KR20150092759A - 인산 아연 함유 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 인산 아연을 포함하는 구강 관리 조성물, 예를 들면, 치약이나 구강 세정제 형태의, 간헐적 사용, 예를 들어, 매일 사용하기 위한 구강 관리 조성물을 제공한다.

Description

인산 아연 함유 조성물{ZINC PHOSPHATE CONTAINING COMPOSITIONS}

본 발명은 아연 이온 급원, 플루오라이드 이온 급원, 및 염기성 아미노산을 포함하는 치약과 같은 예의 구강 관리 조성물에 관한 것이다.

치아 부식에는 비세균성원 유래의 산 공격에 의해 탈회(de-mineralization) 및 치아 구조의 손상이 관여된다. 부식이 초기에는 법랑질에서 발견되며, 그대로 둘 경우, 하부 상아질까지 진행될 수 있다. 치아 부식은 산성 식품 및 음료, 염소처리된 수영장 물에 노출, 위 산의 역류 등에 의해 유발되거나 악화될 수 있다. 치아 법랑질은 음이온으로 하전된 표면으로서, 이는 플루오라이드 이온과 같은 음으로 하전된 이온에 저항하는 반면, 자연히 수소 및 칼슘 이온과 같은 양으로 하전된 이온을 끌어당기는 경향이 있다. 주위 타액의 상대적 pH에 따라, 치아 법랑질은 칼슘 이온과 같이 양으로 하전된 이온을 잃거나 얻을 것이다. 일반적으로, 타액은 7.2 내지 7.4의 pH를 갖는다. pH가 낮아지고 수소 이온의 농도가 상대적으로 높아질 때, 수소 이온은 인산화 수소(인산)를 형성하면서 법랑질 내의 칼슘 이온을 대체할 것인데, 이는 법랑질을 손상시키고, 다공성 스폰지와 같은 거친 표면을 만들 것이다. 타액이 장기간 산성으로 남아 있다면, 재석회화는 일어나지 않으며, 치아는 석회질을 계속 잃게되어, 치아 약화를 유발하며, 결국은 치아의 구조가 붕괴될 것이다.

부식을 처리 및 감소시키기 위한 개선된 제품에 대한 필요성이 존재한다.

아연과 같은 중금속 이온이 산 공격에 대한 내성을 갖는다. 아연은 전위 서열(electrochemical series)상 수소보다 높은 위치에 있고, 따라서, 아연이 용액을 통과하여 2가 양이온인 Zn²⁺를 형성함에 따라, 산성 용액 중의 금속성 아연은 반응하여 수소 가스를 방출하게 될 것이다. 아연은 플라그 및 우식 연구에 있어 항균 특성을 갖는 것으로 밝혀졌다.

시트르산 아연과 같은 가용성 아연 염이 치약 조성물에서 사용되어 왔으나, 여러 단점을 가지고 있다. 용액 내 아연 이온은 불쾌하고 떫은 식감을 부여하기에, 효과적인 수준의 아연을 제공하고 나아가 허용가능한 감각 반응성(organoleptic properties)을 갖는 제제를 생산하기가 어려웠다. 나아가, 자유 아연 이온이 플루오라이드 이온과 반응하여 아연 플루오라이드를 형성하는데, 이는 불용성이기때문에 아연 및 플루오라이드 모두의 가용성을 감소시킨다. 끝으로, 아연 이온은 나트륨 라우릴설페이트 등의 음이온성 계면활성제와 반응할 것이고, 따라서 발포 및 세척을 방해할 것이다.

인산 아연(Zn₃(P0₄)₂)은 물에서 불용성이고 산성 또는 염기성 용액, 예를 들어, 무기산, 아세트산, 암모니아, 알칼리 수산화물 용액에서는 용해성이다. 예를 들어, 머크 인덱스, 13판(2001) p.1812, 논문 번호 10205를 참조하라. 이는 본원 기술분야에서 일반적으로 불활성 물질로 인식되기에, 치과용 시멘트, 예를 들어, 인레이, 크라운, 브리지 및 교정 장치의 시멘트에서 통상 사용되고 있고, 이들은 모두 수년동안 구강 내에서 유지되어야 할 것이다. 인산 아연의 치과용 시멘트는 일반적으로 인산, 물, 및 버퍼로 주로 이루어진 액체에 산화 아연 및 산화 마그네슘 분말을 혼합하여 제조되므로, 인산 아연을 포함하는 시멘트는 인산과의 반응에 의해 동일 반응계로(in situ) 형성된다.

요약

인산 아연이 제형 내에서, 예를 들어, 산성 또는 염기성 pH에 배치될 때, 효과적인 농도의 아연 이온을 법랑질에 제공하는데 사용되도록 충분히 용해될 수 있고, 이에 의해 치아의 부식 방지, 박테리아 군체 및 생물막 발달의 감소, 및 치아에 강화된 빛을 제공할수 있음이 발견되었다. 일부 구체 예에서, 제형은 아미노산, 예를 들어, 아르기닌 또는 리신과 같은 염기성 아미노산으로서, 제형에 염기성 pH를 부여할 수 있는 아미노산을 포함한다. 또한, 제2 인산 급원을 갖는 제형 내의 인산 아연은 인산 침착을 강화하는 것이 발견되었다. 이는, 치과 시멘트에서의 광범위한 사용에 의해 입증되어 왔듯이, 인산 아연의 용해도가 낮다는 점 및 구강 내 조건하에서 실질적으로 불활성이라는 점을 인식할 때, 모두 예상치 못한 것이다. 동시에, 인산 아연을 함유하는 제형은, 더 높은 가용성 아연 염을 사용하는 종래의 아연-기반 구강 관리 제품과 연관된 불량한 맛과 식감, 불량 플루오라이드 전달, 및 불량한 발포 및 세정성을 전혀 나타내지 않는다.

따라서, 본 발명은 인산 아연을 포함하는, 예를 들어 치약과 같은 구강 관리 조성물을 제공한다. 일부 실시예에서, 인산 아연은 미리 형성된 염으로 치약에 첨가된다. 일 실시예에서, 상기 조성물은 아미노산, 예를 들어, 염기성 아미노산을 추가적으로 포함한다. 조성물은 임의로 플루오라이드 급원 및/또는 추가적인 인산염 급원을 포함할 수 있다. 조성물은 통상의 치약이나 구강 세정제 베이스로 제형 화될 수 있으며, 예로서, 연마재, 예를 들면, 실리카 연마재, 계면활성제, 발포제, 비타민, 폴리머, 효소, 습윤제, 증점제, 항균제, 방부제, 향료, 착색제 및/또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예를 들어, 일 실시예에서, 본 발명은 약 2% 인산 아연, 약 5% 아르기닌, 약 5% 인산 알칼리 염 및 약 1450ppm 플루오라이드를 실리카 연마 치약 베이스 내에 포함하는 치약을 제공한다.

본 발명은 추가로 본 발명의 조성물로 치아를 칫솔질하는 단계를 포함하는, 법랑질의 산 부식을 줄이고 억제하며, 치아 세척, 세균-생성 생물막 플라그의 감소, 치은염 감소, 치아 부식 및 동공 형성 감소, 충치 형성의 억제, 및 상아질 과민성을 감소시키기 위해 본 발명의 조성물을 사용하는 방법을 제공한다.

본 발명의 추가적인 적용 분야는 후술하는 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 본 발명의 바람직한 실시예를 나타내는 상세한 설명과 특정 실시예는 단지 예시의 목적으로 의도된 것으로 본 발명의 범위를 제한하려는 것이 아님을 이해해야한다.

상세한 설명

바람직한 실시예(들)에 대한 이하의 설명은 단지 예시적인 것에 불과하며, 본 발명은 그 적용 또는 용도를 제한하려는 것은 아니다.

본원에서 사용되는 용어 "예비형성 염"은 인산 아연과 관련하여 사용시, 인산 아연이 치약이나 구강 세정제에서 인 시투(in situ) 상태로, 예를 들어 인산과 아연 염의 반응을 통해 형성되는 것이 아님을 의미한다.

따라서, 본 발명은 제 1 실시예에서, 인산 아연을 포함하는 구강 관리 조성물(조성물 1), 예를 들면, 치약이나 구강 세정제 형태의, 간헐적 사용, 예를 들어, 매일 사용하기 위한 구강 관리 조성물을 제공한다.

1.1. 인산 아연을 치약 베이스에 포함하는 치분 형태의 조성물 1로서, 예를 들어, 치약 베이스에 인산 아연이 효과적인 양, 예를 들어, 0.5 내지 4중량%, 예를 들면, 약 1~3중량%로 존재하는 조성물.

1.2. 조성물 1.1로서, 치약 베이스는 연마재, 예를 들어, 유효량의 실리카 연마제, 예를 들어 10-30%, 예를 들면, 약 20%를 포함하는 조성물.

