CN101938979B - 口腔护理方案 - Google Patents

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Abstract

本发明包括清洁口腔表面、保持口腔健康和/或增加口腔健康的方法。这类方法包括至少每日一次用基本口腔护理组合物接触口腔表面、至少每月一次用定期口腔护理保持组合物接触口腔表面，其中的定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸，和任选至少每月一次用定期口腔护理清洁组合物接触口腔表面。适用于所述方法的定期口腔护理清洁组合物包含研磨系统。

Description

口腔护理方案
相关申请的交叉参考
本申请要求2008年2月8日提交的美国专利系列号12/028,782、2008年2月8日提交的美国专利系列号61/027,420、2008年2月8日提交的美国专利系列号61/027,435、2008年2月8日提交的美国专利系列号61/027,431和2008年2月8日提交的美国专利系列号61/027,432的权益，它们的内容通过引用结合至本文中。
发明背景
在经牙科医生或卫生师进行专业牙齿清洁后，消费者说出类似于水疗或美容所体验那样的爽快、满足、清洁和全面健康的感觉。因此，本领域需要家庭口腔护理方案，它令消费者再产生专业牙齿清洁后所体验的“特别清洁”口感和与健康相关的感觉，它与保护牙齿表面免于龋齿、过敏和其它口腔护理和全身健康益处的方案相结合。
发明简述
本发明包括清洁口腔表面、保持口腔健康和/或增加口腔健康的方法。这类方法包括至少每日一次用基本口腔护理组合物接触口腔表面、至少每月一次用定期口腔护理保持组合物接触口腔表面。本发明任选还包含至少每月一次用定期口腔护理清洁组合物接触口腔表面。适用于所述方法的定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸。适用于所述方法的定期口腔护理清洁组合物包含Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转的第一种研磨剂，和Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转的第二种研磨剂。在定期口腔护理清洁组合物中，第一种研磨剂对第二种研磨剂的比例为约1∶1.6至约1.6∶1。定期口腔护理清洁组合物的特征在于表层清洁比大于约100和放射性牙质磨耗小于约200。另外或或者，所述方法可包括其中所述第二种研磨剂含有二氧化硅和吸油值大于约90cm3/100g和/或Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转的那些。第一种研磨剂对第二种研磨剂的比可为约1∶1.6至约1.6∶1。以组合物计，存在于口腔用组合物的第一种和第二种研磨剂的总量可大于约25％重量，和/或口腔用组合物的表层清洁比大于约100和放射性牙质磨耗小于约200。
本发明提供用于治疗性处理口腔表面的定期口腔护理保持组合物，其包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸，该处理包括a.至少每日一次用基本口腔护理组合物接触口腔表面，和b.至少每月一次用定期口腔护理保持组合物接触口腔表面。
本发明还提供组合制剂，该组合制剂包含用于制备组合制剂的定期口腔护理保持组合物和基本口腔护理组合物，用于在口腔表面的治疗性处理中同时、序贯或分别给予患者，其中所述口腔表面：
a.与基本口腔护理组合物接触至少每日一次，和
b.与定期口腔护理保持组合物接触至少每月一次；和
其中所述定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸。
本发明还提供呈游离或盐形式的碱性氨基酸在制备用于口腔表面的治疗性处理的定期口腔护理保持组合物中的用途，该处理包括a.用基本口腔护理组合物接触口腔表面至少每日一次，和b.用定期口腔护理保持组合物接触口腔表面至少每月一次。
本发明还提供定期口腔护理保持组合物和基本口腔护理组合物在制备组合制剂中的用途，该组合制剂用于在口腔表面的治疗性处理中同时、序贯或分别给予患者，其中所述口腔表面：
a.与基本口腔护理组合物接触至少每日一次，和
