可溶於水之足夠的羧酸鹽基團。
另一類的聚合劑包括含有經取代丙烯醯胺均聚物及/或不飽和磺酸及其鹽類均聚物之組成物,特別是其中聚合物係以選自丙烯醯胺基烷磺酸之不飽和磺酸為主,例如描述於Zahid之1989年6月27日美國專利第4,842,847號中,具有約1,000至約2,000,000分子量之2-丙烯醯胺2甲基丙磺酸。另外有用的聚合劑種類別包括,例如Sikes等人之美國專利第4,866,161號所揭示之含陰離子表面活化胺基酸部分,如天門冬胺酸、麩胺酸及磷絲胺酸之聚胺基酸。
口腔組成物可包括大量的水。用於製備市售口腔組成物的水應去離子化且無有機雜質。組成物中的水量係包括添加的游離水加上隨其他物質例如隨山梨醇或任何本發明組份共同導入的水量。
在特定的口腔組成物之實施例中,亦希望併入一保濕劑以防止組成物因暴露於空氣中而硬化。特定的保濕劑亦可能給予潔牙組成物所欲的甜味或風味。適合的保濕劑包括可食用之多元醇,例如甘油、山梨醇、木糖醇、丙二醇以及其他多醇類與這些保濕劑之混合物。在本發明一實施例中,主要的保濕劑為甘油,其可以大於25%,例如25-35%,約30%之量存在,帶有5%或更少的其他保濕劑。
除了上述組份,本發明之實施例可含有各種某些下述之視需要的潔牙劑成份。視需要的成份包括,例如(但不限於)黏著劑、泡沫劑、調味劑、甜味劑、另外的抗菌斑劑、研磨劑及調色劑。這些及其他視需要組份係進一步描述於Majeti之美國專利第5,004,597號;Agricola等人之美國專利第3,959,458號;Haefele之美國專利第3,937,807號中,其全部係以引用的方式併入本文中。
除非另有說明否則本說明書中所給予的所有組成物組份之百分比係以100%之總組成物或調配物重量為基準之重量比。
除非另有特別說明,否則用於本發明之組成物和調配物中的成份較佳地為美妝上可接受的成份。「美妝上可接受的」係指適合用於供局部施用於人類皮膚之調配物中。美妝上可接受的賦形劑,例如以本發明組成物中所涵蓋的量和濃度適合外部施用之賦形劑,並包括例如美國食品和藥物管理局之「一般認為是安全的」(GRAS)賦形劑。
文中所提供的組成物和調配係就其成份作描述和申請,其為本項技術中所常見的。熟習本項技術者應可明白,此等成份在某些情況下可能會彼此反應,使得最終調配物之真實組成物可能不會精確的與所列的成份相符。因此,應了解,本發明係延伸至所列成份之組合的產品。
如全文所用,範圍係用於速記供描述在此範圍內的各個和每個值。在此範圍內的任何值皆可選作此範圍的最終值。此外,所有文中所引述的參考文獻其全文係以引用的方式併入本文中。在本揭示文與所引述的參考文獻的定義有衝突時,則以本揭示文為主。
除非另有說明否則文中和說明書之他處所表示的所有百分比和量,應了解係指重量百分比。所給予的量係以物質之有效重量為基準。
將TBZC之鋅濃度與TBZC和各種胺基酸之鋅濃度作比較。將成份分散於水中,平衡1小時,並以原子吸收分析上清液之游離Zn2+。表1係顯示TBZC與混合不同胺基酸之TBZC的游離Zn濃度之比較。
表1(上表)中所描述的數據說明當加入胺基酸時,鋅地溶解度戲劇性增加。例如,當加入精胺酸時溶解度增加28倍,當離胺酸鹽酸鹽和TBZC混合時則接近100倍。
使用離胺酸、甘胺酸和精胺酸作為胺基酸,製備TBZC-胺基酸複合物之穩定溶液供進一步試驗。
A. TBZC-離胺酸:如下製備樣本A1,TBZC-離胺酸:於室溫將2.7601g(0.005mol)的TBZC粉末緩慢地加到1M的離胺酸水溶液中(0.05mol的離胺酸於50ml去離子水中)。將混合物攪拌3小時。以離心移除未反應的TBZC,接著經由0.45μm膜過濾。酸消化後以原子吸收光譜測定鋅濃度。
