KR20150067150A - 온수로 제거되는 피부용 베이스 화장료 - Google Patents

Abstract

본 발명의 목적은 파운데이션 등을 도포하기 전에 피부에 도포되는 피부용 베이스 화장료로, 땀이나 냉수로는 뭉치거나 지워지지 않으며, 온수로 문지른 경우에는 클렌징이나 세안료 등의 세정료를 사용하지 않고, 메이크업과 함께 용이하게 피부로부터 제거할 수 있는 피부용 베이스 화장료를 제공하는데 있다.
본 발명은 피부용 메이크업 화장료를 도포하기 전에 피부에 도포되는 피부용 베이스 화장료로, 물을 포함하는 수상을 연속상으로 하며, (a)아세트산비닐 폴리머, (b) 다가알콜, 및 (c) 친수성 비이온성 계면활성제를 함유하며, (a) 아세트산비닐 폴리머는 화장료 중 0.5~7 질량%이고, 또한 수상중에 입자로서 분산되어 있고, (b) 다가알콜은 (a) 아세트산비닐 폴리머 1 질량부에 대해서 0.5~5.5 질량부이며, (c) 친수성 비이온성 계면활성제는 화장료 중 1~5 질량%인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료를 제공한다.

Description

온수로 제거되는 피부용 베이스 화장료{MAKEUP BASE COSMETIC FOR SKIN REMOVABLE WITH WARM WATER}

본 발명은 피부용 베이스 화장료, 특히 온수로 지울 수 있고, 파운데이션 등의 메이크업 전에 피부에 도포해 둠으로써, 온수로 베이스 화장료와 함께 메이크업을 지울 수 있는 피부용 베이스 화장료에 관한 것이다.

파운데이션 등의 메이크업은 통상 유분이나 그 밖의 유성성분을 다량으로 포함하고, 그 때문에 메이크업 제거에는 통상 클렌징료나 세안료 등을 사용할 필요가 있었다. 또한, 내수성이나 내피지성, 화장지속성 등을 현저하게 향상시킨, 소위 롱래스팅 타입이나 워터프루프 타입이라 불리는 파운데이션에서는, 통상의 클렌징료나 세안료로도 제거되기 어려운 처방으로 이루어져 있으므로, 전용의 클렌징료가 필요한 경우도 많다.

메이크업 제거시에 클렌징료나 세안료를 사용하는 것은, 사용자에게 있어서는 시간적, 비용적인 부담 중 하나이고, 또한 클렌징료나 세안료에 의한 눈이나 피부에 대한 자극을 염려하는 사용자도 있다.

따라서, 클렌징료나 세안료를 사용하지 않고 메이크업을 지울 수 있다면, 사용자의 부담이나 염려를 경감시킬 수 있다.

최근에는, 물이나 더운 물로 지워지는 화장료에 대한 검토가 이루어지고 있다.

예를 들어, 특허문헌 1에는 물이나 온수로 용이하게 지울수 있는 수중유형 아이메이크업 화장료가 기재되어 있다. 특허문헌 1의 기술은 다가 알콜과 양친매성 물질의 액정을 유상중에 배합함으로써, 물이나 온수로 용이하게 지울 수 있다는 것이다.

그러나, 특허문헌 1의 화장료는 물로도 지워지므로, 땀이나 눈물로 지워지거나 무너지는 경우가 있다. 또한, 특허문헌 1은 아이 메이크업 화장료, 즉 속눈썹, 눈썹, 또는 눈꺼풀 일부에 적용되는 부분 메이크업 화장료가 기재되어 있는 것에 지나지 않고, 안면 피부 전체에 도포되는 타입의 화장료에 대해서는 기재되어 있지 않다.

이에 대해서, 특허문헌 2~3에는 30℃ 이하의 냉수에는 내성을 나타내고, 35~50℃의 온수에서는 문지르는 것만으로 용이하게 제거 가능한 화장료가 기재되어 있다.

즉, 특허문헌 2에는 화장료로서 허용되는 매질 중에, 적어도 하나의 소수성 필름 형성성 폴리머와, 특정의 이온성 계면활성제를 포함하는 메이크업 화장료가 기재되어 있다. 특허문헌 2의 기술은 특정의 이온성 계면활성제가 20~45℃에서 100㎲/㎝ 이상의 수중 도전성 변동을 가지므로, 폴리머 필름이 물에 대해서 더욱 감수성을 갖게 되고, 그 결과 냉수에는 내성을 가지면서도 온수와의 접촉 동안에 문지른 경우에는 메이크업 필름이 약화되어 용이하게 붕괴되고, 지지체로부터 박리된다는 것이다.

또한, 특허문헌 3에는 생리적으로 허용 가능한 매체 중에서 30℃ 이상의 융점을 갖는 제1 반결정성 폴리머와, 실온에서 소수성 피막을 형성 가능한 제2 피막 형성 폴리머를 함유하는 메이크업 화장료가 기재되어 있다. 특허문헌 4의 기술은 제1 반결정성 폴리머가 30℃ 이상의 융점을 가지므로, 그 융점을 초과하면 피막이 물에 영향을 받기 쉬워지고, 그 결과 피막은 온수에 접촉되면 약화되어, 문지름으로써 빠르게 붕괴되어 지지체로부터 떨어진다는 것이다.