1.3. 인산 아연을 포함하는 구강 세정제 형태의 조성물 1로서, 예를 들어, 구강 세정제 베이스 내에 0.05 내지 0.05중량%, 예를 들면, 약 0.01 - 0.03중량%의 양의 인산 아연을 포함하는 조성물.

1.4. 추가로, 유효량의 플루오라이드 이온 급원, 예를 들어, 500-3000ppm의 플루오라이드를 제공하는, 플루오라이드 이온 급원을 포함하는 전술한 조성물.

1.5. 플루오라이드가 불소화 주석, 불소화 나트륨, 불소화 칼륨, 모노플루오로인산 나트륨, 플루오르규산 나트륨, 플루오로규산 암모늄, 불소화 아민 (예, N'-옥타데실트리메틸렌 아민-N,N,N'-트리스(2-에탄올)-디하이드로플로오라이드), 불소화 암모늄, 불소화 티타늄, 헥사플루오로황산, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 염인 전술한 조성물.

1.6. 인산 아연의 용해성을 증가시키에 충분한 양의 아미노산을 포함하는, 예를 들어, 총 조성물 중량의 약 0.5 내지 약 20중량%, 또는 약 0.5 내지 약 10 중량%, 예컨대 치약의 경우, 약 1.5 내지 약 3.75 중량%, 약 5중량%, 또는 약 7.5중량%의 양을 포함하고, 예컨대, 구강 세정제의 경우, 약 0.5 내지 2중량%, 예를 들어, 약 1중량%의 양을 포함하는 전술한 조성물.

1.7. 염기성 아미노산을 포함하는 전술한 조성물로서, 염기성 아미노산은 예를 들어, 아르기닌 또는 리신 또는 이들의 조합이고, 예를 들어, 유효량으로, 예컨대, 인산 아연과 조합되어 치아 부식, 상아질 과민성, 및/또는 플라그 축적을 감소시키기에 효과적인 양, 예를 들어, 총 조성물 중량을 기준으로, 치약의 경우 약 1-10%의 양, 또는 예를 들어, 치아 세정제의 경우 약 0.5-2%의 양으로 포함하는 전술한 조성물.

1.8. 염기성 아미노산, 예를 들어 아르기닌이 제형의 pH를 8 초과, 예컨대, 8.5-10으로 올리기에 충분한 양으로 존재하는 전술한 조성물.

1.9. 추가적인 아연 이온 급원, 예를 들어, 시트르산 아연, 황산 아연, 규산 아연, 락트산 아연, 산화 아연, 및 이들의 조합으로부터 선택된 추가 아연 이온 급원을 더 포함하는 전술한 조성물로서, 일 실시예에서, 예를 들어 1% 인산 아연 및 1% 시트르산 아연을 포함하는 치약인 조성물.

1.10. 하나 이상의 알칼리 인산염, 예컨대, 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염, 예를 들어, 알칼리 이염기성 인산 및 알칼리 피로인산 염, 예컨대, 이염기성 인산 나트륨, 이염기성 인산 칼륨, 인산 이수화물 이칼슘, 피로인산 칼슘, 피로인산 테트라나트륨, 피로인산 테트라칼륨, 트리폴리인산 나트륨, 및 이들 중 둘 이상의 배합물로부터 선택되는 알칼리 인산 염을 효과적인 양, 예컨대, 조성물 중량을 기준으로 1~20%, 예를 들어 2-8%, 예를 들면, 약 5%의 양으로 포함하는 전술한 조성물.

1.11. 완충제, 예를 들어, 인산 나트륨 완충액(예를 들어, 일염기성 인산 나트륨 및 인산 이나트륨)을 포함하는 전술한 조성물.

1.12. 글리세린, 소르비톨, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 자일리톨, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 보습제를, 예를 들어 적어도 20%, 예컨대, 20-40%, 예를 들어 25-35%의 양의 글리세린으로 포함하는 전술한 조성물.

1.13. 예를 들어 음이온성, 양이온성, 양쪽이온성, 및 비이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물, 예컨대, 음이온성 계면활성제, 예를 들어, 소듐 라우릴설페이트, 소듐 에테르 라우릴설페이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 계면활성제를, 예를 들어 약 0.3 내지 약 4.5중량%, 예컨대, 1~2% 소듐 라우릴설페이트(SLS); 및/또는 양쪽이온성 계면활성제, 예를 들어 베타인 계면활성제, 예를 들어 코카미도프로필베타인을 약 0.1 내지 약 4.5 중량%, 예컨대, 0.5-2% 코카미도프로필베타인으로 포함하는 전술한 조성물.

1.14. 예컨대, 잔탄 검 또는 카라기난, 실리카 증점제, 및 이들의 조합과 같은 다당류 검 하나 이상을 점도 변화의 양으로 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.15. 검 스트립 또는 그의 단편을 포함하는 전술한 조성물.

1.16. 향미제, 방향제 및/또는 착색제를 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.17. 하나 이상의 항균제를 효과적인 양으로 추가로 포함하는 전술한 조성물. 항균제는, 예를 들어, 할로겐화 디페닐 에테르(예 트리클로산), 허브 추출물 및 정유(essential oil)(예, 로즈마리 추출물, 녹차(tea) 추출물, 태산목(magnolia) 추출물, 티몰(thymol), 멘톨, 유칼립톨, 게라니올(geraniol), 카바크롤, 시트랄, 히노키톨(hinokitol), 카테콜, 메틸 살리실레이트, 에피갈로카테킨 갈레이트, 에피갈로 카테킨, 갈산, 미스왁(miswak) 추출물, 바다-벅쏜(sea-buckthorn) 추출물), 비스구아니드(bisguanide) 방부제(예를 들어, 클로르헥시딘, 알렉시딘(alexidine) 또는 옥테니딘(octenidine)), 4급 암모늄 화합물(예를 들면, 세틸피리디늄 클로라이드(CPC), 벤잘코늄 클로라이드, 테트라데실피리디늄 클로라이드(TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드(TDEPC)), 페놀성 소독제, 헥세티딘, 옥세티딘, 산구이나린(sanguinarine), 포비돈 요오드, 델모피놀(delmopinol), 살리프루오르(salifluor), 금속 이온(예를 들면, 아연 염, 예컨대 시트르산 아연, 주석 염, 구리 염, 철 염), 산구이나린(sanguinarine), 프로폴리스 및 산소화제(예, 과산화수소, 완충된 소듐 퍼옥시보레이트, 또는 퍼옥시카보네이트), 프탈산 및 그 염류, 모노퍼탈산(monoperthalic acid) 및 그의 염 및 에스테르, 아스코르빌 스테아레이트, 올레오일 사르코신, 알킬 설페이트, 디옥틸 설포숙시네이트, 살리시라니리드(salicylanilide), 도미펜 브로마이드, 델모피놀(delmopinol), 옥타피놀(octapinol) 및 기타 피페리디노 유도체, 니신(nicin) 제제, 염소산 염, 및 이들의 혼합물로부터 선택되며, 예를 들어, 트리클로산 또는 세틸피리디늄 염화물을 포함할 수 있다.

1.18. 항균 유효량의 트리클로산, 예컨대, 0.1-0.5%, 예컨대, 약 0.3%를 포함하는 전술한 조성물.

1.19. 미백제를 추가로 함유하는 전술한 조성물. 미백제는 예를 들어, 퍼옥사이드, 금속 아염소산염, 아붕산염, 아탄산염, 퍼옥시산, 하이포클로라이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.

1.20. 과산화수소 또는 과산화수소 급원, 예를 들어, 우레아 퍼옥사이드 또는 퍼옥사이드 염 또는 복합체(예를 들어, 퍼옥시포스페이트, 퍼옥시카보네이트, 퍼보레이트, 퍼옥시실리케이트 또는 아황산염, 예를 들어, 과산인산 칼슘, 아붕산 나트륨, 과산화탄산 나트륨, 과산인산 나트륨, 및 과황산 칼륨)를 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.21. 박테리아 부착을 방해하거나 방지하는 제제, 예를 들어 솔브롤(solbrol) 또는 키토산을 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.22. (ⅰ) 칼슘-유리 복합체, 예컨대, 칼슘 나트륨 포스포실리케이트, 및 (ii) 칼슘-단백질 복합체, 예컨대, 카제인 포스포펩티드-무정형 칼슘 포스페이트로부터 선택되는 칼슘 및 포스페이트의 급원을 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.23. 가용성 칼슘 염, 예를 들어, 황산 칼슘, 염화 칼슘, 질산 칼슘, 아세트산 칼슘, 락트산 칼슘, 및 이의 조합으로부터 선택되는 것을 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.24. 생리학적으로 또는 경구적으로 허용가능한 칼륨 염을 추가로 포함하는 전술한 조성물. 상기 칼륨 염은 예를 들면, 상아질 민감도를 감소시키기에 유효한 양의 질산 칼륨 또는 염화 칼륨이다.

