KR20140000693A - 신규한 스피로비플루오렌 화합물 - Google Patents
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Abstract
유기 전자 소자에서의 재료를 위한 중간체로서 유용한 신규한 치환된 스피로비플루오렌 화합물.
Description
본 발명은 유기 전자 공학 분야에서의 응용을 위한 재료의 제조에 적합한 신규한 스피로비플루오렌 화합물에 관한 것이다.
유기 전자 공학 분야에서의 응용을 위한 저분자량 유기 재료의 개발에 있어서 최적화되어야만 하는 중요한 특성은 형태학적으로 안정적인 비정질 필름을 형성하는 능력이다. 소자 작동 동안 겪게 되는 열 응력은 실제로 준안정 비정질 필름의 열역학적으로 안정적인 다결정질 상태로의 상전이로 이어질 수 있다. 이러한 결정화는 결정자 사이의 입계가 전하에 대한 트랩(trap)으로서 작용하기 때문에, 유기 전자 소자의 성능의 빠른 저하를 유도한다. 더욱이, 전극과 유기 필름 사이의 접촉이 약화된다.
저분자량 재료의 형태학적 안정성의 개선을 위한 매우 유망한 개념이 스피로 개념이다. 이 개념은 공통된 sp3-혼성 원자를 통해 동일하거나 상이한 기능(방출, 전하 수송)을 갖는 2개의 분자 π-시스템을 연결시키는 아이디어에 기초한다.
9,9' (9H) 스피로비플루오렌(I)은 오늘날 유기 전자 공학 분야에서의 응용에 사용되는 일군의 치환된 스피로비플루오렌 화합물을 위한 출발 재료이다.
[화학식 1]
위치 2, 2', 7 또는 7' 중 적어도 한 위치에서 이탈기, 즉 기타 다른 분자를 합성하기 위해 대체될 수 있는 치환체에 의해 치환된 스피로비플루오렌은 종래 기술에 기재된 바 있다.
[화학식 2]
모든 파라 위치에서 완전히 대칭적으로 치환된 이러한 유형의 화합물은 스피로비플루오렌 그 자체로부터 통상 수득된다. 2 및 7 위치에서의 치환체는 동일하지만 2' 및 7' 위치에서의 치환체와는 상이한 수평으로 비대칭적인 스피로 화합물은 이들의 합성을 위한 더 복잡한 전략을 필요로 하는 반면, 2 및 2' 위치에서의 치환체는 동일하지만 7 및 7' 위치에서의 치환체와는 상이한 수직으로 비대칭적인 스피로비플루오렌은, 2 및 2' 위치에 들어가는 처음 2개의 기가 7 및 7' 위치에서의 치환을 제어하여 모든 4개의 위치에서의 동시 치환을 방지한다면, 역시 스피로비플루오렌의 직접 치환을 통해 접근될 수 있다.
문헌[Salbeck et al, Adv. Pol. Sci. (2006), 199:83-142]은 파라-치환체를 갖는 스피로비플루오렌 유도체의 제조를 위한 다수의 가능한 합성 경로를 개시하지만, 메타-위치 3, 3', 6 또는 6'에서 치환체를 갖는 스피로비플루오렌 유도체에 대해서는 언급하고 있지 않다.
JP 2006/089585호는 3,6 및 3,6' 디하이드록시-스피로비플루오렌을 개시한다. 3,6 이치환된 화합물은 출발 재료로서 플루오레논 및 3,3' 디하이드록시비페닐로부터 합성되며, 비대칭 스피로비플루오렌 유도체의 합성은 개시되어 있지 않다. 다수의 추가로 치환된 스피로비플루오렌이 이 참고문헌에 개시되어 있는데, 이들 모두는 파라 위치 중 적어도 2개의 위치에서 반응성 기를 함유하며, 이러한 반응성 기들을 통해 그 분자가 반복 단위로서 중합체 사슬 내로 혼입된다.
WO02/77060호는 고리계의 파라 위치에서 반응성 치환체를 갖는 치환된 스피로비플루오렌을 개시한다.
문헌[Nijegorodov et al., Spectrochimica Acta Part A 56, 783-795 (2000)]에 따르면, 파라-치환된 스피로비플루오렌 유도체에서의 4개의 페닐 단위를 따른 π-시스템의 비국재화는 약한 삼중항 준위(2,39 eV)로 이어지는 반면, 메타-치환된 유도체에서의 그러한 비국재화 달성의 불가능성은 더 큰 삼중항 준위(2,76 eV)(이의 에너지 준위는, 바람직하게 청색 인광성 발광체와 함께 사용되는 데 적합한 것으로 나타남)로 이어질 것으로 예측되어져야 할 것이다.