그러나, 특허문헌 2~3에는 파운데이션 등에도 적용 가능한 것으로 기재되어 있지만, 구체예로서 개시되어 있는 것은 마스카라뿐이다.

한편, 메이크업 화장료에는 요구되는 색조, 사용감, 마무리감, 또는 기능 등에 따라 여러가지 타입의 제품이 이미 존재하고 있다.

따라서, 땀 등 저온의 물에 대해서는 제거되기 어렵고, 온수로는 용이하게 제거 가능한 베이스 화장료가 있다면, 이를 피부에 도포한 후에 사용자는 선호하는 제품을 사용할 수 있으므로, 사용자에게 그 기호성의 변경을 강요하지 않고, 그때까지 써 왔던 클렌징료나 세안료 등을 사용하지 않고 온수만으로 메이크업 제거를 실시할 수 있게 된다.

특허문헌 4에는 물로 용이하게 지울 수 있는 마스카라 베이스로서, 수용성 폴리아크릴산계 고분자와, 폴리비닐피롤리돈과, 물을 포함하는 마스카라 베이스가 기재되고, 클렌징을 사용하지 않고 물세안만으로 그 위에 도포된 마스카라와 함께 마스카라 베이스를 지울 수 있는 것이 기재되어 있다.

그러나, 특허문헌 1과 동일하게, 특허문헌 4의 마스카라 베이스도 물로도 지워지는 타입이므로, 땀이나 눈물로 뭉치거나 지워지는 경우가 있다. 또한, 특허문헌 4의 마스카라 베이스는 속눈썹용 화장료이고, 파운데이션 등의 전에 피부상에 광범위하게 도포되는 피부용 메이크업 베이스 화장료에 대해서는 기재되어 있지 않다.

일본 공개특허공보 제2006-306849호 일본 공개특허공보 제2003-137732호 일본 공개특허공보 제2003-26539호 일본 공개특허공보 제2004-339082호

본 발명은 상기 배경기술을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 파운데이션 등을 도포하기 전에 피부에 도포되는 피부용 베이스 화장료로, 땀이나 냉수로는 뭉치거나 지워지지 않고, 온수로 문지른 경우에는 클렌징이나 세안료 등의 세정료를 사용하지 않고, 메이크업과 함께 용이하게 피부로부터 제거할 수 있는 피부용 베이스 화장료를 제공하는 데에 있다.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과, 산화비닐 폴리머와, 다가알콜과, 친수성 비이온성 계면활성제를 특정량 사용함으로써 상기와 같은 피부용 베이스 화장료가 얻어지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명에 관한 피부용 베이스 화장료는 피부용 메이크업 화장료를 도포하기 전에 피부에 도포되는 피부용 베이스 화장료로, 물을 포함하는 수상을 연속상으로 하고,

(a) 아세트산비닐폴리머,

(b) 다가알콜, 및

(c) 친수성 비이온성 계면활성제를 함유하고,

상기 (a) 아세트산비닐폴리머는 화장료 중 0.5~7 질량%이고, 또한 수상중에 입자로서 분산되어 있고,

상기 (b) 다가알콜은 (a) 아세트산 비닐폴리머 1 질량부에 대해서 0.5~5.5 질량부이고,

상기 (c) 친수성 비이온성 계면활성제는 화장료 중 1~5 질량%인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료이다.

상기 피부용 베이스 화장료는, 피부용 메이크업 화장료를 피부로부터 지울 때 38~45℃의 온수로 피부용 베이스 화장료와 함께 제거할 수 있다.

또한, 본 발명에서 피부용 베이스 화장료는 파운데이션 등의 메이크업 전에 피부에 도포되는 것이고, 속눈썹 또는 눈썹용 베이스 화장료는 아니다. 또한, 통상의 파운데이션과 같은 메이크업 화장료는 착색재를 다량으로 포함하지만, 본 발명은 피부용 베이스 화장료이므로 착색재를 거의 포함하지 않는다. 본 발명의 피부용 베이스 화장료 중, 착색재(유색 안료, 백색 안료, 체질 안료, 색소 등)는 합계로 3 질량% 미만, 바람직하게는 1 질량% 미만이다. 한편, 본 발명의 피부용 베이스 화장료 상에 도포되는 피부용 메이크업 화장료는, 착색재(유색 안료, 백색 안료, 체질 안료, 색소 등)를 합계로 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 합계로 3 질량% 이상 함유하는 것일 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 피부용 베이스 화장료 이후에 도포하는 피부용 메이크업 화장료로서는, 리퀴드 파운데이션, 크림 파운데이션, 파우더리 파운데이션, 치크(볼연지), 분(powder), 아이섀도우, 컨실러, 립스틱, 글로스 등을 들 수 있다.

또한, 본 발명은 상기 피부용 메이크업 베이스 화장료에서, (b) 다가 알콜이 디프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-부티렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료를 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 피부용 베이스 화장료에서, (c) 친수성 비이온성 계면활성제가 HLB 8이상의 비이온성 계면활성제인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료를 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 피부용 베이스 화장료에서, (c) 친수성 비이온성 계면활성제가 수크로스 지방산 에스테르인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료를 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 어느 것에 기재된 피부용 베이스 화장료에 있어서, 또한 유상 입자가 아세트산 비닐 폴리머의 입자와는 별개로 수상중에 분산되어 있는 O/W 유화물인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료를 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 어느 기재의 피부용 베이스 화장료에 있어서, 이온성 계면활성제를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료를 제공한다.