b.与定期口腔护理保持组合物接触至少每月一次；和
其中所述定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸。
本发明还提供一种方法，所述方法包括：a.用基本口腔护理组合物接触口腔表面至少每日一次，和b.用定期口腔护理保持组合物接触口腔表面至少每月一次，其中所述定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸。
发明详述
本发明提供清洁口腔表面的护理方法(regimen method)，以除去例如细菌、食物残渣、生物膜、牙斑和/或可能导致或引起各种口腔病症，例如口臭、口腔不卫生、齿龈炎、牙龈炎或牙周炎的其它试剂。本发明的护理方法还给使用者的牙齿表面提供光滑、擦亮的感觉和外观，它们可被理解为比得上专业清洁后所体验的“干净感觉”。还提供保持口腔健康和/或增加口腔健康的方法。
因此，本发明组合物可用于治疗口中的口腔病症，和清洁口腔和提供加强口腔健康的改善的方法。
加强口腔健康还为全身健康带来益处，因为口腔组织可能是全身感染的途径。良好的口腔健康与全身健康，包括心血管健康有关。本发明组合物和方法提供特有的益处，因为碱性氨基酸，尤其是精氨酸是提供NO合成途径的氮的来源，从而促进口腔组织中的微循环。提供更低酸性的口腔环境也有助于减轻胃痛并创造一个更不利于涉及胃溃疡的日光属杆菌的环境。为高度表达特定免疫细胞受体，例如T-细胞受体，尤其需要精氨酸，以便精氨酸能促进有效的免疫响应。因而，本发明组合物和方法可用于增强全身健康，包括心血管健康。
一经施用于口腔，例如通过刷洗，基本和定期口腔护理组合物就可有效(i)减少或抑制龋齿的形成，(ii)例如，如经定量光激发荧光(QLF)或龋齿电测量(ECM)测定，减少、修复或抑制珐琅质龋齿前损伤，(iii)减少或抑制牙齿的去矿化和促进牙齿的再矿化，(iv)减少牙齿的过敏性，(v)减少或抑制牙龈炎，(vi)促进口腔中溃疡或伤口的愈合，(vii)降低产酸菌的水平，(viii)提高arginolytic菌的相对水平，(ix)抑制口腔中微生物生物膜的形成，(x)在糖挑战后升高和/或保持牙斑pH处于至少pH 5.5的水平，(xi)减少牙斑积聚，(xii)治疗、缓解或减少口干，(xiii)清洁牙齿和口腔(xiv)减少侵蚀，(xv)牙齿增白，(xvi)使牙齿对致龋菌免疫；和/或(xvii)例如，通过减少经口腔组织而全身感染的可能性，促进全身健康，包括心血管健康。
本发明是口腔护理方案，它包括用至少两种口腔护理组合物按不同的时间增量接触口腔表面。要处理的口腔表面包括口腔中的任何表面。示例性的表面包括硬组织(例如，牙齿)和软表面(例如，齿龈和舌头)。
用于本发明护理方法的一种口腔护理组合物是基本口腔护理组合物。基本口腔护理组合物可为本领域任何已知的或要被开发的，并可采用任何形式。例如，基本口腔护理组合物可呈冲洗剂、糊剂、凝胶剂、液体剂、混悬剂、薄膜剂、贴剂、口胶剂、锭剂、糖膏剂或半固体糊剂或粘贴剂的形式。基本口腔护理组合物可为普通牙膏，例如以COLGATE商标(Colgate-Palmolive Company，New York，New York)或以CREST商标(Procter & Gamble Corporation，Cincinnati，Ohio)出售的那些。或者，基本口腔护理组合物可为描述于，例如，美国专利号4,721,614；4,894,220；4,986,981；5,037,635；5,156,835；5,288,480；5,344,641；5,538,715；5,776,435和美国专利申请公布号2004/0126332、2004/0136924、2005/0019273、2005/0271601和2005/0271602的那些中的任何一种，它们各自的内容通过引用结合至本文中。