따라서, 본 발명의 목적은 유기 전자 공학 분야에서 유용한 메타-치환된 스피로비플루오렌 재료의 제조에 있어서 적합한 전구체를 제공하는 것이었다.
이 목적은 청구항 제1항에 따른 화합물에 의해 달성되었다. 바람직한 실시양태가 종속 청구항 및 이하의 상세한 설명에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 화합물은 화학식 3(화학식 3에서의 고리계는 이하 SBF로 지칭될 것임) 또는 화학식 4(화학식 4에서의 고리계는 이하 개방 SBF로 지칭될 것임)에 의해 특징지어지고,
[화학식 3]
[화학식 4]
상기 식에서,
M1 내지 M4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 할로겐, -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5를 나타내고, m1, m2, m3 및 m4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 개별적으로 0 또는 1이고, (m1+m2+m3+m4)의 합계는 1 내지 3의 정수를 나타내며,
R1은 C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
R2 내지 R5는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
P1 내지 P4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
X1 내지 X4는 동일하거나 상이할 수 있으며, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
m, n, p 및 q는 동일하거나 상이할 수 있으며, 0 내지 2의 정수이다.
화학식 3 또는 화학식 4의 바람직한 화합물은 M1 내지 M4가 할로겐, 바람직하게는 F, Cl, Br 또는 I, -CN, -OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5를 나타내는 것이다.
M1 내지 M4 중 적어도 하나가 Cl 또는 Br, OR1, SR2 또는 -B(OR3R4)인 화합물이 특히 바람직하다. 본 발명에 따른 또 다른 일군의 바람직한 화합물은 메타-위치에 있는, 즉 3,6, 3',6', 3,6' 또는 3',6 위치에 있는 적어도 2개의 치환체 M1 내지 M4를 포함하며, 3',6 또는 3,6' 위치에서의 치환이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 또 다른 일군의 바람직한 화합물은 3개의 치환체 M1 내지 M4를 포함한다.
상기 언급된 바람직한 화합물은 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-5에 의해 특징지어질 수 있으며, 이 중 화학식 3-1 및 화학식 3-3 내지 화학식 3-5가 특히 바람직하다:
[화학식 3-1]
[화학식 3-2]
[화학식 3-3]
[화학식 3-4]
[화학식 3-5]
본 발명에 따른 추가의 특히 바람직한 일군의 화합물은 각각의 M1 및 M2가 할로겐, 바람직하게는 염소 또는 브롬인, 화학식 3-1 또는 화학식 3-2의 화합물이다.
또 다른 특히 바람직한 일군의 화합물은 화학식 3-1 내지 화학식 3-5로 나타내며, 여기서 M1 내지 M4는 동일하거나 상이할 수 있고, -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5이다.
본 발명에 따른 또 다른 바람직한 일군의 화합물은, M1 내지 M4가 동일하거나 상이할 수 있으며, 할로겐, -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5인 화학식 3-3 내지 화학식 3-5에 의해 특징지어진다.
본 발명에 따른 또 다른 일군의 바람직한 화합물은 화학식 3-2로 나타내며, 여기서 M1 또는 M2 중 적어도 하나는 -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5로 이루어진 군으로부터 선택된다.
P1 내지 P4, X1 내지 X4 및 m, n, p 및 q가 청구항 제1항에 정의된 바와 같은 화학식 3-7 또는 화학식 3-8의 화합물, 특히 3-브로모-SBF 및 3,6-디브로모-SBF가 본 발명에 따른 추가의 바람직한 일군의 화합물로서 언급될 수 있다.
[화학식 3-7]
[화학식 3-8]
SBF 대신 개방 SBF를 갖는 각각의 화합물은 또 다른 일군의 바람직한 화합물을 나타내는데, 이는 이하 화학식 4-1 내지 화학식 4-5로 지칭될 것이다.