또한, 본 발명에 관한 화장방법은 상기 어느 것에 기재된 피부용 베이스 화장료를 피부용 메이크업 화장료를 도포하기 전에 도포하는 공정과,

상기 메이크업 화장료를 지우기 위해 38~45℃의 온수로 피부를 문지름으로써 상기 메이크업 화장료를 베이스 화장료와 함께 제거하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 화장방법이다.

상기 화장방법에 있어서, 온수가 세정제를 포함하지 않는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르면, 땀이나 눈물, 저온의 물로는 지워지거나 무너지지 않고, 또한 클렌징이나 세안료 등의 세정료를 사용하지 않아도 온수로 문지르는 것만으로, 균일하고 미세하게 붕괴되면서 용이하게 피부로부터 제거할 수 있는 피부용 베이스 화장료가 제공된다. 본 발명의 피부용 베이스 화장료를 파운데이션 등의 피부용 메이크업 화장료 전에 도포해 둠으로써, 온수(38℃ 이상, 바람직하게는 40℃ 이상)만으로 메이크업 화장료를 베이스 화장료와 함께 용이하게 피부로부터 제거할 수 있다.

본 발명의 피부용 베이스 화장료를 피부에 도포하여 형성되는 베이스 피막은, 그 위에 도포된 피부용 메이크업 화장료에 의한 화장 피막에 대해서 양호한 밀착성을 갖는다. 이 때문에, 온수로 문지르는 것만으로 베이스 피막이 화장피막을 유지한 채로 균일하고 또한 미세하게 붕괴하면서 피부로부터 박리되고, 미끈미끈하거나 이물감을 발생시키지 않고 산뜻하고 용이하게 메이크업을 지울 수 있고, 또한 메이크업이 피부에 재부착되어 피부가 오염되지 않는다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 피부용 베이스 화장료를 파운데이션 도포전에 피부에 도포한 경우 및 도포하지 않은 경우에 대해서, 각각 파운데이션 도포 직후, 온수로 세안한 직후, 및 세안료로 세안한 직후의 피부 상태를 나타내는 사진이다.

<(a) 아세트산비닐 폴리머>

아세트산비닐 폴리머는 소수성 피막 형성성 폴리머로, 아세트산비닐의 단독중합체인 폴리아세트산비닐이다.

아세트산비닐 폴리머는 공지의 방법으로 제조하는 것이 가능하지만, 시판품을 사용해도 좋다. 예를 들어, 아세트산비닐 폴리머를 수중에 분산한 폴리머 에멀전이 시판되어 있고, 이를 바람직하게 사용할 수 있다. 아세트산비닐 폴리머 에멀전은 통상 고형분 함유율이 약 35~55%이고, 폴리아세트산비닐 입자의 입자직경은 약 0.1~3㎛이다. 바람직한 아세트산비닐 폴리머 에멀전으로서는, 예를 들어 비니브란S-40(닛신가가쿠고교(주), 고형분 40%, 에탄올 2%, 잔여부 물)을 들 수 있다.

본 발명에서는, 이와 같은 아세트산비닐 폴리머 에멀전은 수상에 배합되고, 아세트산비닐 폴리머는 연속상인 수상중에 입자로서 분산된다.

아세트산비닐 폴리머는, 본 발명의 피부용 메이크업 베이스 화장료 중, 고형분으로서 0.5~7 질량%, 바람직하게는 1~5.5 질량%이다. 아세트산비닐 폴리머가 너무 적으면, 저온의 물로 지워지는 경우가 있다. 또는 온수로 문지르면 베이스 피막이 박리되지 않고 용해되므로, 메이크업이 피부에 재부착되는 경우가 있고, 또한 용해되면 미끈미끈한 감촉을 발생시키므로 산뜻한 기분이 얻어지지 않는다. 한편, 너무 많은 경우에는, 베이스 화장료의 발림성이 나빠지거나, 베이스 화장료가 끈적거리거나, 베이스 피막이 굳어지는 등, 사용감이 저하된다.

<(b) 다가 알콜>

본 발명에서 사용하는 다가 알콜은, 분자 내에 2개 이상, 바람직하게는 2~6개의 수산기를 갖는 수용성 포화지방족 알콜(분자내에 에테르 결합을 포함하고 있어도 좋음)로, 화장료나 의약부외품 등에 통상 배합되는 성분을 사용할 수 있다.

다가 알콜로서는, 3가 알콜(예를 들어, 글리세린, 트리메틸올프로판 등), 4가 알콜(예를 들어, 디글리세린, 에리스리톨, 펜타에리스리톨 등), 5가 알콜(예를 들어, 자일리톨, 트리글리세린 등), 6가 알콜(예를 들어, 소르비톨, 만니톨 등), 및 이들의 중합체(예를 들어, 디글리세린, 트리글리세린, 테트라글리세린, 폴리글리세린 등) 등도 들 수 있지만, 바람직한 다가 알콜의 예로서 글리콜(분자내에 수산기를 2개 갖는 알콜)을 들 수 있다.

글리콜로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 1,2-부틸렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 2,3-부틸렌글리콜 등을 들 수 있다.