1.25. 음이온성 중합체, 예컨대, 합성 음이온성 중합체성 폴리카르복실레이트를 추가로 포함하는 전술한 조성물. 상기 음이온성 중합체는 예로서, 말레산 무수물 또는 산과 다른 중합가능한 에틸렌계 불포화 단량체와의 1:4 내지 4:1 비율의 공중합체로부터 선택되고, 예컨대, 상기 음이온성 중합체는 약 30,000 내지 약 1,000,000, 예를 들면 약 300,000 내지 약 800,000의 평균 분자량(MW)을 갖는 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물(PVM/MA) 공중합체이고, 상기 음이온성 중합체는 조성물 중량의 약 1~5%, 예컨대, 약 2%이다.

1.26. 호흡 청정제(breath fresher), 향수 또는 향료를 추가로 포함하는 전술한 조성물.

1.27. 조성물의 pH가 산성 또는 염기성, 예컨대, 4 내지 5.5의 pH나 8 내지 10의 pH를 갖는 전술한 조성물.

1.28. 치약인 전술한 조성물로서, 상기 조성물은 실리카 연마 치약 베이스에

1-35%, 예를 들어 약 2%의 인산 아연;

2-8%, 예를 들어, 약 5%의 L-아르기닌(유리 염기);

2-8%, 예를 들어, 약 5%의 알칼리 포스페이트 염으로서, 이는 예를 들면, 이염기성 인산 나트륨, 이염기성 인산 칼륨, 인산 이수화물 이칼슘, 칼슘 피로포스페이트, 테트라나트륨 피로포스페이트, 테트라칼륨 피로포스페이트, 소듐 트리폴리포스페이트, 및 이들 중 둘 이상의 혼합물로부터 선택된다; 및

700-2000ppm, 예를 들면, 약 1450ppm 플루오라이드, 예를 들어 0.3-0.4%, 예를 들어, 약 0.32%의 나트륨 플루오라이드

를 포함한다.

1.29. 구강 세정제인 전술한 조성물로서, 상기 조성물은

5 - 10%, 예를 들면, 약 7.5% 글리세린;

3 - 7%, 예를 들어, 약 5.5% 소르비톨;

5 - 10%, 예를 들면, 약 7%의 프로필렌 글리콜;

0 - 0.1% TSPP;

0.01 - 1% 감미료, 예컨대, 약 0.02%의 사카린;

0.01 - 1%, 예를 들어 약 0.05%의 시트르산;

0 - 0.1%의 잔탄(xanthan);

0.005 - 0.05%, 예를 들어, 약 0.028%의 인산 아연;

0 - O.O1% 세틸 피리디늄 염화물;

0.01 - 0.1%, 예를 들어, 약 0.05%dml 소르빈산 칼륨;

0.05 - 1%, 예를 들어, 약 0.1-0.2%의 향료;

0.1 - 2%, 예를 들어, 약 1% 코카미도프로필베타인;

(선택적 추가 성분과 함께) 밸런스 형성을 위한 물, 예를 들어, 약 70 ~ 85%, 예를 들면, 약 80%의 물

을 포함한다.

1.30. 하기 실시예 1 또는 실시예 4의 시험 제형과 실질적으로 동일한 성분을 포함하는 전술한 조성물.

1.31. 구강 동공에 칫솔질과 함께 적용시 효과적인 전술한 조성물로서, 이는 (i) 치아의 과민성을 감소시키고, (ii) 플라그 축적을 감소시켜며, (ⅲ) 치아의 탈회(de-mineralization)를 감소 또는 억제하고, 치아의 재석회화를 촉진하며, (iv) 구강 동공 내 미생물성 바이오 필름 형성을 억제하고, (v) 치은염을 감소 또는 억제하며, (vi) 입에서 염증 또는 상처의 치유를 촉진하고, (vii) 산 생성 박테리아의 수준을 감소시키며, (viii) 비-충치 유발성(non-cariogenic) 및/또는 비-플라그 형성 박테리아의 상대적 수준을 증가시키고, (ix) 치아 우식의 형성을 감소 또는 억제하며, (x) 예컨대, 정량적 광-유도 형광(QLF) 또는 전기 충치 측정(ECM)에 의해 검출되는 바, 법랑질의 사전 우식 병변을 감소, 치료 또는 억제하며, (xi) 구강 건조를 치료, 완화 또는 감소시키고, (xii) 치아와 구강을 세척하며, (xiii) 침식을 줄이고, (xiv) 치아를 희게 하며; 및/또는 (xv) 예컨대, 구강 조직을 통해 전신 감염 가능성을 줄임으로써, 심장 혈관 건강을 포함하여 전신 건강을 증진시킨다.

1.32. 전술한 조성물에 기재된 임의의 성분과의 조합에 의해 수득되거나 수득가능한 조성물.

본 발명은 나아가 구강 관리 조성물, 예를 들어 치약의 제조시의, 및 법랑질에서 아연 수준을 증가시키기 위한 방법에서의 인산 아연의 용도를 제공한다. 일부 실시예에서, 인산 아연은 예비형성된 염으로서 치약에 첨가된다.

본 발명은 또한 예를 들어, 상술한 바와 같은 조성물, 예컨대, 조성물 1을 칫솔질에 의해 치아에 적용하는 단계를 포함하는, 법랑질 내 아연 수준을 증가시키고 법랑질 부식의 발생을 치료, 감소, 또는 조절하기 위해 본 발명의 조성물을 사용하는 방법을 추가로 제공한다. 다양한 실시예에서, 본 발명은 전술한 바와 같이, 예컨대, 치아를 하루에 한번 이상 조성물 1로 칫솔질함으로써, 조성물 1을 필요한 사람의 구강에 적용하는 단계를 포함하는, (i) 치아의 과민성을 감소시키고, (ii) 플라그 축적을 감소시켜며, (ⅲ) 치아의 탈회를 감소 또는 억제하고 치아의 재석회화를 촉진하며, (iv) 구강 동공 내 미생물성 바이오 필름 형성을 억제하고, (v) 치은염을 감소 또는 억제하며, (vi) 입에서 염증 또는 상처의 치유를 촉진하고, (vii) 산 생성 박테리아의 수준을 감소시키며, (viii) 비-충치 유발성(non-cariogenic) 및/또는 비-플라그 형성 박테리아의 상대적 수준을 증가시키고, (ix) 치아 우식의 형성을 감소 또는 억제하며, (x) 예컨대, 정량적 광-유도 형광(QLF) 또는 전기 충치 측정(ECM)에 의해 검출되는바, 법랑질의 사전 우식 병변을 감소, 치료 또는 억제하며, (xi) 구강 건조를 치료, 완화 또는 감소시키고, (xii) 치아와 구강을 세척하며, (xiii) 부식을 줄이고, (xiv) 치아를 희게 하며, (xv) 치석의 형성을 감소시키며, 및/또는 (xvi) 예컨대, 구강 조직을 통해 전신 감염 가능성을 줄임으로써, 심장 혈관 건강을 포함하여 전신 건강을 증진시키는 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 조성물 1을 이러한 방법 중 어느 하나에 사용하는 용도를 제공한다.

활성제(Active Agents) : 본 발명의 조성물은 법랑질 및 치아 구조의 강도 및 무결성을 보호 및 향상시키거나, 및/또는 박테리아 및 관련된 충치 및/또는 잇몸 질환을 감소시키는데 활성화된 다양한 제제를 포함할 수 있다. 본원에 사용된 활성 성분의 유효 농도는 사용되는 특정 제제 및 전달 시스템에 의존할 것이다. 예를 들어 치약은 일반적으로, 사용시 물로 희석되지만, 구강 린스는 사용시 전형적으로 그렇지 않은 것으로 이해된다. 따라서, 치약에 사용되는 활성제의 효과적인 농도는 일반적으로 구강 린스에 필요한 것보다 5-15x 높을 것이다. 그 농도는 또한 선택된 정확한 염 또는 중합체에 따라 달라진다. 예컨대, 활성제가 염의 형태로 제공되는 경우, 반대 이온이 염의 중량에 영향을 미칠 것이고, 따라서, 반대 이온이 무겁다면, 최종 제품에서 동일한 농도의 활성 이온을 제공하기 위해서는 더 많은 중량의 염이 요구될 것이다. 아르기닌이 존재하는 경우, 예를 들어, 약 0.1 내지 약 20중량%(유리 염기의 중량으로 표시), 예를 들면, 소매용 치약용으로 약 1 내지 약 10중량%, 또는 전문 또는 처방 치료 제품용으로 약 7 내지 약 20 중량%의 수준으로 존재할 수 있다. 플루오라이드가 존재하는 경우, 예를 들어, 약 25 내지 약 25,0000ppm으로, 예를 들면 소매용 치약용으로 약 750 내지 약 2,000ppm으로, 또는 전문 또는 처방 치료 제품용으로 약 2,000 내지 약 25,000ppm의 수준으로 존재할 수 있다. 항균제의 수준은, 치약에 사용되는 수준이 구강 린스에 사용되는 것보다 예컨대 약 5 내지 약 15배 더 많은 것과 같이, 이와 유사하게 변할 수 있다. 예컨대, 트리클로산 치약은 약 0.3중량%의 트리클로산을 함유할 수 있다.