基本口腔护理组合物可含有一种或多种试剂，例如湿润剂、溶剂、增稠剂、表面活性剂、研磨剂、矫味剂、着色剂、粘度和/或流变学调节剂、树胶、聚合物、增甜剂等。可存在于基本口腔护理组合物的试剂的实例包括抗菌剂、牙斑分散剂、抗粘附剂、抗龋齿剂、脱敏剂、矫味剂、着色剂、锡离子剂、三氯生、三氯生单磷酸盐、氯己定、阿来西定、海克替啶、血根碱、苯扎氯铵、水杨苯胺、度米芬、西吡氯铵、十四烷基氯化吡啶、N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶、奥替尼啶、地莫匹醇、辛哌醇、乳链菌肽、锌离子剂、铜离子剂、精油、呋喃酮、细菌素、月桂酰精氨酸乙酯、木兰提取物、金属离子源、精氨酸碳酸氢盐、和厚朴酚、magonol、熊果酸、ursic acid、桑色素、沙棘提取物、过氧化物、酶、山茶提取物、类黄酮、黄烷、卤化二苯醚、肌氨酸和/或蜂胶。
在本发明方法的实践中，基本口腔护理组合物可施用于或接触到口腔表面至少每日一次。在某些实施方案中，基本口腔护理组合物的施用每日可进行2、3、4、5、6、7次或每日最高达15次。
可采用本领域已知或待开发的任何手段，使口腔表面接触基本口腔护理组合物；根据基本口腔护理组合物的形式，这类手段有所不同。使基本口腔护理组合物接触口腔表面的示例性手段包括采用器具(例如刷子、牙刷、棒状物、海绵、棉签)、灌洗、咀嚼、相邻放置和糖膏溶解施用。
用于本发明方法的另一种口腔护理组合物是定期口腔护理保持组合物。通常由消费者施加口腔护理保持组合物。口腔护理保持组合物为选自漱口水、牙膏、牙凝胶、牙粉、非磨蚀凝胶、摩丝、泡沫、口腔喷雾、锭剂、口服片剂、涂剂或密封剂的形式。定期口腔护理保持组合物包含有效量的呈游离或盐形式的碱性氨基酸，例如精氨酸。组合物可还包含有效量的抗菌剂，例如，三氯生和/或Zn+2离子来源，例如，柠檬酸锌；有效量的氟离子来源，例如，可溶氟化物盐；和/或聚合物。
特别是，抗菌剂可选自卤化二苯醚(例如，三氯生)、草本提取物和精油(例如，迷迭香提取物、茶叶提取物、木兰提取物、麝香草酚、薄荷醇、桉油精、香叶醇、香芹酚、柠檬醛、日柏酚、儿茶酚、水杨酸甲酯、表没食子儿茶素没食子酸酯、表没食子儿茶精、没食子酸、miswak提取物、沙棘提取物)、双胍类抗菌剂(例如，氯己定、阿来西定或奥替尼啶)、季铵化合物(例如，西吡氯铵(CPC)、苯扎氯铵、十四烷基氯化吡啶(TPC)、N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC))、酚类抗菌剂、海克替啶、奥替尼啶、血根碱、聚维酮碘、地莫匹醇、salifluor、金属离子(例如，锌盐，例如，柠檬酸锌、锡盐、铜盐、铁盐)、血根碱、蜂胶和氧化剂(例如，过氧化氢、缓冲的过硼酸钠或过氧碳酸钠)、酞酸及其盐、单酞酸及其盐和酯、抗坏血酸硬酯酸酯、油酰肌氨酸、硫酸烷基酯、磺基琥珀酸二辛酯、水杨苯胺、度米芬、地莫匹醇、辛哌醇和其它哌啶子基衍生物、糖球菌素制剂、亚氯酸盐；和任何前述物质的混合物。
在某些实施方案中，可根据口腔护理保持组合物释放形式和期望的最终益处，每日、每隔一天、每周、每月或任何其它间隔时间施用口腔护理保持组合物。例如，当口腔护理释放形式是牙膏时，例如，至少每日使用一次，当口腔护理释放形式是涂剂(varnish)时，例如，每周或每月使用一次。
用于本发明方法的另一种口腔护理组合物是定期口腔护理清洁组合物。定期口腔护理清洁组合物的的表层清洁比(“PCR”)典型地大于约100，而放射性示踪剂牙质磨耗(“RDA”)为小于约200。在某些实施方案中，RDA少于或等于约175，尽管PCR仍超过约100。在某些实施方案中，RDA小于约165。(进行PCR和RDA的方法描述于例如，美国专利号5,939,051和6,290,933，它们二者都通过全文引用结合至本文)。
定期口腔护理清洁组合物可包含第一种研磨剂和第二种研磨剂；这类研磨剂描述于美国公布号2007/0140986，其内容通过引用结合至本文。
在某些实施方案中，定期口腔用组合物包含Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转的第一种研磨剂和Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转的第二种研磨剂。当与口腔表面接触时，Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转的第一种颗粒具有主要的打磨功能。Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转的第二种颗粒具有主要的清洁功能，因为它是更软的颗粒。在某些实施方案中，第二种颗粒的硬度大于约10mg损失/100,000次旋转，和在其它实施方案中，大于约15mg损失/100,000次旋转。