P1 내지 P4는 상기 언급된 기 중 임의의 것으로부터 폭넓게 선택될 수 있는데, 이때 상기 언급된 기는 그 치환체가 유기 전자 공학 분야에서 사용하기에 적합한 재료의 제조시에 사용되는 반응 조건 하에서 실질적으로 불활성이라는, 즉 이들이 이들 반응에서 변화되지 않은 상태로 유지된다는 공통된 특징을 공유한다. 바람직한 치환체 P1 내지 P4는 수소, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이다. 특히 바람직하게, P1 내지 P4는 수소, C1 내지 C8 알킬, C2-C8-알케닐, C2-C8 알키닐 또는 아릴을 나타낸다.
치환체 X1 내지 X4는 어떠한 제한도 받지 않으며, 따라서 상기 정의된 군으로부터 폭넓게 선택될 수 있다.
3,3'-디브로모-SBF, 3-클로로-SBF, 3,6-디클로로-SBF, 3,3'-디클로로-SBF, 3',6-디브로모-SBF, 3',6'-디브로모-SBF, 3',6-디클로로-SBF, 3',6'-디클로로-SBF, 3-알콕시-SBF, 3,3'-디알콕시-SBF, 3,6'-디알콕시-SBF, 3',6'-디알콕시-SBF, 바람직하게는 그 각각의 디메톡시, 디에톡시 또는 디프로필옥시 화합물, 3-시아노-SBF, 3,3'-디시아노-SBF, 3,6'-디시아노-SBF, 3',6'-디시아노-SBF, 3-보론산 에스테르-SBF 또는 3,6-디-보론산 에스테르-SBF(이들 모두는 상기 정의된 하나 이상의 치환체 P1 내지 P4 및/또는 하나 이상의 치환체 X1 내지 X4에 의해 치환될 수 있음)가 본 발명에 따른 특히 바람직한 추가의 일군의 화합물로 언급될 수 있다.
2개 또는 3개의 동일한 치환체 M1 내지 M4를 갖는 대신에, 본 발명에 따른 또 다른 일군의 바람직한 화합물은 적어도 2개의 상이한 치환체 M1 내지 M4, 바람직하게는 상기 정의된 군으로부터, 특히 바람직하게는 F, Cl, Br 또는 I, -CN, -OR1, SR2 또는 -B(OR3R4)로부터 선택된 것을 함유하며, 이들 모두는 상기 정의된 하나 이상의 치환체 P1 내지 P4 및/또는 하나 이상의 치환체 X1 내지 X4에 의해 치환될 수 있다. 3-브로모-3'-클로로-SBF 유도체가 본 발명에 따른 이러한 추가의 바람직한 일군의 화합물의 한 예로서 언급될 수 있다.
모든 상기 언급된 바람직한 군의 화합물에서, SBF는 개방 SBF로 대체되어 그 각각의 개방-SBF 화합물을 생성할 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 다양한 공정 경로에 따라 합성될 수 있으며, 이러한 공정 경로는 당업자가 특정 필요성에 따라 선택할 것이다. 일반적으로, 본 발명에 따른 화합물은 치환체를 SBF 또는 개방 SBF 코어(core) 내로 직접 도입함을 통해서는 용이하게 접근가능하지 않은데, 그 이유는 이들 경로는 일반적으로, 바람직하게는 이들의 더 높은 반응성으로 인해 파라-치환된 생성물을 생성하기 때문이다. 따라서, 치환체 M은 적합한 전구체 물질, 예를 들어 단지 3개의 예를 들자면, 플루오렌 유도체, 벤조페논 유도체 또는 비페닐 유도체(이들은 이후에 반응하여 SBF 또는 개방 SBF 구조를 생성함)를 통해 도입되어야만 한다.
따라서, 화학식 3-1의 화합물은, 예를 들어 적합한 비페닐 화합물과 함께 하기 화학식의 플루오레논 유도체로부터 수득될 수 있다.
화학식 3-2 내지 화학식 3-5의 화합물에 대한 대안적인 방법은 치환된 벤젠 화합물을 적합한 보론산 유도체와 반응시켜, 원칙적으로 화학식 3-4의 화합물에 대한 하기의 반응식에 나타낸 바와 같은 원하는 화합물을 생성하는 것이다.
이 방법은 화학식 3-4의 화합물로 이어질 뿐만 아니라, 화학식 3-3 및 화학식 3-5와 화학식 4-2 내지 화학식 4-5의 화합물 각각으로도 이어진다.
당업자는 반응 조건 및 반응물을 선택함에 있어서, 그러한 반응에 대한 그의 일반적인 지식에 기초하여 구체적인 합성에 적합한 것들을 선택할 것이다.
또 다른 가능한 합성 경로가 대체로 하기와 같이 기재될 수 있다.