B. TBZC-甘胺酸:如下製備樣本B,TBZC-甘胺酸:於室溫將2.7599g(0.005mol)的TBZC粉末緩慢地加到1M的甘胺酸水溶液中(0.05mol的甘胺酸於50ml去離子水中)。將混合物攪拌3小時。以離心移除
未反應的TBZC,接著經由0.45μm膜過濾。酸消化後以原子吸收光譜測定鋅濃度。
C. TBZC-精胺酸:如下製備樣本C1,TBZC-精胺酸。於約37℃攪拌下將TBZC加到精胺酸水溶液中(0.05mol的精胺酸於50ml去離子水中)。將混合物攪拌約2小時,接著以高速離心分離未反應的TBZC。將上清液經由0.45μm膜過濾。酸消化後以原子吸收光譜測定鋅濃度。
當施予牙齒及稀釋引發沉澱時,TBZC-胺基酸顯示有效的阻塞牙本質小管。此沉積和小管阻塞應可降低敏感並提供鋅的儲池,幫助保護琺瑯質免於蛀蝕及細菌定植。
牙本質切片係藉由將整顆人類的牙齒切成大約800微米厚度之牙本質薄片,指定一試驗側,使用約600粒度的砂紙打磨該試驗側移除該試驗側之任何琺瑯質,使用Buehler拋光布及5微米Buehler氧化鋁拋光該試驗側,以1%(重量比)檸檬酸溶液酸蝕該牙本質切片約20秒,以超音波處理該牙本質切片10分鐘,並將該牙本質切片儲存於磷酸緩衝食鹽水中(PBS,pH 7.4,Gibco型號10010)。
將人類的牙本質切片之薄片於共軛焦顯微鏡上顯影作為基線特性。以XYZ模式拍攝頂視影像,以XZY模式拍攝側視影像。典型的影像係以50x接物鏡來拍攝,並具有x4數位放大。當在較低的放大倍數希望更全面的視線時,可用x1數位放大拍攝影像。
使用各自的處理溶液依照下述的程序處理人類牙本質切片之薄片。三個不同的處理程序包括,A)使用試驗溶液(TBZC-精胺酸、TBZC-甘胺酸和TBZC-離胺酸)處理1小時,B)使用替代的方法使用TBZC-離胺酸處理,及C)以較短的期間及較多次重複做處理。將經處理的薄片於共軛焦顯微鏡下檢查阻塞跡象和表面沉積。使用與前面處理相同或實質上相同的處理程序、相同TBZC-胺基酸溶液,且在大部分的案例中,為同批的處理溶液於經處理的薄片上作重複處理。在一或多次重複處理後,拍攝共軛焦影像監測額外的阻塞和沉積之進程。
A.使用TBZC-精胺酸、TBZC-離胺酸和TBZC-甘胺酸之一小時處理:將TBZC-胺基酸之儲存溶液與水混合物後,加入牙本質薄片。首先在小瓶中將TBZC-胺基酸之儲存溶液與適量之表2、3、4、5和6中所述的水混合(例如,就1:8儲存液:水比率之系統為1mL的儲存溶液與8mL的去離子水)。在數秒內,將牙本質片加到小瓶中及將小瓶加蓋並儲存於37℃下1小時進行處理。在處理的結束時,將小瓶從培
養器中移除,使用吸量管移除液體和沉澱(若有)。將牙本質片沖洗4次,每次使用1mL的PBS(pH=7.4)溶液。使用面紙將牙本質片乾燥。
含類似鋅濃度之三種不同的TBZC-胺基酸複合物系統以不同速率產生不同量的沉澱。TBZC-離胺酸在最初混合時立即或數秒內產生沉澱,並在1小時培養結束時於瓶底觀察到白色沉澱。TBZC-精胺酸在最初混合時並未產生沉澱,但在1小時培養結束時系統變成混濁且於瓶底可觀察到一些沉澱。TBZC-甘胺酸並未產生任何沉澱,且經由1小時培養溶液仍為透明和澄清的。
在1小時處理後,TBZC-精胺酸實質上完全阻塞牙本質小管並形成實質上完全覆蓋在牙本質片的表面。二批的複合物溶液(來自上文實例2之C1和C2)在效力上並未顯示定性上的差異。