定期口腔护理清洁组合物的第一种研磨剂可以是硬度小于或等于要处理的口腔表面的清洁研磨剂，和第二种研磨剂是硬度大于或等于要处理的口腔表面的打磨研磨剂。
定期口腔护理清洁组合物中的第一种研磨剂和第二种研磨剂各自具有粒度。在某些实施方案中，第一种粒度小于第二种粒度。例如，可采用美国Malvern Instruments.Inc.of Southborough，Massachusetts的Malvern粒度分析仪(型号Mastersizer S)测量平均粒度。
在某些实施方案中，第一种研磨剂的平均粒度小于约11μm，例如，小于约10μm。例如，合适研磨剂的实例的平均粒度介于约7μm至约11μm之间。某些研磨剂的粒度小于约5μm。在其它实施方案中，第二种研磨剂的平均粒度大于约8μm，例如，大于约10μm。在某些实施方案中，第二种研磨剂的平均粒度可为约8μm至约14μm。
可选择满足上述要求的口服或化妆上可接受的任何研磨剂用于定期口腔护理清洁组合物。合适的研磨剂包括但不限于二氧化硅、硅酸盐、硅、氧化铝(包括煅烧氧化铝)、硅铝酸盐，例如彭润土、沸石、高岭土和云母、硅土或硅藻土、浮石、碳酸钙、海螵蛸、不溶磷酸盐、复合树脂，例如三聚氰胺树脂、酚醛树脂和脲醛树脂、聚碳酸酯、碳化硅、碳化硼、微晶蜡、微晶纤维素、包括来自美国的FMCBiopolymer of Philadelphia Pennsylvania以品名AVICEL出售的胶体微晶纤维素和羧甲基纤维素的组合和以上全部物质的组合和衍生物。″云母″表示任何一组具有平板形态和完整的基础(云母状)裂痕的含水硅铝酸盐矿物质。云母可为例如片状云母、碎屑云母或薄片云母，示例性有白云母、黑云母或金云母。在可用作研磨剂的不溶解磷酸盐中有正磷酸盐、聚偏磷酸盐和焦磷酸盐。示例性实例有磷酸氢钙二水合物、磷酸钙二水合物、磷酸氢钙、焦磷酸钙、β-焦磷酸钙、磷酸三钙、偏磷酸钙、偏磷酸钾和偏磷酸钠。
合成二氧化硅包括可例如，用强无机酸中和硅酸盐水溶液制备的二氧化硅凝胶和沉淀二氧化硅。在二氧化硅凝胶的制备中，再将所形成的二氧化硅水凝胶典型地洗涤至低盐含量。可将经洗涤的水凝胶碾磨成期望的大小，或以其它方式干燥，最终至其结构不再因收缩而变化为止。当制备这类合成二氧化硅时，目标是得到研磨剂，该研磨剂以最小的牙齿珐琅质和其它口腔组织的损伤提供最大的清洁(即，去除玷污的表皮)。
制备定期口腔用组合物的有用的研磨剂材料包括高清洁、低构造的二氧化硅研磨剂，例如Davison Chemical Division of W.R.Grace & Co.of Baltimore，MD以品名SYLODENTXWA或SYLODENT783出售的那些。SYLODENTXWA 650是由胶体二氧化硅颗粒组成的二氧化硅水凝胶。示例性二氧化硅水凝胶包括二氧化硅胶体颗粒，其平均粒度为约3μm至约12μm，例如介于约5μm至约10μm之间，当作为5％重量浆状物测量时，pH介于约4至约10之间，例如约6至约9之间。XWA 650颗粒含有约10％至约35％重量水，具有约5μm至约12μm平均粒度，Einlehner硬度大于或等于约5至约20mg损失/100,000次旋转，吸油值小于约90cm3/100g，例如介于约40cm3/100g至约90cm3/100g之间。研磨剂的Brunauer、Emmett和Teller(BET)表面积为约100至约700m2/g。XWA 650具有约96.8technidyne白度。这类研磨剂公开于例如美国专利号6,290,933，其通过引用全文结合至本文中。
可包含于定期组合物的另一种高度清洁二氧化硅研磨剂以SYLODENTXWA 300出售，是含有约10％至约25％重量水的二氧化硅水凝胶，其中平均粒度为约2μm至约4μm。颗粒的BET表面积介于约150至约400m2/g二氧化硅的范围。XWA 300研磨剂的吸油值小于约90cm3/100g二氧化硅；在沸腾(无CO2)除盐水中呈5％重量悬浮液的pH等于或大于约8.5。这类研磨剂公开于美国专利号5,939,051，其通过引用全文结合至本文中。