이 중에서도, 특히 디프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜(예를 들어, 분자량 500 이하)가 바람직하다.

본 발명의 피부용 베이스 화장료 중, (b) 다가 알콜은 (a) 아세트산비닐 폴리머 1 질량부에 대해서 0.5~5.5 질량부, 바람직하게는 0.8~4 질량부이다. 다가 알콜이 아세트산비닐 폴리머에 대해서 너무 적으면, 베이스 피막이 온수로 지워지기 어려워진다. 한편, 너무 많으면, 저온의 물로 지워지기 쉬워지고, 또한 제막성이 나빠지거나 베이스 화장료가 끈적거리는 경우가 있다.

<(c) 친수성 비이온성 계면활성제>

친수성 비이온성 계면활성제로서는, 화장료나 의약부외품 등에 통상 배합되는 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 HLB 8 이상의 비이온성 계면활성제이다.

친수성 비이온성 계면활성제로서는, 예를 들어 수크로스 지방산 에스테르, 글리세린 또는 폴리글리세린 지방산 에스테르, 프로필렌글리콜 지방산 에스테르, POE소르비탄 지방산 에스테르, POE소르비톨 지방산 에스테르, POE 글리세린 지방산 에스테르, POE 지방산 에스테르, POE 알킬에테르, POE 알킬페닐에테르, POE·POP알킬에테르, POE피마자유 또는 POE경화피마자유 유도체, POE밀랍·라놀린 유도체, 알칸올아미드류, POE프로필렌글리콜 지방산 에스테르류, POE알킬아민, POE지방산 아미드, 알킬아미드아민 등을 들 수 있고, 이들 1종 또는 2종 이상을 조합하여 배합할 수 있다.

본 발명에서 사용하는 친수성 비이온성 계면활성제의 바람직한 예로서, 수크로스지방산에스테르를 들 수 있다. 지방산으로서는, 예를 들어 탄소수 12~22의 직쇄 또는 분지쇄의, 포화 또는 불포화의 고급 지방산일 수 있다.

또한, 다른 바람직한 예로서, 실리콘계 비이온성 계면활성제를 들 수 있고, 예를 들어 KF-6011(신에츠가가쿠고교(주), INCI명: PEG-11메틸에테르디메티콘)과 같은 폴리옥시에틸렌 변성 오르가노폴리실록산을 들 수 있다.

(c) 친수성 비이온성 계면활성제는, 본 발명의 메이크업 베이스 화장료 중 1~5 질량%, 바람직하게는 1.5~4.5 질량%이다. 친수성 비이온성 계면활성제가 너무 적으면, 38℃ 온수로 지워지지만 강하게 문지를 필요가 있고, 지워지는 방식도 베이스 피막이 균일하고 또한 미세하게 붕괴되지 않고, 막 형상, 작은 조각 형상, 또는 덩어리 형상으로 떨어지므로, 세정감도 떨어진다. 한편, 너무 많으면, 베이스 화장료가 끈적거리거나 저온의 물로 지워지기 쉬워진다.

또한, 본 발명의 메이크업 베이스 화장료에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 친수성 비이온성 계면활성제 이외의 계면활성제를 배합하는 것이 가능하지만, 이온성 계면활성제는 본 발명의 효과를 현저하게 손상시키는 경우가 있으므로, 이온성 계면활성제의 배합량은 가능한 억제하는 것이 바람직하고, 배합하지 않는 것이 보다 바람직하다.

<기타 성분>

본 발명에서는 상기 필수성분 이외에, 통상 화장료나 의약부외품에 사용되는 성분을 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 질적·양적 범위에서 배합할 수 있다. 예를 들어, 액체유지, 고체유지, 왁스, 탄화수소, 에스테르유, 고급 지방산, 고급 알콜, 실리콘유 등의 유분을 들 수 있다.

본 발명의 피부용 메이컵 베이스 화장료는 수상을 연속상으로 하는 수성 화장료로서, 아세트산비닐 폴리머가 수상중에 입자로서 분산되어 있지만, 유분을 배합하는 경우에는 연속상인 수상 중에 유분을 포함하는 유상 입자가 유화 분산된 O/W 유화물로 하고, 유상 입자는 아세트산비닐 폴리머 입자와는 별개로 수상 중에 분산되어 있는 것이 바람직하다. 아세트산비닐 폴리머가 유상중에 용해 상태에서 존재하면, 38℃의 온수로도 제거하기 곤란해지는 경우가 있다. 이와 같은 O/W 유화물은, 바람직하게는 아세트산비닐 폴리머를 포함하지 않는 O/W 유화물을 조제하고, 이것에 아세트산비닐 폴리머 에멀전을 첨가함으로써 얻어질 수 있다.

또한, 분말성분, 보습제, 수용성 고분자, 증점제, 피막제, 자외선 흡수제, 금속이온 봉쇄제, 저급알콜, 당, 아미노산, 유기아민, 고분자 에멀전, pH조제제, 피부영양제, 비타민, 산화방지제, 산화방지조제, 향료 등도, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 배합할 수 있다.