共軛焦影像之評估顯示漸進的沉積和阻塞。基線影像顯示開放的小管及開口間乾淨的表面。在單次處理後,觀察到明顯的小管阻塞,以及小管開口間實質的沉積。在第二和第三次處理後,實實上所有小管開口間的表面積皆被沉積物覆蓋。側視影像顯示有一些較高單位數微米或更高厚度之沉積存在。此實驗係於二片個別的牙本質片上進行,且結果在定性上為相同的。
TBZC-離胺酸亦顯示實質上阻塞牙本質小管並形成相當大的表面沉積,特別是在每次1小時重複處理後。
共軛焦影像再次顯現進步。基線影像顯示開放的小管及開口間乾淨的表面。在一次處理後,觀察到小管開口間一些沉積,及一些小管至少部分被阻塞。二次處理後,結果與第一次處理的結果並無定性上的差異。在二片牙本質,代表雙重複實驗,二者間就第一次的二次處理在定性上並未顯現不同結果的同時,而第三次處理後二片牙本質間結果之差異則更顯著。在一片牙本質上,有實質的沉積,帶有一些阻塞。在第二片牙本質上,沉積完全覆蓋表面,以及完全阻塞。隨著重覆處理,沉積/阻塞顯著增加,其顯示牙本質片的表面受先前處理調整並在後續的處理期間能接受更多地沉積物/阻塞物。使用來自上述實例2之溶液A1和A2,觀察到類似的結果。
共軛焦影像顯示,在每次1小時的重複處理後TBZC-甘胺酸提供有限的阻塞和表面沉積。在TBZC-甘胺酸並非無效用之同時,其沉積並未如同TBZC-離胺酸或TBZC-精胺酸之沉積般大量。基線影像顯示開放的小管及開口間乾淨的表面。在一次處理後,影像顯示極少(若有)阻塞和表面沉積。二次處理後事實仍相同。三次處理後,二片牙本質顯示相同的沉積。因此,相較於TBZC-精胺酸或TBZC-離胺酸,TBZC-甘胺酸具有較有限的阻塞牙本質小管和形成表面沉積之能力,至少在所試驗的濃度時。
B.使用TBZC-離胺酸之替代處理程序:在替代的程序中,特言之就TBZC-離胺酸樣本,係將牙本質片先加到TBZC-離胺酸儲存溶液中,及隨後加入適量的水。其餘的處理程序係與內定程序相同進行一小時處理。
替代方法之採用係由觀察到沉澱係在TBZC-離胺酸儲存溶液和整個水量混合後數秒內發生所激發。在此替代的處理方法中,係讓牙本質片與TBZC-離胺酸儲存溶液接觸,之後在隨後加入水。此改變能讓牙本質片表面與初生的沉澱相互作用,可能產生更顯著的表面沉澱和阻塞。另一方面,可能因重複處理,儲存溶液可能溶解一些已存在的表面沉澱及/或阻塞粒子。
使用此替代方法處理的牙本質片之共軛焦影像顯示表面沉積和阻塞成功。在此替代處理後,可看到顯著的表面沉積和小管阻塞發生。此支持施予更濃的TBZC-胺基酸複合物,然後稀釋以引發沉澱之療法。
C.以較短的作用期重複處理(一分鐘):在此項以較短作用期重複處理中,牙本質片以每次處理一分鐘,取代一小時。此外,進行更多次的重複處理。然而,處理程序係與上述A部分所述相同。
如早先所述,沉澱係當TBZC-離胺酸與適量的水混合後立即發生。TBZC-離胺酸系統之快速反應使得短而有效的治療成為可能,其比上文所論述的內定和替代方法中涉及的1-小時處理更佳。假設,短作用期,例如每次1分鐘,結合多次重複以彌補各治療中可能流失的效力,可能提供典型的使用者更愉悅的經驗和更佳的遵從性。
使用此方法處理3次和6次之牙本質片的共軛焦影像確認此處理方法的價值。在每次僅持續1分鐘之3次處理後,觀察到明顯的表面沉澱和阻塞。6次處理後可看到類似的結果。較低解析度所拍攝的影像顯示此現象為全面性的。