역시, 당업자는 의도되는 개별 합성에 기초하여 적절한 반응물 및 반응 조건을 선택할 것이다. 하나 초과의 치환체 M을 갖는 각각의 화합물이 반응물의 적합한 개질에 의해 수득될 수 있음이 명백하다.
본 발명의 화합물의 합성에 대한 또 다른 가능성은 (비치환 SBF-시스템 및 화학식 3-2에 대해 나타낸) 일반적 반응식에 따른, 플루오레논과 적합한 비페닐 화합물의 반응인데, 이는 M1=M2=OH인 경우에 JP 2006/089585호에 더 상세하게 기재되어 있으며, 본 발명에 따른 기타 다른 치환체 M1 내지 M4에도 적용될 수 있다.
본 발명에 따른 화합물의 제조에 적합한 공정에 대한 추가의 상세내용이 이후 실시예에 제공되어 있다.
본 발명에 따른 화합물은 OLED 또는 OFET 등과 같은 유기 전자 시스템에서의 새로운 재료를 위한 중간체로서 유용하다. 이들은 인광성 발광체 또는 전자 수송 또는 전자 차단 재료를 위한 새로운 호스트의 합성에서뿐만 아니라 정공 수송 또는 정공 차단 재료의 제조에도 사용될 수 있을 것이다.
유리체(educt)로서 본 발명의 화합물을 사용하여 합성될 수 있을 예시적인 화합물은, 예를 들어 단지 2개의 예를 제공한다면 하기와 같다.
출발 재료로서 본 발명에 따른 적절한 화합물을 선택함으로써 유사 화합물이 합성될 수 있음이 당업자에게 명백하다.
추가의 용도는 리간드, 및 그러한 리간드를 포함하는, 유기 전자 소자에 유용한 전이 금속 착물의 제조에 있다.
이탈기가 SBF 또는 개방 SBF 단위 내의 페닐 고리를 연결시키는 결합에 대하여 메타-위치에 있기 때문에, 본 발명에 따른 화합물은, 바람직하게 청색 또는 근청색(near-blue) 영역에서 흥미로운 방출 스펙트럼을 갖는 리간드 및 착물(이들은 파라-치환된 리간드 및 그것을 포함하는 전이 금속 착물로부터는 용이하게 이용가능하지 않음)에 이르는 방법을 열어준다.
실시예
실시예 1
3-브로모-SBF의 합성
단계 1: 3-브로모플루오레논의 합성
3구 플라스크 내에서, 60ml의 물을 8.9ml의 염산(HCl, 37% w/w, 2.1몰당량)에 첨가하고, 이 매질을 0℃로 냉각시켰다. 50ml의 물 중에 용해된 NaNO2(1.5몰당량)를 0℃에서 적가하였다. 첨가의 마지막에, 아세톤/물(400ml/230ml)의 혼합물 중에 가용화된 4-아미노-2-브로모벤조페논(1당량, 15.0g, 51.6mmol)을 조심스럽게 첨가하였다. 실온에서 30분 후, 혼합물을 가온하고, 60℃에서 3시간 동안 유지하였다.
메틸렌 클로라이드로 추출하고 유기 상을 증발시킨 후, 갈색 고형물을 회수하였으며(17.4g), 플래시 크로마토그래피를 실현하였다. 헥산에 의해 결정화한 후, 순수한 화합물을 회수하였다(4.2g, 32% 수율).
단계 2: 3-브로모-SBF
단계 1에서 수득된 3-브로모플루오레논으로부터 두 단계로 이 화합물을 제조하였다. 먼저, 2-브로모비페닐(1.05당량, 4.0g, 16.5mmol)을 102ml의 무수 디에틸 에테르 중에 가용화시킨다. 이 용액을 -60℃로 냉각시키고, n-BuLi(1.16당량)를 적가한다. 이 온도에서 10분 후, 백색 침전물이 출현했으며, 매질을 실온으로 가온시키면서 이를 재용해시켰다. 이어서, 3-브로모플루오레논을 첨가하고, 반응 혼합물을 45℃에서 하룻밤 동안 유지하였다.
NH4Cl(5% 수성, 260ml)을 첨가하고 디에틸 에테르로 추출한 후, 7.0g의 알코올을 수득하였다. 이 고형물을 141ml의 아세트산 중에 가용화시키고, 78ml의 HCl/디옥산(10몰%, 20당량)을 첨가함으로써 가수분해하였다. 용매를 증발시킨 후, 고형물에 순상 플래시 크로마토그래피를 적용하여 5.86g의 목표 화합물을 제공하였다(94% 수율).