본 발명의 피부용 베이스 화장료는 파운데이션 등의 피부용 메이크업 화장료가 도포되기 전에 피부에 도포된다. 본 발명의 베이스 화장료는 저온의 물에 대해서는 내성이 있고, 땀이나 물에 젖어도, 가볍게 누르는 정도로는 지워지거나 무너지지 않는다. 한편, 38℃ 이상, 바람직하게는 40℃ 이상의 온수로는, 손가락이나 손바닥으로 문지르는 것만으로, 메이크업 화장 피막을 유지한 채로 베이스 피막이 균일하고 미세하게 붕괴되면서 피부로부터 완전히 박리되므로, 클렌징료나 세안료 등의 세정료를 사용하지 않고 온수만으로 메이크업 제거가 가능하고, 또한 메이크업의 피부에 대한 재부착도 없다. 또한, 온수로 메이크업을 제거할 때에는, 천, 가제, 코튼 등을 사용할 수도 있다. 또한, 피부에 대한 부담이나 열자극의 측면에서, 온수로서는 통상 45℃ 이하이다.

실시예

이하, 본 발명을 구체예를 들어 더욱 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 배합량은 특별히 기재가 없는 한 질량%이다. 본 발명에서 사용한 시험방법은 다음과 같다.

(제막성)

닥터 블레이드를 사용하여 시료를 슬라이드 글라스 상에 0.175㎜ 두께로 풀다운(pull down)하고, 37℃에서 하루 낮밤 건조시켰다. 형성된 베이스 피막을 육안으로 관찰하고, 다음의 기준으로 평가했다.

○: 알갱이(이물질), 주름, 구멍 등이 없고, 균일한 건조 피막이 형성되었다.

△: 알갱이(이물질), 주름, 구멍 등이 거의 없고, 거의 균일한 건조 피막이 형성되었다.

×: 알갱이(이물질), 주름, 구멍 등이 있고, 불균일한 건조 피막이 형성되었다.

××: 건조 피막이 형성되지 않고, 끈적거리는 피막이 형성되었다.

(35℃ 내성)

땀 등에 대한 내성을 조사하기 위해, 35℃의 물로 침지시험을 실시했다. 구체적으로는, 제막성 시험에서 얻어진 건조피막을 슬라이드 글라스와 함께 35℃의 물에 침지후 바로 끌어올리는 조작을 10회 반복한 직후의 피막에 대해서, 지워짐이나 붕괴가 없는지를 육안으로 관찰했다(침지 직후). 또한, 실온에서 1분간 방치한 후, 손가락으로 가볍게 문질러 지워짐이나 붕괴가 없는지를 육안으로 관찰했다(문질렀을 때). 관찰 결과를 다음 기준으로 평가했다.

○: 지워짐이나 붕괴가 전혀 없다.

△: 지워짐이나 붕괴가 거의 없다.

×: 지워짐이나 붕괴가 있다.

(40℃ 지워짐)

온수에서의 지워짐을 조사하기 위해, 제막성 시험에서 얻어진 피막을 슬라이드 글라스와 함께 40℃의 온수 중에 침지하고, 손가락으로 문질러 슬라이드 글라스로부터의 지워짐(제거성), 및 지워진 경우에는 그 지워진 방식(붕괴성)을 관찰하여, 하기 기준으로 평가했다.

제거성

○ : 가볍게 문지르는 것만으로 완전히 제거할 수 있었다.

△: 가볍게 문질러도 좀처럼 완전히 제거할 수 없었지만, 강하게 문지르면 완전히 제거할 수 있었다.

×: 강하게 문질러도 전혀 제거할 수 없었다.

붕괴성

상기 제거성 평가에서 제거할 수 있었던 경우에 대해서, 하기의 기준으로 평가했다.

○: 베이스 피막이 균일하고 미세하게 붕괴되면서 박리되어 제거되었다.

△: 베이스 피막이 거의 균일하고 미세하게 붕괴되면서 박리되어 제거되었다.

×: 베이스 피막이 균일하고 미세하게 붕괴되지 않고, 막형상, 작은 조각 형상, 또는 덩어리 형상으로 박리되어 제거되었다.

××: 베이스 피막이 박리되지 않고, 미끈거리면서 용해되어 제거되었다.

(사용감)

피부에 도포했을 때의 「발림성」, 「끈적거림 없음」 및 「이물감(알갱이)」, 베이스 피막이 형성되었을 때의 「굳어짐이 없음」의 4항목에 대해서 하기의 기준으로 평가했다.

○: 모든 항목에서 우수했다.

△: 적어도 하나의 항목이 약간 떨어진다.

×: 적어도 하나의 항목이 떨어진다.

*1: 비니브란S-40(닛신가가쿠고교(주), 고형분 약 40%)

(제법)

1에 3~7을 첨가하여 가열 용해한 후, 2를 첨가하여 분산하고, 또한 8을 첨가하여 분산시켰다(수상). 9~10에 11~13을 첨가하고 가열 용해하여(유상), 가열한 수상에 투입하여 호모믹서에서 유화하고, 얻어진 O/W 유화물에 14를 혼합하여 베이스 화장료를 얻었다.

상기 표 1의 조성으로 피부용 베이스 화장료를 조제했다.

시료 1-1과 같이, 아세트산비닐 폴리머와 다가알콜과 친수성 비이온성 계면활성제를 포함하는 경우에는, 35℃의 물로도 지워짐이나 붕괴가 없는 균일한 베이스 피막을 형성할 수 있었다. 그리고, 이 베이스 피막을 40℃의 온수 중에서 문지른 경우에는, 가볍게 문지르는 것만으로 균일하고 미세하게 붕괴되면서 지워져, 산뜻한 우수한 세정감이었다.