플루오라이드 이온 급원 : 구강 관리 조성물은, 또한 예를 들어, 수용성 플루오라이드 염과 같이 하나 이상의 플루오라이드 이온 급원을 포함할 수 있다. 매우 다양한 플루오라이드 이온-발생 물질이 본 발명의 조성물에 가용성 플루오라이드의 공급원으로서 사용될 수 있다. 적합한 플루오라이드 이온-발생 물질의 예는 미국 특허 제3,535,421호 (Briner et al.); 미국 특허 제4,885,155호 (Parran, Jr. et al.) 및 미국 특허 제3,678,154호 (Widder et al.)에서 찾아볼 수 있다. 대표적인 플루오라이드 이온 급원은 플루오르화 주석, 플루오르화 나트륨, 플루오르화 칼륨, 모노플루오로인산 나트륨, 플루오로규산 나트륨, 플루오로규산 암모늄, 아민 플루오라이드, 플루오르화 암모늄, 또는 이들의 조합을 포함하며, 이에 한정되지 않는다. 특정 실시 양태에서, 플루오라이드 이온 급원은 플루오르화 주석, 플루오르화 나트륨, 모노플루오로인산 나트륨뿐만 아니라 이들의 혼합물을 포함한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한, 플루오라이드를 약 25 내지 약 25,000ppm의 양으로 공급하기에 충분할 정도의 양으로 플루오라이드 이온 급원이나 불소 이온 제공 성분을 포함하는데, 일반적으로 적어도 약 500ppm으로, 예를 들면 약 500 내지 약 2000ppm으로, 예를 들어, 약 1000 내지 약 1600ppm으로, 예를 들어, 약 1450ppm으로 플루오라이드를 공급한다. 플루오라이드의 적정 수준은 특정 제품에 따라 다를 것이다. 일반 소매용 치약은 일반적으로 약 1,500ppm 내지 약 1,000ppm으로 포함할 것이나, 소아용 치약은 이보다 다소 적게 포함할 것이다. 전문 제품용 치약 또는 코팅은 약 5,000 또는 25,000ppm 정도로 많은 플루오라이드를 가질 수도 있다. 플루오라이드 이온 급원은 약 0.01중량% 내지 약 10중량%의 수준에서 본 발명의 조성물에 첨가될 수 있다. 일부 실시예에서, 조성물의 중량을 기준으로 약 0.3 내지 약 5 중량; 및 또 다른 실시예에서. 약 0.1 내지 약 1중량%로 첨가될 수 있다. 적정 수준의 플루오라이드 이온을 제공하는 플루오라이드 염의 중량은 명백히 염의 반대 이온의 중량에 따라 달라질 것이다.

아미노산 : 일부 실시예에서, 본 발명의 조성물은 아미노산을 포함한다. 특정 실시예에서, 상기 아미노산은 염기성 아미노산일 수 있다. "염기성 아미노산"은 예컨대 아르기닌, 리신, 및 히스티딘과 같은 자연 발생 염기성 아미노산뿐만 아니라 카르복실기 및 분자 내에 아미노기를 갖는 임의의 염기성 아미노산을 의미하는데, 이는 수용성이고 약 7 이상의 pH를 갖는 수용액을 제공한다. 따라서, 염기성 아미노산은 아르기닌, 리신, 시트룰린, 오르니틴, 크레아틴, 히스티딘, 디아미노부탄산, 디아미노프로프리온산(diaminoproprionic acid), 이의 염 또는 이들의 조합을 포함하며, 이에 한정되지 않는다. 특정 실시예에서, 염기성 아미노산은 아르기닌, 시트룰린, 및 오르니틴으로부터 선택된다. 특정 실시 양태에서, 염기성 아미노산은 아르기닌, 예를 들면, l-아르기닌, 또는 이의 염이다. 다른 실시예에서, 아미노산은 4차화되는데(quarternized), 즉 아미노기가 추가적으로 4차 암모늄 부분을 형성하도록 치환되고, 이는 카르복실기를 가진 내부 염, 예컨대, 베타인(N,N,N-트리메틸글리신)을 형성할 수 있다.

다양한 실시예에서, 아미노산은 조성물 총 중량의 약 0.5 내지 약 20중량%, 또는 약 0.5 내지 약 10 중량%, 예컨대, 치약의 경우, 조성물 총 중량의 약 1.5 중량%, 약 3.75 중량%, 약 5 중량% 또는 약 7.5 중량%의 양으로, 또는 구강 린스의 경우, 조성물 총 중량의 약 0.5-2 중량%, 또는 약 1중량%의 양으로 존재한다.

연마재 : 본 발명의 조성물은, 예를 들어 조성물 1은 하기와 같이 실리카 연마제를 포함하고, 추가적인 연마재를 포함할 수 있는데, 예를 들면, 인산 삼칼슘 (Ca₃(P0₄)₂), 히드록시아파타이트(수산화인회석(CA₁₀(PO₄)₆(OH)₂)) 또는 인산 이칼슘 이수화물(CaHPO₄·2H₂O, 또한 때때로 본원에서는 다이칼(DiCal)로 지칭함) 또는 피로인산 칼슘; 탄산 칼슘 연마제; 또는 메타인산 나트륨, 메타인산 칼륨, 규산 알루미늄, 소성 알루미나, 벤토나이트 또는 다른 규산질 물질, 또는 이들의 조합과 같은 연마재를 포함할 수 있다.

기타 실리카 연마 폴리싱 물질이 다른 연마재와 함께 본 발명에 유용한데, 일반적으로 이의 평균 입자 크기는 약 0.1 내지 30 미크론, 또는 약 5 내지 약 15 미크론 사이의 범위이다. 실리카 연마제는 미국 특허 제3,538,230호 (Pader et al.) 및 미국 특허 제3,862,307호 (Digiulio)에 기재된 실리카 크세로겔과 같은 침강 실리카 또는 실리카 젤일 수 있다. 특히 실리카 크세로겔은 W.R. 그레이스 & Co, 데이비슨 화학 사업부의 Syloid® 상품명으로 판매되고 있다. 침강 실리카 물질은 Zeodent 115 및 119를 포함하는 Zeodent® 상품명으로 판매되는 JM 후버사 시판 제품을 포함한다. 이러한 실리카 연마제는 미국 특허 제4,340,583호(Wason)에 기재되어 있다. 특정 실시 양태에서, 본 발명에 따른 구강 관리 조성물의 실시에 유용한 연마 재료는 100cc/100g 실리카 미만의 흡유가(oil absorption value), 및 약 45cc/100g 내지 약 70cc/100g 실리카 범위의 흡유가를 갖는 실리카 겔 및 비정질 침강 실리카를 포함한다. 흡유가는 ASTA Rub-Out 방법 D281을 사용하여 측정된다. 특정 실시 양태에서, 실리카는 약 3 내지 약 12미크론, 또는 약 5 내지 약 10 미크론의 평균 입자 크기를 갖는 콜로이드 입자이다. 본 발명의 실시에 특히 유용한 낮은 흡유가의 실리카 연마제는 W.R. 그레이스 & Co. 데이비슨 화학부(볼티모어, 메릴랜드. 21203)의 상표 Sylodent XWA®로 판매된다.

Sylodent 650 XWA®는 직경이 평균 약 7 내지 약 10 미크론이고 29중량%의 수분 함량, 및 약 70cc/100g미만의 낮은 흡유가를 갖는 콜로이드성 실리카 입자로 이루어지는 실리카 겔이며, 본 발명의 실시에 유용한 낮은 흡유가 실리카 연마제의 예이다.