因此,TBZC-離胺酸可使用短的處理作用期。若需要,在不會明顯妨礙效力下,處理作用期可進一步降至1分鐘以下。
在上述試驗以固定的濃度顯現TBZC-胺基酸效力之同時,許多其他濃度亦可作用產生沉澱及造成表面沉積。請注意,即使在無肉眼可見的沉澱形成下(由於不宜的濃度及/或短的處理作用期),表面沉積及/或小管阻塞可能由微觀粒子所造成。此作用可能必須3次以上的重覆處理,以達到大量或完全的表面覆蓋和小管阻塞。就此,可操作的活性物濃度和可操作的處理作用期,比可由上述實例和後續三個段落為基礎所推斷者,享有更廣泛的範圍。
使用樣本A1(TBZC-離胺酸),以1:1稀釋度(0.975重量%鋅)在1小時內可形成一些沉澱,而在1:2、1:3、1:4、1:5、1:6、1:7、1:8和1:9稀釋度(分別為0.65%、0.488%、0.39%、0.325%、0.278%、0.244%、0.217%、0.195%重量比的鋅)可發現大量沉澱。亦預期稀釋度較高為有用的,且在較高稀釋度中沉澱典型地發生越快。因此,1:1及上述稀釋度之TBZC-離胺酸樣本(含約0.975%及更低的鋅濃度)將產生沉澱並造成沉積。
使用樣本A2(TBZC-離胺酸),在1:6和1:7之稀釋度(0.205%和0.18%重量比的鋅)可發現沉澱,且較高的稀釋度預期同樣為有用的。因此,含0.205重量%和更低鋅濃度之TBZC-離胺酸樣本將可產生沉澱和沉積。樣本A1之差異係由於樣本變異。
使用樣本C2(TBZC-精胺酸),在稀釋度1:5、1:11、1:12、1:13和1:14(0.255%、0.128%、0.118%、0.109%和0.102%重量比的鋅)可發現沉澱。較高的稀釋度預期同樣為有用的。在較高稀釋度中沉澱典型地發生越快。因此,含0.255重量%或更低鋅濃度之TBZC-精胺酸樣本將可產生沉澱和沉積。
沉澱係含有氧化鋅和其他含鋅物類(例如氫氧化鋅),以及對應的胺基酸。若沉澱未以水沖洗則胺基酸含量特別高。
不希望受限於理論,假設牙本質表面上的沉積係由雙-組份結構所組成,如核殼形式或雙層方式。外層係有非晶鋅類所組成,其並非ZnO。外層亦含有胺基酸。外層可經由簡單的以水沖洗容易地移除。在外層下的為主要由ZnO以及胺基酸所組成之組份。
更複雜的結構將控制釋放的觀念帶到更新的層面。起初,控制釋放的觀念係因為鋅可隨時間從ZnO釋放,以及胺基酸從沉積物釋放所提出。目前,就此新的結構,其係具有一含更可溶性的鋅和胺基酸之外層及含較低溶解度之內層。
一本發明之獨特的態樣為提供控制釋放系統及於一段延長的期間內持續釋放鋅離子和胺基酸之方法。阻塞粒子和表面沉積於一段延長的期間內可釋放鋅離子和胺基酸至唾液或菌斑液中,比典型現有調配物提供更加長期的口腔保健利益。
阻塞粒子和表面沉積的結構特別適合用於控制釋放鋅離子和胺基酸。如上所述,假設這些粒子和沉積物具有由大量非-ZnO類和胺基酸組成之外層,和由大量ZnO和一些胺基酸組成之內層。外層在沖洗期間可容易地溶解,因此提供鋅來源和胺基酸之快速釋放。此項可能由於二種因素。首先,非-ZnO鋅類可能具有高於ZnO之溶解度。第二,胺基酸,例如精胺酸和離胺酸,可能增進含鋅化合物之溶解度。內層可於一段長期的時間內溶解,因此提供更持續釋放的鋅來源和胺基酸。
TBZC-胺基酸可促進生物膜聚集。聚集物不會充分黏附在牙齒表面且因此更容易移除。促進生物膜聚集因此為另外的生物上相關利益。
一包括TBZC-離胺酸、1450ppm氟化物和磷鹽酸之本發明示例的潔牙劑,係描述於下表7中。
一本發明之示例的漱口水調配物係描述於表8中(下表)。