이에 대하여, 시료 1-2와 같이 다가알콜을 배합하지 않은 경우에는, 35℃의 물로도 40℃의 온수로도 지워지지 않았다.

시료 1-3과 같이 친수성 비이온성 계면활성제를 배합하지 않은 경우에는, 35℃ 물에서 지워짐이나 붕괴는 없고, 40℃ 온수로 문지르면 제거되는 베이스 피막이 얻어졌지만, 강하게 문지르지 않으면 제거할 수 없었다. 또한, 제거되는 방식도 균일하고 미세하게 붕괴되지 않고, 막형상, 작은 조각 형상 또는 덩어리 형상으로 지워지므로 이물감이 있고, 세정감이 나빴다.

시료 1-4와 같이 아세트산비닐 폴리머를 배합하지 않은 경우에는, 35℃의 물로도 40℃의 온수로도 지워지는 베이스 피막밖에 얻어지지 않고, 지워지는 방식도 박리되지 않고 미끈미끈한 감촉으로 용해되었다.

이러한 점에서, 아세트산비닐 폴리머와 다가알콜과 친수성 비이온성 계면활성제를 배합하는 것이 중요하다고 생각되었다. 그래서, 각 성분에 대해서 검토를 실시했다.

우선, 아세트산비닐 폴리머에 대해서 검토했다.

표 1의 제법에 준하여, 상기 표 2의 조성으로 메이크업 베이스 화장료를 조제했다.

아세트산비닐 폴리머를 일정량 이상 배합하면, 35℃의 물로는 지워지지 않고, 40℃의 온수로는 미세하게 붕괴되면서 박리 제거할 수 있는 피막을 형성할 수 있었다. 한편, 너무 많으면, 발림성이 나빠지거나, 메이크업 베이스 화장료가 끈적거리거나, 베이스 피막이 굳어진다.

이와 같은 점에서, 아세트산비닐 폴리머는 베이스 화장료 전량 중 0.5~7 질량%, 바람직하게는 1~5.5 질량%이다.

*2: SSD-R2(고형분 50%, 용매: 데카메틸시클로펜타실록산, 신에츠가가쿠고교(주))

*3: 닛세츠 NAD-45-D5(고형분 45%, 분산매: 데카메틸시클로펜타실록산, 니혼카바이드고교(주))

*4: PVP K-30(아이에스피 쟈판(주))

*5: 고세노르 EG-05(니혼고세이가가쿠고교(주))

상기 표 3은, 상기 시험예 2-4에서 아세트산비닐폴리머 대신에 다른 피막제나 폴리머를 사용한 경우의 결과이다. 어떤 경우에도, 35℃의 물에 대한 내성이 낮고, 지워짐이나 붕괴를 발생시켰다. 또한, 유용성의 소수성 피막제인 트리메틸실록시규산이나 다른 소수성 폴리머 에멀전에서는, 제막성도 나빴다.

다음에, 다가알콜에 대해서 검토했다.

표 1의 제법에 준하여, 상기 표 4의 조성으로 베이스 화장료를 조제했다.

아세트산비닐 폴리머에 대해서 다가알콜이 너무 적으면, 40℃ 온수로는 지워지기 어려워지는 경향이 있고, 너무 많으면 35℃에서의 내수성이 저하되며, 또한 제막성이 나빠지거나 베이스 화장료가 끈적거리는 경향이 있다.

이와 같은 점에서, 다가 알콜은 아세트산 비닐폴리머 1 질량부에 대해서 0.5~5.5 질량부, 바람직하게는 0.8~4 질량부라고 생각되었다.

상기 표 5는, 상기 시험예 2-4에서 디프로필렌글리콜 대신에 다른 다가알콜을 사용한 경우의 결과이다.

프로필렌글리콜, 1,3-부티렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 400에서는, 디프로필렌글리콜과 거의 동등한 결과였다. 또한, 글리세린이나 디글리세린에서는, 35℃ 물에 대한 내성이 디프로필렌글리콜 등에 비하여 약간 떨어지고, 또한 글리세린에서는 베이스 화장료에 약간 끈적거림이 있거나, 디글리세린에서는 약간 이물질을 발생시키는 경우가 있었지만, 사용 가능한 레벨이었다.

또한, 친수성 비이온성 계면활성제에 대해서 검토를 실시했다.

상기 표 6은, 상기 표 4에서 친수성 비이온성 계면활성제를 배합하지 않았던 경우의 결과이다. 친수성 비이온성 계면활성제를 배합하지 않아도, 아세트산비닐 폴리머에 대해서 다가알콜의 비율을 높게 하면, 베이스 피막은 40℃ 온수로 지워지지만 강하게 문지르지 않으면 지워지기 어렵고, 다가알콜 비율을 현저하게 높게 하면, 35℃ 물에 대해서도 지워지기 쉬워지며, 또한 제막성이나 사용감 등도 저하된다.

따라서, 다가알콜을 아세트산비닐 폴리머에 대해서 특정비율로 배합하고, 또한 친수성 비이온성 계면활성제를 배합하는 것이 필요하다고 생각된다.