발포제 : 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 구강의 칫솔질시에 생성되는 거품의 양을 증가시키는 제제를 포함할 수 있다. 거품의 양을 증가시키는 제제의 예로, 이에 제한되는 것은 아니지만, 폴리옥시에틸렌, 및 이에 제한되는 것은 아니지만, 알지네이트 중합체를 포함하는 특정 중합체가 있다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 담체 성분에 의해 생성되는 거품의 양 및 두께를 증가시킬 수 있다. 폴리옥시에틸렌은 일반적으로 폴리에틸렌글리콜("PEG") 또는 폴리에틸렌옥사이드로 알려져 있다. 본 발명에 적합한 폴리옥시에틸렌은 약 200,000 내지 약 7,000,000의 분자량을 가진다. 일 실시예에서, 그 분자량은 약 600,000 내지 약 2,000,000, 다른 실시예에서, 그 분자량은 약 800,000 내지 약 1,000,000이다. Polyox®는 유니온 카바이드(Union Carbide)사에 의해 제조된 고분자량 폴리옥시에틸렌의 상표명이다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 조성물의 구강 관리 담체 성분의 중량을 기준으로, 약 1 내지 약 90%, 일 실시예에서는 약 5 내지 약 50%, 및 다른 실시예에서는 약 10% 내지 약 20%의 양으로 존재할 수 있다. 존재한다면, 구강 관리 조성물내 발포제의 양(즉, 단일 투여량)은 약 0.01 내지 약 0.9중량%, 약 0.05 내지 약 0.5중량%이고, 또 다른 실시 양태에서는, 약 0.1 내지 약 0.2중량%이다.

계면활성제 : 본 발명에 유용한 조성물은, 음이온성 계면활성제를 함유할 수 있다: 예를 들어,

i. 소듐 N-메틸 N-코코일 타우레이트, 소듐 코코모노글리세리드 설페이트와 같은 수소화 야자유 지방산의 모노설페이트화 모노글리세리드의 나트륨 염 등의 고급 지방산 모노글리세리드 모노설페이트의 수용성 염,

ii. 소듐 라우릴설페이트와 같은 고급 알킬 설페이트,

iii. 화학식 CH₃(CH₂)_mCH₂(OCH₂CH₂)_n0S0₃X(여기에서, m은 6-16, 예를 들어, 10이고, n은 1-6, 예를 들면, 2, 3 또는 4이며, X는 Na 또는 K이고, 예를 들어, 소듐 라우레트-2-설페이트(CH₃(CH₂)₁₀CH₂(OCH₂CH₂)₂0S0₃Na)이다.

iv. 소듐 도데실 벤젠 설포네이트(소듐 라우릴 벤젠 설포네이트)와 같은 고급 알킬 아릴 설포네이트

v. 소듐 라우릴 설포아세테이트(도데실 소듐 설포아세테이트) 등의 고급 알킬 설포아세테이트, 1,2-디히드록시 프로판 설포네이트, 설포코라우레이트(N-2-에틸 라우레이트 칼륨 설포아세트아미드) 및 소듐 라우릴 사르코시네이트의 고급 지방산 에스테르.

"고급 알킬"은, 예를 들면, C_6-30알킬을 의미한다. 특정 실시예에서, 음이온 성 계면활성제는 소듐 라우릴 설페이트 및 소듐 에테르 라우릴 설페이트로부터 선택된다. 음이온성 계면활성제는, 예를 들어, 제형의 중량을 기준으로 > 0.01중량% 와 같은 효과적인 양으로 존재하지만, 구강 조직을 자극할 정도의 농도, 예를 들면, < 10중량%의 양으로는 존재하지 않으며, 최적 농도는 특정 제형 및 특정 계면활성제에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 구강 세척제에 사용되는 농도는 전형적으로 치약에 사용되는 것의 1/10의 정도이다. 일 실시예에서, 음이온성 계면활성제는 예를 들어, 약 0.3 내지 약 4.5중량%, 예를 들어, 약 1.5중량%의 양으로 치약에 존재한다. 본 발명의 조성물은 임의로, 양이온성, 음이온성, 비이온성 또는 양쪽이온성의 다른 계면활성제와 음이온성 계면활성제를 포함하는 계면활성제의 혼합물을 함유할 수 있다. 일반적으로, 계면활성제는 넓은 pH 범위에 걸쳐 비교적 안정적인 것들이다. 계면활성제는 미국 특허, 예를 들어 미국 특허 제3,959,458호 (Agricola et al.); 미국 특허 제3,937,807호 (Haefele); 및 미국 특허 제4,051,234호 (Gieske et al.)에서 보다 상세하게 기술되어 있다. 특정 실시 양태에서, 유용한 음이온성 계면활성제는 그 알킬 라디칼 내에 약 10 내지 약 18개의 탄소 원자를 갖는 알킬 설페이트의 수용성 염, 약 10 내지 약 18개의 탄소 원자를 갖는 지방산의 설폰화된 모노글리세리드의 수용성 염을 포함한다. 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 라우로일 사르코시네이트 및 소듐 코코넛 모노글리세리드 설포네이트는 이러한 유형의 음이온성 계면활성제의 예이다. 특정 실시예에서, 본 발명의 조성물, 즉, 조성물 1은 소듐 라우릴 설페이트를 포함한다.

계면활성제 또는 호환되는 계면활성제의 혼합물은 총 조성물의 중량을 기준으로 약 0.1% 내지 약 5.0%, 다른 실시예에서는 약 0.3% 내지 약 3.0%, 또 다른 실시예에서는 약 0.5% 내지 약 2.0%로 본 발명의 조성물에 존재할 수 있다.

치석 조절제 : 본 발명의 다양한 실시예에서, 조성물은 항치석제(치석 조절제)를 포함한다. 적합한 항치석제는 이에 제한되는 것은 아니나, 인산염 및 폴리 인산염(예컨대 피로인산염), 폴리아미노프로판설폰산(AMPS), 헥사메타인산염, 시트르산 아연 삼수화물, 폴리펩타이드, 폴리올레핀 설포네이트, 폴리올레핀 포스페이트, 디포스포네이트를 포함한다. 따라서, 본 발명은 인산 아연 이외에도 포스페이트 염(인산 염)을 포함할 수 있다. 특정 실시예에서, 이들 염은 알칼리 포스페이트 염이다 즉, 예컨대, 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염과 같은 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 토금속 수산화물의 염이다. 본원에서 사용되는 "인산"은 경구적으로 허용가능한 모노- 및 폴리-포스페이트, 예컨대, P_1-6 포스페이트, 예를 들어, 단일염기성, 이염기성 또는 삼염기성 인산과 같은 단량체 인산염; 피로인산염과 같은 이량체 인산염; 및 소듐 헥사메타포스페이트와 같은 다량체 인산염을 포함할 수 있다. 특정 실시예에서, 선택된 인산은 알칼리 이염기성 인산 및 알칼리 피로포스페이트 염, 예컨대, 이염기성 인산 나트륨(sodium phosphate dibasic), 이염기성 인산 칼륨(potassium phosphate dibasic), 인산 이칼슘 이수화물, 칼슘 피로포스페이트, 테트라소듐 피로포스페이트, 테트라칼륨 피로포스페이트, 소듐 트리폴리포스페이트 및 이들 중 둘 이상의 혼합물에서 선택될 수 있다. 특정 실시예에서, 예를 들어 조성물은 테트라소듐 피로포스페이트(Na₄P₂0₇), 칼슘 피로포스페이트(Ca₂P₂0₇), 및 이염기성 인산나트륨(Na₂HPO₄)의 혼합물을 포함하는데, 예컨대, 이염기성 인산나트륨 약 3~4%, 피로포스페이트 각각 약 0.2-1%의 양으로 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 조성물은 테트라소듐 피로포스페이트(TSPP) 및 소듐 트리폴리포스페이트 (STPP)(Na₅P₃0₁₀)의 혼합물을 포함할 수 있는데, TSPP를 약 1-2%, STPP를 약 7 내지 약 10%의 양으로 포함할 수 있다. 이러한 인산염들은 법랑질의 부식을 감소시키고/감소시키거나, 치아의 세정을 돕고/돕거나, 치아의 치석 형성을 감소시키기에 효과적인 양으로 제공되는데, 조성물의 중량을 기준으로 2-20%의 양으로, 예를 들어 약 5-15%의 양으로 제공된다.

향미제 : 본 발명의 구강 관리 조성물은 향미제를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시에 사용되는 향미제는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 에센스 오일뿐만 아니라 다양한 향미 알데히드, 에스테르, 알콜, 및 유사한 물질을 포함한다.

에센스 오일의 예는 스피어민트, 페퍼민트, 윈터그린, 사사프라스, 정향(clove), 세이지(sage), 유칼립투스, 로즈마리, 계피, 레몬, 라임, 자몽, 오렌지 등의 오일이 있다. 또한 멘톨, 카르본(carvone)와 아네톨(anethole)과 같은 화학 물질도 유용하다. 특정 실시예는 페퍼민트와 스피어민트 오일을 사용한다. 향미제는 예를 들어 중량 기준으로, 약 0.1% 내지 약 5%, 예컨대, 약 0.5 내지 약 1.5%의 농도로 구강 조성물에 혼입될 수 있다.