실시예 2 - 3-클로로-SBF
단계 1: 1-브로모-7-클로로-비페닐
질소 분위기 하에 있는 50ml 둥근 바닥 플라스크에 Pd(OAc)2(1.07g, 0.0047mol), PPh3(5,0g, 0.0032mol) 및 디옥산(35ml)을 순차적으로 장입하였다. 이 혼합물을 디옥산(150ml) 중 1-클로로-3-요오도벤젠(13.6g, 0.056mol), 2N 수성 탄산나트륨(180ml) 및 2-브로모페닐보론산(12.3g, 0.059mol)으로 이미 충전된 500ml 둥근 바닥 플라스크에 첨가하였다. 이 혼합물을 N2 하에서 환류에서 1.5시간 동안 가열하고 실온으로 냉각시켰다. 반응 매질을 물과 에틸 아세테이트 사이에 분배하였다. 합한 유기 층을 염수로 세척하고, MgSO4 상에서 건조시킨 후, 농축시켰다. 잔류물을 컬럼 크로마토그래피(CH2Cl2/헥산)로 정제하여 76.6% 수율로 원하는 생성물을 제공하였다.
단계 2: 3-클로로-SBF
-78℃로 냉각된 무수 THF(100ml) 중 1-브로모-7-클로로-비페닐(10g, 0.037mol)의 용액에, 헥산 중 1.6M n-BuLi의 용액(0.037mol, 23.2ml)을 적가하였다. 반응 혼합물을 -78℃에서 1시간 동안 교반하고, 무수 THF(25ml) 중 플루오레논(0.031mol, 5.58g)의 용액을 적가하였다. 첨가 후, 혼합물을 실온으로 가온되게 하고, 2시간 동안 교반하였다. 혼합물을 포화 NH4Cl(200ml)로 켄칭하고(quench), 에틸 아세테이트(3*125ml)로 추출하였다. 합한 유기 층을 염수로 세척하고, Na2SO4(또는 MgSO4) 상에서 건조시킨 후, 진공 중에서 농축시켰다. 잔류물을 플래시 크로마토그래피로 정제하여 약 20% 수율로 목표 화합물을 제공하였다.
1-브로모-7-클로로-비페닐을 사용하여 유사한 방법으로 3,3'-디클로로-SBF 및 3-브로모-3'-클로로-SBF를 제조할 수 있을 것이다.
이 실시예 2에 기재된 실험 조건은 또한 기타 다른 SBF-유도체의 합성에 사용될 수 있을 것이다.
따라서, 하기의 반응식에 따라 1-브로모-7-클로로-비페닐을 3'-브로모-플루오레논과 반응시킴으로써 3-브로모-3'-클로로-SBF가 수득될 수 있을 것이다.
실시예 3: 3,6-디브로모-SBF
하기의 반응식에 따라 문헌[Yong Cao et al, Adv. Mater. 2008, 20, 2359-2364]의 방법에 따라 3,6-디브로모-플루오레논을 합성하였다.
3,6-디브로모-플루오레논을 상기에서 실시예 1의 단계 2에 제공된 조건 하에서 2-브로모비페닐과 반응시켜 48% 수율로 목표 화합물 3.6-디브로모-SBF를 수득하였다.
실시예 4: 3,6-디브로모-3'-클로로-SBF
실시예 2에 따라 그 조건 하에서 플루오레논 대신 3,6-디브로모-플루오레논을 사용함으로써, 3,6-디브로모-3'-클로로-SBF를 수득할 수 있다.
전술한 실시예는 본 발명에 따른 화합물을 위한 예시적인 합성 공정을 제공한다. 당업자는 기재된 절차 또는 반응물을 변경함으로써 본 발명에 따른 기타 다른 화합물을 수득할 수 있음이 당업자에게 명백하다.
Claims (15)
- 화학식 3 또는 화학식 4의 화합물.