當本發明係就相關特定的實例,包括目前進行本發明之較佳模式來描述時,熟習本項技術者應了解,上述系統和技術有許多變化和變更。應了解,可利用其他實施例且在不悖離本發明範圍內可做結構和功能修改。因此,本發明之範圍應廣泛地理解為如所附的申請專利範圍中所述。
Claims (16)
- 一種包括四鹼基鋅鹵化物和胺基酸之口腔保健組成物,其中該鹵化物係選自氯化物、溴化物和氟化物,該胺基酸係選自游離或口腔可接受酸加成鹽形式之離胺酸、甘胺酸和精胺酸,且其中該四鹼基鋅鹵化物和胺基酸係為一複合物,並以組成物之重量計0.05至10%之量存在,且其中鋅與胺基酸之莫耳比率為2:1至1:4。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該鹵化物為氯化物。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中鋅之量為0.05-4重量%。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該四鹼基鋅鹵化物係溶解在調配物中,但在使用和以唾液稀釋及/或沖洗後提供一鋅沉澱物。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,為牙膏、凝膠、漱口水、粉末、乳膏、條片或膠之形式。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,該組成物係於一選自漱口水、凝膠及潔牙劑基底所組成群組之口腔可接受的基底中。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,進一步係含有一有效量之氟化物離子來源。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,係包括一包含選自下列成份之口腔可接受的基底:一或多種研磨劑、緩衝劑、保濕劑、界面活性劑、增稠劑、膠條或膠片、口氣清新劑、調味劑、香精、調色劑、抗細菌劑、增白劑、干擾和防止細菌黏附之試劑、鈣來源、磷酸鹽來源、口腔可接受的鉀鹽、陰離子聚合物。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該組成物的pH係從pH 6至pH 8。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該鹵化物為氯化物,且該胺基酸為游離或口腔可接受鹽形式之離胺酸。
- 如申請專利範圍第10項之組成物,其中該胺基酸為游離形式之離胺酸。
- 如申請專利範圍第11項之組成物,其中該胺基酸為離胺酸鹽酸鹽。
- 如申請專利範圍第1至12項中任一項之組成物,係用於降低和抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞及/或降低牙本質過敏。
- 一種申請專利範圍第1項中所述之四鹼基鋅鹵化物與胺基酸共同用於製造口腔保健組成物之用途。
- 如申請專利範圍第14項之用途,其中該四鹼基鋅鹵化物和胺基酸係共同為一複合物。
- 如申請專利範圍第14項之用途,其中該口腔保健組成物可用於治療或降低牙齒琺瑯質蛀蝕、清潔牙齒、降低細菌產生的生物膜和牙菌斑、降低牙齦炎、抑制牙齒齲蝕和形成蛀洞及/或降低牙本質過敏。
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