중합체 : 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 제형의 점도를 조정하거나 다른 성분의 용해성을 향상시키기 위해 추가의 중합체를 포함할 수 있다. 이러한 추가 중합체는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리사카라이드(예를 들면, 셀룰로스 유도체, 예를 들면, 카르복시메틸 셀룰로스, 또는 폴리사카라이드 검, 예를 들어, 잔탄 검 또는 카라기난 검)를 포함할 수 있다. 산성 중합체, 예컨대 폴리아크릴산 겔이 그의 유리 산 또는 부분 또는 완전 중화된 수용성 알칼리 금속(예, 칼륨 및 나트륨) 또는 암모늄 염의 형태로 제공될 수 있다.

수성 매체 중에서 중합체 구조 또는 겔을 형성하는 실리카 증점제가 존재할 수 있다. 이들 실리카 증점제는 매우 미세하게 분쇄되며 그리고 연마 작용이 매우 적거나 또는 전혀 없으므로, 조성물 중에 존재하는 입자상 실리카 연마제와는 물리적 그리고 기능적으로 상이하다는 점에 유의한다. 기타 증점제는 소듐 카르복시메틸 셀룰로스 및 소듐 카르복시메틸 히드록시에틸 셀룰로스 등의 셀룰로스 에테르의 수용성 염, 카르복시비닐 중합체, 카라기난 및 히드록시에틸 셀룰로스이다. 천연 검, 예컨대 카라야, 아라비아 검 및 트라가칸트 검도 또한 혼입될 수 있다. 콜로이드성 규산마그네슘알루미늄은 또한 조성물의 질감을 추가로 개선시키기 위한 증점 조성물의 성분으로서 사용될 수 있다. 특정한 실시양태에서, 총 조성물의 약 0.5% 내지 약 5.0 중량%의 양으로 증점제를 사용한다.

본 발명의 조성물은 음이온성 중합체를, 예를 들면 약 0.05 내지 약 5%의 양으로 포함할 수 있다. 상기 물질은, 이러한 특정한 적용예에 대하여서는 아니지만, 일반적으로 치약에서의 용도가 공지되어 있고, 본 발명에서 유용하며, 미국 특허 제5,188,821호 및 제5,192,531호에 개시되어 있으며; 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트, 예컨대 말레산 무수물 또는 산과 또 다른 중합성 에틸렌형 불포화 단량체의 1:4 내지 4:1 공중합체, 바람직하게는 약 30,000 내지 약 1,000,000, 가장 바람직하게는 약 300,000 내지 약 800,000의 분자량 (M.W.)을 갖는 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물을 포함한다. 이들 공중합체는 예를 들면 미국 뉴저지주 08805 바운드 브룩에 소재하는 아이에스피 테크놀로지즈, 인코포레이티드(ISP Technologies, Inc.)로부터 입수 가능한 강트레즈(Gantrez), 예를 들면 AN 139 (M.W. 500,000), AN 119 (M.W. 250,000) 및 바람직하게는 S-97 제약 등급 (M.W. 700,000)으로서 입수 가능하다. 증강제가 존재할 경우 약 0.05 내지 약 3 중량% 범위내의 양으로 존재한다. 기타 작동 중합체는 예컨대 말레산 무수물과 에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈 또는 에틸렌의 1:1 공중합체 (후자는 예를 들면 몬샌토(Monsanto) EMA No. 1103, M.W. 10,000 및 EMA 그레이드 61로 입수 가능함) 및 아크릴산과 메틸 또는 히드록시에틸 메타크릴레이트, 메틸 또는 에틸 아크릴레이트, 이소부틸 비닐 에테르 또는 N-비닐-2-피롤리돈의 1:1 공중합체를 포함한다. 일반적으로, 활성화된 탄소-대-탄소 올레핀성 이중 결합 및 1종 이상의 카르복실 기를 함유하는 중합된 올레핀형 또는 에틸렌형 불포화 카르복실산, 즉 말단 메틸렌 기의 일부로서 또는 카르복실 기에 대하여 알파-베타 위치에서 단량체 분자 중에 그의 존재로 인하여 중합에서 쉽게 작용하는 올레핀성 이중 결합을 함유하는 산이 적절하다. 그러한 산의 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 알파-클로로아크릴산, 크로톤산, 베타-아크릴옥시 프로피온산, 소르브산, 알파-클로르소르브산, 신남산, 베타-스티릴아크릴산, 무콘산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 글루타콘산, 아코니트산, 알파-페닐아크릴산, 2-벤질아크릴산, 2-시클로헥실아크릴산, 앤젤산, 움벨산, 푸마르산, 말레산 및 무수물을 들 수 있다. 상기 카르복실 단량체와 공중합성을 갖는 기타 상이한 올레핀성 단량체로는 비닐아세테이트, 비닐 클로라이드, 디메틸 말레에이트 등을 들 수 있다. 공중합체는 수용성을 위해 충분한 카르복실염 기를 함유한다. 추가 부류의 중합체 물질로는 치환 아크릴아미드의 단독중합체 및/또는 불포화 술폰산 및 그의 염의 단독중합체를 함유하는 조성물을 들 수 있으며, 특히 중합체는 미국 특허 제4,842,847호 (1989년 6월 27일, Zahid)에 기재된 약 1,000 내지 약 2,000,000의 분자량을 갖는 아크릴아미도알칸 술폰산, 예컨대 2-아크릴아미드 2-메틸프로판 술폰산으로부터 선택된 불포화 술폰산에 기초한다. 중합체 물질의 또 다른 유용한 유형으로는 소정 비율의 음이온성 계면활성 아미노산, 예컨대 아스파르트산, 글루탐산 및 포스포세린을 함유하는 폴리아미노산, 예를 들면 미국 특허 제4,866,161호(Sikes et al.)에 개시되어 있는 바와 같다.

물 : 구강 조성물은 상당한 수준의 물을 포함할 수 있다. 시판 구강 조성물의 제조에 사용된 물은 탈이온화되어야 하며, 유기 불순물이 없어야 한다. 조성물 중의 물의 양은 다른 물질과 함께 투입되는 양과 첨가되는 유리 물의 양을 함께 포함한다.

습윤제 : 구강 조성물의 특정한 실시양태에서, 또한 대기에 노출시 조성물이 경화되는 것을 방지하기 위하여 습윤제를 혼입하는 것이 바람직하다. 특정한 습윤제는 또한 치약 조성물에 바람직한 감미 또는 향미를 부여할 수 있다. 적절한 습윤제로는 식용 다가 알콜, 예컨대 글리세린, 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜뿐 아니라, 기타 폴리올 및 이들 습윤제의 혼합물을 들 수 있다. 본 발명의 한 실시양태에서, 주요 습윤제는 25% 초과, 예를 들면 25-35%, 약 30%의 수준으로 존재할 수 있는 글리세린이며, 기타 습윤제는 5% 이하이다.

기타 임의의 성분 : 상기 기재된 성분 이외에, 본 발명의 실시양태는 일부가 하기 기재된 각종 임의의 치약 성분을 함유할 수 있다. 임의의 성분으로는 예를 들면 접착제, 거품생성제(sudsing agent), 풍미제, 감미제, 추가의 치태 방지제, 연마제 및 착색제를 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 이들 및 기타 임의의 성분은 미국 특허 제5,004,597호 (Majeti); 미국 특허 제3,959,458호 (Agricola et al.) 및 미국 특허 제3,937,807호 (Haefele)에 추가로 기재되어 있으며, 이들 문헌 모두는 본원에 참조로 포함된다.

본원에서 사용한 바와 같이, 범위는 해당 범위내의 각각의 값 및 모든 값을 기재하기 위하여 약칭으로서 사용된다. 상기 범위내의 임의의 값은 범위의 말단으로서 선택될 수 있다. 게다가, 본원에 인용된 모든 참고문헌은 그의 전체가 참조로서 포함된다. 본 개시내용의 정의 및 인용된 문헌의 것에서 충돌이 존재할 경우, 본 개시내용이 우선한다.

반대의 의미로 명시되지 않는다면, 본원 및 본 명세서의 다른 부분에 나타낸 모든 비율 및 양은 중량%를 지칭하는 것으로 이해하여야 한다. 제시된 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.

실시예

실시예 1

시험 5% 아르기닌, 1450ppm의 플루오라이드, 및 인산과 조합된 2% 인산 아연을 포함하는 치약을 준비한다. 이러한 치약은 비교적 높은 아르기닌 함량과 일치하는 9.13의 pH를 갖는다. 2% 시트르산 아연 , 1% 시트르산 아연, 1% 시트르산 아연 + 1% 인산 아연, 무-아연, 또는 무-아르기닌을 포함하는 치약을 또한 다음과 같은 제형(조성물의 중량 기준)에 따라 제조하였다:

실시예 2

2% 인산 아연을 함유하는 실시예 1의 치약은 아르기닌과 함께 불소, 1% 시트르산 아연을 포함하는 치약 대조군에 비해 산 도전에 대해 우수한 효과를 나타낸다.