[화학식 3]
[화학식 4]
(상기 식에서,
M1 내지 M4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 할로겐, -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5를 나타내고,
m1, m2, m3 및 m4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 개별적으로 0 또는 1이고, (m1+m2+m3+m4)의 합계는 1 내지 3의 정수를 나타내며,
R1은 C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
R2 내지 R5는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
P1 내지 P4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
X1 내지 X4는 동일하거나 상이할 수 있으며, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴을 나타내거나, 사이클로알킬, 아릴 및 헤테로아릴 고리로부터 선택된 기타 다른 고리와 어닐링된 고리계를 형성할 수 있고,
m, n, p 및 q는 동일하거나 상이할 수 있으며, 0 내지 2의 정수임) - 제1항에 있어서, M1 내지 M4는 수소, 할로겐, 바람직하게는 F, Cl, Br 또는 I, -CN, -OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5 (여기서 R1 내지 R5는 제1항에 정의된 바와 같음)를 나타내는 화합물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, M1 내지 M4 중 적어도 하나는 Cl 또는 Br, OR1, SR2 또는 -B(OR3R4) (여기서 R1 내지 R4는 제1항에 정의된 바와 같음)인 화합물.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 3-1 내지 화학식 3-5를 갖는 화합물.
[화학식 3-1]
[화학식 3-2]
[화학식 3-3]
[화학식 3-4]
[화학식 3-5]
(상기 식에서, M1 내지 M4, P1 내지 P4, X1 내지 X4, R1 내지 R5 및 m, n, p 및 q는 제1항에 정의된 바와 같은 의미를 가짐) - 제4항에 있어서, 각각의 M1 및 M2는 동일하거나 상이할 수 있으며, 할로겐인 화학식 3-1 또는 화학식 3-2의 화합물.
- 제4항에 있어서, M1 내지 M4는 동일하거나 상이할 수 있으며, -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5로 이루어진 군으로부터 선택되는 화학식 3-1 내지 화학식 3-5의 화합물.
- 제4항에 있어서, M1 내지 M4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 할로겐, -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5로 이루어진 군으로부터 선택되는 화학식 3-3 내지 화학식 3-5의 화합물.
- 제4항에 있어서, M1 또는 M2 중 적어도 하나는 -CN, -SCN, -OCN, OR1, SR2, -B(OR3R4) 또는 -O-(SO2)-R5로 이루어진 군으로부터 선택되는 화학식 3-1 또는 화학식 3-2의 화합물.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, P1 내지 P4는 수소, C1 내지 C20 알킬, C2-C20-알케닐, C2-C20 알키닐, 아릴알킬, 아릴 또는 헤테로아릴인 화합물.
- 제5항에 있어서, 화학식 3-7 또는 화학식 3-8을 갖는 화합물.
[화학식 3-7]
[화학식 3-8]
(상기 식에서, P1 내지 P4, X1 내지 X4 및 m, n, p 및 q는 제1항에 정의된 바와 같음) - 3-브로모-9,9'-스피로비플루오레닐 및 3,6-디브로모-9,9'-스피로비플루오레닐.
- 제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 3,3'-디브로모-SBF, 3-클로로-SBF, 3,6-디클로로-SBF, 3,3'-디클로로-SBF, 3',6-디브로모-SBF, 3',6'-디브로모-SBF, 3',6-디클로로-SBF, 3',6'-디클로로-SBF, 3-알콕시-SBF, 3,3'-디알콕시-SBF, 3,6'-디알콕시-SBF, 3',6'-디알콕시-SBF, 바람직하게는 그 각각의 디메톡시, 디에톡시 또는 디프로필옥시 화합물, 3-시아노-SBF, 3,3'-디시아노-SBF, 3,6'-디시아노-SBF, 3',6'-디시아노-SBF, 3-보론산 에스테르-SBF 또는 3,6-디-보론산 에스테르-SBF (여기서 SBF는 9,9'-(9H)-스피로비플루오레닐 기를 나타)로 이루어진 군으로부터 선택되며, 이들 모두는 제1항에 정의된 하나 이상의 치환체 P1 내지 P4 및/또는 하나 이상의 치환체 X1 내지 X4에 의해 치환될 수 있는 화합물.
- 유기 전자 공학 분야에서 사용하기에 적합한 재료의 제조에 있어서의 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 화합물의 용도.
- 제13항에 있어서, 인광성 발광체, 또는 전자 수송 또는 전자 차단 재료를 위한 새로운 호스트의 합성에 있어서의, 또는 정공 수송 또는 정공 차단 재료의 제조에 있어서의 용도.
- 제13항에 있어서, 리간드; 및 그러한 리간드를 포함하는, 유기 전자 소자에 유용한 전이 금속 착물의 제조에 있어서의 용도.
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