可包含于定期组合物的另一种合适的高度清洁二氧化硅包含二氧化硅制品，其中颗粒有约5％至约35％重量水，平均粒度为约7μm至约11μm，Einlehner硬度为约12至约19，吸油值为约50cm3/100g至约65cm3/100g。BET表面积为约100至约700m2/g二氧化硅。所报道的白度通常为大于约95technidyne。这样的二氧化硅制品以ZEODENT105市售自美国的J.M.Huber of Havre de Grace.Maryland。
可采用的其它研磨剂包括典型的清洁二氧化硅研磨剂，例如平均粒度最高至约20μm，典型地为约8至约14μm，吸油结构大于约90至约110cm3/100g的沉淀二氧化硅，例如J.M.Huber出售的ZEODENT115，5％颗粒下其pH为约6.5-约7.5和Einlehner硬度为约2至约4mg损失/100,000次旋转。这样的二氧化硅颗粒的白度为大于约95。在某些实施方案中，这类清洁研磨剂包含口腔用组合物的第二种研磨剂。
可用于本文的二氧化硅研磨剂打磨材料以及其它研磨剂，通常具有介于约0.1和约30微米之间，介于约5和约15微米之间的平均粒度。二氧化硅研磨剂可来自沉淀二氧化硅或二氧化硅凝胶，例如描述于Pader等的美国专利号3,538,230和Digiulio的美国专利号3,862,307的二氧化硅干凝胶，二者通过引用结合至本文中。特定的二氧化硅干凝胶由W.R.Grace & Co.，Davison Chemical Division以品名Syloid出售。沉淀二氧化硅材料包括J.M.Huber公司以品名Zeodent出售的那些，包括称为Zeodent 115和119的二氧化硅。这些二氧化硅研磨剂描述于Wason的美国专利号4,340,583，其通过引用结合至本文。
在某些实施方案中，可用于根据本发明的口腔护理组合物的实践的研磨材料包括吸油值约小于100cc/100g二氧化硅和介于约45cc/100g至约70cc/100g二氧化硅的二氧化硅凝胶和沉淀无定形二氧化硅。采用ASTA Rub-Out方法D281测量吸油值。在某些实施方案中，二氧化硅是平均粒度为约3微米至约12微米和约5至约10微米的胶体颗粒。
在特定实施方案中，微粒或研磨剂材料包含大部分极小颗粒，例如，d50小于约5微米，例如，d50约3至约4微米的小颗粒二氧化硅(SPS)，例如Sorbosil AC43(Ineos)。这类小颗粒特别可用于针对减轻过敏的制剂。小颗粒组分可与第二种较大颗粒的研磨剂组合存在。在某些实施方案中，例如，制剂包含约3至约8％SPS和约25至约45％的常规研磨剂。
Davison Chemical Division of W.R.Grace & Co.，Baltimore，Md.21203以品名Sylodent XWA出售特别可用于本发明的实践的低吸油二氧化硅研磨剂。Sylodent 650XWA，一种由水含量为约29％重量，平均直径约7至约10微米的胶体二氧化硅颗粒组成的二氧化硅水凝胶，吸油值小于约70cc/100g二氧化硅是可用于本发明的实践的低吸油值二氧化硅研磨剂的实例。研磨剂以约10至约60％重量，在其它实施方案中约20至约45％重量和在另一个实施方案中约30至约50％重量的浓度存在于本发明口腔护理组合物。
在其中洁牙剂是清澈或透明凝胶的实施方案中，胶体二氧化硅研磨剂，例如以商标SYLOID如SYLOID72和SYLOID74或以商标SANTOCEL100碱金属氧化铝-硅酸盐络合物出售的那些是特别有用的，因为它们的折射率接近常用于洁牙剂的胶凝剂-液体(包含水和/或湿润剂)系统的折射率。
根据本发明的各种实施方案，第一种和第二种研磨剂组合于定期组合物，提供清洁能力、温和(相对低的磨损)和美学上可接受的定期护理组合物。在各种实施方案中，第一种研磨剂对第二种研磨剂的量可表达为第一种研磨剂对第二种研磨剂的比，介于约1∶1.6至约1.6∶1之间。例如，第一种研磨剂对第二种研磨剂的比为约1∶1。存在于口腔用组合物中的第一种研磨剂和第二种研磨剂的各自的量可为口腔用组合物的约13至约21％重量。
在某些实施方案中，以口腔用组合物计，第一种研磨剂的量为约15％至约19％，第二种研磨剂的量为约15％至约19％重量。在某些优选的实施方案中，以口腔用组合物计，第一种研磨剂以约17％重量存在和第二种研磨剂以约17％重量存在。因此，根据本发明的各种实施方案，以定期口腔护理清洁组合物的总重量计，包含第一种和第二种研磨剂的定期口腔护理清洁组合物中的研磨剂的总量为例如大于约25％、大于约30％，和在某些实施方案中大于约35％重量。