시험관 내 방법론을 실시예 1의 제형 시제품 법랑질 보호 활성을 측정하기 위해 사용하였다. 법랑질 기판(N = 셀당 6/8)은 메타크릴레이트계 수지에 소 앞니(bovine incisors)를 담그고 연속적으로 600 및 1200grit 카바이드 종이로 연마함에 의해 제조된다. 거울 마감으로 법랑질을 연마하면서 상아질 층을 관통하지 않도록 주의한다. 시험 전에, 모든 법랑질 기판은 30초 동안 5% 시트르산으로 미리 에칭된다. 각 기질의 측면의 절반은 제어면으로 표면을 보호하는 내산성 테이프로 마스크된다. 제품을 평가하기 위해 사용된 모델은 T-C-C-C-C-T (T = 제품 처리, C = 산 도전)의 일일 순서에 따라 1분간의 제품 처리 기간과 2분간의 산 노출 기간으로 번갈아 하였다. 산 도전은 NaOH로 pH=3.8로 조정된(무완충된) 1% 시트르산 수용액으로 수행된다. 처리 또는 도전을 진행하지 않으면 모든 법랑질 기질은 37℃에서 멸균된 인공 타액 용액에 보관된다. 이러한 요법은 총 5일간 진행되는데, 그 마지막 날에, 미소경도(microhardness) 분석이 보호 및 노출된 표면상의 각 법랑질 기질의 부식으로 인해 소실된 법랑질의 양을 정량하기 위해 사용된다. 경도 비율에서의 변화가 계산된다. 처리없이, 테스트 치약 대신에 탈 이온수를 사용하는 경우, 경도 백분율의 변화는 약 80%에 접근하는 매우 높은 값이고, 특정 기판에 따라 실험간에 약간의 변화가 있었다.

2% 인산 아연을 포함하는 제형은 초기 법랑질 용해에 대한 치료의 보호적 효과를 조사하기 위해 고안된 시험관내 pH의 순환 모델에서 탈회에 대해 효과적인데, 반복된 산 도전 이후의 경도의 감소는 단지 24.3%이고, 이는 1% 시트르산 아연에 대한 경도의 감소 26.3%보다 적다. 별도의 실험에 따르면, 제형 내 시트르산 아연의 양을 1%에서 2%로 증가시키면 산 도전에 대한 효능을 증가시키지 않는 것으로 나타났다. 최대 효과는 이미 1%에서 얻을 수 있다. 따라서 이러한 분석으로부터 인산 아연 제형의 유효성은 시트르산 아연 제형을 사용하여 성취할 수 있는 최대 효과보다 우수하거나 적어도 그와 동일하게 양호하다는 것을 알 수 있고, 이는 인산 아연이 비교적 구강 내에서 불활성인 본원 기술분야의 믿음의 관점상 놀라운 것이다.

추가 실험을 인산 아연(ZnP)을 포함하고 아르기닌을 포함하거나 포함하지 않는 제형, 및 1% 인산 아연 및 시트르산 아연을 포함하는 제형에 대해 평가하기 위해 수행한다. 플루오르화 나트퓸 및 질산 칼륨을 포함하는 상업적 법랑질 보호 치약(상용 1)을 양성 대조군으로 포함시킨다. (주의 : 상이한 인간의 이빨로 만든 제제가 실험의 각 세트에 대해 사용되고, 따라서 각 세트의 실험 사이에 약간의 변화가 있을 수 있다)

	무처리	ZnP	ZnP + Zn 시트레이트	ZnP + Arg	상용 1
경도 감소%	67.56	34.13	44.19	31.26	32.96

이러한 일련의 실험에서, 아르기닌과 함께 인산 아연은 적어도 양성 대조군만큼 양호하게 나타나며, 의외로, 인산 아연 및 시트르산 아연의 조합보다 훨씬 더 양호하다.

실시예 3

화학 분석용 전자 분광법(ESCA, X선 광전자 분광법 또는 XPS라고도 함)은 고체 물질의 표면에 대한 화학적 정보를 얻기 위해 사용되는 표면 분석 기술이다. 재료 특성화 방법은 고체 샘플을 자극시키기 위해 X선 빔을 사용한 결과 광전자 방출을 일으킨다. 이러한 광전자 에너지 분석은 샘플 표면에 대한 원소적 및 화학적 결합 정보를 제공한다. 광전자의 상대적으로 낮은 운동 에너지는 대략 30Å의 샘플링 깊이에 ESCA를 준다. ESCA는 전술한 실시예에서 기술된 바와 같이 제조되고 처리된 연마 및 에칭된 법랑질 상에서 실시예 대 대조군 치약의 사용 전후의 미네랄 함량을 분석하기 위해 사용되며, 아연이 법랑질 표면에 전달되고 산 도전 이후에도 표면상에 아연이 잔류하며, 또한 효과적으로 플루오라이드를 전달함을 확인할 수 있다.

실시예 1의 각종 아연/아르기닌/인산 항-부식 페이스트로 처리된 법랑질 샘플에 대한 ESCA 데이터를 하기 표3에 기술하였는데, 감지된 요소 및 그의 각 원자 농도를 표시하고 있다. 모든 샘플은 각각의 연마, 에칭 및 처리 공정 후 분석되었다. 단순화를 위해, 모든 샘플에 대한 평균 조성물만이 연마 및 에칭된 표면을 위해 제공된다. 모든 경우에, 3-4개의 분리 영역으로 각각의 샘플에 대해 분석된다. 처리된 샘플의 경우, 각각의 영역의 조성물뿐만 아니라, 각 시료에 대한 평균 조성물도 제시되어 있다.

C 및 N은 표면 유기물로부터의 연마 및 에칭된 샘플상에서 검출된다. 칼슘 및 인은, 법랑질 표면에 대한 전형적인 P/Ca 비율로, 법랑질의 히드록실아파타이트 (HAP)에서 검출된다. 에칭된 표면에 대한 평균 P/Ca 비율은 연마된 표면에 대한 그 비율보다 약간 낮은데, 이는 에칭후에 표면에서 Ca에 대한 인산의 상대적인 감소를 나타낸다. 낮은 수준의 아연이 연마된 표면에서 검출되었는데, 이는 에칭에 의해 제거된다. 플루오라이드는 또한 낮은 수준으로 연마 및 에칭된 표면 모두에서 검출된다. 낮은 수준의 나트륨이 또한 관찰된다. 전반적으로, 연마 및 에칭된 법랑질 표면의 조성물이 소(bovine)의 법랑질에 전형적이다.

C 및 N은 표면 유기물로부터의 모든 처리된 샘플의 표면 상에서 검출된다. 모든 샘플에 대해 C 수준이 에칭된 표면에 대한 것보다 높았는데, 이는 대부분 페이스트로부터의 잔류 유기물의 존재로 인한 것이다. N 수준은 또한 에칭된 표면 대비, 처리된 샘플에 대해서 보다 높다.

칼슘 및 P는 법랑질 내 HAP로부터의 샘플 표면 상에 검출된다. 처리된 샘플에 대한 P/CA 비율은 에칭된 표면에 대한 것보다 더 높은데, 이는 Ca 대비 과량의 인산을 나타낸다. 모든 샘플에 대해서, Na 농도는 또한 에칭된 법랑질에 대한 것보다 상당히 높다. 처리된 샘플에 대한 더 높은 인산 및 나트륨 수준은 페이스트로부터의 인산 나트륨이 법랑질 표면에 침착된 것을 시사한다. Si는 또한 페이스트로부터의 잔류 실리카로 인해, 처리된 법랑질 상에 낮은 양으로 검출된다.

시트르산 아연 또는 인산 아연을 함유하는 페이스트로 처리된 법랑질 샘플은 그 표면에서 아연 농도가 높은 것으로 관찰된다. 이전의 연구에서는, 아연/칼슘 비율이 법랑질 표면상에 아연의 흡수를 비교하기 위한 최상의 수단이다. 인산 아연 페이스트로 처리된 법랑질에 대한 아연/칼슘 비가 시트르산 아연 페이스트로 처리된 것보다 높다. 이는 시트르산 아연 제품보다 인산 아연 페이스트가 법랑질 상에 더 많은 아연을 증착시킨다는 것을 나타낸다. 몰 기준으로, 인산 아연은 시트르산 아연보다 동일한 무게에 대해 더 많은 아연을 포함하고 있다. 이는 인산 아연 페이스트로 처리된 법랑질 상에서 검출된 아연의 양이 더 많음을 설명할 수 있으나, 인산 아연이 법랑질 표면에 아연을 전달하는데 효과적임이 좌우간 분명하다. 전반적으로, 본 연구에서 샘플에 대해 관찰된 아연/칼슘의 비율은 이전에 보고된 pH 순환 연구의 법랑질 샘플에 대한 것의 약 두배이다.