상기 표 7은, 친수성 비이온성 계면활성제의 배합량을 바꾼 경우의 결과이다. 또한, 조제는 표 1의 제법에 준하여 실시했다.

친수성 비이온성 계면활성제가 너무 적으면, 40℃ 온수로 지워졌다고 해도 강하게 문지르지 않으면 지워지지 않고, 또한 지워지는 방식도 베이스 피막이 균일하고 미세하게 붕괴되지 않고, 막 형상, 작은 조각 형상, 또는 덩어리 형상으로 지워지는 것이므로, 세정감이 나쁘다. 한편, 너무 많으면, 끈적거림을 발생시키거나 35℃의 물에 대한 내성이 저하되는 경향이 있다.

이와 같은 점에서, 친수성 비이온성 계면활성제는 베이스 화장료 전량 중, 1~5 질량%, 바람직하게는 1.5~4.5 질량%라고 생각되었다.

*6: KF-6011 신에츠가가쿠(주)

*7: 아미소프트 HS11PF, 아지노모토(주)

*8: 닛산아논 BL-SF, 니치유(주)

*9: 양이온 DS, 산요가세이고교(주)

상기 표 8은, 시험예 7-5에서 스테아르산 수크로오스 대신에 다른 친수성 계면활성제를 사용한 경우의 결과이다. 음이온성 계면활성제나 양성(兩性) 계면활성제를 배합한 경우에는, 35℃의 물에 대한 내성이 낮아지고, 양이온성 계면활성제를 배합한 경우에는 40℃ 온수로 지우기 곤란해졌다. 따라서, 이온성 계면활성제의 배합량은 가능한 감소시키는 것이 바람직하고, 배합하지 않는 것이 보다 바람직하다.

(실사용 시험)

여성 패널에 의해 본 발명의 베이스 화장료의 실사용 시험을 실시했다. 구체적으로는 다음과 같다.

오전 9:30에 안면 전체에 시험예 1-1의 베이스 화장료를 손가락으로 도포하고, 1분 후에 파운데이션을 도포했다. 실외를 약 4시간 걸은 후, 오후 2시경에 화장 지속성을 육안으로 관찰하여 확인하고, 평가를 실시했다. 그 후, 파운데이션으로 수정 화장을 실시하고, 또한 실내외에서 보통 때와 같이 4시간 지낸 후, 오후 6시경에 세안료는 사용하지 않고 38℃의 온수로 얼굴을 적시면서 손가락이나 손바닥으로 가볍게 문지름으로써 세안을 실시하고, 화장의 지워짐을 육안으로 확인하여 평가를 실시했다.

시험 중의 평균기온은 26~28℃(최고기온 약 31℃), 평균온도는 70~80%(최고습도 약 91%)였다. 각 군은 7명의 패널에게 시험(試驗)을 실시했다. 사용한 파운데이션과 도포방법은 다음과 같았다.

파운데이션 A:

마키아쥬 라이팅 화이트 파우더리 UV(스펀지로 도포)

((주) 시세이도, 분말 고형 파운데이션)

파운데이션 B:

마키아쥬 라이팅 스틱 파운데이션 UV(손가락으로 도포)

((주) 시세이도, 유성 고형 파운데이션)

파운데이션 C:

마키아쥬 에센스리치 화이트 리퀴드 UV(스펀지로 도포)

((주) 시세이도, 수중 유형 유화 파운데이션)

파운데이션 D:

인테그레이트 미네랄워터리 파운데이션(손가락으로 도포)

((주) 시세이도, 유중 수형 유화 파운데이션)

본 발명의 베이스 화장료를 피부에 도포했을 때에는, 피부 상에서 쉽게 펴지고, 찌꺼기 등의 이물질은 생기지 않았다.

화장지속성에 대해서는, 어떠한 파운데이션을 도포한 군에서도 번들거림이나 오일감은 있었지만, 파운데이션의 벗겨짐, 붕괴, 뭉침은 거의 없었다.

화장지속성에 대해서는, 어떤 파운데이션을 도포한 군에서도 38℃의 온수로 가볍게 문지르는 것만으로 파운데이션을 남기지 않고 제거할 수 있었다. 또한, 파운데이션의 피부에 대한 재부착은 보이지 않았다.

하기 표 9는, 세안시의 물의 온도를 바꾸어 동일하게 시험을 실시한 경우의 화장의 지워짐을 평가한 결과이다. 파운데이션은 (주)시세이도 아네사 팩트 UV 리퀴드 N(유성 액상)을 사용했다. 평가기준은 다음과 같다.

화장의 지워짐

○: 가벼운 힘으로 문지르는 것만으로 파운데이션이 남지 않고 지워졌다.

△: 약간 강한 힘으로 문지름으로써, 파운데이션이 남지 않고 지워졌다.

×: 강한 힘으로 문지르지 않으면 파운데이션이 지워지지 않았다.

표 9로부터 알 수 있는 바와 같이, 38℃ 이상의 온수에서는, 어떠한 군에서도 가볍게 문지르는 것만으로 파운데이션을 남기지 않고 지울 수 있고, 파운데이션의 재부착도 인지되지 않았다. 한편, 물의 온도가 낮아지면 지워짐이 나빠지는 경향이 있고, 30℃의 물에서는 상당히 강하게 문지르지 않으면 지워지지 않았다.