在某些实施方案中，定期口腔用组合物包含Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转的第一种研磨剂和Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转的第二种研磨剂。第一种研磨剂对第二种研磨剂的比介于约1∶1.6至约1.6∶1。此外，定期口腔用组合物的PCR大于约100和RDA小于约200。在某些实施方案中，RDA小于约175。在某些实施方案中，第一种研磨剂的吸油值小于约90cm3/100g，和第二种研磨剂的吸油值大于约90cm3/100g。在某些实施方案中，第一种研磨剂对第二种研磨剂的比为约1∶1。包含第一种和第二种研磨剂二者的研磨剂的总量大于约30％。第一种研磨剂和第二种研磨剂任选分别各以约17％存在。在某些实施方案中，第一种和第二种研磨剂各以定期口腔护理清洁组合物总重量的约15％至约19％重量的量存在。第一种和第二种研磨剂任选包含二氧化硅。
在某些实施方案中，定期口腔用组合物包含第一种研磨剂，该第一种研磨剂含有二氧化硅，Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转和吸油值小于约90cm3/100g。定期口腔用组合物还包含第二种研磨剂，该第二种研磨剂含有二氧化硅，Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转和吸油值大于约90cm3/100g。以组合物的重量计，第一种研磨剂以约13％至约21％重量存在，同样，第二种研磨剂以约13％至约21％重量的量存在。在某些实施方案中，第一种研磨剂和第二种研磨剂分别以定期口腔用组合物重量的约15％至约19％重量存在。在某些实施方案中，第一种和第二种研磨剂分别以口腔用组合物重量的约17％的量存在。PCR例如大于约100，和RDA例如小于约200，和在某些实施方案中，小于约175。第一种和第二种研磨剂存在于口腔用组合物的总量例如大于约25％，或例如大于约30％。
在某些实施方案中，定期口腔用组合物包含第一种研磨剂，该第一种研磨剂含有二氧化硅，吸油值小于约90cm3/100g和Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转。定期口腔用组合物还包含第二种研磨剂，该第二种研磨剂含有二氧化硅，吸油值大于约90cm3/100g和Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转。第一种研磨剂对第二种研磨剂的比为约1∶1.6至约1.6∶1。此外，存在于口腔用组合物的第一种和第二种研磨剂总量大于组合物重量的约25％。
在某些实施方案中，定期口腔用组合物中第一种研磨剂对第二种研磨剂的比介于约1∶1.6至约1.6∶1之间。在特定实施方案中，活性成分包含非离子抗菌成分，例如卤化二苯醚如三氯生，下文将更详细地讨论它。在某些实施方案中，第一种研磨剂吸油值小于约90cm3/100g和Einlehner硬度大于约5mg损失/100,000次旋转，和第二种研磨剂吸油值大于约90cm3/100g和Einlehner硬度小于约5mg损失/100,000次旋转。
本文所述的定期口腔护理清洁组合物(基本和定期两者)可包含口腔可接受的载体。可用于形成口腔护理组合物载体的各常规成分为熟练技术人员所熟知。载体可为液相、半固相或固相。口腔用组合物可为洁牙剂(包括牙膏、牙粉和预防性糊剂)、糖膏剂(包括树胶、珠和口香糖)、膜、涂抹凝胶形式，或采用研磨剂领域的技术人员所知的其它任何形式。具体载体组分的选择取决于期望的产物形式。
在某些优选的实施方案中，组合物独立为洁牙剂形式，其中示例性载体基本为半固体或固体。载体可含水，在该情况下载体例如，含有约5％至约95％水。在其它实施方案中，载体基本不含水。载体任选包含例如口腔护理活性成分、表面活性试剂例如表面活性剂、乳化剂和泡沫调节剂、粘度调节剂和增稠剂、湿润剂、稀释剂、填充剂、额外的pH调节剂、着色剂、防腐剂、溶剂及其组合。应理解，尽管以上各类材料的一般属性可能不同；但两种或多种这类材料中可能存在某些共性，且任何给定的材料可能用于多个目的。如本领域技术人员认识到的那样，口腔用组合物任选包含除先前描述过的那些组分之外的其它材料，包括例如润肤剂、保湿剂、口感剂等。适用于口腔用组合物的载体的实例公开于美国专利号6,669,929，6,379,654和4,894,220，它们各自的内容通过引用结合至本文中。