ESCA 아연 피크 위치는 법랑질 표면상의 아연의 화학적 상태에 대한 정보를 제공할 수 있다. 아연 함유 페이스트로 처리된 모든 샘플에 대한 아연 피크 위치는 동일하다. 이는 모든 샘플들에 존재하는 아연이 유사한 화학적 형태로 되어 있음을 시사한다. 또한, 아연 페이스트로 처리된 샘플에 대한 아연 피크 위치는 샘플이 연마 법랑질 표면 상의 백그라운드 아연의 위치와 동일하다. 법랑질에 본질적으로 존재하는 백그라운드 아연은 아마도 아연 HAP의 형태이다. 따라서, 이러한 데이터는 처리된 법랑질상의 아연도 아연 HAP의 형태일 수 있음을 시사한다.

플루오르화물의 형태의 F는 페이스트로 처리된 모든 법랑질 샘플의 표면에서 검출된다. 샘플들 간의 상대적인 플루오라이드 흡수는 또한 F/Ca 비율을 사용하여 가장 잘 결정된다. 이러한 데이터는 1% 및 2% 시트르산 아연 페이스트로 처리된 법랑질이 유사한 F/Ca 비율을 가진다는 것을 나타내는데, 이는 유사한 F 흡수량을 시사한다. 시트르산 아연 w/o 아르기닌 및 Zn₃(PO₄)₂ 페이스트로 처리된 법랑질은 다른 샘플보다 약간 낮은 F/Ca 비율을 보여주었다. 그러나, 후자의 두 처리에 대한 더 낮은 플루오라이드 흡수는 이러한 형태의 연구에서는 통상적 변화 이내에 있는 것이다.

ESCA 결과는 아연 침착이 시트르산 아연 또는 인산 아연 중 하나를 함유하는페이스트로 처리된 법랑질에 발생함을 나타낸다. 아연 침착은 시트르산 아연 페이스트와 비교하여 인산 아연을 함유하는 페이스트에 대해서 더 높다. 이러한 데이터는 또한 아연이 아연 HAP의 형태로 표면 상에 존재할 수 있음을 시사한다. 상승된 수준의 플루오라이드가 모든 페이스트로 처리된 샘플에 대한 관찰된다.

상세한 분석 결과를 표 3(이하)에 제시하였다.

이 데이터에서 볼 수 있듯이, 인산 아연 제형을 사용한 법랑질로의 아연 전달(평균 0.58)은 시트르산 아연 제형을 사용한 아연 전달보다 실제로 더 높다. 법랑질로의 아연 혼입은, 아마 아연-수산화인회석 물질(아연-히드록시파티트; zinc-hydroxypatite)의 형성을 통한 것인바, 부식 제어 및 세균성 바이오 필름 증착 억제시 아연의 이로운 효능의 관점에서 유리하다. 인산 아연 제제에 의한 플루오라이드 전달은 또한 허용가능한 범윈 내에서 대조군에 비하여 플루오라이드의 상당한 침착을 보여주는데, 이는 아르기닌없이 시트르산 아연을 포함하는 제제와 유사하다.

실시예 4

인산 아연은 물에 불용성이지만, 산성 용액에서는 가용성인 것으로 발견된다. 예를 들어, 2% 시트르산 아연(약 pH 2.4), 또는 심지어 0.05% 시트르산(약 pH 4)와 같이 매우 작은 양의 시트르산, 및 0.01-0.03%의 인산 아연을 포함하는 제제는 침전을 나타내지 않는다. 이는 인산 아연의 용해도가 아미노산 및/또는 베타인 계면활성제를 포함하는 제형에서 향상될 수 있음을 알 수 있다. 안정한 구강 세정제가 하기와 같이 제공된다:

성분	중량%
소르비톨	5.5
글리세린	7.5
프로필렌 글리콜	7
나트륨 사카린	0.02
시트르산(무수)	0.05
인산 아연	0.028
향료/염료	0.12
소르브산 칼륨	0.05
코카미도프로필 베타인	1
물	QS
합계	100

Claims (30)

1. 인산 아연이 예비형성된 염의 형태로 치약에 포함된,
   인산 아연을 포함하는 치약.
2. 제1항에 있어서, 인산 아연의 양이 0.05 내지 5중량%인 치약.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 치약의 베이스가 연마제를 포함하는 치약.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 인산 아연의 양이 0.1 내지 4중량%인 치약.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 습윤제 및 하나 이상의 계면활성제를 추가로 포함하는 치약.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 유효량의 플루오라이드 이온 급원을 추가로 포함하는 치약.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 염기성 아미노산 유리 염 형태 또는 경구적으로 허용가능한 염 형태로 추가로 포함하는 치약.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 알칼리 인산 염을 유효량으로 추가로 포함하는 치약.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 항균제를 유효량으로 추가로 포함하는 치약.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 미백제를 추가로 포함하는 치약.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 인산 아연에 추가하여 하나 이상의 아연 이온의 급원을 추가로 포함하는 치약.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 치약의 조성물 pH가 산성인 치약.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 치약의 조성물 pH가 염기성인 치약.
14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    1 내지 3%의 인산 아연;
    1 내지 8%의 아르기닌;
    2 내지 8%의, 이염기성 인산 나트륨, 이염기성 인산 칼륨, 인산 이수화물 이칼슘, 피로인산 칼슘, 피로인산 테트라나트륨, 피로인산 테트라칼륨, 트리폴리인산 나트륨, 및 이들 중 둘 이상의 배합물로부터 선택되는 알칼리 인산 염; 및
    700 내지 2,000ppm의 플루오라이드
    를 실리카 연마제 치약 베이스 내에 포함하는 치약.
15. 인산 아연이 예비형성된 염의 형태로 구강 세정제에 포함된,
    인산 아연을 포함하는 구강 세정제.
16. 제15항에 있어서, 인산 아연의 양이 0.5 내지 4중량%인 구강 세정제.
17. 제15항 또는 제16항에 있어서, 인산 아연의 양이 0.005 내지 4중량%인 구강 세정제.
18. 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 유효량의 플루오라이드 이온 급원을 추가로 포함하는 구강 세정제.
19. 제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 염기성 아미노산 유리 염 형태 또는 경구적으로 허용가능한 염 형태로 추가로 포함하는 구강 세정제.
20. 제15항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 알칼리 인산 염을 유효량으로 추가로 포함하는 구강 세정제.
21. 제15항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 향균제를 유효량으로 추가로 포함하는 구강 세정제.
22. 제15항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 미백제를 추가로 포함하는 구강 세정제.
23. 제15항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 인산 아연에 추가하여 하나 이상의 아연 이온의 급원을 추가로 포함하는 구강 세정제.
24. 제15항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 구강 세정제의 조성물 pH가 산성인 구강 세정제.
25. 제15항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 구강 세정제의 조성물 pH가 염기성인 구강 세정제
26. 제15항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    0.1 내지 2%의 인산 아연;
    0.1 내지 3%의 아르기닌;
    2 내지 8%의, 이염기성 인산 나트륨, 이염기성 인산 칼륨, 인산 이수화물 이칼슘, 피로인산 칼슘, 피로인산 테트라나트륨, 피로인산 테트라칼륨, 트리폴리인산 나트륨, 및 이들 중 둘 이상의 배합물로부터 선택되는 알칼리 인산 염; 및
    700 내지 2,000ppm의 플루오라이드
    를 실리카 연마제 치약 베이스 내에 포함하는 구강 세정제.
27. 제15항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    5 - 10%의 글리세린;
    3 - 7%의 소르비톨;
    5 - 10%의 프로필렌 글리콜;
    0 - 0.1%의 TSPP;
    0.01 - 1%의 감미료;
    0.01 - 1%의 시트르산;
    0 - 0.1%의 잔탄(xanthan);
    0.005 - 0.05%의 인산 아연;
    0 - O.O1%의 세틸 피리디늄 염화물;
    0.01 - 0.1%의 소르빈산 칼륨;
    0.05 - 1%의 향료; 및
    0.1 - 2%의 코카미도프로필베타인
    을 포함하는 구강 세정제.
28. 인산 아연이 치약 또는 구강 세정제에 예비형성된 염의 형태로 첨가된 치약 또는 구강 세정제의 제조에 있어서의 인산 아연의 용도.
29. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 따른 치약 또는 구강 세정제를 필요한 개체의 구강에 투여하는 단계를 포함하는, 치아 법랑질의 부식을 치료 또는 감소시키는 방법.
30. 치아 법랑질 부식의 치료 또는 감소에 사용되는, 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 다른 치약 또는 구강 세정제의 조성물.