또한, 베이스 화장료를 도포하지 않은 경우에는, 38℃ 이상의 온수로 강하게 문질러도, 어떤 군에서도 파운데이션을 지울 수 없었다.

대표예로서, 도 1을 나타낸다. 도 1에서, (a-1) ~ (b-3)은 각각 다음과 같다.

(a-1): 시험예 1-1의 베이스 화장료를 도포하지 않고, 파운데이션 A를 도포한 직후의 피부.

(a-2): (a-1)의 피부를 38℃의 온수만으로 세안한 직후의 피부.

(a-3): (a-2)의 피부를 추가로 세안료를 사용하여, 세안을 실시한 직후의 피부.

(b-1): 시험예 1-1의 베이스 화장료를 도포한 후에, 파운데이션 A를 도포한 직후의 피부.

(b-2): (b-1)의 피부를 38℃의 온수만으로 세안한 직후의 피부.

(b-3): (b-2)의 피부를 추가로 세안료를 사용하여, 세안을 실시한 직후의 피부.

도 1의 (a-1) ~ (a-3)으로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 베이스 화장료를 사용하지 않았던 경우에는, 온수로 세안해도 파운데이션이 거의 지워지지 않고, 세안료를 사용하지 않으면 파운데이션을 지울 수 없었다.

이에 대하여, 도 1의 (b-1) ~ (b-3)으로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 베이스 화장료를 사용하면, 온수로 세안하는 것만으로 파운데이션을 깨끗하게 지울 수 없었다.

또한, 본 발명에 관한 베이스 화장료를 실사용할 때에는, 피부 상에서의 베이스 피막의 두께가 매우 얇으므로, 상기 닥터 블레이드를 사용하여 피막을 형성하는 경우와 비교하여, 약간 저온 측에서 세정 가능해지는 경향이 있다. 또한, 본 발명의 베이스 화장료 상에 도포되는 메이크업 화장료의 내수성도, 베이스 피막의 세정 온도에 약간 영향을 주며, 내수성이 높은 메이크업 화장료의 경우에는 세정 온도를 약간 높게 하는 것이 바람직하다.

처방예 1 O/W 유화 메이크업 베이스 화장료

물 잔여

벤토나이트 0.3 질량%

POE(20)소르비탄모노스테아레이트 1.0

(이소부틸렌/말레산 나트륨)코폴리머 0.05

디프로필렌글리콜 5.0

스테아르산 수크오로스 2.0

바틸알콜 1.0

실리카 피복 미립자 산화티탄 5.0

(메타크릴산메틸/메타크릴산(PEG-4/PPG-3))크로스폴리머 3.0

디메틸폴리실록산(1㎟/s) 10.0

디메틸폴리실록산(2㎟/s) 10.0

아세트산 스테아르산 수크로오스 3.0

스테아르산 소르비탄 1.0

미세결정질 왁스 1.0

메톡시신남산 옥틸 3.0

아세트산비닐폴리머 에멀전*1 7.0

처방예 1의 피부용 베이스 화장료는, 피부에 도포했을 때에는 피부 상에서 펴지기 쉬우며, 찌꺼기 등의 이물질은 생기지 않고 끈적거림이 없는 균일한 베이스 피막을 형성했다. 또한, 파운데이션을 도포하기 전에 피부에 도포해 둠으로써, 38℃ 이상의 온수로 가볍게 문지르는 것만으로, 세안료를 사용하지 않고 파운데이션을 남기지 않고 제거할 수 있었다. 또한, 파운데이션의 피부에 대한 재부착은 보이지 않았다.

Claims (9)

1. 피부용 메이크업 화장료를 도포하기 전에 피부에 도포되는 피부용 베이스 화장료로서, 물을 포함하는 수상을 연속상으로 하고,
   (a) 아세트산비닐 폴리머,
   (b) 다가알콜, 및
   (c) 친수성 비이온성 계면활성제를 함유하며,
   상기 (a) 아세트산비닐 폴리머는 화장료 중 0.5~7 질량%이고, 또한 수상중에 입자로서 분산되어 있고,
   상기 (b) 다가알콜은 (a) 아세트산비닐 폴리머 1 질량부에 대해서 0.5~5.5 질량부이며,
   상기 (c) 친수성 비이온성 계면활성제는 화장료 중 1~5 질량%인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
2. 제 1 항에 있어서,
   피부용 메이크업 화장료를 피부로부터 제거할 때, 38~45℃의 온수로 피부용 베이스 화장료와 함께 제거하는 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 (b) 다가알콜이 디프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 (c) 친수성 비이온성 계면활성제가 HLB 8 이상의 비이온성 계면활성제인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 (c) 친수성 비이온성 계면활성제가 수크로스 지방산 에스테르인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   추가로, 유상입자가 아세트산비닐 폴리머의 입자와는 별개로 수상중에 분산되어 있는 O/W 유화물인 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   이온성 계면활성제를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 피부용 베이스 화장료.
8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 피부용 베이스 화장료를, 피부용 메이크업 화장료를 도포하기 전에 피부에 도포하는 공정, 및
   상기 메이크업 화장료를 지우기 위해 38~45℃의 온수로 피부를 문지름으로써, 상기 메이크업 화장료를 베이스 화장료와 함께 지우는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 화장방법.
9. 제 8 항에 있어서,
   온수가 세정제를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 화장방법.

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