口腔护理活性成分包括例如抗菌活性剂、防牙垢剂、抗龋齿剂、抗炎剂、抗过敏剂、酶、营养剂等。可用于本文的那些中的活性剂还公开于美国专利号6,290,933和6,685,921，它们各自的内容通过引用结合至本文中。
基本和/或定期口腔护理组合物可还包含干扰或防止细菌附着的试剂，例如，对羟基苯甲酸乙酯或壳聚糖。
任何合适的氟离子来源，例如美国专利号5,080,887中所列举的那些，可存在于任一种或两种口腔用组合物，其内容通过引用结合至本文中。氟离子、酸性磷酸酶和焦磷酸酶抑制剂来源是本领域熟知的抗龋齿剂。例如，这类来源的实例有无机金属和/或氟化铵盐和化合物，例如：氟化钠、氟化钾、氟化铵、氟化胺、氟化钙；氟化铜，例如氟化亚铜；氟化锌、氟化钡；氟硅酸钠、氟硅酸钠、氟硅酸铵、氟锆酸钠；和单氟磷酸钠、单-和双-氟磷酸铝和氟化焦磷酸钠钙及其组合。氟离子来源也可为氟化胺，例如奥拉氟(N′-十八烷基三亚甲基二胺-N，N，N′-三(2-乙醇)-二氢氟化物)。优选氟化钠、氟化胺、氟化锡、单氟磷酸钠(MFP)和它们的混合物。在某些实施方案中，氟离子来源包括氟化锡、氟化钠、单氟磷酸钠及其混合物。
在某些实施方案中，本发明定期和/或基本口腔护理组合物还可以足以提供约25ppm-25,000ppm，通常至少约500ppm，例如约500至约2000ppm，例如约1000至约1600ppm，例如约1450ppm氟离子的量，含有氟离子来源或供氟成分。氟离子的适当水平将取决于具体应用。漱口水，例如，典型地具有约100至约250ppm氟离子。针对普通消费者用途的牙膏典型地具有约1000至约1500ppm，并且儿科牙膏稍少一些。专业应用的洁牙剂或涂料可含有多达5,000或甚至25,000ppm氟离子。
本发明定期和/或基本口腔护理组合物可包含磷酸钙研磨剂，例如磷酸三钙(Ca3(PO4)2)、羟基磷灰石(Ca10(PO4)6(OH)2)或磷酸氢钙二水合物(CaHPO4·2H2O，本文有时也称为DiCal)或焦磷酸钙。
任一种或两种口腔用组合物任选包含防牙垢组分，例如美国专利号5,292,526所列出的一种或多种防牙垢组分，其内容通过引用结合至本文。在各种实施方案中，防牙垢组分包括一种或多种多磷酸盐。防牙垢组合物可包含以有效防牙垢量存在于口腔用组合物中的至少一种全部或部分中和的碱金属或三聚磷酸铵或六偏磷酸盐。防牙垢组分还可包含有效防牙垢量的至少一种可溶于水、直链、分子胶水的多磷酸盐。防牙垢组分还可包括钾和钠盐的混合物，它们中至少一种以有效防牙垢量作为多磷酸盐防牙垢剂存在。有用的其它防牙垢剂包括聚羧酸盐聚合物和聚乙烯甲醚/马来酸酐(PVM/MA)共聚物，例如GANTREZ
已知可用于口腔护理组合物的所有其它物质或分子可包含于日常或定期组合物的任一种或二者中。例如这类额外的分子可包括抗菌剂、抗牙斑剂、脱敏剂、抗炎剂、着色剂、增稠剂、矫味剂、表面活性剂、研磨剂、抗粘附剂、抗龋齿剂、感觉试剂(sensate)和/或维生素。
可加至任一种或两种组合物的其它组分包括锡离子剂；三氯生；三氯生单磷酸盐；氯己定；阿来西定；海克替啶；血根碱；苯扎氯铵；水杨苯胺；度米芬；西吡氯铵(CPC)；十四烷基氯化吡啶(TPC)；N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC)；奥替尼啶；地莫匹醇；辛哌醇；乳链菌肽；锌离子剂；铜离子剂；精油；呋喃酮；细菌素、月桂酰精氨酸乙酯、木兰提取物、金属离子源、精氨酸碳酸氢盐、和厚朴酚、magonol、熊果酸、ursic acid、桑色素、沙棘提取物、过氧化物、酶、山茶(Camellia)提取物、类黄酮、黄烷、卤化二苯醚、肌氨酸、壳聚糖和蜂胶。
如全文使用，使用各范围作为简化方法来描述落在该范围内的每一个值和各个值。该范围内的任何值可选作该范围的端值。另外，本文引用的所有参考文献通过引用而全文结合至本文中。本公开与所引用参考文献的定义之间如不一致，以本公开为准。应理解，照本领域通用的那样，当描述制剂时，是就其各成分进行描述，尽管实际制剂中的这些成分可能在制备、贮存和使用时互相反应，这类产品将为所描述的制剂所涵盖。

Claims (15)

1.组合制剂，该组合制剂包含定期口腔护理保持组合物和基本口腔护理组合物，
其中所述定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸；
其中所述定期口腔护理保持组合物包含Einlehner硬度大于5mg损失/100,000次旋转的第一种研磨剂，和Einlehner硬度小于5mg损失/100,000次旋转的第二种研磨剂；
其中第一种研磨剂对第二种研磨剂的比例为1∶1.6至1.6∶1；
其中所述定期口腔护理保持组合物具有大于100的表层清洁比和小于200的放射性牙质磨耗。
2.权利要求1的组合制剂，所述定期口腔护理保持组合物还包含有效量的抗菌剂、有效量的氟离子来源和/或聚合物中的至少一种。
3.权利要求1的组合制剂，其中所述碱性氨基酸包括精氨酸。
4.权利要求1的组合制剂，其中所述碱性氨基酸呈盐形式，并选自精氨酸磷酸盐、精氨酸碳酸氢盐和精氨酸盐酸盐。
5.权利要求1的组合制剂，其中所述基本口腔护理组合物包含选自研磨剂、抗菌剂、牙斑分散剂、抗粘附剂、抗龋齿剂、脱敏剂、矫味剂、着色剂和感觉剂的试剂。
6.权利要求1的组合制剂，其中所述基本口腔护理组合物包含选自锡离子剂；三氯生；三氯生单磷酸盐；氯己定；阿来西定；海克替啶；血根碱；苯扎氯铵；水杨苯胺；度米芬；西吡氯铵(CPC)；十四烷基氯化吡啶(TPC)；N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC)；奥替尼啶；地莫匹醇；辛哌醇；乳链菌肽；锌离子剂；铜离子剂；精油；呋喃酮；细菌素、月桂酰精氨酸乙酯、木兰提取物、金属离子源、精氨酸碳酸氢盐、和厚朴酚、magonol、熊果酸、ursic acid、桑色素、沙棘提取物、过氧化物、酶、山茶提取物、类黄酮、黄烷、卤化二苯醚、肌氨酸、壳聚糖和蜂胶的试剂。
7.清洁口腔表面的非治疗方法，所述方法包括：
a.至少每日一次用基本口腔护理组合物接触口腔表面，和
b.至少每月一次用定期口腔护理保持组合物接触口腔表面，
其中所述定期口腔护理保持组合物包含呈游离或盐形式的碱性氨基酸；
其中所述定期口腔护理保持组合物包含Einlehner硬度大于5mg损失/100,000次旋转的第一种研磨剂，和Einlehner硬度小于5mg损失/100,000次旋转的第二种研磨剂；
其中第一种研磨剂对第二种研磨剂的比例为1∶1.6至1.6∶1；
其中所述定期口腔护理保持组合物具有大于100的表层清洁比和小于200的放射性牙质磨耗。
8.权利要求7的非治疗方法，所述定期口腔护理保持组合物还包含有效量的抗菌剂、有效量的氟离子来源和/或聚合物中的至少一种。
9.权利要求7的非治疗方法，其中所述碱性氨基酸包括精氨酸。
10.权利要求7的非治疗方法，其中所述碱性氨基酸呈盐形式，并选自精氨酸磷酸盐、精氨酸碳酸氢盐和精氨酸盐酸盐。
11.权利要求7的非治疗方法，其中所述基本口腔护理组合物包含选自研磨剂、抗菌剂、牙斑分散剂、抗粘附剂、抗龋齿剂、脱敏剂、矫味剂、着色剂和感觉剂的试剂。
12.权利要求7的非治疗方法，其中所述基本口腔护理组合物包含选自锡离子剂；三氯生；三氯生单磷酸盐；氯己定；阿来西定；海克替啶；血根碱；苯扎氯铵；水杨苯胺；度米芬；西吡氯铵(CPC)；十四烷基氯化吡啶(TPC)；N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC)；奥替尼啶；地莫匹醇；辛哌醇；乳链菌肽；锌离子剂；铜离子剂；精油；呋喃酮；细菌素、月桂酰精氨酸乙酯、木兰提取物、金属离子源、精氨酸碳酸氢盐、和厚朴酚、magonol、熊果酸、ursic acid、桑色素、沙棘提取物、过氧化物、酶、山茶提取物、类黄酮、黄烷、卤化二苯醚、肌氨酸、壳聚糖和蜂胶的试剂。
13.权利要求7的非治疗方法，其中所述基本口腔护理组合物每日施用2-5次。
14.权利要求7的非治疗方法，其中所述口腔表面与定期口腔护理保持组合物接触每周至少一次。
15.权利要求7的非治疗方法，其中所述口腔表面与定期口腔护理保持组合物接触每日至少一次。
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